JPH0797049A - Carrying device - Google Patents

Carrying device

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JPH0797049A
JPH0797049A JP26818793A JP26818793A JPH0797049A JP H0797049 A JPH0797049 A JP H0797049A JP 26818793 A JP26818793 A JP 26818793A JP 26818793 A JP26818793 A JP 26818793A JP H0797049 A JPH0797049 A JP H0797049A
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JP
Japan
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tunnel
transfer
gate valve
levitation
valve
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JP26818793A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumio Kondo
文雄 近藤
Masaaki Kajiyama
雅章 梶山
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Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Publication date
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  • Non-Mechanical Conveyors (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To provide an easily maintainable carrying device with which a gate valve for cutting off a vacuum tunnel can be removed without shifting the tunnel. CONSTITUTION:In a carrying device with which an object to be carried is carried in an isolated state from the outside air within a tunnel 1 surrounded by a partition wall, an opening part 17 is provided at the upper/lower part in the vicinity of an end of the tunnel 1, and a gate valve 11 for cutting off the tunnel 1 is installed in the opening part 17 via an airtight seal 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は搬送装置に係り、特に半
導体製造工場等に好適な、粒子汚染や分子汚染を嫌う半
導体ウエハ等を外気と遮断したトンネル内をプロセス装
置間等に搬送するトンネル状の搬送装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer device, and more particularly, to a tunnel suitable for a semiconductor manufacturing plant or the like for transferring a semiconductor wafer or the like, which is liable to be contaminated with particles and molecules, to a process device or the like in a tunnel isolated from the outside air. -Shaped carrier device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2に、半導体製造工場におけるプロセ
ス装置の配置の一例を示す。エッチング装置、CVD等
の成膜装置、洗浄装置等のプロセス装置が配置され、そ
のプロセス装置間を外気と遮断した状態でウエハ等の被
搬送物を搬送するトンネル状の搬送装置が配置されてい
る。
2. Description of the Related Art FIG. 2 shows an example of arrangement of process equipment in a semiconductor manufacturing factory. Process devices such as an etching device, a film forming device such as CVD, and a cleaning device are arranged, and a tunnel-shaped transfer device that transfers an object to be transferred such as a wafer in a state where the process devices are isolated from the outside air. .

【0003】半導体製造工場等において、プロセス装置
A、B、C、・・・は、半導体ウエハに微細な加工を施
す装置である。半導体ウエハには、各種のプロセス処理
が重ねられ、半導体デバイスが形成される。このため、
プロセス装置A、B、C、・・・間は、トンネル状の搬
送装置で結合され、真空トンネル1内を半導体ウエハが
トンネル隔壁から非接触の状態で搬送される。しかしな
がら、メンテナンスの都合等でトンネル1内を大気に開
放しなければならない場合もあり、真空トンネル1には
外気等を遮断するゲートバルブ11がトンネル1の各所
に配置されている。
In semiconductor manufacturing factories and the like, the process devices A, B, C, ... Are devices for finely processing semiconductor wafers. Various process processes are overlaid on the semiconductor wafer to form a semiconductor device. For this reason,
The process apparatuses A, B, C, ... Are connected by a tunnel-shaped transfer device, and the semiconductor wafer is transferred from the tunnel partition wall in a non-contact state inside the vacuum tunnel 1. However, there are cases where the inside of the tunnel 1 must be opened to the atmosphere due to maintenance reasons, and the vacuum tunnel 1 is provided with gate valves 11 for shutting off outside air and the like at various places in the tunnel 1.

【0004】又、プロセス装置では、プロセス処理の関
係から、様々な種類のガスが使用される。これらのプロ
セス装置及びプロセス装置間を結合するトンネル状の搬
送装置においては、それぞれ異なったガスを使用するた
め、相互汚染(クロスコンタミネーション)を防ぐた
め、トンネル1と各プロセス装置間にゲートバルブ11
を挿入して真空状態(又は気密状態)の遮断を行えるよ
うになっている。
Further, in the process equipment, various kinds of gases are used due to the process treatment. Since different gas is used in each of these process devices and tunnel-shaped transfer devices that connect the process devices, a gate valve 11 is provided between the tunnel 1 and each process device in order to prevent mutual contamination (cross contamination).
The vacuum state (or the airtight state) can be shut off by inserting.

