JPH0772625A - Photosensitive composition - Google Patents
Photosensitive compositionInfo
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- JPH0772625A JPH0772625A JP5219892A JP21989293A JPH0772625A JP H0772625 A JPH0772625 A JP H0772625A JP 5219892 A JP5219892 A JP 5219892A JP 21989293 A JP21989293 A JP 21989293A JP H0772625 A JPH0772625 A JP H0772625A
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- photosensitive composition
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ポジ型感光性組成物に
関し、特に、低露光における露光可視画性を向上させる
感光性組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positive type photosensitive composition, and more particularly to a photosensitive composition which improves the visibility of exposed light under low exposure.
【0002】[0002]
【発明の背景】有機ハロゲン化合物が、光によりハロゲ
ンフリーラジカルを発生し、さらに該ハロゲンフリーラ
ジカルが、水素引き抜き剤として水素供与体から水素を
引き抜いて酸を生じることは広く知られている。このよ
うな特性により、有機ハロゲン化合物は、各種画像形成
材料、特に感光性平版印刷版におけるプリントアウト剤
として使用できることが知られている。このような有機
ハロゲン化合物として、特開昭50−36209号公報
に、o−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲ
ニドを用いることが開示されている。しかしながら、こ
れらの化合物を用いた画像形成材料は製造後の保存にお
いて、経時的にその露光可視画性が劣化するという欠点
を有している。このような欠点を解決するため、米国特
許第3,954,475号、同第3,987,037号
明細書および特開昭48−36281号公報に記載のビ
ニル−ハロメチル−s−トリアジン化合物が提案されて
いる。しかしながら、上記の公知のトリアジン化合物
は、フリーラジカル生成効率が十分でなく、プリントア
ウト剤として使用する場合、鮮明な焼き出し画像が得ら
れないという欠点を有する。特に、近年、感光性組成物
の高感度化が進行しており、低照度露光となっているた
め、フリーラジカル生成効率が低いと明瞭な可視画が得
られず、作業効率の低下を招き、致命的な欠点となる。BACKGROUND OF THE INVENTION It is widely known that an organic halogen compound generates a halogen free radical by light, and the halogen free radical, as a hydrogen abstracting agent, abstracts hydrogen from a hydrogen donor to generate an acid. Due to such characteristics, it is known that the organic halogen compound can be used as a printout agent in various image forming materials, particularly in a photosensitive lithographic printing plate. As such an organic halogen compound, use of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide is disclosed in JP-A-50-36209. However, the image-forming materials using these compounds have a drawback that their exposure visibility is deteriorated with time during storage after production. In order to solve such a drawback, vinyl-halomethyl-s-triazine compounds described in U.S. Pat. Nos. 3,954,475 and 3,987,037 and JP-A-48-36281 are used. Proposed. However, the above-mentioned known triazine compounds have a drawback that the free radical generation efficiency is not sufficient and a clear printout image cannot be obtained when used as a printout agent. In particular, in recent years, the sensitivity of the photosensitive composition has been increased, and since the exposure is low illuminance, a clear visible image cannot be obtained when the free radical generation efficiency is low, which causes a reduction in working efficiency. It becomes a fatal defect.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、各種画像形成材料に用いた場合、露光可視画性、特
に低露光部における露光可視画性を向上させ、かつ、版
の製造後の経時により劣化することのない感光性組成物
を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the object of the present invention is to improve the visibility of an image when exposed to various image forming materials, particularly the visibility of an image in a low-exposure area, and to improve the visibility after the production of a plate. Another object of the present invention is to provide a photosensitive composition which does not deteriorate with time.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく、鋭意検討の結果、下記一般式(I)の化合
物及び該化合物の光分解物と相互作用し得る染料を含有
するポジ型感光性組成物により本発明の目的が達成され
ることを見い出し、本発明に到達した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventor of the present invention contains a compound of the following general formula (I) and a dye capable of interacting with a photodegradation product of the compound. The present invention has been achieved by finding that the object of the present invention can be achieved by a positive photosensitive composition.
【0005】[0005]
【化2】 [Chemical 2]
【0006】式中、R1 、R2 はそれぞれ水素原子又は
炭素数1〜8のアルキル基を示し、Xはハロゲン原子を
示し、mは1〜3の整数を示す。In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, X represents a halogen atom, and m represents an integer of 1 to 3.
【0007】以下に本発明を更に詳細に説明する。本発
明に用いられる前記一般式(I)において、R1 で表わ
される基として好ましくは水素原子又は炭素数1〜4の
アルキル基が挙げられ、特に好ましくは、水素原子又は
メチル基が挙げられる。また、R2 について好ましく
は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基が挙げら
れ、特に好ましくは水素原子が挙げられる。また、mは
好ましくは3である。本発明で特に好ましく用いられる
上記一般式(I)で表わされる化合物について以下に具
体例を示す。The present invention will be described in more detail below. In the general formula (I) used in the present invention, the group represented by R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. Further, R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom. Further, m is preferably 3. Specific examples of the compounds represented by the above general formula (I) which are particularly preferably used in the present invention are shown below.
【0008】[0008]
【化3】 [Chemical 3]
【0009】上記一般式(I)で表わされる化合物は、
本発明の感光性組成物中に好ましくは、0.02〜10重
量%の範囲で含有され、特に好ましくは、0.1〜3重量
%の範囲で含有される。さらに、上記化合物は、他のフ
リーラジカル発生剤と併用して用いることもできる。本
発明に用いる前記一般式(I)の化合物の光分解物と相
互作用し得る染料は、フリーラジカル又は酸と反応し、
色調を変化するものが好ましく用いられる。ここで、
「色調が変化する」とは、無色から有色への変化、有色
から無色又は異なる色調への変化のいずれをも包含す
る。さらに好ましくは、酸と塩を形成し、色調を変化す
るものが好ましい。The compound represented by the above general formula (I) is
It is preferably contained in the photosensitive composition of the present invention in the range of 0.02 to 10% by weight, particularly preferably in the range of 0.1 to 3% by weight. Furthermore, the above compounds can be used in combination with other free radical generators. The dye that can interact with the photolyzate of the compound of the general formula (I) used in the present invention reacts with a free radical or an acid,
Those that change the color tone are preferably used. here,
The term "changes in color tone" includes any of change from colorless to colored, change from colored to colorless or different color tone. More preferably, it forms a salt with an acid and changes the color tone.
