JPH0773857B2 - Method for manufacturing polyimide film - Google Patents

Method for manufacturing polyimide film

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JPH0773857B2
JPH0773857B2 JP15133487A JP15133487A JPH0773857B2 JP H0773857 B2 JPH0773857 B2 JP H0773857B2 JP 15133487 A JP15133487 A JP 15133487A JP 15133487 A JP15133487 A JP 15133487A JP H0773857 B2 JPH0773857 B2 JP H0773857B2
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polyimide film
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敏夫 鈴木
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐熱性に優れたポリイミドフイルムの製造方
法に関するものである。より詳しくは、芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの重縮合生成物で
あるポリアミック酸の溶液から流延成形法によって耐熱
性と機械的特性に優れたポリイミドフイルムを製造する
方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a polyimide film having excellent heat resistance. More specifically, it relates to a method for producing a polyimide film having excellent heat resistance and mechanical properties by a casting method from a solution of polyamic acid that is a polycondensation product of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine. .

〔従来技術〕[Prior art]

全芳香族ポリイミドフイルムは、非常に優れた耐熱性と
機械特性を有し、中でも無水ピロメリット酸(1,2,4,5
−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物)とジアミノジフ
ェニルエーテル(4−アミノフェニルエーテル)を非プ
ロトン性極性溶媒中で重縮合して得られるポリアミック
酸を脱水環化して得られるポリ−N,N-−ビスフェノキシ
フェニル−ピロメリットイミド(1)が良く知られてい
る。
The wholly aromatic polyimide film has excellent heat resistance and mechanical properties, among which pyromellitic dianhydride (1,2,4,5
- benzene tetracarboxylic dianhydride) and diaminodiphenyl ether (4-aminophenyl ether) an aprotic polar solvent polycondensing a polyamic acid obtained by cyclodehydration to the poly -N obtained, N - - bis Phenoxyphenyl-pyromellitimide (1) is well known.

ポリピロメリットイミドは、400℃以上に加熱しても溶
融せず、またこれを溶解する溶媒もない。このためポリ
ピロメリットイミドフイルムの製造は、前駆体のポリア
ミック酸の溶液を流延成形法によってフイルムに成形す
るとともに、脱水環化(イミド化)してポリイミドフイ
ルムとする方法が採られている。
Polypyromellitimide does not melt even when heated to 400 ° C. or higher, and there is no solvent that dissolves it. For this reason, a method for producing a polypyromellitimide film is a method in which a solution of a precursor polyamic acid is molded into a film by a casting method and a polyimide film is formed by dehydration cyclization (imidization).

このポリイミドフイルムは、おおよそ次の様な工程で製
造される。
This polyimide film is manufactured by the following steps.

すなわちポリアミック酸溶液を金属、ガラス等の平滑な
支持体の表面に塗布し、加熱によって溶媒を除去して支
持体から剥離し自己支持性フイルムを得る。この段階で
は未だ完全にはイミド化していないため続いてこの自己
支持性フイルムを高温で熱処理、あるいは化学的に処理
してポリイミドフイルムとする。
That is, the polyamic acid solution is applied to the surface of a smooth support such as metal or glass, the solvent is removed by heating, and the film is peeled from the support to obtain a self-supporting film. At this stage, the self-supporting film is not completely imidized yet, so that the self-supporting film is subsequently heat-treated at a high temperature or chemically treated to obtain a polyimide film.

ところでポリマーの物性は、その化学構造によるととも
に物理的な状態、すなわち分子の集合状態にも負うとこ
ろが大きい。このことは結晶性ポリマーであるナイロ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンなど
で顕著に認めることができる。
By the way, the physical properties of a polymer largely depend not only on its chemical structure but also on its physical state, that is, the state of aggregation of molecules. This can be remarkably observed in crystalline polymers such as nylon, polyethylene terephthalate and polypropylene.

