JPH0786384A - 試料台、該試料台のモニタリングシステム及び半導体製造装置 - Google Patents
試料台、該試料台のモニタリングシステム及び半導体製造装置Info
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- JPH0786384A JPH0786384A JP23176993A JP23176993A JPH0786384A JP H0786384 A JPH0786384 A JP H0786384A JP 23176993 A JP23176993 A JP 23176993A JP 23176993 A JP23176993 A JP 23176993A JP H0786384 A JPH0786384 A JP H0786384A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 半導体製造装置に装備される静電チャック方
式の試料台３において、試料台３に埋設された試料吸着
用の電極３ａに印加電圧測定用端子４が接続されている
試料台。 【効果】 ケ−ブル７ａ、印加電圧導入端子８に異常が
ある場合も含めて試料吸着用の電極３ａに所定の電圧が
印加されているかどうかをモニタリングすることができ
る。
式の試料台３において、試料台３に埋設された試料吸着
用の電極３ａに印加電圧測定用端子４が接続されている
試料台。 【効果】 ケ−ブル７ａ、印加電圧導入端子８に異常が
ある場合も含めて試料吸着用の電極３ａに所定の電圧が
印加されているかどうかをモニタリングすることができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は試料台、該試料台のモニ
タリングシステム及び半導体製造装置に関し、より詳細
には静電チャック方式の試料台、該試料台に載置された
試料の吸着状況をモニタするモニタリングシステム及び
前記試料台に載置された試料にプラズマ処理を施すため
の半導体製造装置に関する。
タリングシステム及び半導体製造装置に関し、より詳細
には静電チャック方式の試料台、該試料台に載置された
試料の吸着状況をモニタするモニタリングシステム及び
前記試料台に載置された試料にプラズマ処理を施すため
の半導体製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開昭６２−５４６３７号公報で試料台
に載置された試料の着脱状態検出機能を備えた静電チャ
ック装置に関する発明が開示されている。該発明は、印
加電圧電源の出力側端子において該印加電圧電源から静
電チャック電極（＝試料吸着用の電極）に印加される電
圧あるいは前記電極に流れる電流をモニタすることで前
記試料台に載置された試料の着脱状態を検出しようとす
るものである。
に載置された試料の着脱状態検出機能を備えた静電チャ
ック装置に関する発明が開示されている。該発明は、印
加電圧電源の出力側端子において該印加電圧電源から静
電チャック電極（＝試料吸着用の電極）に印加される電
圧あるいは前記電極に流れる電流をモニタすることで前
記試料台に載置された試料の着脱状態を検出しようとす
るものである。
【０００３】図４は前記発明に係る静電チャック装置を
用いたプラズマ処理装置を示した概略構成図である。図
４において、４３は電極を示しており、電極４３には高
周波電源５０および開閉器４９を介して直流高圧電源４
８が接続されている。４２は電極４３の表面に被着され
た誘電体薄膜を示しており、４５は誘電体薄膜４２を介
して電極４３に吸着された被処理物（試料）を示してい
る。なお、４７は被処理物４５を保持するための保持台
を示し、４６は保持台４７を上昇させて被処理物４５を
電極４３に吸着させるための昇降機構を示している。
用いたプラズマ処理装置を示した概略構成図である。図
４において、４３は電極を示しており、電極４３には高
周波電源５０および開閉器４９を介して直流高圧電源４
８が接続されている。４２は電極４３の表面に被着され
た誘電体薄膜を示しており、４５は誘電体薄膜４２を介
して電極４３に吸着された被処理物（試料）を示してい
る。なお、４７は被処理物４５を保持するための保持台
を示し、４６は保持台４７を上昇させて被処理物４５を
電極４３に吸着させるための昇降機構を示している。
【０００４】図５は直流高圧電源回路４８を概略的に示
した回路構成図である。直流高圧電源回路４８は商用電
力５５を電源とし、該商用電力５５を高圧トランス５６
で昇圧した後、ダイオ−ドブリッジ５７で整流したもの
を端子６２から電極４３に供給している。その場合、直
流高圧電源回路４８の出力電圧は電圧計５８で検出さ
れ、出力電流は電流計５９で検出されるようになってい
る。なお、６０は電圧計５８の検出電圧と基準電圧とを
比較する比較回路を示し、６１は電流計５９の検出電流
と基準電流とを比較する比較回路を示している。
した回路構成図である。直流高圧電源回路４８は商用電
力５５を電源とし、該商用電力５５を高圧トランス５６
で昇圧した後、ダイオ−ドブリッジ５７で整流したもの
