JPH0799719B2 - プラズマガン - Google Patents
プラズマガンInfo
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- JPH0799719B2 JPH0799719B2 JP62109076A JP10907687A JPH0799719B2 JP H0799719 B2 JPH0799719 B2 JP H0799719B2 JP 62109076 A JP62109076 A JP 62109076A JP 10907687 A JP10907687 A JP 10907687A JP H0799719 B2 JPH0799719 B2 JP H0799719B2
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- ring
- gas
- corrugated
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3405—Arrangements for stabilising or constricting the arc, e.g. by an additional gas flow
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/16—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed
- B05B7/22—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc
- B05B7/222—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc
- B05B7/226—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc the material being originally a particulate material
-
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
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- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3436—Hollow cathodes with internal coolant flow
-
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- H05H1/32—Plasma torches using an arc
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- H05H1/3484—Convergent-divergent nozzles
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はプラズマガン及び特にこれのためのガス分配リ
ングであつて、プラズマガンのアーク領域内に半径方向
又は渦巻状のガス流を選択的に生ぜしめる形式のものに
関する。
ングであつて、プラズマガンのアーク領域内に半径方向
又は渦巻状のガス流を選択的に生ぜしめる形式のものに
関する。
従来の技術 プラズマガンは、金属又はセラミツクのような熱可溶性
材料を熱軟化させ、軟化した材料を粒子の形態で被覆面
へ噴射するために使用される。加熱された粒子は被覆面
に衝突してこれに付着する。熱可溶性材料は通常粉末状
でプラズマガンに供給されるが、この粉末は一般に米国
基準スクリーンサイズで100メツシユ以下でほぼ５ミク
ロンである。
材料を熱軟化させ、軟化した材料を粒子の形態で被覆面
へ噴射するために使用される。加熱された粒子は被覆面
に衝突してこれに付着する。熱可溶性材料は通常粉末状
でプラズマガンに供給されるが、この粉末は一般に米国
基準スクリーンサイズで100メツシユ以下でほぼ５ミク
ロンである。
通常のプラズマシステムでは、水冷ノズル（陽極）と中
央の陰極との間にアークが生ぜしめられる。不活性ガス
がこのアークを通過し、そのさい15,000℃の温度まで励
起される。ノズルから噴射される少なくとも部分的にイ
オン化したガスのプラズマはオキシ・アセチレンのオー
プンフレームに類似している。この種の一般的なプラズ
マフレームスプレーガンは米国特許第3,145,287号明細
書に開示されている。
央の陰極との間にアークが生ぜしめられる。不活性ガス
がこのアークを通過し、そのさい15,000℃の温度まで励
起される。ノズルから噴射される少なくとも部分的にイ
オン化したガスのプラズマはオキシ・アセチレンのオー
プンフレームに類似している。この種の一般的なプラズ
マフレームスプレーガンは米国特許第3,145,287号明細
書に開示されている。
プラズマガンは一般に１次プラズマガスとしてアルゴン
又は窒素で作動可能である。アルゴンの場合、ガスは、
陰極の近くで接線方向成分を備えた単数又は複数のオリ
フイスを通つてチヤンバ内に導入されて、プラズマに対
して垂直な流れを形成する。これについては例えば米国
特許第3,823,302号明細書を参照されたい。渦巻なしで
アークがノズルの下流へ十分遠く搬送されないことの理
由は電圧及び効率が低いからである。他面において、米
国特許第3145287号明細書の開示によれば、ガスを半径
方向でインプツトすることが可能である。半径方向のイ
ンプツトは一般に窒素の場合に採用される。その理由
は、接続方向インプツトによつて生じる渦巻が窒素アー
クをノズルの孔の下流へ遠くまで延ばす傾向を有し、そ
の結果、アークのスタートが困難となるからである。
又は窒素で作動可能である。アルゴンの場合、ガスは、
陰極の近くで接線方向成分を備えた単数又は複数のオリ
フイスを通つてチヤンバ内に導入されて、プラズマに対
して垂直な流れを形成する。これについては例えば米国
特許第3,823,302号明細書を参照されたい。渦巻なしで
アークがノズルの下流へ十分遠く搬送されないことの理