フイルムの場合結晶性であることは機械的性質、熱的性
質に有利に働く。ポリイミドフイルムも例外ではなく、
ポリイミドフイルムの結晶性と機械的性質や、熱的性質
との関連に付いて既に多くの研究者らによって研究され
ている。無水ピロメリット酸とジアミノジフエニルエー
テルからなるポリ−N,N-−ビスフェノキシフェニル−ピ
ロメリットイミド(1)のフイルムについて、明瞭な結
晶構造は認められないものの規則的な分子凝集構造の存
在が示唆されている。(Isoda et al.J.Polym.Sci.Poly
m.Phys.Ed.,19 1293(1981)、T.P.Russel ibid 22 110
5(1983)) これらの研究によれば、規則的な分子凝集構造の生成は
熱イミド化条件に負うところが大きい。例えばポリアミ
ック酸溶液をガラス板に塗布し、これを長時間減圧下で
乾燥しポリアミック酸フイルムとし、さらに急速に昇温
し高温でイミド化する方法で規則的な分子凝集構造が生
成するとしている。しかしながら工業的にこれらの条件
を満たすことは極めて難しく不可能と言わねばならな
い。何故なら低温減圧下での長時間乾燥を連続工程で実
現することは非常に困難である。さらに自己支持性フイ
ルムを得る段階で該自己支持性フイルムに含まれる溶媒
が多いと、次工程の熱イミド化時に溶媒が急に蒸発する
ため発泡しフイルムの表面性を損なうので、どうしても
高い温度で乾燥しなければならないからである。結晶性
ポリイミドフイルムを製造することは、原理が示されて
いても実現することは極めて困難なことであった。
In the case of a film, being crystalline has an advantage in mechanical properties and thermal properties. Polyimide film is no exception,
Many researchers have already investigated the relationship between the crystallinity, mechanical properties, and thermal properties of polyimide films. Poly -N consisting of pyromellitic anhydride and diaminodiphenyl diphenyl ether, N - - Bis-phenoxyphenyl - presence of pyro for film benefits imide (1), clear regular molecular aggregation structure of the crystal structure is not observed things Has been suggested. (Isoda et al. J. Polym. Sci. Poly
m.Phys.Ed., 19 1293 (1981), TPRussel ibid 22 110
5 (1983)) According to these studies, formation of a regular molecular aggregate structure is largely dependent on thermal imidization conditions. For example, it is said that a polyamic acid solution is applied to a glass plate, dried under reduced pressure for a long time to form a polyamic acid film, and a regular molecular aggregation structure is generated by a method of further rapidly heating and imidizing at high temperature. However, it must be said that it is extremely difficult and impossible to industrially satisfy these conditions. Because it is very difficult to realize long-term drying under low temperature and reduced pressure in a continuous process. Furthermore, if the solvent contained in the self-supporting film is large at the stage of obtaining the self-supporting film, the solvent abruptly evaporates at the time of thermal imidization in the next step, and the surface property of the film is impaired, so that the temperature is inevitably high. This is because it must be dried. The manufacture of crystalline polyimide films has been extremely difficult to achieve, even though the principles have been demonstrated.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明は、ポリアミック酸溶液から流延成形法によりポ
リイミドフイルムを製造する方法において、結晶性で機
械的特性が優れたフイルムを工業的に得ようとして研究
した結果得られたもので、ポリアミック酸溶液の組成、
自己支持性フイルムを製造する条件、熱イミド化条件の
特定の組み合わせによって規則的な分子凝集構造、以下
本発明ではこれを結晶と呼ぶ、を持つ、すなわち結晶性
で機械的特性が優れたポリイミドフイルムを得ることが
できることを見出し本発明に到達したものである。
The present invention is a method for producing a polyimide film by a casting method from a polyamic acid solution, which was obtained as a result of research for industrially obtaining a film having excellent crystallinity and mechanical properties. Composition of the
Polyimide film having a self-supporting film production condition, a regular molecular aggregation structure by a specific combination of thermal imidization conditions, hereinafter referred to as a crystal in the present invention, that is, a crystalline and excellent mechanical property The inventors of the present invention have found that the following can be obtained and have reached the present invention.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

