JPH0775727A - 液調合装置 - Google Patents

液調合装置

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JPH0775727A
JPH0775727A JP17980693A JP17980693A JPH0775727A JP H0775727 A JPH0775727 A JP H0775727A JP 17980693 A JP17980693 A JP 17980693A JP 17980693 A JP17980693 A JP 17980693A JP H0775727 A JPH0775727 A JP H0775727A
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JP
Japan
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liquid
tank
blending
weighing
overflow
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JP17980693A
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English (en)
Inventor
Shunji Komizo
俊爾 小溝
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Sony Corp
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 液調合装置において大型化を伴うことなく調
合比の精度を高める。 【構成】 調合槽2にオーバーフロー方式の秤量手段1
8を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液調合装置、特に複数
種の液を調合槽に供給して該調合槽にて調合するように
した液調合装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造には各種エッチングや
洗浄を行うことが必要であり、それにはエッチング液、
洗浄液が不可欠であるが、そのエッチング液や洗浄液は
一般に複数種の液体を調合することによりつくられる。
図2(A)、(B)はそのような調合を行う液調合装置
の各別の従来例を示すものである。
【0003】図面において、1a、1bはA液(例えば
フッ酸等の被希釈液)、B液(例えば水等の希釈液)を
秤量する秤量槽で、後述するオーバーフロー方式の秤量
手段を有している。2はA液とB液を調合する調合槽、
3は該調合槽2中の液体を取り出しそれを調合槽2中に
戻すポンプで、調合槽2内の調合された液体の調合比が
均一になるようにする働き、即ち攪拌効果を得る働きを
する。
【0004】4は調合槽2で調合された液体を用いて例
えばエッチング等の処理をする処理槽である。図2
(A)に示す液調合装置は、A液を秤量する秤量槽1a
のほかB液を秤量する秤量槽1bを備え、A液及びB液
とも正確に秤量して調合槽2に供給するようにしたもの
であり、A液とB液の調合比が1:1に比較的近い場
合、例えば1:10のような場合に用いられている。
【0005】それに対して図2(B)に示す液調合装置
は、A液を秤量する秤量槽1aを有するもB液を秤量す
る秤量槽1bを有さず、A液のみを秤量して調合槽2に
供給し、B液は秤量槽による秤量をすることなく調合槽
2に供給するようにしたものである。尤も、B液は全く
秤量されないというわけではなく、調合槽2が内蔵する
液面センサにより秤量される。この液調合装置は、A液
に対してB液の容量比が非常に大きい場合、例えば1:
200、1:400というような場合に用いられる。
【0006】ところで、調合槽2が内蔵する液面センサ
は、調合によりつくる液がフッ酸溶液等酸である場合に
おいては金属材料を用いることができず、そのため図3
に示すようなエアー方式による液面センサを用いざるを
得なかった。このエアー方式による液面センサ9は、エ
アー管5の下端を検出しようとする液面の高さと同じ高
さに位置させ、エアー管5に設けた分枝管6に設けた圧
力計7によりエアー管5内の圧力を測定するようにした
ものである。この液面センサ9による液面検出は、一定
の圧力によりエアー管5にエアーを供給しながら圧力計
7により圧力を測定し、液面(20は液体である。)が
エアー管5の下端に達することによって生じるエアー管
5の圧力上昇を検出することにより行う。
【0007】それに対して、調合槽1による秤量はオー
バーフロー方式により行われるようなっている。図4は
オーバーフロー方式の秤量槽1の構成を示すものであ
る。8は液体(A液あるいはB液)を秤量槽1に供給す
る供給管、9はエアー方式による液面センサ、10は秤
量槽1の底面から内部に挿入されたオーバーフロー管
で、その上端は供給された液体の量が秤量値に達したと
きのその液面の高さと同じ高さのところに位置されてい
る。
【0008】11は秤量槽1内の液体を調合槽へ供給す
る供給管、12はその供給管11に設けられた弁であ
る。尚、上記液面センサ9の検出液面はオーバーフロー
管10の上端よりもやや低くされている。
【0009】図5(A)乃至(D)はオーバーフロー方
式の秤量方法を順に説明する説明図であり、これに従っ
