JPH0773330A - テクスチュア像分画装置 - Google Patents
テクスチュア像分画装置Info
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- JPH0773330A JPH0773330A JP6094382A JP9438294A JPH0773330A JP H0773330 A JPH0773330 A JP H0773330A JP 6094382 A JP6094382 A JP 6094382A JP 9438294 A JP9438294 A JP 9438294A JP H0773330 A JPH0773330 A JP H0773330A
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
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- G06T7/11—Region-based segmentation
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- G—PHYSICS
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- G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
- G06V10/20—Image preprocessing
- G06V10/26—Segmentation of patterns in the image field; Cutting or merging of image elements to establish the pattern region, e.g. clustering-based techniques; Detection of occlusion
- G06V10/267—Segmentation of patterns in the image field; Cutting or merging of image elements to establish the pattern region, e.g. clustering-based techniques; Detection of occlusion by performing operations on regions, e.g. growing, shrinking or watersheds
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/20—Special algorithmic details
- G06T2207/20112—Image segmentation details
- G06T2207/20152—Watershed segmentation
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 基本的なステップを考慮しながら新規な方法
を実行し得るテクスチュア像の分画装置を提供する。 【構成】 パラメータを表わす各テクスチュアの特徴に
よって、及び各像を他の異なるテクスチュアに関連する
領域に分解することによって像を表わすデジタル信号に
基づき、テクスチュア像を分画する装置において、テク
スチュアの特徴に対し方向性形態素フィルタのサブアセ
ンブリ１００、及びテクスチュアパラメータを決めるサ
ブアセンブリ２００、並びにこのサブアセンブリ２００
の出力側に所定の大きさのブロックに細分割されたテク
スチュアパラメータ像の転換点ラインを抽出する技術に
よって領域への分画を行うサブアセンブリ３００を具え
る。シーケンス段によってこれらサブアセンブリの異な
る制御信号を形成する。
を実行し得るテクスチュア像の分画装置を提供する。 【構成】 パラメータを表わす各テクスチュアの特徴に
よって、及び各像を他の異なるテクスチュアに関連する
領域に分解することによって像を表わすデジタル信号に
基づき、テクスチュア像を分画する装置において、テク
スチュアの特徴に対し方向性形態素フィルタのサブアセ
ンブリ１００、及びテクスチュアパラメータを決めるサ
ブアセンブリ２００、並びにこのサブアセンブリ２００
の出力側に所定の大きさのブロックに細分割されたテク
スチュアパラメータ像の転換点ラインを抽出する技術に
よって領域への分画を行うサブアセンブリ３００を具え
る。シーケンス段によってこれらサブアセンブリの異な
る制御信号を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は表示パラメータによる各
テクスチュアの特徴によって、および各像の異なるテク
スチュアに関連する領域への分解によって像を表わすデ
ジタル信号に基づきテクスチュア像を分画する装置に関
するものである。また、本発明はかかる装置を具える像
分画システムに関するものである。本発明は例えば伝送
および／または記憶前に像を前処理するために用いるこ
とができる。
テクスチュアの特徴によって、および各像の異なるテク
スチュアに関連する領域への分解によって像を表わすデ
ジタル信号に基づきテクスチュア像を分画する装置に関
するものである。また、本発明はかかる装置を具える像
分画システムに関するものである。本発明は例えば伝送
および／または記憶前に像を前処理するために用いるこ
とができる。
【０００２】
【従来の技術】極めて短い時間周期内に像を伝送または
記憶するためには経済的または技術的理由で一般に達成
し得ない極めて高い速度を必要とする。これがため、伝
送すべき（または記憶すべき）情報を圧縮する必要があ
る。現在のデータ圧縮技術は通常圧縮比が約１０の直交
変換による信号処理に基づくか、または関連する像の良
好な解析に基づくか、あるいはこの像を前処理する方法
に基づくものであり、この方法は各々が輪郭および内部
テクスチュアにより定義される均質領域のアセンブリに
よってこれら像が構成されるものと見なされる。
記憶するためには経済的または技術的理由で一般に達成
し得ない極めて高い速度を必要とする。これがため、伝
送すべき（または記憶すべき）情報を圧縮する必要があ
る。現在のデータ圧縮技術は通常圧縮比が約１０の直交
変換による信号処理に基づくか、または関連する像の良
好な解析に基づくか、あるいはこの像を前処理する方法
に基づくものであり、この方法は各々が輪郭および内部
テクスチュアにより定義される均質領域のアセンブリに
よってこれら像が構成されるものと見なされる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ローザンヌのDepartme
nt d'Electricite de l'Ecole Polytechnique Federale
でR.Leonardiによって発表された論文“Segmentation a
daptative pour le codage d'images", PhD thesis no.
691(1987)に記載されたかかる像前処理方法によって、
輝度がこれら領域の各々で弱く変化する際の均質領域へ
の正しい分画を行うが、これら領域が牧草、ラフィアヤ
シ，木のテクスチュア等に対応するか、或は又、一般
に、一連の構造的アスペクト、または、全表面の一次グ
レインおよびこのグレインの配列または繰返しの１つあ
るいは数個のルールによって定義される多少の周期的ア
スペクトを観測し得る領域に対応する場合には厳しい過
分画となる。かかるテクスチュアを処理するために、そ
の導入部分に関連する型のテクスチュアに従って現在既
知の分画処理の相違点が記載されているフランス国特許
願第２６６０４５９には、任意の型の像に対して好適で
次の基本的なステップ、即ち、プロトタイプベクトルを
形成するパラメータのアセンブリによる各テクスチュア
の特徴化および異なるテクスチュアに関連し、即ち、得
られる領域の可能な結合を有する領域への像の分解によ
る分類を特に具える分画方法を提案している。
nt d'Electricite de l'Ecole Polytechnique Federale
でR.Leonardiによって発表された論文“Segmentation a
daptative pour le codage d'images", PhD thesis no.
691(1987)に記載されたかかる像前処理方法によって、
輝度がこれら領域の各々で弱く変化する際の均質領域へ
の正しい分画を行うが、これら領域が牧草、ラフィアヤ
シ，木のテクスチュア等に対応するか、或は又、一般
に、一連の構造的アスペクト、または、全表面の一次グ
レインおよびこのグレインの配列または繰返しの１つあ
るいは数個のルールによって定義される多少の周期的ア
スペクトを観測し得る領域に対応する場合には厳しい過
分画となる。かかるテクスチュアを処理するために、そ
の導入部分に関連する型のテクスチュアに従って現在既
知の分画処理の相違点が記載されているフランス国特許
願第２６６０４５９には、任意の型の像に対して好適で
次の基本的なステップ、即ち、プロトタイプベクトルを
形成するパラメータのアセンブリによる各テクスチュア
の特徴化および異なるテクスチュアに関連し、即ち、得
られる領域の可能な結合を有する領域への像の分解によ
る分類を特に具える分画方法を提案している。
【０００４】本発明の目的はこれら基本的なステップを
考慮しながら新規な方法を実行し得るテクスチュア像の
分画装置を提供せんとするにある。
考慮しながら新規な方法を実行し得るテクスチュア像の
分画装置を提供せんとするにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は表示パラメータ
による各テクスチュアの特徴によって、および各像の異
なるテクスチュアに関連する領域への分解によって像を
表わすデジタル信号に基づきテクスチュア像を分画する
装置において； （Ａ）テクスチュアの特徴に対し、方向性形態素フィル
タ処理用サブアセンブリおよびこれに続くテクスチュア
パラメータ決定用サブアセンブリと； （Ｂ）これらパラメータ決定用サブアセンブリの出力側
における、所定の大きさのブロックに細分割されたテク
スチュアパラメータ像の転換点ラインを取出す技術によ
って領域内への分割用サブアセンブリと； （Ｃ）前記サブアセンブリの異なる制御信号を確立する
シーケンス段とを具えることを特徴とする。
による各テクスチュアの特徴によって、および各像の異
なるテクスチュアに関連する領域への分解によって像を
表わすデジタル信号に基づきテクスチュア像を分画する
装置において； （Ａ）テクスチュアの特徴に対し、方向性形態素フィル
タ処理用サブアセンブリおよびこれに続くテクスチュア
パラメータ決定用サブアセンブリと； （Ｂ）これらパラメータ決定用サブアセンブリの出力側
における、所定の大きさのブロックに細分割されたテク
スチュアパラメータ像の転換点ラインを取出す技術によ
って領域内への分割用サブアセンブリと； （Ｃ）前記サブアセンブリの異なる制御信号を確立する
シーケンス段とを具えることを特徴とする。
【０００６】
【作用】かかる装置の構成は次の理由でオリジナルなも
のである。像分画を行うために転換点ライン抽出と称さ
れる極めて有効なツールの配置を有する数学的形態素は
一般にテクスチュアのないグレイ−トーン像に対し、即
ち、実際にまたは相対的に一定な輝度領域の分離に対し
このツールを用いるようにしている。原理的にはこの技
術はテクスチュア像の場合には適用できない。その理由
は各テクスチュアに相当する領域は一定の輝度を有さな
いが、かくして明らかな困難性は元の前処理操作を経て
形態素ツールを適用し得る像を再構成することによって
回避できる。
のである。像分画を行うために転換点ライン抽出と称さ
れる極めて有効なツールの配置を有する数学的形態素は
一般にテクスチュアのないグレイ−トーン像に対し、即
ち、実際にまたは相対的に一定な輝度領域の分離に対し
このツールを用いるようにしている。原理的にはこの技
術はテクスチュア像の場合には適用できない。その理由
は各テクスチュアに相当する領域は一定の輝度を有さな
いが、かくして明らかな困難性は元の前処理操作を経て
形態素ツールを適用し得る像を再構成することによって
回避できる。
【０００７】本発明の好適な例では、 （Ａ）前記方向性形態素フィルタ処理用サブアセンブリ
は少なくとも： （ａ）分画すべき像を表わすデジタル信号を記憶する第
１メモリと； （ｂ）この第１メモリの出力側における方向性形態素フ
ィルタ回路と； （ｃ）フィルタ処理して得られた像を記憶する第２メモ
リとと； （ｄ）減算器およびその出力側に設けられ元の像および
フィルタ処理された像間の差から得られた残留の像を記
憶する第３メモリとを具え； （Ｂ）前記テクスチュア
パラメータ決定用サブアセンブリは少なくとも： （ｅ）前記残留の像を積分する回路と； （ｆ）フィルタ処理後に得られるテクスチュア特徴の像
を記憶する第４メモリ、この像を空間サブサンプリング
する回路および形態素傾度を計算する回路の直列接続配
置と； （ｇ）前記形態素傾度計算回路の出力側に設けられたグ
ローバル傾度を記憶するメモリとを具え、 （Ｃ）前記分画サブアセンブリは直列接続の： （ｈ）形態素フィルタ回路と； （ｉ）かくしてフィルタ処理された傾度を記憶する第７