本発明は、 芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの
重縮合生成物であるポリアミック酸の溶液から流延成形
法によりポリイミドフイルムを製造する方法において、
ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸溶液の溶媒が
非プロトン性極性溶媒(A)と該非プロトン性極性溶媒
と相溶性があり、140℃における蒸気圧が550mmHg以上で
ある非極性溶媒(B)の混合物であり、かつ(A):
(B)が70:30〜97:3からなるポリアミック酸溶液を支
持体上に均一に塗布し140℃以下の温度で溶媒含有率が
5〜40重量%まで乾燥せしめ自己支持性フイルムを得る
工程(1)と、ひきつづき工程(1)で得られた自己支
持性フイルムを支持体から剥離し30℃/分以上の速度で
昇温し200℃以上の温度でイミド化する工程(2)から
なることを特徴とするポリイミドフイルムの製造方法で
ある。
The present invention is a method for producing a polyimide film by a casting method from a solution of polyamic acid which is a polycondensation product of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine,
A mixture of the aprotic polar solvent (A) and the aprotic polar solvent in which the solvent of the polyamic acid solution that is the precursor of the polyimide is compatible, and the vapor pressure at 140 ° C. is 550 mmHg or more (B). And (A):
(B) a step of uniformly coating a polyamic acid solution consisting of 70:30 to 97: 3 on a support and drying at a temperature of 140 ° C. or lower to a solvent content of 5 to 40% by weight to obtain a self-supporting film. (1) and the step (2) of peeling the self-supporting film obtained in the step (1) from the support and heating the film at a rate of 30 ° C / min or more to imidize at a temperature of 200 ° C or more. And a method for producing a polyimide film.

本発明で使用する芳香族テトラカルボン酸二無水物は、
無水ピロメリット酸、ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、2.2′,3,3′−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物などであり、芳香族ジアミンは、ジアミノジフェニ
ルエーテル、p−フェニレンジアミンなどである。本発
明において特に好ましい組み合わせは、耐熱性と機械的
強度の観点から無水ピロメリット酸とジアミノジフェニ
ルエーテルの組み合せである。
The aromatic tetracarboxylic dianhydride used in the present invention is
Examples thereof include pyromellitic dianhydride, naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2.2 ', 3,3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, and aromatic diamines such as diaminodiphenyl ether and p-phenylenediamine. A particularly preferred combination in the present invention is a combination of pyromellitic dianhydride and diaminodiphenyl ether from the viewpoint of heat resistance and mechanical strength.

重縮合反応は、非プロトン性極性溶媒中で行われる。非
プロトン性極性溶媒は、N,N−ジメチルホルムアミド(D
MF)、N,N−ジメチルアミド(DMAC)、N−メチル−2
−ピロリドン(NMP)などである。非プロトン性極性溶
媒は、一種類のみ用いてもよいし、二種類以上を混合し
て用いてもよい。
The polycondensation reaction is carried out in an aprotic polar solvent. The aprotic polar solvent is N, N-dimethylformamide (D
MF), N, N-dimethylamide (DMAC), N-methyl-2
-Such as pyrrolidone (NMP). The aprotic polar solvent may be used alone or in combination of two or more.

上記非プロトン性極性溶媒と混合して使用する非極性溶
媒は、上気非プロトン性極性溶媒と相溶性があり140℃
における蒸気圧が550mmHg以上である溶媒である。特に
好ましくは、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
である。この溶媒は、自己支持性フイルムを得る工程に
おいて溶媒の蒸発を促進し溶媒含有率を低くする目的で
加える。140℃における蒸気圧が550mmHg以下であると溶
媒の蒸発が進まず、結局乾燥温度を高くしなくてはなら
ないため好ましくない。
The non-polar solvent used as a mixture with the aprotic polar solvent is compatible with the above-mentioned aprotic polar solvent at 140 ° C.
The solvent has a vapor pressure of 550 mmHg or more. Particularly preferred are aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. This solvent is added for the purpose of promoting evaporation of the solvent and reducing the solvent content in the step of obtaining a self-supporting film. If the vapor pressure at 140 ° C. is 550 mmHg or less, the evaporation of the solvent does not proceed, and the drying temperature must be raised after all, which is not preferable.