を端子６２から電極４３に供給している。その場合、直
流高圧電源回路４８の出力電圧は電圧計５８で検出さ
れ、出力電流は電流計５９で検出されるようになってい
る。なお、６０は電圧計５８の検出電圧と基準電圧とを
比較する比較回路を示し、６１は電流計５９の検出電流
と基準電流とを比較する比較回路を示している。
【０００５】上記のように構成されたプラズマ処理装置
において、被処理物４５の着脱状態は、電圧計５８の検
出電圧と基準電圧とを比較回路６０で比較し、電流計５
９の検出電流と基準電流とを比較回路６１で比較するこ
とで判断される。直流高圧電源回路４８の出力電圧およ
び出力電流は、被処理物４５の着脱状態に応じて以下の
ように変化する。
において、被処理物４５の着脱状態は、電圧計５８の検
出電圧と基準電圧とを比較回路６０で比較し、電流計５
９の検出電流と基準電流とを比較回路６１で比較するこ
とで判断される。直流高圧電源回路４８の出力電圧およ
び出力電流は、被処理物４５の着脱状態に応じて以下の
ように変化する。
【０００６】被処理物４５が電極４３に吸着されていな
い場合は、被処理物４５が電極４３に吸着されている場
合に比べて、電圧計５８の検出電圧は低くなり、電流計
５９の検出電流は大きくなる。特に、電極４３に吸着さ
れている被処理物４５が何らかの理由で電極４３に吸着
されなくなって落下すると、直流高圧電源回路４８の出
力電圧および出力電流が急激に変化する。これらの場
合、比較回路６０および比較回路６１から警報装置（図
示せず）に異常信号が出力され、警報が発せられる。
い場合は、被処理物４５が電極４３に吸着されている場
合に比べて、電圧計５８の検出電圧は低くなり、電流計
５９の検出電流は大きくなる。特に、電極４３に吸着さ
れている被処理物４５が何らかの理由で電極４３に吸着
されなくなって落下すると、直流高圧電源回路４８の出
力電圧および出力電流が急激に変化する。これらの場
合、比較回路６０および比較回路６１から警報装置（図
示せず）に異常信号が出力され、警報が発せられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記発明にお
ける静電チャック装置では、直流高圧電源（＝印加電圧
電源）４８と電極４３とを接続するケ−ブルで漏電して
いたり、あるいは前記ケ−ブルと電極４３とを接続する
端子に接続不良があったりしてもこれらの故障を検出す
ることができない。前記故障がある場合、電極４３に被
処理物（＝試料）４５を吸着するのに必要な所定の電圧
は印加されない。したがって、漏電していたり、あるい
は前記端子に接続不良がある場合、前記静電チャック装
置では、電極４３に所定の電圧が印加されないまま試料
４５にプラズマ処理が施されてしまう可能性がある。そ
うすると、試料４５を破損したり、また、誘電体薄膜４
２と電極４３とからなる試料台自体がエッチングされた
りスパッタされたり、あるいは前記試料台に薄膜が形成
されたりしてしまう。
ける静電チャック装置では、直流高圧電源（＝印加電圧
電源）４８と電極４３とを接続するケ−ブルで漏電して
いたり、あるいは前記ケ−ブルと電極４３とを接続する
端子に接続不良があったりしてもこれらの故障を検出す
ることができない。前記故障がある場合、電極４３に被
処理物（＝試料）４５を吸着するのに必要な所定の電圧
は印加されない。したがって、漏電していたり、あるい
は前記端子に接続不良がある場合、前記静電チャック装
置では、電極４３に所定の電圧が印加されないまま試料
４５にプラズマ処理が施されてしまう可能性がある。そ
うすると、試料４５を破損したり、また、誘電体薄膜４
２と電極４３とからなる試料台自体がエッチングされた
りスパッタされたり、あるいは前記試料台に薄膜が形成
されたりしてしまう。
【０００８】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、印加電圧電源と試料吸着用の電極とを接続するケ−
ブル、および該ケ−ブルと前記電極とを接続する端子に
異常がある場合も含めて前記電極に所定の電圧が印加さ
れているかどうかをモニタリングすることができる試料
台、該試料台のモニタリングシステムおよび半導体製造
装置を提供することを目的としている。
り、印加電圧電源と試料吸着用の電極とを接続するケ−
ブル、および該ケ−ブルと前記電極とを接続する端子に
異常がある場合も含めて前記電極に所定の電圧が印加さ
れているかどうかをモニタリングすることができる試料
台、該試料台のモニタリングシステムおよび半導体製造
装置を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係る試料台は、半導体製造装置に装備される
静電チャック方式の試料台において、該試料台に埋設さ
れた試料吸着用の電極に印加電圧測定用端子が接続され
ていることを特徴としている。
に本発明に係る試料台は、半導体製造装置に装備される
静電チャック方式の試料台において、該試料台に埋設さ
れた試料吸着用の電極に印加電圧測定用端子が接続され
ていることを特徴としている。
【００１０】また、本発明に係る試料台のモニタリング
