JPH0794622A - Semiconductor device and mounting method thereof - Google Patents

Semiconductor device and mounting method thereof

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JPH0794622A
JPH0794622A JP23440693A JP23440693A JPH0794622A JP H0794622 A JPH0794622 A JP H0794622A JP 23440693 A JP23440693 A JP 23440693A JP 23440693 A JP23440693 A JP 23440693A JP H0794622 A JPH0794622 A JP H0794622A
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JP
Japan
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semiconductor device
semiconductor element
package
mounting
semiconductor
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JP23440693A
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Japanese (ja)
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Tadahito Abe
忠人 阿部
Hirotaka Yanagisawa
寛高 柳澤
Kazuyuki Matsuda
和幸 松田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor in which the pin count can be increased without increasing the size of package or decreasing the pitch of the pin. CONSTITUTION:The semiconductor device comprises a semiconductor element 13, a package 12 sealing the semiconductor element 13, a plurality of lead terminals 20 connected electrically with the semiconductor element 13 and projecting from the package 12, and pin terminals 23 provided in conjunction with the lead terminals 20 each having one end connected electrically with the semiconductor element 13 and the other end projecting from the package.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば、パッケ−ジ中
に半導体素子を有するとともに実装基板に表面実装され
る半導体装置及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to, for example, a semiconductor device having a semiconductor element in a package and surface-mounted on a mounting substrate, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体装置には、大容量化や高速
化に伴って、多ピン化及び高密度実装化が要求されてい
る。これまで、多ピン化を進めるために、リ−ド幅を小
さくすること、リ−ド端子を2次元配置すること、さら
には、リ−ド端子を多層構造として3次元配置すること
等が提案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor devices have been required to have a large number of pins and a high density mounting due to the increase in capacity and speed. Up to now, in order to increase the number of pins, it has been proposed to reduce the lead width, two-dimensionally arrange the lead terminals, and further three-dimensionally arrange the lead terminals as a multi-layer structure. Has been done.

【0003】また、半導体装置の大容量化や高速化に伴
って熱抵抗が重要な問題になる。半導体装置の安定した
動作を維持するためには、半導体素子の発する熱を効率
よく放散させて熱抵抗を低減することが必要である。そ
して、熱抵抗を低減させるための技術を採用した半導体
素子として、例えば、以下のタイプのものが在る。 (1) 放熱性を高めるために、パッケ−ジのまわりに放熱
フィンを設けたもの。放熱フィンを形成するために、パ
ッケ−ジに別部材を取付ける場合や、パッケ−ジに直接
凹凸を付ける場合がある。 (2) 半導体素子が載置されたアイランドに放熱フィンや
低熱抵抗の板を接着したもの。 (3) アイランドの一部或いは全部をパッケ−ジから露出
させ、実装時に、実装基板に取付けられた放熱部にアイ
ランドを接着するもの。 (4) ヒ−トパイプや冷媒を用いて強制的に冷却を行うも
の。
Further, as the capacity and speed of semiconductor devices increase, thermal resistance becomes an important issue. In order to maintain stable operation of the semiconductor device, it is necessary to efficiently dissipate the heat generated by the semiconductor element and reduce the thermal resistance. Then, as a semiconductor element adopting a technique for reducing thermal resistance, for example, there are the following types. (1) A radiator fin is provided around the package to improve heat dissipation. In order to form the heat radiation fin, another member may be attached to the package or the package may be directly provided with irregularities. (2) A radiation fin or a plate with low thermal resistance bonded to the island on which the semiconductor element is mounted. (3) Part or all of the island is exposed from the package, and the island is bonded to the heat dissipation part mounted on the mounting board during mounting. (4) Forcibly cooling using a heat pipe or refrigerant.

【0004】さらに、一般の多くの半導体装置において
は、電気信号の入出力に利用されるリ−ド端子やピン端
子が、パッケ−ジの側面或いは下面から突出している。
しかし、近年は、端子が突出しておらず、パッケ−ジの
縁に電極が形成されているタイプの半導体装置が在る。
Further, in many general semiconductor devices, lead terminals and pin terminals used for inputting and outputting electric signals project from the side surface or the lower surface of the package.
However, in recent years, there is a semiconductor device of a type in which terminals are not projected and electrodes are formed on the edges of the package.

【0005】また、図19及び図20に示すようなLC
C(Leadless Chip Carrier) 1が知られている。このL
CC1は、半導体素子2、メタライズ電極3、セラミッ
クパッケ−ジ4、蓋5、及び、ボンディングワイヤ6を
有している。半導体素子2は各メタライズ電極3にワイ
ヤボンディングされている。
Further, an LC as shown in FIGS.
C (Leadless Chip Carrier) 1 is known. This L
The CC 1 has a semiconductor element 2, a metallized electrode 3, a ceramic package 4, a lid 5, and a bonding wire 6. The semiconductor element 2 is wire-bonded to each metallized electrode 3.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な各種の半導体装置のうち、多ピン化及び高密度実装化
を図ったものにおいて、リ−ド幅を小さくした場合に
は、リ−ドの熱抵抗が増加する。つまり、リ−ド幅を小
さくするほど、半導体素子に発生した熱を効率よく放散
させることが困難になるため、リ−ド幅の微細化には限
界があると考えられる。また、リ−ドピッチを小さくし
た場合には、実装時の位置決めがより困難になる。さら
に、三次元的なリ−ド構造を採用した場合には、半導体
装置の製造が難しくなる。
By the way, of the various semiconductor devices as described above, which are intended for high pin count and high density mounting, when the lead width is reduced, The thermal resistance of increases. In other words, the smaller the lead width, the more difficult it is to efficiently dissipate the heat generated in the semiconductor element. Therefore, it is considered that there is a limit to the miniaturization of the lead width. In addition, when the lead pitch is reduced, the positioning during mounting becomes more difficult. Furthermore, when a three-dimensional lead structure is adopted, it becomes difficult to manufacture a semiconductor device.

【0007】また、前述の (1)〜(4) 項に示した各種の
半導体装置のうち(1) のタイプのものにおいては、放熱
フィンを設けることによって、薄型化が困難になる。
(2) のタイプのものにおいては、放熱板のまわりが樹脂
に覆われるため、放熱板と樹脂との熱膨張率の差や接合
性の悪さ等を原因として、隙間やクラックが発生する場
合がある。
Further, in the semiconductor device of the type (1) among the various semiconductor devices described in the above items (1) to (4), it is difficult to reduce the thickness by providing the radiation fins.
In the type (2), since the area around the heat sink is covered with resin, gaps or cracks may occur due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the heat sink and the resin, or poor jointability. is there.

【0008】さらに、(3) のタイプのものにおいては、
リ−ドフレ−ムやリ−ド端子には外力が加わるため、こ
の外力に耐え得るだけの剛性が必要である。そして、剛
性を確保するためには、リ−ドフレ−ムやリ−ド端子を
充分に厚く設定する必要がある。しかし、これらが厚く
なるとパッケ−ジも厚くなるので、パッケ−ジを薄形化
するためにはパッケ−ジ材料自体が充分な剛性を有する
ことが必要である。したがって、パッケ−ジ材料の選択
が困難である。
Further, in the type (3),
Since an external force is applied to the lead frame and the lead terminal, it is necessary to have rigidity enough to withstand this external force. In order to secure the rigidity, it is necessary to set the lead frame and the lead terminal to be sufficiently thick. However, the thicker these are, the thicker the package is. Therefore, in order to make the package thin, it is necessary that the package material itself has sufficient rigidity. Therefore, it is difficult to select the package material.

【0009】また、(4) のタイプのものにおいては、強
制冷却のための手段が半導体装置に付設されるので、半
導体装置の小型化が難しい。さらに、多くの半導体装置
のようにリ−ド端子やピン端子が突設されている場合に
は、半導体装置のハンドリングの際に、端子が折り曲げ
られることがある。そして、端子が折り曲げられると、
実装の際に、端子の位置合せが困難になる。特に、自動
実装機を用いる場合には、端子の曲りがトラブルの原因
になり易い。また、多ピン化を進めるほど端子のピッ
チ、端子の径或いは幅が小さくなるため、曲りが生じ易
い。したがって、多ピン化・狭ピッチ化を進めるほど半
導体装置のハンドリングが困難になる。
Further, in the type (4), it is difficult to miniaturize the semiconductor device because the means for forced cooling is attached to the semiconductor device. Further, when lead terminals and pin terminals are provided in a protruding manner as in many semiconductor devices, the terminals may be bent during handling of the semiconductor device. And when the terminals are bent,
Positioning of terminals becomes difficult during mounting. Especially when an automatic mounting machine is used, the bending of the terminals is likely to cause troubles. Further, as the number of pins is increased, the pitch of the terminals and the diameter or width of the terminals are reduced, so that bending is likely to occur. Therefore, the handling of the semiconductor device becomes more difficult as the number of pins and the pitch are narrowed.

