JPH08111340A - Spraying method of magnetic material - Google Patents

Spraying method of magnetic material

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JPH08111340A
JPH08111340A JP24531894A JP24531894A JPH08111340A JP H08111340 A JPH08111340 A JP H08111340A JP 24531894 A JP24531894 A JP 24531894A JP 24531894 A JP24531894 A JP 24531894A JP H08111340 A JPH08111340 A JP H08111340A
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sprayed
magnetic
magnetic material
powder
thermal spraying
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JP24531894A
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Japanese (ja)
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Akihiko Ibata
昭彦 井端
Hajime Kawamata
肇 川又
Shigeo Suzuki
茂夫 鈴木
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/16Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates the magnetic material being applied in the form of particles, e.g. by serigraphy, to form thick magnetic films or precursors therefor

Abstract

PURPOSE: To provide a practical adhesion between a base material and a film to be sprayed thereon by spraying a magnetic material to the surface of the base material after forming an underlying layer composed at least of colloidal silica and ceramic powder or an underlying layer containing a low melting point glass or a magnetic powder. CONSTITUTION: An underlying layer 2 is formed at a part on a base material 1 for forming a magnetic layer and then a magnetic material is sprayed to form a magnetic layer 3 on the underlying layer 2. The base material 1 includes various inorganic or organic materials. The underlying layer 2 comprises a first layer composed of colloidal silica and ceramic powder, a second layer of low melting point glass, and a third layer of low melting point glass containing a magnetic powder. The magnetic powder is composed of same soft magnetic material as that being sprayed to form the magnetic layer 3. The magnetic layer 3 is obtained by spraying the magnetic material.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁性材料の溶射方法に
関し、特に電子部品用の磁性材料の溶射方法に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic material thermal spraying method, and more particularly to a magnetic material thermal spraying method for electronic parts.

【0002】[0002]

【従来の技術】溶射法はあらゆる基材に比較的低温で簡
便に種々の材料からなる層、例えば金属層、合金層ある
いはセラミック層を形成できることから、構造体の表面
改質、セラミックのメタライズあるいは厚膜(薄膜)形
成などの多方面で検討され、種々の方法が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art The thermal spraying method is capable of easily forming a layer made of various materials, such as a metal layer, an alloy layer or a ceramic layer, on any base material at a relatively low temperature. It has been studied in various fields such as thick film (thin film) formation, and various methods have been proposed.

【0003】磁性材料の溶射方法に関しては既にいくつ
かの提案がなされている。まずフェライトに関連して
は、特公昭52−25953号公報あるいは特公昭58
−26820号公報に示されるように得られるフェライ
ト溶射膜の特性に関するもの、磁性材料と絶縁材料に関
連しては、特開昭60−135993号公報あるいは特
開平3−203740号公報に示されるように、交互に
あるいは同時に磁性材料と絶縁材料を溶射するもの、あ
るいは溶射前の基材の下塗りに関しては特開平2−21
7200号公報などがある。
Several proposals have already been made for the thermal spraying method of magnetic materials. First, regarding ferrite, Japanese Patent Publication No. 25953/1982 or Japanese Patent Publication No. 58/1983
Regarding the characteristics of the ferrite sprayed film obtained as described in JP-A-26820, and regarding the magnetic material and the insulating material, as disclosed in JP-A-60-135993 or JP-A-3-203740. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-21 / 1990 discloses a method of spraying a magnetic material and an insulating material alternately or simultaneously, or an undercoat of a base material before spraying.
7200 and the like.

【0004】前記のフェライトに関連するものは、得ら
れるフェライト溶射膜をスピネル型の単一相にするため
に溶射時の酸素濃度を特定の条件にするものあるいは得
られた溶射膜を溶射後に所定の熱処理を施すものであ
る。
Regarding the above-mentioned ferrite, the one in which the oxygen concentration at the time of thermal spraying is set to a specific condition in order to make the obtained ferrite thermal sprayed film into a single phase of spinel type, or a predetermined value after thermal spraying of the obtained thermal sprayed film The heat treatment is performed.

【0005】また、前記の磁性材料と絶縁材料に関する
ものは磁心用に適した構造を得るためのもので、磁性層
を絶縁層で分割し、渦電流損失の低減を図るものであ
る。
The above-mentioned magnetic material and insulating material are for obtaining a structure suitable for a magnetic core, and the magnetic layer is divided by an insulating layer to reduce eddy current loss.

【0006】さらに、前記の溶射前の基材の下塗りに関
連した特開平2−217200号公報では、一般の構造
物に磁性材料を溶射する場合に付着性を付与するもので
ある。磁性材料としてはフェライト、センダスト、パー
マロイ、ステンレスなどである。下塗り塗料としては具
体的にはセメント類、硅砂、フライアッシュおよびスラ
グからなる無機硬化促進剤と合成樹脂との混合物であ
る。この下塗り塗料を基材に塗布した後、前記の磁性材
料を溶射することによって、基材との付着力が増し、溶
射膜の耐摩耗性が向上し、床面や壁面などの人や車との
接触面に利用するものである。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 217200/1990, which relates to the undercoating of the base material before the thermal spraying described above, imparts adhesiveness to a general structure when the magnetic material is thermally sprayed. Magnetic materials include ferrite, sendust, permalloy, and stainless steel. The undercoat paint is specifically a mixture of an inorganic curing accelerator consisting of cements, silica sand, fly ash and slag and a synthetic resin. After applying this undercoat paint to the base material, by spraying the magnetic material described above, the adhesive force with the base material is increased, the wear resistance of the sprayed film is improved, and people and vehicles such as floors and wall surfaces It is used for the contact surface of.

【0007】一方、一般的な溶射法における基材との付
着力を向上させる手段として、基材表面を荒らす、ブラ
スト処理あるいは溶射時に基材を少し加熱する方法など
が知られている。ブラスト処理では基材に砥粒を叩きつ
けて基材表面を荒らすものであり、このような処理に耐
えれないものでは適用できない。また、基材の加熱はあ
まり効果がなく、どちらかといえば溶射膜の急冷を防ぐ
程度のものである。
On the other hand, as a means for improving the adhesion to the base material in a general thermal spraying method, there are known a method of roughening the surface of the base material, a blast treatment or a method of slightly heating the base material during the thermal spraying. In the blast treatment, abrasive grains are struck on the base material to roughen the surface of the base material, and it cannot be applied to those that cannot withstand such a treatment. Also, heating the substrate is not very effective and rather rather prevents quenching of the sprayed coating.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の種
々の溶射方法では、いろいろな被溶射基材に種々の溶射
磁性膜が形成できて、かつ十分な付着力を有し、さらに
磁気回路的にも所望の条件を満足することはできないと
いう問題点を有していた。
As described above, according to various conventional thermal spraying methods, various thermal sprayed magnetic films can be formed on various thermal sprayed substrates and have sufficient adhesive force. However, there is a problem that the desired condition cannot be satisfied.