混合溶媒における非プロトン性極性溶媒の割合は、70重
量%以上97重量%以下である。ポリアミック酸の良溶媒
は非プロトン性極性溶媒を除いて他にはなく、非プロト
ン性極性溶媒が70重量%未満では溶媒の溶解力が低下し
ポリアミック酸が析出するため好ましくない。また非プ
ロトン性極性溶媒が97重量%を越えると混合溶媒の効果
が発現せず好ましくない。該ポリアミック酸溶液を支持
体に塗布し、乾燥して自己支持性フイルムを得る工程に
おいて、乾燥は140℃以下、より好ましくは120℃以下で
行わなければならない。ポリアミック酸からポリイミド
への脱水環化反応は、130℃ぐらいから顕著に進む。150
℃程度の低い温度でイミド化すると、既にイミド化した
部分はガラス転移温度が400℃以上と極めて高くなるた
め、かさ高いポリアミック酸の構造から、緻密なポリイ
ミドの規則的な分子凝集構造、すなわち結晶構造へ移行
することができない。従って乾燥は、低温でイミド化が
進まぬように上記条件の範囲内になければならない。
The proportion of the aprotic polar solvent in the mixed solvent is 70% by weight or more and 97% by weight or less. Except for the aprotic polar solvent, there is no other good solvent for the polyamic acid, and if the aprotic polar solvent is less than 70% by weight, the solvent power is reduced and the polyamic acid precipitates, which is not preferable. Further, if the aprotic polar solvent exceeds 97% by weight, the effect of the mixed solvent is not exhibited, which is not preferable. In the step of applying the polyamic acid solution to a support and drying it to obtain a self-supporting film, the drying must be performed at 140 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower. The dehydration cyclization reaction from polyamic acid to polyimide proceeds remarkably at about 130 ° C. 150
When imidized at a low temperature of about ℃, because the glass transition temperature of the already imidized portion becomes extremely high at 400 ℃ or more, from the structure of bulky polyamic acid, regular molecular aggregation structure of dense polyimide, that is, crystal Cannot move to structure. Therefore, the drying must be within the range of the above conditions so that the imidization does not proceed at low temperature.

自己支持性フイルムの溶媒含有率は、40重量%以下、5
重量%以上でなければならない。自己支持性フイルムの
溶媒含有率が40重量%を越えるとフイルム強度が低下
し、また支持体に対する密着力も大きいため剥離が難し
くなる。これを解決するには離型剤を大量に添加するこ
とが考えられるが、フイルムの用途によって表面にブリ
ードした離型剤が障害となることが多くこの方法は適切
ではない。また溶媒含有率が高いと分子鎖の運動性が高
まるため脱水環化反応には有利だが、些少な力でも分子
鎖が流動して強く配向する。この段階での分子配向は、
フイルム特性を劣ったものとし好ましくない。脱水環化
反応を進め、かつ分子配向を防ぐため自己支持性フイル
ムの溶媒含有率は、40重量%以下、5重量%以上、より
好ましくは、30重量%以下、10重量%以上の範囲になけ
ればならない。
The solvent content of the self-supporting film is 40% by weight or less, 5
Must be at least wt%. If the solvent content of the self-supporting film exceeds 40% by weight, the film strength will decrease and the adhesion to the support will be large, making peeling difficult. To solve this problem, a large amount of a release agent may be added, but the release agent bleeding on the surface often becomes an obstacle depending on the use of the film, and this method is not suitable. Further, if the solvent content is high, the mobility of the molecular chain is increased, which is advantageous for the dehydration cyclization reaction, but the molecular chain flows and is strongly oriented even with a small force. The molecular orientation at this stage is
It is not preferable because the film characteristics are inferior. The solvent content of the self-supporting film should be 40% by weight or less, 5% by weight or more, and more preferably 30% by weight or less and 10% by weight or more in order to promote the dehydration cyclization reaction and prevent molecular orientation. I have to.

