JPH0785356B2 - Memory device - Google Patents

Memory device

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JPH0785356B2
JPH0785356B2 JP61093454A JP9345486A JPH0785356B2 JP H0785356 B2 JPH0785356 B2 JP H0785356B2 JP 61093454 A JP61093454 A JP 61093454A JP 9345486 A JP9345486 A JP 9345486A JP H0785356 B2 JPH0785356 B2 JP H0785356B2
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gate
memory device
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switching transistor
capacitor
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孟史 松下
光生 曽根田
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は情報信号を電荷として蓄積するための容量及び
該容量とビット線との間に接続されワード線の選択信号
に応じて動作するスイッチング素子とを有する所謂DRAM
(ダイナミックRAM)などのメモリ装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a capacitor for accumulating an information signal as a charge and a switching which is connected between the capacitor and a bit line and operates according to a selection signal of a word line. So-called DRAM having an element
The present invention relates to a memory device such as (dynamic RAM).

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本発明は、情報信号を電荷として蓄積するための容量及
び該容量とビット線との間に接続されワード線の選択信
号に応じて動作するスイッチング素子とを有するメモリ
装置において、上記スイッチング素子のゲートを少なく
とも2以上のゲート部からなるように構成することによ
り、該スイッチング素子における電界集中を緩和しリー
ク電流を減少させるものである。
The present invention relates to a memory device having a capacitance for accumulating an information signal as electric charge and a switching element connected between the capacitance and a bit line and operating according to a selection signal of a word line. Is composed of at least two gate portions, the electric field concentration in the switching element is relaxed and the leak current is reduced.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、情報信号をメモリセル内の容量に電荷の形で記
憶保持するDRAM等のメモリ装置の研究・開発が進められ
ており、まず、従来の1トランジスタ・1セル型のDRAM
の一例について、第3図を参照しながら説明する。
In general, research and development of a memory device such as a DRAM that stores and holds an information signal in the capacity of a memory cell in the form of electric charge is under way. First, the conventional 1-transistor / 1-cell type DRAM
An example will be described with reference to FIG.

第3図はメモリ装置の一部のメモリセルの等価回路であ
って、各メモリセルのスイッチングトランジスタTrのゲ
ートはそれぞれ選択信号が印加されるワード線WLN-2,WL
N-1,WLN,WLN+1,等に接続され、また、各メモリセルのス
イッチングトランジスタTrのドレイン・ソースの一方
は、情報信号を電荷の形で蓄積保持する容量CMにそれぞ
れ接続され、その他方は、書き込みや読み出しの為に用
いられるビット線BLM-2,BLM-1,BLM,BLM+1,等にそれぞれ
接続されている。
FIG. 3 is an equivalent circuit of a part of the memory cells of the memory device. The gates of the switching transistors T r of the memory cells are word lines WL N-2 , WL to which selection signals are applied.
N-1 , WL N , WL N + 1 , etc., and one of the drain and the source of the switching transistor T r of each memory cell is connected to a capacitor C M that stores and holds an information signal in the form of electric charge. The other ones are connected to the bit lines BL M-2 , BL M-1 , BL M , BL M + 1 , etc. used for writing and reading, respectively.

ここで、例えばあるワード線WLNが選択された場合に
は、当該ワード線WLNのみの電位が“1"(ハイレベル)
とされ他のワード線WLN-2,WLN-1,WLN+1,等は電位が“0"
(ローレベル)とされ、ワード線WLNにゲートが接続す
るスイッチングトランジスタTr(N,M)はオン状態にな
る。そしてこれに接続する容量CM(N,M)に情報信号“1"
が蓄積されている場合には、当該容量CM(N,M)に蓄積さ
れる電荷が選択されたスイッチングトランジスタT
r(N,M)を介して接続するとビット線BLMに出力され、所
定のセンスアンプ等を用いた読みだしやリフレッシュ等
が行われる。
Here, for example, when a certain word line WL N is selected, the potential of only that word line WL N is “1” (high level).
And the other word lines WL N-2 , WL N-1 , WL N + 1 , etc. have a potential of "0".
(Low level), the switching transistor Tr (N, M) whose gate is connected to the word line WL N is turned on. Then, the information signal “1” is input to the capacitor C M (N, M) connected to this.
Is stored, the charge stored in the capacitor C M (N, M) is selected in the switching transistor T
When connected via r (N, M) , the data is output to the bit line BL M , and reading or refreshing using a predetermined sense amplifier or the like is performed.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

以上のような動作をするメモリ装置では、蓄積する電荷
量を大きくすることで、保持時間を長くすることがで
き、消費電力の低減やセンスアンプへの負担の低減を図
ることができる。
In the memory device that operates as described above, the holding time can be lengthened by increasing the amount of accumulated charge, and power consumption and load on the sense amplifier can be reduced.