【0010】また、端子の無いタイプの半導体装置にお
いては、実装のために専用のソケットが必要であるた
め、実装基板の薄肉化が困難である。また、多ピン化し
た場合に実装面積が大となり易い。
Further, in a semiconductor device of a type having no terminals, a dedicated socket is required for mounting, so that it is difficult to reduce the thickness of the mounting board. Further, when the number of pins is increased, the mounting area tends to be large.

【0011】本発明は上述のような不具合を解決するた
めになされたもので、請求項1の目的とするところは、
パッケ−ジの大型化及び端子の狭ピッチ化を伴うことな
く多端子化することが可能な半導体装置を提供すること
にある。
The present invention has been made to solve the above problems, and the object of claim 1 is as follows.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device which can have a large number of terminals without enlarging the package and narrowing the pitch of the terminals.

【0012】また、請求項5の発明の目的とするところ
は、放熱性及び剛性を損なうことなく薄形化することが
可能な半導体装置を提供することにある。また、請求項
8の発明の目的とするところは、半導体装置を積層する
ことが可能な半導体装置の実装方法を提供することにあ
る。さらに、請求項9及び請求項11の発明の目的とす
るところは、積層することが可能な半導体装置及びその
実装方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor device which can be thinned without impairing heat dissipation and rigidity. Another object of the present invention is to provide a semiconductor device mounting method capable of stacking semiconductor devices. Further, it is an object of the inventions of claims 9 and 11 to provide a stackable semiconductor device and a mounting method thereof.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために請求項1の発明は、半導体素子と、この半
導体素子を封止したパッケ−ジと、半導体素子に電気的
に接続されるとともにパッケ−ジから突出した複数本の
リ−ド端子と、リ−ド端子と併設され一端が半導体素子
に電気的に接続されるとともに他端がパッケ−ジから突
出したピン端子とを具備した半導体装置にある。
In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is a semiconductor element, a package encapsulating the semiconductor element, and an electrical connection to the semiconductor element. And a plurality of lead terminals protruding from the package, and pin terminals juxtaposed with the lead terminals, one end of which is electrically connected to the semiconductor element and the other end of which protrudes from the package. It is in a semiconductor device.

【0014】また、請求項5の発明は、複数の電極を有
する半導体素子と、この半導体素子が装着されるととも
に電極に接続される信号伝達部を有する放熱フレ−ム
と、半導体素子を封止する封止部とを具備した半導体装
置にある。
According to a fifth aspect of the present invention, a semiconductor element having a plurality of electrodes, a heat radiation frame having a signal transmitting portion mounted on the semiconductor element and connected to the electrodes, and the semiconductor element are sealed. And a semiconductor device including a sealing portion.

【0015】また、請求項8の発明は、複数の電極を有
する半導体素子と、この半導体素子が装着されるととも
に電極に接続される信号伝達部を有し且つ複数の貫通孔
が設けられた放熱フレ−ムと、半導体素子を封止する封
止部とを具備し、信号伝達部が貫通孔に内嵌された筒状
の端子を有する半導体装置の実装方法において、端子に
実装ピンを差込んで放熱フレ−ムに実装ピンを貫通させ
るとともに実装ピンを実装基板に到達させて半導体素子
を実装基板に装着することを特徴とする半導体装置の実
装方法にある。
According to the invention of claim 8, there is provided a semiconductor device having a plurality of electrodes, and a heat dissipation device having a plurality of through holes provided with a signal transmitting portion to which the semiconductor device is mounted and which is connected to the electrodes. In a method of mounting a semiconductor device having a frame and a sealing portion for sealing a semiconductor element, and a signal transmission portion having a cylindrical terminal fitted in a through hole, a mounting pin is inserted into the terminal. The semiconductor device mounting method is characterized in that the mounting pin is penetrated through the heat radiation frame and the mounting pin is made to reach the mounting substrate to mount the semiconductor element on the mounting substrate.

【0016】また、請求項9の発明は、半導体素子と、
この半導体素子を封止したパッケ−ジと、一端が半導体
素子に電気的に接続されるとともに他端がパッケ−ジの
下の主面から露出した複数の内部電極と、パッケ−ジに
設けられるとともに少なくとも両端がパッケ−ジの上下
の主面から露出し半導体装置と電気的に絶縁された積層
用の外部電極とを具備した半導体装置にある。
The invention according to claim 9 is a semiconductor device,
A package encapsulating the semiconductor element, a plurality of internal electrodes having one end electrically connected to the semiconductor element and the other end exposed from the main surface under the package, and the package provided with the package. At the same time, at least both ends are exposed from the upper and lower main surfaces of the package, and a semiconductor device is provided with an external electrode for lamination which is electrically insulated from the semiconductor device.

【0017】さらに、請求項11の発明は、半導体素子
と、この半導体素子を封止したパッケ−ジと、一端が半
導体素子に電気的に接続されるとともに他端がパッケ−
ジの下の主面から露出した内部配線と、パッケ−ジに設
けられるとともに少なくとも両端がパッケ−ジの上下の
主面から露出し半導体装置と電気的に分離された積層用
の外部配線とを具備した半導体装置の実装方法におい
て、半導体装置を複数段に積層し、最下段の半導体装置
の内部電極及び外部電極を実装基板の対応する配線パタ
−ンに接続するとともに、の半導体装置の内部電極を順
次下段の半導体装置の外部電極に接続して最下段の半導
体装置の外部電極へ導くことを特徴とする半導体装置の
実装方法にある。
Further, according to the invention of claim 11, a semiconductor element, a package encapsulating the semiconductor element, one end electrically connected to the semiconductor element, and the other end packaged.
Internal wiring exposed from the main surface under the package and external wiring for lamination, which is provided on the package and at least both ends of which are exposed from the upper and lower main surfaces of the package and is electrically separated from the semiconductor device. In the method of mounting a semiconductor device, the semiconductor device is laminated in a plurality of stages, and the internal electrodes and external electrodes of the semiconductor device at the bottom are connected to the corresponding wiring patterns of the mounting substrate, and the internal electrodes of the semiconductor device are also connected. Is sequentially connected to the external electrodes of the lower semiconductor device and is guided to the external electrodes of the lowermost semiconductor device.

【0018】そして、請求項1の発明は、パッケ−ジの
大型化及び端子の狭ピッチ化を伴うことなく半導体装置
を多端子化できるようにした。また、請求項5の発明
は、放熱性及び剛性を損なうことなく半導体装置を薄形
化できるようにした。
Further, the invention of claim 1 enables the semiconductor device to have multiple terminals without enlarging the package and narrowing the pitch of the terminals. Further, according to the invention of claim 5, the semiconductor device can be made thinner without impairing the heat dissipation and the rigidity.

【0019】また、請求項8の発明は、半導体装置を容
易に積層できるようにした。さらに、請求項9及び請求
項11の発明は、半導体装置を容易に積層できるように
した。
Further, the invention of claim 8 makes it possible to easily stack the semiconductor devices. Further, the inventions of claims 9 and 11 enable the semiconductor devices to be easily stacked.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の各実施例を図1〜図18に基
づいて説明する。図1及び図2は本発明の第1実施例を
示すもので、図中の符号11は半導体装置である。この
半導体装置11は、樹脂パッケ−ジ(以下、パッケ−ジ
と称する)12の中に第1及び第2の半導体素子13、
14を有している。半導体素子13、14はそれぞれア
イランド15、16に搭載されるとともに、パッケ−ジ
12の厚さ方向に離間しながら並んでいる。さらに、半
導体素子13、14の素子形成面17、18は互いに逆
に向けられている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2 show a first embodiment of the present invention, in which reference numeral 11 denotes a semiconductor device. The semiconductor device 11 includes a resin package (hereinafter, referred to as a package) 12, a first and a second semiconductor element 13,
Have fourteen. The semiconductor elements 13 and 14 are mounted on the islands 15 and 16, respectively, and are arranged side by side in the thickness direction of the package 12. Furthermore, the element forming surfaces 17 and 18 of the semiconductor elements 13 and 14 are oriented opposite to each other.

