JPH0781972A - Glaze composition - Google Patents

Glaze composition

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JPH0781972A
JPH0781972A JP22462093A JP22462093A JPH0781972A JP H0781972 A JPH0781972 A JP H0781972A JP 22462093 A JP22462093 A JP 22462093A JP 22462093 A JP22462093 A JP 22462093A JP H0781972 A JPH0781972 A JP H0781972A
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JP
Japan
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glaze
weight
glass
substrate
composition
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JP22462093A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaji Tsuzuki
正詞 都築
Masahiko Okuyama
雅彦 奥山
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Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a glaze compsn. capable of glazing at low temp., having such characteristics as excellent electrical and chemical stability and more excellent especially in surface smoothness. CONSTITUTION:This glaze compsn. contains, by weight, >=90%, in total, of 15-40% B2O3, 10-30% Al2O3, 0.5-17% P2O5, <=40% SiO2 and 15.5-40% one or more kinds of alkaline earth metal oxides among CaO, SrO and BaO basing on the weights of oxides.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばセラミック基板
の表面平滑性を向上させるグレーズ組成物に関し、詳し
くは、例えば薄膜技術、或は薄膜及び厚膜技術により製
造されるチップコンデンサ,チップ抵抗,チップインダ
クタ等の薄膜ハイブリッド部品の製造に適したグレーズ
組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glaze composition for improving the surface smoothness of a ceramic substrate, for example, a chip capacitor, a chip resistor manufactured by a thin film technique or a thin film and thick film technique. The present invention relates to a glaze composition suitable for manufacturing a thin film hybrid component such as a chip inductor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、セラミック基板の表面平滑性
を著しく向上するものとして、グレーズ組成物が知られ
ている。このグレーズ組成物は、ガラスの優れた蓄熱性
と電気絶縁性とを有しているので、その特性を活かして
各種のサーマルヘッド等に使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a glaze composition has been known as a material for remarkably improving the surface smoothness of a ceramic substrate. Since this glaze composition has excellent heat storage properties and electrical insulation properties of glass, it is used in various thermal heads and the like by taking advantage of its properties.

【0003】このサーマルヘッド用グレーズとしては、
従来より、生産効率の良いアルカリ金属・鉛を含む表面
平滑性に優れたグレーズ組成物が用いられることもある
が、近年では、高速印字・印画サーマルヘッド用に、
(アルカリ金属・鉛を含まず)耐熱性に優れたSiO2
を主成分とする高温グレーズ組成物が主流となっている
(例えば特公昭60−55453号公報,特開昭60−
118648号公報,特公昭61−24345号公報参
照)。
As this glaze for thermal head,
Conventionally, a glaze composition having excellent surface smoothness containing an alkali metal / lead with good production efficiency may be used, but in recent years, for high-speed printing / printing thermal heads,
SiO 2 with excellent heat resistance (does not contain alkali metal or lead)
A high temperature glaze composition containing as a main component has become mainstream (for example, Japanese Patent Publication No. 60-54553, Japanese Patent Laid-Open No. 60-
118648 and Japanese Patent Publication No. 61-24345).

【0004】また、この用途とは別に、近年では、チッ
プ部品に対してグレーズ組成物を使用することが検討さ
れている。つまり、最近の電子部品の軽薄短小と高精度
化の要求に応えるために、チップ部品用基板として、表
面にグレーズ層を形成したセラミック基板、即ち、表面
平滑性に優れ高精細度のパターンピッチでの薄膜/厚膜
パターンを形成可能なグレーズ基板を活用することが考
えられている。
In addition to this application, use of a glaze composition for chip parts has been studied in recent years. In other words, in order to meet the recent demands for lightness, thinness, shortness, and high precision of electronic parts, as a substrate for chip parts, a ceramic substrate with a glaze layer formed on the surface, that is, with a high-definition pattern pitch with excellent surface smoothness It is considered to utilize a glaze substrate capable of forming a thin film / thick film pattern.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来か
らのグレーズ組成物をチップ部品用途に供しようとする
場合、前者のアルカリ金属・鉛を含有する低融点のガラ
スでは、電子部品用基板としては、還元雰囲気でのPb
析出による電気絶縁性の劣化、アルカリ金属イオンのマ
イグレーションによる薄膜の損傷等、電気的・化学的安
定性に対する信頼性を満足できない。
However, when the conventional glaze composition is intended to be used for chip parts, the former low-melting glass containing alkali metal / lead is used as a substrate for electronic parts. Pb in reducing atmosphere
The reliability of electrical / chemical stability cannot be satisfied, such as deterioration of electric insulation due to precipitation and damage of thin film due to migration of alkali metal ions.