【0005】係るトンネルを遮断可能なゲートバルブを
備えた搬送装置の搬送方向に沿った断面図を図3に示
す。又、この搬送装置の搬送方向に垂直な面の断面図を
図5に示す。隔壁2により包囲されたトンネル1内を、
被搬送物である例えば半導体ウエハ7を搭載した搬送台
3が走行し、被搬送物7を搬送する。搬送台3の上面に
は、ステンレス鋼等の磁性材4が固着されており、浮上
用電磁石5の磁気吸引力により搬送台3は浮上懸架され
る。下面の隔壁2には変位センサ6が備えられ、搬送台
3との間隔を計測することにより、図示しない制御回路
を介して浮上用電磁石5の励磁電流を制御することによ
り、搬送台3を目標浮上位置に浮上制御する。そして、
搬送台3は、隔壁2の外側に設けられたリニアモータ8
により水平方向に推進力を与えられ、トンネル1内を走
行移動する。符号9は、電磁ブレーキであり、走行する
搬送台を磁気力により非接触で停止させるためのもので
ある。
FIG. 3 shows a cross-sectional view of a transfer device provided with a gate valve capable of blocking such a tunnel, taken along the transfer direction. Further, FIG. 5 shows a sectional view of a plane perpendicular to the carrying direction of the carrying device. Inside the tunnel 1 surrounded by the partition wall 2,
The carrier 3 having the semiconductor wafer 7, which is an object to be transferred, travels to transfer the object 7. A magnetic material 4 such as stainless steel is fixed to the upper surface of the carrier table 3, and the carrier table 3 is suspended by the magnetic attraction force of the levitation electromagnet 5. The partition wall 2 on the lower surface is provided with a displacement sensor 6, and by measuring the distance from the carriage 3 to control the exciting current of the levitation electromagnet 5 via a control circuit (not shown), the carriage 3 is targeted. Ascending control to the ascending position. And
The carrier table 3 is a linear motor 8 provided outside the partition wall 2.
Is given a propulsive force in the horizontal direction, and travels in the tunnel 1. Reference numeral 9 is an electromagnetic brake, which is used to stop the traveling carriage by magnetic force without contact.

【0006】トンネル1内は外気から遮断された状態
で、極めて高清浄度な空間である真空状態に保持されて
いる。搬送台3は隔壁2から非接触浮上した状態で真空
トンネル1内を走行するため、隔壁2との接触を生ぜ
ず、金属粉或いは塵埃が付着するという問題を生じるこ
となく被搬送物をプロセス装置間に搬送することができ
る。
The inside of the tunnel 1 is kept in a vacuum state which is a space of extremely high cleanliness while being shielded from the outside air. Since the transfer table 3 travels in the vacuum tunnel 1 in a state of being floated from the partition wall 2 in a non-contact manner, it does not come into contact with the partition wall 2 and does not cause a problem that metal powder or dust adheres to the transfer target object to the process device. It can be transported in between.

【0007】図3に示すように、トンネル1に配置され
たゲートバルブ11は2つのトンネルA,Bの端面に挟
まれ、バルブとトンネル間の気密シール13によってト
ンネル内部は気密に保たれている。気密シール13に
は、通常のOリング等のゴム材が使用されている。ゲー
トバルブ11は、フランジ18で図示しないボルト及び
ナットによりトンネルA,Bと接続固定されている。バ
ルブ弁体14が下に下がっているとき、すなわちバルブ
開の状態では、搬送台3はゲートバルブ11を通過して
走行移動することができる。バルブ弁体14が上昇して
端面15に密着すると、すなわちバルブ閉の状態ではト
ンネルAとトンネルB間はOリング16により気密シー
ルされ遮断される。
As shown in FIG. 3, the gate valve 11 arranged in the tunnel 1 is sandwiched between the end faces of the two tunnels A and B, and the inside of the tunnel is kept airtight by an airtight seal 13 between the valve and the tunnel. . A rubber material such as a normal O-ring is used for the airtight seal 13. The gate valve 11 is connected and fixed to the tunnels A and B by a flange 18 with bolts and nuts (not shown). When the valve valve element 14 is lowered, that is, when the valve is open, the carrier table 3 can travel and move through the gate valve 11. When the valve body 14 rises and comes into close contact with the end face 15, that is, when the valve is closed, the tunnel A and the tunnel B are hermetically sealed by the O-ring 16 to be cut off.