【0021】上段に配置された第1の半導体素子13
は、ボンディングワイヤ19を介して多数のリ−ド端子
20(二つのみ図示)に結線されている。リ−ド端子2
0は半導体素子13のまわりに放射状に配設されてお
り、パッケ−ジ12の側面21から突出してガルウイン
グ型に加工されている。ここで、リ−ド端子20を得る
ために、例えばリ−ド端子20をリ−ドフレ−ムから打
抜くこと等の一般的な種々の技術を利用することが可能
である。また、リ−ド端20がパッケ−ジ12の二つの
側面から突出していても、或いは、四つの側面から突出
していてもよい。
First semiconductor element 13 arranged in the upper stage
Are connected to a large number of lead terminals 20 (only two are shown) via bonding wires 19. Lead terminal 2
0s are radially arranged around the semiconductor element 13 and project from the side surface 21 of the package 12 and are processed into a gull wing type. Here, in order to obtain the lead terminal 20, it is possible to use various general techniques such as punching the lead terminal 20 from the lead frame. Further, the lead end 20 may protrude from two side surfaces of the package 12 or may protrude from four side surfaces.

【0022】下段に配置された第2の半導体素子14
は、ボンディングワイヤ19を介して板状のピン端子支
持体22に結線されている。つまり、ピン端子支持体2
2には多数のピン端子23(一部のみ図示)が下向きに
垂設されるとともに、図2中に示すように各ピン端子2
3に個別に繋がった多数の配線24(一部のみ図示)が
形成されている。ボンディングワイヤ19は第2の半導
体素子14と各配線24との間に架設されており、第2
の半導体素子14と各ピン端子23とは、ボンディング
ワイヤ19と配線24とを介して接続されている。
The second semiconductor element 14 arranged in the lower stage
Is connected to a plate-shaped pin terminal support 22 via a bonding wire 19. That is, the pin terminal support 2
2, a large number of pin terminals 23 (only a part of which are shown) are hung vertically downward, and as shown in FIG.
A large number of wirings 24 (only a part of which are shown) that are individually connected to the wiring 3 are formed. The bonding wire 19 is provided between the second semiconductor element 14 and each wiring 24, and
The semiconductor element 14 and each pin terminal 23 are connected via a bonding wire 19 and a wiring 24.

【0023】ピン端子23はパッケ−ジ12の下面25
から略垂直に突出している。さらに、ピン端子23の先
端はリ−ド端子20よりも幾分下方に達している。ここ
で、パッケ−ジ12の形状として、正方形や直方形等の
ような一般的な種々の形状を採用することができる。
The pin terminal 23 is the lower surface 25 of the package 12.
Is projected almost vertically from. Further, the tip of the pin terminal 23 reaches a little below the lead terminal 20. Here, as the shape of the package 12, various general shapes such as a square and a rectangular parallelepiped can be adopted.

【0024】上述のような半導体装置11においては、
リ−ド端子20とピン端子23とが並設されているの
で、端子の径や幅を小さくしたり、狭ピッチ化したり、
端子を多層化したりすることなく端子の数を増やすこと
ができる。この結果、パッケ−ジ12の大型化を伴わず
に、複数の半導体素子13、14を封止することが可能
になる。さらに、実装時の高密度化も可能になる。
In the semiconductor device 11 as described above,
Since the lead terminal 20 and the pin terminal 23 are arranged side by side, the diameter and width of the terminal can be reduced, the pitch can be narrowed,
The number of terminals can be increased without making the terminals multi-layered. As a result, it becomes possible to seal the plurality of semiconductor elements 13 and 14 without enlarging the package 12. Further, high density at the time of mounting becomes possible.

【0025】また、端子20、23を微細化する必要が
ないので、各端子20、23に関して、従来と同程度の
放熱特性を維持することができる。また、端子数を従来
と同程度とした場合には、パッケ−ジ12を大型化する
ことなく端子の径や幅、ピッチ等を大とすることができ
る。そして、この場合には、放熱特性を向上でき、熱抵
抗の低減が可能であるとともに、実装時の位置決めが容
易になる。
Further, since it is not necessary to miniaturize the terminals 20 and 23, it is possible to maintain the heat dissipation characteristic of each of the terminals 20 and 23 to the same degree as the conventional one. Further, when the number of terminals is set to the same level as the conventional one, the diameter, width, pitch, etc. of the terminals can be increased without increasing the size of the package 12. In this case, the heat dissipation characteristics can be improved, the thermal resistance can be reduced, and the positioning at the time of mounting becomes easy.

【0026】なお、本発明は、要旨を逸脱しない範囲で
種々に変形することが可能である。例えば、本実施例で
はパッケ−ジ12の材質として樹脂が採用されている
が、パッケ−ジ12にセラミック等の一般的な種々の材
質を適用することが可能である。
The present invention can be variously modified without departing from the scope of the invention. For example, although resin is used as the material of the package 12 in this embodiment, various general materials such as ceramics can be applied to the package 12.

【0027】また、本実施例では複数の半導体素子1
3、14が用いられており、これらがリ−ド端子20或
いはピン端子23に接続されているが、例えば、図3に
示す半導体装置31のように、一つの半導体素子32の
表裏を素子形成面17、18とし、各素子形成面17、
18をリ−ド端子20或いはピン端子23に接続しても
よい。
Further, in this embodiment, a plurality of semiconductor elements 1 are used.
3, 14 are used, and these are connected to the lead terminal 20 or the pin terminal 23. For example, as in the semiconductor device 31 shown in FIG. Surfaces 17 and 18, and each element formation surface 17,
18 may be connected to the lead terminal 20 or the pin terminal 23.

【0028】この半導体装置31においては、半導体素
子32が板状の半導体素子支持体33の保持孔34に挿
入されており、素子形成面17、18が半導体素子支持
体33の表裏に露出している。さらに、半導体素子支持
体33は、リ−ド端子20とピン端子支持体22との間
に介在して両者を保持している。
In this semiconductor device 31, the semiconductor element 32 is inserted into the holding hole 34 of the plate-shaped semiconductor element support 33, and the element forming surfaces 17 and 18 are exposed on the front and back of the semiconductor element support 33. There is. Further, the semiconductor element support 33 is interposed between the lead terminal 20 and the pin terminal support 22 to hold them.

【0029】また、図4に示す半導体装置41のよう
に、パッケ−ジ42を二層構造とし、各層43、44に
半導体素子13、14を封止してもよい。リ−ド端子2
0はパッケ−ジ42の上層43の側面21から突出して
おり、ピン端子23は下層44の下面25から突出して
いる。そして、両層43、44は一体に接合されてい
る。この半導体装置41においては、半導体素子13、
14の素子形成面17、18は共に同じ方向を向いてい
る。
Further, as in the semiconductor device 41 shown in FIG. 4, the package 42 may have a two-layer structure, and the semiconductor elements 13 and 14 may be sealed in the layers 43 and 44, respectively. Lead terminal 2
0 projects from the side surface 21 of the upper layer 43 of the package 42, and the pin terminals 23 project from the lower surface 25 of the lower layer 44. Both layers 43 and 44 are integrally joined. In this semiconductor device 41, the semiconductor element 13,
The element forming surfaces 17 and 18 of 14 are oriented in the same direction.

【0030】つぎに、本発明の第2実施例を図5及び図
6に基づいて説明する。図5及び図6は本発明の第2実
施例を示すもので、両図中の符号51は半導体装置であ
る。この半導体装置51は、金属からなる放熱フレ−ム
(以下、フレ−ムと称する)52を備えている。このフ
レ−ム52は略正方形な板状に成形されており、上面5
3の中央に凹陥部54を有している。凹陥部54には半
導体素子55が収容されており、半導体素子55は凹陥
部54の底に接着剤56によって接合されている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6 show a second embodiment of the present invention, in which reference numeral 51 denotes a semiconductor device. The semiconductor device 51 includes a heat radiation frame (hereinafter referred to as a frame) 52 made of metal. This frame 52 is formed into a substantially square plate shape and has an upper surface 5
3 has a concave portion 54 at the center. A semiconductor element 55 is housed in the recess 54, and the semiconductor element 55 is bonded to the bottom of the recess 54 with an adhesive 56.

【0031】フレ−ム52には絶縁膜57がコ−ティン
グされている。この絶縁膜57のコ−ティングは、フレ
−ム52の両板面や側面に施されているが、凹陥部54
の内壁や底面には施されていない。さらに、フレ−ム5
2の上面53には多数の配線58が形成されており、こ
の配線58は凹陥部54を中心として放射状に配設され
ている。また、凹陥部54の周囲には多数のバンプ59
が形成されており、配線58の凹陥部54側の端部がこ
のバンプ59に通電可能に接続されている。
An insulating film 57 is coated on the frame 52. The insulating film 57 is coated on both plate surfaces and side surfaces of the frame 52, but the concave portion 54 is formed.
Is not applied to the inner wall or bottom of the. Furthermore, frame 5
A large number of wirings 58 are formed on the upper surface 53 of the second wiring 58, and the wirings 58 are arranged radially around the recess 54. In addition, a large number of bumps 59 are provided around the recess 54.
Is formed, and the end of the wiring 58 on the side of the recess 54 is electrically connected to the bump 59.