由は電圧及び効率が低いからである。他面において、米
国特許第3145287号明細書の開示によれば、ガスを半径
方向でインプツトすることが可能である。半径方向のイ
ンプツトは一般に窒素の場合に採用される。その理由
は、接続方向インプツトによつて生じる渦巻が窒素アー
クをノズルの孔の下流へ遠くまで延ばす傾向を有し、そ
の結果、アークのスタートが困難となるからである。
しかし、窒素の場合、渦巻なしでは電圧及び効率が低
い。それゆえ、酸素のような２次ガスが添加されると、
これらのフアクタを増大させる効果がある。アルゴンが
使用される場合、渦巻があつても効率は不所望に低い。
可能ならばこの場合も酸素を添加することはできるが、
しかし酸素ガスは、スプレーされた被覆をもろくするた
め不所望であることが多い。ヘリウムは選択的に２次ガ
スとして使用できるが、これは高価であると共に低効率
である。
い。それゆえ、酸素のような２次ガスが添加されると、
これらのフアクタを増大させる効果がある。アルゴンが
使用される場合、渦巻があつても効率は不所望に低い。
可能ならばこの場合も酸素を添加することはできるが、
しかし酸素ガスは、スプレーされた被覆をもろくするた
め不所望であることが多い。ヘリウムは選択的に２次ガ
スとして使用できるが、これは高価であると共に低効率
である。
各プラズマガンは半径方向インプツトであれ、接線方向
インプツトであれ、プラズマを形成する特種なガスのた
めに構成される。
インプツトであれ、プラズマを形成する特種なガスのた
めに構成される。
１次ガスのために使用されるガンは一般に種々のガス分
配リングを備え、このガス分配リングはガスの種類の変
更のために取外しできるように陰極の近くに挿入され
る。ガスの種類の変更を簡便ならしめるために種々の試
みがなされている。米国特許第3313908号明細書によれ
ば、２つの外部のガス導管フイツテイングのいずれかに
よつて選択される互いに異なるガスのための２種のガス
入口を備えたプラズマトーチが開示されている。しかし
この方式でもガスに設けたフイツテイングを交換する必
要がある。
配リングを備え、このガス分配リングはガスの種類の変
更のために取外しできるように陰極の近くに挿入され
る。ガスの種類の変更を簡便ならしめるために種々の試
みがなされている。米国特許第3313908号明細書によれ
ば、２つの外部のガス導管フイツテイングのいずれかに
よつて選択される互いに異なるガスのための２種のガス
入口を備えたプラズマトーチが開示されている。しかし
この方式でもガスに設けたフイツテイングを交換する必
要がある。
米国特許第3,815,140号明細書によれば、前方へ傾斜し
た１次ポートと、接線方向に向けられた２次ポートとを
備えたガス分配リングを有するプラズマスプレーガンが
開示されている。このガス分配リングは制御によつてガ
ス流を変化させるといわれているが、しかし、ガス分配
リングの交換なしでは種々のガスのために流れを変化さ
せる手段が存在しないのみならず、作動中に流れの種類
を変える手段も存在しない。
た１次ポートと、接線方向に向けられた２次ポートとを
備えたガス分配リングを有するプラズマスプレーガンが
開示されている。このガス分配リングは制御によつてガ
ス流を変化させるといわれているが、しかし、ガス分配
リングの交換なしでは種々のガスのために流れを変化さ
せる手段が存在しないのみならず、作動中に流れの種類
を変える手段も存在しない。
米国特許第2941063号明細書によれば、互いに離れた２
個所でガスが導入されるプラズマトーチが開示されてい
る。アークの最初の部分及び協働するプラズマのための
ガス流を生ぜしめるために、陰極に近いチヤンバ内へオ
リフイスを通してガスを案内する半径方向インプツトの
ためのソースインレツトが陰極の近傍に配置されてい
る。接線方向インプツトのためのガスソースは大径の第
２の環状のチヤンバ内へ向けられており、このチヤンパ
は半径方向のインレツトチヤンバの下流のソースとなつ
ている。これらの著しく離れたガスインレツトソースは
アークの異なる部分へ向けられており、ガスインレツト
の選択又は陰極の近傍でのコントロールを生ぜしめな
い。
個所でガスが導入されるプラズマトーチが開示されてい
る。アークの最初の部分及び協働するプラズマのための
ガス流を生ぜしめるために、陰極に近いチヤンバ内へオ
リフイスを通してガスを案内する半径方向インプツトの
ためのソースインレツトが陰極の近傍に配置されてい
る。接線方向インプツトのためのガスソースは大径の第
２の環状のチヤンバ内へ向けられており、このチヤンパ
は半径方向のインレツトチヤンバの下流のソースとなつ
ている。これらの著しく離れたガスインレツトソースは
アークの異なる部分へ向けられており、ガスインレツト
の選択又は陰極の近傍でのコントロールを生ぜしめな
い。
本発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は、プラズマガンのアーク領域における半
径方向又は渦巻状のガス流の変更を簡便ならしめるよう
な新たなガス分配リングを備えたプラズマガンを提供す
ることにある。
径方向又は渦巻状のガス流の変更を簡便ならしめるよう
な新たなガス分配リングを備えたプラズマガンを提供す
ることにある。
本発明の別の課題は、半径方向及び接線方向のガスイン
レツトを離して配置して同時的に制御できるような新し
いガス分配リングを備えたプラズマガンを提供すること
にある。
レツトを離して配置して同時的に制御できるような新し
いガス分配リングを備えたプラズマガンを提供すること
にある。
本発明のさらに別の課題は、種々異なるインレツトフロ
ー特性を有するガスインレツト通路を絶縁する手段を備
えた新しいガス分配リングを備えたプラズマガンを提供
することにある。
ー特性を有するガスインレツト通路を絶縁する手段を備
えた新しいガス分配リングを備えたプラズマガンを提供
することにある。
本発明のさらに別の課題は、スプレーガンの交換の要な
く半径方向及び接線方向のガスインレツトの選択を可能
ならしめるようなガス分配リングを備えた改良されたプ
ラズマガンを提供することにある。
く半径方向及び接線方向のガスインレツトの選択を可能
ならしめるようなガス分配リングを備えた改良されたプ