システム（１）は、上記記載の印加電圧測定用端子の一
端が電圧測定手段に接続されると共に印加電圧電源の一
端が電圧測定手段に接続され、これら電圧測定手段にお
ける各値を比較することにより上記記載の試料台におけ
る試料の吸着状況をモニタリングすることを特徴として
いる。
システム（１）は、上記記載の印加電圧測定用端子の一
端が電圧測定手段に接続されると共に印加電圧電源の一
端が電圧測定手段に接続され、これら電圧測定手段にお
ける各値を比較することにより上記記載の試料台におけ
る試料の吸着状況をモニタリングすることを特徴として
いる。
【００１１】また、本発明に係る試料台のモニタリング
システム（２）は、上記記載の印加電圧測定用端子の一
端が比較器の入力側に接続されると共に、前記試料吸着
用の印加電圧電源の一端が前記比較器の入力側に接続さ
れ、該比較器の出力側が警報装置に接続されていること
を特徴としている。
システム（２）は、上記記載の印加電圧測定用端子の一
端が比較器の入力側に接続されると共に、前記試料吸着
用の印加電圧電源の一端が前記比較器の入力側に接続さ
れ、該比較器の出力側が警報装置に接続されていること
を特徴としている。
【００１２】また、本発明に係る半導体製造装置は、試
料を載置する試料台を備え、前記試料にプラズマ処理を
施すための半導体製造装置において、上記記載の印加電
圧測定用端子の一端が比較器の入力側に接続されると共
に、前記試料吸着用の印加電圧電源の一端が前記比較器
の入力側に接続され、該比較器の出力側が半導体製造装
置の駆動機構に接続されていることを特徴としている。
料を載置する試料台を備え、前記試料にプラズマ処理を
施すための半導体製造装置において、上記記載の印加電
圧測定用端子の一端が比較器の入力側に接続されると共
に、前記試料吸着用の印加電圧電源の一端が前記比較器
の入力側に接続され、該比較器の出力側が半導体製造装
置の駆動機構に接続されていることを特徴としている。
【００１３】
【作用】上記構成に係る試料台においては、該試料台に
試料吸着用の電極が埋設され、該電極に印加電圧測定用
端子が接続されているので、該印加電圧測定用端子を介
して前記試料台に載置された試料を吸着するための所定
の電圧が前記電極に印加されているかどうかをモニタリ
ングすることが可能になる。
試料吸着用の電極が埋設され、該電極に印加電圧測定用
端子が接続されているので、該印加電圧測定用端子を介
して前記試料台に載置された試料を吸着するための所定
の電圧が前記電極に印加されているかどうかをモニタリ
ングすることが可能になる。
【００１４】上記構成の試料台のモニタリングシステム
（１）では、前記印加電圧測定用端子の一端が電圧測定
手段に接続されると共に印加電圧電源の一端が電圧測定
手段に接続され、これら電圧測定手段における各値を比
較することにより上記試料台における試料の吸着状況を
モニタリングするので、前記電圧測定手段における各値
を比較することで、前記試料台に載置された試料の吸着
状況が検出されると共に、前記印加電圧電源の異常、お
よび該印加電圧電源と前記電極とを接続するケ−ブル・
端子における断線・漏電等の異常がそれぞれ検出され
る。
（１）では、前記印加電圧測定用端子の一端が電圧測定
手段に接続されると共に印加電圧電源の一端が電圧測定
手段に接続され、これら電圧測定手段における各値を比
較することにより上記試料台における試料の吸着状況を
モニタリングするので、前記電圧測定手段における各値
を比較することで、前記試料台に載置された試料の吸着
状況が検出されると共に、前記印加電圧電源の異常、お
よび該印加電圧電源と前記電極とを接続するケ−ブル・
端子における断線・漏電等の異常がそれぞれ検出され
る。
【００１５】また、上記構成の試料台のモニタリングシ
ステム（２）では、上記記載の印加電圧測定用端子の一
端が比較器の入力側に接続されると共に、前記試料吸着
用の印加電圧電源の一端が前記比較器の入力側に接続さ
れ、該比較器の出力側が警報装置に接続されているの
で、前記比較器において前記印加電圧電源の異常、およ
び該印加電圧電源と前記電極とを接続するケ−ブル・端
子における断線・漏電等の異常が検出されると共に、前
記比較器から前記警報装置に警報信号が伝達され、前記
異常のレベルに応じた警報が発せられる。
ステム（２）では、上記記載の印加電圧測定用端子の一
端が比較器の入力側に接続されると共に、前記試料吸着
用の印加電圧電源の一端が前記比較器の入力側に接続さ
れ、該比較器の出力側が警報装置に接続されているの
で、前記比較器において前記印加電圧電源の異常、およ
び該印加電圧電源と前記電極とを接続するケ−ブル・端
子における断線・漏電等の異常が検出されると共に、前
記比較器から前記警報装置に警報信号が伝達され、前記
異常のレベルに応じた警報が発せられる。
【００１６】上記構成に係る半導体製造装置において
は、試料を載置する試料台を備え、前記試料にプラズマ
処理を施すための半導体製造装置において、上記記載の
印加電圧測定用端子の一端が比較器の入力側に接続され
ると共に、前記試料吸着用の印加電圧電源の一端が前記
比較器の入力側に接続され、該比較器の出力側が半導体