メモリと； （ｊ）前記転換点ラインの計算による分画用の第１回路
と； （ｋ）ラベルの像を記憶する第８メモリとを具える。
は少なくとも： （ａ）分画すべき像を表わすデジタル信号を記憶する第
１メモリと； （ｂ）この第１メモリの出力側における方向性形態素フ
ィルタ回路と； （ｃ）フィルタ処理して得られた像を記憶する第２メモ
リとと； （ｄ）減算器およびその出力側に設けられ元の像および
フィルタ処理された像間の差から得られた残留の像を記
憶する第３メモリとを具え； （Ｂ）前記テクスチュア
パラメータ決定用サブアセンブリは少なくとも： （ｅ）前記残留の像を積分する回路と； （ｆ）フィルタ処理後に得られるテクスチュア特徴の像
を記憶する第４メモリ、この像を空間サブサンプリング
する回路および形態素傾度を計算する回路の直列接続配
置と； （ｇ）前記形態素傾度計算回路の出力側に設けられたグ
ローバル傾度を記憶するメモリとを具え、 （Ｃ）前記分画サブアセンブリは直列接続の： （ｈ）形態素フィルタ回路と； （ｉ）かくしてフィルタ処理された傾度を記憶する第７
メモリと； （ｊ）前記転換点ラインの計算による分画用の第１回路
と； （ｋ）ラベルの像を記憶する第８メモリとを具える。
【０００８】本発明の特定の例では、 （Ａ）前記方向性形態素フィルタ処理用サブアセンブ
リ： （ａ）分画すべき像を表わすデジタル信号を記憶する第
１メモリと； （ｂ）この第１メモリの出力側に設けられた第１の４位
置スイッチおよびこれに続く並列接続の４つの方向性形
態素フィルタ回路と； （ｃ）フィルタ処理して得られた４つの順次の像を記憶
する第２メモリと； （ｄ）減算器およびその出力側に設けられ元の像および
４つのフィルタ処理された像の各々間の差から順次に得
られた残留の４つの像を記憶する第３メモリとを具え； （Ｂ）前記テクスチュアパラメータ決定用サブアセンブ
リは： （ｅ）前記残留の像を積分する回路と； （ｆ）この積分回路の出力側に設けられた第２の４位置
スイッチおよびその後段の各々が対応するフィルタ処理
に関連するテクスチュア特徴の像を記憶する第４メモ
リ、この像を空間サブサンプリングする回路、形態素傾
度を計算する回路および前記傾度を記憶する第５メモリ
の直列接続配置を具える４つの並列支路と； （ｇ）前記第５メモリの出力信号を加算する加算器と； （ｈ）この加算器の出力側に存在するグローバル傾度を
記憶する第６メモリとを具え、 （Ｃ）前記分画サブアセンブリは直列接続の： （ｉ）形態素フィルタ回路と； （ｊ）かくしてフィルタ処理された傾度を記憶する第７
メモリと； （ｋ）前記転換点ラインの計算による分画用の第１回路
と； （ｌ）ラベルの像を記憶する第８メモリとを具えるよう
にする。
リ： （ａ）分画すべき像を表わすデジタル信号を記憶する第
１メモリと； （ｂ）この第１メモリの出力側に設けられた第１の４位
置スイッチおよびこれに続く並列接続の４つの方向性形
態素フィルタ回路と； （ｃ）フィルタ処理して得られた４つの順次の像を記憶
する第２メモリと； （ｄ）減算器およびその出力側に設けられ元の像および
４つのフィルタ処理された像の各々間の差から順次に得
られた残留の４つの像を記憶する第３メモリとを具え； （Ｂ）前記テクスチュアパラメータ決定用サブアセンブ
リは： （ｅ）前記残留の像を積分する回路と； （ｆ）この積分回路の出力側に設けられた第２の４位置
スイッチおよびその後段の各々が対応するフィルタ処理
に関連するテクスチュア特徴の像を記憶する第４メモ
リ、この像を空間サブサンプリングする回路、形態素傾
度を計算する回路および前記傾度を記憶する第５メモリ
の直列接続配置を具える４つの並列支路と； （ｇ）前記第５メモリの出力信号を加算する加算器と； （ｈ）この加算器の出力側に存在するグローバル傾度を
記憶する第６メモリとを具え、 （Ｃ）前記分画サブアセンブリは直列接続の： （ｉ）形態素フィルタ回路と； （ｊ）かくしてフィルタ処理された傾度を記憶する第７
メモリと； （ｋ）前記転換点ラインの計算による分画用の第１回路
と； （ｌ）ラベルの像を記憶する第８メモリとを具えるよう
にする。
【０００９】本発明の他の例では前記分画サブアセンブ
リの出力側に設けられた、前記領域のハイアラーキ分類
を確立することにより前記領域を結合するサブアセンブ
リと、順次にこの分類に現われる領域の対に対し、各領
域の画素の分布を表わす大きさに関連する規準の関数と
して結合するか、または結合しないの判定を行う手段と
を具えるようにする。
リの出力側に設けられた、前記領域のハイアラーキ分類
を確立することにより前記領域を結合するサブアセンブ
リと、順次にこの分類に現われる領域の対に対し、各領
域の画素の分布を表わす大きさに関連する規準の関数と
して結合するか、または結合しないの判定を行う手段と
を具えるようにする。
【００１０】本発明の好適な例では、前記分画サブアセ
ンブリの出力側に設けられた、像を小さな寸法のブロッ
クに分割する転換点ラインの抽出を繰返し、これを１画
素の解像度が得られるまで対話手段で行って輪郭を鋭敏
にするサブアセンブリを具えるようにする。
ンブリの出力側に設けられた、像を小さな寸法のブロッ
クに分割する転換点ラインの抽出を繰返し、これを１画
素の解像度が得られるまで対話手段で行って輪郭を鋭敏
にするサブアセンブリを具えるようにする。
【００１１】本発明の他の目的は上述したテクスチュア
像分画装置を具え、限定されないが一般に主としてテク
スチュアにより構成される像を分画するシステムを提供
せんとするにある
像分画装置を具え、限定されないが一般に主としてテク
スチュアにより構成される像を分画するシステムを提供
せんとするにある
【００１２】本発明像分画システムの一例では、前述の
テクスチュア像分画装置を具え、さらに： （Ａ）初期分画用第１サブアセンブリを構成する装置の
出力側に設けられ、輝度変化の低いテクスチュアまたは
領域に専ら対応する均質領域を分離するとともに分離サ
ブアセンブリの出力像の概算値およびその入力像間の残
留差を各領域に対して決めるとともにこの差の値または
直接関連する大きさと像全体に対するしきい値とを比較
することによりテクスチュアに対応しないか、またはテ
クスチュアに僅かに対応する異質領域を分離する第２サ
ブアセンブリと； （Ｂ）前記分離サブアセンブリの出力側に設けられ、前
記均質領域をテクスチュア領域に、または輝度変化の低
い領域に分類する第３サブアセンブリと； （Ｃ）前記分離サブアセンブリの出力側に設けられ、前
記異質領域を相補分画する第４サブアセンブリとを具え
ることを特徴とする。
テクスチュア像分画装置を具え、さらに： （Ａ）初期分画用第１サブアセンブリを構成する装置の
出力側に設けられ、輝度変化の低いテクスチュアまたは
領域に専ら対応する均質領域を分離するとともに分離サ
ブアセンブリの出力像の概算値およびその入力像間の残
留差を各領域に対して決めるとともにこの差の値または
直接関連する大きさと像全体に対するしきい値とを比較
することによりテクスチュアに対応しないか、またはテ
クスチュアに僅かに対応する異質領域を分離する第２サ
ブアセンブリと； （Ｂ）前記分離サブアセンブリの出力側に設けられ、前
記均質領域をテクスチュア領域に、または輝度変化の低
い領域に分類する第３サブアセンブリと； （Ｃ）前記分離サブアセンブリの出力側に設けられ、前
記異質領域を相補分画する第４サブアセンブリとを具え
ることを特徴とする。
【００１３】像分画システムの特定の例では、前記領域
分離サブアセンブリは元の像および初期分画により得ら
れるに基づき近似多項回路と；各像の輝度の近似関数を
再生する多項合成回路と；前記合成回路からの出力信号
を記憶するメモリと；関連する領域に対し前記メモリ内
に存在する各元の像および多項像を減算する回路と；こ
の差により構成される残留値を記憶するメモリと；前記
残留値およびしきい値の比較によって前記均質領域およ
び前記異質領域内の初期分画により得られる領域の分離
により前記残留値またはこれに直接関連する量の第１テ
スト回路とを具え、且つ前記均質領域記憶サブアセンブ
リは全関連領域に亘り平均値から残留値の標準偏差を計
算するとともにこの標準偏差としきい値とを比較する第
２テスト回路を具える。
分離サブアセンブリは元の像および初期分画により得ら
れるに基づき近似多項回路と；各像の輝度の近似関数を
再生する多項合成回路と；前記合成回路からの出力信号
を記憶するメモリと；関連する領域に対し前記メモリ内
に存在する各元の像および多項像を減算する回路と；こ
の差により構成される残留値を記憶するメモリと；前記
残留値およびしきい値の比較によって前記均質領域およ
び前記異質領域内の初期分画により得られる領域の分離
により前記残留値またはこれに直接関連する量の第１テ
スト回路とを具え、且つ前記均質領域記憶サブアセンブ
リは全関連領域に亘り平均値から残留値の標準偏差を計
算するとともにこの標準偏差としきい値とを比較する第
２テスト回路を具える。
【００１４】本発明像分画システムの好適な例では、前
記相補分画サブアセンブリは直列接続の異質領域選択回
路と；この異質領域を記憶するメモリと；分画装置と；
前記分画により得られるラベルの像を記憶するメモリと
を具えるようにする。
記相補分画サブアセンブリは直列接続の異質領域選択回
路と；この異質領域を記憶するメモリと；分画装置と；
前記分画により得られるラベルの像を記憶するメモリと
を具えるようにする。
【００１５】しかし、回路数を減少する有利な例では、
前記相補分画サブアセンブリは出力側が前記分画すべき
像を表わすディジタル信号を記憶する第１メモリの第２
入力側に接続された異質領域を専用的に選択する回路
と；入力側が第１メモリの第２出力側に接続され且つ出
力側が前記ラベルの像を記憶する第８メモリに接続され
た分画装置との直列接続配置を具えるようにする。
前記相補分画サブアセンブリは出力側が前記分画すべき
像を表わすディジタル信号を記憶する第１メモリの第２
入力側に接続された異質領域を専用的に選択する回路
と；入力側が第１メモリの第２出力側に接続され且つ出
力側が前記ラベルの像を記憶する第８メモリに接続され
た分画装置との直列接続配置を具えるようにする。
【００１６】実施例を説明する前に、テクスチュアおよ
びこれを達成する技術に関する説明を行う。テクスチュ
アの厳密な定義はないが、観測した可視領域が同一の可
視印象を与える任意の領域を定質量化し得、しかも、画
して観測したテクスチュアはマクロテクスチュア、また
は対照的には観測する距離に従ってマクロテクスチュア
と見なすことができる。マクロテクスチュアは基本的な
動機−一種のグレイン−によって、および例えば多少の
規則的な繰返しによりスペース内でこの動機を配置する
規則によって定義するものと思われる。かかるテクスチ
ュアは相対的に構成され、周期的、従って順序立った概
観を有するが、大きな距離からみて、この構体およびこ
の周期は消失し、逆にかかる概観は混乱するようにな
る。
びこれを達成する技術に関する説明を行う。テクスチュ
アの厳密な定義はないが、観測した可視領域が同一の可
視印象を与える任意の領域を定質量化し得、しかも、画
して観測したテクスチュアはマクロテクスチュア、また
は対照的には観測する距離に従ってマクロテクスチュア
と見なすことができる。マクロテクスチュアは基本的な
動機−一種のグレイン−によって、および例えば多少の
規則的な繰返しによりスペース内でこの動機を配置する
規則によって定義するものと思われる。かかるテクスチ
ュアは相対的に構成され、周期的、従って順序立った概
観を有するが、大きな距離からみて、この構体およびこ
の周期は消失し、逆にかかる概観は混乱するようにな
る。
【００１７】基本的な動機およびその配列規則を形式的
に記載するこの困難性のため、一層容易に計算し得るテ
クスチュア特徴を探索するようになる。この探索は関連
するテクスチュアからの特徴パラメータを抽出する解析
および均質なテクスチュア特徴を有する領域に像を区画
する分画の順次のステップを経て実行され、これらステ
ップの後段には例えば各領域に対し初期抽出されたパラ
メータを基としてテクスチュアを再生するための合成ス
テップが設けられる。
に記載するこの困難性のため、一層容易に計算し得るテ
クスチュア特徴を探索するようになる。この探索は関連
するテクスチュアからの特徴パラメータを抽出する解析
および均質なテクスチュア特徴を有する領域に像を区画
する分画の順次のステップを経て実行され、これらステ
ップの後段には例えば各領域に対し初期抽出されたパラ
メータを基としてテクスチュアを再生するための合成ス
テップが設けられる。
【００１８】使用される分画技術では、一般に像の不連
続性または逆に像特徴の類似性を検出することが試みら
れており、これは物体の実輪郭（即ち、像の不連続性）
ができるだけ正確に再現され、しかも不連続性に相当し
ないアーティフィカル境界が形成されるのを防止するた
めに輪郭の数を最小にする。特に数学的形態素は部分的
に像分画の極めて有効な技術を排除するが、関連する像
が相対的に一定な輝度の物体に相当する非テクスチュア
グレイトーンを有する用途においてのみ用いることがで
きる。転換点ライン抽出（以下ＷＳＬと略称する）と称
されるこの技術は“Journal of Visual Communication
and Image Representation" Vol.1, No.1, 1990 年９
月, 第21−46頁に F.MeyerおよびS.Beucher が発表した