次いで該自己支持性フイルムを高温で処理して脱水環化
しイミド化するが、この時熱処理は、30℃/分以上の速
度で昇温し200℃以上の温度でイミド化しなければなら
ない。高温でイミド化しなければならない理由は先に述
べたように、イミド化した部分はガラス転移温度が極め
て高くなるため、かさ高いポリアミック酸の構造から、
緻密なポリイミドの規則的な分子凝集構造、すなわち結
晶構造へ移行するには高温を要するからである。
Then, the self-supporting film is treated at a high temperature to dehydrate cyclize and imidize. At this time, the heat treatment must be performed at a temperature of 30 ° C./min or more and at an temperature of 200 ° C. or more. As described above, the reason why it has to be imidized at a high temperature is that the glass transition temperature of the imidized portion becomes extremely high.
This is because it takes a high temperature to move to a regular molecular aggregation structure of a dense polyimide, that is, a crystal structure.

しかし実際の工程では昇温速度が問題で、低温イミド化
が進行しないうちに高温に持って行かなければならな
い。短時間で200℃以上の温度に昇温しイミド化しなけ
れば、結晶構造は生成しない。そのためには30℃/分以
上の速度で昇温しなければならず、30℃/分以下の速度
で昇温するとほとんど無定形構造となり好ましくない。
また200℃以下の温度でイミド化すると結晶構造が生成
されず、環化率も不十分であるため好ましくない。
However, in the actual process, the rate of temperature rise is a problem, and it has to be brought to a high temperature before the low-temperature imidization proceeds. A crystal structure will not be generated unless the temperature is raised to 200 ° C. or higher in a short time to imidize. For that purpose, the temperature must be raised at a rate of 30 ° C./min or more, and if the temperature is raised at a rate of 30 ° C./min or less, it becomes almost an amorphous structure, which is not preferable.
Further, imidization at a temperature of 200 ° C. or lower is not preferable because no crystal structure is generated and the cyclization rate is insufficient.

熱処理条件は、30℃/分以上の速度で昇温し200℃以上
の温度でイミド化しなければならない。より好ましく
は、40℃/分以上の速度で昇温し250℃以上の温度でイ
ミド化しなければならない。熱処理温度の上限は限定し
ないが、酸素による酸化劣化を考慮すると450℃以下が
好ましい。
Regarding the heat treatment conditions, the temperature must be raised at a rate of 30 ° C./min or more and imidization must be performed at a temperature of 200 ° C. or more. More preferably, the temperature must be raised at a rate of 40 ° C./min or more and imidization should be performed at a temperature of 250 ° C. or more. Although the upper limit of the heat treatment temperature is not limited, it is preferably 450 ° C. or lower in consideration of oxidative deterioration due to oxygen.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明のポリアミック酸溶液組成によれば、イミド化反
応が進行しない温度で溶媒を除去することができる。さ
らに本発明の熱イミド化条件により緻密で強度的に優れ
たポリイミドフイルムを製造することができる。
According to the polyamic acid solution composition of the present invention, the solvent can be removed at a temperature at which the imidization reaction does not proceed. Furthermore, a dense and excellent polyimide film can be produced under the thermal imidization conditions of the present invention.

すなわち本発明の方法に従うと、工業的に可能な方法で
結晶性で機械的特性が優れたポリイミドフイルムを製造
することができる。
That is, according to the method of the present invention, a crystalline polyimide film having excellent mechanical properties can be produced by an industrially possible method.

以下実施例で本発明を詳しく説明する。なお密度は、ヨ
ウ化ナトリウムを使用した密度勾配管法で測定した25℃
における値である。結晶化度は、次式によって密度の値
から計算した。
The present invention will be described in detail below with reference to examples. The density is 25 ℃ measured by the density gradient tube method using sodium iodide.
Is the value at. The crystallinity was calculated from the density value by the following formula.

X線回折は、フイルム面に垂直にX線を入射して測定し
た。昇温速度は、フイルムに貼付した熱電対で測定した
データを元に計算した。
The X-ray diffraction was measured by injecting X-rays perpendicularly to the film surface. The temperature rising rate was calculated based on the data measured by the thermocouple attached to the film.