製造装置の駆動機構に接続されており、前記比較器にお
いて前記印加電圧電源の異常、および該印加電圧電源と
前記電極とを接続するケ−ブル・端子における断線・漏
電等の異常が検出されると共に、前記比較器から前記半
導体製造装置の駆動機構に対してフィ−ドバック信号が
伝達され、前記異常のレベルが高いときには前記半導体
製造装置の駆動が停止される。
は、試料を載置する試料台を備え、前記試料にプラズマ
処理を施すための半導体製造装置において、上記記載の
印加電圧測定用端子の一端が比較器の入力側に接続され
ると共に、前記試料吸着用の印加電圧電源の一端が前記
比較器の入力側に接続され、該比較器の出力側が半導体
製造装置の駆動機構に接続されており、前記比較器にお
いて前記印加電圧電源の異常、および該印加電圧電源と
前記電極とを接続するケ−ブル・端子における断線・漏
電等の異常が検出されると共に、前記比較器から前記半
導体製造装置の駆動機構に対してフィ−ドバック信号が
伝達され、前記異常のレベルが高いときには前記半導体
製造装置の駆動が停止される。
【００１７】
【実施例】以下、本発明に係る試料台、該試料台のモニ
タリングシステムおよび半導体製造装置の実施例を図面
に基づいて説明する。図１は実施例１に係る平行平板型
エッチング装置１００を示した概略図であり、平行平板
型エッチング装置１００は試料台３およびモニタリング
システム７０等を含んで構成されている。
タリングシステムおよび半導体製造装置の実施例を図面
に基づいて説明する。図１は実施例１に係る平行平板型
エッチング装置１００を示した概略図であり、平行平板
型エッチング装置１００は試料台３およびモニタリング
システム７０等を含んで構成されている。
【００１８】図中１は底面の中央部に円形の開口部１ｃ
が形成され、開口部１ｃに開口部１ｃを塞ぐように外径
６インチの試料台３が配設された断面視略長方形形状の
真空チャンバ−を示しており、真空チャンバ−１の両側
面には真空チャンバ−１内部のプラズマ室２に試料１１
を搬入・搬出するためのゲ−トバルブ１ｂが形成され、
底面にはプラズマ室２を所定の真空圧に保つための排気
口１ａが形成されている。試料台３は絶縁質のアルミナ
ベ−スセラミックスで形成されており、試料台３上には
試料１１が載置され、試料台３には試料１１吸着用のタ
ングステン電極３ａが埋設されている。タングステン電
極３ａは所定の異なる２点で印加電圧導入端子８および
印加電圧測定用端子４と接続されている。
が形成され、開口部１ｃに開口部１ｃを塞ぐように外径
６インチの試料台３が配設された断面視略長方形形状の
真空チャンバ−を示しており、真空チャンバ−１の両側
面には真空チャンバ−１内部のプラズマ室２に試料１１
を搬入・搬出するためのゲ−トバルブ１ｂが形成され、
底面にはプラズマ室２を所定の真空圧に保つための排気
口１ａが形成されている。試料台３は絶縁質のアルミナ
ベ−スセラミックスで形成されており、試料台３上には
試料１１が載置され、試料台３には試料１１吸着用のタ
ングステン電極３ａが埋設されている。タングステン電
極３ａは所定の異なる２点で印加電圧導入端子８および
印加電圧測定用端子４と接続されている。
【００１９】７は印加電圧電源を示しており、印加電圧
電源７は比較器６に接続されると共にケ−ブル７ａを介
して印加電圧導入端子８に接続されている。比較器６に
は印加電圧測定用端子４が接続されており、比較器６は
警報装置１０に接続されると共に、フィ−ドバック信号
線６ａを介して介して駆動機構９に接続され、駆動機構
９は印加電圧電源７および平行平板型エッチング装置１
００を構成するその他の各種装置に接続されている。
電源７は比較器６に接続されると共にケ−ブル７ａを介
して印加電圧導入端子８に接続されている。比較器６に
は印加電圧測定用端子４が接続されており、比較器６は
警報装置１０に接続されると共に、フィ−ドバック信号
線６ａを介して介して駆動機構９に接続され、駆動機構
９は印加電圧電源７および平行平板型エッチング装置１
００を構成するその他の各種装置に接続されている。
【００２０】上記の如く構成された平行平板型エッチン
グ装置１００におけるモニタリングシステム７０は以下
のように動作する。印加電圧電源７からは例えば５００
Ｖの印加電圧Ｖｉが比較器６に出力されると共に、ケ−
ブル７ａおよび印加電圧導入端子８を介して試料１１吸
着用の電極３ａに印加される。試料１１吸着用の電極３
ａに印加されている電圧は印加電圧測定用端子４を介し
て比較器６に入力される。そして、比較器６において最
初に、印加電圧電源７から直接出力されてくる電圧値が
正常値Ｖｉであるかどうかが判定される。前記電圧値が
正常値Ｖｉであれば、前記電圧値（＝正常値Ｖｉ）と印
加電圧測定用端子４を介して測定される試料１１吸着用
の電極３ａに印加されている電圧値Ｖｏとが比較され、
試料１１吸着用の電極３ａに所定の電圧が印加されてい
るかどうかが判定される。この判定により、印加電圧電
源７、ケ−ブル７ａおよび印加電圧導入端子８で構成さ
れる印加電圧供給系統に漏電あるいは断線等の異常が生
じていないかどうかを判定することができる。