【0009】本発明は上記の従来の問題点を解決するも
ので、被溶射基材に物理的なダメージを与えることな
く、種々の被溶射基材に磁性材料を溶射し、被溶射基材
と溶射膜が実用的な付着力を有する溶射方法を提供する
ことを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art by spraying a magnetic material onto various spray-coated substrates without physically damaging the spray-coated substrate, and An object of the present invention is to provide a thermal spraying method in which a thermal sprayed film has a practical adhesive force.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに本発明の溶射方法は、被溶射基材の表面に少なくと
もコロイダルシリカとセラミック粉末からなる下地層あ
るいは低融点ガラスまたは磁性粉末を含有する下地層を
形成した後、磁性材料を溶射する溶射方法である。
In order to achieve the above object, the thermal spraying method of the present invention comprises a base layer to be sprayed containing at least an underlayer consisting of colloidal silica and ceramic powder, a low melting point glass or a magnetic powder. Is a thermal spraying method in which a magnetic material is thermally sprayed after the underlayer is formed.

【0011】[0011]

【作用】本発明の溶射方法によれば、被溶射基材の表面
に少なくともコロイダルシリカとセラミック粉末からな
る下地層を被溶射基材表面に形成した後、磁性材料を溶
射するかあるいは被溶射基材の表面に低融点ガラスある
いは磁性粉末を含有した低融点ガラスからなる下地層を
形成した後、磁性材料を溶射するため、被溶射基材の表
面は前記のいずれかの下地層で表面が改質される。その
ため、いかなる被溶射基材であっても磁性材料を溶射
し、被溶射基材に溶射磁性層を形成することができる。
According to the thermal spraying method of the present invention, an underlayer made of at least colloidal silica and ceramic powder is formed on the surface of a thermal sprayed substrate, and then a magnetic material is sprayed or a thermal sprayed substrate is formed. After forming an underlayer of low melting point glass or low melting point glass containing magnetic powder on the surface of the material, the surface of the substrate to be sprayed is modified with any of the above underlayers in order to spray the magnetic material. Be quality. Therefore, it is possible to spray the magnetic material onto any sprayed substrate and form the sprayed magnetic layer on the sprayed substrate.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の一実施例の磁性材料の溶射方
法について説明する。
EXAMPLES A method of thermal spraying a magnetic material according to an example of the present invention will be described below.

【0013】本発明の溶射方法は、被溶射基材の表面に
少なくともコロイダルシリカとセラミック粉末からなる
下地層を形成した後、磁性材料を溶射する方法、あるい
は前記下地層が主として低融点ガラスからなるかまたは
磁性粉末を含有した低融点ガラスからなる方法の3つの
方法がある。いずれの方法においても、被溶射基材の表
面にまず前記のいずれかの特定の下地層を形成した後、
磁性材料を溶射する方法である。
The thermal spraying method of the present invention is a method of spraying a magnetic material after forming an underlayer made of at least colloidal silica and ceramic powder on the surface of a substrate to be sprayed, or the underlayer is mainly made of low melting glass. There are three methods, one consisting of a low melting glass containing magnetic powder. In any method, after first forming any one of the specific underlayers on the surface of the substrate to be sprayed,
This is a method of spraying a magnetic material.

【0014】被溶射基材としては特に限定はない。本発
明は電子部品用を念頭にしたものであるため、電子部品
用の基材、回路基板用のガラスエポキシ樹脂、アルミナ
基板、ガラス基板、各種セラミックスの絶縁材料、誘電
体材料、ガラス材料、磁性材料や部材、例えば鉄系の金
属、被覆導線、有機系のフィルムなど種々の物に対して
優れた付着性を有している。
The material to be sprayed is not particularly limited. INDUSTRIAL APPLICABILITY Since the present invention is intended for electronic parts, a base material for electronic parts, a glass epoxy resin for circuit boards, an alumina substrate, a glass substrate, an insulating material for various ceramics, a dielectric material, a glass material, a magnetic material. It has excellent adhesion to various materials and members such as iron-based metals, coated wires, and organic films.

【0015】前述したように、本発明は3つの下地層の
いずれにおいても優れた付着性の向上が認められるが、
これらについてまず詳細を説明する。
As described above, according to the present invention, excellent adhesion is observed in any of the three underlayers.
These will be described in detail first.

【0016】第1の下地層はコロイダルシリカとセラミ
ック粉末からなるものである。第2の下地層は主として
低融点ガラスからなるものである。第3の下地層は磁性
粉末を含有した低融点ガラスからなるものである。これ
らの使い分けは後述するように、被溶射基材の耐熱性あ
るいは磁気回路的な観点から選択すればよい。
The first underlayer is made of colloidal silica and ceramic powder. The second underlayer is mainly made of low melting glass. The third underlayer is made of low melting point glass containing magnetic powder. As will be described later, the proper use of these may be selected from the viewpoint of the heat resistance of the base material to be sprayed or the magnetic circuit.

【0017】まず、第1のコロイダルシリカとセラミッ
ク粉末からなる下地層を説明する。コロイダルシリカと
はコロイド状のシリカをいい、一般にゾル・ゲル法で石
英ガラスを作製するときのゾルの主成分である。このコ
ロイダルシリカを適当なシンナーに混合した溶液にさら
にセラミック粉末が含有したものをまず作製する。この
溶液を被溶射基材に塗布した後、乾燥し、シンナーを除
去すれば適当な硬さの固体状の膜(下地層)を得ること
ができる。得られた下地層はコロイダルシリカをバイン
ダにして、セラミック粉末を固めたようなイメージでと
らえることができる。セラミック粉末を含有していない
溶液から形成した層は本発明の目的を達しない。つま
り、磁性材料を溶射しても十分な付着性を発揮しない。
セラミック粉末はこの欠点を改良し、優れた付着性が得
られる。セラミック粉末としてはいかなるものでも十分
な付着性が得られる。例えば、セラミック粉末としては
アルミナ、ジルコニア、ジルコン、ムライト、ベリリ
ア、ステアタイト、フォルステライト、マグネシア、チ
タニア、フェライト、チタン酸バリウムなどがある。磁
気回路的な観点からは、磁性材料であるフェライト、セ
ンダスト、パーマロイ、鉄、Fe−Siなどが望ましい
場合がある。これについては、後述する。
First, the underlayer made of the first colloidal silica and ceramic powder will be described. Colloidal silica refers to colloidal silica, and is generally the main component of sol when silica glass is produced by the sol-gel method. First, a solution obtained by mixing the colloidal silica with an appropriate thinner and further containing ceramic powder is prepared. After applying this solution to the substrate to be sprayed, it is dried and the thinner is removed, whereby a solid film (underlayer) having an appropriate hardness can be obtained. The obtained underlayer can be viewed as if the ceramic powder was solidified by using colloidal silica as a binder. Layers formed from solutions containing no ceramic powder do not reach the object of the invention. That is, even if the magnetic material is sprayed, it does not exhibit sufficient adhesiveness.
Ceramic powder remedies this deficiency and provides excellent adhesion. Any ceramic powder will provide sufficient adhesion. Examples of the ceramic powder include alumina, zirconia, zircon, mullite, beryllia, steatite, forsterite, magnesia, titania, ferrite, barium titanate and the like. From the viewpoint of a magnetic circuit, there are cases where magnetic materials such as ferrite, sendust, permalloy, iron and Fe-Si are desirable. This will be described later.