【0008】又、磁気浮上搬送装置の搬送台の浮上状態
を安定化させるためには、浮上用電磁石5の磁極の間隔
(ピッチ)を一定にする必要がある。そのために浮上磁
極間隔lS は、ゲートバルブ11を挿入しても、一定に
保つ必要がある。
Further, in order to stabilize the floating state of the carrier of the magnetic levitation carrier device, it is necessary to make the interval (pitch) between the magnetic poles of the levitation electromagnet 5 constant. Therefore, the floating magnetic pole spacing l S must be kept constant even when the gate valve 11 is inserted.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ゲート
バルブの故障や洗浄の際、バルブ11をトンネルA,B
から外さなければならない場合がある。係る場合には、
先ずフランジ18の締結を外し、次に図4に示すように
トンネルBを搬送方向に沿ってずらし、気密シール13
とバルブ端面19との間に隙間を作ってからでないと気
密シール部分での摩擦抵抗等のため、ゲートバルブ11
をトンネルA,Bから取外すことができなかった。
However, when the gate valve fails or is washed, the valve 11 is set in the tunnels A, B.
May have to be removed from In that case,
First, the flange 18 is unfastened, and then the tunnel B is displaced along the transport direction as shown in FIG.
If a gap is not formed between the gate valve 11 and the valve end face 19, the gate valve 11 may be damaged due to frictional resistance at the airtight seal.
Could not be removed from tunnels A and B.

【0010】ところが、図2に示すようにトンネル1は
長く、プロセス装置とも接続されているため、トンネル
1をずらすためには、全体をずらす必要があり、またバ
ルブを接続した後、位置決めをしなおさなくてはならな
い問題がある。特に、図5に示す磁気浮上搬送装置にお
いては、トンネルに沿って多数の浮上用電磁石及び変位
センサ等が列設されており、真空トンネルをずらすこと
は、その後の調整を含めて大変な作業を強いられるもの
であった。
However, as shown in FIG. 2, the tunnel 1 is long and connected to the process equipment. Therefore, in order to shift the tunnel 1, it is necessary to shift the whole, and after connecting the valve, positioning is performed. There is a problem that must be addressed. In particular, in the magnetic levitation transport device shown in FIG. 5, many levitation electromagnets and displacement sensors are arranged in a row along the tunnel, and shifting the vacuum tunnel requires a lot of work including adjustments thereafter. It was compelling.

【0011】更に、浮上用電磁石の磁極間の間隔(ピッ
チ)は、ゲートバルブが存在しても一定でなければなら
ない。このため、磁極のピッチの寸法の中にバルブフラ
ンジ及びバルブ本体の長さを入れる必要がある。このた
め、真空トンネルの途中にゲートバルブを挿入するため
には、浮上搬送系の浮上電磁石の磁極間ピッチを上述の
長さ以上に大きく取らねばならず、浮上搬送系の設計の
自由度を制約していた。
Further, the interval (pitch) between the magnetic poles of the levitation electromagnet must be constant even if the gate valve is present. Therefore, it is necessary to include the lengths of the valve flange and the valve body in the dimension of the pitch of the magnetic poles. Therefore, in order to insert the gate valve in the middle of the vacuum tunnel, the pitch between the magnetic poles of the levitation electromagnet of the levitation transfer system must be set larger than the above-mentioned length, which limits the freedom of design of the levitation transfer system. Was.

【0012】本発明は、係る従来技術の問題点に鑑みて
為されたものであり、真空トンネルを遮断するゲートバ
ルブの取外しが、トンネルを移動させることなしに行う
ことのできるメンテナンスの容易な搬送装置を提供する
ことを目的とする。更に、ゲートバルブを挿入しても磁
極間のピッチを小さく選択することのできる搬送装置を
提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the problems of the prior art, and the removal of the gate valve for shutting off the vacuum tunnel can be carried out without moving the tunnel, and the transportation is easy for maintenance. The purpose is to provide a device. Further, it is another object of the present invention to provide a transfer device in which the pitch between magnetic poles can be selected small even if a gate valve is inserted.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の搬送装置は、隔
壁により包囲されたトンネル内を、被搬送物を外気から
遮断された状態で搬送する搬送装置において、前記トン
ネルの端面近くの上又は下に開口部を有し、前記トンネ
ルを遮断するバルブユニットを気密シールを介して取付
けたことを特徴とする。
A transport device of the present invention is a transport device for transporting an object to be transported in a tunnel surrounded by a partition wall in a state of being shielded from the outside air. A valve unit which has an opening at the bottom and shuts off the tunnel is attached through an airtight seal.