【0010】本発明に用いられる染料の具体例として
は、例えば、ビクトリアピュアブルーBOH〔保土谷化
学〕、オイルブルー#603〔オリエント化学工業
製〕、パテントピュアブルー〔住友三国化学製〕、クリ
スタルバイオレット、ブリリアントグリーン、エチルバ
イオレット、メチルバイオレット、メチルグリーン、エ
リスロシンB、ベイシックフクシン、マラカイトグリー
ン、オイルレッド、m−クレゾールパープル、ローダミ
ンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイ
ミノナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニ
ルアセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン
系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン
系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアント
ラキノン系の染料が有色から無色あるいは異なる有色の
色調へ変化する染料の例として挙げられる。一方、無色
から有色に変化する染料としては、ロイコ染料及び、例
えばトリフェニルアミン、ジフェニルアミン、o−クロ
ロアニリン、1,2,3−トリフェニルグアニジン、ナ
フチルアミン、ジアミノジフェニルメタン、p,p′−
ビス−ジメチルアミノジフェニルアミン、1,2−ジア
ニリノエチレン、p,p′,p″−トリス−ジメチルア
ミノトリフェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルア
ミノジフェニルメチルイミン、p,p′,p″−トリア
ミノ−o−メチルトリフェニルメタン、p,p′−ビス
−ジメチルアミノジフェニル−4−アニリノナフチルメ
タン、p,p′,p″−トリアミノトリフェニルメタン
に代表される第1級または第2級アリールアミン系染料
が挙げられる。特に好ましくはトリフェニルメタン系、
ジフェニルメタン系染料が有効に用いられ、さらに好ま
しくはトリフェニルメタン系染料であり、特にビクトリ
アピュアブルー、エチルバイオレットである。本発明の
感光性組成物中に、上記染料は、好ましくは0.05〜1
0重量%、特に好ましくは0.1〜5重量%含有される。Specific examples of the dye used in the present invention include, for example, Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Kagaku), Oil Blue # 603 (Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (Sumitomo Mikuni Kagaku), and Crystal Violet. , Brilliant green, ethyl violet, methyl violet, methyl green, erythrosin B, basic fuchsin, malachite green, oil red, m-cresol purple, rhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, cyano-p-diethylaminophenyl From triphenylmethane dyes such as acetanilide, diphenylmethane dyes, oxazine dyes, xanthene dyes, iminonaphthoquinone dyes, azomethine dyes, or anthraquinone dyes Mentioned as examples of the dye which changes the color or differently colored shades. On the other hand, examples of dyes that change from colorless to colored include leuco dyes and, for example, triphenylamine, diphenylamine, o-chloroaniline, 1,2,3-triphenylguanidine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, p, p'-
Bis-dimethylaminodiphenylamine, 1,2-dianilinoethylene, p, p ', p "-tris-dimethylaminotriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylmethylimine, p, p', p" -Triamino-o-methyltriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethane, primary or typified by p, p ', p "-triaminotriphenylmethane Secondary arylamine dyes, particularly preferably triphenylmethane dyes,
Diphenylmethane dyes are effectively used, more preferably triphenylmethane dyes, particularly Victoria Pure Blue and ethyl violet. In the photosensitive composition of the present invention, the dye is preferably 0.05 to 1
0% by weight, particularly preferably 0.1 to 5% by weight.
【0011】一方、本発明に使用されるポジ型に作用す
る感光性化合物としては、具体的にはo−ナフトキノン
ジアジド化合物がある。本発明に使用されるo−ナフト
キノンジアジド化合物としては、特公昭43−2840
3号公報に記載されている1,2−ジアゾナフトキノン
−5−スルホン酸クロライドまたは1,2−ジアゾナフ
トキノン−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−
アセトン樹脂とのエステルであるものが好ましい。その
他の好適なオルトキノンジアジド化合物としては、米国
特許第3,046,120号および同第3,188,2
10号明細書中に記載されている1,2−ジアゾナフト
キノン−5−スルホン酸クロライドまたは1,2−ジア
ゾナフトキノン−4−スルホン酸クロライドとフェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル及び特開平2−
96163号公報、特開平2−96165号公報、特開
平2−96761号公報に記載されている1,2−ジア
ゾナフトキノン−4−スルホン酸クロライドとフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。その他の
有用なo−ナフトキノンジアジド化合物としては、数多
くの特許に報告され、知られているものが挙げられる。On the other hand, the positive-working photosensitive compound used in the present invention is specifically an o-naphthoquinonediazide compound. Examples of the o-naphthoquinonediazide compound used in the present invention include Japanese Patent Publication No. 43-2840.
1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride or 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol
Those that are esters with acetone resins are preferred. Other suitable orthoquinonediazide compounds include U.S. Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,2.
Ester of 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride or 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin described in JP-A No. 10-187242 and JP-A-2-
There are esters of 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin described in JP-A 96163, JP-A-2-96165 and JP-A-2-96761. Other useful o-naphthoquinonediazide compounds include those reported and known in numerous patents.
【0012】たとえば、特開昭47−5303号、同昭
48−63802号、同昭48−63803号、同昭4
8−96575号、同昭49−38701号、同昭48
−13354号、特公昭37−18015号、同昭41
−11222号、同昭45−9610号、同昭49−1
7481号公報、米国特許第2,797,213号、同
第3,454,400号、同第3,544,323号、
同第3,573,917号、同第3,674,495
号、同第3,785,825号、英国特許第1,22
7,602号、同第1,251,345号、同第1,2
67,005号、同第1,329,888号、同第1,
330,932号、ドイツ特許第854,890号など
の各明細書中に記載されているものをあげることができ
る。For example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 47-5303, 48-63802, 48-63803, and 4
8-96575, 49-38701, 48
-13354, Japanese Patent Publication Nos. 37-18015, 41
-11222, 45-9610 and 49-1
7481, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323,
No. 3,573,917, No. 3,674,495
No. 3,785,825, British Patent Nos. 1,22
No. 7,602, No. 1,251,345, No. 1,2
No. 67,005, No. 1,329,888, No. 1,
Those described in various specifications such as 330, 932 and German Patent No. 854,890 can be cited.