てオーバーフロー方式の秤量方法を説明する。 (A)先ず、図5(A)に示すように、供給管8を通し
て調合槽1へ液20を供給する。尚、勿論、弁12は閉
じた状態にしておく。
【0010】(B)その液面が図5(B)に示すように
液面センサ9により液面検出される高さに達すると目標
とする秤量値に近づいたことになり、あと大体何秒、あ
るいは何十秒ないしは何分間で秤量値を越えることが明
らかである。そこで、その時間の計時を例えば自動的に
開始するようにして目標秤量値に達したことを確認でき
るようにしているのである。 (C)しかして、その時間に達すると図5(C)に示す
ように供給管8による液の供給を停止する。この液の供
給を停止するときというのは必ず液面がオーバーフロー
管10の上端を越えようとした後である。そして、オー
バーフロー管10からそのオーバーフロー管10上端を
越えようとした液体がオーバーフローし秤量槽1外部へ
排出される。
【0011】(D)そして、オーバーフローが終ると、
液面は図5(D)に示すようにオーバーフロー管10の
上端の高さと全く同じになる。このときの秤量槽1内の
液体11の量(容積)は予め設定された秤量値となる。
その後、弁12を開いて供給管11から液体20を図5
では図示しない調合槽へ供給する。秤量槽1内の液体2
0を調合槽へ供給し終えたとき非常に正確な秤量値の液
体20を調合槽へ供給し終えたことになる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図2(A)
に示すような液調合装置は、1:2とか1:10とかい
うように調合される複数の液体の調合比が1:1に比較
的近い場合に適するが、1:200、1:400という
ように調合比が1:1から非常に大きく違っている場合
には適していない。というのは、そのような液調合装置
は一方の秤量槽、即ち調合比の小さい方1aを小さく形
成することができても他方の秤量槽1bは調合槽2に略
匹敵する大きさにしなければならなくなり、液調合装置
がきわめて大きくなるからである。
【0013】その点、図2(B)に示す液調合装置は、
秤量槽1bを設けないので、大型化する虞れがなく、調
合比が1:1から非常に大きく違っている場合に適して
いるといえる。しかしながら、量の多いB液の秤量精度
が低く、従って調合比の精度が低いと言う問題があっ
た。
【0014】というのは、図2(B)に示す液調合装置
においてB液は、調合槽2内のエアー式液面センサによ
り秤量され、そして、エアー式液面センサによる秤量の
精度が非常に低いからである。この点について具体的に
述べると、エアー式液面センサ(図3参照)は圧力計7
の圧力の変化により液面を検出するが、元来エアー管5
に供給されるエアーの圧力が必ずしも一定せずその圧力
変化がそのまま圧力計7による検出圧力に変化をもたら
す。また、調合槽2においては調合液から蒸発する成分
を排気しているが、その排気のための負圧が圧力計7の
検出圧力に影響する。しかも、液面がエアー管5の下端
に達する前後における圧力計7の検出圧力の変化が急峻
にではなくリニアになり、そのため液面に達したか否か
の境界が不明確であり、このこともエアー方式の液面セ
ンサ9の検出精度を低いものにしている。
【0015】従って、図2(B)に示す液調合装置には
調合比の精度を高めることに限界があった。尤も、従前
においてはエッチング液における調合比が高いことは必
ずしも要求されなかった。しかし、IC、LSIの高集
積化、素子の微細化に伴って例えばシリコン酸化膜等の
エッチングレートを高精度にコントロールする技術の確
立が必要とされ、それにはエッチング液、例えばフッ酸
溶液の濃度を非常に高い精度に制御することが要求され
るに至っており、図2(B)に示すような液調合装置で
はそのような要求に応えることができないのである。
【0016】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、液調合装置において大型化を伴うこ
となく調合比の精度を高めることを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明液調合装置は、調
合槽にオーバーフロー方式の秤量手段を設けたことを特
徴とする。
【0018】
【作用】本発明液調合装置によれば、調合槽自身がオー
バーフロー方式の秤量手段により液体を高精度に秤量す
ることができるので、調合槽程度の大きな秤量槽を設け
なくても調合比が1:1から大きく離れている場合の量
の多い方の液体を高精度に秤量することができ、延いて
は調合比の精度を高めることができる。
【0019】
【実施例】以下、本発明液調合装置を図示実施例に従っ
て詳細に説明する。図1は本発明液調合装置の一つの実
施例を示す構成図である。図1において、1aはA液、
例えばフッ酸を秤量する秤量槽で、例えばテフロンから
なる。8は該秤量槽1aにA液を供給する供給管、9は
エアー式の液面センサ、10はオーバーフロー管、11
は秤量槽1aにて秤量されたA液を調合槽2へ供給する
A液供給管、12は該A液供給管11に設けられた弁で
ある。
【0020】13はB液、例えば純水を例えばテフロン
からなる調合槽2へ供給するB液供給管、3はポンプ、
9aは調合槽2内の液体20の液面を検出するエアー方
式の液面センサ、21は調合槽2内で調合された液体2
0を図1では図示しない処理槽へ供給する供給管、14
は該供給管21に設けられた弁である。18は調合槽2