【0014】[0014]

【作用】トンネルの端面近くの上又は下に開口部を有
し、トンネルを遮断するバルブユニットを気密シールを
介して取付けたことから、バルブの取外しがトンネルを
移動させることなしに行うことができるようになり、メ
ンテナンスが容易となる。さらに、ゲートバルブとトン
ネルの締結のためのフランジが不要となり、従来のゲー
トバルブの挿入のためのスペースを低減することができ
る。このため、浮上用電磁石の磁極間ピッチをフランジ
部分の長さだけ小さくすることが可能となる。
The valve unit which has an opening above or below the end face of the tunnel and which shuts off the tunnel is attached via an airtight seal, so that the valve can be removed without moving the tunnel. As a result, maintenance becomes easy. Further, a flange for fastening the gate valve and the tunnel is not required, and the space for inserting the conventional gate valve can be reduced. Therefore, the pitch between the magnetic poles of the levitation electromagnet can be reduced by the length of the flange portion.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の一実施例について添付図面を
参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0016】図1は、隔壁2により包囲されたトンネル
1内を、被搬送物を外気から遮断された状態で搬送する
搬送装置において、トンネルA,Bの端面近くの下に開
口部17を有し、トンネルを遮断するゲートバルブ11
を前記開口部17に気密シール20を介して取付けた構
造を示す。搬送装置は、磁気浮上搬送装置であり、真空
トンネル1内を、磁性材4を備えた搬送台3が浮上用電
磁石5の磁気吸引力により浮上支持され、図示しないリ
ニアモータにより水平方向に駆動され走行移動すること
は、従来の技術において説明したものと同様である。
FIG. 1 shows a transporting device for transporting an object to be transported in a tunnel 1 surrounded by a partition wall 2 in a state of being shielded from the outside air, and has an opening 17 below the end faces of the tunnels A and B. Gate valve 11 that shuts off the tunnel
Shows a structure in which is attached to the opening 17 via an airtight seal 20. The transfer device is a magnetic levitation transfer device. In the vacuum tunnel 1, a transfer table 3 provided with a magnetic material 4 is levitationally supported by a magnetic attraction force of a levitation electromagnet 5 and horizontally driven by a linear motor (not shown). Traveling is similar to that described in the related art.

【0017】本実施例においては、トンネルAとトンネ
ルBの端面が直接接続され、トンネルBの端面近傍にゲ
ートバルブ11が備えられている。ゲートバルブ11
は、トンネルBの端面近くの下側の開口部17に、気密
シール20を介してバルブボディ22が取付けられてい
る。すなわち、バルブボディ22のフランジ部21がト
ンネルBの下面の開口部17の周縁に固定され、Oリン
グ20により気密封止されている。バルブ弁体14が下
に下がっているとき、すなわちバルブ11開の状態で
は、搬送台3はゲートバルブ11を通過して走行移動す
ることができる。バルブ弁体14が上昇して端面15に
密着すると、すなわちバルブ11閉の状態ではトンネル
AとトンネルB間はOリング16により気密封止され遮
断される。
In this embodiment, the end faces of the tunnel A and the tunnel B are directly connected, and the gate valve 11 is provided near the end face of the tunnel B. Gate valve 11
A valve body 22 is attached to a lower opening 17 near the end surface of the tunnel B via an airtight seal 20. That is, the flange portion 21 of the valve body 22 is fixed to the peripheral edge of the opening 17 on the lower surface of the tunnel B and hermetically sealed by the O-ring 20. When the valve valve element 14 is lowered, that is, when the valve 11 is open, the carrier table 3 can travel through the gate valve 11. When the valve body 14 rises and comes into close contact with the end surface 15, that is, when the valve 11 is closed, the tunnel A and the tunnel B are hermetically sealed by the O-ring 16 and shut off.