ラズマガンを提供することにある。
問題点を解決するための手段 上記課題を解決した本発明の要旨は、ガス分配リングを
備えたプラズマガンにおいて、ガス分配リングが円筒形
の外面を備えたリング部材から成り、このリング部材が
単数又は複数の第１のガスインレットオリフィスと単数
又は複数の第２のガスインレットオリフィスとを備えて
おり、第１及び第２のガスインレットオリフィスがリン
グ部材の外面から内向きにリング部材を貫通して延びて
おり、リング部材の外面に波形状のＯリング溝が形成さ
れており、第１及び第２のガスインレットオリフィスは
外面のとろこでは波形状のＯリング溝に関して、第１の
ガスインレットオリフィスが波形状のＯリングの一方の
側に隔離されかつ第２のガスインレットオリフィスが波
形状のＯリングの他方の側に隔離されるように配置され
ており、かつ第１のガスインレットオリフィスの軸線が
リング部材の軸線に対して垂直な第１の平面に接してお
り、かつ、第２のガスインレットオリフィスの軸線が、
第１の平面に対して平行にかつこれに近接して位置する
第２の平面に接しており、かつ前記第１及び第２の平面
が第１のガスインレットオリフィスの平均直径と第２の
ガスインレットオリフィスの平均直径との和より小さい
間隔Ｓだけ互いに離れて位置していることにある。
備えたプラズマガンにおいて、ガス分配リングが円筒形
の外面を備えたリング部材から成り、このリング部材が
単数又は複数の第１のガスインレットオリフィスと単数
又は複数の第２のガスインレットオリフィスとを備えて
おり、第１及び第２のガスインレットオリフィスがリン
グ部材の外面から内向きにリング部材を貫通して延びて
おり、リング部材の外面に波形状のＯリング溝が形成さ
れており、第１及び第２のガスインレットオリフィスは
外面のとろこでは波形状のＯリング溝に関して、第１の
ガスインレットオリフィスが波形状のＯリングの一方の
側に隔離されかつ第２のガスインレットオリフィスが波
形状のＯリングの他方の側に隔離されるように配置され
ており、かつ第１のガスインレットオリフィスの軸線が
リング部材の軸線に対して垂直な第１の平面に接してお
り、かつ、第２のガスインレットオリフィスの軸線が、
第１の平面に対して平行にかつこれに近接して位置する
第２の平面に接しており、かつ前記第１及び第２の平面
が第１のガスインレットオリフィスの平均直径と第２の
ガスインレットオリフィスの平均直径との和より小さい
間隔Ｓだけ互いに離れて位置していることにある。
上述の課題及びさらに別の課題が図示の実施例の以下の
説明で明らかとなる。
説明で明らかとなる。
実施例 第１図は一般的なプラズマガン（この種のものは型式9M
Bガンとしてパーキンエルマー会社のMetco Divisionに
よつて販売されている）の前端10を示し、このプラズマ
ガンに本発明に基づくガス分配リング12が装備されてい
る。ガス本体14は中空円筒形の銅製の陽極ノズル部材16
と円筒形のタングステン製の陰極部材18とを互いに同軸
的に収容している。陽極ノズル部材16と陰極部材18とは
互いに間隔をおいて配置され、その間にプラズマ発生用
のアークを生ぜしめる。ガン本体14は陰極部材18及び陽
極ノズル部材16とを取囲んでおり、かつ流体のための通
路機構及び電気的接点を備えている。陽極ノズル部材16
は保持リング20によつてガン本体14内に保持されてい
る。陽極ノズル部材16のための環状の冷却領域22には冷
媒、一般には水がノズル冷媒通路24を介して供給され
る。同様な通路（図示せず）が冷媒を排出する。陽極ノ
ズル部材16とガン本体14との間のＯリングパツキン26,2
6′が冷媒を保有せしめる。作動時に陰極部材18と陽極
ノズル部材16との間に電圧が印加され、これによつてア
ークが発生する。このアークはガス流をノズル孔27の下
流へ流下させ、高温高速でノズル孔27から噴出するプラ
ズマ「フレーム」を発生せしめる。
Bガンとしてパーキンエルマー会社のMetco Divisionに
よつて販売されている）の前端10を示し、このプラズマ
ガンに本発明に基づくガス分配リング12が装備されてい
る。ガス本体14は中空円筒形の銅製の陽極ノズル部材16
と円筒形のタングステン製の陰極部材18とを互いに同軸
的に収容している。陽極ノズル部材16と陰極部材18とは
互いに間隔をおいて配置され、その間にプラズマ発生用
のアークを生ぜしめる。ガン本体14は陰極部材18及び陽
極ノズル部材16とを取囲んでおり、かつ流体のための通
路機構及び電気的接点を備えている。陽極ノズル部材16
は保持リング20によつてガン本体14内に保持されてい
る。陽極ノズル部材16のための環状の冷却領域22には冷
媒、一般には水がノズル冷媒通路24を介して供給され
る。同様な通路（図示せず）が冷媒を排出する。陽極ノ
ズル部材16とガン本体14との間のＯリングパツキン26,2
6′が冷媒を保有せしめる。作動時に陰極部材18と陽極
ノズル部材16との間に電圧が印加され、これによつてア
ークが発生する。このアークはガス流をノズル孔27の下
流へ流下させ、高温高速でノズル孔27から噴出するプラ
ズマ「フレーム」を発生せしめる。
第１図に示す実施例では陰極部材18がナツト30によつて
陰極ホルダ29に保持されており、この陰極ホルダ29は陰
極絶縁管28内に軸方向で取付けられており、陰極絶縁管
28は軸方向でガン本体14内に差しはめられている。この
実施例の陰極絶縁管28は剛性的なプラスチツクから形成
され、陰極部材18と陽極ノズル部材16との間の電気的な
絶縁を生ぜしめる。冷媒は管34の内側の通路32を通して
陰極部材18に供給されて、管34の外側の環状通路及びダ
クト36を通つて後方へ循環する。陰極部材18の冷媒を保
有するために内側のＯリングパツキン38が陰極部材18に
設けられている。
陰極ホルダ29に保持されており、この陰極ホルダ29は陰
極絶縁管28内に軸方向で取付けられており、陰極絶縁管
28は軸方向でガン本体14内に差しはめられている。この
実施例の陰極絶縁管28は剛性的なプラスチツクから形成
され、陰極部材18と陽極ノズル部材16との間の電気的な
絶縁を生ぜしめる。冷媒は管34の内側の通路32を通して
陰極部材18に供給されて、管34の外側の環状通路及びダ