グ装置１００におけるモニタリングシステム７０は以下
のように動作する。印加電圧電源７からは例えば５００
Ｖの印加電圧Ｖｉが比較器６に出力されると共に、ケ−
ブル７ａおよび印加電圧導入端子８を介して試料１１吸
着用の電極３ａに印加される。試料１１吸着用の電極３
ａに印加されている電圧は印加電圧測定用端子４を介し
て比較器６に入力される。そして、比較器６において最
初に、印加電圧電源７から直接出力されてくる電圧値が
正常値Ｖｉであるかどうかが判定される。前記電圧値が
正常値Ｖｉであれば、前記電圧値（＝正常値Ｖｉ）と印
加電圧測定用端子４を介して測定される試料１１吸着用
の電極３ａに印加されている電圧値Ｖｏとが比較され、
試料１１吸着用の電極３ａに所定の電圧が印加されてい
るかどうかが判定される。この判定により、印加電圧電
源７、ケ−ブル７ａおよび印加電圧導入端子８で構成さ
れる印加電圧供給系統に漏電あるいは断線等の異常が生
じていないかどうかを判定することができる。
【００２１】例えば、印加電圧電源７に異常がある場合
には、印加電圧電源７から比較器６に正常な電圧値Ｖｉ
が入力されなくなるので、異常を判定することができ
る。その場合、比較器６から警報装置１０に警報信号が
発せられると共に、駆動機構９にも印加電圧電源７の異
常を示す異常信号が発せられる。そして、警報装置１０
により印加電圧電源７の異常を示す警報が発せられ、駆
動機構９により印加電圧電源７がオフされると共に、平
行平板型エッチング装置１００が停止される。
には、印加電圧電源７から比較器６に正常な電圧値Ｖｉ
が入力されなくなるので、異常を判定することができ
る。その場合、比較器６から警報装置１０に警報信号が
発せられると共に、駆動機構９にも印加電圧電源７の異
常を示す異常信号が発せられる。そして、警報装置１０
により印加電圧電源７の異常を示す警報が発せられ、駆
動機構９により印加電圧電源７がオフされると共に、平
行平板型エッチング装置１００が停止される。
【００２２】一方、印加電圧電源７は正常でケ−ブル７
ａまたは印加電圧導入端子８に異常がある場合には、試
料１１吸着用の電極３ａには所定の電圧が印加されない
ので、前記電圧値Ｖｉと前記電圧値Ｖｏとを比較するこ
とで異常を判定することができる。
ａまたは印加電圧導入端子８に異常がある場合には、試
料１１吸着用の電極３ａには所定の電圧が印加されない
ので、前記電圧値Ｖｉと前記電圧値Ｖｏとを比較するこ
とで異常を判定することができる。
【００２３】その場合の判定は、以下のように行なわれ
る。電圧値Ｖｉと電圧値Ｖｏとの電圧差をΔＶとする
と、試料台３の試料１１に対する吸着力の許容範囲から
（印加電圧Ｖｉと吸着力との関係を概略的に示したグラ
フである図３を参照）ΔＶが５０Ｖを超えると異常と判
定される。すなわち、ΔＶ＜５０Ｖであれば、正常と判
定され、５０Ｖ≦ΔＶ＜０．５×Ｖｉであれば、漏電し
ていると判定され、ΔＶ≦０．５×Ｖｉであれば、断線
していると判定される。
る。電圧値Ｖｉと電圧値Ｖｏとの電圧差をΔＶとする
と、試料台３の試料１１に対する吸着力の許容範囲から
（印加電圧Ｖｉと吸着力との関係を概略的に示したグラ
フである図３を参照）ΔＶが５０Ｖを超えると異常と判
定される。すなわち、ΔＶ＜５０Ｖであれば、正常と判
定され、５０Ｖ≦ΔＶ＜０．５×Ｖｉであれば、漏電し
ていると判定され、ΔＶ≦０．５×Ｖｉであれば、断線
していると判定される。
【００２４】漏電していると判定された場合には、比較
器６から警報装置１０に対して前記印加電圧供給系統に
漏電が生じていることを示す信号が伝達され、漏電警報
が発せられる。この場合、平行平板型エッチング装置１
００を停止させるかどうかは操作側の判断に委ねられ
る。一方、断線していると判定された場合には、同様に
比較器６から警報装置１０に対して前記印加電圧供給系
統が断線していることを示す信号が伝達されて断線警報
が発せられると共に、フィ−ドバック信号線６ａを介し
て駆動機構９にフィ−ドバック信号が伝達される。そし
て、該フィ−ドバック信号を受信した駆動機構９により
印加電圧電源７がオフされると共に、プラズマ室２にプ
ラズマを発生させるための高周波電源（図示せず）、プ
ラズマ室２を所定の真空圧に保つための排気装置（図示
せず）等の各種装置がオフされ、平行平板型エッチング
装置１００が自動的に停止される。
器６から警報装置１０に対して前記印加電圧供給系統に
漏電が生じていることを示す信号が伝達され、漏電警報
が発せられる。この場合、平行平板型エッチング装置１
００を停止させるかどうかは操作側の判断に委ねられ
る。一方、断線していると判定された場合には、同様に
比較器６から警報装置１０に対して前記印加電圧供給系
統が断線していることを示す信号が伝達されて断線警報
が発せられると共に、フィ−ドバック信号線６ａを介し
て駆動機構９にフィ−ドバック信号が伝達される。そし
て、該フィ−ドバック信号を受信した駆動機構９により
印加電圧電源７がオフされると共に、プラズマ室２にプ
ラズマを発生させるための高周波電源（図示せず）、プ
ラズマ室２を所定の真空圧に保つための排気装置（図示