論文“Morphological Segmentation" に記載されてい
る。
続性または逆に像特徴の類似性を検出することが試みら
れており、これは物体の実輪郭（即ち、像の不連続性）
ができるだけ正確に再現され、しかも不連続性に相当し
ないアーティフィカル境界が形成されるのを防止するた
めに輪郭の数を最小にする。特に数学的形態素は部分的
に像分画の極めて有効な技術を排除するが、関連する像
が相対的に一定な輝度の物体に相当する非テクスチュア
グレイトーンを有する用途においてのみ用いることがで
きる。転換点ライン抽出（以下ＷＳＬと略称する）と称
されるこの技術は“Journal of Visual Communication
and Image Representation" Vol.1, No.1, 1990 年９
月, 第21−46頁に F.MeyerおよびS.Beucher が発表した
論文“Morphological Segmentation" に記載されてい
る。
【００１９】数学的形態素および特にこのＷＳＬ技術を
良好に理解するために、輝度関数はグレイレベル像の画
素をこれらが一層向上する際に一層明らかとなるレリー
フとして好感度に表わすようにする。また、これを輝度
関数の傾度に適用し、且つこのレリーフにおいて傾度の
頂部ラインが分画すべき領域の境界に相当し得るように
なる。これがため像はキャッチメントベーシンズの併置
と見做すことができ、その底部にはほぼ均一な姿勢を有
するドットより成る領域的に最小の一種の台地を存在さ
せ、その近隣のドットの全部が一層高い姿勢を有するよ
うにする。１つが各領域的に最小の孔を突き刺し、且つ
床レベルが一定速度で上昇することに注目しながら、次
の１つが領域的な最小値に基づきレリーフを順次浸漬し
得るようにする場合には、２つの領域的な最小値からの
床が互いに満足する際に、床が互いに満足して２つの個
別のキャッチメントベーシンズからの床が結合しないラ
インに相当する頂部ラインに沿うダムを構成することが
できる。
良好に理解するために、輝度関数はグレイレベル像の画
素をこれらが一層向上する際に一層明らかとなるレリー
フとして好感度に表わすようにする。また、これを輝度
関数の傾度に適用し、且つこのレリーフにおいて傾度の
頂部ラインが分画すべき領域の境界に相当し得るように
なる。これがため像はキャッチメントベーシンズの併置
と見做すことができ、その底部にはほぼ均一な姿勢を有
するドットより成る領域的に最小の一種の台地を存在さ
せ、その近隣のドットの全部が一層高い姿勢を有するよ
うにする。１つが各領域的に最小の孔を突き刺し、且つ
床レベルが一定速度で上昇することに注目しながら、次
の１つが領域的な最小値に基づきレリーフを順次浸漬し
得るようにする場合には、２つの領域的な最小値からの
床が互いに満足する際に、床が互いに満足して２つの個
別のキャッチメントベーシンズからの床が結合しないラ
インに相当する頂部ラインに沿うダムを構成することが
できる。
【００２０】しかし、このＷＳＬ技術により得た分画は
テクスチュア像に適用することはできない。その理由は
これら像が一定の輝度を有さないからである。それにも
かかわらず、出願人は輝度像に対してよりもむしろ正し
く選定したテクスチュアパラメータから構成した像に対
してこの技術を用いることを試みた。画素のブロックに
細分割された元の像に対してはパラメータが同一のテク
スチュアに関連する場合にこれらブロックは近接したテ
クスチュアパラメータを有する。これがため、もはや元
の像でなく、これら元の像から構成されたパラメータの
像であるこれら像において、同一テクスチュアの画素の
ブロックは極めて近接したグレイレベルによって特徴付
けられる。従ってＷＳＬ技術を輝度以外の量に、即ち、
これらパラメータの１つに、且つ例えば後述する用途で
はその定義を以下に与える形態素傾度Ｇに適用すること
ができる。
テクスチュア像に適用することはできない。その理由は
これら像が一定の輝度を有さないからである。それにも
かかわらず、出願人は輝度像に対してよりもむしろ正し
く選定したテクスチュアパラメータから構成した像に対
してこの技術を用いることを試みた。画素のブロックに
細分割された元の像に対してはパラメータが同一のテク
スチュアに関連する場合にこれらブロックは近接したテ
クスチュアパラメータを有する。これがため、もはや元
の像でなく、これら元の像から構成されたパラメータの
像であるこれら像において、同一テクスチュアの画素の
ブロックは極めて近接したグレイレベルによって特徴付
けられる。従ってＷＳＬ技術を輝度以外の量に、即ち、
これらパラメータの１つに、且つ例えば後述する用途で
はその定義を以下に与える形態素傾度Ｇに適用すること
ができる。
【００２１】像の幾何学的構体を表わすために現在用い
られている主形態素ツールをまず最初に記載するのが有
利である。相対積分数のスペースＮで定義される個別の
データのアセンブリＸにより表わされる２進像の形態素
変換によって提案された問題（形状、寸法、配向等）の
関数として選択され、有利な幾何学的情報成分を抽出す
る像に対して相互作用せしめる構体素子Ｂを用いるよう
にする。かかる構体素子Ｂによって達成される異なる基
本的な変換は図１および２に示される侵食であり、拡張
であり、且つその組合せは図３および４に示される開放
および閉成である。
られている主形態素ツールをまず最初に記載するのが有
利である。相対積分数のスペースＮで定義される個別の
データのアセンブリＸにより表わされる２進像の形態素
変換によって提案された問題（形状、寸法、配向等）の
関数として選択され、有利な幾何学的情報成分を抽出す
る像に対して相互作用せしめる構体素子Ｂを用いるよう
にする。かかる構体素子Ｂによって達成される異なる基
本的な変換は図１および２に示される侵食であり、拡張
であり、且つその組合せは図３および４に示される開放
および閉成である。
【００２２】構体素子Ｂによる像Ｘの形態素侵食をこの
場合Ｘ（−）Ｂで示し、且つこれを幅を狭めるために用
いる。この構成は次式で示すことができる。 Ｘ（−）Ｂ＝〔Ｘ＋（−ｂ）〕 ここにＸ＋（−ｂ）は像Ｘの値ｂの翻訳結果である。こ
の合成像は例えば次式で表わすことができる。 Ｙ＝“ＸのＹによる侵食関数Ｙ”＝ＥB （Ｘ） 同様に、ＸのＹによる形態素拡張をＸ（＋）Ｂで示し、
且つこれを像の拡張に用いこの拡張をも〔Ｘ＋（＋
ｂ）〕として示し、これが前述したように像Ｘの値ｂの
翻訳に相当し、しかも方向が逆の場合には像Ｙを次式で
示すように得ることができる。 Ｙ＝“ＸのＹによる侵食関数Ｙ”＝ＤB （Ｘ） これら２つの基本的な作動を組合せて一層複雑な形態素
変換を行うことができる。像Ｘの構体素子Ｂの開放〔Ｘ
（−）Ｂ〕（＋）Ｂは侵食およびこれに続く拡張を実施
することにあり、その合成像を例えば次式のように示
す。 Ｐ＝ＤB 〔ＥB （Ｘ）〕 同様に、像ＸのＢによる閉成〔Ｘ（＋）Ｂ〕（−）Ｂは
拡張およびこれに続く侵食を実施することにあり、その
合成像を例えば次式のように示す。 Ｆ＝ＥB 〔ＤB （Ｘ）〕
場合Ｘ（−）Ｂで示し、且つこれを幅を狭めるために用
いる。この構成は次式で示すことができる。 Ｘ（−）Ｂ＝〔Ｘ＋（−ｂ）〕 ここにＸ＋（−ｂ）は像Ｘの値ｂの翻訳結果である。こ
の合成像は例えば次式で表わすことができる。 Ｙ＝“ＸのＹによる侵食関数Ｙ”＝ＥB （Ｘ） 同様に、ＸのＹによる形態素拡張をＸ（＋）Ｂで示し、
且つこれを像の拡張に用いこの拡張をも〔Ｘ＋（＋
ｂ）〕として示し、これが前述したように像Ｘの値ｂの
翻訳に相当し、しかも方向が逆の場合には像Ｙを次式で
示すように得ることができる。 Ｙ＝“ＸのＹによる侵食関数Ｙ”＝ＤB （Ｘ） これら２つの基本的な作動を組合せて一層複雑な形態素
変換を行うことができる。像Ｘの構体素子Ｂの開放〔Ｘ
（−）Ｂ〕（＋）Ｂは侵食およびこれに続く拡張を実施
することにあり、その合成像を例えば次式のように示
す。 Ｐ＝ＤB 〔ＥB （Ｘ）〕 同様に、像ＸのＢによる閉成〔Ｘ（＋）Ｂ〕（−）Ｂは
拡張およびこれに続く侵食を実施することにあり、その
合成像を例えば次式のように示す。 Ｆ＝ＥB 〔ＤB （Ｘ）〕
【００２３】これら２つの後者の変換はその目的がこれ
らが作動するアセンブリの輪郭を平滑化することにあ
る。実際上、開放によって構成素子よりも小さい輪郭突
出部を抑圧するとともに閉成によって構成素子よりも小
さい輪郭ディップを閉成する。一般に、これら２つの変
換によって使用する構成素子よりも小さい成分を除去す
る。
らが作動するアセンブリの輪郭を平滑化することにあ
る。実際上、開放によって構成素子よりも小さい輪郭突
出部を抑圧するとともに閉成によって構成素子よりも小
さい輪郭ディップを閉成する。一般に、これら２つの変
換によって使用する構成素子よりも小さい成分を除去す
る。
【００２４】簡単な幾何学的境界、この場合２進像に対
するかく定義された関数はグレイ−トーン像に対し汎用
とすることができる。（ｘ，ｙ）によってグレイレベル
像ａ（ｘ，ｙ）の外挿Ｘの位置を定義する場合にはＸの
Ｂによる侵食グレイレベルＥ（ｘ，ｙ）は次式で表わす
ことができる。 Ｅ（ｘ，ｙ）＝ｍｉｎ〔ａ（ｘ−ｉ，ｙ−ｊ）−ｂ
（ｉ，ｊ）〕 ここにｂ（ｉ，ｊ）＝０または−∞（−無限大）は
（ｉ，ｊ）がＢに属するかまた属さないかに依存する。
ＸのＢによる拡張グレイレベルＤ（ｘ，ｙ）は次式によ
り同様に与えられる。 Ｄ（ｘ，ｙ）＝ｍａｘ〔ａ（ｘ＋ｉ，ｙ＋ｊ）＋ｂ
（ｉ，ｊ）〕 構成素子Ｂによる関数ｆのそれぞれ侵食および拡張を示
す図１および２の例に示すように、侵食はレリーフの頂
部を平滑化する傾向、即ち、厚さの薄い輝度パッチを抑
圧する傾向にあり、且つ、拡張はディップを充填する傾
向にあり、即ち、厚さの薄いダークパッチを抑圧する傾
向にある。同様にグレイトーンにより図３および４に示
され、次式でそれぞれ表わすとともにＢに関する値
（ｕ，ｖ）を有する構成素子ｂにより関数ｆの開放Ｐお
よび閉成Ｆはその目的が輝度ピークおよび輝度条溝をそ
れぞれ抑圧し、その大きさを構成素子の大きさよりも小
さくするが、ほぼ不変の他の形状は残存させるようにす
る。 Ｐ（ｘ，ｙ）＝ｓｕｐ〔ＥB （ｆ（ｕ，ｖ））〕 Ｆ（ｘ，ｙ）＝ｉｎｆ〔ＤB （ｆ（ｕ，ｖ））〕
するかく定義された関数はグレイ−トーン像に対し汎用
とすることができる。（ｘ，ｙ）によってグレイレベル
像ａ（ｘ，ｙ）の外挿Ｘの位置を定義する場合にはＸの
Ｂによる侵食グレイレベルＥ（ｘ，ｙ）は次式で表わす
ことができる。 Ｅ（ｘ，ｙ）＝ｍｉｎ〔ａ（ｘ−ｉ，ｙ−ｊ）−ｂ
（ｉ，ｊ）〕 ここにｂ（ｉ，ｊ）＝０または−∞（−無限大）は
（ｉ，ｊ）がＢに属するかまた属さないかに依存する。
ＸのＢによる拡張グレイレベルＤ（ｘ，ｙ）は次式によ
り同様に与えられる。 Ｄ（ｘ，ｙ）＝ｍａｘ〔ａ（ｘ＋ｉ，ｙ＋ｊ）＋ｂ
（ｉ，ｊ）〕 構成素子Ｂによる関数ｆのそれぞれ侵食および拡張を示
す図１および２の例に示すように、侵食はレリーフの頂
部を平滑化する傾向、即ち、厚さの薄い輝度パッチを抑
圧する傾向にあり、且つ、拡張はディップを充填する傾
向にあり、即ち、厚さの薄いダークパッチを抑圧する傾
向にある。同様にグレイトーンにより図３および４に示
され、次式でそれぞれ表わすとともにＢに関する値
（ｕ，ｖ）を有する構成素子ｂにより関数ｆの開放Ｐお
よび閉成Ｆはその目的が輝度ピークおよび輝度条溝をそ
れぞれ抑圧し、その大きさを構成素子の大きさよりも小
さくするが、ほぼ不変の他の形状は残存させるようにす
る。 Ｐ（ｘ，ｙ）＝ｓｕｐ〔ＥB （ｆ（ｕ，ｖ））〕 Ｆ（ｘ，ｙ）＝ｉｎｆ〔ＤB （ｆ（ｕ，ｖ））〕
【００２５】変換のこれら型のうち、形態素傾度Ｇは次
式で表わされるように定義することができる。 Ｇ（ｆ）＝〔（ｆ（＋）Ｂ）−（ｆ（−）Ｂ）〕／２ これはそのままｆのＢによる拡張関数およびｆのＢによ
る侵食間の差の半分に相当する。
式で表わされるように定義することができる。 Ｇ（ｆ）＝〔（ｆ（＋）Ｂ）−（ｆ（−）Ｂ）〕／２ これはそのままｆのＢによる拡張関数およびｆのＢによ
る侵食間の差の半分に相当する。
【００２６】
【実施例】テクスチュアおよび形態素変換技術に関する
この記載の後、本発明像分画装置を説明する。図５およ
び６に示すようにこの像分画装置は方向性形態素フィル
タリングを行うサブアセンブリ１００を具える。このサ
ブアセンブリ１００は（この場合これが含まれる他のテ
クスチュアの関数として分画すべき）像を表わすディジ
タル信号を記憶する第１メモリ１０を具える。このメモ
リ１０の出力端子を第１の４位置スイッチ５の共通入力
端子に接続し、その４つの並列出力端子を形４つの方向
性態素フィルタ回路１１，１２，１３，１４に接続す
る。これら４つのフィルタ回路１１乃至１４によって各
々が順次の開口および閉口より成る４つの像変換を行う
ことができ、これにより構成素子が平坦で、且つそれぞ
れ１画素分の厚さ、３画素分の長さおよび０゜，４５
゜，９０゜および１３５゜の方位を有するようになる。
４つのフィルタ処理された像は第２メモリ２０に順次記
憶する。第３メモリ３０によって各構成素子に対する残
部の像を記憶し得るようにし、この残部はメモリ１０に
記憶された元の像とメッセージ２０に記憶されたフィル
タ処理像の各々との間の差から減算器２５の出力側に得
ることができる（各残部はこの差の絶対値によって与え
られる）。各画素に対するおよび４つの形態素フィルタ