クト36を通つて後方へ循環する。陰極部材18の冷媒を保
有するために内側のＯリングパツキン38が陰極部材18に
設けられている。
ガス分配リング12がガス本体14内に同軸的に配置されて
おり、ガス分配リング12内に環状のガスインレツトチヤ
ンバ42が形成されており、このガスインレツトチヤンバ
42は陰極部材18に隣合つて位置しておりかつ圧力室とし
て作用する。ガス分配リング12は適当な長さを有してお
りかつガスインレツトチヤンバ42の外周部のところでガ
ン本体内に適合して配置されている。第１図に示す実施
例では、ガス分配リングはその後端に肩62を備えてお
り、この肩62の突出部64は、これと合致するように陰極
絶縁管28に形成された突出部と協働しており、これによ
つて、第１図に示すようにガス分配リング12を陰極ホル
ダ29に保持せしめている。しかし、このような保持は必
ずしも必要でなく又は別の公知の又は所望の保持部材を
異なる型式のガンに使用することもできる。
おり、ガス分配リング12内に環状のガスインレツトチヤ
ンバ42が形成されており、このガスインレツトチヤンバ
42は陰極部材18に隣合つて位置しておりかつ圧力室とし
て作用する。ガス分配リング12は適当な長さを有してお
りかつガスインレツトチヤンバ42の外周部のところでガ
ン本体内に適合して配置されている。第１図に示す実施
例では、ガス分配リングはその後端に肩62を備えてお
り、この肩62の突出部64は、これと合致するように陰極
絶縁管28に形成された突出部と協働しており、これによ
つて、第１図に示すようにガス分配リング12を陰極ホル
ダ29に保持せしめている。しかし、このような保持は必
ずしも必要でなく又は別の公知の又は所望の保持部材を
異なる型式のガンに使用することもできる。
本発明の１実施例のガス分配リングが第２図に示されて
いる。第３図は第２図の縦断面であり、第４図は横断面
図である。このガス分配リング12には半径方向に貫通し
た２つのガスインレツトオリフイス44,44′と、接線方
向成分を備えて貫通した２つのガスインレツトオリフイ
ス46,46′とが設けられている。以下に詳しく説明する
ように、各ガスインレツトオリフイス44,44′及び46,4
6′はそれぞれガス分配リング12の軸線に対して垂直な
１仮想平面内に配置されている。
いる。第３図は第２図の縦断面であり、第４図は横断面
図である。このガス分配リング12には半径方向に貫通し
た２つのガスインレツトオリフイス44,44′と、接線方
向成分を備えて貫通した２つのガスインレツトオリフイ
ス46,46′とが設けられている。以下に詳しく説明する
ように、各ガスインレツトオリフイス44,44′及び46,4
6′はそれぞれガス分配リング12の軸線に対して垂直な
１仮想平面内に配置されている。
ガンの作動中、半径方向の流れは陰極部材18の近傍を通
過するさいに直線的となつてノズル孔27を通過する。接
線方向のガスインレツトオリフイスは渦巻状の流れを形
成せしめるが、この流れもガンを通過して流出するとき
は直線的となる。半径方向及び接線方向のガスインレツ
トオリフイスが同時に使用されると、流れは圧力室42内
で混合される。
過するさいに直線的となつてノズル孔27を通過する。接
線方向のガスインレツトオリフイスは渦巻状の流れを形
成せしめるが、この流れもガンを通過して流出するとき
は直線的となる。半径方向及び接線方向のガスインレツ
トオリフイスが同時に使用されると、流れは圧力室42内
で混合される。
ガス分配リング12の外周面50の周りにＯリング溝48が形
成されている。第５図に示すように、このＯリング溝48
はサイン波形状に外周面50の周りに延びており、これに
よつて、Ｏリング溝48内に挿入されたＯリング52（第１
図）が半径方向のガスインレツトオリフイス44,44′と
接線方向のガスインレツトオリフイス46,46′とを隔離
する。このことを簡単に達成するために、２つの半径方
向のガスインレツトオリフイス44,44′及び２つの接線
方向のガスインレツトオリフイス46,46′が周方向で等
間隔にかつ交互に外周面50上に配置される（第４図）。
成されている。第５図に示すように、このＯリング溝48
はサイン波形状に外周面50の周りに延びており、これに
よつて、Ｏリング溝48内に挿入されたＯリング52（第１
図）が半径方向のガスインレツトオリフイス44,44′と
接線方向のガスインレツトオリフイス46,46′とを隔離
する。このことを簡単に達成するために、２つの半径方
向のガスインレツトオリフイス44,44′及び２つの接線
方向のガスインレツトオリフイス46,46′が周方向で等
間隔にかつ交互に外周面50上に配置される（第４図）。
半径方向及び接線方向のガスインレツトオリフイス44,4
4′;46,46′をそれぞれ３つ以上設けることもできる。
さらに、半径方向のガスインレツトオリフイスと接線方
向のガスインレツトオリフイスの数を異にすることも場
合によつては効果的である。その場合、波形内の１つ又
はそれ以上の位置がガスインレツトオリフイスを欠いて
もよい。しかし各２つのガスインレツトオリフイスは良
好に分配された流れを生ぜしめ、かつ波形状のＯリング
による隔離のための実際的な数である。
4′;46,46′をそれぞれ３つ以上設けることもできる。
さらに、半径方向のガスインレツトオリフイスと接線方
向のガスインレツトオリフイスの数を異にすることも場
合によつては効果的である。その場合、波形内の１つ又
はそれ以上の位置がガスインレツトオリフイスを欠いて
もよい。しかし各２つのガスインレツトオリフイスは良
好に分配された流れを生ぜしめ、かつ波形状のＯリング
による隔離のための実際的な数である。
第４図〜第５図に示す有利な実施例では、１対の波形状
のリム53,55が外周面50に並んで形成されている。この
リム53,55はその間に波形状のＯリング溝48形成せしめ
ている。リム53,55はさらに前方のガス環状室54及び後
方のガス環状室56（第１図）をも形成せしめている（こ
こに前方及び後方とはプラズマフレームの流出方向でみ
ていう）。両ガス環状室54,56はそれぞれＯリング52の
それぞれ一方の側のガスインレツトオリフイス44,44′;
46,46′に連通しており、かつこのガスインレツトオリ