【0006】また、後者の珪酸塩を主成分とする高温グ
レーズ組成物では、高耐熱性を目的として開発された高
融点ガラスであるため、セラミックスとの熱膨脹係数を
正確に一致させないと、基板反りが発生するという問題
が生ずる。つまり、高融点ガラスでは、(ガラスが基板
と一体化する)固着温度が高いので、熱膨張係数が僅か
に異なっているだけでも基板に反りが発生し易い。その
ためセラミック基板の厚みを薄くできず、チップ部品用
基板に要求される薄型化が困難となる。
Further, the latter high-temperature glaze composition containing silicate as a main component is a high-melting-point glass developed for the purpose of high heat resistance, so that the thermal expansion coefficient of the glass must be exactly matched with that of the ceramics to warp the substrate. The problem that occurs occurs. That is, since the high melting point glass has a high fixing temperature (the glass is integrated with the substrate), even if the thermal expansion coefficient is slightly different, the substrate is likely to warp. Therefore, the thickness of the ceramic substrate cannot be reduced, and it is difficult to reduce the thickness required for the chip component substrate.

【0007】更に、高融点ガラスを使用すると、ガラス
の盛り上りが大きくなってしまい、部分グレーズには有
利であるが、チップ部品用基板に用いられる全面あるい
は帯状のグレーズパターンでは、十分な平滑性が得られ
ないという問題がある。その上、これらサーマルヘッド
用のグレーズ基板では、その耐熱性が最重要特性であ
り、例えば薄膜ハイブリッド用グレーズ基板を製造する
場合には、この様な耐熱性は不必要な過剰品質であり、
高温の狭い温度範囲内での焼成を必要とするため経済的
でない。
Further, when the high melting point glass is used, the glass rises to a large extent, which is advantageous for partial glaze, but the entire surface or the strip-shaped glaze pattern used for the chip component substrate has sufficient smoothness. There is a problem that can not be obtained. Moreover, in these glaze substrates for thermal heads, their heat resistance is the most important characteristic, and for example, when manufacturing glaze substrates for thin film hybrids, such heat resistance is unnecessary excess quality,
It is not economical because it requires firing within a narrow high temperature range.

【0008】また、要求されるグレーズ厚は、例えば薄
膜ハイブリッド用グレーズ基板の場合は、従来の例えば
ファクシミリ・サーマルヘッド用グレーズ基板の50〜
100μmに比較して、5〜30μm程度の極薄いものが
望まれているが、従来のグレーズ組成物では、何れもグ
レーズ厚みが薄くなるとグレーズ面状態が悪くなる傾向
にあるので、薄くグレージングした場合にも良好な表面
を得られるグレーズ組成物が必要である。
The required glaze thickness is, for example, in the case of a glaze substrate for a thin film hybrid, it is 50 to 50 that of a conventional glaze substrate for a facsimile thermal head.
It is desired to have an extremely thin thickness of about 5 to 30 μm as compared with 100 μm. However, in the conventional glaze composition, when the glaze thickness becomes thin, the glaze surface condition tends to deteriorate, so when a thin glaze is used. Also, a glaze composition capable of obtaining a good surface is required.