【0032】ここで、配線58及びバンプ59とフレ−
ム52とは絶縁膜57によって絶縁されている。また、
配線58の作製方法として、エッチング等の一般的な種
々の方法を採用することが可能である。
Here, the wiring 58, the bump 59 and the frame
It is insulated from the frame 52 by an insulating film 57. Also,
As a method of manufacturing the wiring 58, various general methods such as etching can be adopted.

【0033】半導体素子55は、ボンディングワイヤ6
0を介してバンプ59に結線されている。さらに、半導
体素子55とボンディングワイヤ60とは、凹陥部54
に供給された封止部としての封止樹脂61によって封止
されている。封止樹脂61はフレ−ム52から隆起する
とともに、矩形に成形されている。そして、封止樹脂6
1は、バンプ59と配線58の一部を覆い隠しており、
これらを半導体素子55やボンディングワイヤ60とと
もに保護している。
The semiconductor element 55 includes the bonding wire 6
It is connected to the bump 59 through 0. Further, the semiconductor element 55 and the bonding wire 60 are not
It is sealed by the sealing resin 61 as a sealing portion supplied to the. The sealing resin 61 rises from the frame 52 and is formed in a rectangular shape. And the sealing resin 6
1 covers the bump 59 and a part of the wiring 58,
These are protected together with the semiconductor element 55 and the bonding wire 60.

【0034】ここで、封止方法として、例えば、トラン
スファ成形、ポッティング、及び、ディップ等の一般的
な種々の方法を採用することが可能である。フレ−ム5
2には多数の貫通孔62が設けられている。これらの貫
通孔62はフレ−ム52の周縁部に沿って配設されてお
り、フレ−ム52を厚さ方向に貫通している。これらの
貫通孔62の開口形状は真円状であり、開口径は互いに
略同じである。さらに、各貫通孔62において、径寸法
は軸方向全長に亘って略均一である。そして、貫通孔6
2の内周面にも絶縁膜57がコ−ティングされている。
Here, various general methods such as transfer molding, potting, and dipping can be adopted as the sealing method. Frame 5
2 has a large number of through holes 62. These through holes 62 are arranged along the peripheral portion of the frame 52 and penetrate the frame 52 in the thickness direction. The opening shape of these through holes 62 is a perfect circle, and the opening diameters thereof are substantially the same. Further, in each through hole 62, the diameter dimension is substantially uniform over the entire axial length. And the through hole 6
An insulating film 57 is also coated on the inner peripheral surface of 2.

【0035】両図中に符号63で示すのは導電性の材質
からなる端子である。各端子63は同心円筒状に成形さ
れており、貫通孔62に挿入されている。端子63の外
径寸法は貫通孔62の内径寸法と略一致している。さら
に、端子63の軸方向両端部には外側へ拡がるフランジ
64a、64bが形成されており、フランジ64a、6
4bは貫通孔62の周縁部に係止している。そして、フ
レ−ム52の上面53側のフランジ64aは配線58の
端部に通電可能に接続されている。
Reference numeral 63 in both figures denotes a terminal made of a conductive material. Each terminal 63 has a concentric cylindrical shape and is inserted into the through hole 62. The outer diameter dimension of the terminal 63 is substantially the same as the inner diameter dimension of the through hole 62. Further, flanges 64a and 64b are formed on both ends of the terminal 63 in the axial direction so as to spread outward.
4b is locked to the peripheral portion of the through hole 62. The flange 64a on the upper surface 53 side of the frame 52 is electrically connected to the end of the wiring 58.

【0036】つぎに、上述の半導体装置51の実装方法
について説明する。図1中に示すように、半導体装置5
1の実装には実装ピン71が用いられる。つまり、実装
ピン71は同心円柱状に成形されており、一端にフラン
ジ72を有するとともに、他端を尖鋭に加工されてい
る。実装ピン71は、実装時に、端子63に差込まれ、
フレ−ム52を貫通する。さらに、実装ピン71の先端
は実装基板73の差込孔74に進入し、フランジ72が
端子63のフランジ64aに係止する。実装ピン71の
径寸法は端子62の内径寸法及び実装基板73の差込孔
74の内径寸法と略一致している。そして、実装ピン7
1が、半導体装置51と実装基板73とを結合させる。
Next, a method of mounting the above-mentioned semiconductor device 51 will be described. As shown in FIG. 1, the semiconductor device 5
The mounting pin 71 is used for mounting 1. That is, the mounting pin 71 is formed in a concentric cylindrical shape, has a flange 72 at one end, and is sharpened at the other end. The mounting pin 71 is inserted into the terminal 63 during mounting,
It penetrates the frame 52. Further, the tips of the mounting pins 71 enter the insertion holes 74 of the mounting board 73, and the flanges 72 are locked to the flanges 64 a of the terminals 63. The diameter of the mounting pin 71 is substantially the same as the inner diameter of the terminal 62 and the inner diameter of the insertion hole 74 of the mounting board 73. And mounting pin 7
1 couples the semiconductor device 51 and the mounting substrate 73.

【0037】半導体装置51の端子63は実装基板73
に形成された配線75に通電可能に接触する。そして、
ボンディングワイヤ60、バンプ59、フレ−ム52の
配線58、及び、端子63によって信号伝達部65が構
成され、この信号伝達部65が、半導体素子55と実装
基板74の配線76との間で電気信号を伝達する。
The terminal 63 of the semiconductor device 51 is a mounting board 73.
The wiring 75 formed in the above is contacted so that it can be energized. And
The bonding wire 60, the bump 59, the wiring 58 of the frame 52, and the terminal 63 form a signal transmitting portion 65, and the signal transmitting portion 65 electrically connects the semiconductor element 55 and the wiring 76 of the mounting substrate 74. Transmit a signal.

【0038】上述のような半導体装置51においては、
半導体素子55が金属製のフレ−ム52に接合されてい
るので、半導体素子55に発生した熱はフレ−ム52に
伝達される。さらに、半導体素子55を封止する封止樹
脂61はこのフレ−ム52の一部(凹陥部54)のみに
供給されており、フレ−ム52の大部分は外気中に露出
している。そして、一般に、金属の熱伝導率は樹脂に比
べて10倍以上高い。したがって、半導体素子55を樹
脂パッケ−ジで覆った場合や、樹脂パッケ−ジから放熱
板の一部を露出させた場合に比べて、効率よく熱を放出
することができ、熱抵抗の低減が可能である。
In the semiconductor device 51 as described above,
Since the semiconductor element 55 is bonded to the metal frame 52, the heat generated in the semiconductor element 55 is transferred to the frame 52. Further, the sealing resin 61 for sealing the semiconductor element 55 is supplied only to a part (recessed portion 54) of the frame 52, and most of the frame 52 is exposed to the outside air. In general, the thermal conductivity of metal is 10 times higher than that of resin. Therefore, compared with the case where the semiconductor element 55 is covered with the resin package or the case where a part of the heat dissipation plate is exposed from the resin package, the heat can be efficiently released and the thermal resistance can be reduced. It is possible.

【0039】また、上述の半導体装置51においては、
電子信号を伝達するための端子が存在しないので、端子
の曲りを考慮することなくハンドリングを行うことがで
きる。したがって、ハンドリングが容易である。さら
に、端子の曲りを原因とする実装不良の発生を防止でき
るとともに、半導体装置51の位置合せが容易になる。
Further, in the above-mentioned semiconductor device 51,
Since there is no terminal for transmitting an electronic signal, handling can be performed without considering bending of the terminal. Therefore, handling is easy. Further, it is possible to prevent the occurrence of mounting defects due to the bending of the terminals and facilitate the alignment of the semiconductor device 51.

【0040】また、専用のソケットを用いることなく実
装できるとともに、実装ピン71は半導体装置51や実
装基板73に差込まれるので、実装基板73の厚みや実
装面積が大とならない。
Further, since the mounting can be performed without using a dedicated socket and the mounting pins 71 are inserted into the semiconductor device 51 and the mounting substrate 73, the thickness and mounting area of the mounting substrate 73 do not become large.

【0041】また、上述の実装方法においては、実装ピ
ン71がフレ−ム52と実装基板73とに差込まれて両
者を連結するので、実装強度が実装ピン71によって補
なわれる。このため、フレ−ム52を薄く設定しても、
実装後には充分な剛性を確保することができる。したが
って、半導体装置51の薄形化が可能である。
In the mounting method described above, the mounting pin 71 is inserted into the frame 52 and the mounting substrate 73 to connect them, so that the mounting strength is supplemented by the mounting pin 71. Therefore, even if the frame 52 is set thin,
Sufficient rigidity can be secured after mounting. Therefore, the semiconductor device 51 can be thinned.