フイスのためのガスマニホールドとして作用する。要す
るに、第１のリム53は前方のガス環状室の後方の境界を
成し、第２のリム55は後方のガス環状室のための前方の
境界を成している。
のリム53,55が外周面50に並んで形成されている。この
リム53,55はその間に波形状のＯリング溝48形成せしめ
ている。リム53,55はさらに前方のガス環状室54及び後
方のガス環状室56（第１図）をも形成せしめている（こ
こに前方及び後方とはプラズマフレームの流出方向でみ
ていう）。両ガス環状室54,56はそれぞれＯリング52の
それぞれ一方の側のガスインレツトオリフイス44,44′;
46,46′に連通しており、かつこのガスインレツトオリ
フイスのためのガスマニホールドとして作用する。要す
るに、第１のリム53は前方のガス環状室の後方の境界を
成し、第２のリム55は後方のガス環状室のための前方の
境界を成している。
窒素のようなプラズマ形成ガスが第１のガスソース74か
ら供給される。調整されたガスは第１のガス管76及び第
１のガス弁78を介してガン本体14の前方のガス通路58内
に供給される。このガス通路58は前方のガス環状室54に
通じている。同様に、調整されたプラズマ形成ガスが第
２のガスソース80から第２のガス管82及び第２のガス弁
84並びに後方のガス通路60を介して後方のガス環状室56
内に供給される。この第２のガスは第１のガスと同種で
あつてもよく又は別種のもの例えばアルゴンであつても
よい。
ら供給される。調整されたガスは第１のガス管76及び第
１のガス弁78を介してガン本体14の前方のガス通路58内
に供給される。このガス通路58は前方のガス環状室54に
通じている。同様に、調整されたプラズマ形成ガスが第
２のガスソース80から第２のガス管82及び第２のガス弁
84並びに後方のガス通路60を介して後方のガス環状室56
内に供給される。この第２のガスは第１のガスと同種で
あつてもよく又は別種のもの例えばアルゴンであつても
よい。
すでに述べたように、ガス分配リング12は本実施例では
肩62及び突出部64によつてガン本体14内に保持されてい
る。ガス分配リング12の前面68はガン本体14の対応する
面に適合して当付けられており、ガス分配リングの肩62
は陰極絶縁管28に圧着されている。ガス分配リング12の
前面68及び肩62の後面は十分なガスシールを生ぜしめる
が、しかし選択的にＯリング（図示せず）を配置しても
よい。第２図及び第５図から判るように、リム53に平面
図86を設けることによつて、ガス環状室54の十分な寸法
を得ることができると共にガス通路58の妨げが回避され
る。ガス分配リング12は高温プラスチツク例えばDelrin
TM又は機械加工可能なアルミナのようなセラミツクから
成ることができる。
肩62及び突出部64によつてガン本体14内に保持されてい
る。ガス分配リング12の前面68はガン本体14の対応する
面に適合して当付けられており、ガス分配リングの肩62
は陰極絶縁管28に圧着されている。ガス分配リング12の
前面68及び肩62の後面は十分なガスシールを生ぜしめる
が、しかし選択的にＯリング（図示せず）を配置しても
よい。第２図及び第５図から判るように、リム53に平面
図86を設けることによつて、ガス環状室54の十分な寸法
を得ることができると共にガス通路58の妨げが回避され
る。ガス分配リング12は高温プラスチツク例えばDelrin
TM又は機械加工可能なアルミナのようなセラミツクから
成ることができる。
実用的な商用のプラズマスプレーガンの最近の傾向とし
ては陰極部材18の近傍の圧力室42が比較的小さい。ガス
を案内する領域が小さいことに対して本発明によるガス
分配リング12は特に有用である。なぜならば、ガス分配
リング及びガンの軸線に対して垂直な１平面内に又はこ
れに近づけてガスインレツトオリフイス44,44′;46,4
6′が配置されているからである。換言すれば、ガスイ
ンレツトオリフイスの形状は、ガス分配リングの外周面
のところでは半径方向のガスインレツトオリフイス44,4
4′がガス分配リングの軸線に対してほぼ垂直な１平面
内又はこの平面と交差する１平面内にその軸線を有し、
接線方向のガスインレツトオリフイス46,46′が前記垂
直平面に対して平行にかつ近接して位置する別の１平面
内又はこの平面と交差する平面内にその軸線を有するよ
うに形成される。この２つの平面は半径方向のガスイン
レツトオリフイスの平均直径Ｒと接線方向のガスインレ
ツトオリフイスの平均直径Ｔとの和（Ｒ＋Ｔ）より小さ
い間隔Ｓ（第３図）だけ互いに離れて位置しなければな
らない。しかし、第３図に示すように、両平面の著しく
小さな間隔Ｓは本発明の波形状のＯリングによれば極め
て実用的となる。このような接近した隔離は、両方の種
類のガスインレツトオリフイスが以下に述べるように同
時に使用される場合に、均一な流れを得るために特に所
望される。
ては陰極部材18の近傍の圧力室42が比較的小さい。ガス
を案内する領域が小さいことに対して本発明によるガス
分配リング12は特に有用である。なぜならば、ガス分配
リング及びガンの軸線に対して垂直な１平面内に又はこ
れに近づけてガスインレツトオリフイス44,44′;46,4
6′が配置されているからである。換言すれば、ガスイ
ンレツトオリフイスの形状は、ガス分配リングの外周面
のところでは半径方向のガスインレツトオリフイス44,4
4′がガス分配リングの軸線に対してほぼ垂直な１平面
内又はこの平面と交差する１平面内にその軸線を有し、
接線方向のガスインレツトオリフイス46,46′が前記垂
直平面に対して平行にかつ近接して位置する別の１平面
内又はこの平面と交差する平面内にその軸線を有するよ
うに形成される。この２つの平面は半径方向のガスイン
レツトオリフイスの平均直径Ｒと接線方向のガスインレ
ツトオリフイスの平均直径Ｔとの和（Ｒ＋Ｔ）より小さ
い間隔Ｓ（第３図）だけ互いに離れて位置しなければな
らない。しかし、第３図に示すように、両平面の著しく
小さな間隔Ｓは本発明の波形状のＯリングによれば極め
て実用的となる。このような接近した隔離は、両方の種
類のガスインレツトオリフイスが以下に述べるように同
時に使用される場合に、均一な流れを得るために特に所