【0009】これらの問題の対策として、本願発明者ら
は、既にチップ部品用基板等に好適な新規のグレーズ組
成物(特願平4−288864号参照)を提案したが、
更に、一層表面平滑性を向上させることが望まれてい
る。本発明は、前記課題を解決するためになされ、低温
グレーズが可能で、電気・化学的安定性に優れている等
の特性を備えるとともに、特に表面平滑性に一層優れた
グレーズ組成物を提供することを目的とする。
As a countermeasure against these problems, the inventors of the present application have already proposed a novel glaze composition (see Japanese Patent Application No. 4-288864) suitable for a substrate for chip parts and the like.
Furthermore, it is desired to further improve the surface smoothness. The present invention has been made in order to solve the above problems, and provides a glaze composition having properties such as low temperature glaze capable of being excellent in electrical and chemical stability, and particularly excellent surface smoothness. The purpose is to

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の請求項1の発明は、酸化物重量基準で、B23:15
〜40重量%と、Al23:10〜30重量%と、P2
5:0.5〜17重量%と、SiO2:40重量%以下
と、CaO,SrO,BaOのうち少なくとも1種類以
上のアルカリ土類酸化物:15.5〜40重量%との合
計が、組成物全体の90重量%以上であることを特徴と
するグレーズ組成物を要旨とする。
The invention according to claim 1 for achieving this object is B 2 O 3 : 15 based on the weight of oxide.
And 40 wt%, Al 2 O 3: 10~30 wt% and, P 2
O 5 : 0.5 to 17% by weight, SiO 2 : 40% by weight or less, and at least one or more alkaline earth oxides of CaO, SrO, and BaO: 15.5 to 40% by weight, in total. The gist composition is characterized by being 90% by weight or more of the total composition.

【0011】また、請求項2の発明は、前記アルカリ土
類酸化物の内訳が、CaO:1.5〜25重量%,Sr
O:20重量%以下,BaO:10重量%以下であるこ
とを特徴とする前記請求項1記載のグレーズ組成物を要
旨とする。
Further, in the invention of claim 2, the breakdown of the alkaline earth oxide is CaO: 1.5 to 25% by weight, Sr.
O: 20% by weight or less and BaO: 10% by weight or less are summarized as the gaze composition according to claim 1.

【0012】以下、本発明のグレーズ組成物の各成分の
含有量を上記のように限定した理由を示す。 1)B23は、本発明におけるガラス形成酸化物として
必要不可欠で、15重量%未満では結晶化傾向が強くな
ると共に融点が高くなってしまい、40重量%を越える
と耐熱性・耐水性が十分ではなくなる。
The reasons for limiting the content of each component of the glaze composition of the present invention as described above will be shown below. 1) B 2 O 3 is indispensable as a glass-forming oxide in the present invention. If it is less than 15% by weight, the crystallization tendency becomes strong and the melting point becomes high, and if it exceeds 40% by weight, heat resistance and water resistance are increased. Is not enough.

【0013】2)Al23は、B23と共にガラス形成
酸化物として働き、10重量%未満では化学的耐久性の
低下が著しく、30重量%より多いと高融点となると共
に結晶化し易くなる。 3)P25は、添加することにより表面平滑性の向上を
図ることができる本発明の特徴的な成分であるが、0.
5重量%未満ではその効果が明瞭でなく、17重量%を
越えると結晶化傾向が強くなって、表面平滑性を失う。
2) Al 2 O 3 acts as a glass-forming oxide together with B 2 O 3 , and if it is less than 10% by weight, the chemical durability is remarkably deteriorated. If it exceeds 30% by weight, it becomes a high melting point and crystallizes. It will be easier. 3) P 2 O 5 is a characteristic component of the present invention that can improve the surface smoothness by adding it.
If it is less than 5% by weight, the effect is not clear, and if it exceeds 17% by weight, the crystallization tendency becomes strong and the surface smoothness is lost.

【0014】4)SiO2は、添加することにより耐酸
性・耐水性を向上する効果を有するが、40重量%を越
えると高融点となってしまい、本発明の用途に適さな
い。 5)アルカリ土類酸化物(CaO,SrO,BaO)
は、熱膨脹係数の調節とガラス化を助けるために添加す
るもので、15.5重量%未満ではガラス化が困難で、
40重量%を越えると結晶化傾向が強くなる。
4) SiO 2 has the effect of improving acid resistance and water resistance when added, but if it exceeds 40% by weight, it has a high melting point and is not suitable for the purpose of the present invention. 5) Alkaline earth oxides (CaO, SrO, BaO)
Is added to help control the coefficient of thermal expansion and vitrification. If less than 15.5% by weight, vitrification is difficult,
If it exceeds 40% by weight, the tendency of crystallization becomes strong.