【0042】なお、本発明は、要旨を逸脱しない範囲で
種々に変形することが可能である。例えば、本実施例で
は、フレ−ム52の材質に金属が用いられているが、セ
ラミック等を用いても同様の効果が得られる。この場
合、絶縁膜57が不要になる。
The present invention can be variously modified without departing from the scope of the invention. For example, in the present embodiment, metal is used as the material of the frame 52, but the same effect can be obtained by using ceramic or the like. In this case, the insulating film 57 becomes unnecessary.

【0043】また、本実施例では、フレ−ム52の凹陥
部54に半導体素子55が収容されているが、例えば、
フレ−ム52の上面53を平坦とし、ここに半導体素子
55を載せてもよい。また、フレ−ム52の上面53に
突部を設けて、この突部に半導体素子55を載せてもよ
い。
Further, in this embodiment, the semiconductor element 55 is housed in the recess 54 of the frame 52.
The upper surface 53 of the frame 52 may be flat and the semiconductor element 55 may be placed on it. Further, a protrusion may be provided on the upper surface 53 of the frame 52, and the semiconductor element 55 may be placed on this protrusion.

【0044】また、本実施例では、フレ−ム52の配線
58と実装基板73の配線75とを導通させるために端
子63が用いられているが、例えば、実装ピン71に導
電性を持たせたり、貫通孔62の内周面の絶縁膜57上
に導電膜を形成することにより、端子63を省略するこ
とが可能になる。
In this embodiment, the terminal 63 is used to electrically connect the wiring 58 of the frame 52 and the wiring 75 of the mounting board 73. For example, the mounting pin 71 is made conductive. Alternatively, the terminal 63 can be omitted by forming a conductive film on the insulating film 57 on the inner peripheral surface of the through hole 62.

【0045】さらに、本実施例の半導体装置51に簡単
な変更を施すことにより、図7及び図9に示すように多
層化が可能になる。すなわち、図7においては、半導体
装置51、81が同心的に上下二段に重ねられて、実装
基板83に実装されている。上段の半導体装置51のフ
レ−ム52は下段の半導体装置81の封止樹脂61に当
接している。また、図8に示すように、下段の半導体装
置81のフレ−ム84には多数の端子85、86が組込
まれており、これらは封止樹脂61を中心として二重に
配列されている。内側の各端子85には配線58が接続
されているが、外側の端子86には配線58が接続され
ていない。そして、外側の端子86は上段の半導体装置
51の端子63と対応する位置関係にある。
Further, by making a simple modification to the semiconductor device 51 of this embodiment, it becomes possible to form a multilayer as shown in FIGS. 7 and 9. That is, in FIG. 7, the semiconductor devices 51 and 81 are concentrically stacked on each other in upper and lower two stages and mounted on the mounting substrate 83. The frame 52 of the upper semiconductor device 51 is in contact with the sealing resin 61 of the lower semiconductor device 81. Further, as shown in FIG. 8, a large number of terminals 85 and 86 are incorporated in the frame 84 of the lower semiconductor device 81, and these terminals are doubly arranged around the sealing resin 61. The wiring 58 is connected to the inner terminals 85, but the wiring 58 is not connected to the outer terminals 86. The outer terminal 86 is in a positional relationship corresponding to the terminal 63 of the upper semiconductor device 51.

【0046】図7に示すように、下段の半導体装置81
の内側の端子85には実装ピン87が差込まれており、
この実装ピン87はフレ−ム84を実装基板83に連結
している。また、上段の半導体装置51のフレ−ム52
に差込まれた実装ピン88は、下段の半導体装置81の
外側の端子86にも差込まれており、下段のフレ−ム8
4を通過して、実装基板83に達している。そして、外
側の実装ピン89は、上下段のフレ−ム52、84を一
体に実装基板83に連結している。
As shown in FIG. 7, the lower semiconductor device 81
Mounting pin 87 is inserted into terminal 85 inside
The mounting pins 87 connect the frame 84 to the mounting board 83. In addition, the frame 52 of the upper semiconductor device 51
The mounting pin 88 inserted in the lower part of the semiconductor device 81 is also inserted in the outer terminal 86 of the lower semiconductor device 81.
4 to reach the mounting board 83. The outer mounting pins 89 integrally connect the upper and lower frames 52 and 84 to the mounting substrate 83.

【0047】このように、下段の半導体装置81のフレ
−ム84に端子85、86を二重に配設することによ
り、半導体装置51、81を二段に積層することが可能
になる。さらに、実装基板83における占有面積を小と
することができ、実装密度を高めることが可能になる。
そして、実装基板83の上方のスペ−スに余裕が在る場
合に、この空間を有効利用することができる。
In this way, by arranging the terminals 85 and 86 in the frame 84 of the lower semiconductor device 81 in a doubled manner, the semiconductor devices 51 and 81 can be stacked in two layers. Furthermore, the area occupied by the mounting board 83 can be reduced, and the mounting density can be increased.
Then, when there is a space above the mounting substrate 83, this space can be effectively used.

【0048】なお、端子の列を増やすことにより、更に
多くの半導体装置を積層することが可能になる。図9及
び図10は半導体装置51、81、91を三段に積層し
た例を示している。中段の半導体装置81においては端
子85、86が二重に配設されており、下段の半導体装
置91においては、端子95、96、97が三重に配設
されている。さらに、図10に示すように、最も内側の
端子95には配線58が接続されているが、その他の端
子96、97には配線58は接続されていない。
By increasing the number of rows of terminals, it becomes possible to stack more semiconductor devices. 9 and 10 show an example in which the semiconductor devices 51, 81 and 91 are stacked in three layers. In the semiconductor device 81 in the middle stage, the terminals 85 and 86 are arranged in double, and in the semiconductor device 91 in the lower stage, the terminals 95, 96 and 97 are arranged in triple. Furthermore, as shown in FIG. 10, the wiring 58 is connected to the innermost terminal 95, but the wiring 58 is not connected to the other terminals 96 and 97.

【0049】最も内側の端子95に差込まれた実装ピン
99は、この半導体装置51のフレ−ム52を実装基板
103に連結している。また、中間の端子96に差込ま
れた実装ピン100は中段及び下段のフレ−ム52、8
4を実装基板103に連結している。さらに、最も外側
の端子97に差込まれた実装ピン101は、三つのフレ
−ム52、84、102を実装基板103に連結してい
る。
The mounting pin 99 inserted into the innermost terminal 95 connects the frame 52 of the semiconductor device 51 to the mounting substrate 103. Further, the mounting pin 100 inserted into the intermediate terminal 96 has the frames 52 and 8 in the middle and lower stages.
4 is connected to the mounting substrate 103. Further, the mounting pin 101 inserted into the outermost terminal 97 connects the three frames 52, 84 and 102 to the mounting substrate 103.

【0050】つぎに、本発明の第3実施例を図11〜図
13に基づいて説明する。図11は本発明の第3実施例
を示すもので、図中の符号111は半導体装置である。
この半導体装置111はLCC(Leadless Chip Carrie
r) タイプのもので、直方体状のセラミックパッケ−ジ
(以下、パッケ−ジと称する)112の中に半導体素子
113を封止している。パッケ−ジ112には凹陥部1
14が形成されており、この凹陥部114の側面には、
底へ近付くほど狭まる段差が成形されている。そして、
半導体素子113は凹陥部114の底に接合されてお
り、凹陥部114の内部空間は金属製の蓋115によっ
て閉じられている。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 11 shows a third embodiment of the present invention, in which reference numeral 111 is a semiconductor device.
This semiconductor device 111 is an LCC (Leadless Chip Carrie).
r) type, in which a semiconductor element 113 is sealed in a rectangular parallelepiped ceramic package (hereinafter referred to as a package) 112. The recess 112 is on the package 112.
14 is formed on the side surface of the recess 114.
A step is formed that narrows as it gets closer to the bottom. And
The semiconductor element 113 is bonded to the bottom of the recess 114, and the internal space of the recess 114 is closed by a lid 115 made of metal.