【0018】コロイダルシリカを含有するゾルを適当な
条件で乾燥することによって、主としてシリカで構成さ
れる物となるが、これに対しては磁性材料を溶射しても
十分な付着力は認められない。場合によってはまったく
溶射磁性層を形成できない。これにセラミック粉末を含
有させることによってこの欠点が解除でき、前記の種々
の粉末で付着性の向上が認められる。
By drying a sol containing colloidal silica under appropriate conditions, a sol mainly composed of silica can be obtained. However, even if a magnetic material is sprayed, sufficient adhesion cannot be recognized. . In some cases, the sprayed magnetic layer cannot be formed at all. By incorporating a ceramic powder into this, this defect can be eliminated, and the above various powders show an improvement in adhesion.

【0019】次に、第2の低融点ガラスからなる下地層
を形成する方法を説明する。本発明の低融点ガラスとは
ガラスの軟化点が1200℃以下のものをいう。つま
り、通常の低融点ガラスに比べて軟化点は高い。被溶射
基材と溶射磁性層が実用的な付着性を有するためにはこ
の温度以下のもので効果が認められる。溶射は溶射材料
を溶融し、被溶射基材に付着させて溶射層を形成するも
のである。溶射材料は非常に高温に加熱されるため、こ
の温度に比べて低い温度で軟化するガラスはすべて十分
な付着性を発揮する。そのため、溶射材料との付着力と
いう観点からの下地層用の低融点ガラスの限定はない
が、後述するように被溶射基材の構成あるいは磁気回路
からの限定が一部で発生する。例えば、被溶射基材の耐
熱性があまり優れない場合は、軟化点の低いガラスが望
ましい。これにはホウ珪酸鉛系のガラス、酸化鉛を主成
分にしたガラスがある。
Next, a method of forming the second underlayer made of the low melting point glass will be described. The low melting point glass of the present invention means a glass having a softening point of 1200 ° C. or lower. That is, the softening point is higher than that of ordinary low melting glass. In order for the thermal sprayed base material and the thermal sprayed magnetic layer to have practical adhesiveness, an effect is recognized at a temperature below this temperature. Thermal spraying is a method of melting a thermal spray material and adhering it to a substrate to be sprayed to form a thermal spray layer. Since the thermal spray material is heated to very high temperatures, any glass that softens at temperatures lower than this temperature will exhibit sufficient adhesion. Therefore, there is no limitation on the low melting point glass for the underlayer from the viewpoint of the adhesive force with the thermal spraying material, but there is some limitation on the configuration of the thermal sprayed substrate or the magnetic circuit as described later. For example, glass having a low softening point is desirable when the heat resistance of the substrate to be sprayed is not so excellent. These include lead borosilicate glass and lead oxide-based glass.

【0020】低融点ガラスの形成方法としては、低融点
ガラス粉末をシンナーに分散しその溶液を被溶射基材に
塗布し、乾燥した後軟化温度以上に加熱して下地層を形
成する方法、低融点ガラスを被溶射基材に溶射する方
法、低融点ガラスを溶かしそこに被溶射基材を漬ける方
法あるいは被溶射基材に低融点ガラス粉末を付着させ軟
化温度以上に加熱して下地層を形成する方法などの種々
の方法があり、被溶射基材に合った適切な工法を選択す
ればよい。
The low-melting glass is formed by dispersing a low-melting glass powder in a thinner, applying the solution onto a substrate to be sprayed, drying and then heating the softening temperature or higher to form an underlayer. Method of spraying melting point glass on the material to be sprayed, method of melting low melting point glass and dipping the material to be sprayed there, or attaching low melting point glass powder to the material to be sprayed and heating it above the softening temperature to form the underlying layer There are various methods such as a method of doing so, and an appropriate method may be selected according to the material to be sprayed.

【0021】第3の磁性材料粉末を含有する低融点ガラ
スからなる下地層を形成する方法は前記の第2の下地層
の磁気回路的な問題を改善した方法であり、形成方法は
ほぼ同様である。つまり、低融点ガラスに磁性粉末が含
有しているかしていないかの差だけである。低融点ガラ
スに含有させる磁性粉末とは後述する溶射に用いる磁性
材料と同様であり、高透磁率材料であれば特に限定はな
い。しかし、いかなる下地層の形成方法を選択するかに
よって、一部低融点ガラスと磁性粉末の反応が問題にな
る場合がある。例えば、溶融した低融点ガラスに被溶射
基材を漬ける方法において、磁性粉末にフェライトを選
択した場合、フェライト粉末とガラスが反応し、品質の
安定したものを得るのが困難となる。
The method of forming the underlayer made of the low melting point glass containing the third magnetic material powder is a method of improving the magnetic circuit problem of the second underlayer, and the forming method is almost the same. is there. That is, it is only the difference between the presence or absence of the magnetic powder in the low melting point glass. The magnetic powder contained in the low melting point glass is the same as the magnetic material used for thermal spraying described later, and is not particularly limited as long as it is a high magnetic permeability material. However, the reaction between the low-melting glass and the magnetic powder may become a problem depending on which underlying layer forming method is selected. For example, when ferrite is selected as the magnetic powder in the method of dipping the thermal spraying base material in the molten low melting point glass, the ferrite powder and the glass react with each other, and it becomes difficult to obtain a stable quality product.

【0022】以上述べたように、本発明の溶射方法はい
くつかの方法で被溶射基材に下地層を形成した後に、磁
性材料を溶射するものである。これによって、磁性材料
を溶射するに際して種々の被溶射基材に対して溶射磁性
層が形成でき、しかも実用的な付着力を得ることができ
る。
As described above, the thermal spraying method of the present invention is one in which the magnetic material is sprayed after the underlayer is formed on the substrate to be sprayed by several methods. As a result, a sprayed magnetic layer can be formed on various base materials to be sprayed when the magnetic material is sprayed, and a practical adhesive force can be obtained.