【0015】・このアルカリ土類酸化物のうち、ガラス
化を助長する効果の高いCaOが最も望ましいが、25
重量%を越えると熱膨脹係数の低下が著しくなると共
に、結晶化し易くなる。 ・また、前記SrO,BaOについては、CaOの一部
を置換して、熱膨脹係数を調節すると共に、混合アルカ
リ効果と同様に、複数のアルカリ土類酸化物を組み合わ
せることによりガラス化範囲を広げる効果があるが、S
rOで20重量%,BaOで10重量%を各々越えると
結晶化傾向が著しくなる。
Of these alkaline earth oxides, CaO, which has a high effect of promoting vitrification, is the most desirable.
When the content is more than weight%, the coefficient of thermal expansion is remarkably lowered, and crystallization becomes easy. In addition, for SrO and BaO, part of CaO is replaced to adjust the coefficient of thermal expansion, and, like the mixed alkali effect, the effect of expanding the vitrification range by combining a plurality of alkaline earth oxides. There is S
If rO exceeds 20% by weight and BaO exceeds 10% by weight, the crystallization tendency becomes remarkable.

【0016】6)添加されるこの他の好ましい成分とし
ては、MgO,ZnO,Bi23,TiO2等がある。 ・このうち、MgOは、少量の添加であれば、CaO,
SrO,BaOと同様にアルカリ土類酸化物として好ま
しい効果を有する。
6) Other preferable components to be added include MgO, ZnO, Bi 2 O 3 and TiO 2 .・ Of these, if MgO is added in a small amount, CaO,
Similar to SrO and BaO, it has a preferable effect as an alkaline earth oxide.

【0017】・ZnOは、少量添加することによりガラ
ス化を助けるが、多量に加えると結晶化傾向が著しく強
くなる。 ・Bi23,TiO2は、化学的耐久性を向上させる
が、結晶化傾向が強くなるため、少量しか添加できな
い。
When ZnO is added in a small amount, it aids vitrification, but when added in a large amount, the tendency of crystallization becomes extremely strong.・ Bi 2 O 3 and TiO 2 improve the chemical durability, but have a strong tendency to crystallize, so only a small amount can be added.

【0018】7)その他、アルカリ金属,Pb等の酸化
物は、前記の電子部品としての信頼性の観点から、含ま
ない方が好ましいが、化学的耐久性は低下するものの生
産性の向上を期待できるので、後工程に支障をきたさな
い場合には使用することもできる。
7) In addition, it is preferable not to include an oxide of an alkali metal, Pb or the like from the viewpoint of the reliability of the electronic component, but the chemical durability is lowered but the productivity is expected to improve. Since it can be used, it can be used when it does not hinder the subsequent steps.

【0019】[0019]

【作用】本発明のグレーズ組成物は、以下に詳細に説明
する様に、従来のグレーズ組成物とは全く異なるもので
ある。従来用いられているグレーズ組成物は、Pb・ア
ルカリ金属の有無や、耐熱性の違い等はあるものの、全
て珪酸塩ガラスからなり、これらガラス組成を酸化物モ
ル%に換算すると、例外なくSiO2は50モル%以上
で、通常は60〜75モル%である。これらは、ガラス
を形成するための骨格(ガラス網目形成酸化物)を[S
iO4]としたものである。
The glaze composition of the present invention is completely different from the conventional glaze composition, as described in detail below. Conventionally used glaze compositions are all made of silicate glass, although Pb / alkali metal presence / absence and heat resistance are different. If these glass compositions are converted into oxide mol%, SiO 2 will be used without exception. Is 50 mol% or more, and usually 60 to 75 mol%. These have a skeleton (glass network forming oxide) for forming glass [S
iO 4 ].

【0020】この珪酸塩ガラスが用いられる理由は、珪
酸塩ガラスの基本的な特性である化学的耐久性や耐熱性
等の特性を利用するためであると推察されるが、既に述
べた様に、この従来の珪酸塩ガラスでは、最近の薄膜ハ
イブリッド用グレーズ基板の要求に対しては十分に対応
できない。
The reason why this silicate glass is used is supposed to be to utilize the basic characteristics of the silicate glass, such as chemical durability and heat resistance, but as already mentioned. However, this conventional silicate glass cannot sufficiently meet the recent demand for glaze substrates for thin film hybrids.