【0051】パッケ−ジ112には、多数の内部電極1
16と、これと同数の外部電極117とがメタライズさ
れている。これらはパッケ−ジ112に埋め込まれてお
り、ともに放射状に配設されている。これらのうち内部
電極116の一端は凹陥部114の中に水平に露出する
とともに、ボンディングワイヤ118を介して半導体素
子113に結線されている。さらに、内部電極116は
パッケ−ジ112の下の主面としての下面119に向っ
て伸びており、内部電極116の他端はパッケ−ジ11
2の下面119に露出している。
The package 112 includes a large number of internal electrodes 1
16 and the same number of external electrodes 117 as these are metallized. These are embedded in the package 112 and are arranged radially. Of these, one end of the internal electrode 116 is horizontally exposed in the recess 114, and is connected to the semiconductor element 113 via the bonding wire 118. Further, the internal electrode 116 extends toward a lower surface 119 as a main surface below the package 112, and the other end of the internal electrode 116 is at the other end of the package 11.
2 is exposed on the lower surface 119.

【0052】外部電極117は、内部電極116よりも
外側に配設されるとともに、パッケ−ジ112の四つの
側面に露出している。また、外部電極117は、パッケ
−ジ112の下面119及び上面120のそれぞれの縁
にも露出している。つまり、パッケ−ジ112の上面1
20には外部電極117のみが導出されており、下面1
19には内部電極116及び外部電極117の両方が導
出されている。さらに、外部電極117は半導体素子1
13及び内部電極116に導通していない。
The external electrodes 117 are arranged outside the internal electrodes 116 and are exposed on the four side surfaces of the package 112. The external electrodes 117 are also exposed at the edges of the lower surface 119 and the upper surface 120 of the package 112. That is, the upper surface 1 of the package 112
Only the external electrode 117 is led out to the lower surface 20
Both the internal electrode 116 and the external electrode 117 are led out to 19. Further, the external electrode 117 is the semiconductor element 1
13 and the internal electrode 116 are not electrically connected.

【0053】内部電極116は実装基板121の配線パ
タ−ン(以下、配線と称する)122に接続され、半導
体素子113と配線122との間の信号経路を構成す
る。実装基板121の配線122は、内部電極116の
みに接触して外部電極117を避けるよう配設されてい
る。ここで、内部電極116と配線122との接合方法
として、一般的なLCCのための種々の接合方法を採用
することができる。また、導電性を確保できれば、その
他の種々の接合方法を適用することも可能である。
The internal electrode 116 is connected to a wiring pattern (hereinafter referred to as wiring) 122 of the mounting substrate 121, and forms a signal path between the semiconductor element 113 and the wiring 122. The wiring 122 of the mounting substrate 121 is arranged so as to contact only the internal electrodes 116 and avoid the external electrodes 117. Here, as a method of joining the internal electrode 116 and the wiring 122, various joining methods for general LCC can be adopted. Further, other various joining methods can be applied as long as the conductivity can be secured.

【0054】つぎに、上述の半導体装置111の実装方
法を説明する。図12に示すように、半導体装置111
は上下二段に積層される。下段の半導体装置111aの
内部電極116aは実装基板121の配線122に接続
される。さらに、外部電極117aは、実装基板121
に形成された外部電極用の配線に接続される。図12中
においては、外部電極用の配線が内部電極用の配線12
2の陰に隠れている。
Next, a method of mounting the above semiconductor device 111 will be described. As shown in FIG. 12, the semiconductor device 111
Are stacked in two layers. The internal electrode 116a of the lower semiconductor device 111a is connected to the wiring 122 of the mounting substrate 121. Furthermore, the external electrode 117a is mounted on the mounting substrate 121.
Is connected to the wiring for the external electrode formed on. In FIG. 12, the wiring for the external electrode is the wiring 12 for the internal electrode.
Hiding behind the shadow of 2.

【0055】上段の半導体装置111bの内部電極11
6bは、下段の半導体装置111aの外部電極117に
接触しており、上段の内部電極116bと下段の外部電
極117aとが繋がっている。この結果、図13に示す
ように下段の半導体素子113a及び上段の半導体装置
113bのそれぞれについて、独立した導通経路12
3、124が構成される。
Internal electrodes 11 of the upper semiconductor device 111b
6b is in contact with the external electrode 117 of the lower semiconductor device 111a, and the upper internal electrode 116b and the lower external electrode 117a are connected. As a result, as shown in FIG. 13, independent conduction paths 12 are provided for each of the lower semiconductor element 113a and the upper semiconductor device 113b.
3, 124 are configured.

【0056】このような半導体装置111及びその実装
方法によれば、半導体装置111を積層して実装するこ
とが可能になる。そして、半導体装置111の占有面積
が減り、実装効率が高まる。さらに、実装基板121の
上方のスペ−スに余裕が在る場合に、この空間を有効利
用することができる。
According to such a semiconductor device 111 and the mounting method thereof, the semiconductor devices 111 can be stacked and mounted. Then, the area occupied by the semiconductor device 111 is reduced, and the mounting efficiency is increased. Further, when there is a space in the space above the mounting board 121, this space can be effectively used.

【0057】なお、本発明は、要旨を逸脱しない範囲で
種々に変形することが可能である。例えば、本実施例に
おいては、内部電極116及び外部電極117がパッケ
−ジ112に埋め込まれているが、電極材料をパッケ−
ジ112に被覆しても、内部電極116と外部電極11
7とを得ることができる。また、本実施例では、内部電
極116及び外部電極117がメタライズされている
が、本発明はこれに限定されるものではなく、リ−ド端
子を適宜フォ−ミングして、各電極116、117とし
て利用してもよい。
The present invention can be variously modified without departing from the scope of the invention. For example, in this embodiment, the internal electrode 116 and the external electrode 117 are embedded in the package 112, but the electrode material is packaged.
The inner electrode 116 and the outer electrode 11 can be covered even if they are covered with the di-112.
7 and can be obtained. Further, in this embodiment, the internal electrodes 116 and the external electrodes 117 are metallized, but the present invention is not limited to this, and the electrodes 116, 117 are formed by properly forming the lead terminals. You may use as.

【0058】また、本実施例では、パッケ−ジ112の
材質にセラミックが採用されているが、例えば、パッケ
−ジ112の材質に樹脂を用いても同様な効果を得るこ
とができる。
In this embodiment, ceramic is used as the material of the package 112, but the same effect can be obtained by using resin for the material of the package 112, for example.

【0059】また、本実施例では、内部電極116及び
外部電極117が放射状に配置されており、これらがパ
ッケ−ジ112の四方向に配設されているが、本発明は
これに限定されず、例えば各電極116、117を二方
向に配設してもよい。
Further, in the present embodiment, the internal electrodes 116 and the external electrodes 117 are radially arranged, and these are arranged in four directions of the package 112, but the present invention is not limited to this. For example, the electrodes 116 and 117 may be arranged in two directions.

【0060】さらに、本実施例では、外部電極117が
パッケ−ジ112の側面に露出しているが、外部電極1
17の両端のみをパッケ−ジ112から露出させてもよ
い。また、図14〜図18に示すように、半導体装置1
11を三段以上に積層することも可能である。
Further, in the present embodiment, the external electrode 117 is exposed on the side surface of the package 112, but the external electrode 1
Only both ends of 17 may be exposed from the package 112. In addition, as shown in FIGS.
It is also possible to stack 11 in three or more layers.

【0061】例えば、三段積層の場合は、二段目以上の
半導体装置111b、111cにおいて、内部電極11
6b、116cが一つおきに半導体素子113にワイヤ
ボンディングされており、接続済の内部電極116b
1 、116c1 と非接続の内部電極116b2 、116
2 とが交互に並んでいる。さらに、各半導体装置11
1b、111cの向きは交互に180度ずつずらされて
いる。
For example, in the case of stacking three layers, the internal electrodes 11 are included in the semiconductor devices 111b and 111c in the second and higher layers.
Every other 6b and 116c are wire-bonded to the semiconductor element 113, and the connected internal electrodes 116b.
1 and 116c 1 and internal electrodes 116b 2 and 116 not connected to
The c 2 and the c 2 are alternately arranged. Furthermore, each semiconductor device 11
The directions of 1b and 111c are alternately shifted by 180 degrees.

【0062】接続済の内部電極116b1 、116c1
は、共にその下の段の外部電極117a、117bに接
続されており、最下段の半導体装置111aの外部電極
117aを経由して実装基板121に接続される。一
方、中段の半導体装置111bの内部電極116b2
は、最上段の半導体装置111cの内部電極116c1
と最下段の半導体装置111aの外部電極117aの導
通を妨げないよう、開放している。最下段の半導体装置
111aの向きは任意である。
Connected internal electrodes 116b 1 and 116c 1
Are both connected to the external electrodes 117a and 117b in the lower stage, and are connected to the mounting substrate 121 via the external electrodes 117a in the semiconductor device 111a in the lowest stage. On the other hand, the internal electrode 116b 2 of the middle semiconductor device 111b
Is the internal electrode 116c 1 of the uppermost semiconductor device 111c.
In addition, the external electrode 117a of the semiconductor device 111a at the bottom is opened so as not to hinder the conduction. The orientation of the lowermost semiconductor device 111a is arbitrary.