【0023】磁性材料とは、透磁率の高い材料、軟質磁
性材料をいい、金属あるいは合金系の高透磁率材料と酸
化物系の高透磁率材料に大きく分かれる。前者には鉄、
Fe−Si系、Fe−Al系、Co−Fe系、センダス
ト、パーマロイあるいはFe系ないしCo系の非晶質合
金などがある。後者にはスピネル型フェライトがあり、
MeOFe23で表される各種の系がある。ここでMe
としてはMn、Fe、Ni、Co、Cu、Mg、Li、
MnZn、MnMgZn、MgCuZn、NiZn、N
iCuZn、NiCuCoあるいはMnZnCuなどが
ある。これらの高透磁率材料はすべて溶射可能であり、
前記の下地層によって、種々の被溶射基材に対しても十
分な付着性あるいは付着力を有する。
The magnetic material refers to a material having a high magnetic permeability or a soft magnetic material, and is roughly classified into a metal or alloy-based high magnetic permeability material and an oxide-based high magnetic permeability material. Iron in the former,
There are Fe-Si type, Fe-Al type, Co-Fe type, sendust, permalloy, Fe type or Co type amorphous alloy, and the like. The latter has spinel type ferrite,
There are various systems represented by MeOFe 2 O 3 . Where Me
Are Mn, Fe, Ni, Co, Cu, Mg, Li,
MnZn, MnMgZn, MgCuZn, NiZn, N
There are iCuZn, NiCuCo, MnZnCu, and the like. All of these high permeability materials are sprayable,
Due to the above-mentioned base layer, it has sufficient adhesiveness or adhesiveness to various thermal sprayed substrates.

【0024】溶射方法としては、アーク溶射法、ガス溶
射法あるいはプラズマ溶射法があるが、溶射材料の選択
範囲(溶射可能な材料の範囲)や雰囲気調整のしやすさ
の点からはプラズマ溶射法が最も優れている。アーク溶
射法は導電性材料を溶射するのに適しており、ガス溶射
法は導電性あるいは絶縁性のいずれであってもよいが、
ガスを燃焼させる点で雰囲気制御に難がある。プラズマ
溶射法では、プラズマの作動ガスとしてアルゴン、ヘリ
ウム等の不活性ガスや窒素、水素、酸素等を用いること
ができる。また、溶射する材料の形態は一般には粉末状
であり、粉末を供給するガス、キャリアガスに前記の各
種のガスを用いることによって、溶射の雰囲気制御が可
能である。溶射可能な材料から、前記の3つの溶射法を
比較すると、プラズマ溶射法、ガス溶射法、アーク溶射
法の順で溶射できる材料範囲が小さくなる。つまり、プ
ラズマ溶射法では低融点材料から高融点材料の非常に多
くの材料を溶射することができる。
As the thermal spraying method, there are an arc thermal spraying method, a gas thermal spraying method and a plasma thermal spraying method, but the plasma thermal spraying method is selected from the viewpoint of the selection range of the thermal spraying material (the range of materials which can be sprayed) and the ease of adjusting the atmosphere. Is the best. The arc spraying method is suitable for spraying a conductive material, and the gas spraying method may be either conductive or insulating,
Atmosphere control is difficult in terms of burning gas. In the plasma spraying method, an inert gas such as argon or helium, nitrogen, hydrogen, oxygen or the like can be used as a working gas of plasma. The form of the material to be sprayed is generally powdery, and the atmosphere for spraying can be controlled by using the above-mentioned various gases as a gas for supplying the powder and a carrier gas. Comparing the above-mentioned three spraying methods from the sprayable material, the range of materials that can be sprayed in the order of plasma spraying method, gas spraying method and arc spraying method becomes smaller. That is, the plasma spraying method can spray a very large amount of materials from low melting point materials to high melting point materials.

【0025】本発明の溶射方法は、磁性材料を溶射する
に際して種々の被溶射基材に対して溶射によって磁性層
が形成でき、しかも実用的な付着性あるいは付着力を得
ることができる。より限定し、本発明の溶射方法の特徴
がさらに発揮されるのは電子部品用の磁性層の形成であ
る。つまり、電子部品用において磁性層を形成する目的
の1つに所定の磁気回路の形成がある。なかでも被溶射
基材と溶射によって形成した溶射磁性層からなる構成材
で一連の磁気回路を形成する場合には、下地層の磁気的
な特性が重要である。例えば、下地層が非磁性体であれ
ば被溶射基材と溶射磁性層の間にギャップが形成される
ことになり、下地層が磁性体であれば被溶射基材と溶射
磁性層は下地層を介した磁気的に連続体となる。一般
に、ギャップを形成するのは、磁気ヘッドのような漏れ
磁束を利用するあるいは磁気回路を構成する磁性体の飽
和を避けて、例えば直流重畳特性を向上させるなどのた
めである。一方、漏れ磁束の低減あるいは優れたインダ
クタンスを得るためには連続的な構成が必要となる。本
発明の溶射方法の下地層は前記のいずれの目的をも満足
させることができる。例えば、ギャップ形成には少なく
ともコロイダルシリカとセラミック粉末からなる下地層
を形成する方法において、非磁性材料のセラミック粉末
を用いればよい。逆に、連続体にする場合には、セラミ
ック粉末に磁性粉末を用いればよい。
The thermal spraying method of the present invention can form a magnetic layer by thermal spraying on various substrates to be sprayed when spraying a magnetic material, and can obtain practical adhesiveness or adhesive force. It is the formation of the magnetic layer for electronic parts that is more limited and that the characteristics of the thermal spraying method of the present invention are further exerted. That is, one of the purposes of forming the magnetic layer in electronic parts is to form a predetermined magnetic circuit. In particular, when forming a series of magnetic circuits with a constituent material composed of a sprayed substrate and a sprayed magnetic layer formed by spraying, the magnetic characteristics of the underlayer are important. For example, if the underlayer is a non-magnetic material, a gap will be formed between the sprayed base material and the sprayed magnetic layer, and if the underlayer is a magnetic material, the sprayed base material and the sprayed magnetic layer will be the underlayer. Becomes a magnetically continuous body via. Generally, the gap is formed in order to improve leakage current, such as a magnetic head, or to avoid saturation of a magnetic material forming a magnetic circuit to improve, for example, DC superposition characteristics. On the other hand, a continuous structure is required to reduce the leakage flux or obtain an excellent inductance. The underlayer of the thermal spraying method of the present invention can satisfy any of the above objects. For example, in forming the gap, a ceramic powder of a non-magnetic material may be used in the method of forming an underlayer composed of at least colloidal silica and ceramic powder. Conversely, in the case of forming a continuous body, magnetic powder may be used as the ceramic powder.

