JPH0784266A - Production of liquid crystal display element - Google Patents
Production of liquid crystal display elementInfo
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- JPH0784266A JPH0784266A JP22874093A JP22874093A JPH0784266A JP H0784266 A JPH0784266 A JP H0784266A JP 22874093 A JP22874093 A JP 22874093A JP 22874093 A JP22874093 A JP 22874093A JP H0784266 A JPH0784266 A JP H0784266A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ディスプレイ等に使用
される液晶表示素子の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element used for a display or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から液晶表示素子は、小型のフラッ
トパネルディスプレイ、電卓、時計等に広く使用されて
いる。また、最近では、自動車用ディスプレイ、パーソ
ナルコンピューター用ディスプレイとしても使用され、
さらに、小型液晶テレビのように動画用ディスプレイに
も応用され始めている。2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal display devices have been widely used in small flat panel displays, calculators, watches and the like. Recently, it has also been used as a display for automobiles and a display for personal computers.
Furthermore, it has begun to be applied to motion picture displays such as small LCD TVs.
【0003】このような液晶表示素子を構成する液晶セ
ルとしては、ツイストネマティック型液晶セル(以下、
TN型液晶セルと省略する)が知られている。このTN
型液晶セルは、2枚の透明基板の表面にそれぞれ透明電
極と液晶分子を配向させるための配向処理が施された液
晶配向膜とを順次積層形成し、2枚の透明基板を互いに
90°ねじって配置して一定の基板間隔を保つように2
枚の透明基板間にスペーサーを挟み、その透明基板間の
空間にネマティック液晶材料を注入し、透明基板のまわ
りをシール材で固定してなるものである。ここで液晶配
向膜に施された配向処理は、液晶分子を透明基板に対し
て平行に配列(ホモジニアス配列)させるためのもので
あり、液晶分子の配向を制御するうえで重要である。現
在この配向処理には、ポリイミド,ポリビニルアルコー
ル等からなる高分子膜を透明電極上に形成した後、その
表面をベルベット等の布を取り付けたローラーを用いて
擦ることにより表面に配向能を付与するラビング法が最
も頻繁に使用されている。As a liquid crystal cell constituting such a liquid crystal display element, a twisted nematic liquid crystal cell (hereinafter,
(Abbreviated as TN type liquid crystal cell) is known. This TN
In the liquid crystal cell of the type, a transparent electrode and a liquid crystal alignment film that has been subjected to an alignment treatment for aligning liquid crystal molecules are sequentially laminated on the surfaces of two transparent substrates, and the two transparent substrates are twisted at 90 ° to each other. And arrange them so that a constant substrate spacing is maintained 2
A spacer is sandwiched between a plurality of transparent substrates, a nematic liquid crystal material is injected into the space between the transparent substrates, and the periphery of the transparent substrates is fixed with a sealing material. The alignment treatment performed on the liquid crystal alignment film is for aligning the liquid crystal molecules in parallel with the transparent substrate (homogeneous alignment), and is important for controlling the alignment of the liquid crystal molecules. Currently, for this alignment treatment, a polymer film made of polyimide, polyvinyl alcohol, etc. is formed on a transparent electrode, and then the surface is rubbed with a roller equipped with a cloth such as velvet to give the surface alignment ability. The rubbing method is most often used.
【0004】しかしながら、TN型液晶セルにおいてラ
ビング法を適用する場合、以下のような問題点があり、
配向処理において不良率が高くなる。まず第1に、布を
直接接触させて擦るため、糸屑等が基板及びその周辺に
付着して汚染される。第2に、高分子が誘電体であるた
めに、布で高分子を摩擦することにより液晶配向膜上に
大量の静電気が発生し、ごみを吸着してその表面上にギ
ャップが形成され、これにより表面の均一性が低下す
る。さらに、アクティブマトリクス型の液晶表示素子で
は静電気によりTFT(薄膜トランジスタ)が破壊され
てしまう。第3に、布で擦することにより表面に傷が発
生し、これが画像欠陥となり液晶表示素子の表示品質を
低下させる。However, when the rubbing method is applied to the TN type liquid crystal cell, there are the following problems.
The defective rate becomes high in the orientation process. First of all, since the cloth is brought into direct contact and rubbed, thread waste or the like adheres to and contaminates the substrate and its periphery. Secondly, since the polymer is a dielectric, a large amount of static electricity is generated on the liquid crystal alignment film by rubbing the polymer with a cloth, adsorbing dust and forming a gap on the surface of the liquid crystal alignment film. This reduces the uniformity of the surface. Further, in the active matrix type liquid crystal display element, the TFT (thin film transistor) is destroyed by static electricity. Thirdly, the surface is scratched by rubbing with a cloth, which causes an image defect and deteriorates the display quality of the liquid crystal display element.
【0005】従って、ラビング法に代わる配向処理が強
く要望されており、これまでに以下のような幾つかの研
究結果が報告されている。すなわち、一定の間隔をおい
て形成した直線状の溝を有する基板上に液晶分子をおい
た場合、その溝の沿った方向に液晶分子が配向する事実
が確認されており、H.V.ケネルによるPhysical Review
A24(5)2713(1981)、A.SugiyamaらによるJpn.J.Appl.Phy
s 20(7)1343(1981) 等に記載されている。この事実に基
づき、例えば、特開昭60−60624号公報では、2
つのレーザー光を干渉させて感光性ポリビニルアルコー
ルや感光性ポリイミドからなる高分子膜の表面に照射す
ることにより、光照射部における架橋反応を利用して高
分子膜にグレーティング状の凹凸を形成し配向処理を施
す方法が開示されている。しかしながら、光照射部のみ
を上述したような架橋反応により精度よく体積収縮させ
ることができず、微細な凹凸パターンを有する液晶配向
膜を形成することは極めて困難であるため、これでは液
晶分子に対する充分な配向能を付与することはできな
い。また特開平1−210932号公報には、紫外線を
ポリイミド膜表面にパターン照射し、ポリイミド膜表面
で発生したオゾンによりポリイミドを酸化、気化せしめ
てグレーティング状の凹凸を形成する技術が示されてい
る。然るにこのような技術においても、光照射部以外で
のポリイミドの酸化を抑えることが容易ではなく、やは
り微細な凹凸パターンを形成することは難しいという問
題がある。さらに特開昭63−142327号公報,特
開平2−196219号公報等では、高分子膜の表面に
レーザー光を縞状に照射することにより、レーザー光照
射部の高分子を飛散せしめて高分子膜にグレーティング
状の凹凸を形成することが試みられているが、この場合
は極めて強いパワーのレーザー光を照射する必要がある
ため、装置が大型化する等の点で好ましくない。Therefore, there is a strong demand for an alignment treatment which is an alternative to the rubbing method, and several research results have been reported so far. That is, it has been confirmed that when liquid crystal molecules are placed on a substrate having linear grooves formed at regular intervals, the liquid crystal molecules are aligned in the direction along the grooves, and HV Kennel's Physical Review
A24 (5) 2713 (1981), Jpn.J.Appl.Phy by A. Sugiyama et al.