【0021】それに対して、本発明のB23−Al23
−P25−アルカリ土類酸化物(以後ROと略す)系グ
レーズ組成物では、従来のガラス骨格とは異なり、ガラ
ス骨格を、[BO4-,[AlO4-,[PO43-
四面体で形成しているので、表面平滑性が向上すると考
えられる。
In contrast, the B 2 O 3 --Al 2 O 3 of the present invention
The alkaline earth oxides (hereinafter abbreviated as RO) glaze composition, unlike the conventional glass skeleton, the glass skeleton, [BO 4] - - -P 2 O 5, [AlO 4] -, [PO 4 ] Since it is formed of 3- tetrahedron, it is considered that the surface smoothness is improved.

【0022】また、従来からの低融点ガラスとして知ら
れているアルカリ金属−B23系やアルカリ土類金属−
23系では、化学的耐久性及び電気絶縁性が悪く本発
明の目的には適さない。この理由は、[BO3](3配
位の硼素)等による骨格構造の不安定さに起因すると思
われる。
Further, alkali metal -B 2 O 3 system or an alkaline earth metal, known as a low-melting glass from conventional -
The B 2 O 3 system is not suitable for the purpose of the present invention because of its poor chemical durability and electrical insulation. The reason for this seems to be due to the instability of the skeleton structure due to [BO 3 ] (boron of three coordinations) and the like.

【0023】従って、本発明の効果を得るには、B
23,ROとともに、Al23,P25が必須成分とな
る。つまり、本発明は、上述した組成のグレーズ組成物
が、比較的低温で軟化してグレージング可能であり、か
つ従来の珪酸塩ガラス並の優れた化学的耐久性及び高い
電気絶縁性を有し、更にグレーズ層が薄膜化しても良好
な平面平滑性を有する等の優れた特性を持つことを見い
出すことによってなされたものである。
Therefore, in order to obtain the effect of the present invention, B
Al 2 O 3 and P 2 O 5 are essential components together with 2 O 3 and RO. That is, the present invention, the glaze composition of the composition described above, it is possible to soften and glazing at a relatively low temperature, and has excellent chemical durability and high electrical insulation comparable to conventional silicate glass, Further, it was made by finding that the glaze layer has excellent characteristics such as having good flatness even when it is thinned.

【0024】[0024]

【実施例】以上説明した本発明の構成・作用を一層明ら
かにするために、以下本発明の好適な実施例について説
明する。材料として、熔融物が下記表1の組成となるよ
うに、H3BO3,Al(OH) 3,CaCO3,SrCO
3,BaCO3,MgCO3,SiO2,H3PO4,Na2
CO3,K2CO3,Pb34を各々秤量し、擂潰機にて
混合した。この混合物を、白金・ロジウムルツボ中で、
1200〜1450℃にて3〜5時間熔融し、急水冷し
て(本発明範囲内である)実施例のグレーズ組成物の試
料No.1〜11と、(本発明範囲外である)比較例のグ
レーズ組成物の試料No.12〜16と、(従来品であ
る)比較例のグレーズ組成物の試料No.17,18とを
調製した。
EXAMPLES The constitution and operation of the present invention described above will be further clarified.
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Reveal As a material, the melt will have the composition shown in Table 1 below.
Sea urchin3BO3, Al (OH) 3, CaCO3, SrCO
3, BaCO3, MgCO3, SiO2, H3POFour, Na2
CO3, K2CO3, Pb3OFourWeigh each and use a crusher
Mixed. This mixture in a platinum-rhodium crucible,
Melt at 1200-1450 ° C for 3-5 hours, quench with water
Example of a glaze composition (which is within the scope of the invention)
Nos. 1 to 11 and comparative examples (outside the scope of the present invention)
Sample Nos. 12 to 16 of the laze composition and (conventional product
The sample Nos. 17 and 18 of the glaze composition of the comparative example
Prepared.