【0018】又、磁気浮上搬送装置の搬送台の浮上状態
を安定化させるためには、浮上用電磁石5の磁極の間隔
(ピッチ)を一定にする必要がある。そのために浮上磁
極間隔lS は、ゲートバルブ11の挿入箇所においても
一定に保たれる。図示するように、従来のゲートバルブ
とトンネルの締結のためのフランジ部分の長さが不要と
なり、ゲートバルブの挿入のための搬送方向のスペース
を低減することができる。
Further, in order to stabilize the levitation state of the carrier of the magnetic levitation carrier, it is necessary to make the magnetic pole spacing (pitch) of the levitation electromagnet 5 constant. Therefore, the floating magnetic pole spacing l S is kept constant even at the insertion position of the gate valve 11. As shown in the figure, the length of the flange portion for fastening the conventional gate valve and tunnel is not required, and the space in the transport direction for inserting the gate valve can be reduced.

【0019】このように、ゲートバルブ11とトンネル
Bとを一体の構造にして、バルブボディ22をトンネル
の開口部17の下面に取付けることにより、ゲートバル
ブ11のメンテナンスが容易となる。即ち、ゲートバル
ブ11をメンテナンスのために取外す場合には、隔壁2
に固定したバルブボディ22のフランジ21の締結を取
外すことにより、弁体14を含めたバルブボディ15を
トンネルBの隔壁2から取外すことができる。又、バル
ブ洗浄等のメンテナンス作業の終了後には、バルブボデ
ィ22を隔壁2の開口部17の周縁に締結固定するのみ
でゲートバルブ11を取り付けることができる。又、ゲ
ートバルブを不要とする場合には、隔壁2の開口部17
をめくら蓋で気密封止して覆うことにより、通常の真空
トンネルとして機能させることができる。このように、
メンテナンスに当たり従来のようにトンネルをずらす必
要がなくなるため、搬送装置全体への影響がなくなり、
又浮上用電磁石の調整等の面倒な作業を不要とすること
ができる。又、装置設置後バルブを追加する場合も、ト
ンネルを作り直したり、プロセス装置を含めた全体配置
を変える必要がなくなり好都合である。
As described above, the gate valve 11 and the tunnel B are integrally formed, and the valve body 22 is attached to the lower surface of the opening 17 of the tunnel, whereby the maintenance of the gate valve 11 is facilitated. That is, when the gate valve 11 is removed for maintenance, the partition 2
The valve body 15 including the valve body 14 can be removed from the partition wall 2 of the tunnel B by removing the fastening of the flange 21 of the valve body 22 fixed to the. Further, after completion of maintenance work such as valve cleaning, the gate valve 11 can be attached only by fastening and fixing the valve body 22 to the peripheral edge of the opening 17 of the partition wall 2. When the gate valve is unnecessary, the opening 17 of the partition wall 2
By airtightly sealing and covering with a blind lid, it can function as a normal vacuum tunnel. in this way,
Since there is no need to shift the tunnel for maintenance, there is no effect on the entire transfer device,
Further, it is possible to eliminate the troublesome work such as adjusting the levitation electromagnet. Also, when adding a valve after installing the apparatus, it is convenient because it is not necessary to recreate the tunnel or change the entire arrangement including the process apparatus.

【0020】本実施例においては、トンネル隔壁の下面
に開口部を有する場合について説明したが、トンネル上
面に開口部を設け、ゲートバルブをトンネル上面から取
りつけてもよい。又、トンネル内の雰囲気を真空とした
例について説明したが、高清浄度の不活性ガス雰囲気と
してもよい。尚、各図中同一の符号は、同一又は相当の
構成要素を示す。
In this embodiment, the case where the tunnel partition wall has an opening on the lower surface has been described, but an opening may be provided on the tunnel upper surface and the gate valve may be attached from the tunnel upper surface. Also, an example has been described in which the atmosphere in the tunnel is a vacuum, but an inert gas atmosphere of high cleanliness may be used. The same reference numerals in the drawings indicate the same or corresponding constituent elements.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明の搬送装
置はトンネルの端面近くの上又は下に開口部を有し、気
密シールを介してトンネルを遮断するバルブユニットを
取付けるようにしたものである。したがって、メンテナ
ンスのためゲートバルブを取外す際に、トンネルを搬送
方向にずらさなくてはならないという問題が解決され、
メンテナンスの良好な搬送装置が提供された。
As described above, the transfer device of the present invention has an opening near the end face of the tunnel, above or below, and is equipped with a valve unit for shutting off the tunnel via an airtight seal. Is. Therefore, when removing the gate valve for maintenance, the problem of having to shift the tunnel in the transport direction is solved,
A carrier device with good maintenance was provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の搬送装置におけるゲートバ
ルブの取付け構造を示す断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a mounting structure of a gate valve in a transfer device according to an embodiment of the present invention.