s 20 (7) 1343 (1981) and the like. Based on this fact, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 60-60624, 2
By irradiating the surface of the polymer film made of photosensitive polyvinyl alcohol or photosensitive polyimide by interfering two laser beams, the cross-linking reaction in the light irradiation part is used to form grating-like irregularities on the polymer film for orientation. A method of applying treatment is disclosed. However, it is not possible to accurately shrink the volume of only the light irradiation part by the above-mentioned crosslinking reaction, and it is extremely difficult to form a liquid crystal alignment film having a fine concavo-convex pattern. It is not possible to impart a proper alignment ability. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-210932 discloses a technique in which ultraviolet rays are pattern-irradiated on the surface of a polyimide film and ozone generated on the surface of the polyimide film oxidizes and vaporizes the polyimide to form a grating-like unevenness. However, even in such a technique, it is not easy to suppress the oxidation of the polyimide except the light irradiation portion, and it is still difficult to form a fine uneven pattern. Further, in JP-A-63-142327, JP-A-2-196219, and the like, by irradiating the surface of a polymer film with laser light in a striped pattern, the polymer in the laser light irradiation part is scattered to form a polymer. Attempts have been made to form grating-like irregularities on the film, but in this case it is necessary to irradiate a laser beam of extremely strong power, which is not preferable in terms of increasing the size of the device.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、ラビ
ング法に代わる液晶配向膜の配向処理がこれまで数多く
検討されているが、いずれも液晶分子に対する配向能等
が不充分なため、いまだ実用化には至っていない。As described above, many alignment treatments of liquid crystal alignment films have been studied as an alternative to the rubbing method, but all of them are still in practical use because of insufficient alignment ability for liquid crystal molecules. It has not been realized.
【0007】本発明はこのような問題に鑑み、基板等の
汚染を生じることなく、液晶分子に対して充分な配向能
を有する液晶配向膜を容易に形成できる液晶表示素子の
製造方法を提供することを目的としている。In view of the above problems, the present invention provides a method for manufacturing a liquid crystal display device capable of easily forming a liquid crystal alignment film having a sufficient alignment ability for liquid crystal molecules without causing contamination of a substrate or the like. Is intended.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、対向する1対
の透明基板と、これら透明基板の対向する主面上に設け
られた透明電極と、この透明電極上に形成された液晶配
向膜と、前記透明基板間に前記透明電極及び液晶配向膜
を介して封入された液晶材料とを具備する液晶表示素子
の製造方法であって、前記透明電極上にポリシラン薄膜
を成膜しこのポリシラン薄膜にグレーティング状のパタ
ーン光照射を施すことにより前記液晶配向膜を形成する
工程を備えた液晶表示素子の製造方法である。すなわち
本発明の液晶表示素子の製造方法は、ポリシラン薄膜へ
のグレーティング状のパターン光照射により、液晶配向
膜の配向処理が施されることを特徴としている。According to the present invention, a pair of transparent substrates facing each other, transparent electrodes provided on the main surfaces of the transparent substrates facing each other, and a liquid crystal alignment film formed on the transparent electrodes. And a liquid crystal material enclosed between the transparent substrate via the transparent electrode and a liquid crystal alignment film, wherein a polysilane thin film is formed on the transparent electrode. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising the step of forming the liquid crystal alignment film by irradiating a grating-shaped pattern light on the substrate. That is, the method for producing a liquid crystal display device of the present invention is characterized in that the alignment treatment of the liquid crystal alignment film is performed by irradiating the polysilane thin film with the grating-shaped pattern light.
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、液晶配向膜に使用されるポリシランとしては特
に限定されることなく、例えば下記一般式で示される反
復単位を有するものが挙げられる。なおこのようなポリ
シランは、重量平均分子量が5,000 〜1,000,000 、さら
には10,000〜100,000 であることが好ましい。この理由
は、ポリシランの重量平均分子量が小さすぎると、得ら
れる液晶配向膜の膜強度が不充分となるおそれがあり、
逆にポリシランの重量平均分子量が大きすぎると、溶媒
可溶性が低下して成膜が困難となるからである。The present invention will be described in detail below. In the present invention, the polysilane used for the liquid crystal alignment film is not particularly limited, and examples thereof include those having a repeating unit represented by the following general formula. The weight average molecular weight of such a polysilane is preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 10,000 to 100,000. The reason for this is that if the weight average molecular weight of polysilane is too small, the film strength of the resulting liquid crystal alignment film may be insufficient,
On the other hand, if the weight average molecular weight of polysilane is too large, the solubility of the solvent will decrease and film formation will become difficult.
【0010】[0010]
【化1】 [Chemical 1]
【0011】また本発明では、成膜されるポリシラン薄
膜の膜厚は0.01〜1μm程度であることが好まし
い。これは、ポリシラン薄膜の膜厚が0.01μm未満
に薄い場合は、膜厚を均一化することが困難となり、逆
にポリシラン薄膜の膜厚が1μmを越えて厚いと、液晶
表示素子の駆動電圧が上昇するおそれがあるからであ
る。なおこのときのポリシラン薄膜の成膜法としては、
ロールコーター法,スピンコーター法,LB法(ラング
ミュアーブロジェット法)等が挙げられる。Further, in the present invention, the film thickness of the polysilane thin film to be formed is preferably about 0.01 to 1 μm. This is because it is difficult to make the film thickness uniform if the film thickness of the polysilane thin film is less than 0.01 μm, and conversely if the film thickness of the polysilane thin film exceeds 1 μm, the driving voltage of the liquid crystal display element is increased. Is likely to rise. In addition, as a film forming method of the polysilane thin film at this time,
The roll coater method, the spin coater method, the LB method (Langmuir-Blodgett method) and the like can be mentioned.