【0025】そして、この試料No.1〜18のグレーズ
組成物のガラス軟化点と熱膨脹係数とを測定した。その
結果を下記表2に記す。尚、ガラス軟化点は、示差熱分
析を行った際に現れる第2番目の吸熱ピークに相当する
温度を記載し、熱膨張係数は、3〜5mmφ×20mmの円
柱状のガラスの熱膨張を測定し、室温から400℃まで
の熱膨張差より計算して求めたものを記載した。
Then, the glass softening point and the coefficient of thermal expansion of the glaze compositions of Sample Nos. 1 to 18 were measured. The results are shown in Table 2 below. The glass softening point is the temperature corresponding to the second endothermic peak that appears when a differential thermal analysis is performed, and the coefficient of thermal expansion is the thermal expansion of a cylindrical glass of 3 to 5 mmφ × 20 mm. Then, the value obtained by calculation from the difference in thermal expansion from room temperature to 400 ° C. is described.

【0026】次に、この試料No.1〜18のグレーズ組
成物の各々について、アルミナポットミルで湿式粉砕し
てガラス微粉末とし、これをエチルセルロース系バイン
ダー及び有機溶媒と混合して印刷用ガラスペーストを調
製した。これを、Al23純度97%の50mm×50mm
×0.635mmのアルミナ基板表面に印刷した後、下記
表2に示した各々の適切な温度で焼き付けて、アルミナ
基板上にグレーズ幅5mm×グレーズ厚み20μmの帯状
のグレーズ部を有するグレーズ基板を作成した。
Next, each of the glaze compositions of Sample Nos. 1 to 18 was wet pulverized with an alumina pot mill to obtain fine glass powder, which was mixed with an ethylcellulose-based binder and an organic solvent to prepare a glass paste for printing. Prepared. This is 50 mm x 50 mm with Al 2 O 3 purity of 97%
After printing on a 0.635 mm alumina substrate surface, baking is performed at each appropriate temperature shown in Table 2 below to create a glaze substrate having a band-shaped glaze portion with a glaze width of 5 mm and a glaze thickness of 20 μm on the alumina substrate. did.

【0027】そして、この様にして形成したグレーズ基
板のグレーズの状態や基板反りの状態を観察した。その
結果を同じく下記表2に記す。
Then, the glaze state and the substrate warp state of the glaze substrate thus formed were observed. The results are also shown in Table 2 below.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】この表1及び表2から明かな様に、(本発
明の範囲内の)実施例の試料No.1〜11のグレーズ組
成物は、ガラス軟化点が約830℃以下の低融点ガラス
であるので、焼付け温度が約980℃以下で済む。ま
た、グレーズ基板に顕著な反りは発生しなかった。更
に、いずれのグレーズ基板のグレーズ部も、面積が広い
にもかかわらず盛り上がりが少なく平滑であり、しか
も、光沢のあるグレーズ面を有していた。その上、グレ
ーズ面には、小さな凹凸やうねりもなく極めて好適であ
った。
As is apparent from Tables 1 and 2, the glaze compositions of Sample Nos. 1 to 11 (within the scope of the present invention) are low melting point glass having a glass softening point of about 830 ° C. or less. Therefore, the baking temperature is about 980 ° C. or lower. Moreover, no remarkable warpage occurred in the glaze substrate. Furthermore, the glaze portions of all the glaze substrates had a small area, but were smooth and smooth, and had a glossy glaze surface. Moreover, the glaze surface was extremely suitable without any small unevenness or waviness.