【0013】また、分子量1,000 以下のポリヒドロキシ
化合物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸−5−
クロライドまたは1,2−ジアゾナフトキノンスルホン
酸−4−クロライドとの反応により得られる化合物も好
適に使用することができる。このような化合物の具体例
は、特開昭51−139402号、同58−15094
8号、同58−203434号、59−165053
号、同60−121445号、同60−134235
号、同60−163043号、同61−118744
号、同62−10645号、同62−10646号、同
62−153950号、同62−178562号、特開
平1−76047号、米国特許第3,102,809
号、同第3,126,281号、同第3,130,04
7号、同第3,148,983号、同第3,184,3
10号、同第3,188,210号、同第4,639,
406号などの各公報または明細書に記載されているも
のを挙げることができる。Further, a polyhydroxy compound having a molecular weight of 1,000 or less and 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid-5-
A compound obtained by the reaction with chloride or 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid-4-chloride can also be preferably used. Specific examples of such compounds are described in JP-A Nos. 51-139402 and 58-15094.
No. 8, No. 58-203434, 59-165053.
No. 60, No. 12-14445, No. 60-134235.
Issue No. 60-163043, Issue No. 61-118744
Nos. 62-10645, 62-10646, 62-153950, 62-178562, JP-A-1-76047, and U.S. Pat. No. 3,102,809.
No. 3,126,281, No. 3,130,04
No. 7, No. 3,148,983, No. 3,184,3
No. 10, No. 3,188,210, No. 4,639,
Those described in each publication or specification such as No. 406 can be mentioned.
【0014】これらのo−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
ライドを 0.2〜1.2 当量反応させる事が好ましく、さら
に 0.3〜1.0 当量反応させる事が好ましい。1,2−ジ
アゾナフトキノンスルホン酸クロライドとしては1,2
−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロライドまた
は、1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸クロ
ライドを用いることができる。またo−ナフトキノンジ
アジド化合物を用いずにポジ型に作用する感光性化合物
として、例えば特公昭56−2696号公報に記載され
ているオルトニトロカルビノールエステル基を有するポ
リマー化合物も本発明に使用することができる。When synthesizing these o-naphthoquinonediazide compounds, it is preferable to react 0.2-1.2 equivalents of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride with the hydroxyl group of the polyhydroxy compound, and further 0.3-1.0 equivalents. It is preferable to react. 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride is 1,2
-Diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride or 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride can be used. Further, as a photosensitive compound which acts positively without using an o-naphthoquinonediazide compound, for example, a polymer compound having an orthonitrocarbinol ester group described in JP-B-56-2696 may be used in the present invention. You can
【0015】更に光照射により酸を発生する化合物と、
酸により解離する−C−O−C基又は−C−O−Si基
を有する化合物との組合せ系も本発明に使用することが
できる。例えば光分解により酸を発生する化合物とアセ
タール又はO,N−アセタール化合物との組合せ(特開
昭48−89003号)、オルトエステル又はアミドア
セタール化合物との組合せ(特開昭51−120714
号)、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマ
ーとの組合せ(特開昭53−133429号)、エノー
ルエーテル化合物との組合せ(特開昭55−12995
号)、N−アシルイミノ炭素化合物との組合せ(特開昭
55−126236号)、主鎖にオルトエステル基を有
するポリマーとの組合せ(特開昭56−17345
号)、シリルエステル化合物との組合せ(特開昭60−
10247号)及びシリルエーテル化合物との組合せ
(特開昭60−37549号、特開昭60−12144
6号)などが挙げられる。本発明の感光性組成物中に占
めるこれらのポジ型に作用する感光性化合物(上記のよ
うな組合せを含む)の量は10〜50重量%で、より好
ましくは15〜40重量%である。Further, a compound capable of generating an acid upon irradiation with light,
A combination system with a compound having a -C-O-C group or a -C-O-Si group which dissociates with an acid can also be used in the present invention. For example, a combination of a compound capable of generating an acid by photolysis with an acetal or O, N-acetal compound (JP-A-48-89003) or an orthoester or amide acetal compound (JP-A-51-1207714).
No.), a polymer having an acetal or ketal group in the main chain (JP-A No. 53-133429), and an enol ether compound (JP-A No. 55-12995).
No.), N-acyl imino carbon compound (JP-A-55-126236), and a polymer having an orthoester group in the main chain (JP-A-56-17345).
No.) and a silyl ester compound (JP-A-60-
10247) and a silyl ether compound (JP-A-60-37549, JP-A-60-12144).
No. 6) and the like. The amount of the positive-working photosensitive compound (including the combination as described above) in the photosensitive composition of the present invention is 10 to 50% by weight, more preferably 15 to 40% by weight.
【0016】本発明の感光性組成物にはバインダー樹脂
が用いられ、通常、アルカリ可溶性樹脂が用いられる。
このような樹脂としては、当分野において公知の種々の
樹脂が使用可能であるが、特にノボラック樹脂、スルホ
ンアミド基を有する構造単位を分子構造中に有するビニ
ル重合体及びフェノール性水酸基を有する構造単位を分
子構造中に有するビニル重合体が好ましく用いられる。
本発明に用いられるノボラック樹脂としては、フェノー
ル類とホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で縮合して得
られる樹脂が挙げられ、該フェノール類としては、例え
ばフェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−
クレゾール、3,5−キシレノール、2,4−キシレノ
ール、2,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ピロガロ
ール、フロログルシン、ビスフェノールAが挙げられ
る。A binder resin is used in the photosensitive composition of the present invention, and an alkali-soluble resin is usually used.
As such a resin, various resins known in the art can be used, but in particular, a novolak resin, a vinyl polymer having a structural unit having a sulfonamide group in its molecular structure, and a structural unit having a phenolic hydroxyl group. A vinyl polymer having in the molecular structure is preferably used.
Examples of the novolak resin used in the present invention include resins obtained by condensing phenols and formaldehyde in the presence of an acid catalyst. Examples of the phenols include phenol, o-cresol, m-cresol, p-
Examples thereof include cresol, 3,5-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, carvacrol, thymol, catechol, resorcin, hydroquinone, pyrogallol, phloroglucin, and bisphenol A.