【0012】本発明においては、上述したようなポリシ
ラン薄膜にグレーティング状のパターン光照射を施すこ
とにより、液晶分子に対する配向能を有する液晶配向膜
が形成される。このときのパターン光の光源としては、
紫外光,X線,EB等を用いることができ、またグレー
ティング状のパターン光照射を施すには、具体的には複
数の光ビームを干渉させることにより発生する干渉縞ま
たはビーム径を絞りこんだ光ビームを走査して直接照射
するか、あるいは所定のラインアンドスペースパターン
が形成されたフォトマスクを介して光を照射すればよ
い。こうして得られる液晶配向膜は、光照射部でポリシ
ラン薄膜が体積膨張することに伴い表面に微細な凹凸パ
ターンが形成されるため、液晶分子に対し優れた配向能
を有する。In the present invention, a liquid crystal alignment film having alignment ability for liquid crystal molecules is formed by irradiating the polysilane thin film as described above with grating pattern light. As the light source of the pattern light at this time,
Ultraviolet light, X-rays, EB, etc. can be used, and in order to irradiate the grating pattern light, specifically, interference fringes or beam diameters generated by interfering a plurality of light beams are narrowed down. The light beam may be scanned and directly irradiated, or the light may be irradiated through a photomask on which a predetermined line and space pattern is formed. The liquid crystal alignment film thus obtained has an excellent alignment ability with respect to liquid crystal molecules because a fine concavo-convex pattern is formed on the surface of the polysilane thin film due to volume expansion in the light irradiation part.
【0013】なおここで、ポリシラン薄膜への照射光
は、10μm以下の微細なピッチを有するグレーティン
グ状のパターン光であることが好ましい。これは、この
ピッチが10μmを越えると、得られる液晶表示素子に
おいて液晶分子が異方向に配向される領域が生じるおそ
れがあるからである。さらに本発明では、液晶配向膜の
表面に形成される微細な凹凸パターンの凹部の幅が0.
5〜5μm,凸部の幅が0.1〜5μmであることが好
ましい。何となれば、凹部の幅が0.5μm未満である
と液晶分子に対する配向能が低下し、凹部の幅が5μm
を越えると凹部上方における液晶分子の配向性がほとん
どなくなってしまう。また凸部の幅が0.1μm未満で
あるとやはり液晶分子に対する配向能が低下し、凸部の
幅が5μmを越えると凸部上方における液晶分子の配向
性がほとんどなくなってしまうからである。Here, the irradiation light to the polysilane thin film is preferably a grating pattern light having a fine pitch of 10 μm or less. This is because when the pitch exceeds 10 μm, there may be a region where liquid crystal molecules are oriented in different directions in the obtained liquid crystal display element. Further, in the present invention, the width of the concave portion of the fine concavo-convex pattern formed on the surface of the liquid crystal alignment film is 0.
It is preferable that the width is 5 to 5 μm and the width of the convex portion is 0.1 to 5 μm. If the width of the recess is less than 0.5 μm, the alignment ability with respect to the liquid crystal molecules is reduced, and the width of the recess is 5 μm.
If it exceeds, the orientation of the liquid crystal molecules above the recess is almost lost. Further, if the width of the convex portion is less than 0.1 μm, the aligning ability with respect to the liquid crystal molecules is lowered, and if the width of the convex portion exceeds 5 μm, the alignment property of the liquid crystal molecule above the convex portion is almost lost.
【0014】また本発明において、上述したようなポリ
シラン薄膜への照射光は照射部での照射量が10〜50
0mJ/cm2 に設定されることが好ましい。この理由
は、照射量がこの範囲を外れるとポリシラン薄膜の表面
に微細な凹凸パターンを精度よく形成することが困難と
なるためである。Further, in the present invention, the irradiation light on the polysilane thin film as described above is applied at an irradiation amount of 10 to 50.
It is preferably set to 0 mJ / cm 2 . The reason for this is that if the irradiation dose deviates from this range, it becomes difficult to accurately form a fine uneven pattern on the surface of the polysilane thin film.
【0015】さらに本発明では、液晶配向膜の形成に当
って、下記一般式で示される反復単位を有するポリシラ
ンを使用し、LB法によりポリシラン薄膜を成膜するこ
とが特に好ましい。Further, in the present invention, in forming the liquid crystal alignment film, it is particularly preferable to use polysilane having a repeating unit represented by the following general formula and form a polysilane thin film by the LB method.
【0016】[0016]
【化2】 [Chemical 2]
【0017】上記一般式で示される反復単位を有するポ
リシランは、Si−Si結合からなる主鎖に対し、一方
の側鎖のには親水基Xを有し、他方の側鎖には疎水基R
3 を有しているので、液面上に容易に単分子膜が展開さ
れ、LB法により好適にポリシラン薄膜を成膜できる。
ここで、このようなポリシランの具体例を以下に示す。The polysilane having the repeating unit represented by the above general formula has a hydrophilic group X on one side chain and a hydrophobic group R on the other side chain with respect to the main chain composed of Si--Si bonds.
Since it has 3 , a monomolecular film can be easily developed on the liquid surface, and a polysilane thin film can be preferably formed by the LB method.
Here, specific examples of such polysilane are shown below.