作動の各々に対するこの残部の値はテクスチュアパラメ
ータを構成し、且つこれによりかかるフィルタ作動の変
形と同程度の多くのテクスチュアパラメータマップを確
立することができる。
この記載の後、本発明像分画装置を説明する。図５およ
び６に示すようにこの像分画装置は方向性形態素フィル
タリングを行うサブアセンブリ１００を具える。このサ
ブアセンブリ１００は（この場合これが含まれる他のテ
クスチュアの関数として分画すべき）像を表わすディジ
タル信号を記憶する第１メモリ１０を具える。このメモ
リ１０の出力端子を第１の４位置スイッチ５の共通入力
端子に接続し、その４つの並列出力端子を形４つの方向
性態素フィルタ回路１１，１２，１３，１４に接続す
る。これら４つのフィルタ回路１１乃至１４によって各
々が順次の開口および閉口より成る４つの像変換を行う
ことができ、これにより構成素子が平坦で、且つそれぞ
れ１画素分の厚さ、３画素分の長さおよび０゜，４５
゜，９０゜および１３５゜の方位を有するようになる。
４つのフィルタ処理された像は第２メモリ２０に順次記
憶する。第３メモリ３０によって各構成素子に対する残
部の像を記憶し得るようにし、この残部はメモリ１０に
記憶された元の像とメッセージ２０に記憶されたフィル
タ処理像の各々との間の差から減算器２５の出力側に得
ることができる（各残部はこの差の絶対値によって与え
られる）。各画素に対するおよび４つの形態素フィルタ
作動の各々に対するこの残部の値はテクスチュアパラメ
ータを構成し、且つこれによりかかるフィルタ作動の変
形と同程度の多くのテクスチュアパラメータマップを確
立することができる。
【００２７】これがため、図５および６に示す装置にお
いては、像の各画素をその再群別が４成分ベクトルと見
なされる４つの情報成分によって置換する。しかし、１
つのテクスチュアはポイント指示された属性から定義す
ることはできない。その理由は単一の画素がグレインを
表わさないとともに構成素子の配置の規則を表わさず、
この画素の近隣を用いる必要があるからである。テクス
チュア特徴を対物的に抽出し得るようにするためには、
存在するテクスチュア部分を有効に認識し得るに充分な
大きさのテクスチュアのサンプルを知る必要がある。
いては、像の各画素をその再群別が４成分ベクトルと見
なされる４つの情報成分によって置換する。しかし、１
つのテクスチュアはポイント指示された属性から定義す
ることはできない。その理由は単一の画素がグレインを
表わさないとともに構成素子の配置の規則を表わさず、
この画素の近隣を用いる必要があるからである。テクス
チュア特徴を対物的に抽出し得るようにするためには、
存在するテクスチュア部分を有効に認識し得るに充分な
大きさのテクスチュアのサンプルを知る必要がある。
【００２８】この目的のために、サブアセンブリ１００
の出力側にテクスチュアパラメータを決めるサブアセン
ブリ２００を配列する。このサブアセンブリ２００は残
留像を積分する回路３５を具え、この回路を第３メモリ
３０の出力側に配列し、これによりベクトル成分の値が
大きな面積に亘ってほぼ一定となる箇所に均質領域を形
成し得るようにする。。積分窓の大きさｍ×ｎは元の像
の型の関数となり、本例では５１２×５１２画素で構成
される像に対し２４×２４画素の窓寸法を保持するが、
像にマクロテクスチュアが存在すると、窓が全てのテク
スチュア情報を包含し得るようにするために、一層高い
分解能を必要とする。他方、かくして達成した積分はこ
の場合簡単な平均値の計算であるが、かかる計算では、
例えば各画素の影響は窓の中心に対する距離の関数とし
て重み付きとなる。
の出力側にテクスチュアパラメータを決めるサブアセン
ブリ２００を配列する。このサブアセンブリ２００は残
留像を積分する回路３５を具え、この回路を第３メモリ
３０の出力側に配列し、これによりベクトル成分の値が
大きな面積に亘ってほぼ一定となる箇所に均質領域を形
成し得るようにする。。積分窓の大きさｍ×ｎは元の像
の型の関数となり、本例では５１２×５１２画素で構成
される像に対し２４×２４画素の窓寸法を保持するが、
像にマクロテクスチュアが存在すると、窓が全てのテク
スチュア情報を包含し得るようにするために、一層高い
分解能を必要とする。他方、かくして達成した積分はこ
の場合簡単な平均値の計算であるが、かかる計算では、
例えば各画素の影響は窓の中心に対する距離の関数とし
て重み付きとなる。
【００２９】積分回路３５の出力端子を第２スイッチ３
６の共通入力端子に接続し、その非共通出力端子、この
場合４つを直列接続の４つのメモリ４１乃至４４および
サブサンプリング回路４５乃至４８を具える４つの並列
支路にそれぞれ接続する。メモリ４１乃至４４によって
遂行された４つの形態素フィルタ作動の各々に相当する
テクスチュア特徴の４つの像の順次の並列配置を行うこ
とができる。サブアセンブリ回路４５乃至４８によって
それぞれ水平方向および垂直方向におけるｐ×ｑ全体に
亘ってこれら像の空間サブサンプリングを行うことがで
き、ｐ×ｑ画素の各ブロックは以下マクロ画素（本例で
はｐ＝ｑ＝１６）と称されるサブサンプルと置換する。
メモリ４１乃至４４から得られ、且つ選択された像の積
分後に得られたテクスチュアパラメータの平均値に相当
する値は各マクロ画素に関連する。このサブサンプリン
グ作動によって実行すべき精細度ｐ×ｑで次の作動の全
部を行い得るようにするとともに単位エンティティはブ
ロックｐ×ｑであり、画素ではない。かかるブロック内
では平均値の簡単な計算に対する選択がなされるが、他
の一層複雑な計算を採用することもできる。ブロック間
の境界を再定義するためには、各画素の貢献度を例えば
ガウスの定理に従ってブロックの中心までの距離の関数
として重み付けすることもできる。
６の共通入力端子に接続し、その非共通出力端子、この
場合４つを直列接続の４つのメモリ４１乃至４４および
サブサンプリング回路４５乃至４８を具える４つの並列
支路にそれぞれ接続する。メモリ４１乃至４４によって
遂行された４つの形態素フィルタ作動の各々に相当する
テクスチュア特徴の４つの像の順次の並列配置を行うこ
とができる。サブアセンブリ回路４５乃至４８によって
それぞれ水平方向および垂直方向におけるｐ×ｑ全体に
亘ってこれら像の空間サブサンプリングを行うことがで
き、ｐ×ｑ画素の各ブロックは以下マクロ画素（本例で
はｐ＝ｑ＝１６）と称されるサブサンプルと置換する。
メモリ４１乃至４４から得られ、且つ選択された像の積
分後に得られたテクスチュアパラメータの平均値に相当
する値は各マクロ画素に関連する。このサブサンプリン
グ作動によって実行すべき精細度ｐ×ｑで次の作動の全
部を行い得るようにするとともに単位エンティティはブ
ロックｐ×ｑであり、画素ではない。かかるブロック内
では平均値の簡単な計算に対する選択がなされるが、他
の一層複雑な計算を採用することもできる。ブロック間
の境界を再定義するためには、各画素の貢献度を例えば
ガウスの定理に従ってブロックの中心までの距離の関数
として重み付けすることもできる。
【００３０】また、４つの並列支路には形態素傾度を計
算する４つの回路５１乃至５４、かくして計算した計算
を記憶する第５メモリと称される４つのメモリ５５乃至
５８をも設ける。これら第５メモリの出力端子は４つの
支路の出力端子を構成するとともに第５メモリ６０に記
憶されるグローバル傾度ＧG を供給する加算器５９の同
一数の入力端子に接続する。前述した所はＷＳＬ技術に
よりまず最初処理し、次いで関連するテクスチュアパラ
メータから構成され、次に形態素傾度Ｇから部分的に構
成された像にこの技術を適用する技術選択により処理す
る。実際上１つのテクスチュア内の傾度Ｇの変化は左程
重要ではないが、異なるテクスチュアの領域間の境界の
レベルでのグローバル傾度はより高くなる（これら領域
間のコントラストが高くなるにつれて高くなる）。
算する４つの回路５１乃至５４、かくして計算した計算
を記憶する第５メモリと称される４つのメモリ５５乃至
５８をも設ける。これら第５メモリの出力端子は４つの
支路の出力端子を構成するとともに第５メモリ６０に記
憶されるグローバル傾度ＧG を供給する加算器５９の同
一数の入力端子に接続する。前述した所はＷＳＬ技術に
よりまず最初処理し、次いで関連するテクスチュアパラ
メータから構成され、次に形態素傾度Ｇから部分的に構
成された像にこの技術を適用する技術選択により処理す
る。実際上１つのテクスチュア内の傾度Ｇの変化は左程
重要ではないが、異なるテクスチュアの領域間の境界の
レベルでのグローバル傾度はより高くなる（これら領域
間のコントラストが高くなるにつれて高くなる）。
【００３１】実際の分画は分画サブアセンブリ３００で
行う。ＷＳＬ技術によるこの分画は２つのステップ、即
ち、抽出すべき領域をマークする第１のステップおよび
定義的に像の領域をアウトライン化する第２のステップ
を具える。領域内の画素の小アセンブリであり、且つそ
の発展の核をそのまま構成するマーカはマークする領域
に特定の手段で対応させる必要がある。このマーカに対
する良好な候補は各領域におけるグローバル傾度Ｇの最
小値である。検出された領域の最小値全部にＷＳＬ技術
を適用することにより相対的に著しい過剰分画を行うよ
うになる。その理由は或る最小値が実際には充分でない
からである（これらが任意のテクスチュア内の傾度の僅
かな変動に依存するだけであるからである）。
行う。ＷＳＬ技術によるこの分画は２つのステップ、即
ち、抽出すべき領域をマークする第１のステップおよび
定義的に像の領域をアウトライン化する第２のステップ
を具える。領域内の画素の小アセンブリであり、且つそ
の発展の核をそのまま構成するマーカはマークする領域
に特定の手段で対応させる必要がある。このマーカに対
する良好な候補は各領域におけるグローバル傾度Ｇの最
小値である。検出された領域の最小値全部にＷＳＬ技術
を適用することにより相対的に著しい過剰分画を行うよ
うになる。その理由は或る最小値が実際には充分でない
からである（これらが任意のテクスチュア内の傾度の僅
かな変動に依存するだけであるからである）。
【００３２】この過剰分画を防止するために、サブアセ
ンブリ３００で前処理操作を行い、この操作によってこ
れら著しくない最小値を除去する。この前処理は測地的
エロージョンによる形態素フィルタリング回路６５を用
いて達成する。数学的形態素の数個の基本関数に関する
前述した所の他に、ここではアセンブリＺの２つのドッ
トｘおよびｙ間の測地的距離ｄZ （ｘ，ｙ）をアセンブ
リＺの２つのドットｘおよびｙ間の他の異なる可能な経
路長の下限とする。この測地的距離はｄZ （ｘ，ｙ）＝
ｉｎｆ［長さＣ（ｘ，ｙ）］で表わすことができ、ここ
にＣはドットｘおよびｙ間のアセンブリＺの任意の経路
を示す。（従ってＷＳＬ技術により得られた２つの異な
る貯水器に位置する２つのドット間のこの距離は従来無
限であると見なされていた。その理由はこれら２つのド
ットが結合し得ないからである。）これがため、ドット
ｘを中心とする半径Ｒの測地的球体は同一のアセンブリ
Ｚに関連するドットｙのアセンブリＳ（ｘ，ｙ）と称さ
れ、従って、ドットｘのこれら測地的距離ｄＺ（ｘ，
ｙ）は半径Ｒよりも短いか、またはこれに等しい。次い
で、構成素子Ｂを用いることによって前に定義したよう
なエロージョンまたは拡張はかかる測地的球体で実施す
ることができ、この球体の球面には同一の平滑効果が生
じる。
ンブリ３００で前処理操作を行い、この操作によってこ
れら著しくない最小値を除去する。この前処理は測地的
エロージョンによる形態素フィルタリング回路６５を用
いて達成する。数学的形態素の数個の基本関数に関する
前述した所の他に、ここではアセンブリＺの２つのドッ
トｘおよびｙ間の測地的距離ｄZ （ｘ，ｙ）をアセンブ
リＺの２つのドットｘおよびｙ間の他の異なる可能な経
路長の下限とする。この測地的距離はｄZ （ｘ，ｙ）＝
ｉｎｆ［長さＣ（ｘ，ｙ）］で表わすことができ、ここ
にＣはドットｘおよびｙ間のアセンブリＺの任意の経路
を示す。（従ってＷＳＬ技術により得られた２つの異な
る貯水器に位置する２つのドット間のこの距離は従来無
限であると見なされていた。その理由はこれら２つのド
ットが結合し得ないからである。）これがため、ドット
ｘを中心とする半径Ｒの測地的球体は同一のアセンブリ
Ｚに関連するドットｙのアセンブリＳ（ｘ，ｙ）と称さ
れ、従って、ドットｘのこれら測地的距離ｄＺ（ｘ，
ｙ）は半径Ｒよりも短いか、またはこれに等しい。次い
で、構成素子Ｂを用いることによって前に定義したよう
なエロージョンまたは拡張はかかる測地的球体で実施す
ることができ、この球体の球面には同一の平滑効果が生
じる。
【００３３】本例では、領域的最小値は高さｈに保持さ
れるだけである。図７は関数Ｇ（グローバル傾度）の１
例を示し、この上に関数Ｇ＋ｈを構成し（ここにｈは正
の定数）、且つ図８は形態素フィルタリング回路６５に
よる測地的エロージョン後に最終的に得られる関数を初
期関数Ｇに対して示す。この形態素フィルタリング回路
６５に直列に配列された第７メモリ７０によってフィル
タ処理された傾度の像の記憶を行う（この最終的に得ら
れた像では、前処理は実際上高さｈ以下のディップを抑
圧し、高さｈの他のディップを充填することである）。
第７メモリ７０の出力信号は（ＷＳＬ技術を直接用い
る）転換点ラインを計算することにより第１分画回路７
５に供給し、この初期分画によってマップまたはラベル