【0017】上記フェノール類化合物は単独で又は2種
以上組み合わせてホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得る
ことができる。これらのうち好ましいノボラック樹脂
は、フェノール、m−クレゾール(又はo−クレゾー
ル)及びp−クレゾールから選ばれる少なくとも1種と
ホルムアルデヒドとを共重縮合して得られる樹脂であ
り、例えば、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−
クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール・
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール・p−クレゾール・
ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、m−クレゾール・p
−クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、o−
クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮
合体樹脂、フェノール・m−クレゾール・p−クレゾー
ル・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノール・o
−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重
縮合体樹脂、m−クレゾール・ビスフェノールA・ホル
ムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げられる。本発明にお
いては、上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよいし、
また2種以上組合わせて用いてもよい。The above phenol compounds may be used alone or in combination of two or more to condense with formaldehyde to obtain a resin. Of these, preferred novolak resins are resins obtained by copolycondensing at least one selected from phenol, m-cresol (or o-cresol) and p-cresol with formaldehyde, and examples thereof include phenol-formaldehyde resins. , M-
Cresol / formaldehyde resin, o-cresol /
Formaldehyde resin, phenol / p-cresol /
Formaldehyde copolycondensate resin, m-cresol / p
-Cresol-formaldehyde copolycondensate resin, o-
Cresol / p-cresol / formaldehyde copolycondensate resin, phenol / m-cresol / p-cresol / formaldehyde copolycondensate resin, phenol / o
-Cresol / p-cresol / formaldehyde copolycondensate resin and m-cresol / bisphenol A / formaldehyde copolycondensate resin. In the present invention, the novolak resin may be used alone,
Moreover, you may use it in combination of 2 or more type.
【0018】上記ノボラック樹脂の分子量としては、重
量平均分子量が500〜20000で、数平均分子量が
200〜5000のものが好ましい。なお、ノボラック
樹脂の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー(ポリスチレン標準)により行なう。また、本発明
に用いるスルホンアミド基を有する構造単位を分子構造
中に有するビニル重合体としては、特開平2−866号
公報、特開平5−150453号公報に記載されている
高分子化合物が挙げられる。また、本発明に用いるフェ
ノール性水酸基を有する構造単位を分子構造中に有する
ビニル重合体としては、特公昭52−41050号、特
開昭51−34711号公報に記載されているような高
分子化合物が挙げられる。これらのバインダー樹脂は単
独で用いてもよく、また、二種以上混合して用いてもよ
い。これらバインダー樹脂の感光性組成物中の含有量は
5〜95重量%、好ましくは5〜85重量%である。With respect to the molecular weight of the above novolak resin, those having a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 5,000 are preferable. The molecular weight of the novolak resin is determined by gel permeation chromatography (polystyrene standard). Further, examples of the vinyl polymer having a structural unit having a sulfonamide group in the molecular structure used in the present invention include polymer compounds described in JP-A-2-866 and JP-A-5-150453. To be Further, the vinyl polymer having a structural unit having a phenolic hydroxyl group in the molecular structure used in the present invention is a polymer compound as described in JP-B-52-41050 and JP-A-51-34711. Is mentioned. These binder resins may be used alone or in combination of two or more. The content of these binder resins in the photosensitive composition is 5 to 95% by weight, preferably 5 to 85% by weight.
【0019】本発明の感光性組成物中に、米国特許第
4,123,279号明細書に記載されているように、
t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチル
フェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜
8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホル
ムアルデヒドとの縮合物を併用することは画像の感脂性
を向上させる上で好ましい。本発明における感光性組成
物中には、感度を高めるために環状酸無水物類、フェノ
ール類、有機酸類を添加することが好ましい。環状酸無
水物としては米国特許第4,115,128号明細書に
記載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ無水
フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンド
オキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロ
ル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン
酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水
ピロメリット酸等がある。In the photosensitive composition of the present invention, as described in US Pat. No. 4,123,279,
Carbon number 3 ~, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin
It is preferable to use a condensate of phenol having an alkyl group of 8 as a substituent and formaldehyde in combination in order to improve the oil sensitivity of the image. Cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids are preferably added to the photosensitive composition of the present invention in order to enhance sensitivity. Examples of the cyclic acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and 3,6-endooxy-Δ 4 -tetrahydroanhydride as described in US Pat. No. 4,115,128. Examples thereof include phthalic acid, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, and pyromellitic dianhydride.
【0020】フェノール類としては、ビスフェノール
A、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒド
ロキシベンゾフェノン、2,4,4′−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、4,4,4″−トリヒドロキシ−トリ
フェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロ
キシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニル
メタンなどが挙げられる。有機酸類としては、特開昭6
0−88942号公報、特開平2−96755号公報な
どに記載されている。スルホン酸類、スルフィン酸類、
アルキル硫酸類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン
酸エステル類、カルボン酸類などがあり、具体的には、
p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン
酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニル
ホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、
リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン
酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フ
タル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキセン−2,
2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデ
カン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類の感光性組成物中
に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好
ましくは、 0.1〜5重量%である。Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol,
2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 4,4,4 "-trihydroxy-triphenylmethane, 4,4 ', 3", 4 " -Tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane, etc. Examples of organic acids include those described in JP-A-6-58.
No. 0-88942 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-96755. Sulfonic acids, sulfinic acids,
There are alkylsulfates, phosphonic acids, phosphinic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids, etc., and specifically,
p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethylsulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate,
Diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexene-2,
Examples thereof include 2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid. The ratio of the cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.
【0021】また、本発明における感光性組成物中に
は、現像のラチチュードを広げるために、特開昭62−
251740号、特開平4−68355号公報に記載さ
れているような非イオン性界面活性剤、特開昭59−1
21044号、特開平4−13149号公報に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン性界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、ソルビ
タントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリ
ド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(ア
ミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリ
シン塩酸塩、アモーゲンK(商品名、第一工業(株)
製、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型)、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品名、三洋
化成(株)製、アルキルイミダゾリン系)などが挙げら
れる。この中でも特にポリオキシエチレンポリオキシプ
ロピレンブロックポリマーを添加することが好ましい。
上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤の感光性組
成物中に占める割合は0.05%〜15重量%が好ましく、
より好ましくは、 0.1〜5重量%である。Further, in order to increase the development latitude in the photosensitive composition of the present invention, JP-A-62-
No. 251740, nonionic surfactants described in JP-A-4-68355, JP-A-59-1
Amphoteric surfactants such as those described in JP-A No. 21044 and JP-A No. 4-13149 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer, sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate,
Examples thereof include sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene sorbitan monooleate, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, Amogen K (trade name, Daiichi Kogyo Co., Ltd.)