望される。
上述したようにすべてのガスインレツトオリフイス44,4
4′,46,46′が同一平面に近接しているため、半径方向
のガスインレツトオリフイス44,44′が波形状のＯリン
グの前方に位置するか又は後方に位置するかは重要では
ない。しかし、両方の平面が著しく離れている場合、ア
ークの安定のために電圧又はそのたの要件について良好
な結果を得るような位置をテストすることができる。図
示の場合、半径方向のガスインレツトオリフイス44,4
4′が前方に、かつ接続方向のガスインレツトオリフイ
ス46,46′が後方に位置している。
4′,46,46′が同一平面に近接しているため、半径方向
のガスインレツトオリフイス44,44′が波形状のＯリン
グの前方に位置するか又は後方に位置するかは重要では
ない。しかし、両方の平面が著しく離れている場合、ア
ークの安定のために電圧又はそのたの要件について良好
な結果を得るような位置をテストすることができる。図
示の場合、半径方向のガスインレツトオリフイス44,4
4′が前方に、かつ接続方向のガスインレツトオリフイ
ス46,46′が後方に位置している。
Ｏリング48の波形は第５図に示すようにガスインレツト
オリフイス44,44′,46,46′を同じ平面に近接して配置
することができるように十分に大きな振幅を有していな
ければならない。Ｏリング溝のセンタラインの山と谷と
の間隔ＤはＯリング溝の幅Ｗに比して大きいと有利であ
り、さらに、両方のリム53,55の外側の間隔Ｗ′に比し
て大きいと一層有利である。
オリフイス44,44′,46,46′を同じ平面に近接して配置
することができるように十分に大きな振幅を有していな
ければならない。Ｏリング溝のセンタラインの山と谷と
の間隔ＤはＯリング溝の幅Ｗに比して大きいと有利であ
り、さらに、両方のリム53,55の外側の間隔Ｗ′に比し
て大きいと一層有利である。
本発明の作用・効果 半径方向及び接線方向のガスインレツトオリフイスへ通
じたそれぞれの分離したガスソースは選択的にガン内の
直線的な流れを生ぜしめる半径方向のインプツトと、渦
巻状の流れを生ぜしめるための、陰極部材の近傍の環状
のガスインプツトチヤンバへの接線方向のガスインプツ
トとがガンの部品交換又はアタツチメントの交換なしに
実現される。このようにして、本発明のガンはガスソー
ス74又は80をほとんど選択することなく、ガス弁78,84
の一方をオンにし、他方をオフにすることによつてアル
ゴンプラズマガス（接線方向インプツト）又は窒素ガス
（半径方向インプツト）によつて作動することができ
る。
じたそれぞれの分離したガスソースは選択的にガン内の
直線的な流れを生ぜしめる半径方向のインプツトと、渦
巻状の流れを生ぜしめるための、陰極部材の近傍の環状
のガスインプツトチヤンバへの接線方向のガスインプツ
トとがガンの部品交換又はアタツチメントの交換なしに
実現される。このようにして、本発明のガンはガスソー
ス74又は80をほとんど選択することなく、ガス弁78,84
の一方をオンにし、他方をオフにすることによつてアル
ゴンプラズマガス（接線方向インプツト）又は窒素ガス
（半径方向インプツト）によつて作動することができ
る。
本発明に基づくガス分配リングのその他の作用において
は、同種のガスが別々に調整されてそれぞれ半径方向及
び接線方向のガスインレツトオリフイス内へ供給され、
これによつて、ガンの渦巻状の流れの正確な調整を行な
うことができる。特に渦巻状のインプツトでは窒素が使
用される。半径方向の流れに対する接線方向の流れの比
を注意深く選択することによつて、渦巻によつてアーク
を陽極ノズル部材から搬出させることなく、最良のアー
ク長及び電圧のために渦巻を調整することができるた
め、効率が改善される。プラズマアークはガス分配リン
グ内の半径方向のガスインレツトオリフイスを通る窒素
によつて開始され、次いで接線方向の流れが電圧の増大
のために供給される。
は、同種のガスが別々に調整されてそれぞれ半径方向及
び接線方向のガスインレツトオリフイス内へ供給され、
これによつて、ガンの渦巻状の流れの正確な調整を行な
うことができる。特に渦巻状のインプツトでは窒素が使
用される。半径方向の流れに対する接線方向の流れの比
を注意深く選択することによつて、渦巻によつてアーク
を陽極ノズル部材から搬出させることなく、最良のアー
ク長及び電圧のために渦巻を調整することができるた
め、効率が改善される。プラズマアークはガス分配リン
グ内の半径方向のガスインレツトオリフイスを通る窒素
によつて開始され、次いで接線方向の流れが電圧の増大
のために供給される。
本発明の範囲内でガスインレツトオリフイス44,44′,4
6,46′の他の形状が選択される。例えば、すでに説明し
た半径方向のガスインレツトオリフイスは軸方向で前向
きにガスを向ける方向成分を有することができる。選択
的に、半径方向のガスインレツトオリフイスは接線方向
のガスインレツトオリフイスに比してわずかな接線方向
成分を有することができる。又は半径方向及び接線方向
の一方のガスインレツトオリフイスが前向き及び接線方
向成分を有することもできる。半径方向及び接線方向の
一方のガスインレツトオリフイスのうち１つ又は複数の
ガスインレツトオリフイスがその他のガスインレツトオ
リフイスの向きと異なる向きを有することもできる。例
えば波形状のＯリング52の前方の１つのガスインレツト
オリフイスが完全に半径方向に向けられ、他のガスイン
レツトオリフイスが軸方向又は接線方向成分を有するこ
とができる。さらに本発明の範囲内で、半径方向及び接
線方向のガスインレツトオリフイスの一方がほぼ半径方
向に向けられ、他のガスインレツトオリフイスが接線方
向成分なしに前方へ傾斜していてもよい。このように広
範囲に、波形状のＯリングを備えたガス分配リングが２
つの別々に調整されたガスインレツトのための２つの別
種のガスインレツトオリフイスのために設けられる。
6,46′の他の形状が選択される。例えば、すでに説明し
た半径方向のガスインレツトオリフイスは軸方向で前向
きにガスを向ける方向成分を有することができる。選択
的に、半径方向のガスインレツトオリフイスは接線方向
のガスインレツトオリフイスに比してわずかな接線方向