の像を形成し、これにより分画から発生する種々の異な
る領域を識別することができる。ラベルのこの像は第８
メモリ８０に記憶する。像の可能な過剰分画を除去する
ための隣接領域を結合することにより分画手続きを終了
する。この結合手続きは次のようにして実行する。
れるだけである。図７は関数Ｇ（グローバル傾度）の１
例を示し、この上に関数Ｇ＋ｈを構成し（ここにｈは正
の定数）、且つ図８は形態素フィルタリング回路６５に
よる測地的エロージョン後に最終的に得られる関数を初
期関数Ｇに対して示す。この形態素フィルタリング回路
６５に直列に配列された第７メモリ７０によってフィル
タ処理された傾度の像の記憶を行う（この最終的に得ら
れた像では、前処理は実際上高さｈ以下のディップを抑
圧し、高さｈの他のディップを充填することである）。
第７メモリ７０の出力信号は（ＷＳＬ技術を直接用い
る）転換点ラインを計算することにより第１分画回路７
５に供給し、この初期分画によってマップまたはラベル
の像を形成し、これにより分画から発生する種々の異な
る領域を識別することができる。ラベルのこの像は第８
メモリ８０に記憶する。像の可能な過剰分画を除去する
ための隣接領域を結合することにより分画手続きを終了
する。この結合手続きは次のようにして実行する。
【００３４】定数ｈを（あまり高すぎない値に）適宜に
選択することにより像はしばしば中程度に過剰分画され
るようになる。この過剰分画は領域を結合するサブアセ
ンブリ４００によって隣接領域を再群別する方法を実施
することによって減少させるようにする。このサブアセ
ンブリで行われる結合処理は次のステップを具える： （ａ）領域のハイアラーキ分類を確立する。その順次の
素子は近隣減少の順序で隣接領域のカップル（Ｒa ，Ｒ
b ）である； （ｂ）この分類の領域対の各々に対し、これら画素の分
布を表わす量の２つの比較領域の各々との協力を行う； （ｃ）上記量に関連する規準の関数として２つの領域を
結合するかまたは結合しないかを決める。
選択することにより像はしばしば中程度に過剰分画され
るようになる。この過剰分画は領域を結合するサブアセ
ンブリ４００によって隣接領域を再群別する方法を実施
することによって減少させるようにする。このサブアセ
ンブリで行われる結合処理は次のステップを具える： （ａ）領域のハイアラーキ分類を確立する。その順次の
素子は近隣減少の順序で隣接領域のカップル（Ｒa ，Ｒ
b ）である； （ｂ）この分類の領域対の各々に対し、これら画素の分
布を表わす量の２つの比較領域の各々との協力を行う； （ｃ）上記量に関連する規準の関数として２つの領域を
結合するかまたは結合しないかを決める。
【００３５】これらのステップはさらに詳細に説明する
ことができる。第１に、領域およびテクスチュアパラメ
ータをマークするための（第８メモリ８０により供給さ
れる）情報（ここではサブサンプリング後積分窓のテク
スチュアパラメータの平均値）に基づき、分類回路４０
１は次のように対状の隣接領域全部を順次考察する。所
定領域Ｒi に対し、領域Ｒi の原型である領域Ｐi は領
域Ｒi を構成するブロックのパラメータのベクトルのア
センブリの平均ベクトルであり、これは次式で定義する
ことができる。 Ｐi ＝（１／Ｎi ）×Σｐk ここにＮi は領域Ｒi のブロックの数であり、ｐk はブ
ロックｋのパラメータのベクトルである。これがため各
領域が原型ベクトルによりマークされると、領域Ｒi お
よび各隣接領域Ｒj 間の距離ｄ（Ｒi ，Ｒj ）は例えば
次式で示すユークリッドの距離の定義を用いて評価する
ことができる。
ことができる。第１に、領域およびテクスチュアパラメ
ータをマークするための（第８メモリ８０により供給さ
れる）情報（ここではサブサンプリング後積分窓のテク
スチュアパラメータの平均値）に基づき、分類回路４０
１は次のように対状の隣接領域全部を順次考察する。所
定領域Ｒi に対し、領域Ｒi の原型である領域Ｐi は領
域Ｒi を構成するブロックのパラメータのベクトルのア
センブリの平均ベクトルであり、これは次式で定義する
ことができる。 Ｐi ＝（１／Ｎi ）×Σｐk ここにＮi は領域Ｒi のブロックの数であり、ｐk はブ
ロックｋのパラメータのベクトルである。これがため各
領域が原型ベクトルによりマークされると、領域Ｒi お
よび各隣接領域Ｒj 間の距離ｄ（Ｒi ，Ｒj ）は例えば
次式で示すユークリッドの距離の定義を用いて評価する
ことができる。
【数１】 ここにＮは各ベクトルの成分の数であり、ｐi およびｐ
j はそれぞれ原型ベクトルＰi およびＰj に対する成分
である。
j はそれぞれ原型ベクトルＰi およびＰj に対する成分
である。
【００３６】隣接領域の全ての可能なカップル（Ｒi ，
Ｒj ）は距離に対して採用された定義とは無関係なカッ
プルを分離する距離の関数として分類され、パラメータ
ベクトルが近接しているカップル（Ｒa ，Ｒb ）がこの
分類の第１素子である場合には、順次各領域を表わす大
きさを計算する回路４０２はこの分類の各カップル（Ｒ
i ，Ｒj ）に作用し、カップルの２つの領域の各々に対
し、領域を形成する画素の累積の分布を特徴付ける量を
決めるようにする。領域の簡潔さの一種のインデックス
を構成するこの量は例えば次式に従って標準偏差Ｓに等
しくなるように選択する。
Ｒj ）は距離に対して採用された定義とは無関係なカッ
プルを分離する距離の関数として分類され、パラメータ
ベクトルが近接しているカップル（Ｒa ，Ｒb ）がこの
分類の第１素子である場合には、順次各領域を表わす大
きさを計算する回路４０２はこの分類の各カップル（Ｒ
i ，Ｒj ）に作用し、カップルの２つの領域の各々に対
し、領域を形成する画素の累積の分布を特徴付ける量を
決めるようにする。領域の簡潔さの一種のインデックス
を構成するこの量は例えば次式に従って標準偏差Ｓに等
しくなるように選択する。
【数２】 ここにＮi は領域Ｒi を表わす画素の数（即ち、ブロッ
クの数）であり、distは選択された測距系に従う距離
（上例のユークリッド距離）である。
クの数）であり、distは選択された測距系に従う距離
（上例のユークリッド距離）である。
【００３７】次いで、例えば、次に示す不等式が２領域
Ｒa ，Ｒb に対し照明される場合に、即ち、関連する２
領域間の（選択された測距系に従う）距離が各領域に対
し２つの標準偏差値Ｓa ，Ｓb の下限値以下に保持され
る（これは画素の各計算の重心が他方内で一方を囲む状
況にほぼ相当する）場合にはこれら表示量に関連する規
準に基づく対の２領域間の結合を決定回路４０３によっ
て承認する： Ｄｉｓｔ（Ｒa ，Ｒb ）＞ｍｉｎ（Ｓa ，Ｓb ） これに対し、上記不等式が承認されない場合には上記結
合を行わない。２領域が結合すると、斯くして形成され
た新たな領域に対し新たな標準ベクトルが計算されるよ
うになる。次いで決定回路４０３の出力信号を領域マー
キング情報更新メモリ８０に供給するとともに回路４０
１によって達成された分類更新回路４０１および回路４
０２によって達成された標準偏差の計算更新回路４０２
に供給し、従って結合規準がもはや承認されなくなるま
で隣接領域の対全部に対する順次の結合決定、再分類決
定および処理決定を更新することができる。
Ｒa ，Ｒb に対し照明される場合に、即ち、関連する２
領域間の（選択された測距系に従う）距離が各領域に対
し２つの標準偏差値Ｓa ，Ｓb の下限値以下に保持され
る（これは画素の各計算の重心が他方内で一方を囲む状
況にほぼ相当する）場合にはこれら表示量に関連する規
準に基づく対の２領域間の結合を決定回路４０３によっ
て承認する： Ｄｉｓｔ（Ｒa ，Ｒb ）＞ｍｉｎ（Ｓa ，Ｓb ） これに対し、上記不等式が承認されない場合には上記結
合を行わない。２領域が結合すると、斯くして形成され
た新たな領域に対し新たな標準ベクトルが計算されるよ
うになる。次いで決定回路４０３の出力信号を領域マー
キング情報更新メモリ８０に供給するとともに回路４０
１によって達成された分類更新回路４０１および回路４
０２によって達成された標準偏差の計算更新回路４０２
に供給し、従って結合規準がもはや承認されなくなるま
で隣接領域の対全部に対する順次の結合決定、再分類決
定および処理決定を更新することができる。
【００３８】隣接領域のこの可能な再群別によって分画
を完全に終了する。従って初期像はこの像を同様のテク
スチュアパラメータの区域に置換し、この区画の基本的
ブリック、即ち、単位エンティティは大きさｐ×ｑの像
ブロックである。従ってこれら区域間の境界の解像度は
これらブリックの大きさに等しくなる。
を完全に終了する。従って初期像はこの像を同様のテク
スチュアパラメータの区域に置換し、この区画の基本的
ブリック、即ち、単位エンティティは大きさｐ×ｑの像
ブロックである。従ってこれら区域間の境界の解像度は
これらブリックの大きさに等しくなる。
【００３９】上述した装置はテクスチュアのみより成る
像を分画するために用いる。しかし、最も頻繁には各像
はテクスチュア領域およびテクスチュアされていない領
域を併置して形成する。これがため一層完全な分画シス
テムを提供するとともに図９に第１例で示すこのシステ
ムは後続するサブアセンブリ、本例では上述した分画装
置（図５および６）と同一のテクスチュアを分画する第
１サブアセンブリ１５０を具える。このサブアセンブリ
１５０の素子は装置の装置と同一であるため、これらの
全ては図９に示さない。即ち、図９は分画すべき像を表
わすデジタル信号を具える入力メモリ１０とテクスチュ
ア分画から生じる種々の異なる領域を識別し得るラベル
の像を具える出力メモリ８０とに限定する。図５および
６においてこれら２つのメモリ間に配列された中間の回
路は図９において符号１８で示す。
像を分画するために用いる。しかし、最も頻繁には各像
はテクスチュア領域およびテクスチュアされていない領
域を併置して形成する。これがため一層完全な分画シス
テムを提供するとともに図９に第１例で示すこのシステ
ムは後続するサブアセンブリ、本例では上述した分画装
置（図５および６）と同一のテクスチュアを分画する第
１サブアセンブリ１５０を具える。このサブアセンブリ
１５０の素子は装置の装置と同一であるため、これらの
全ては図９に示さない。即ち、図９は分画すべき像を表
わすデジタル信号を具える入力メモリ１０とテクスチュ
ア分画から生じる種々の異なる領域を識別し得るラベル
の像を具える出力メモリ８０とに限定する。図５および
６においてこれら２つのメモリ間に配列された中間の回
路は図９において符号１８で示す。
【００４０】このサブアセンブリ１５０により可能とな
る分画処理によってそのうちの幾つかがテクスチュアに
結う呼応に対応する数領域に像を分割する。これら領
域、即ち、テクスチュアに関連しない領域またはテクス
チュアにのみ関連する領域間の識別を行うために、領域
を分離する第２サブアセンブリ２５０を設ける。
る分画処理によってそのうちの幾つかがテクスチュアに
結う呼応に対応する数領域に像を分割する。これら領
域、即ち、テクスチュアに関連しない領域またはテクス
チュアにのみ関連する領域間の識別を行うために、領域
を分離する第２サブアセンブリ２５０を設ける。
【００４１】このサブアセンブリ２５０は近似多項式回
路２５１を具え、これにより属性またはパラメータ、こ
こでは２次多項式を各領域に関連させ、これを用いて各
領域の解析近似値が得られるようにする。この操作によ
って分画から得られた所定領域の内部テクスチュアの緩
慢な変化（低周波数）のモデリングを行うようにする。
路２５１を具え、これにより属性またはパラメータ、こ
こでは２次多項式を各領域に関連させ、これを用いて各
領域の解析近似値が得られるようにする。この操作によ
って分画から得られた所定領域の内部テクスチュアの緩
慢な変化（低周波数）のモデリングを行うようにする。
【００４２】この近似多項式回路２５１の後段には多項
式合成回路２５２を設け、これにより元の領域の輝度に
近似する関数を再生し得るようにする。この多項式合成
回路２５２の出力信号を各領域に対しメモリ２５３（以
下多項像メモリと称する）に記憶する。元の像メモリ１
０およびこの多項像メモリ２５３の出力信号を受ける減
算回路２５４によって各領域の元の輝度および対応する
多項関数間の残留差、即ち、残留値を決めるようにす
る。この手続きによって、所定領域のテクスチュア（例
えばタイルまたはスレートより成る屋根の陰影）に重畳
し得る可能な低周波成分を抽出する。この残留値を各領
域に対し第１テスト回路２５６が後続するメモリ２５５
に記憶する。
式合成回路２５２を設け、これにより元の領域の輝度に
近似する関数を再生し得るようにする。この多項式合成
回路２５２の出力信号を各領域に対しメモリ２５３（以
下多項像メモリと称する）に記憶する。元の像メモリ１
０およびこの多項像メモリ２５３の出力信号を受ける減
算回路２５４によって各領域の元の輝度および対応する
多項関数間の残留差、即ち、残留値を決めるようにす
る。この手続きによって、所定領域のテクスチュア（例
えばタイルまたはスレートより成る屋根の陰影）に重畳
し得る可能な低周波成分を抽出する。この残留値を各領
域に対し第１テスト回路２５６が後続するメモリ２５５
に記憶する。
【００４３】このテスト回路２５６では、サブアセンブ
リ１５０によって達成される初期分画から発生する領域
を均質領域および異質領域に分離することができる。低