, N-tetradecyl-N, N-betaine type), 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, Levon 15 (trade name, Sanyo Kasei Co., Ltd., alkylimidazoline type), etc. Is mentioned. Among these, it is particularly preferable to add a polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer.
The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the photosensitive composition is preferably 0.05% to 15% by weight,
More preferably, it is 0.1 to 5% by weight.
【0022】本発明における感光性組成物は、上記各成
分を溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキ
シ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エ
チル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、
ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テ
トラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセト
ンアルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。そ
して、上記成分中の濃度(固形分)は、2〜50重量%
である。また、塗布量は用途により異なるが、例えば感
光性平版印刷版についていえば一般的に固形分として
0.5〜3.0 g/m2が好ましい。塗布量が薄くなるにつれ
感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。The photosensitive composition of the present invention is dissolved in a solvent which dissolves the above-mentioned components and applied on a support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, toluene , Ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide,
There are dimethylformamide, water, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl alcohol, acetone, diacetone alcohol, methanol, ethanol, isopropanol, diethylene glycol dimethyl ether and the like, and these solvents may be used alone or as a mixture. The concentration (solid content) in the above components is 2 to 50% by weight.
Is. Further, the coating amount varies depending on the use, but in the case of a photosensitive lithographic printing plate, for example, the solid content is generally
0.5 to 3.0 g / m 2 is preferable. Although the photosensitivity increases as the coating amount decreases, the physical properties of the photosensitive film deteriorate.
【0023】本発明における感光性組成物中には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1
70950号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全
感光性組成物の0.01〜1重量%さらに好ましくは0.05〜
0.5 重量%である。本発明の感光性組成物を用いて平版
印刷版を製造する場合、その支持体としては、アルミニ
ウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム
及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金
としては種々のものが使用でき、例えばけい素、銅、マ
ンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、
ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられ
る。これらの組成物は、いくらかの鉄およびチタンに加
えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含むもので
ある。In the photosensitive composition of the present invention, a surfactant for improving coatability, such as JP-A-62-1 is used.
Fluorine-based surfactants such as those described in JP 70950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight of the total photosensitive composition, and more preferably 0.05 to 1% by weight.
0.5% by weight. When a lithographic printing plate is produced using the photosensitive composition of the present invention, an aluminum plate is preferable as the support. Aluminum plates include pure aluminum and aluminum alloy plates. Various aluminum alloys can be used, such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth,
An alloy of a metal such as nickel and aluminum is used. These compositions include some iron and titanium, as well as other negligible amounts of impurities.
【0024】アルミニウム板は、必要に応じて表面処理
される。例えば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコ
ニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あ
るいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていること
が好ましい。また、米国特許第2,714,066号明
細書に記載されているように、砂目立てしたのち珪酸ナ
トリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特
許第3,181,461号明細書に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、
硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルフアミン酸
等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単
独又は二種以上を組み合わせた電界液中でアルミニウム
板を陽極として電流を流すことにより実施される。ま
た、米国特許第3,658,662号明細書に記載され
ているようなシリケート電着も有効である。これらの親
水化処理は、支持体の表面を親水性とする為に施される
以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反
応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させる為に施さ
れるものである。The aluminum plate is surface-treated if necessary. For example, it is preferable that surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate, or the like, or anodization treatment be performed. Further, as described in U.S. Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate grained and then immersed in an aqueous sodium silicate solution is described in U.S. Pat. No. 3,181,461. As described above, an aluminum plate subjected to anodizing treatment and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used. The anodizing treatment is, for example, phosphoric acid, chromic acid,
Conducted by passing an electric current through an aluminum plate as an anode in an electrolytic solution of an inorganic acid such as sulfuric acid, boric acid, etc., or an organic acid such as oxalic acid, sulfamic acid, etc., or an aqueous solution or non-aqueous solution of these salts, or a combination of two or more kinds. To be done. Further, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. These hydrophilization treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in addition to prevent harmful reaction with the photosensitive composition provided thereon and to improve the adhesion to the photosensitive layer. It is given to improve.
【0025】アルミニウム板を砂目立てするに先立っ
て、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄
なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理
を施しても良い。前者のためには、トリクレン等の溶
剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッ
チング剤を用いる方法が広く行われている。砂目立て方
法としては、機械的、化学的および電気化学的な方法の
いずれの方法も有効である。機械的方法としては、ボー
ル研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨剤の水分
散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラシ研磨法
などがあり、化学的方法としては、特開昭54−311
87号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム
塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、電気化学
的方法としては塩酸、硝酸またはこれらの組合せのよう
な酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。このよ
うな粗面化方法の内、特に特開昭55−137993号
公報に記載されているような機械的粗面化と電気化学的
粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支持体へ
の接着力が強いので好ましい。上記の如き方法による砂
目立ては、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ(H
a)が 0.3〜1.0 μとなるような範囲で施されることが
好ましい。Prior to graining the aluminum plate, if necessary, the surface rolling oil may be removed and the surface of the aluminum plate may be pretreated in order to expose a clean aluminum surface. For the former, solvents such as trichlene and surfactants are used. For the latter, a method using an alkali etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used. As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Mechanical methods include a ball polishing method, a blast polishing method, and a brush polishing method in which a water-dispersed slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush. As a chemical method, JP-A-54-311 is used.
A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in Japanese Patent Publication No. 87 is suitable, and an electrochemical method is AC electrolysis in an acidic electrolytic solution such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof. Is preferred. Among such surface-roughening methods, the surface-roughening method combining mechanical surface-roughening and electrochemical surface-roughening as described in JP-A-55-137993 is particularly suitable for the oil-sensitive image. This is preferable because it has a strong adhesion to the support. Graining by the method as described above is performed by using the center line surface roughness (H
It is preferably applied in a range such that a) is 0.3 to 1.0 μ.