【0031】それに対して、(本発明範囲外の)比較例
の試料No.12〜16のものは、焼き付け条件を変えて
も結晶化及びガラス未熔融等によりグレージングができ
ず、特に試料No.13,14のものはガラスを形成でき
ず好ましくない。また、(従来品の)比較例の試料No.
17は珪酸塩を主成分とする高融点ガラスであるので、
実施例に比べ、グレージング時に1240℃以上の高温
での焼成を要し、しかもグレーズパターン端部の盛り上
りやグレーズ基板の反りが共に大きく好ましくない。
尚、(従来品の)比較例の試料No.18は、グレーズ面
は良好かもしれないが、Pbやアルカリ金属を含んでい
るので、電気的・化学的安定性が悪く好ましくない。
尚、本発明は、上記実施例に何等限定されず、本発明の
要旨の範囲内において各種の態様で実施できることは勿
論である。
On the other hand, the samples Nos. 12 to 16 of the comparative examples (outside the scope of the present invention) could not undergo glazing due to crystallization and glass unmelting even if the baking conditions were changed. Nos. 13 and 14 are not preferable because they cannot form glass. In addition, the sample number of the comparative example (of the conventional product)
Since 17 is a high melting point glass containing silicate as a main component,
Compared to the examples, firing at a high temperature of 1240 ° C. or higher is required at the time of glazing, and the swelling of the edges of the glaze pattern and the warp of the glaze substrate are both large, which is not preferable.
Incidentally, the sample No. 18 of the comparative example (of the conventional product) may have a good glaze surface, but since it contains Pb and an alkali metal, it is not preferable because it has poor electrical and chemical stability.
It should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments and can be of course implemented in various modes within the scope of the gist of the present invention.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上の様に、本発明のグレーズ組成物
は、化学的耐久性,電気絶縁性,表面平滑性に優れた低
融点のB23−Al23−P25−RO系グレーズを提
供でき、従来グレーズに比べて、低いグレージング温度
でグレーズ基板を製造することができ、基板反りやグレ
ーズ盛り上がりも低減できる。しかも、このグレーズ組
成物には、上述したP25を所定量含んでいるので、グ
レーズ面の平滑性が一層向上するという顕著な効果があ
り、よって、チップ部品用グレーズ基板として好適に利
用することができる。
As described above, the glaze composition of the present invention has a low melting point of B 2 O 3 -Al 2 O 3 -P 2 O 5 excellent in chemical durability, electrical insulation and surface smoothness. -RO type glaze can be provided, a glaze substrate can be manufactured at a lower glazing temperature than conventional glazes, and substrate warpage and glaze rise can be reduced. Moreover, since this glaze composition contains the above-mentioned P 2 O 5 in a predetermined amount, there is a remarkable effect that the smoothness of the glaze surface is further improved. Therefore, it can be suitably used as a glaze substrate for chip parts. can do.

【0033】また、本発明のグレーズ組成物は、従来か
らのグレーズ用途であるファクシミリ・サーマルプリン
タ等のサーマルヘッドにも、特に高耐熱性を要求されな
い用途には好適に使用できる。更に、本発明のグレーズ
組成物のうち低軟化点のものは、セラミック多層基板を
覆うオーバーコートガラス及び封着材料としても利用可
能である。
Further, the glaze composition of the present invention can be suitably used for thermal heads such as facsimiles and thermal printers, which have been conventionally used for glazes, and especially for applications where high heat resistance is not required. Furthermore, the glaze composition of the present invention having a low softening point can be used as an overcoat glass and a sealing material for covering a ceramic multilayer substrate.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸化物重量基準で、B23:15〜40
重量%と、Al23:10〜30重量%と、P25
0.5〜17重量%と、SiO2:40重量%以下と、C
aO,SrO,BaOのうち少なくとも1種類以上のア
ルカリ土類酸化物:15.5〜40重量%との合計が、
組成物全体の90重量%以上であることを特徴とするグ
レーズ組成物。
1. B 2 O 3 -15 to 40, based on oxide weight.
% By weight, Al 2 O 3 : 10 to 30% by weight, P 2 O 5 :
0.5 to 17% by weight, SiO 2 : 40% by weight or less, C
At least one or more alkaline earth oxides among aO, SrO, and BaO: the total of 15.5 to 40% by weight,
90% by weight or more of the entire composition, a glaze composition.
【請求項2】 前記アルカリ土類酸化物の内訳が、Ca
O:1.5〜25重量%,SrO:20重量%以下,B
aO:10重量%以下であることを特徴とする前記請求
項1記載のグレーズ組成物。
2. The breakdown of the alkaline earth oxide is Ca
O: 1.5 to 25% by weight, SrO: 20% by weight or less, B
The glaze composition according to claim 1, wherein aO is 10% by weight or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4689019B2 (en) * 1999-12-28 2011-05-25 石塚硝子株式会社 Antibacterial imparting glass composition, antibacterial polymer composite material using the same, and antibacterial polymer composite material
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