実施例1 5リットルの三口フラスコに脱水精製したDMAC2,000gを
入れ、チッソガスを流しながら10分間激しく攪はんす
る。次にジアミノジフェニルエーテル200.24g(1.000モ
ル)を投入し、均一溶液となるまで攪はんする。続いて
無水ピロメリット酸218.00g(0.999モル)を添加する。
この間フラスコは20℃に保つ。溶液の粘度が十分に高く
なったところでDMAC454g、キシレン613gを追加し、樹脂
分12.3重量%、溶媒組成DMAC/キシレン=80/20のポリア
ミック酸溶液を得た。
Example 1 2,000 g of dehydrated and purified DMAC was placed in a 5-liter three-necked flask, and the mixture was vigorously stirred for 10 minutes while flowing nitrogen gas. Next, add 200.24 g (1.000 mol) of diaminodiphenyl ether and stir until a uniform solution is obtained. Then 218.00 g (0.999 mol) of pyromellitic dianhydride are added.
During this time, keep the flask at 20 ° C. When the viscosity of the solution became sufficiently high, DMAC454g and xylene 613g were added to obtain a polyamic acid solution having a resin content of 12.3% by weight and a solvent composition of DMAC / xylene = 80/20.

このポリアミック酸溶液を鏡面研磨したステンレス板
(300×300×3t)に塗布し、90℃で10分間、110℃で10
分間熱風循環式乾燥機で乾燥し、溶媒含有率22.7重量%
の自己支持性フイルムを得た。
This polyamic acid solution is applied to a mirror-polished stainless steel plate (300 x 300 x 3t), 90 ° C for 10 minutes, 110 ° C for 10 minutes.
Dry with a hot air circulation dryer for 2 minutes, solvent content 22.7% by weight
I got a self-supporting film.

この自己支持性フイルムを4分間で20℃から250℃に昇
温し3分間250℃に保った。この時の昇温速度は57.5℃
/分である。さらに約2分で360℃に昇温し25分間保
ち、その後80℃まで徐冷しポリイミドフイルムを得た。
このポリイミドフイルムの性能を表2に、X線回折図を
図1に示す。密度及びX線回折パターンからこのポリイ
ミドフイルムは、結晶性を有する。なおキシレンの140
℃における蒸気圧は、最も沸点の高いo−キシレンで約
675mmHgである。
The self-supporting film was heated from 20 ° C to 250 ° C in 4 minutes and kept at 250 ° C for 3 minutes. The heating rate at this time is 57.5 ° C
/ Min. Further, the temperature was raised to 360 ° C. in about 2 minutes and kept for 25 minutes, and then gradually cooled to 80 ° C. to obtain a polyimide film.
The performance of this polyimide film is shown in Table 2 and the X-ray diffraction pattern is shown in FIG. From the density and the X-ray diffraction pattern, this polyimide film has crystallinity. Xylene 140
The vapor pressure at 0 ° C is about the same for o-xylene, which has the highest boiling point.
It is 675 mmHg.

比較例1 実施例1のポリアミック酸溶液を使用し、実施例1と同
じくステンレス板に塗布し、110℃で10分間、150℃で10
分間乾燥し溶媒含有率21.0重量%の自己支持性フイルム
を得た。
Comparative Example 1 The polyamic acid solution of Example 1 was used and applied to a stainless steel plate as in Example 1, and the temperature was 110 ° C. for 10 minutes and 150 ° C. for 10 minutes.
After drying for a minute, a self-supporting film having a solvent content of 21.0% by weight was obtained.

フイルムの熱イミド化条件は実施例1と同じである。こ
のポリイミドフイルムは、図2のX線回折パターンや密
度の値から無定形であることが分かる。また図4の応力
−歪み曲線に見る通り実施例1のポリイミドフイルムと
比べて弾性率、引張り強さが劣る。
The thermal imidization conditions of the film are the same as in Example 1. It can be seen from the X-ray diffraction pattern and the density value of FIG. 2 that this polyimide film is amorphous. Further, as seen from the stress-strain curve in FIG. 4, the elastic modulus and tensile strength are inferior to those of the polyimide film of Example 1.