【0026】このようにして砂目立てされたアルミニウ
ム板は必要に応じて水洗および化学的にエッチングされ
る。エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する
塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッ
チングされた表面に、エッチング液成分から誘導される
アルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなけれ
ばならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基
性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リ
ン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリ
ウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過
硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウ
ムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コ
バルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要
な被膜を形成するから好ましくない。The grained aluminum plate is washed with water and chemically etched if necessary. The etching treatment liquid is usually selected from an aqueous solution of a base or acid that dissolves aluminum. In this case, the etched surface must not form a coating different from aluminum derived from the etching solution component. Examples of preferable etching agents include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium phosphate as basic substances; sulfuric acid, persulfuric acid as acidic substances. , Phosphoric acid, hydrochloric acid, and salts thereof, but salts having a lower ionization tendency than aluminum, for example, salts of zinc, chromium, cobalt, nickel, copper, etc. are not preferable because they form an unnecessary film on the etched surface.
【0027】これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度
の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の
溶解速度が浸漬時間1分あたり0.3 〜40g/m2になる
様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るある
いは下回るものであっても差支えない。エッチングは上
記エッチング液にアルミニウム板を浸漬したり、該アル
ミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行わ
れ、エッチング量が 0.5〜10g/m2の範囲となるよう
に処理されることが好ましい。上記エッチング剤として
は、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水
溶液を使用することが好ましい。この場合、スマットが
生成するので、通常デスマット処理される。デスマット
処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム
酸、ふっ酸、ほうふっ化水素酸等が用いられる。エッチ
ング処理されたアルミニウム板は、必要により水洗及び
陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来より行な
われている方法で行なうことができる。具体的には、硫
酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼ
ンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組み合せ
た水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流または交
流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化
被膜を形成させることができる。Most preferably, these etching agents are used so that the dissolution rate of the aluminum or alloy used is 0.3 to 40 g / m 2 per 1 minute of immersion time when the concentration and temperature of use are set. It may be higher or lower than this. The etching is carried out by immersing the aluminum plate in the above-mentioned etching solution or by coating the aluminum plate with the etching solution, and it is preferable that the etching amount is in the range of 0.5 to 10 g / m 2 . As the above-mentioned etching agent, it is preferable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, smut is generated, and thus desmutting is usually performed. As the acid used for the desmutting treatment, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, hydrofluoric acid or the like is used. If necessary, the etched aluminum plate is washed with water and anodized. Anodization can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when a direct current or an alternating current is applied to aluminum in sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., or an aqueous solution or a non-aqueous solution containing a combination of two or more thereof, the aluminum support An anodized film can be formed on the body surface.
【0028】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一概には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70
℃、電流密度 0.5〜60アンペア/dm2 、電圧1〜10
0V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1,412,
768 号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で陽
極酸化する方法、米国特許第4,211,619 号明細書に記載
されているような低濃度の硫酸中で陽極酸化する方法お
よび米国特許第3,511,661 号明細書に記載されている燐
酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。上記の
ように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミニウム
板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好まし
い例としては米国特許第2,714,066 号及び同第3,181,46
1 号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、
例えば珪酸ナトリウム水溶液または特公昭36-22063号公
報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび
米国特許第4,153,461 号明細書に開示されているような
ポリビニルスルホン酸で処理する方法がある。The treatment conditions for the anodic oxidation cannot be unconditionally determined because they vary depending on the electrolytic solution used, but generally the concentration of the electrolytic solution is 1 to 80% by weight, and the liquid temperature is 5 to 70%.
C, current density 0.5-60 amps / dm 2 , voltage 1-10
A range of 0 V and electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes is suitable. Among these anodizing treatments, especially British Patent No. 1,412,
768, a method of anodizing in sulfuric acid at high current density, a method of anodizing in low concentrations of sulfuric acid as described in U.S. Pat.No. 4,211,619, and U.S. Pat.No. 3,511,661. The method of anodic oxidation using phosphoric acid as an electrolytic bath described in the specification is preferred. The aluminum plate which has been roughened as described above and further anodized may be subjected to a hydrophilic treatment, if desired. Preferred examples thereof include U.S. Pat.Nos. 2,714,066 and 3,181,46.
An alkali metal silicate as disclosed in No. 1,
For example, there is a method of treating with an aqueous solution of sodium silicate or potassium fluorozirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and polyvinyl sulfonic acid as disclosed in US Pat. No. 4,153,461.
【0029】また、上述のように粗面化され、陽極酸化
され、更に必要に応じて親水化処理されたアルミニウム
板上には水溶性化合物からなる下塗層を設けることがで
きる。このような水溶性化合物の例としては特公昭57-1
6349号公報に開示されている水溶性金属塩と親水性セル
ロースの組合せ(例えば、塩化亜鉛とカルボキシメチル
セルロース、塩化マグネシウムとヒドロキシエチルセル
ロースなど)、米国特許3,511,661 号明細書に開示され
ているポリアクリルアミド、特公昭46-35685号公報に開
示されているポリビニルホスホン酸、特開昭60-149491
号公報に開示されているアミノ酸およびその塩類(Na
塩、K塩等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸
塩、蓚酸塩、酢酸塩、りん酸塩等)、特開昭60-232998
号公報に開示されている水酸基を有するアミン類および
その塩類(塩酸塩、蓚酸塩、りん酸塩等)、更に特開昭
63-165183 号公報に開示されているアミノ基及びホスホ
ン酸基を有する化合物又はその塩、特開平3-261592号公
報に開示されている(a) アミノ基および(b) ホスホン酸
基、ホスフィン酸基、又はリン酸基を1つずつ有する化
合物又はその塩、特願平3-10604 号公報に開示されてい
る脂肪族又は芳香族のホスホン酸又はホスフィン酸類又
はその塩などが挙げられる。中でも特開平3-261592号公
報、特願平3-10604 号公報に開示されている化合物が特
に好ましい。このような水溶性化合物の下塗り層は固型
分で1mg/m2〜80mg/m2の範囲で設けるのが好まし
い。An undercoat layer made of a water-soluble compound may be provided on the aluminum plate which has been roughened, anodized, and optionally hydrophilized as described above. As an example of such a water-soluble compound, Japanese Patent Publication No. 57-1
Combinations of water-soluble metal salts and hydrophilic cellulose disclosed in 6349 (eg, zinc chloride and carboxymethyl cellulose, magnesium chloride and hydroxyethyl cellulose, etc.), polyacrylamides disclosed in US Pat. No. 3,511,661, Polyvinylphosphonic acid disclosed in JP-B-46-35685, JP-A-60-149491
Amino acid and its salts (Na
Salts, alkali metal salts such as K salts, ammonium salts, hydrochlorides, oxalates, acetates, phosphates, etc.), JP-A-60-232998
Hydroxyl group-containing amines and salts thereof (hydrochlorides, oxalates, phosphates, etc.) disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No.