せず）等の各種装置がオフされ、平行平板型エッチング
装置１００が自動的に停止される。
【００２５】次に、図２に基づいて実施例２に係る平行
平板型エッチング装置２００を説明する。平行平板型エ
ッチング装置２００が図１で示した平行平板型エッチン
グ装置１００と異なるところは、実施例１におけるモニ
タリングシステム７０が実施例２ではモニタリングシス
テム８０となっている点であり、その他の点は同一であ
る。モニタリングシステム７０は比較器６、警報装置１
０および駆動機構９を含んで構成されていたが、モニタ
リングシステム８０は試料１１吸着用の電極３ａに印加
されている電圧を測定するための電圧計２４および印加
電圧電源７の出力電圧を測定するための電圧計２７を含
んで構成されている。
平板型エッチング装置２００を説明する。平行平板型エ
ッチング装置２００が図１で示した平行平板型エッチン
グ装置１００と異なるところは、実施例１におけるモニ
タリングシステム７０が実施例２ではモニタリングシス
テム８０となっている点であり、その他の点は同一であ
る。モニタリングシステム７０は比較器６、警報装置１
０および駆動機構９を含んで構成されていたが、モニタ
リングシステム８０は試料１１吸着用の電極３ａに印加
されている電圧を測定するための電圧計２４および印加
電圧電源７の出力電圧を測定するための電圧計２７を含
んで構成されている。
【００２６】平行平板型エッチング装置２００の場合、
電圧計２７の測定値を読み取ることで印加電圧電源７の
正常・異常を判定することができ、また、電圧計２４お
よび電圧計２７で測定される電圧値を比較することで、
試料１１吸着用の電極３ａに所定の電圧が印加されてい
るかどうか、すなわち前記印加電圧供給系統の正常・異
常を判定することができる。その場合、正常・異常の判
定は操作側によって行なわれ、判定結果に応じてフェイ
ルセ−フ処理が実行されることになる。
電圧計２７の測定値を読み取ることで印加電圧電源７の
正常・異常を判定することができ、また、電圧計２４お
よび電圧計２７で測定される電圧値を比較することで、
試料１１吸着用の電極３ａに所定の電圧が印加されてい
るかどうか、すなわち前記印加電圧供給系統の正常・異
常を判定することができる。その場合、正常・異常の判
定は操作側によって行なわれ、判定結果に応じてフェイ
ルセ−フ処理が実行されることになる。
【００２７】以上説明したように実施例１に係る試料台
３、モニタリングシステム７０および半導体製造装置で
ある平行平板型エッチング装置１００を用いれば、印加
電圧電源７、ケ−ブル７ａおよび印加電圧導入端子８で
構成される印加電圧供給系統に漏電・断線等の異常があ
る場合も含めて試料１１吸着用の電極３ａに所定の電圧
が印加されているかどうかを自動的に判定することがで
きる。加えて、前記異常がある場合には、漏電警報およ
び断線警報を発することができる。また、前記印加電圧
供給系統が断線した場合には、断線警報を発すると共
に、平行平板型エッチング装置１００を自動的に停止さ
せることができる。以上から分かるように、平行平板型
エッチング装置１００を用いれば、試料１１の吸着トラ
ブルにより歩留りが悪化したり、装置が故障したりする
ことを防止することができる。
３、モニタリングシステム７０および半導体製造装置で
ある平行平板型エッチング装置１００を用いれば、印加
電圧電源７、ケ−ブル７ａおよび印加電圧導入端子８で
構成される印加電圧供給系統に漏電・断線等の異常があ
る場合も含めて試料１１吸着用の電極３ａに所定の電圧
が印加されているかどうかを自動的に判定することがで
きる。加えて、前記異常がある場合には、漏電警報およ
び断線警報を発することができる。また、前記印加電圧
供給系統が断線した場合には、断線警報を発すると共
に、平行平板型エッチング装置１００を自動的に停止さ
せることができる。以上から分かるように、平行平板型
エッチング装置１００を用いれば、試料１１の吸着トラ
ブルにより歩留りが悪化したり、装置が故障したりする
ことを防止することができる。
【００２８】また、実施例２に係る試料台３、モニタリ
ングシステム８０および半導体製造装置である平行平板
型エッチング装置２００においても、電圧計２４および
電圧計２７における測定値をモニタリングすることによ
り前記印加電圧供給系統の正常・異常を判定することが
でき、試料１１の吸着トラブルにより歩留りが悪化した
り、装置が故障したりすることを防止することができ
る。
ングシステム８０および半導体製造装置である平行平板
型エッチング装置２００においても、電圧計２４および
電圧計２７における測定値をモニタリングすることによ
り前記印加電圧供給系統の正常・異常を判定することが
でき、試料１１の吸着トラブルにより歩留りが悪化した
り、装置が故障したりすることを防止することができ
る。
【００２９】
【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る試料台
は、半導体製造装置に装備される静電チャック方式の試
料台において、該試料台に埋設された試料吸着用の電極
に印加電圧測定用端子が接続されているので、該印加電