比較例2 実施例1と同様にして樹脂分11.9%のポリアミック酸溶
液を調製したが、溶媒組成はNMP100%とした。このポリ
アミック酸溶液を実施例1と同じくステンレス板に塗布
し、90℃で60分間乾燥し自己支持性フイルムを得た。こ
の自己支持性フイルムの溶媒含有率は46.8重量%であっ
た。
Comparative Example 2 A polyamic acid solution having a resin content of 11.9% was prepared in the same manner as in Example 1, but the solvent composition was NMP 100%. This polyamic acid solution was applied to a stainless steel plate as in Example 1 and dried at 90 ° C for 60 minutes to obtain a self-supporting film. The solvent content of this self-supporting film was 46.8% by weight.

この自己支持性フイルムを360℃の熱風循環式乾燥機に
入れ15分間で360℃に昇温し30分保った。このフイルム
の密度は実施例1のフイルムとほぼ同じだが、図3のX
線回折パターンに見る様に、配向に基づくと思われるピ
ークが2θ=5.8゜にある。図4の応力−歪み曲線に見
る通り実施例1のポリイミドフイルムと比べて、弾性率
は若干高いものの、引張り強さや伸びの様子が劣る。
The self-supporting film was placed in a hot air circulation dryer at 360 ° C, heated to 360 ° C in 15 minutes and kept for 30 minutes. The density of this film is almost the same as that of the film of Example 1, but X in FIG.
As seen in the line diffraction pattern, there is a peak at 2θ = 5.8 ° which seems to be due to the orientation. As shown in the stress-strain curve of FIG. 4, the modulus of elasticity is slightly higher than that of the polyimide film of Example 1, but the tensile strength and elongation are inferior.

比較例3 実施例1と同様にしてポリアミック酸溶液を調製した
が、溶媒組成は、NMP100%とした。このポリアミック酸
溶液を実施例1と同じくステンレス板に塗布し、100℃
で10分間熱風循環式乾燥機で乾燥し剥離しようとしたが
まだ乾燥が不十分であったので、さらに150℃で10分間
乾燥し溶媒含有率38.3重量%の自己支持性フイルムを得
た。
Comparative Example 3 A polyamic acid solution was prepared in the same manner as in Example 1, but the solvent composition was NMP 100%. This polyamic acid solution was applied to a stainless steel plate as in Example 1, and the temperature was 100 ° C.
It was dried with a hot air circulation dryer for 10 minutes and tried to peel it off, but the drying was still insufficient. Therefore, it was further dried at 150 ° C. for 10 minutes to obtain a self-supporting film having a solvent content of 38.3% by weight.

フイルムの熱イミド化は、室温から10分間で150℃まで
昇温し15分間保った。この時の昇温速度は13℃/分であ
る。さらに10分間で250℃に昇温し15分間保ち、続いて1
0分間で350℃に昇温し15分間保った。このポリイミドフ
イルムは、密度の値から無定形であることが分かる。ま
た図4の応力−歪み曲線に見る通り実施例1のポリイミ
ドフイルムと比べて弾性率、引張り強さが劣る。
The thermal imidization of the film was carried out by raising the temperature from room temperature to 150 ° C. in 10 minutes and holding it for 15 minutes. The heating rate at this time is 13 ° C./minute. Raise the temperature to 250 ° C for another 10 minutes and hold for 15 minutes.
The temperature was raised to 350 ° C. in 0 minutes and kept for 15 minutes. It can be seen from the density value that this polyimide film is amorphous. Further, as seen from the stress-strain curve in FIG. 4, the elastic modulus and tensile strength are inferior to those of the polyimide film of Example 1.