周波成分がこれらに重畳されても、またはこれら領域の
み（またはテクスチュアの殆ど占有的に小さな表面がサ
ブシストされる）が緩慢な輝度変化を有するも、均質領
域は分画後単にテクスチュアより成ると見なされる領域
である（屋根のタイルまたはスレートの例、あるいは壁
のブリックの例等が既に記載されている）。この場合に
は異質領域は全て他の領域であり、即ち、任意のテクス
チュアを具えない、またはその表面に極めて少数のテク
スチュアのみを具える領域であり、さらにこの分画は紛
う事なく不完全である。その理由はテクスチュア領域を
特に探索するサブアセンブリ１５０がこれらに充分影響
を与えることはできない（以下にこれら領域にかかる少
数テクスチュア区域が存在する手段を明らかにする）。
異質領域に対しては残留値、即ち、重要なダイナミック
特性も強力に変化する。その理由は多項関数が関連する
領域の輝度変化を完全にモデル化し得ないからである。
これに対し、テクスチュア均質領域または緩慢な輝度変
化を有する領域に対し、残留値が可能なテクスチュア情
報を含むのみであり、その１次（平均、変化）の静特性
はほぼ一定である。従って本例で実行されるテストは局
部平均値（ここに局部平均値とは検査領域の現在の画素
の所定寸法の近辺で評価される平均値を意味するもので
ある）の画素毎の計算にあり、且つこの平均値が（極め
て僅かに変化する、または逆に著しく）変化する手段の
検証にある。この領域が特にテクスチュアに相当する場
合にはこの局部変化が常時しきい値以下に保持される。
領域が異質である場合には局部平均値はかかる規準を満
足しない。テストの結果は２つの可能な出力信号ＨＭお
よびＨＥによって規定される。この信号がＨＭである
か、またはＨＥであるかに依存して、関連する領域はテ
クスチュアのみに相当するか、あるいは逆に異質領域に
相当する。
リ１５０によって達成される初期分画から発生する領域
を均質領域および異質領域に分離することができる。低
周波成分がこれらに重畳されても、またはこれら領域の
み（またはテクスチュアの殆ど占有的に小さな表面がサ
ブシストされる）が緩慢な輝度変化を有するも、均質領
域は分画後単にテクスチュアより成ると見なされる領域
である（屋根のタイルまたはスレートの例、あるいは壁
のブリックの例等が既に記載されている）。この場合に
は異質領域は全て他の領域であり、即ち、任意のテクス
チュアを具えない、またはその表面に極めて少数のテク
スチュアのみを具える領域であり、さらにこの分画は紛
う事なく不完全である。その理由はテクスチュア領域を
特に探索するサブアセンブリ１５０がこれらに充分影響
を与えることはできない（以下にこれら領域にかかる少
数テクスチュア区域が存在する手段を明らかにする）。
異質領域に対しては残留値、即ち、重要なダイナミック
特性も強力に変化する。その理由は多項関数が関連する
領域の輝度変化を完全にモデル化し得ないからである。
これに対し、テクスチュア均質領域または緩慢な輝度変
化を有する領域に対し、残留値が可能なテクスチュア情
報を含むのみであり、その１次（平均、変化）の静特性
はほぼ一定である。従って本例で実行されるテストは局
部平均値（ここに局部平均値とは検査領域の現在の画素
の所定寸法の近辺で評価される平均値を意味するもので
ある）の画素毎の計算にあり、且つこの平均値が（極め
て僅かに変化する、または逆に著しく）変化する手段の
検証にある。この領域が特にテクスチュアに相当する場
合にはこの局部変化が常時しきい値以下に保持される。
領域が異質である場合には局部平均値はかかる規準を満
足しない。テストの結果は２つの可能な出力信号ＨＭお
よびＨＥによって規定される。この信号がＨＭである
か、またはＨＥであるかに依存して、関連する領域はテ
クスチュアのみに相当するか、あるいは逆に異質領域に
相当する。
【００４４】しきい値比較テストは簡単であり、関連す
る領域の画素毎に残留差の値に直接関連するか、または
逆にこの残留差に直接関連する他の量に関連し、この選
択は制限されない。かかる選択が局部平均値に関連する
上述した例では、この平均値は例えば領域の画素毎にシ
フトする２４×２４画素の近辺において評価される。こ
の場合、このシフトにおいて、近辺が領域に全体的に含
まれない画素は考慮しない。局部平均値が著しく変化し
ないかどうかを検証するために、その最大値Ｍａｘ（ｍ
i ）および最小値Ｍｉｎ（ｍi ）を決め、ここにｍi は
画素ｉを中心とする近辺における残留値の平均値であ
り、且つその差（Ｍａｘ（ｍi ）−Ｍｉｎ（ｍi ）が第
１しきい値Ｔ1 以下に保持されるかどうかを検証する。
この条件が検証されない場合には異質領域とみなされる
関連の領域を符号化される前に再び分画して異質領域に
存在し、且つ上述したようにさもないと少数の小テクス
チュア区域を含む輝度変化の緩やかな他の均質領域を分
離し得るようにする必要がある。逆の場合には領域は均
質領域となり、処理してそのまま符号化することができ
る。
る領域の画素毎に残留差の値に直接関連するか、または
逆にこの残留差に直接関連する他の量に関連し、この選
択は制限されない。かかる選択が局部平均値に関連する
上述した例では、この平均値は例えば領域の画素毎にシ
フトする２４×２４画素の近辺において評価される。こ
の場合、このシフトにおいて、近辺が領域に全体的に含
まれない画素は考慮しない。局部平均値が著しく変化し
ないかどうかを検証するために、その最大値Ｍａｘ（ｍ
i ）および最小値Ｍｉｎ（ｍi ）を決め、ここにｍi は
画素ｉを中心とする近辺における残留値の平均値であ
り、且つその差（Ｍａｘ（ｍi ）−Ｍｉｎ（ｍi ）が第
１しきい値Ｔ1 以下に保持されるかどうかを検証する。
この条件が検証されない場合には異質領域とみなされる
関連の領域を符号化される前に再び分画して異質領域に
存在し、且つ上述したようにさもないと少数の小テクス
チュア区域を含む輝度変化の緩やかな他の均質領域を分
離し得るようにする必要がある。逆の場合には領域は均
質領域となり、処理してそのまま符号化することができ
る。
【００４５】この目的のため、本発明システムは領域を
分離する第２サブアセンブリ２５０の出力側において均
質領域をテクスチュア領域および輝度変化の緩やかな領
域に分類する第３サブアセンブリ３５０を具える。この
第３サブアセンブリ３５０はテスト回路２５６からの出
力信号ＨＭを受信する際にのみ閉成する有効スイッチ３
５５と、このスイッチの出力側において平均値（原理的
には零とし得る）に対する残留値に標準偏差を全領域に
亘って計算するとともにこの標準偏差を第２しきい値Ｔ
2 と比較する第２テスト回路３５１を具える。この標準
偏差がしきい値Ｔ2 以下に保持される場合には残留値は
任意のテクスチュアを含まず、関連する領域は緩やかな
（または零値の）輝度変化を有する領域のみとなる。こ
のモデリングは停止する：即ち、（メモリ８０に存在す
るラベルの像によって与えられる）輪郭情報成分および
（近似多項式回路２５１により抽出された多項式係数に
よって与えられる）領域内容情報はこの領域を規定する
には充分であり、且つ分画から生ずる種々の情報成分を
符号化する手段をサブアセンブリ３５０に設ける場合に
はこれら情報は第２テスト回路３５１からの終了のため
の制御信号を受ける有効スイッチ３５６および３５７を
経て輪郭符号化回路３５２に、および多項式符号化回路
３５３に供給し、従ってこれら回路はこの第１の型の領
域（輝度変化の緩やかな均質領域）に相当する符号化信
号を送出する。逆に、標準偏差がこの第２しきい値Ｔ2
以下に保持されない場合には関連する領域はテクスチュ
ア領域であり、この符号化手段が設けられている場合に
は領域の輪郭および内容に関連する情報成分は第２テス
ト回路３５１からの終了のための制御信号を受ける有効
スイッチ３５８を経てテクスチュア領域符号化回路３５
４に供給する。
分離する第２サブアセンブリ２５０の出力側において均
質領域をテクスチュア領域および輝度変化の緩やかな領
域に分類する第３サブアセンブリ３５０を具える。この
第３サブアセンブリ３５０はテスト回路２５６からの出
力信号ＨＭを受信する際にのみ閉成する有効スイッチ３
５５と、このスイッチの出力側において平均値（原理的
には零とし得る）に対する残留値に標準偏差を全領域に
亘って計算するとともにこの標準偏差を第２しきい値Ｔ
2 と比較する第２テスト回路３５１を具える。この標準
偏差がしきい値Ｔ2 以下に保持される場合には残留値は
任意のテクスチュアを含まず、関連する領域は緩やかな
（または零値の）輝度変化を有する領域のみとなる。こ
のモデリングは停止する：即ち、（メモリ８０に存在す
るラベルの像によって与えられる）輪郭情報成分および
（近似多項式回路２５１により抽出された多項式係数に
よって与えられる）領域内容情報はこの領域を規定する
には充分であり、且つ分画から生ずる種々の情報成分を
符号化する手段をサブアセンブリ３５０に設ける場合に
はこれら情報は第２テスト回路３５１からの終了のため
の制御信号を受ける有効スイッチ３５６および３５７を
経て輪郭符号化回路３５２に、および多項式符号化回路
３５３に供給し、従ってこれら回路はこの第１の型の領
域（輝度変化の緩やかな均質領域）に相当する符号化信
号を送出する。逆に、標準偏差がこの第２しきい値Ｔ2
以下に保持されない場合には関連する領域はテクスチュ
ア領域であり、この符号化手段が設けられている場合に
は領域の輪郭および内容に関連する情報成分は第２テス
ト回路３５１からの終了のための制御信号を受ける有効
スイッチ３５８を経てテクスチュア領域符号化回路３５
４に供給する。
【００４６】所望に応じ、このテクスチュア領域符号化
回路３５４白血球、例えば本願人の出願によるヨーロッ
パ特許出願ＥＰ 0 545 475号およびＥＰ 0 547 696号に
記載された型の符号化装置とすることができ、従ってそ
の詳細な説明は行わない。かかる符号化処理の原理はテ
クスチュア信号がある繰返し効果を有するとともにテク
スチュアの１サンプルを採るだけで全テクスチュアの再
構成には充分であると云う事実に基づくものである。特
にこの符号化作動は、領域からＭ×Ｎ画素の１サンプル
を抽出し、このサンプルを符号化し、次いで送信しおよ
び／または記憶し、且つ同時に用いて一般に同一寸法を
有し、前記サンプルから抽出されたブロックに基づく辞
書を規定するとともに全部の関連する領域の各ブロック
に対し前記辞書の最も近接したブロック（この近接は最
小直交距離の評価によって規定する）のアドレスを伝送
することにある。
回路３５４白血球、例えば本願人の出願によるヨーロッ
パ特許出願ＥＰ 0 545 475号およびＥＰ 0 547 696号に
記載された型の符号化装置とすることができ、従ってそ
の詳細な説明は行わない。かかる符号化処理の原理はテ
クスチュア信号がある繰返し効果を有するとともにテク
スチュアの１サンプルを採るだけで全テクスチュアの再
構成には充分であると云う事実に基づくものである。特
にこの符号化作動は、領域からＭ×Ｎ画素の１サンプル
を抽出し、このサンプルを符号化し、次いで送信しおよ
び／または記憶し、且つ同時に用いて一般に同一寸法を
有し、前記サンプルから抽出されたブロックに基づく辞
書を規定するとともに全部の関連する領域の各ブロック
に対し前記辞書の最も近接したブロック（この近接は最
小直交距離の評価によって規定する）のアドレスを伝送
することにある。
【００４７】しかし、かかる符号化方法は、テクスチュ
ア領域が小さすぎる表面区域を有する場合には興味のな
いものである。その理由は、テクスチュア領域への分画
中においてこの分画後テクスチュアでないと見做される
領域にテクスチュア区域が存在する領域の残部の表面に
対し小さな表面のテクスチュア区域があるからである。
実際上この小さな表面はかかる区域で抽出されるテクス
チュアのサンプルの表面に近似するか、またはこれより
も小さいにもかかわらず、この領域の表面がこれに相当
するサンプルの表面よりも区別し得る程度に大きい場合
にのみ、（サンプルの抽出、これらサンプルの伝送、お
よび予め構成した辞書の最も近接したブロックの探索に
より再構成すべき領域の合成による）この符号化方法は
実際に興味があり、かつ経済的である。これがため、テ
クスチュアより成る像を分画する初期装置によって小さ
なテクスチュア領域の捕捉を最初に含まない多重解像を
行うことができる。
ア領域が小さすぎる表面区域を有する場合には興味のな
いものである。その理由は、テクスチュア領域への分画
中においてこの分画後テクスチュアでないと見做される
領域にテクスチュア区域が存在する領域の残部の表面に
対し小さな表面のテクスチュア区域があるからである。
実際上この小さな表面はかかる区域で抽出されるテクス
チュアのサンプルの表面に近似するか、またはこれより
も小さいにもかかわらず、この領域の表面がこれに相当
するサンプルの表面よりも区別し得る程度に大きい場合
にのみ、（サンプルの抽出、これらサンプルの伝送、お
よび予め構成した辞書の最も近接したブロックの探索に
より再構成すべき領域の合成による）この符号化方法は
実際に興味があり、かつ経済的である。これがため、テ
クスチュアより成る像を分画する初期装置によって小さ
なテクスチュア領域の捕捉を最初に含まない多重解像を
行うことができる。
【００４８】逆に、考察した領域が異質である場合には
符号化を行う前に再び分画を行う必要がある。この目的