Compounds or salts thereof having an amino group and a phosphonic acid group disclosed in 63-165183, (a) an amino group and (b) a phosphonic acid group, phosphinic acid disclosed in JP-A-3-261592. Examples thereof include compounds having one group or one phosphoric acid group or salts thereof, and aliphatic or aromatic phosphonic acids or phosphinic acids or salts thereof disclosed in Japanese Patent Application No. 3-10604. Of these, the compounds disclosed in JP-A-3-261592 and Japanese Patent Application No. 3-10604 are particularly preferable. Such water-soluble primer layer compounds preferably provided in the range of 1mg / m 2 ~80mg / m 2 in solid content.
【0030】上記のようにして設けられた感光層の表面
は、真空焼枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を
短縮し、かつ焼きボケを防ぐ為、マット化することが好
ましい。具体的には、特開昭50-125805 号、特公昭57-6
582 号、同61-28986号の各公報に記載されているような
マット層を設ける方法、特公昭62-62337号公報に記載さ
れているような固体粉末を熱融着させる方法などがあげ
られる。本発明の感光性組成物に対する現像液は、実質
的に有機溶剤を含まないアルカリ性の水溶液が好まし
く、具体的には珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リ
ン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ア
ンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、重炭酸カリウム、アンモニア水などのような水溶液
が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好ま
しくは0.5〜5重量%になるように添加される。The surface of the photosensitive layer provided as described above is preferably matted in order to shorten the vacuuming time during contact exposure using a vacuum baking frame and to prevent baking blur. Specifically, JP-A-50-125805 and JP-B-57-6
No. 582 and No. 61-28986, a method of providing a mat layer as described in JP-B No. 62-62337, and a method of heat-bonding a solid powder as described in JP-B No. 62-62337. . The developer for the photosensitive composition of the present invention is preferably an alkaline aqueous solution containing substantially no organic solvent, specifically, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, Aqueous solutions such as sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate, aqueous ammonia are suitable. It is added so that the concentration thereof is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight.
【0031】これらの中でもケイ酸カリウム、ケイ酸リ
チウム、ケイ酸ナトリウム等のケイ酸アルカリを含有す
る現像液は、印刷時の汚れが生じにくいため好ましく、
ケイ酸アルカリの組成がモル比で〔SiO2〕/〔M〕=0.
5〜2.5(ここに〔SiO2〕、〔M〕はそれぞれ、SiO2の
モル濃度と総アルカリ金属のモル濃度を示す。)であ
り、かつSiO2を0.8〜8重量%含有する現像液が好まし
く用いられる。また該現像液中には、例えば亜硫酸ナト
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸マグネシウムなどの水
溶性亜硫酸塩や、レゾルシン、メチルレゾルシン、ハイ
ドロキノン、チオサリチル酸などを添加することができ
る。これらの化合物の現像液中における好ましい含有量
は0.002〜4重量%で、好ましくは、0.01〜1重量
%である。Among these, a developer containing an alkali silicate such as potassium silicate, lithium silicate, sodium silicate, etc. is preferable because stains are less likely to occur during printing.
The composition of alkali silicate is [SiO 2 ] / [M] = 0 in molar ratio.
5 to 2.5 (where [SiO 2 ] and [M] represent the molar concentration of SiO 2 and the molar concentration of total alkali metals, respectively) and contain 0.8 to 8% by weight of SiO 2 . A developing solution is preferably used. Water-soluble sulfites such as sodium sulfite, potassium sulfite, and magnesium sulfite, resorcin, methylresorcin, hydroquinone, and thiosalicylic acid can be added to the developer. The preferred content of these compounds in the developer is 0.002 to 4% by weight, preferably 0.01 to 1% by weight.
【0032】また該現像液中に、特開昭50-51324号公
報、同59-84241号公報に記載されているようなアニオン
性界面活性剤、及び両性界面活性剤、特開昭59-75255号
公報、同60-111246 号公報及び同60-213943 号公報等に
記載されているような非イオン性界面活性剤のうち少な
くとも一種を含有させることにより、または特開昭55-9
5946号公報、同50-142528 号公報に記載されているよう
に高分子電解質を含有させることにより、感光性組成物
への濡れ性を高めたり、現像の安定性(現像ラチチュー
ド)を高めたりすることができ、好ましく用いられる。
かかる界面活性剤の添加量は0.001〜2重量%が好ま
しく、特に0.003〜0.5重量%が好ましい。さらに該
ケイ酸アルカリのアルカリ金属として、全アルカリ金属
中、カリウムを20モル%以上含むことが現像液中で不
溶物発生が少ないため好ましく、より好ましくは90モ
ル%以上、最も好ましくは100モル%の場合である。
更に本発明に使用される現像液には、若干のアルコール
等の有機溶媒や特開昭58-190952 号公報に記載されてい
るキレート剤、特公平1-30139 号公報に記載されている
ような金属塩、有機シラン化合物などの消泡剤を添加す
ることができる。In the developer, anionic surfactants and amphoteric surfactants such as those described in JP-A-50-51324 and JP-A-59-84241, and JP-A-59-75255 No. 60-111246, No. 60-213943, and the like, by incorporating at least one kind of nonionic surfactant, or JP-A-55-9.
Inclusion of a polyelectrolyte as described in JP-A Nos. 5946 and 50-142528 improves wettability with a photosensitive composition and enhances stability of development (development latitude). And can be preferably used.
The amount of such a surfactant added is preferably 0.001 to 2% by weight, and particularly preferably 0.003 to 0.5% by weight. Further, as the alkali metal of the alkali silicate, it is preferable that potassium is contained in an amount of 20 mol% or more in the total alkali metal because insoluble matters are less generated in the developing solution, more preferably 90 mol% or more, and most preferably 100 mol%. Is the case.
Further, in the developer used in the present invention, some organic solvents such as alcohol, chelating agents described in JP-A-58-190952, and those described in JP-B-1-30139 are used. An antifoaming agent such as a metal salt or an organic silane compound can be added.