【0026】さらに、具体的な本発明の溶射方法の電子
部品への応用について説明する。例えば、電子部品とし
てインダクタンスあるいはインピーダンスを得るための
部品とすれば、その場合の被溶射基材の一例として磁性
体コアあるいは導線がある。これらの被溶射基材に前述
した種々の下地層を形成した後、磁性材料を溶射するこ
とによって、電子部品が得られる。この場合、磁性体コ
ア、下地層および溶射によって形成した溶射磁性層によ
って磁気回路が形成される。前述したように下地層に磁
性粉末が含有するかしないかでギャップを形成するか連
続的な、閉磁路構成にするかを選択する。これによっ
て、優れたインダクタンス特性あるいは優れた直流重畳
特性を発揮する。
Further, application of the specific spraying method of the present invention to electronic parts will be described. For example, when an electronic component is a component for obtaining inductance or impedance, a magnetic material core or a conductive wire is an example of the material to be sprayed in that case. An electronic component is obtained by forming the above-mentioned various underlayers on the spray-coated substrate and then spraying the magnetic material. In this case, a magnetic circuit is formed by the magnetic core, the underlayer, and the sprayed magnetic layer formed by spraying. As described above, whether to form a gap or to form a continuous closed magnetic circuit structure is selected depending on whether or not the magnetic powder is contained in the underlayer. As a result, excellent inductance characteristics or excellent DC superposition characteristics are exhibited.

【0027】次に、本実施例を具体的に図を用いて、さ
らに詳述する。図1に前述した本発明の溶射方法を示
す。図1(a)は下地層形成後を示し、(b)は磁性材
料を溶射した後を示す。図1において、1は被溶射基材
であり、2は下地層である。3は磁性材料を溶射して得
られた溶射磁性層である。このように、まず被溶射基材
1の溶射磁性層を形成したい部分に下地層2を形成す
る。次に、図1(b)に示すように、磁性材料を溶射す
ることによって溶射磁性層3が下地層2の上に形成され
る。下地層2には前述したように、3つの形成方法があ
る。
Next, this embodiment will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows the thermal spraying method of the present invention described above. FIG. 1A shows the state after the underlayer is formed, and FIG. 1B shows the state after the magnetic material is sprayed. In FIG. 1, 1 is a base material to be sprayed and 2 is a base layer. Reference numeral 3 is a sprayed magnetic layer obtained by spraying a magnetic material. Thus, first, the underlayer 2 is formed on the portion of the substrate 1 to be sprayed where the sprayed magnetic layer is to be formed. Next, as shown in FIG. 1B, a sprayed magnetic layer 3 is formed on the underlayer 2 by spraying a magnetic material. As described above, the underlayer 2 has three forming methods.

【0028】次に、本発明の溶射方法を電子部品の作製
に応用した一例を示す。図2は前述した本発明の溶射方
法で作製したインダクタンス部品の透視斜視図を示す。
図2において、2は下地層であるが、芯には導線が存在
する。つまり、導線が下地層で被覆した状態であり、表
面は下地層2からなる。まず、図2(a)に示すように
巻いた状態の導線を下地層2で被覆する。次に、(b)
に示すように磁性材料を溶射し溶射磁性層3を形成す
る。図2の場合、溶射磁性層3で下地層2で被覆した導
線をモールドした状態になる。
Next, an example in which the thermal spraying method of the present invention is applied to the production of electronic parts will be shown. FIG. 2 shows a perspective perspective view of an inductance component manufactured by the above-described thermal spraying method of the present invention.
In FIG. 2, reference numeral 2 is an underlayer, but a conductor wire exists in the core. That is, the conductor wire is covered with the underlayer, and the surface is formed of the underlayer 2. First, as shown in FIG. 2A, the wound conductor wire is covered with the underlayer 2. Next, (b)
As shown in (1), the magnetic material is sprayed to form the sprayed magnetic layer 3. In the case of FIG. 2, the conductive wire covered with the underlayer 2 by the sprayed magnetic layer 3 is molded.

【0029】図2の場合は被溶射基材が導線だけであっ
たが、図3に導線支持体に導線が巻かれた例を示す。図
3において、4は導線であり、5は導線4を支持する導
線支持体である。この場合も図2と同様に、まず、図3
(a)に示すように導線支持体5に導線4が巻かれた状
態の被溶射基材を準備する。次に(b)に示すように、
導線4および導線支持体5に下地層2を形成する。さら
に、図3(c)に示すように、磁性材料を溶射し、溶射
磁性層3を形成する。
In the case of FIG. 2, the base material to be sprayed was only the conductive wire, but FIG. 3 shows an example in which the conductive wire is wound around the conductive wire support. In FIG. 3, reference numeral 4 is a conductive wire, and 5 is a conductive wire supporter that supports the conductive wire 4. Also in this case, first, as in FIG.
As shown in (a), a thermal spraying base material in which the conductive wire 4 is wound around the conductive wire support 5 is prepared. Next, as shown in (b),
The underlayer 2 is formed on the conductor 4 and the conductor support 5. Further, as shown in FIG. 3C, a magnetic material is sprayed to form a sprayed magnetic layer 3.

【0030】被溶射基材1としては前述したように、特
に限定はなく、種々の無機物あるいは有機物が可能であ
る。
As described above, the base material 1 to be sprayed is not particularly limited, and various inorganic or organic materials can be used.

【0031】下地層2は前述したように、1つはコロイ
ダルシリカとセラミック粉末からなる層であり、2つ目
は低融点ガラスからなる層であり、3つ目は磁性粉末を
含有した低融点ガラスからなる層である。この磁性粉末
は溶射磁性層3を形成するための溶射に用いる磁性材料
と同様の軟質磁性材料からなる粉末である。
As described above, the underlayer 2 is a layer made of colloidal silica and ceramic powder, a second layer is made of low melting point glass, and a third layer is made of low melting point containing magnetic powder. It is a layer made of glass. This magnetic powder is a powder made of a soft magnetic material similar to the magnetic material used for thermal spraying to form the thermal spray magnetic layer 3.