【0018】[0018]
【化3】 [Chemical 3]
【0019】[0019]
【化4】 [Chemical 4]
【0020】[0020]
【化5】 [Chemical 5]
【0021】[0021]
【化6】 [Chemical 6]
【0022】[0022]
【化7】 [Chemical 7]
【0023】[0023]
【化8】 [Chemical 8]
【0024】[0024]
【化9】 [Chemical 9]
【0025】[0025]
【化10】 [Chemical 10]
【0026】[0026]
【化11】 [Chemical 11]
【0027】[0027]
【化12】 [Chemical 12]
【0028】[0028]
【化13】 [Chemical 13]
【0029】[0029]
【化14】 [Chemical 14]
【0030】[0030]
【化15】 [Chemical 15]
【0031】[0031]
【化16】 [Chemical 16]
【0032】[0032]
【化17】 [Chemical 17]
【0033】[0033]
【化18】 [Chemical 18]
【0034】[0034]
【化19】 [Chemical 19]
【0035】[0035]
【化20】 [Chemical 20]
【0036】[0036]
【化21】 [Chemical 21]
【0037】[0037]
【化22】 [Chemical formula 22]
【0038】[0038]
【化23】 [Chemical formula 23]
【0039】[0039]
【化24】 [Chemical formula 24]
【0040】[0040]
【化25】 [Chemical 25]
【0041】こうして成膜されたポリシラン薄膜は、液
面上に展開された単分子膜を基板上に移しとる際に、S
i−Si主鎖が液面からの基板の引上げ方向に強く配列
されるため、高い配向性を有している。従ってこのポリ
シラン薄膜に対し、そのSi−Si主鎖の配列方向と略
平行のグレーティング状のパターン光を照射すれば、上
述したような微細な凹凸パターンを特に精度よく形成す
ることが可能となる。さらに、例えば光源とポリシラン
薄膜の間に偏光素子を介在せしめ、Si−Si主鎖の配
列方向の略平行な方向の振動成分のみを有するグレーテ
ィング状のパターン光を照射することにより、ポリシラ
ン薄膜の表面に微細な凹凸パターンを効率よく形成する
こともできる。The polysilane thin film thus formed is S when the monomolecular film developed on the liquid surface is transferred onto the substrate.
Since the i-Si main chain is strongly aligned in the pulling direction of the substrate from the liquid surface, it has high orientation. Therefore, by irradiating the polysilane thin film with the grating-shaped pattern light substantially parallel to the arrangement direction of the Si—Si main chain, the fine uneven pattern as described above can be formed particularly accurately. Furthermore, for example, by interposing a polarizing element between the light source and the polysilane thin film, and irradiating a grating pattern light having only a vibration component in a direction substantially parallel to the arrangement direction of the Si-Si main chain, the surface of the polysilane thin film is irradiated. It is also possible to efficiently form a fine uneven pattern.
【0042】次に、本発明で得られる液晶表示素子の構
造について、図面を参照して説明する。図1は、本発明
で得られる液晶表示素子の一例について、その画素部の
構造を示す縦断面図である。なおここでは、アクティブ
マトリクス型表示形式に適用される液晶表示素子を示し
たが、本発明は単純マトリクス型表示形式の液晶表示素
子にも適用可能である。同図において、111 及び11
2 はガラス等の素材で形成された透明基板であり、夫々
の対向面には、ITO(Indium Tin Oxide)等の素材か
らなる透明電極121 (表示電極)及び122 (走査電
極)が形成されている。また、一方の透明基板111 上
には、透明電極121 に接する形でTFT13が実装さ
れている。このTFT13では、まず透明基板111 上
にゲート電極14が設けられており、ゲート電極14は
ゲート絶縁膜15で被覆されている。ゲート絶縁膜15
上には半導体層16が形成されており、さらに半導体層
16上の所定領域には、ソース電極17およびドレイン
電極18が接続している。透明電極121 及びTFT1
3の表面には液晶配向膜191 が形成され、これらに対
向する透明基板112 上には、透明電極122 を介して
液晶配向膜192 が形成されており、液晶配向膜191
及び192 の間には、液晶材料20が封入されている。Next, the structure of the liquid crystal display device obtained by the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing the structure of a pixel portion of an example of the liquid crystal display element obtained by the present invention. Although the liquid crystal display element applied to the active matrix display format is shown here, the present invention is also applicable to the liquid crystal display element of the simple matrix display format. In the figure, 11 1 and 11
Reference numeral 2 is a transparent substrate made of a material such as glass, and transparent electrodes 12 1 (display electrodes) and 12 2 (scanning electrodes) made of a material such as ITO (Indium Tin Oxide) are formed on respective opposing surfaces. Has been done. A TFT 13 is mounted on one transparent substrate 11 1 so as to be in contact with the transparent electrode 12 1 . In the TFT 13, the gate electrode 14 is provided on the first transparent substrate 11 1 on, the gate electrode 14 is covered with the gate insulating film 15. Gate insulating film 15
A semiconductor layer 16 is formed on the semiconductor layer 16, and a source electrode 17 and a drain electrode 18 are connected to predetermined regions on the semiconductor layer 16. Transparent electrode 12 1 and TFT 1
The third surface is a liquid crystal alignment film 19 1 is formed, on the transparent substrate 11 2 facing thereto, are liquid crystal alignment film 19 2 is formed via a transparent electrode 12 2, a liquid crystal alignment film 19 1
A liquid crystal material 20 is enclosed between the first and the second 192.
【0043】ただしこの液晶表示素子では、液晶配向膜
191 を介したソース電極17とドレイン電極18との
導通を防ぐため、半導体層16の上方の液晶配向膜19
1 において、光照射等によりポリシランを全面的にシロ
キサン化して絶縁性を高めることが好ましい。また本発
明においては、このような光照射を液晶配向膜191形
成の際のポリシラン薄膜へのグレーティング状のパター
ン光照射と同時に行なってもよい。なお、液晶配向膜1
91 を介したソース電極17とドレイン電極18との導
通を防ぐ方法はこれに限定されず、例えば少なくとも半
導体層16の上方に予めポリイミド等の絶縁性高分子膜
を成膜した後に液晶配向膜191 を形成することや、半
導体層16の上方を除く領域に液晶配向膜191 を形成
すること等が採用され得る。However, in this liquid crystal display device, in order to prevent conduction between the source electrode 17 and the drain electrode 18 via the liquid crystal alignment film 19 1 , the liquid crystal alignment film 19 above the semiconductor layer 16 is prevented.
In 1 , it is preferable that the polysilane is wholly siloxaned by light irradiation or the like to enhance the insulating property. Further, in the present invention, such light irradiation may be performed simultaneously with the irradiation of the grating-shaped pattern light on the polysilane thin film when forming the liquid crystal alignment film 19 1 . The liquid crystal alignment film 1
9 1 How to prevent conduction between the source electrode 17 and the drain electrode 18 through is not limited to this, the liquid crystal alignment film, for example after forming the insulating polymer film in advance polyimide above at least the semiconductor layer 16 The formation of 19 1 and the formation of the liquid crystal alignment film 19 1 in the region except above the semiconductor layer 16 can be adopted.
【0044】さらに、上述したような液晶表示素子の液
晶配向膜191 及び192 の間に封入される液晶材料2
0としては、P型液晶分子,N型液晶分子のいずれであ
ってもよく、分子量等についても特に限定されることな
く使用可能である。Furthermore, the liquid crystal material 2 enclosed between the liquid crystal alignment films 19 1 and 19 2 of the liquid crystal display element as described above.