しかし、蓄積する電荷量を大きくするために容量CMを大
きくすることはセルの占有面積の増大を招き、高集積化
を図ることができない。
However, if the capacitance C M is increased to increase the amount of accumulated charges, the occupied area of the cell is increased, and high integration cannot be achieved.

一方、電荷量を大きくするためには、例えば情報信号
“1"すなわち電荷を蓄積するための電圧VHを大きくする
方法もある。しかしながら、書き込み電圧VHを大きくし
た場合には、情報信号の書き換え時にドレイン空乏層で
生ずるホットキャリアのための信頼性の低下につなが
る。
On the other hand, in order to increase the charge amount, for example, there is also a method of increasing the information signal “1”, that is, the voltage V H for accumulating charges. However, when the write voltage V H is increased, reliability due to hot carriers generated in the drain depletion layer at the time of rewriting the information signal is reduced.

また、一般にスイッチングトランジスタTrのゲート・ソ
ース間電圧VGSとソース・ドレイン間電流ISD(対数値)
の関係は、第4図のような関係になっている。従って、
第4図に示すように、逆方向のVHが大きくなるほど、指
数関数的にソース・ドレイン間電流ISDは大きくなる
が、このことは電荷を蓄積する時の電圧VHを大きくした
場合には、指数関数的にリーク電流ISDが大きくなるこ
とを示し、従って、単に書き込み電圧VHを大きくしても
保持時間の長時間化等を実現することができず、問題の
解決とはならない。
In general the switching transistor T gate-source voltage of r V GS and the source-drain current I SD (logarithmic value)
The relationship is as shown in FIG. Therefore,
As shown in FIG. 4, the source-drain current I SD increases exponentially as V H in the reverse direction increases. This means that when the voltage V H when accumulating charges is increased, Indicates that the leak current I SD increases exponentially. Therefore, even if the write voltage V H is simply increased, the retention time cannot be extended and the problem cannot be solved. .

そこで、本発明は上述の問題点に鑑み、ソース・ドレイ
ン間のリーク電流の低減を図り、保持時間の長時間化を
実現し、さらにホットキャリアによる信頼性の低下も防
止するメモリ装置の提供を目的とする。
In view of the above problems, the present invention provides a memory device that reduces the leak current between the source and the drain, realizes a longer holding time, and further prevents the deterioration of reliability due to hot carriers. To aim.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、情報信号を電荷として蓄積するための容量
と、該容量とビット線との間に接続されたワード線の選
択信号に応じて動作するスイッチング素子とを備え、該
スイッチング素子のゲートが当該スイッチング素子にお
ける電界集中を緩和させるための少なくとも2つ以上の
ゲート部からなり、上記2つ以上のゲート部のゲート制
御入力として同一の上記ワード線の選択信号が供給され
ていることを特徴とするメモリ装置により上述の問題点
を解決する。
The present invention includes a capacitor for storing an information signal as an electric charge and a switching element which operates in response to a selection signal of a word line connected between the capacitor and a bit line, and a gate of the switching element is provided. It is characterized in that it comprises at least two or more gate sections for relaxing electric field concentration in the switching element, and the same selection signal of the word line is supplied as a gate control input of the two or more gate sections. The above-mentioned problems are solved by the memory device.

〔作用〕[Action]

本発明のメモリ装置は、当該メモリ装置を構成するスイ
ッチング素子のゲートが当該スイッチング素子における
電界集中を緩和させるための少なくとも2つ以上のゲー
ト部からなり、各ゲート部のゲート制御入力としての同
一のワード線の選択信号が供給されており、該選択信号
によってある容量が選択されると、選択された容量に対
応するスイッチング素子の各ゲート部がオン状態となっ
て、選択された容量に書き込みあるいは読み出しが行な
われる。このため、全体としてゲートに加わる電圧がそ
のままであっても、各ゲート部に加わる電圧は分配さ
れ、このためリーク電流を有効に防止することができ
る。
In the memory device of the present invention, the gates of the switching elements forming the memory device are composed of at least two gate portions for relaxing electric field concentration in the switching elements, and each gate portion has the same gate control input as a gate control input. When a selection signal for the word line is supplied and a certain capacitance is selected by the selection signal, each gate portion of the switching element corresponding to the selected capacitance is turned on to write or write to the selected capacitance. Reading is performed. Therefore, even if the voltage applied to the gate remains unchanged as a whole, the voltage applied to each gate portion is distributed, so that the leak current can be effectively prevented.