圧測定用端子を介して前記電極に印加されている電圧を
測定することができる。
は、半導体製造装置に装備される静電チャック方式の試
料台において、該試料台に埋設された試料吸着用の電極
に印加電圧測定用端子が接続されているので、該印加電
圧測定用端子を介して前記電極に印加されている電圧を
測定することができる。
【００３０】本発明に係る試料台のモニタリングシステ
ムは、上記記載の印加電圧測定用端子の一端が電圧測定
手段に接続されると共に印加電圧電源の一端が電圧測定
手段に接続され、これら電圧測定手段における各値を比
較することにより上記記載の試料台における試料の吸着
状況をモニタリングするシステムであるので、前記電圧
測定手段における各値を比較することで、前記試料台に
載置された試料の吸着状況を検出することができると共
に、前記印加電圧電源の故障、および該印加電圧電源と
前記電極とを接続するケ−ブル・端子における漏電・断
線等の異常を検出することができる。
ムは、上記記載の印加電圧測定用端子の一端が電圧測定
手段に接続されると共に印加電圧電源の一端が電圧測定
手段に接続され、これら電圧測定手段における各値を比
較することにより上記記載の試料台における試料の吸着
状況をモニタリングするシステムであるので、前記電圧
測定手段における各値を比較することで、前記試料台に
載置された試料の吸着状況を検出することができると共
に、前記印加電圧電源の故障、および該印加電圧電源と
前記電極とを接続するケ−ブル・端子における漏電・断
線等の異常を検出することができる。
【００３１】また、本発明に係る試料台のモニタリング
システムは、試料を載置する試料台を備え、前記試料に
プラズマ処理を施すための半導体製造装置において、上
記記載の印加電圧測定用端子の一端が比較器の入力側に
接続されると共に、前記試料吸着用の印加電圧電源の一
端が前記比較器の入力側に接続され、該比較器の出力側
が警報装置に接続されているので、前記印加電圧電源や
上記記載のケ−ブル・端子に異常がある場合には、前記
比較器から前記警報装置に対して警報信号を伝達して漏
電警報・断線警報等の警報を発することができる。
システムは、試料を載置する試料台を備え、前記試料に
プラズマ処理を施すための半導体製造装置において、上
記記載の印加電圧測定用端子の一端が比較器の入力側に
接続されると共に、前記試料吸着用の印加電圧電源の一
端が前記比較器の入力側に接続され、該比較器の出力側
が警報装置に接続されているので、前記印加電圧電源や
上記記載のケ−ブル・端子に異常がある場合には、前記
比較器から前記警報装置に対して警報信号を伝達して漏
電警報・断線警報等の警報を発することができる。
【００３２】本発明に係る半導体製造装置は、試料を載
置する試料台を備え、前記試料にプラズマ処理を施すた
めの半導体製造装置において、上記記載の印加電圧測定
用端子の一端が比較器の入力側に接続されると共に、前
記試料吸着用の印加電圧電源の一端が前記比較器の入力
側に接続され、該比較器の出力側が半導体製造装置の駆
動機構に接続されているので、前記印加電圧電源や上記
記載のケ−ブル・端子に断線異常がある場合には、前記
比較器から前記駆動機構に対してフィ−ドバック信号が
伝達され、前記半導体製造装置を自動的に停止させるこ
とができる。
置する試料台を備え、前記試料にプラズマ処理を施すた
めの半導体製造装置において、上記記載の印加電圧測定
用端子の一端が比較器の入力側に接続されると共に、前
記試料吸着用の印加電圧電源の一端が前記比較器の入力
側に接続され、該比較器の出力側が半導体製造装置の駆
動機構に接続されているので、前記印加電圧電源や上記
記載のケ−ブル・端子に断線異常がある場合には、前記
比較器から前記駆動機構に対してフィ−ドバック信号が
伝達され、前記半導体製造装置を自動的に停止させるこ
とができる。
【００３３】以上から分かるように本発明に係る試料
台、該試料台のモニタリングシステムおよび半導体製造
装置を用いれば、試料の吸着トラブルにより歩留りが悪
化したり、装置が故障したりすることを防止することが
できる。
台、該試料台のモニタリングシステムおよび半導体製造
装置を用いれば、試料の吸着トラブルにより歩留りが悪
化したり、装置が故障したりすることを防止することが
できる。
【図１】本発明の実施例１に係る試料台、該試料台のモ
ニタリングシステムおよび半導体製造装置である平行平
板型エッチング装置を示した概略図である。
ニタリングシステムおよび半導体製造装置である平行平
板型エッチング装置を示した概略図である。
【図２】本発明の実施例２に係る試料台、該試料台のモ
ニタリングシステムおよび半導体製造装置である平行平
板型エッチング装置を示した概略図である。
ニタリングシステムおよび半導体製造装置である平行平
板型エッチング装置を示した概略図である。
【図３】電極に印加される印加電圧と電極の試料吸着量
との関係を概略的に示したグラフである。
との関係を概略的に示したグラフである。
【図４】従来の試料台および該試料台のモニタリングシ
ステムを備えたプラズマ処理装置を概略的に示した構成