0 may be either a P-type liquid crystal molecule or an N-type liquid crystal molecule, and the molecular weight and the like are not particularly limited and can be used.
【0045】[0045]
【作用】本発明の液晶表示素子の製造方法においては、
グレーティング状のパターン光をポリシラン薄膜に照射
することにより、光照射部でポリシラン薄膜が体積膨張
し、表面に凹凸パターンを有する液晶配向膜が形成され
る。このとき本発明では、光照射部のポリシランが光化
学反応によって低分子量化した後、例えば空気中の酸素
を取りこんでシロキサン化することにより、光照射部で
ポリシラン薄膜が体積膨張する。すなわち、ポリシラン
の光酸化反応に伴う体積変化を利用して上述したような
凹凸パターンが形成されるので、比較的低エネルギーの
パターン光の照射で照射されたパターン光に応じた微細
な凹凸パターンを精度よく得ることができる。In the method of manufacturing the liquid crystal display element of the present invention,
By irradiating the polysilane thin film with the grating-shaped pattern light, the polysilane thin film undergoes volume expansion at the light irradiation portion, and a liquid crystal alignment film having an uneven pattern on the surface is formed. At this time, in the present invention, after the polysilane in the light-irradiated portion has a low molecular weight due to a photochemical reaction, for example, oxygen in the air is taken in and silicified, whereby the polysilane thin film expands in volume in the light-irradiated portion. That is, since the uneven pattern as described above is formed by utilizing the volume change accompanying the photooxidation reaction of polysilane, a fine uneven pattern corresponding to the pattern light irradiated by the irradiation of the pattern light of relatively low energy is formed. It can be obtained accurately.
【0046】ここで、本発明における液晶配向膜上の液
晶分子の配列状態を図2に模式的に示す。図示されるよ
うに本発明では、液晶配向膜191 の凹部に沿って液晶
分子21が配向する。このとき液晶配向膜191 は、上
述した通り表面に極めて微細な凹凸パターンが形成され
ているので、液晶分子21に対して優れた配向能を有し
ている。Here, the alignment state of the liquid crystal molecules on the liquid crystal alignment film in the present invention is schematically shown in FIG. As shown in the figure, in the present invention, the liquid crystal molecules 21 are aligned along the concave portions of the liquid crystal alignment film 19 1 . At this time, since the liquid crystal alignment film 19 1 has an extremely fine uneven pattern formed on the surface as described above, it has excellent alignment ability with respect to the liquid crystal molecules 21.
【0047】さらに本発明において、LB法によりポリ
シラン薄膜を成膜し、得られる高配向のポリシラン薄膜
におけるSi−Si主鎖の配列方向と略平行のグレーテ
ィング状のパターン光を照射した場合は、液晶配向膜の
表面の凹凸パターンを特に精度よく形成することができ
る。しかもこのとき、光未照射部に配列したポリシラン
のSi−Si主鎖中で電子が非局在化されることに基づ
き、液晶配向膜の光未照射部では双極子モーメントが誘
起され、誘電異方性を有する液晶分子との間に電子的な
相互作用が生じる。従って、液晶配向膜の表面の凹凸パ
ターンを特に精度よく形成できることと相俟って、液晶
分子に対し極めて優れた配向能を有する液晶配向膜を得
ることが可能となる。Further, in the present invention, when a polysilane thin film is formed by the LB method and the obtained highly oriented polysilane thin film is irradiated with grating-shaped pattern light substantially parallel to the arrangement direction of the Si—Si main chain, the liquid crystal is irradiated. The uneven pattern on the surface of the alignment film can be formed particularly accurately. Moreover, at this time, due to the delocalization of electrons in the Si—Si main chain of the polysilane arranged in the light non-irradiated portion, a dipole moment is induced in the light non-irradiated portion of the liquid crystal alignment film, resulting in a dielectric difference. Electronic interaction occurs with the liquid crystal molecules having the directionality. Therefore, in combination with the fact that the concavo-convex pattern on the surface of the liquid crystal alignment film can be formed with high precision, it becomes possible to obtain a liquid crystal alignment film having extremely excellent alignment ability for liquid crystal molecules.
【0048】また上述したような液晶配向膜では、光未
照射部に配列したポリシランの側鎖に導入された置換基
が凹部表面に一定間隔で存在する。これに伴い、液晶配
向膜の凹部上方の液晶分子は一定間隔で存在するポリシ
ラン側鎖の置換基の影響を受けるので、この場合は液晶
配向膜上で配向した液晶分子に対し所定のチルト角を付
与することも可能である。Further, in the liquid crystal alignment film as described above, the substituents introduced into the side chains of the polysilane arranged in the light non-irradiated portion are present at regular intervals on the concave surface. Along with this, the liquid crystal molecules above the concave portions of the liquid crystal alignment film are affected by the substituents of the polysilane side chains existing at regular intervals. In this case, a predetermined tilt angle is applied to the liquid crystal molecules aligned on the liquid crystal alignment film. It is also possible to add.
【0049】さらに本発明においては、液晶配向膜の形
成に当って半導電性を有するポリシランが使用されるの
で、得られる液晶表示素子への駆動電圧印加時に液晶配
向膜への電荷の蓄積が低減されてチャージアップの発生
が防止され、ひいては液晶分子の配向乱れが抑えられ
る。しかも、ポリシランにおいては可視光領域における
光の吸収がないため、光の透過性の優れた液晶配向膜を
形成することができる。Further, in the present invention, since polysilane having semiconductivity is used for forming the liquid crystal alignment film, the accumulation of charges in the liquid crystal alignment film is reduced when a driving voltage is applied to the obtained liquid crystal display element. As a result, the occurrence of charge-up is prevented, and the alignment disorder of the liquid crystal molecules is suppressed. Moreover, since polysilane does not absorb light in the visible light region, it is possible to form a liquid crystal alignment film having excellent light transmittance.