また、換言するば、少なくとも2つ以上のゲート部によ
りゲートを構成することにより、書き込み電圧VHを高め
ることができ、容量に蓄積される電荷量の増大を通じ
て、保持時間の長時間化やセンス・アンプの負担の低減
を図ることができ、さらには、電荷量の増大からセルの
占有面積の縮小化は図ることができ、高集積化を容易に
実現することができる。
In other words, the write voltage V H can be increased by forming the gate with at least two gate portions, and the holding time can be extended and the sense can be increased by increasing the amount of charge accumulated in the capacitor. The load on the amplifier can be reduced, and the area occupied by the cells can be reduced due to the increase in the amount of charge, and high integration can be easily realized.

また、このとき、各ゲート部に加わる電圧は分配され
て、当該各ゲート部におけるゲート・ソース間電圧VGS
を小さくすることができるが、このようにゲート・ソー
ス間電圧VGSを小さくした場合には、第4図に示すよう
に、指数関数的にリーク電流IDSが減少することにな
り、該リーク電流は大幅に小さな値になる。
At this time, the voltage applied to each gate section is distributed, and the gate-source voltage V GS at each gate section is distributed.
However, when the gate-source voltage V GS is reduced in this way, the leakage current I DS decreases exponentially as shown in FIG. The current will be significantly smaller.

また、各ゲート部に加わる電圧を分配して小さくするこ
とができ、このため、空乏層に加わる電界集中を緩和す
ることが可能になり、従って、ホットキャリアの発生を
防止することができる。
In addition, the voltage applied to each gate portion can be distributed and reduced, so that the electric field concentration applied to the depletion layer can be mitigated, and therefore the generation of hot carriers can be prevented.

〔実施例〕〔Example〕

本発明のメモリ装置の好適な実施例を図面を参照しなが
ら説明する。
A preferred embodiment of a memory device of the present invention will be described with reference to the drawings.

本実施例のメモリ装置は、第1図に示すような情報信号
を電荷として蓄積するための容量CMと、該容量CMとビッ
ト線BLとの間に接続されたワード線WLの選択信号に応じ
て動作するスイッチング素子として2つのゲート部G1,G
2を有するスイッチングトランジスタTrを1つのメモリ
セルに備えている。
Memory device of this embodiment, the capacitor C M for storing information signals as shown in FIG. 1 as a charge, a selection signal of the word line WL connected between the capacitive C M and the bit lines BL Two gate sections G 1 and G as switching elements that operate according to
A switching transistor T r having 2 is provided in one memory cell.

上記容量CMは情報信号を電荷の形で蓄積するためのもの
であり、対向する電極の一方は、接地され、他方はスイ
ッチングトランジスタTrのソース電極・ドレイン電極の
一方に接続する。上記ワード線WLは、配列されている各
メモリセル毎に1つのワード線WLに該当し、ワード線WL
に選択信号が印加された場合には、当該ワード線WLに接
続されたゲートを有するスイッチングトランジスタTr
オン状態になる。ビット線BLは上記スイッチングトラン
ジスタTrのソース・ドレイン電極の他方と接続し、上記
容量CMの情報信号の読み出しや書き込みに用いられるも
のであって、上記スイッチングトランジスタTrがオン状
態となったときは、上記容量CMと導通する。そして、当
該ビット線BLにはセンシングのためのセンスアンプ等が
接続している。
The capacitance C M is for accumulating an information signal in the form of electric charges, one of the opposing electrodes is grounded, and the other is connected to one of the source electrode / drain electrode of the switching transistor T r . The word line WL corresponds to one word line WL for each of the arranged memory cells.
When the selection signal is applied to the switching transistor Tr having the gate connected to the word line WL, the switching transistor Tr is turned on. Bit line BL is connected to the other of the source and drain electrodes of the switching transistor T r, which is used in reading and writing information signal of the capacitance C M, the switching transistor T r is turned on At this time, it conducts with the capacitance C M. A sense amplifier or the like for sensing is connected to the bit line BL.