【0063】このように、半導体装置と内部電極との接
続を一つずつ交互に行うことにより、三段積層が可能に
なる。また、半導体装置と内部電極との接続を二つお
き、三つおき、…と変更することによって、四段以上の
積層も可能になる。
By alternately connecting the semiconductor device and the internal electrodes one by one in this manner, a three-stage stacking becomes possible. Further, by changing the connection between the semiconductor device and the internal electrode to two, three, and so on, it is possible to stack four or more layers.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上説明したように請求項1の発明は、
半導体素子と、この半導体素子を封止したパッケ−ジ
と、半導体素子に電気的に接続されるとともにパッケ−
ジから突出した複数本のリ−ド端子と、リ−ド端子と併
設され一端が半導体素子に電気的に接続されるとともに
他端がパッケ−ジから突出したピン端子とを具備した。
As described above, the invention of claim 1 is
A semiconductor element, a package encapsulating the semiconductor element, and a package electrically connected to the semiconductor element.
A plurality of lead terminals protruding from the package, and a pin terminal juxtaposed with the lead terminal, one end of which is electrically connected to the semiconductor element and the other end of which protrudes from the package.

【0065】したがって、請求項1の発明は、パッケ−
ジの大型化及び端子の狭ピッチ化を伴うことなく半導体
装置を多端子化できるという効果がある。また、請求項
5の発明は、複数の電極を有する半導体素子と、この半
導体素子が装着されるとともに電極に接続される信号伝
達部を有する放熱フレ−ムと、半導体素子を封止する封
止部とを具備した。
Therefore, the invention of claim 1 is a package.
There is an effect that the number of terminals of the semiconductor device can be increased without enlarging the size and narrowing the pitch of terminals. According to a fifth aspect of the present invention, a semiconductor element having a plurality of electrodes, a heat radiation frame having a signal transmission portion mounted with the semiconductor element and connected to the electrodes, and a sealing element for sealing the semiconductor element. And a section.

【0066】したがって、請求項5の発明は、放熱性及
び剛性を損なうことなく半導体装置を薄形化できるとい
う効果がある。また、請求項8の発明は、複数の電極を
有する半導体素子と、この半導体素子が装着されるとと
もに電極に接続される信号伝達部を有し且つ複数の貫通
孔が設けられた放熱フレ−ムと、半導体素子を封止する
封止部とを具備し、信号伝達部が貫通孔に内嵌された筒
状の端子を有する半導体装置の実装方法において、端子
に実装ピンを差込んで放熱フレ−ムに実装ピンを貫通さ
せるとともに実装ピンを実装基板に到達させて半導体素
子を実装基板に装着する。
Therefore, the invention of claim 5 has an effect that the semiconductor device can be made thin without impairing the heat dissipation and the rigidity. Further, the invention according to claim 8 is a heat dissipation frame having a semiconductor element having a plurality of electrodes, a signal transmitting portion to which the semiconductor element is mounted and connected to the electrodes, and a plurality of through holes being provided. In a method of mounting a semiconductor device having a tubular terminal in which a signal transmitting portion is internally fitted in a through hole, a semiconductor device is mounted, and a sealing portion for sealing a semiconductor element is provided. -Mount the semiconductor device on the mounting board by penetrating the mounting pin into the mounting board and making the mounting pin reach the mounting board.

【0067】したがって、請求項8の発明は、半導体装
置を容易に積層できるという効果がある。また、請求項
9の発明は、半導体素子と、この半導体素子を封止した
パッケ−ジと、一端が半導体素子に電気的に接続される
とともに他端がパッケ−ジの下の主面から露出した複数
の内部電極と、パッケ−ジに設けられるとともに少なく
とも両端がパッケ−ジの上下の主面から露出し半導体装
置と電気的に絶縁された積層用の外部電極とを具備し
た。
Therefore, the invention of claim 8 has an effect that semiconductor devices can be easily laminated. According to a ninth aspect of the invention, a semiconductor element, a package encapsulating the semiconductor element, one end electrically connected to the semiconductor element, and the other end exposed from the main surface under the package. And a plurality of external electrodes provided on the package and at least both ends of which are exposed from the upper and lower main surfaces of the package and electrically insulated from the semiconductor device.

【0068】さらに、請求項11の発明は、半導体素子
と、この半導体素子を封止したパッケ−ジと、一端が半
導体素子に電気的に接続されるとともに他端がパッケ−
ジの下の主面から露出した内部配線と、パッケ−ジに設
けられるとともに少なくとも両端がパッケ−ジの上下の
主面から露出し半導体装置と電気的に分離された積層用
の外部配線とを具備した半導体装置の実装方法におい
て、半導体装置を複数段に積層し、最下段の半導体装置
の内部電極及び外部電極を実装基板の対応する配線パタ
−ンに接続するとともに、の半導体装置の内部電極を順
次下段の半導体装置の外部電極に接続して最下段の半導
体装置の外部電極へ導く。したがって、請求項9及び請
求項11の発明は、半導体装置を容易に積層できるとい
う効果がある。
Further, according to the invention of claim 11, a semiconductor element, a package encapsulating the semiconductor element, one end electrically connected to the semiconductor element and the other end packaged.
Internal wiring exposed from the main surface under the package and external wiring for lamination, which is provided on the package and at least both ends of which are exposed from the upper and lower main surfaces of the package and is electrically separated from the semiconductor device. In the method of mounting a semiconductor device, the semiconductor device is laminated in a plurality of stages, and the internal electrodes and external electrodes of the semiconductor device at the bottom are connected to the corresponding wiring patterns of the mounting substrate, and the internal electrodes of the semiconductor device are also connected. Are sequentially connected to the external electrodes of the lower semiconductor device and guided to the external electrodes of the lowermost semiconductor device. Therefore, the inventions of claims 9 and 11 have an effect that the semiconductor devices can be easily stacked.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例の半導体装置の断面図。FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】半導体素子とピン端子との接続を示す拡大図。FIG. 2 is an enlarged view showing a connection between a semiconductor element and a pin terminal.

【図3】変形例を示す断面図。FIG. 3 is a sectional view showing a modified example.

【図4】他の変形例を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing another modification.

【図5】本発明の第2実施例の半導体装置とその実装方
法を示す断面図。
FIG. 5 is a sectional view showing a semiconductor device and a mounting method thereof according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2実施例の半導体装置を示す斜視
図。
FIG. 6 is a perspective view showing a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2実施例の半導体装置の二段積層例
を示す側面図。
FIG. 7 is a side view showing an example of a two-layer stack of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図8】下段の半導体装置を示す平面図。FIG. 8 is a plan view showing a lower semiconductor device.

【図9】本発明の第2実施例の半導体装置の三段積層例
を示す側面図。
FIG. 9 is a side view showing a three-level stacked example of the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention.

【図10】最下段の半導体装置を示す平面図。FIG. 10 is a plan view showing the lowermost semiconductor device.

【図11】本発明の第3実施例の半導体装置を示す断面
図。
FIG. 11 is a sectional view showing a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第3実施例の半導体装置の二段積層
例を示す断面図。
FIG. 12 is a sectional view showing an example of a two-layer stack of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図13】二段積層の場合の接続状態を示す説明図。FIG. 13 is an explanatory diagram showing a connection state in the case of a two-layer stack.

【図14】本発明の第3実施例の半導体装置の三段積層
例を示す断面図。
FIG. 14 is a sectional view showing an example of a three-step stacking of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図15】三段積層の場合の接続状態を示す説明図。FIG. 15 is an explanatory diagram showing a connection state in the case of a three-layer stack.

【図16】最上段の半導体装置における半導体素子と内
部電極との接続を示す説明図。
FIG. 16 is an explanatory diagram showing a connection between a semiconductor element and an internal electrode in the uppermost semiconductor device.

【図17】三段積層の場合の接続状態を示す説明図。FIG. 17 is an explanatory diagram showing a connection state in the case of a three-layer stack.

【図18】中段の半導体装置における半導体素子と内部
電極との接続を示す説明図。
FIG. 18 is an explanatory view showing the connection between the semiconductor element and the internal electrode in the semiconductor device in the middle stage.

【図19】一般のLCCを示す斜視図。FIG. 19 is a perspective view showing a general LCC.