が具備するオーバーフロー方式の秤量手段であり、本液
調合装置の特徴は調合槽2が斯るオーバーフロー方式の
秤量手段18を有していることである。そこで、このオ
ーバーフロー方式の秤量手段18について説明する。
【0021】15は調合槽2の底面を部分的に上げ底に
してなる上げ底部で、該上げ底部15は、調合槽2に供
給した液体20の量が目的とする秤量値に達したときの
液面の高さと同じ高さに位置されている。尚、9aは調
合槽2が内蔵するエアー方式の液面センサで、該液面セ
ンサ9aによる検出液面高さは上げ底部15よりも稍低
くされている。16は上げ底部15をオーバーフローし
た液体20を外部に排出するオーバーフロー管17に設
けられたバルブであり、このバルブ16を開くと、上げ
底部15より液面が高くなろうとしたときオーバーフロ
ー管17にその液体20が流れ込む。
【0022】この図1の液調合装置による液の調合の仕
方の一例について説明する。先ず弁14を閉じ、弁16
を開き、その状態でB液供給管13から調合槽2内にB
液を供給する。そして、液面が液面センサ9aにより検
出されるとその後一定時間計時し、計時をし終えると直
ちにB液供給管13によるB液の供給を停止する。
【0023】というのは、液面を液面センサ9aにより
検知したときからその計時時間に達するまでには必ず液
面が上げ底部15に達しているように計時時間が設定さ
れているからである。そして、オーバーフロー管17に
よるオーバーフローが終了したとき、調合槽1内のB液
20は非常に高い精度で秤量された状態になる。この状
態になったとき弁16を完全に閉じる。
【0024】次に、秤量槽1aによりA液をオーバーフ
ロー方式で秤量し、秤量終了後秤量槽1a内のA液を弁
12を開くことによって調合槽2内に供給する。尚、A
液の濃度は秤量し調合する回数を増やすことにより高め
ることができる。そして、モータ3により調合比の均一
化を図り、しかる後、弁14を開いて調合槽2内の調合
液を図1では図示しない処理槽に供給する。尚、シリコ
ン絶縁膜SiO2 のエッチング液を得る場合には、A液
としてフッ酸HFを、B液として水H2 Oを供給し、そ
の調合比は例えば1:200〜1:400である。本例
では混合する液が二種類しかないが、混合する液が三種
類以上の場合にも本発明を適用することができる。例え
ば、硫酸と過酸化水素と水の混合により例えばレジスト
剥離液を調合するような液調合装置にも本発明を適合す
ることができる。その場合、希釈液たる水を調合槽2に
よりオーバーフロー方式で秤量し、他の各液体(被希釈
液)はそれぞれ各別の秤量槽1、1で秤量するようにす
ると良い。
【0025】このような液調合装置によれば、調合槽2
自身がオーバーフロー方式の秤量手段18により液体を
高精度に秤量することができるので、調合槽程度の大き
な秤量槽を設けなくても調合比が1:1から大きく離れ
ている場合の量の多い方の液体を高精度に秤量すること
ができる。
【0026】
【発明の効果】本発明液調合装置は、調合槽にオーバー
フロー方式の秤量手段を設けたことを特徴とするもので
ある。従って、本発明液調合装置によれば、調合槽自身
がオーバーフロー方式の秤量手段により一つの液体を高
精度に秤量することができるので、調合槽程度の大きな
秤量槽を設けなくても調合比が1:1から大きく離れて
いる場合の量の多い方の液体を高精度に秤量することが
でき、延いては調合比の精度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明液調合装置の一つの実施例を示す構成図
である。
【図2】(A)、(B)は液調合装置の各別の従来例を
示す構成図である。
【図3】エアー方式の液面センサの原理図である。
【図4】オーバーフロー方式の秤量槽の構成図である。
【図5】(A)乃至(D)はオーバーフロー方式の秤量
方法を順に示す説明図である。
【符号の説明】
1a 秤量槽 2 調合槽 18 オーバーフロー方式の秤量手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数種の液を調合槽に供給して該調合槽
    にて調合するようにした液調合装置において、 上記調合槽がオーバーフロー方式の秤量手段を備えたこ
    とを特徴とする液調合装置
JP17980693A 1993-06-25 1993-06-25 液調合装置 Pending JPH0775727A (ja)

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JP17980693A JPH0775727A (ja) 1993-06-25 1993-06-25 液調合装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002204941A (ja) * 2001-01-15 2002-07-23 Tamagawa Machinery Co Ltd 薬液製造装置
CN114870740A (zh) * 2022-05-10 2022-08-09 江苏和达电子科技有限公司 一种用于显示制程金属离子酸性蚀刻液的生产系统及方法
CN115178120A (zh) * 2022-07-26 2022-10-14 北京北方华创微电子装备有限公司 混液装置和半导体工艺设备

Cited By (4)

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