実施例2 実施例1と同様にしてポリアミック酸溶液を調製した
が、溶媒組成は、NMP/キシレン=90/10とし、樹脂分12.
6重量%であった。このポリアミック酸溶液を実施例1
と同じくステンレス板に塗布し、120℃で20分間熱循環
式乾燥機で乾燥し、溶媒含有率26.0重量%の自己支持性
フイルムを得た。フイルムの熱イミド化は、室温から2
分間で200℃まで昇温し3分間保った。
Example 2 A polyamic acid solution was prepared in the same manner as in Example 1, but the solvent composition was NMP / xylene = 90/10, and the resin content was 12.
It was 6% by weight. This polyamic acid solution was used in Example 1.
Similarly to the above, it was coated on a stainless plate and dried at 120 ° C. for 20 minutes in a heat cycle dryer to obtain a self-supporting film having a solvent content of 26.0% by weight. Thermal imidization of film is from room temperature to 2
The temperature was raised to 200 ° C. for 3 minutes and kept for 3 minutes.

この時の昇温速度は90℃/分である。さらに2分間で30
0℃に昇温し15分間保ち、続いて350℃に昇温し15分間保
ちポリイミドフイルムとした。
The heating rate at this time is 90 ° C./min. 30 in another 2 minutes
The temperature was raised to 0 ° C. and kept for 15 minutes, and then the temperature was raised to 350 ° C. and kept for 15 minutes to obtain a polyimide film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

図1は、実施例1で作成したポリイミドフイルムのX線
回折図である。 図2は、比較例1で作成したポリイミドフイルムのX線
回折図である。 図3は、比較例2で作成したポリイミドフイルムのX線
解折図である。 図4は、実施例1〜2、比較例1〜3で作成したポリイ
ミドフイルムの引張り試験の結果を応力−歪み曲線とし
て表したもので、1が実施例1の、2〜4が比較例1〜
3、5が実施例2のそれぞれ応力−歪み曲線である。
FIG. 1 is an X-ray diffraction diagram of the polyimide film prepared in Example 1. FIG. 2 is an X-ray diffraction diagram of the polyimide film prepared in Comparative Example 1. FIG. 3 is an X-ray diffraction diagram of the polyimide film prepared in Comparative Example 2. FIG. 4 shows the results of the tensile test of the polyimide films prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3 as a stress-strain curve, where 1 is Example 1 and 2 to 4 are Comparative Example 1. ~
3 and 5 are stress-strain curves of Example 2, respectively.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族
ジアミンとの重縮合生成物であるポリアミック酸の溶液
から流延成形法によりポリイミドフイルムを製造する方
法において、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸
溶液の溶媒が非プロトン性極性溶媒(A)と該非プロト
ン性極性溶媒と相溶性があり、140℃における蒸気圧が5
50mmHg以上である非極性溶媒(B)の混合物であり、か
つ(A):(B)が70:30〜97:3からなるポリアミック
酸溶液を支持体上に均一に塗布し140℃以下の温度で溶
媒含有率が5〜40重量%まで乾燥せしめ自己支持性フイ
ルムを得る工程(1)と、ひきつづき工程(1)で得ら
れた自己支持性フイルムを支持体から剥離し30℃/分以
上の速度で昇温し200℃以上の温度でイミド化する工程
(2)からなることを特徴とするポリイミドフイルムの
製造方法。
1. A method for producing a polyimide film from a solution of polyamic acid, which is a polycondensation product of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine, by a casting method, wherein a polyamic acid which is a precursor of polyimide is used. The solvent of the acid solution is compatible with the aprotic polar solvent (A) and the aprotic polar solvent, and the vapor pressure at 140 ° C is 5
A mixture of a non-polar solvent (B) of 50 mmHg or more and (A) :( B) of 70:30 to 97: 3 is uniformly applied on the support, and the temperature is 140 ° C or lower. The step (1) of obtaining a self-supporting film by drying to a solvent content of 5 to 40% by weight, and the self-supporting film obtained in the continuous step (1) are peeled off from the support at 30 ° C / min or more. A method for producing a polyimide film, which comprises the step (2) of heating at a speed and imidizing at a temperature of 200 ° C. or higher.
【請求項2】ポリアミック酸が無水ピロメリット酸とジ
アミノフェニルエーテルからなるものである特許請求の
範囲第(1)項記載のポリイミドフイルムの製造方法。
2. The method for producing a polyimide film according to claim 1, wherein the polyamic acid comprises pyromellitic dianhydride and diaminophenyl ether.
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