のために、本発明システムは、領域を分離するサブアセ
ンブリ２５０の出力側にも異質領域を相補分画する第４
サブアセンブリ４５０ａを具える。本例ではこの相補分
画サブアセンブリ４５０ａは直列接続の異質領域を排他
的に選択する回路４６０を具え、この回路４６０はメモ
リ１０および８０の出力信号並びにテスト回路２５６の
出力信号ＨＥを受け、さらにこのサブアセンブリ４５０
ａはこれら異質領域を記憶するメモリ４５１と、慣例の
型の相補分画装置４５５と、前記分画により得られるラ
ベルの像を記憶するメモリ４５８と、メモリ４５１の出
力信号をも受け、且つ回路２５１の構体と同一の構体を
有する近似多項式回路５５１とを具える。また、本例で
は種々の分画情報成分を符号化する手段をサブアセンブ
リ４５０ａに配列する場合には、近似多項式回路５５１
に直列に回路３５３と同一の多項式符号化回路５５３を
具えるとともにメモリ４５８に直列に且つ回路５５１お
よび５５３を具える支路に並列に輪郭符号化回路５５２
を具える。回路５５２および５５３によって異質領域の
相補分画から生じ、且つ輝度変化の緩やかな均質領域で
ある領域の各々に相当する領域符号化信号を供給する。
符号化を行う前に再び分画を行う必要がある。この目的
のために、本発明システムは、領域を分離するサブアセ
ンブリ２５０の出力側にも異質領域を相補分画する第４
サブアセンブリ４５０ａを具える。本例ではこの相補分
画サブアセンブリ４５０ａは直列接続の異質領域を排他
的に選択する回路４６０を具え、この回路４６０はメモ
リ１０および８０の出力信号並びにテスト回路２５６の
出力信号ＨＥを受け、さらにこのサブアセンブリ４５０
ａはこれら異質領域を記憶するメモリ４５１と、慣例の
型の相補分画装置４５５と、前記分画により得られるラ
ベルの像を記憶するメモリ４５８と、メモリ４５１の出
力信号をも受け、且つ回路２５１の構体と同一の構体を
有する近似多項式回路５５１とを具える。また、本例で
は種々の分画情報成分を符号化する手段をサブアセンブ
リ４５０ａに配列する場合には、近似多項式回路５５１
に直列に回路３５３と同一の多項式符号化回路５５３を
具えるとともにメモリ４５８に直列に且つ回路５５１お
よび５５３を具える支路に並列に輪郭符号化回路５５２
を具える。回路５５２および５５３によって異質領域の
相補分画から生じ、且つ輝度変化の緩やかな均質領域で
ある領域の各々に相当する領域符号化信号を供給する。
【００４９】本発明は図５および６に示す装置の例に限
定されず、且つ上述した変形例にも限定されず、しかも
図９に示すシステムの例にも限定されるものではない。
定されず、且つ上述した変形例にも限定されず、しかも
図９に示すシステムの例にも限定されるものではない。
【００５０】図５および６に示す分画装置では、分画は
特に解像度を強めることにより行うことができる。分画
を前述したＷＳＬ技術に従い、次いで領域を結合するこ
とにより行った後この分画および結合処理から得た領域
の境界の解像度はこれら境界に階段のステップの形状を
与えるテクスチュアパラメータ（上例では１６×１６画
素のブロック）を割当てるブロックの大きさに等しい。
この残留欠損は輪郭を先鋭化するサブアセンブリ５００
（図６参照）をサブアセンブリ４００の出力側に配列す
ることにより修復することができる。このサブアセンブ
リ５００はマーカ抽出回路５０１と、その後段に設けら
れ、かくして構成出力端子マーカの像を記憶する第９メ
モリ９０とを具える。このメモリの出力側には、転換点
ラインを計算し、第６メモリ６０の出力側に存在するグ
ローバル傾度像およびこの第９メモリ９０の出力側に存
在するマーカ像を受けることにより分画を行う第２回路
５０３を配列する。このサブアセンブリ５００は以下の
ように作動する。テクスチュアパラメータ像および傾度
が前述した１６×１６画素のマクロブロックを有するに
もかかわらず、各構成したブロックの寸法は減少され
（例えば２／１に減少され、これは無制限な例であ
る）、且つ転換点ラインを抽出する方法は増強された解
像度（寸法が１／２の場合には２倍）の新たなグローバ
ル傾度に基づいて使用され、既に達成し分画から得られ
た領域の中心部分をマーカとして用いる（１つの領域の
中心部分は輪郭に位置しない選択された大きさのマクロ
画素のアセンブリである）。従って、転換点ラインを抽
出する新たな処理に対しブロックまたはマクロブロック
の大きさは（例えば他の１／２に）再び減少し、可能に
は１つの画素の解像度に到達するまでこれを繰返す。こ
れがため分画が最終的に達成されるようになる。
特に解像度を強めることにより行うことができる。分画
を前述したＷＳＬ技術に従い、次いで領域を結合するこ
とにより行った後この分画および結合処理から得た領域
の境界の解像度はこれら境界に階段のステップの形状を
与えるテクスチュアパラメータ（上例では１６×１６画
素のブロック）を割当てるブロックの大きさに等しい。
この残留欠損は輪郭を先鋭化するサブアセンブリ５００
（図６参照）をサブアセンブリ４００の出力側に配列す
ることにより修復することができる。このサブアセンブ
リ５００はマーカ抽出回路５０１と、その後段に設けら
れ、かくして構成出力端子マーカの像を記憶する第９メ
モリ９０とを具える。このメモリの出力側には、転換点
ラインを計算し、第６メモリ６０の出力側に存在するグ
ローバル傾度像およびこの第９メモリ９０の出力側に存
在するマーカ像を受けることにより分画を行う第２回路
５０３を配列する。このサブアセンブリ５００は以下の
ように作動する。テクスチュアパラメータ像および傾度
が前述した１６×１６画素のマクロブロックを有するに
もかかわらず、各構成したブロックの寸法は減少され
（例えば２／１に減少され、これは無制限な例であ
る）、且つ転換点ラインを抽出する方法は増強された解
像度（寸法が１／２の場合には２倍）の新たなグローバ
ル傾度に基づいて使用され、既に達成し分画から得られ
た領域の中心部分をマーカとして用いる（１つの領域の
中心部分は輪郭に位置しない選択された大きさのマクロ
画素のアセンブリである）。従って、転換点ラインを抽
出する新たな処理に対しブロックまたはマクロブロック
の大きさは（例えば他の１／２に）再び減少し、可能に
は１つの画素の解像度に到達するまでこれを繰返す。こ
れがため分画が最終的に達成されるようになる。
【００５１】これら輪郭先鋭化作動を行っても行わなく
ても、本発明分画装置は全ての場合にシーケンス段６０
０を具え、これにより異なる他の所望の制御信号を供給
し得る制御論理を構成する。これら制御信号には次のも
のがある。 （ａ）異なる形態素フィルタ作動を承認し、テクスチュ
ア特徴の４つの像の記憶に相当するスイッチの位置を制
御する信号Ｓ1 ； （ｂ）マクロ画素の大きさを、第１の分画に対して採用
された大きさ（ここでは１６×１６画素）で、次いで輪
郭先鋭化中次の大きさ（１／２の大きさ）に調整し得る
信号Ｓ2 ； （ｃ）隣接領域を結合する可能な作動を初期化する信号
Ｓ3 ； （ｄ）初期分画中転換点ラインの計算により分画処理を
トリガする信号Ｓ4 （ｅ）初期分画後に得られる領域の輪郭の先鋭化中相補
分画処理をトリガする信号Ｓ5 。
ても、本発明分画装置は全ての場合にシーケンス段６０
０を具え、これにより異なる他の所望の制御信号を供給
し得る制御論理を構成する。これら制御信号には次のも
のがある。 （ａ）異なる形態素フィルタ作動を承認し、テクスチュ
ア特徴の４つの像の記憶に相当するスイッチの位置を制
御する信号Ｓ1 ； （ｂ）マクロ画素の大きさを、第１の分画に対して採用
された大きさ（ここでは１６×１６画素）で、次いで輪
郭先鋭化中次の大きさ（１／２の大きさ）に調整し得る
信号Ｓ2 ； （ｃ）隣接領域を結合する可能な作動を初期化する信号
Ｓ3 ； （ｄ）初期分画中転換点ラインの計算により分画処理を
トリガする信号Ｓ4 （ｅ）初期分画後に得られる領域の輪郭の先鋭化中相補
分画処理をトリガする信号Ｓ5 。
【００５２】従って、信号Ｓ1 はスイッチ５および３６
に供給し、信号Ｓ2 はサブアセンブリ回路４５乃至４８
に供給し、信号Ｓ3 は分類回路４０１に供給し、信号Ｓ
4 は第１分画回路７５に供給し、信号Ｓ5 は第２分画回
路５０３に供給する。
に供給し、信号Ｓ2 はサブアセンブリ回路４５乃至４８
に供給し、信号Ｓ3 は分類回路４０１に供給し、信号Ｓ
4 は第１分画回路７５に供給し、信号Ｓ5 は第２分画回
路５０３に供給する。
【００５３】また、各々が個別の形態素フィルタ作動に
相当する４つの経路を有する分画装置を達成するが、分
画装置が単一形態素フィルタ作動に相当する少なくとも
１つの経路を具える場合には本発明は既に実行した。こ
の簡単な例では、スイッチ５および３６並びに加算器５
９はもはや設けない。この単一経路の例によって単一領
域をこの領域から分離することによって像を分画する。
また、経路の数にかかわりなく、構成素子の大きさ、形
状および配向を修正して発明の要旨を変更することなく
任意の型のテクスチュア特徴を抽出することができる。
相当する４つの経路を有する分画装置を達成するが、分
画装置が単一形態素フィルタ作動に相当する少なくとも
１つの経路を具える場合には本発明は既に実行した。こ
の簡単な例では、スイッチ５および３６並びに加算器５
９はもはや設けない。この単一経路の例によって単一領
域をこの領域から分離することによって像を分画する。
また、経路の数にかかわりなく、構成素子の大きさ、形
状および配向を修正して発明の要旨を変更することなく
任意の型のテクスチュア特徴を抽出することができる。
【００５４】図９に示す像分画システムの場合には、回
路の数、従ってシステムの価格を低減することができ、
これを図１０に示すシステムを簡単に変形することによ
って達成することができる。異質領域を相補分画する第
４サブアセンブリ４５０ｂでは、異質領域を排他的に選
択する回路４６０の出力信号はもはやメモリ４５１（設
けられていない）には供給せず、分画すべき初期像を表
わすデジタル信号を記憶する第１メモリ１０に供給す
る。このメモリ１０の出力信号を相補分画装置４５５に
供給する。この相補分画装置４５５の出力信号は設けら
れていないメモリ４５８には供給しないで、ラベルの像
を記憶する第８メモリ８０に供給し、このメモリは相補
分画後達成された分画作動の総数の経路で識別された領
域のアセンブリに相当するラベルの新たな像を具える。
回路５５２および５５３によりサブアセンブリ４５０ａ
で達成された種々の分画情報成分の可能な符号化は回路
３５２および３５３で行う。
路の数、従ってシステムの価格を低減することができ、
これを図１０に示すシステムを簡単に変形することによ
って達成することができる。異質領域を相補分画する第
４サブアセンブリ４５０ｂでは、異質領域を排他的に選
択する回路４６０の出力信号はもはやメモリ４５１（設
けられていない）には供給せず、分画すべき初期像を表
わすデジタル信号を記憶する第１メモリ１０に供給す
る。このメモリ１０の出力信号を相補分画装置４５５に
供給する。この相補分画装置４５５の出力信号は設けら
れていないメモリ４５８には供給しないで、ラベルの像
を記憶する第８メモリ８０に供給し、このメモリは相補
分画後達成された分画作動の総数の経路で識別された領
域のアセンブリに相当するラベルの新たな像を具える。
回路５５２および５５３によりサブアセンブリ４５０ａ
で達成された種々の分画情報成分の可能な符号化は回路
３５２および３５３で行う。
【００５５】多項式の順序およびしきい値は固定された
値ではない。これらの値は分画装置の分画段６００から
の制御信号（図示せず）により修正する。
値ではない。これらの値は分画装置の分画段６００から
の制御信号（図示せず）により修正する。
【００５６】本発明では分画装置および分画システムに
つき説明したが、この分画システムには分画作動後に供
給され、各識別領域にそれぞれ相当する種々の情報成分
を符号化する手段を含めることができる。かかる符号化
手段はその可能な特性を信号化記載中に説明しており、
且つ特に回路３５２乃至３５４並びに回路５５２および
５５３を具える。また、同一の回路３５２および５５２
の代わりに同一の機能を呈する単一の回路を用いるとと
もに同一の回路３５３および５５３の代わりに他の単一
回路を設けることもできる。この置換によってもよらな
くても、符号化手段はサブアセンブリ３５０または４５
０ａあるいは４５０ｂに組込まないで図９または図１０
に示す１つの符号化サブアセンブリ９５０ａまたは９５
０ｂに再群別する。
つき説明したが、この分画システムには分画作動後に供
給され、各識別領域にそれぞれ相当する種々の情報成分
を符号化する手段を含めることができる。かかる符号化
手段はその可能な特性を信号化記載中に説明しており、
且つ特に回路３５２乃至３５４並びに回路５５２および
５５３を具える。また、同一の回路３５２および５５２
の代わりに同一の機能を呈する単一の回路を用いるとと
もに同一の回路３５３および５５３の代わりに他の単一
回路を設けることもできる。この置換によってもよらな
くても、符号化手段はサブアセンブリ３５０または４５
０ａあるいは４５０ｂに組込まないで図９または図１０
に示す１つの符号化サブアセンブリ９５０ａまたは９５
０ｂに再群別する。
【図１】構成素子による関数の基本的な形態素変換を示
す説明図である。
す説明図である。
【図２】構成素子による関数の基本的な形態素変換を示