【0050】[0050]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 実施例1〜5 表面に透明電極としてITOが蒸着された硬質ガラスN
A−45((株)HOYA製)をウェハ状に切出し、過
酸化水素水及び硫酸の混合物で処理した。これを水洗
後、リンサードライヤーにより乾燥し、さらに150
℃、30分間乾燥して、透明基板を形成した。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. Examples 1 to 5 Hard glass N having ITO deposited on its surface as a transparent electrode
A-45 (manufactured by HOYA Co., Ltd.) was cut into a wafer and treated with a mixture of hydrogen peroxide solution and sulfuric acid. After washing it with water, dry it with a rinser dryer, and further 150
It was dried at 30 ° C. for 30 minutes to form a transparent substrate.
【0051】次に、このITO付き透明基板上にTFT
を実装した後、そのTFT及びITO面上に予め2.5
μmのフィルターで濾過したブチル(m−ヒドロキシフ
ェニル)ポリシラン(分子量150,000 )の2.5wt%
シクロヘキサノン溶液(室温:22℃)をスピンコート
し(スピナー回転数:500rpm.5秒,2500r
pm.25秒)、150℃、30分間乾燥して膜厚0.
3μmのポリシラン薄膜を成膜した。続いて水銀ランプ
を具備する平行露光機(ニコン(株)製,PLA−10
5)を光源とし、夫々表1に示したラインアンドスペー
スパターンが形成されたフォトマスクを介して得られた
ポリシラン薄膜にグレーティング状のパターン光照射を
施し(照射量:44mJ/cm2 )、液晶配向膜を形成
した。Next, a TFT is formed on the transparent substrate with ITO.
On the TFT and ITO surfaces after mounting
2.5 wt% of butyl (m-hydroxyphenyl) polysilane (molecular weight 150,000) filtered with a μm filter
Cyclohexanone solution (room temperature: 22 ° C) was spin-coated (spinner speed: 500 rpm, 5 seconds, 2500 r
pm. 25 seconds), dried at 150 ° C. for 30 minutes, and a film thickness of 0.
A 3 μm polysilane thin film was formed. Then, a parallel exposure machine equipped with a mercury lamp (PLA-10 manufactured by Nikon Corporation)
5) was used as a light source, and the polysilane thin film obtained through the photomask on which the line-and-space pattern shown in Table 1 was formed was irradiated with grating-like pattern light (irradiation amount: 44 mJ / cm 2 ), and the liquid crystal was formed. An alignment film was formed.
【0052】一方、ガラス透明基板上にカラーフィルタ
ー、透明電極が順次形成され、さらに保護膜をオーバー
コートしてなるカラーフィルター基板を用いた以外は全
く同様にして、ポリシラン薄膜の成膜及びパターン光照
射を行ない、液晶配向膜を形成した。On the other hand, a polysilane thin film was formed and pattern light was formed in exactly the same manner except that a color filter substrate in which a color filter and a transparent electrode were sequentially formed on a glass transparent substrate and a protective film was overcoated was used. Irradiation was performed to form a liquid crystal alignment film.
【0053】次いで、上述したようにして液晶配向膜が
形成されたITO付き透明基板及びカラーフィルター基
板について、同様のフォトマスクを介してパターン光照
射が施されたものを夫々組み合わせ、常法に従い液晶セ
ルの作製及び液晶材料の封入を行なった。ただし、液晶
材料としては4−n−ペンチル−4′−シアノビフェニ
ル(メルク製、5CB)を用いた。続いて、得られた液
晶表示素子における液晶分子の配向状態を夫々評価し
た。なおここでは、ポリイミドからなる高分子膜にラビ
ング法を適用して形成された液晶配向膜を有する液晶表
示素子の表示特性を100とし、夫々の表示特性をこれ
を比較として評価した。結果を表1に併せて示す。表1
から、本実施例1〜5の液晶表示素子においては、液晶
分子に対し充分な配向能を有する液晶配向膜が、ラビン
グ法によることなく極めて容易に形成されていることが
判る。Next, the transparent substrate with ITO and the color filter substrate on which the liquid crystal alignment film was formed as described above were each subjected to pattern light irradiation through the same photomask, and each was combined to prepare a liquid crystal according to a conventional method. A cell was prepared and a liquid crystal material was enclosed. However, 4-n-pentyl-4'-cyanobiphenyl (manufactured by Merck, 5CB) was used as the liquid crystal material. Subsequently, the alignment state of liquid crystal molecules in the obtained liquid crystal display device was evaluated. Here, the display characteristics of a liquid crystal display element having a liquid crystal alignment film formed by applying a rubbing method to a polymer film made of polyimide were set to 100, and the respective display characteristics were evaluated for comparison. The results are also shown in Table 1. Table 1
From the results, it is understood that in the liquid crystal display devices of Examples 1 to 5, the liquid crystal alignment film having a sufficient alignment ability with respect to the liquid crystal molecules was formed very easily without using the rubbing method.
【0054】[0054]
【表1】 [Table 1]
【0055】実施例6〜10 予め0.2μmフィルターで濾過したブチル(m−ヒド
ロキシフェニル)ポリシラン(分子量200,000 )の0.
224wt%シクロヘキサノン溶液(pH=7.0)を
15.2〜15.3℃の水面上に滴下して(室温:21
〜23℃)、ポリシラン単分子膜を展開し、表面圧を2
0dyn/cmに調整した。続いて、実施例1〜5と同
様のITO付き透明基板及びカラーフィルター基板に対
しヘキサメチルジシラザンで疎水処理を施し、それぞれ
水面に対して垂直方向に5mm/cmの速度で浸漬させ
た後、5mm/cmの速度で水面上に引き上げた。この
操作を繰り返すことによって、すなわちLB法のプロセ
スに従い、ITO付き透明基板及びカラーフィルター基
板上に夫々表2に示す累積数のポリシラン薄膜を成膜し
た。次に、水銀ランプを具備する平行露光機(ニコン
(株)製,PLA−105)を光源とし、ライン1μ
m,スペース1μmのラインアンドスペースパターンが
形成されたフォトマスクを介して、得られたポリシラン
薄膜全てにポリシラン薄膜成膜時の基板の引き上げ方向
と平行なグレーティング状のパターン光照射を施し(照
射量:44mJ/cm2 )、液晶配向膜を形成した。Examples 6 to 10 of butyl (m-hydroxyphenyl) polysilane (molecular weight 200,000) previously filtered through a 0.2 μm filter.