【0032】溶射磁性層3は磁性材料を溶射することに
よって得た層である。磁性材料とは、前述したような透
磁率の高い材料、つまり軟質磁性材料をいう。スピネル
型のフェライトを用いる場合は溶射によって得られる溶
射磁性層3の特性を優れたものにできる十分にフェライ
ト化したものが望ましい。フェライトの一般的な作製方
法は、各種の原料酸化物を所定量配合し、混合した後、
仮焼した粉を成型し、本焼成してフェライト磁性体を作
製する。そのため一般的なフェライト粉末は成型した後
の本焼成を考慮した仮焼である。つまり、例えば仮焼温
度は800℃程度の低温であり、本焼成は1200℃ぐ
らいの高温である。しかし、溶射に用いるフェライト粉
末は本焼成温度ぐらいで仮焼した粉末が望ましい。
The sprayed magnetic layer 3 is a layer obtained by spraying a magnetic material. The magnetic material means a material having a high magnetic permeability as described above, that is, a soft magnetic material. When using a spinel type ferrite, it is desirable that the thermal sprayed magnetic layer 3 obtained by thermal spraying be sufficiently ferritic so as to have excellent characteristics. A general method for producing ferrite is to mix various raw material oxides in predetermined amounts, and after mixing,
The calcined powder is molded and then fired to produce a ferrite magnetic body. Therefore, general ferrite powder is calcined considering the main firing after molding. That is, for example, the calcination temperature is a low temperature of about 800 ° C., and the main calcination is a high temperature of about 1200 ° C. However, it is desirable that the ferrite powder used for thermal spraying be a powder that is calcined at about the main firing temperature.

【0033】以上が本発明の溶射方法の基本構成物であ
るが、本発明の溶射方法を電子部品の形成に適用する場
合の一例に被溶射基材1が導線4あるいは導線4および
導線支持体5からなる場合について説明する。
The above is the basic constituents of the thermal spraying method of the present invention. In one example in which the thermal spraying method of the present invention is applied to the formation of electronic parts, the sprayed substrate 1 is the conductor wire 4 or the conductor wire 4 and the conductor wire support. The case of 5 will be described.

【0034】導線4としては、通常一般によく多用され
る被覆銅線でよく、他にニッケル、銀、金、白金等の導
電性材料であればよい。被覆材料としてはポリウレタ
ン、ポリエステル、エステルイミドあるいはアミドイミ
ドなどがあり、さらにはこれらの有機物にセラミック粉
末をフィラーとして混入したものでもよい。
The conductive wire 4 may be a coated copper wire which is generally and often used, and may be any other conductive material such as nickel, silver, gold or platinum. Examples of the coating material include polyurethane, polyester, ester imide, amide imide, and the like, and may be a material in which ceramic powder is mixed as a filler in these organic substances.

【0035】導線支持体5は前記の磁性材料と磁性材料
以外の非磁性材料に分けることができる。非磁性材料の
代表的な材料としては、アルミナ、ムライト、ベリリ
ア、ステアタイト、フォルステライト、マグネシア、チ
タニア等の各種セラミックスあるいは各種のガラスセラ
ミックスさらには窒化物、炭化物、亜鉛フェライト、チ
タン酸バリウム、ニオブ酸カリウム、熱可塑性樹脂、熱
硬化性樹脂などがある。
The conductor support 5 can be divided into the above-mentioned magnetic material and non-magnetic material other than the magnetic material. Typical non-magnetic materials include various ceramics such as alumina, mullite, beryllia, steatite, forsterite, magnesia, titania, and various glass ceramics, as well as nitrides, carbides, zinc ferrite, barium titanate, and niobium. Potassium acid, thermoplastic resin, thermosetting resin, and the like.

【0036】前述したように、下地層2を適切に選択す
ることによって、インダクタンス、インピーダンス、直
流重畳特性あるいは周波数特性をコントロールでき、ど
のような特性にも対応できる優れた電気特性を示す電子
部品を得ることができる。このような場合、下地層2は
付着性あるいは付着力の付与と優れた電気特性の付与を
も兼ね備えたものになる。
As described above, by properly selecting the underlayer 2, it is possible to control the inductance, the impedance, the DC superposition characteristic or the frequency characteristic, and to provide an electronic component having excellent electrical characteristics capable of responding to any characteristics. Obtainable. In such a case, the underlayer 2 has both an adhesive property or an adhesive force and excellent electrical characteristics.

【0037】(実施例1)ステンレス板、銅板、石英ガ
ラス板、アルミナ基板およびポリイミドフィルムにコロ
イダルシリカと平均粒径1μmのアルミナ粉末を含有し
た溶液を塗布し、150℃の温度で30分間乾燥し、下
地層を形成した。次にこれらの下地層を施した各被溶射
基材にNiZn系フェライト粉末を溶射し、溶射磁性層
を形成した。形成した溶射磁性層の厚みは0.2mmであ
った。溶射法はプラズマ溶射法を用い、作動ガスとして
アルゴンとヘリウムを使用した。それぞれ10l/分の
流量にした。アーク電流は440A、電圧は34Vであ
った。
Example 1 A solution containing colloidal silica and alumina powder having an average particle size of 1 μm was applied to a stainless plate, a copper plate, a quartz glass plate, an alumina substrate and a polyimide film, and dried at a temperature of 150 ° C. for 30 minutes. The underlayer was formed. Next, the NiZn-based ferrite powder was sprayed onto each sprayed base material having these underlayers to form a sprayed magnetic layer. The formed sprayed magnetic layer had a thickness of 0.2 mm. Plasma spraying was used as the spraying method, and argon and helium were used as working gases. The flow rate was 10 l / min for each. The arc current was 440A and the voltage was 34V.

【0038】いずれの被溶射基材にも溶射磁性層は強固
に付着し、実用上問題のないものが得られた。
The thermally sprayed magnetic layer was firmly adhered to any of the thermally sprayed base materials, and there were obtained practically no problems.

【0039】比較のために、前記の被溶射基材に下地層
を形成せずに前記と同様に溶射磁性層の形成を試みた
が、いずれの被溶射基材もフェライト粉末の付着は少し
認められたが、溶射磁性層を形成するまでには至らなか
った。
For comparison, an attempt was made to form a thermally sprayed magnetic layer in the same manner as above without forming an underlayer on the thermally sprayed base material, but a slight amount of ferrite powder adhering to each of the thermally sprayed base materials was recognized. However, it was not possible to form a sprayed magnetic layer.

【0040】このように本発明の溶射方法では溶射磁性
層を形成できない被溶射基材に対しても、溶射磁性層を
形成でき、しかも実用的に付着力を有する溶射磁性層を
形成することができる。
As described above, it is possible to form a sprayed magnetic layer on a substrate to be sprayed on which a sprayed magnetic layer cannot be formed by the spraying method of the present invention, and to form a sprayed magnetic layer having practical adhesive force. it can.