そして、このようなワード線WLの選択信号によりオン状
態となるスイッチングトランジスタTrは、それぞれ上記
ワード線WLに接続する2つのゲート部G1,G2を有してい
る。このゲート部G1,G2は等価的に2つのトランジスタ
のそれぞれゲートとなる。そして、例えば情報信号“1"
の書き込みを行う場合に、例えばビット線BLの電位を電
位VHとし、上記容量CMと当該スイッチングトランジスタ
Trとの接続点の電位を電位VLとしたときは、当該スイッ
チングトランジスタTrには、|VH-VL|の電圧が加わる
が、当該スイッチングトランジスタTrは、上述のように
2つのゲート部G1,G2を有しており、このため各ゲート
部G1,G2の各電圧はM1,M2にそれぞれ分割され、それぞれ
単一のゲートによる場合に比べて加わる電圧を小さくす
ることができる。
The switching transistor Tr that is turned on by such a selection signal of the word line WL has two gate portions G 1 and G 2 respectively connected to the word line WL. The gate portions G 1 and G 2 are equivalently the gates of the two transistors, respectively. Then, for example, the information signal "1"
When writing is performed, for example, the potential of the bit line BL is set to the potential V H , and the capacitance C M and the switching transistor
When the potential of the connection point of the T r to the potential V L is the the switching transistor T r, | V H -V L | but voltage is applied, the switching transistor T r is 2 as described above One of has a gate portion G 1, G 2, Thus the voltages of the gate portion G 1, G 2 are each divided into M 1, M 2, voltage applied, respectively compared with the case of the single gate Can be made smaller.

このため、書き込み電圧VHを大きくした場合にあって
も、リーク等の弊害なく、ホットキャリアの問題も有効
に防止できる。従って、容量CMに蓄積される電荷量の増
大を通じて、保持時間の長時間化やセンス・アンプの負
担の低減を図ることができ、さらには、セルの占有面積
の縮小化を図ることができ、ひいては高集積化を容易に
実現することができる。
Therefore, even when the write voltage V H is increased, the problem of hot carriers can be effectively prevented without any adverse effect such as leakage. Therefore, by increasing the amount of charge stored in the capacitor C M , the holding time can be extended and the load on the sense amplifier can be reduced, and further, the area occupied by the cell can be reduced. As a result, high integration can be easily realized.

更に、このとき、各ゲート部に加わる電圧は、電圧M1、M
2にそれぞれ分割され、リーク電流の値は、第4図に示
す如く指数関数的に大幅に減少する。したがって、確実
に保持時間を長くすることができ、センスアンプ等の負
担を軽減することが容易に実現できる。
Further, at this time, the voltage applied to each gate portion is the voltage M 1 , M
2 to be divided, respectively, the value of the leakage current exponentially decreases considerably as shown in Figure 4. Therefore, the holding time can be surely lengthened, and the load on the sense amplifier or the like can be easily reduced.

ここで、上記スイッチングトランジスタTrは、例えば、
SOI(シリコン・オン・インシュレーター)技術を用い
て形成されるDRAMのメモリセルのスイッチングトランジ
スタとして用いられ、特にSOI構造で顕著なリーク電流
の低減を図ることができる。
Here, the switching transistor Tr is, for example,
It is used as a switching transistor for memory cells in DRAMs formed using SOI (silicon-on-insulator) technology, and can significantly reduce leak current, especially in the SOI structure.

次に、第2図は、本発明のメモリ装置の他の実施例のメ
モリセルの等価回路であって、いわゆる折り返しビット
線形のメモリ装置の例である。
Next, FIG. 2 is an equivalent circuit of a memory cell of another embodiment of the memory device of the present invention, which is an example of a so-called folded bit linear memory device.

第3図に示したものと同様に、選択信号が印加されるワ
ード線WLN-2,WLN-1,WLN,WLN+1,と、書き込みや読み出し
の為に用いられるビット線BLM-2,BLM-1,BLM,BLM+1,等と
が各メモリセルに対して1つずつ配されており、各メモ
リセルは、上述の実施例の2つのゲート部G1,G2を有す
るスイッチングトランジスタTrと容量CMとでそれぞれ構
成されている。
Similar to that shown in FIG. 3, word lines WL N-2 , WL N-1 , WL N , WL N + 1 , to which selection signals are applied, and bit lines BL used for writing and reading. M-2 , BL M-1 , BL M , BL M + 1 , etc. are arranged one for each memory cell, and each memory cell has two gate portions G 1 of the above-described embodiment. , G 2 and a switching transistor T r and a capacitance C M , respectively.