A 224 wt% cyclohexanone solution (pH = 7.0) was dropped on the water surface at 15.2 to 15.3 ° C. (room temperature: 21
〜23 ℃), develop the polysilane monolayer, and apply surface pressure to 2
It was adjusted to 0 dyn / cm. Subsequently, the same transparent substrate with ITO as in Examples 1 to 5 and the color filter substrate were subjected to a hydrophobic treatment with hexamethyldisilazane, and each was immersed in the direction perpendicular to the water surface at a rate of 5 mm / cm, It was pulled up above the water surface at a speed of 5 mm / cm. By repeating this operation, that is, according to the process of the LB method, the cumulative number of polysilane thin films shown in Table 2 were formed on the transparent substrate with ITO and the color filter substrate, respectively. Then, a parallel exposure machine (PLA-105, manufactured by Nikon Corporation) equipped with a mercury lamp was used as a light source, and a line 1 μm was used.
Through a photomask on which a line-and-space pattern of m and space of 1 μm was formed, all the obtained polysilane thin films were irradiated with grating-shaped pattern light parallel to the pulling direction of the substrate during the polysilane thin film formation (irradiation amount). : 44 mJ / cm 2 ), a liquid crystal alignment film was formed.
【0056】次いで、上述したようにして液晶配向膜が
形成されたITO付き透明基板及びカラーフィルター基
板について、ポリシラン単分子膜の累積数が同じものを
夫々組み合わせ、常法に従い液晶セルの作製及び液晶材
料の封入を行なった。ただし、液晶材料としては4−n
−ペンチル−4′−シアノビフェニル(メルク製、5C
B)を用いた。続いて、得られた液晶表示素子における
液晶分子の配向状態を夫々実施例1〜5と同様の方法で
評価した。結果を表2に併せて示す。表2から、本実施
例6〜10の液晶表示素子においても、液晶分子に対し
充分な配向能を有する液晶配向膜が、ラビング法による
ことなく極めて容易に形成されていることが判る。Next, with respect to the transparent substrate with ITO and the color filter substrate on which the liquid crystal alignment film was formed as described above, those having the same cumulative number of polysilane monomolecular films were respectively combined, and a liquid crystal cell was prepared and a liquid crystal was prepared according to a conventional method. The material was encapsulated. However, as a liquid crystal material, 4-n
-Pentyl-4'-cyanobiphenyl (Merck, 5C
B) was used. Subsequently, the alignment state of liquid crystal molecules in the obtained liquid crystal display device was evaluated by the same method as in Examples 1 to 5, respectively. The results are also shown in Table 2. From Table 2, it can be seen that also in the liquid crystal display devices of Examples 6 to 10, the liquid crystal alignment film having a sufficient alignment ability with respect to the liquid crystal molecules was extremely easily formed without using the rubbing method.
【0057】[0057]
【表2】 [Table 2]
【0058】実施例11〜13 予め0.2μmのフィルターで濾過したブチル(m−ヒ
ドロキシフェニル)ポリシラン(分子量200,000 )の
0.04wt%シクロヘキサノン溶液(pH=7.0)
を15.2〜15.3℃の水面上に滴下して(室温:2
1〜23℃)、ポリシラン単分子膜を展開し、表面圧を
20dyn/cmに調整した。続いて、実施例1〜5と
同様のITO付き透明基板及びカラーフィルター基板に
対しヘキサメチルジシラザンで疎水処理を施し、それぞ
れ水面に対して垂直方向に5mm/cmの速度で浸漬さ
せた後、5mm/cmの速度で水面上に引き上げ、この
操作を繰り返すことによって、累積数10のポリシラン
薄膜を成膜した。次に、水銀ランプを具備する平行露光
機(ニコン(株)製、PLA−105)を光源とし、ラ
イン1μm、スペース1μmのラインアンドスペースパ
ターンが形成されたフォトマスクを介して、ポリシラン
薄膜にポリシラン薄膜成膜時の基板の引き上げ方向と平
行なグレーティング状のパターン光照射を施し(照射量
420mJ/cm2 )、液晶配向膜を形成した。Examples 11 to 13 0.04 wt% cyclohexanone solution (pH = 7.0) of butyl (m-hydroxyphenyl) polysilane (molecular weight 200,000) previously filtered through a 0.2 μm filter.
Was dropped on the water surface at 15.2 to 15.3 ° C (room temperature: 2
(1 to 23 ° C.), the polysilane monomolecular film was developed, and the surface pressure was adjusted to 20 dyn / cm. Subsequently, the same transparent substrate with ITO as in Examples 1 to 5 and the color filter substrate were subjected to a hydrophobic treatment with hexamethyldisilazane, and each was immersed in the direction perpendicular to the water surface at a rate of 5 mm / cm, By pulling up on the water surface at a speed of 5 mm / cm and repeating this operation, a cumulative number of polysilane thin films of 10 were formed. Next, using a parallel exposure machine (PLA-105, manufactured by Nikon Corporation) equipped with a mercury lamp as a light source, a polysilane thin film was formed on a polysilane thin film through a photomask on which a line and space pattern having a line of 1 μm and a space of 1 μm was formed. Grating pattern light irradiation parallel to the pulling direction of the substrate during thin film formation (irradiation amount of 420 mJ / cm 2 ) was performed to form a liquid crystal alignment film.
【0059】次いで、上述したようにして液晶配向膜が
形成されたITO付き透明基板及びカラーフィルター基
板を組み合わせ、常法に従い液晶セルの作製及び液晶材
料の封入を行なった。ただし、液晶材料としては4−n
−ペンチル−4′−シアノビフェニル(メルク製、5C
B)を用いた。続いて、得られた液晶表示素子における
液晶分子の配向状態を実施例1〜5と同様の方法で評価
した。さらに、ブチル(m−ヒドロキシフェニル)ポリ
シランのかわりに4−ヒドロキシペンチルヘキシルポリ
シラン(分子量300,000 )またはビス(5−エトキシペ
ンチル)ポリシラン(分子量200,000 )を用いた以外は
全く同様の液晶表示素子について、それぞれ液晶分子の
配向状態を同様に評価した。結果を表3に示す。表3か
ら、本実施例11〜13の液晶表示素子においても、液
晶分子に対し充分な配向能を有する液晶配向膜が、ラビ
ング法によることなく極めて容易に形成されていること
が判る。Then, the transparent substrate with ITO and the color filter substrate on which the liquid crystal alignment film was formed as described above were combined, and a liquid crystal cell was prepared and a liquid crystal material was enclosed according to a conventional method. However, as a liquid crystal material, 4-n
-Pentyl-4'-cyanobiphenyl (Merck, 5C
B) was used. Subsequently, the alignment state of liquid crystal molecules in the obtained liquid crystal display device was evaluated by the same method as in Examples 1 to 5. Further, liquid crystal display elements which are completely the same except that 4-hydroxypentylhexylpolysilane (molecular weight 300,000) or bis (5-ethoxypentyl) polysilane (molecular weight 200,000) is used instead of butyl (m-hydroxyphenyl) polysilane, respectively. The alignment state of liquid crystal molecules was similarly evaluated. The results are shown in Table 3. From Table 3, it can be seen that also in the liquid crystal display devices of Examples 11 to 13, the liquid crystal alignment film having sufficient alignment ability with respect to the liquid crystal molecules was extremely easily formed without using the rubbing method.