【0041】前記の溶射する磁性材料をMnZn系フェ
ライト粉末、NiZnCu系フェライト粉末、センダス
ト、パーマロイおよび鉄に換えて、前記と同様に被溶射
基材にまず下地層を形成し溶射した。いずれの磁性材料
を用いても各被溶射基材に対して十分な付着力を有する
溶射磁性層を形成することができた。
The magnetic material to be sprayed was replaced with MnZn type ferrite powder, NiZnCu type ferrite powder, sendust, permalloy and iron, and an underlayer was first formed and sprayed on the substrate to be sprayed in the same manner as above. No matter which magnetic material was used, a sprayed magnetic layer having sufficient adhesion to each sprayed substrate could be formed.

【0042】さらに、コロイダルシリカとアルミナ粉末
を含有した下地層形成用の溶液をコロイダルシリカとM
nZn系フェライト粉末を含有した溶液とし同様に下地
層を形成し、前記と同様に種々の磁性材料を溶射した。
溶射磁性層の付着力には有意差は認められなかった。
Further, a solution for forming an underlayer containing colloidal silica and alumina powder is colloidal silica and M.
An underlayer was formed in the same manner as a solution containing nZn ferrite powder, and various magnetic materials were sprayed as described above.
No significant difference was observed in the adhesive force of the sprayed magnetic layer.

【0043】(実施例2)ステンレス板、銅板、石英ガ
ラス板およびアルミナ基板にホウ珪酸鉛系の低融点ガラ
ス粉末をシンナーに溶いた溶液を塗布し、100℃で乾
燥した後、400℃の温度で焼成し、下地層を形成し
た。次にこれらの下地層を施した各被溶射基材にMnZ
n系フェライト粉末を溶射した。得られた溶射磁性層の
厚みは0.2mmであった。溶射条件は実施例1と同様で
ある。
Example 2 A solution of lead borosilicate low melting point glass powder dissolved in a thinner was applied to a stainless steel plate, a copper plate, a quartz glass plate and an alumina substrate, dried at 100 ° C., and then a temperature of 400 ° C. Was fired to form a base layer. Next, MnZ is applied to each of the thermal sprayed base materials provided with these underlayers.
The n-type ferrite powder was sprayed. The thickness of the obtained sprayed magnetic layer was 0.2 mm. The thermal spraying conditions are the same as in Example 1.

【0044】いずれの被溶射基材にも実施例1と同様に
溶射磁性層は強固に付着し、実用上問題のないものが得
られた。
As in Example 1, the sprayed magnetic layer was firmly adhered to any of the sprayed substrates, and a practically problem-free one was obtained.

【0045】溶射材料をNiZn系フェライト粉末、セ
ンダスト、パーマロイおよび鉄に換えて、前記と同様に
被溶射基材にまず下地層を形成し、溶射したところ、各
基材への溶射磁性層の付着力には有意差は認められなか
った。
When the thermal spraying material was changed to NiZn ferrite powder, sendust, permalloy and iron, an underlayer was first formed on the substrate to be sprayed and sprayed in the same manner as described above. There was no significant difference in the force of attachment.

【0046】(実施例3)ステンレス板、銅板、石英ガ
ラス板およびアルミナ基板にホウ珪酸鉛系の低融点ガラ
スペーストを印刷した。150℃で乾燥した後、400
℃の温度で焼成し、下地層を形成した。次にこれらの下
地層を施した各被溶射基材にMnZn系フェライト粉末
を溶射した。溶射条件は実施例1と同様である。
Example 3 A lead borosilicate low melting point glass paste was printed on a stainless plate, a copper plate, a quartz glass plate and an alumina substrate. 400 after drying at 150 ° C
The base layer was formed by firing at a temperature of ° C. Next, MnZn-based ferrite powder was sprayed onto each of the sprayed base materials provided with these underlayers. The thermal spraying conditions are the same as in Example 1.

【0047】得られた溶射磁性層の厚みは0.2mmであ
り、下地層を形成しなかった面には溶射磁性層は形成さ
れていなかった。溶射磁性層は強固に付着し、実用上問
題のないものが得られた。
The thickness of the obtained sprayed magnetic layer was 0.2 mm, and the sprayed magnetic layer was not formed on the surface on which the underlayer was not formed. The thermally sprayed magnetic layer adhered firmly, and a practically problem-free one was obtained.

【0048】溶射材料をNiZn系フェライト粉末、セ
ンダスト、パーマロイおよび鉄に換えて、前記と同様に
溶射磁性層を形成したが、付着力には有意差は認められ
なかった。
The thermal spraying material was replaced with NiZn ferrite powder, sendust, permalloy and iron to form a thermal spray magnetic layer in the same manner as described above, but no significant difference was observed in the adhesive force.

【0049】(実施例4)直径35μmのポリウレタン
被覆銅線を直線状に配置したものと5回巻いたものおよ
び直径0.5mmのNiZn系フェライト焼結体に5回巻
いたものをそれぞれ作製した。次に、実施例1と同様に
これらの銅線に下地層を形成した。これらの下地層を施
した銅線にNiZn系フェライト粉末を溶射した。溶射
磁性層の厚みは0.2mmであった。溶射条件は実施例1
と同様である。
Example 4 Polyurethane-coated copper wires having a diameter of 35 μm were arranged linearly, wound 5 times, and NiZn-based ferrite sintered bodies having a diameter of 0.5 mm were wound 5 times, respectively. . Next, an underlayer was formed on these copper wires in the same manner as in Example 1. NiZn-based ferrite powder was sprayed onto the copper wire provided with these underlayers. The thickness of the sprayed magnetic layer was 0.2 mm. The thermal spraying conditions are those of Example 1.
Is the same as

【0050】いずれの銅線にも溶射磁性層は強固に付着
し、実用上問題のないものが得られた。
The sprayed magnetic layer was firmly adhered to any of the copper wires, and there was no problem in practical use.

【0051】溶射材料をMnZn系フェライト、センダ
スト、パーマロイおよび鉄粉末に換えて、前記と同様に
溶射したところ、付着力には有意差は認められなかっ
た。
When the thermal spraying material was changed to MnZn ferrite, sendust, permalloy and iron powder and thermal spraying was carried out in the same manner as above, no significant difference was observed in the adhesive force.

【0052】さらに、ポリウレタン被覆銅線をポリエス
テル、エステルイミドおよびアミドイミドの被覆銅線に
換えて、前記と同様に下地層を形成した後、溶射した。
各銅線への付着力は同程度であった。
Further, the polyurethane coated copper wire was replaced with a polyester, ester imide and amide imide coated copper wire to form an underlayer in the same manner as described above and then sprayed.
The adhesion to each copper wire was similar.