上記スイッチングトランジスタTrの2つのゲート部G1,G
2はそれぞれ同じワード線に接続されており、例えがワ
ード線WLN,に接続するスイッチングトランジスタT
r1(N,M)は、上述のように各ゲート部G1,G2に加わる電圧
は、電圧M1,M2にそれぞれ分割され、したがって、リー
ク電流の値は、指数関数的に大幅に減少し、保持時間を
長くすることや、センスアンプ等の負担の軽減や、ホッ
トキャリアの発生の防止等を容易に実現することができ
る。また、このような回路構成はSOI構造によるもので
あっても良い。
The two gate parts G 1 , G of the switching transistor T r
2 are connected to the same word line, for example, switching transistor T connected to word line WL N ,
In r1 (N, M) , the voltage applied to each of the gate sections G 1 and G 2 is divided into the voltages M 1 and M 2 , respectively, as described above, and therefore the value of the leakage current is exponentially large. It is possible to easily realize reduction of the holding time, increase of the holding time, reduction of load on the sense amplifier, prevention of generation of hot carriers, and the like. Moreover, such a circuit configuration may be based on an SOI structure.

次に、本発明の更に他の実施例としては、上述のゲート
部の数を3つ以上のものとすることができる。このよう
にした場合には、一層リーク電流の低減やホットキャリ
アの発生を防止して、保持時間の長時間化やチップ面積
の縮小化を図ることが可能となる。
Next, as still another embodiment of the present invention, the number of gate portions described above may be three or more. In such a case, it becomes possible to further reduce the leak current and prevent the generation of hot carriers, and thus to prolong the holding time and the chip area.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

上述の説明からも明らかな通り、スイッチング素子のゲ
ートが当該スイッチング素子における電界集中を緩和さ
せるための少なくとも2つ以上のゲート部からなり、各
ゲート部のゲート制御入力として同一のワード線の選択
信号が供給されているため、書き込み電圧VHを高めるこ
とができ、容量に蓄積される電荷量の増大を通じて、保
持時間の長時間化やセンス・アンプの負担の低減を図る
ことができ、また、電荷量の増大からセルの占有面積の
縮小化を図ることができ、高集積化を容易に実現するこ
とができる。
As is clear from the above description, the gate of the switching element is made up of at least two gate portions for alleviating the electric field concentration in the switching element, and the selection signal of the same word line is used as the gate control input of each gate portion. Is supplied, the write voltage V H can be increased, and the holding time can be extended and the load on the sense amplifier can be reduced by increasing the amount of charge accumulated in the capacitor. Since the amount of charge is increased, the area occupied by the cells can be reduced, and high integration can be easily realized.

また、このような構造からリーク電流を小さくすること
ができ、しかも、そのリーク電流を、指数関数的に減少
させることができ、特にSOI構造に適用して成果を上げ
ることができる。
Further, the leak current can be reduced from such a structure, and further, the leak current can be exponentially reduced, and the present invention can be particularly applied to the SOI structure to achieve a good result.

また、空乏層に加わる電界集中を緩和することが可能に
なり、従って、ホットキャリアの発生を有効に防止する
ことができる。
Further, it becomes possible to reduce the concentration of the electric field applied to the depletion layer, so that the generation of hot carriers can be effectively prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明のメモリ装置の構造の一例を示す回路
図、第2図は折り返しビット線形のメモリ装置に本発明
のメモリ装置を適用した例を示す回路図、第3図は従来
のメモリ装置の一例を示す回路図、第4図はスイッチン
グトランジスタの特性を示す特性図である。 G1,G2……ゲート部 Tr……スイッチングトランジスタ CM……容量 WL……ワード線 BL……ビット線
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of the structure of a memory device of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of applying the memory device of the present invention to a folded bit linear memory device, and FIG. 3 is a conventional memory. FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the device, and FIG. 4 is a characteristic diagram showing characteristics of the switching transistor. G 1 , G 2 …… Gate section T r …… Switching transistor C M …… Capacity WL …… Word line BL …… Bit line

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】情報信号を電荷として蓄積するための容量
と、 該容量とビット線との間に接続されワード線の選択信号
に応じて動作するスイッチング素子とを備え、 該スイッチング素子のゲートが当該スイッチング素子に
おける電界集中を緩和させるための少なくとも2つ以上
のゲート部からなり、 上記2つ以上のゲート部のゲート制御入力として同一の
上記ワード線の選択信号が供給されていることを特徴と
するメモリ装置。
1. A capacitor for storing an information signal as a charge, and a switching element connected between the capacitor and a bit line and operating according to a selection signal of a word line, the gate of the switching element being The switching element is composed of at least two or more gate sections for relaxing electric field concentration, and the same word line selection signal is supplied as a gate control input of the two or more gate sections. Memory device.
JP61093454A 1986-04-24 1986-04-24 Memory device Expired - Lifetime JPH0785356B2 (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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