【図2】搬送装置の使用例を示す説明図であり、各プロ
セス装置が真空トンネルにより結合されている状態を示
す。
FIG. 2 is an explanatory view showing an example of use of a transfer device, showing a state in which process devices are connected by a vacuum tunnel.

【図3】従来の搬送装置におけるゲートバルブの取付け
構造を示す断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a mounting structure of a gate valve in a conventional transfer device.

【図4】図2に示す搬送装置において、トンネルを移動
し、ゲートバルブを外す状態を示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory view showing a state in which the tunnel is moved and the gate valve is removed in the transfer device shown in FIG.

【図5】磁気浮上搬送装置の搬送方向に垂直な面の断面
図。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a surface of the magnetic levitation transport device perpendicular to the transport direction.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 トンネル 2 隔壁 3 搬送台 5 浮上用電磁石 11 ゲートバルブ 16,20 気密シール 17 トンネルの開口部 22 バルブボディ 1 tunnel 2 partition wall 3 carrier 5 floating electromagnet 11 gate valve 16,20 airtight seal 17 tunnel opening 22 valve body

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 隔壁により包囲されたトンネル内を、被
搬送物を外気から遮断された状態で搬送する搬送装置に
おいて、前記トンネルの端面近くの上又は下に開口部を
有し、前記トンネルを遮断するゲートバルブを前記開口
部に気密シールを介して取付けたことを特徴とする搬送
装置。
1. A transport device for transporting an object to be transported in a tunnel surrounded by a partition wall in a state of being shielded from the outside air, having an opening portion above or below the end face of the tunnel, and A transfer device, wherein a gate valve for shutting off is attached to the opening through an airtight seal.
【請求項2】 前記搬送装置は、前記被搬送物を搬送す
る搬送台の前記トンネル隔壁に対する浮上位置を検出す
る変位センサと、該センサの出力と目標値との差に応じ
て浮上用電磁石の磁極コイルに流す電流を制御する制御
装置と、該電流によって前記搬送台に浮上力を発生する
電磁石の磁極と、前記搬送台を走行させる推進力を発生
するリニアモータとを備えた磁気浮上搬送装置であるこ
とを特徴とする請求項1記載の搬送装置。
2. The transfer device comprises a displacement sensor for detecting a floating position of a transfer platform for transferring the transferred object with respect to the tunnel partition, and a floating electromagnet according to a difference between an output of the sensor and a target value. A magnetic levitation transfer apparatus including a control device for controlling a current flowing through a magnetic pole coil, a magnetic pole of an electromagnet that generates a levitation force on the transfer table by the current, and a linear motor that generates a propulsive force for moving the transfer table. The transport device according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記磁気浮上搬送装置を構成する、前記
変位センサ、浮上用電磁石の磁極、及びリニアモータが
前記トンネル隔壁側に配置されていることを特徴とする
請求項2記載の搬送装置。
3. The transfer device according to claim 2, wherein the displacement sensor, the magnetic poles of the levitation electromagnet, and the linear motor, which constitute the magnetic levitation transfer device, are arranged on the tunnel partition wall side.
【請求項4】 前記トンネル内部の外気を遮断された雰
囲気は、真空であることを特徴とする請求項1乃至3記
載の搬送装置。
4. The carrier device according to claim 1, wherein the atmosphere in which the outside air inside the tunnel is blocked is a vacuum.
JP26818793A 1993-09-30 1993-09-30 Carrying device Pending JPH0797049A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130138386A (en) * 2012-06-11 2013-12-19 세메스 주식회사 Magnetic levitation transfer apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130138386A (en) * 2012-06-11 2013-12-19 세메스 주식회사 Magnetic levitation transfer apparatus

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