【図20】一般のLCCを示す断面図。FIG. 20 is a sectional view showing a general LCC.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…半導体装置、12…パッケ−ジ、13、14…半
導体素子、20…リ−ド端子、22……ピン端子支持
体、23…ピン端子、24…配線、31…半導体素子、
32…半導体素子、33…半導体素子支持体、17…素
子形成面(表面)、18…素子形成面(裏面)、51…
半導体素子、52…放熱フレ−ム、55…半導体素子、
61…封止樹脂(封止部)、62…貫通孔、63…端
子、65…信号伝達部、71…実装ピン、73…実装基
板、111…半導体素子、112…パッケ−ジ、116
…内部電極、117…外部電極、119…パッケ−ジの
下面(下の主面)、120…パッケ−ジの上面(上の主
面)、121…実装基板、122…配線パタ−ン。
11 ... Semiconductor device, 12 ... Package, 13, 14 ... Semiconductor element, 20 ... Lead terminal, 22 ... Pin terminal support, 23 ... Pin terminal, 24 ... Wiring, 31 ... Semiconductor element,
32 ... Semiconductor element, 33 ... Semiconductor element support, 17 ... Element formation surface (front surface), 18 ... Element formation surface (back surface), 51 ...
Semiconductor element, 52 ... Heat dissipation frame, 55 ... Semiconductor element,
61 ... Sealing resin (sealing part), 62 ... Through hole, 63 ... Terminal, 65 ... Signal transmitting part, 71 ... Mounting pin, 73 ... Mounting board, 111 ... Semiconductor element, 112 ... Package, 116
... internal electrode, 117 ... external electrode, 119 ... package lower surface (lower main surface), 120 ... package upper surface (upper main surface), 121 ... mounting substrate, 122 ... wiring pattern.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 25/065 25/07 25/18 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 25/065 25/07 25/18

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子と、この半導体素子を封止し
たパッケ−ジと、上記半導体素子に電気的に接続される
とともに上記パッケ−ジから突出した複数本のリ−ド端
子と、上記リ−ド端子と併設され一端が上記半導体素子
に電気的に接続されるとともに他端が上記パッケ−ジか
ら突出したピン端子とを具備した半導体装置。
1. A semiconductor element, a package encapsulating the semiconductor element, a plurality of lead terminals electrically connected to the semiconductor element and protruding from the package, and the lead. -A semiconductor device having a pin terminal and one end electrically connected to the semiconductor element and the other end protruding from the package.
【請求項2】 同一のパッケ−ジ内に半導体素子が複数
備えられ、各半導体素子がリ−ド端子もしくはピン端子
に選択的に接続されていることを特徴とする上記請求項
1記載の半導体装置。
2. The semiconductor according to claim 1, wherein a plurality of semiconductor elements are provided in the same package, and each semiconductor element is selectively connected to a lead terminal or a pin terminal. apparatus.
【請求項3】 半導体素子の表面と裏面とを露出させて
上記半導体素子を保持する半導体素子支持体を備え、リ
−ド端子とピン端子とのうちの一方が上記半導体素子の
表面に電気的に接続され、他方が上記半導体素子の裏面
に電気的に接続されていることを特徴とする上記請求項
1記載の半導体装置。
3. A semiconductor element support for holding the semiconductor element by exposing a front surface and a back surface of the semiconductor element, wherein one of a lead terminal and a pin terminal is electrically connected to the surface of the semiconductor element. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is electrically connected to the other side, and the other side is electrically connected to the back surface of the semiconductor element.
【請求項4】 ピン端子を支持するピン端子支持体が備
えられ、上記ピン端子支持体に、上記ピン端子に電気的
に接続される配線が形成されていることを特徴とする上
記請求項1記載の半導体装置。
4. The pin terminal supporting body for supporting the pin terminal is provided, and the wiring electrically connected to the pin terminal is formed on the pin terminal supporting body. The semiconductor device described.
【請求項5】 複数の電極を有する半導体素子と、この
半導体素子が装着されるとともに上記電極に接続される
信号伝達部を有する放熱フレ−ムと、上記半導体素子を
封止する封止部とを具備した半導体装置。
5. A semiconductor element having a plurality of electrodes, a heat radiation frame having a signal transmitting portion mounted on the semiconductor element and connected to the electrodes, and a sealing portion for sealing the semiconductor element. A semiconductor device comprising:
【請求項6】 放熱フレ−ムに実装用の実装ピンを挿入
するための複数の貫通孔が設けられていることを特徴と
する上記請求項5記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 5, wherein the heat dissipation frame is provided with a plurality of through holes for inserting mounting pins for mounting.
【請求項7】 信号伝達部は、貫通孔に内嵌され且つ実
装ピンが差込まれる筒状の端子を有し、上記端子に実装
ピンが差込まれることを特徴とする上記請求項6記載の
半導体装置。
7. The signal transmitting section has a cylindrical terminal which is fitted in the through hole and into which the mounting pin is inserted, and the mounting pin is inserted into the terminal. Semiconductor device.
【請求項8】 複数の電極を有する半導体素子と、この
半導体素子が装着されるとともに上記電極に接続される
信号伝達部を有し且つ複数の貫通孔が設けられた放熱フ
レ−ムと、上記半導体素子を封止する封止部とを具備
し、上記信号伝達部が上記貫通孔に内嵌された筒状の端
子を有する半導体装置の実装方法において、上記端子に
実装ピンを差込んで上記放熱フレ−ムに上記実装ピンを
貫通させるとともに上記実装ピンを実装基板に到達させ
て上記半導体素子を実装基板に装着することを特徴とす
る半導体装置の実装方法。
8. A semiconductor element having a plurality of electrodes, a heat radiation frame having a plurality of through holes, which has a signal transmitting portion connected to the electrodes and mounted with the semiconductor element, A method for mounting a semiconductor device, comprising: a sealing part for sealing a semiconductor element, wherein the signal transmission part has a cylindrical terminal fitted in the through hole. A method of mounting a semiconductor device, comprising: mounting the semiconductor element on a mounting board by penetrating the mounting pin through a heat radiation frame and by making the mounting pin reach a mounting board.
【請求項9】 半導体素子と、この半導体素子を封止し
たパッケ−ジと、一端が上記半導体素子に電気的に接続
されるとともに他端が上記パッケ−ジの下の主面から露
出した複数の内部電極と、上記パッケ−ジに設けられる
とともに少なくとも両端が上記パッケ−ジの上下の主面
から露出し上記半導体装置と電気的に絶縁された積層用
の外部電極とを具備した半導体装置。
9. A semiconductor element, a package encapsulating the semiconductor element, and a plurality of one ends of which are electrically connected to the semiconductor element and the other ends of which are exposed from a main surface under the package. A semiconductor device comprising: the internal electrode; and an external electrode for lamination, which is provided on the package and at least both ends of which are exposed from the upper and lower main surfaces of the package and electrically insulated from the semiconductor device.
【請求項10】 内部電極が半導体素子に選択的に接続
されていることを特徴とする上記請求項9記載の半導体
装置。
10. The semiconductor device according to claim 9, wherein the internal electrode is selectively connected to the semiconductor element.
【請求項11】 半導体素子と、この半導体素子を封止
したパッケ−ジと、一端が上記半導体素子に電気的に接
続されるとともに他端が上記パッケ−ジの下の主面から
露出した内部配線と、上記パッケ−ジに設けられるとと
もに少なくとも両端が上記パッケ−ジの上下の主面から
露出し上記半導体装置と電気的に分離された積層用の外
部配線とを具備した半導体装置の実装方法において、上
記半導体装置を複数段に積層し、最下段の半導体装置の
上記内部電極及び上記外部電極を実装基板の対応する配
線パタ−ンに接続するとともに、上段の半導体装置の内
部電極を順次下段の半導体装置の外部電極に接続して上
記最下段の半導体装置の外部電極へ導くことを特徴とす
る半導体装置の実装方法。
11. A semiconductor element, a package encapsulating the semiconductor element, and an interior in which one end is electrically connected to the semiconductor element and the other end is exposed from a main surface under the package. Mounting method of semiconductor device including wiring and external wiring for lamination, which is provided in the package and at least both ends of which are exposed from upper and lower main surfaces of the package and electrically separated from the semiconductor device In the above, the semiconductor devices are stacked in a plurality of layers, the inner electrodes and the outer electrodes of the lowermost semiconductor device are connected to the corresponding wiring patterns of the mounting substrate, and the inner electrodes of the upper semiconductor device are sequentially arranged in the lower layer. The method for mounting a semiconductor device, wherein the semiconductor device is connected to an external electrode of the semiconductor device and led to the external electrode of the lowermost semiconductor device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2020100849A1 (en) * 2018-11-12 2020-05-22 株式会社村田製作所 Mountable electronic component and electronic circuit module

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WO2020100849A1 (en) * 2018-11-12 2020-05-22 株式会社村田製作所 Mountable electronic component and electronic circuit module
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