【0053】(実施例5)直径1mmのNiZn系フェラ
イト棒に直径50μmのポリイミド被覆銅線を10回巻
き、実施例1と同様に下地層を形成した。次に、仮焼温
度が800℃と1200℃の2種類のNiZn系フェラ
イト粉末を用い、実施例1と同じプラズマ溶射法で前記
の下地層を施した被溶射基材に前記の2種類のそれぞれ
のフェライトを溶射し、厚み0.1mmの溶射磁性層を形
成した。溶射条件は実施例1と同じにした。
Example 5 A polyimide coated copper wire having a diameter of 50 μm was wound 10 times around a NiZn type ferrite rod having a diameter of 1 mm to form an underlayer in the same manner as in Example 1. Next, two kinds of NiZn-based ferrite powders having calcination temperatures of 800 ° C. and 1200 ° C. were used, and the above-mentioned base layer was subjected to the same plasma spraying method as in Example 1, and each of the above two types was applied to the sprayed base material. Was sprayed to form a sprayed magnetic layer having a thickness of 0.1 mm. The thermal spraying conditions were the same as in Example 1.

【0054】このようにして得た溶射磁性層は1200
℃で仮焼した粉を用いたものは800℃仮焼の粉を用い
たものに比べて、付着力および膜強度が1.5倍優れて
いた。仮焼温度が800℃のフェライト粉末は十分スピ
ネル化しておらず、1200℃仮焼のものは十分にフェ
ライト化していた。これは結晶学的には大きな差は認め
られないが、磁気特性上は両者に差は認められた。
The thermal sprayed magnetic layer thus obtained was 1200
The one using the powder calcined at ℃ was 1.5 times better in adhesion and film strength than the one using the powder calcined at 800 ° C. The ferrite powder having a calcination temperature of 800 ° C. was not sufficiently spinelized, and the 1200 ° C. calcinated one was sufficiently ferritic. Although this does not show a large difference crystallographically, there is a difference between the two in terms of magnetic properties.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上のように本発明の溶射方法によれ
ば、被溶射基材の表面に少なくともコロイダルシリカと
セラミック粉末からなる下地層あるいは低融点ガラスか
らなる下地層または磁性粉末を含有した低融点ガラスか
らなる下地層を形成した後、磁性材料を溶射することに
よって、被溶射基材を物理的にダメージを与えることな
く、種々の被溶射基材に溶射磁性層が形成でき、しかも
実用上十分な付着性あるいは付着力を有する溶射磁性層
を得ることができる。また、電子部品等の磁気回路の形
成に用いた場合、下地層に磁性粉末を含有させることに
よって、種々の電磁気特性を得ることができる。
As described above, according to the thermal spraying method of the present invention, an underlayer containing at least colloidal silica and ceramic powder or an underlayer containing low melting point glass or a magnetic powder is formed on the surface of the substrate to be sprayed. By spraying a magnetic material after forming an underlayer made of glass with a melting point, it is possible to form a sprayed magnetic layer on various sprayed substrates without physically damaging the sprayed substrate. It is possible to obtain a sprayed magnetic layer having sufficient adhesiveness or adhesive force. Further, when used for forming a magnetic circuit of an electronic component or the like, various electromagnetic characteristics can be obtained by including magnetic powder in the underlayer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は本発明の溶射方法の一例を示す断面図 (b)は同断面図FIG. 1A is a sectional view showing an example of a thermal spraying method of the present invention, and FIG. 1B is a sectional view of the same.

【図2】(a)は本発明の溶射方法を用いて電子部品を
作製する導線の斜視図 (b)は同透視斜視図
FIG. 2 (a) is a perspective view of a lead wire for producing an electronic component by using the thermal spraying method of the present invention, and FIG. 2 (b) is the same perspective view.

【図3】(a)は本発明の溶射方法を用いて電子部品を
作製する一例を示す斜視図 (b)は同斜視図 (c)は同斜視図
3A is a perspective view showing an example of manufacturing an electronic component by using the thermal spraying method of the present invention, FIG. 3B is the same perspective view, and FIG. 3C is the same perspective view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被溶射基材 2 下地層 3 溶射磁性層 4 導線 5 導線支持体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material for thermal spraying 2 Underlayer 3 Thermal spraying magnetic layer 4 Conductive wire 5 Conductive wire support

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被溶射基材の表面に少なくともコロイダ
ルシリカとセラミック粉末からなる下地層を形成した
後、磁性材料を溶射する工程を有した磁性材料の溶射方
法。
1. A method of thermal spraying a magnetic material, which comprises a step of thermally spraying a magnetic material after forming an underlayer made of at least colloidal silica and ceramic powder on the surface of a substrate to be sprayed.
【請求項2】 セラミック粉末が主として磁性粉末から
なる請求項1記載の磁性材料の溶射方法。
2. The method of thermal spraying a magnetic material according to claim 1, wherein the ceramic powder is mainly composed of magnetic powder.
【請求項3】 磁性粉末が十分にスピネル化したフェラ
イト粉末からなる請求項2記載の磁性材料の溶射方法。
3. The thermal spraying method for a magnetic material according to claim 2, wherein the magnetic powder comprises a ferrite powder sufficiently spinelized.
【請求項4】 被溶射基材の表面に主として低融点ガラ
スからなる下地層を形成した後、磁性材料を溶射する工
程を有した磁性材料の溶射方法。
4. A method of thermal spraying a magnetic material, which comprises a step of thermally spraying a magnetic material after forming an underlayer mainly composed of low melting point glass on the surface of a substrate to be sprayed.
【請求項5】 被溶射基材の表面に磁性粉末を含有した
低融点ガラスからなる下地層を形成した後、磁性材料を
溶射する工程を有した磁性材料の溶射方法。
5. A method of thermal spraying a magnetic material, which comprises a step of thermally spraying a magnetic material after forming an underlayer made of low melting point glass containing magnetic powder on the surface of a substrate to be sprayed.
【請求項6】 低融点ガラスがホウ珪酸鉛系のガラスか
らなる請求項4または請求項5記載の磁性材料の溶射方
法。
6. The method of thermal spraying a magnetic material according to claim 4, wherein the low-melting glass comprises lead borosilicate glass.
【請求項7】 磁性材料がフェライトからなる請求項1
または請求項4または請求項5記載の磁性材料の溶射方
法。
7. The magnetic material comprises ferrite.
Alternatively, the thermal spraying method of the magnetic material according to claim 4 or 5.
【請求項8】 被溶射基材が少なくとも導線あるいは導
線と導線支持体からなる請求項1または請求項4または
請求項5記載の磁性材料の溶射方法。
8. The thermal spraying method for a magnetic material according to claim 1, 4 or 5, wherein the base material to be sprayed comprises at least a conductive wire or a conductive wire and a conductive wire support.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100605366B1 (en) * 2004-12-15 2006-07-31 재단법인 포항산업과학연구원 Fabrication method of thin type rare earth magnet with good magnetic characteristic
JP2015207709A (en) * 2014-04-22 2015-11-19 新電元工業株式会社 magnetic component

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