す説明図である。
す説明図である。
【図３】構成素子による関数の基本的な形態素変換を示
す説明図である。
す説明図である。
【図４】構成素子による関数の基本的な形態素変換を示
す説明図である。
す説明図である。
【図５】本発明分画装置の１例を示す回路図である。
【図６】本発明分画装置の１例を示す回路図である。
【図７】グローバル傾度の形態素フィルタリングを本発
明分画装置の作動時に測地的腐食によって達成する手段
を示す説明図である。
明分画装置の作動時に測地的腐食によって達成する手段
を示す説明図である。
【図８】グローバル傾度の形態素フィルタリングを本発
明分画装置の作動時に測地的腐食によって達成する手段
を示す説明図である。
明分画装置の作動時に測地的腐食によって達成する手段
を示す説明図である。
【図９】本発明分画システムの１例を示す回路図であ
る。
る。
【図１０】本発明分画システムの１例を示す回路図であ
る。
る。
１０ 第１メモリ １１、１２、１３、１４ 方向性形態素フィルタ回路 ２０ 第２メモリ ２５ 減算器 ３０ 第３メモリ ３５ 積分回路 ５９ 加算器 ６０ 第６メモリ ６５ 形態素フィルタ回路 ７０ 第７メモリ ７５ 第１分画回路 ８０ 第８メモリ １００、２００、 サブアセンブリ １５０ 第１サブアセンブリ ２５０ 第２サブアセンブリ ２５１ 多項式近似回路 ２５２ 多項式合成回路 ２５３ メモリ ２５４ 減算回路 ２５５ メモリ ２５６ 第１テスト回路 ３００ 分画サブアセンブリ ３５１ 第２テスト回路 ４５０ａ サブアセンブリ ４５０ｂ サブアセンブリ ４５１ メモリ ４５５ 分画装置 ４５８ メモリ ４６０ 選択回路
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０４Ｎ 1/41 Ｂ 7/24 // Ｈ０４Ｎ 1/40 9191−5Ｌ Ｇ０６Ｆ 15/68 ４００ Ａ Ｈ０４Ｎ 7/13 Ｚ 4226−5Ｃ 1/40 Ｆ
Claims (10)
- 【請求項１】 表示パラメータによる各テクスチュアの
特徴によって、および各像の異なるテクスチュアに関連
する領域への分解によって像を表わすデジタル信号に基
づきテクスチュア像を分画する装置において； （Ａ）テクスチュアの特徴に対し、方向性形態素フィル
タ処理用サブアセンブリ（１００）およびこれに続くテ
クスチュアパラメータ決定用サブアセンブリ（２００）
と； （Ｂ）これらパラメータ決定用サブアセンブリの出力側
における、所定の大きさのブロックに細分割されたテク
スチュアパラメータ像の転換点ラインを取出す技術によ
って領域内への分割用サブアセンブリ（３００）と； （Ｃ）前記サブアセンブリの異なる制御信号を確立する
シーケンス段（６００）とを具えることを特徴とするテ
クスチュア像分画装置。 - 【請求項２】 （Ａ）前記方向性形態素フィルタ処理用
サブアセンブリ（１００）は少なくとも： （ａ）分画すべき像を表わすデジタル信号を記憶する第
１メモリ（１０）と； （ｂ）この第１メモリの出力側における方向性形態素フ
ィルタ回路と； （ｃ）フィルタ処理して得られた像を記憶する第２メモ
リと（２０）と； （ｄ）減算器（２５）およびその出力側に設けられ元の
像およびフィルタ処理された像間の差から得られた残留
の像を記憶する第３メモリ（３０）とを具え； （Ｂ）前記テクスチュアパラメータ決定用サブアセンブ
リ（２００）は少なくとも： （ｅ）前記残留の像を積分する回路（３５）と； （ｆ）フィルタ処理後に得られるテクスチュア特徴の像
を記憶する第４メモリ、この像を空間サブサンプリング
する回路および形態素傾度を計算する回路の直列接続配
置と； （ｇ）前記形態素傾度計算回路の出力側に設けられたグ
ローバル傾度を記憶するメモリとを具え、 （Ｃ）前記
分画サブアセンブリ（３００）は直列接続の： （ｈ）形態素フィルタ回路（６５）と； （ｉ）かくしてフィルタ処理された傾度を記憶する第７
メモリ（７０）と； （ｊ）前記転換点ラインの計算による分画用の第１回路
（７５）と； （ｋ）ラベルの像を記憶する第８メモリ（８０）とを具
えることを特徴とする請求項１に記載のテクスチュア像
分画装置。 - 【請求項３】 （Ａ）前記方向性形態素フィルタ処理用
サブアセンブリ（１００）： （ａ）分画すべき像を表わすデジタル信号を記憶する第
１メモリ（１０）と； （ｂ）この第１メモリの出力側に設けられた第１の４位
置スイッチ（５）およびこれに続く並列接続の４つの方
向性形態素フィルタ回路（１１，１２，１３，１４）
と； （ｃ）フィルタ処理して得られた４つの順次の像を記憶
する第２メモリ（２０）と； （ｄ）減算器（２５）およびその出力側に設けられ元の
像および４つのフィルタ処理された像の各々間の差から
順次に得られた残留の４つの像を記憶する第３メモリ
（３０）とを具え； （Ｂ）前記テクスチュアパラメータ決定用サブアセンブ
リ（２００）は： （ｅ）前記残留の像を積分する回路（３５）と； （ｆ）この積分回路の出力側に設けられた第２の４位置
スイッチ（３６）およびその後段の各々が対応するフィ
ルタ処理に関連するテクスチュア特徴の像を記憶する第
４メモリ、この像を空間サブサンプリングする回路、形
態素傾度を計算する回路および前記傾度を記憶する第５
メモリの直列接続配置を具える４つの並列支路と； （ｇ）前記第５メモリの出力信号を加算する加算器（５
９）と； （ｈ）この加算器の出力側に存在するグローバル傾度を
記憶する第６メモリとを具え、 （Ｃ）前記分画サブアセンブリ（３００）は直列接続
の： （ｉ）形態素フィルタ回路（６５）と； （ｊ）かくしてフィルタ処理された傾度を記憶する第７
メモリ（７０）と； （ｋ）前記転換点ラインの計算による分画用の第１回路
（７５）と； （ｌ）ラベルの像を記憶する第８メモリ（８０）とを具
えることを特徴とする請求項１および２の何れかに記載
のテクスチュア像分画装置。 - 【請求項４】 前記分画サブアセンブリの出力側に設け
られ、前記領域のハイアラーキ分類を確立することによ
り前記領域を結合するサブアセンブリ（４００）と、順
次にこの分類に現われる領域の対に対し、各領域の画素
の分布を表わす大きさに関連する規準の関数として結合
するか、または結合しないの判定を行う手段とを具える
ことを特徴とする請求項２および３の何れかの項に記載
のテクスチュア像分画装置。 - 【請求項５】 前記分画サブアセンブリの出力側に設け
られ、像を小さな寸法のブロックに分割する転換点ライ
ンの抽出を繰返し、これを１画素の解像度が得られるま
で対話手段で行って輪郭を鋭敏にするサブアセンブリ
（５００）を具えることを特徴とする請求項２〜４の何
れかの項に記載のテクスチュア像分画装置。 - 【請求項６】 請求項２〜５の何れかの項に記載のテク
スチュア像分画装置を具え、さらに： （Ａ）初期分画用第１サブアセンブリ（１５０）を構成
する装置の出力側に設けられ、輝度変化の低いテクスチ
ュアまたは領域に専ら対応する均質領域を分離するとと
もに分離サブアセンブリの出力像の概算値およびその入
力像間の残留差を各領域に対して決めるとともにこの差
の値または直接関連する大きさと像全体に対するしきい
値とを比較することによりテクスチュアに対応しない
か、またはテクスチュアに僅かに対応する異質領域を分
離する第２サブアセンブリ（２５０）と； （Ｂ）前記分離サブアセンブリ（２５０）の出力側に設
けられ、前記均質領域をテクスチュア領域に、または輝
度変化の低い領域に分類する第３サブアセンブリ（３５
０）と； （Ｃ）前記分離サブアセンブリ（２５０）の出力側に設
けられ、前記異質領域を相補分画する第４サブアセンブ
リとを具えることを特徴とする像分画システム。 - 【請求項７】 前記領域分離サブアセンブリ（２５０）
は元の像および初期分画により得られるに基づき近似多
項回路（２５１）と；各像の輝度の近似関数を再生する
多項合成回路（２５２）と；前記合成回路からの出力信
号を記憶するメモリ（２５３）と；関連する領域に対し
前記メモリ内に存在する各元の像および多項像を減算す
る回路（２５４）と；この差により構成される残留値を
記憶するメモリ（２５５）と；前記残留値およびしきい
値の比較によって前記均質領域および前記異質領域内の
初期分画により得られる領域の分離により前記残留値ま
たはこれに直接関連する量の第１テスト回路（２５６）
とを具え、且つ前記均質領域記憶サブアセンブリは全関
連領域に亘り平均値から残留値の標準偏差を計算すると
ともにこの標準偏差としきい値とを比較する第２テスト
回路（３５１）を具えることを特徴とする請求項６に記
載の分画システム。 - 【請求項８】 前記相補分画サブアセンブリ（４５０
ａ）は直列接続の異質領域選択回路（４６０）と；この
異質領域を記憶するメモリ（４５１）と；分画装置（４
５５）と；前記分画により得られるラベルの像を記憶す
るメモリ（４５８）とを具えることを特徴とする請求項
７に記載の分画システム。 - 【請求項９】 前記相補分画サブアセンブリ（４５０
ｂ）は出力側が前記分画すべき像を表わすディジタル信
号を記憶する第１メモリ（１０）の第２入力側に接続さ
れた異質領域を専用選択する回路（４６０）と；入力側
が第１メモリの第２出力側に接続され且つ出力側が前記
ラベルの像を記憶する第８メモリ（８０）に接続された
分画装置（４５５）との直列接続配置を具えることを特
徴とする請求項７に記載の分画システム。 - 【請求項１０】 前記均質領域を記憶する第３サブアセ
ンブリおよび前記異質領域を相補分画する第４サブアセ
ンブリは各領域に対応する情報を符号化する手段（３５
２，３５３，３５４，５５２，５５３）を具えるかまた
はこれに接続するようにしたことを特徴とする請求項６
〜９の何れかの項に記載の分画システム。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9305365A FR2705005A1 (fr) | 1993-05-05 | 1993-05-05 | Dispositif de segmentation d'images composées de textures à partir de signaux numériques représentatifs desdites images. |
| FR9305365 | 1993-05-05 | ||
| FR9310998 | 1993-09-15 | ||
| FR9310998 | 1993-09-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0773330A true JPH0773330A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=26230303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6094382A Pending JPH0773330A (ja) | 1993-05-05 | 1994-05-06 | テクスチュア像分画装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5577131A (ja) |
| EP (1) | EP0627693B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0773330A (ja) |
| DE (1) | DE69434131T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101011865B1 (ko) * | 2002-12-20 | 2011-01-31 | 후지츠 프론테크 가부시키가이샤 | 경계 검출 방법, 기록 매체, 및 화상 처리 장치 |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2733336A1 (fr) * | 1995-04-20 | 1996-10-25 | Philips Electronique Lab | Procede et dispositif de traitement d'images pour la detection automatique d'objets dans des images numerisees |
| US5787208A (en) * | 1995-06-07 | 1998-07-28 | Neopath, Inc. | Image enhancement method and apparatus |
| DE69612284T2 (de) * | 1995-06-20 | 2001-08-30 | Cambridge Consultants | Datenverarbeitungsverfahren- und vorrichtung |
| US6307962B1 (en) * | 1995-09-01 | 2001-10-23 | The University Of Rochester | Document data compression system which automatically segments documents and generates compressed smart documents therefrom |
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