【0060】[0060]
【表3】 [Table 3]
【0061】[0061]
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、基
板等の汚染を生じることなく、液晶分子に対して充分な
配向能を有する液晶配向膜を容易に形成することがで
き、ひいては表示特性の優れた液晶表示素子を歩留まり
よく製造することが可能となり、その工業的価値は大な
るものがある。As described in detail above, according to the present invention, it is possible to easily form a liquid crystal alignment film having a sufficient alignment ability for liquid crystal molecules without causing contamination of the substrate and the like, and thus, It is possible to manufacture a liquid crystal display element having excellent display characteristics with a high yield, and its industrial value is great.
【図1】 本発明で得られる液晶表示素子の一例におけ
る画素部の構造を示す縦断面図。FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing the structure of a pixel portion in an example of a liquid crystal display element obtained by the present invention.
【図2】 本発明における液晶配向膜上の液晶分子の配
列状態を示す模式図。FIG. 2 is a schematic view showing an arrangement state of liquid crystal molecules on a liquid crystal alignment film in the present invention.
111 ,112 …透明基板、121 ,122 …透明電
極、13…TFT、14…ゲート電極、15…ゲート絶
縁膜、16…半導体層、17…ソース電極、18…ドレ
イン電極、191 ,192 …液晶配向膜、20…液晶材
料、21…液晶分子。11 1 , 11 2 ... Transparent substrate, 12 1 , 12 2 ... Transparent electrode, 13 ... TFT, 14 ... Gate electrode, 15 ... Gate insulating film, 16 ... Semiconductor layer, 17 ... Source electrode, 18 ... Drain electrode, 19 1 , 19 2 ... Liquid crystal alignment film, 20 ... Liquid crystal material, 21 ... Liquid crystal molecule.
Claims (1)
基板の対向する主面上に設けられた透明電極と、この透
明電極上に形成された液晶配向膜と、前記透明基板間に
前記透明電極及び液晶配向膜を介して封入された液晶材
料とを具備する液晶表示素子の製造方法であって、前記
透明電極上にポリシラン薄膜を成膜しこのポリシラン薄
膜にグレーティング状のパターン光照射を施すことによ
り前記液晶配向膜を形成する工程を備えたことを特徴と
する液晶表示素子の製造方法。1. A pair of transparent substrates facing each other, transparent electrodes provided on the main surfaces of the transparent substrates facing each other, a liquid crystal alignment film formed on the transparent electrodes, and the transparent substrate between the transparent substrates. A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a transparent electrode and a liquid crystal material encapsulated via a liquid crystal alignment film, wherein a polysilane thin film is formed on the transparent electrode, and the polysilane thin film is irradiated with a grating pattern light. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising a step of forming the liquid crystal alignment film by applying the above process.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22874093A JPH0784266A (en) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | Production of liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22874093A JPH0784266A (en) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | Production of liquid crystal display element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0784266A true JPH0784266A (en) | 1995-03-31 |
Family
ID=16881084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22874093A Pending JPH0784266A (en) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | Production of liquid crystal display element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0784266A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005321486A (en) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | Liquid crystal alignment layer, liquid crystal display and its manufacturing method |
JP2007078769A (en) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device and projection display apparatus |
JP2008058691A (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal, method for manufacturing liquid crystal, substrate for liquid crystal, and projector |
KR20110132513A (en) * | 2010-06-02 | 2011-12-08 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | Liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, method for forming the liquid crystal alignment film, liquid crystal display device and polyorganosiloxane compounds |
US11307494B2 (en) * | 2018-09-14 | 2022-04-19 | Lg Chem, Ltd. | Hologram medium and optical element |
-
1993
- 1993-09-14 JP JP22874093A patent/JPH0784266A/en active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005321486A (en) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | Liquid crystal alignment layer, liquid crystal display and its manufacturing method |
JP4565151B2 (en) * | 2004-05-07 | 2010-10-20 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | Liquid crystal alignment film, liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
JP2007078769A (en) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device and projection display apparatus |
JP4604927B2 (en) * | 2005-09-12 | 2011-01-05 | セイコーエプソン株式会社 | Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and projection display device |
JP2008058691A (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal, method for manufacturing liquid crystal, substrate for liquid crystal, and projector |
KR20110132513A (en) * | 2010-06-02 | 2011-12-08 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | Liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, method for forming the liquid crystal alignment film, liquid crystal display device and polyorganosiloxane compounds |
JP2011252099A (en) * | 2010-06-02 | 2011-12-15 | Jsr Corp | Liquid crystal-aligning agent, liquid crystal alignment layer, method of forming the liquid crystal alignment layer and liquid crystal display element |
CN103992802A (en) * | 2010-06-02 | 2014-08-20 | Jsr株式会社 | Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, method for forming liquid crystal alignment film, liquid crystal display element, and polyorganosiloxane compounds |
CN104031655A (en) * | 2010-06-02 | 2014-09-10 | Jsr株式会社 | Liquid Crystal Alignment Agent, Liquid Crystal Alignment Film, Method For Forming The Liquid Crystal Alignment Film, Liquid Crystal Display Element, And Polyorganosiloxane Compounds |
CN104031655B (en) * | 2010-06-02 | 2016-04-13 | Jsr株式会社 | The formation method of liquid crystal aligning agent, liquid crystal orientation film, liquid crystal orientation film, liquid crystal display device and polyorganosiloxane compounds |
US11307494B2 (en) * | 2018-09-14 | 2022-04-19 | Lg Chem, Ltd. | Hologram medium and optical element |
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