成分を有することができる。又は半径方向及び接線方向
の一方のガスインレツトオリフイスが前向き及び接線方
向成分を有することもできる。半径方向及び接線方向の
一方のガスインレツトオリフイスのうち１つ又は複数の
ガスインレツトオリフイスがその他のガスインレツトオ
リフイスの向きと異なる向きを有することもできる。例
えば波形状のＯリング52の前方の１つのガスインレツト
オリフイスが完全に半径方向に向けられ、他のガスイン
レツトオリフイスが軸方向又は接線方向成分を有するこ
とができる。さらに本発明の範囲内で、半径方向及び接
線方向のガスインレツトオリフイスの一方がほぼ半径方
向に向けられ、他のガスインレツトオリフイスが接線方
向成分なしに前方へ傾斜していてもよい。このように広
範囲に、波形状のＯリングを備えたガス分配リングが２
つの別々に調整されたガスインレツトのための２つの別
種のガスインレツトオリフイスのために設けられる。
ガスインレツトオリフイスの最大数はＯリング溝内での
波形状のＯリングの形成の実際によつてのみ制限され
る。本発明でＯリングは、他の断面形、例えばだ円形、
方形又はＬ字形のリングパツキンをも含む。Ｏリングの
材料としてはゴム、シリコン、軟性プラスチツク又は類
似物が、作動温度のようなフアクタに依存して使用でき
る。
波形状のＯリングの形成の実際によつてのみ制限され
る。本発明でＯリングは、他の断面形、例えばだ円形、
方形又はＬ字形のリングパツキンをも含む。Ｏリングの
材料としてはゴム、シリコン、軟性プラスチツク又は類
似物が、作動温度のようなフアクタに依存して使用でき
る。
本発明は図示の実施例に限定されない。
第１図は本発明に基づくガス分配リングを装備したプラ
ズマガンの部分縦断面図、第２図は本発明に基づくガス
分配リングの側面図、第３図は第２図の縦断面図、第４
図は第３図の４−４線に沿つた横断面図、第５図は第２
図に示すガス分配リングの外周面の展開図である。 10……前端、12……ガス分配リング、14……ガン本体、
16……陽極ノズル部材、18……陰極部材、20……保持リ
ング、22……冷却領域、24……ノズル冷媒通路、26,2
6′……Ｏリングパツキン、27……ノズル孔、28……陰
極絶縁管、29……陰極ホルダ、30……ナツト、32……通
路、34……管、36……ダクト、38……Ｏリングパツキ
ン、42……圧力室、44,44′,46,46′……ガスインレツ
トオリフイス、48……Ｏリング溝、50……外周面、52…
…Ｏリング、53……リム、54……ガス環状室、55……リ
ム、56……ガス環状室、58,60……ガス通路、62……
肩、64……突出部、68……前面、74……第１のガスソー
ス、76……ガス管、78……ガス弁、80……第２のガスソ
ース、82……ガス管、84……ガス弁、86……平面部
ズマガンの部分縦断面図、第２図は本発明に基づくガス
分配リングの側面図、第３図は第２図の縦断面図、第４
図は第３図の４−４線に沿つた横断面図、第５図は第２
図に示すガス分配リングの外周面の展開図である。 10……前端、12……ガス分配リング、14……ガン本体、
16……陽極ノズル部材、18……陰極部材、20……保持リ
ング、22……冷却領域、24……ノズル冷媒通路、26,2
6′……Ｏリングパツキン、27……ノズル孔、28……陰
極絶縁管、29……陰極ホルダ、30……ナツト、32……通
路、34……管、36……ダクト、38……Ｏリングパツキ
ン、42……圧力室、44,44′,46,46′……ガスインレツ
トオリフイス、48……Ｏリング溝、50……外周面、52…
…Ｏリング、53……リム、54……ガス環状室、55……リ
ム、56……ガス環状室、58,60……ガス通路、62……
肩、64……突出部、68……前面、74……第１のガスソー
ス、76……ガス管、78……ガス弁、80……第２のガスソ
ース、82……ガス管、84……ガス弁、86……平面部
Claims (15)
- 【請求項１】ガス分配リングを備えたプラズマガンにお
いて、ガス分配リングが円筒形の外面を備えたリング部
材から成り、このリング部材が単数又は複数の第１のガ
スインレットオリフィスと単数又は複数の第２のガスイ
ンレットオリフィスとを備えており、第１及び第２のガ
スインレットオリフィスがリング部材の外面から内向き
にリング部材を貫通して延びており、リング部材の外面
に波形状のＯリング溝が形成されており、第１及び第２
のガスインレットオリフィスは外面のとろこでは波形状
の０リング溝に関して、第１のガスインレットオリフィ
スが波形状のＯリングの一方の側に隔離されかつ第２の
ガスインレットオリフィスが波形状のＯリングの他方の
側に隔離されるように配置されており、かつ第１のガス
インレットオリフィスの軸線がリング部材の軸線に対し
て垂直な第１の平面に接しており、かつ、第２のガスイ
ンレットオリフィスの軸線が、第１の平面に対して平行
にかつこれに近接して位置する第２の平面に接してお
り、かつ前記第１及び第２の平面が第１のガスインレッ
トオリフィスの平均直径と第２のガスインレットオリフ
ィスの平均直径との和より小さい間隔Ｓだけ互いに離れ
て位置していることを特徴とするプラズマガン。 - 【請求項２】第２のガスインレットオリフィスの少なく
とも１つがプラズマガン内に渦巻状のガス流を生ぜしめ
るために接線方向成分を有している特許請求の範囲第１
項記載のプラズマガン。 - 【請求項３】第１のガスインレットオリフィスのそれぞ
れがリング部材の軸線に関してほぼ半径方向に延びてい
る特許請求の範囲第２項記載のプラズマガン。 - 【請求項４】リング部材が２つの第１のガスインレット
オリフィス及び２つの第２のガスインレットオリフィス
を備えており、第１及び第２のガスインレットオリフィ
スがリング部材の外面のところでは周方向で等間隔に位
置しており、かつ、第１及び第２のガスインレットオリ
フィスが交互に位置している特許請求の範囲第１項記載
のプラズマガン。 - 【請求項５】波形状のＯリング溝のセンタラインの相隣
る山と谷との間隔（Ｄ）がＯリング溝の幅（Ｗ）に比し
て大きいようにＯリング溝の波形が形成されている特許
請求の範囲第１項記載のプラズマガン。 - 【請求項６】リング部材の外面が第１の波形状のリムと