図である。
ステムを備えたプラズマ処理装置を概略的に示した構成
図である。
【図５】直流高圧電源を概略的に示した回路構成図であ
る。
る。
２ プラズマ室 ３ 試料台 ３ａ 試料吸着用の電極 ４ 印加電圧測定用端子 ６ 比較器 ７ 印加電圧電源 ９ 駆動機構 １０ 警報装置 １１ 試料 ２４、２７ 電圧計 ７０、８０ モニタリングシステム １００、２００ 平行平板型エッチング装置
Claims (4)
- 【請求項１】 半導体製造装置に装備される静電チャッ
ク方式の試料台において、該試料台に埋設された試料吸
着用の電極に印加電圧測定用端子が接続されていること
を特徴とする試料台。 - 【請求項２】 請求項１記載の印加電圧測定用端子の一
端が電圧測定手段に接続されると共に印加電圧電源の一
端が電圧測定手段に接続され、これら電圧測定手段にお
ける各値を比較することにより請求項１記載の試料台に
おける試料の吸着状況をモニタリングすることを特徴と
する試料台のモニタリングシステム。 - 【請求項３】 請求項１記載の印加電圧測定用端子の一
端が比較器の入力側に接続されると共に、前記試料吸着
用の印加電圧電源の一端が前記比較器の入力側に接続さ
れ、該比較器の出力側が警報装置に接続されていること
を特徴とする試料台のモニタリングシステム。 - 【請求項４】 試料を載置する試料台を備え、前記試料
にプラズマ処理を施すための半導体製造装置において、
請求項１記載の印加電圧測定用端子の一端が比較器の入
力側に接続されると共に、前記試料吸着用の印加電圧電
源の一端が前記比較器の入力側に接続され、該比較器の
出力側が半導体製造装置の駆動機構に接続されているこ
とを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23176993A JPH0786384A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 試料台、該試料台のモニタリングシステム及び半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23176993A JPH0786384A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 試料台、該試料台のモニタリングシステム及び半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0786384A true JPH0786384A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=16928746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23176993A Pending JPH0786384A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 試料台、該試料台のモニタリングシステム及び半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0786384A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105810608A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-07-27 | 刘友富 | 一种测试治具 |
| KR20160118347A (ko) * | 2014-02-07 | 2016-10-11 | 트렉 인코포레이티드 | 워크피스를 클램핑하는 시스템 및 방법 |
-
1993
- 1993-09-17 JP JP23176993A patent/JPH0786384A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160118347A (ko) * | 2014-02-07 | 2016-10-11 | 트렉 인코포레이티드 | 워크피스를 클램핑하는 시스템 및 방법 |
| JP2017512378A (ja) * | 2014-02-07 | 2017-05-18 | トレック インコーポレイテッド | ワークピースをクランプするためのシステムおよび方法 関連出願の相互参照 本願は、２０１４年２月７日に出願された米国仮特許出願番号第６１／９３７０５０号の優先権を主張するものである。仮特許出願の内容は、この参照によってここに援用される。 |
| US11282732B2 (en) | 2014-02-07 | 2022-03-22 | Trek, Inc. | System and method for clamping a work piece |
| CN105810608A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-07-27 | 刘友富 | 一种测试治具 |
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