第２の波形状のリムとを備えており、両方のリムが互い
に並んで位置してその間にＯリング溝を成形しており、
第１及び第２のガスインレットオリフィスはリング部材
の外面のところでは第１及び第２の波形状のリムに関し
て、第１のガスインレットオリフィスが第１及び第２の
波形状のリムの一方の側に隔離されかつ第２のガスイン
レットオリフィスが第１及び第２の波形状のリムの他方
の側に隔離されるように配置されている特許請求の範囲
第１項記載のプラズマガン。 - 【請求項７】ガス分配リングを備えたプラズマガンにお
いて、ガス分配リングが周方向の外面を備えたリング部
材から成り、リング部材がその外面から半径方向で内向
きにリング部材を貫通して延びる２つの第１のガスイン
レットオリフィスを備えており、第１のガスインレット
オリフィスの軸線がリング部材の外面のところではリン
グ部材の軸線に対して垂直な第１の平面に接しており、
かつ、リング部材に２つの第２のガスインレットオリフ
ィスが設けられており、第２のガスインレットオリフィ
スがリング部材の外面から内向きに接線方向成分を以っ
てリング部材を貫通して延びており、かつ第２のガスイ
ンレットオリフィスの軸線がリング部材の外面のところ
では前記第１の平面に平行にかつこれに近接して位置す
る第２の平面に接しており、２つの第１のガスインレッ
トオリフィスと２つのガスインレットオリフィスとがリ
ング部材の外面のところでは周方向で交互に等間隔で位
置しており、リング部材が第１の波形状のリム及び第２
の波形状のリムを備えており、第１及び第２のリムが互
いに並んで配置されその間にＯリング溝を形成してお
り、第１及び第２のガスインレットオリフィスはリング
部材の外面のところでは第１及び第２のリムに関して、
第１のガスインレットオリフィスが第１及び第２の波形
状のリムの一方の側に隔離され、第２のガスインレット
オリフィスが第１及び第２の波形状のリムの他方の側に
隔離されるように配置されており、かつ前記第１及び第
２のガスインレットオリフィスの軸線が接する前記第１
及び第２の平面が第１のガスインレットオリフィスの平
均直径と第２のガスインレットオリフィスの平均直径と
の和より小さい間隔だけ互いに離れて位置していること
を特徴とするプラズマガン。 - 【請求項８】プラズマガンにおいて、円筒形の陰極部
材、中空円筒形の陽極ノズル部材、陰極部材及び陽極ノ
ズル部材を同軸的に相互間隔をおいて保持してその間に
プラズマ発生アークを維持するガン本体、ガス分配リン
グ及び波形状のＯリングが設けられており、ガン本体が
陰極部材を取囲む環状のガスインレットチャンバを備え
ており、ガスインレットチャンバ内にガス分配リングが
配置されており、ガス分配リングが円筒形の外面を備え
たリング部材をから成り、リング部材が単数又は複数の
第１のガスインレットオリフィス及び単数又は複数の第
２のガスインレットオリフィスを備えており、第１及び
第２のガスインレットオリフィスがリング部材の外面か
ら内向きにリング部材を貫通して延びており、リング部
材の外面が波形状のＯリング溝を備えており、Ｏリング
溝内に波形状のＯリングが保持されてガン本体とシール
接触しており、第１及び第２のオリフィスはリング部材
の外面のところでは波形状のＯリングに関して、第１の
ガスインレットオリフィスが波形状のＯリングの一方の
側に隔離され、第２のガスインレットオリフィスが波形
状のＯリングの他方の側に隔離されるように配置されて
おり、かつリング部材の外面のところでは第１のガスイ
ンレットオリフィスの軸線がリング部材の軸線に対して
垂直な第１の平面に接しており、かつ、第２のガスイン
レットオリフィスの軸線が第１の平面に対して平行にか
つこれに近接して位置する第２の平面に接しており、か
つ前記第１及び第２の平面が第１のガスインレットオリ
フィスの平均直径と第２のガスインレットオリフィスの
平均直径との和より小さい間隔Ｓだけ互いに離れて位置
していることを特徴とするプラズマガン。 - 【請求項９】少なくとも１つの第２のガスインレットオ
リフィスがプラズマガン内に渦巻状のガス流を生ぜしめ
るべく接線方向成分を有している特許請求の範囲第８項
記載のプラズマガン。 - 【請求項１０】少なくとも１つの第１のガスインレット
オリフィスがリング部材の軸線に対して平行な方向成分
を有している特許請求の範囲第８項記載のプラズマガ
ン。 - 【請求項１１】各第１のガスインレットオリフィスがリ
ング部材の軸線に関してほぼ半径方向に向いている特許
請求の範囲第９項記載のプラズマガン。 - 【請求項１２】リング部材が２つの第１のガスインレッ
トオリフィスと２つの第２のガスインレットオリフィス
とをリング部材の外面のところでは周方向で等間隔に備
えており、かつ第１及び第２のガスインレットオリフィ
スが交互に位置している特許請求の範囲第８項記載のプ
ラズマガン。 - 【請求項１３】Ｏリング溝のセンタラインの相隣る山と
谷との間隔（Ｄ）がＯリング溝の幅（Ｗ）に比して大き
いようにＯリング溝の波形が形成されている特許請求の
範囲第８項記載のプラズマガン。 - 【請求項１４】ガン本体がリング部材の外面と協働し
て、第１のガスインレットオリフィスに連通した前方の
ガス環状室と、第２のガスインレットオリフィスに連通
した後方のガス環状室とを形成しており、波形状のＯリ
ングが前方のガス環状室と後方のガス環状室との間のパ
ッキンを形成している特許請求の範囲第８項記載のプラ
ズマガン。 - 【請求項１５】リング部材の外面が第１の波形状のリム
と第２の波形状のリムとを備えており、両方のリムが互
いに並んで位置してその間に波形状のＯリング溝を形成
しており、第１及び第２のガスインレットオリフィスは
リング部材の外面のところで第１及び第２の波形状のリ
ムに関して、第１のガスインレットオリフィスが第１及
び第２の波形状のリムの一方の側に隔離され、第２のガ
スインレットオリフィスが第１及び第２の波形状のリム
の他方の側に隔離されるように配置されている特許請求
の範囲第14項記載のプラズマガン。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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