【0033】露光に使用される光源としてはカーボンア
ーク灯、水銀灯、キセノンランプ、タングステンラン
プ、メタルハライドランプなどがある。本発明の感光性
組成物を用いた感光性平版印刷版は、特開昭54-8002
号、同55-115045 号、特開昭59-58431号の各公報に記載
されている方法で製版処理してもよいことは言うまでも
ない。即ち、現像処理後、水洗してから不感脂化処理、
またはそのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液で
の処理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を
施してもよい。さらに、この種の感光性平版印刷版の現
像工程では、処理量に応じてアルカリ水溶液が消費され
アルカリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長
時間運転により空気によってアルカリ濃度が減少するた
め処理能力が低下するが、その際、特開昭54-62004号に
記載のように補充液を用いて処理能力を回復させてもよ
い。この場合、米国特許第4,882,246 号に記載されてい
る方法で補充することが好ましい。また、上記のような
製版処理は、特開平2-7054号、同2-32357 号に記載され
ているような自動現像機で行うことが好ましい。The light source used for the exposure includes a carbon arc lamp, a mercury lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, a metal halide lamp and the like. A photosensitive lithographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention is disclosed in JP-A-54-8002.
Needless to say, the plate-making process may be carried out by the methods described in JP-A Nos. 55-115045 and 59-58431. That is, after the development processing, after washing with water, desensitizing treatment,
Alternatively, the desensitizing treatment may be performed as it is, or a treatment with an aqueous solution containing an acid, or a desensitizing treatment after the treatment with an aqueous solution containing an acid. Furthermore, in the developing step of this type of photosensitive lithographic printing plate, the aqueous alkali solution is consumed depending on the processing amount to reduce the alkali concentration, or the alkali concentration is reduced by air due to long-time operation of the automatic developer. Although the processing capacity decreases, at that time, the processing capacity may be recovered by using a replenisher as described in JP-A-54-62004. In this case, it is preferable to supplement by the method described in US Pat. No. 4,882,246. Further, the plate making process as described above is preferably carried out by an automatic processor as described in JP-A-2-7054 and JP-A-2-32357.
【0034】また、本発明の感光性組成物を用いた感光
性平版印刷版を画像露光し、現像し、水洗又はリンスし
たのちに、不必要な画像部の消去を行なう場合には、特
公平2-13293 号公報に記載されているような消去液を用
いることが好ましい。更に製版工程の最終工程で所望に
より塗布される不感脂化ガムとしては、特公昭62-16834
号、同62-25118号、同63-52600号、特開昭62-7595 号、
同62-11693号、同62-83194号の各公報に記載されている
ものが好ましい。更にまた、本発明の感光性組成物を用
いた感光性平版印刷版を画像露光し、現像し、水洗又は
リンスし、所望により消去作業をし、水洗したのちにバ
ーニングする場合には、バーニング前に特公昭61-2518
号、同55-28062号、特開昭62-31859号、同61-159655 号
の各公報に記載されているような整面液で処理すること
が好ましい。Further, when the photosensitive lithographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention is imagewise exposed, developed, washed with water or rinsed, and then unnecessary image areas are erased, a special method is used. It is preferable to use an erasing liquid as described in 2-13293. Further, as a desensitizing gum which is optionally applied in the final step of the plate making process, Japanese Patent Publication No. 62-16834
No. 62-25118, No. 63-52600, JP-A No. 62-7595,
Those described in JP-A-62-11693 and JP-A-62-83194 are preferable. Furthermore, when the photosensitive lithographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention is imagewise exposed, developed, washed with water or rinsed, erased if desired, and burned after washing, before burning. Nikkei Sho 61-2518
No. 55-28062, JP-A No. 62-31859, and JP-A No. 61-159655.
【0035】[0035]
【発明の効果】本発明の感光性組成物を用いた画像形成
材料は、画像露光した際のフリーラジカル生成効率に優
れ、露光可視画性、特に低露光における露光可視画性に
優れ、かつ、版の製造後の経時による劣化が少ない。The image-forming material using the photosensitive composition of the present invention is excellent in free radical generation efficiency upon imagewise exposure, and is excellent in visible visibility, particularly in low exposure. Little deterioration over time after the plate is manufactured.
【0036】以下、本発明を実施例により更に詳細に説
明するが、本発明の内容がこれにより限定されるもので
はない。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the contents of the present invention are not limited thereto.
【実施例】以下、本発明を実施例を用いて、より具体的
に説明する。なお、実施例中の「%」は、特に指定のな
い限り「重量%」を示すものとする。 実施例1〜9および比較例1〜15 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリ
ウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流
水で水洗後20% HNO3で中和洗浄、水洗した。これを
VA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用い
て1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2 の陽極時電
気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定し
たところ、0.6μ(Ra 表示)であった。ひきつづいて
30%のH2SO4 水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマ
ットした後、20% H2SO4水溶液中、電流密度2A/dm
2 において厚さが2.7g/m2になるように陽極酸化し、
基板を調製した。このように処理された基板の表面に下
記組成の下塗り液(A)を塗布し80℃、30秒間乾燥
した。乾燥後の被覆量は30mg/m2であった。 下塗り液(A) アミノエチルホスホン酸 0.10g フェニルホスホン酸 0.15g トリエタノールアミン 0.05g β−アラニン 0.10g メタノール 40g 純 水 60g このようにして基板(I)を作製した。次にこの基板
(I)上に次の感光液をロッドコーティングで25ml
/m2 塗設し、100℃で1分間乾燥してポジ型感光性
平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は約1.7g/m2 で
あった。EXAMPLES The present invention will be described more specifically below with reference to examples. In addition, "%" in the examples means "% by weight" unless otherwise specified. Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 15 An aluminum plate having a thickness of 0.30 mm and a nylon brush and 40
The surface was grained using a 0-mesh aqueous suspension of pumice and then thoroughly washed with water. It was immersed in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching, washed with running water, neutralized with 20% HNO 3 and washed with water. This was subjected to electrolytic surface-roughening treatment in an aqueous 1% nitric acid solution under the condition of V A = 12.7 V in an aqueous 1% nitric acid solution at an anode electricity of 160 coulomb / dm 2 . The surface roughness was measured and found to be 0.6 μ (Ra indication). Subsequently, it was immersed in a 30% H 2 SO 4 aqueous solution and desmutted at 55 ° C. for 2 minutes, and then in a 20% H 2 SO 4 aqueous solution, the current density was 2 A / dm.
2 anodized to a thickness of 2.7 g / m 2 ,
A substrate was prepared. An undercoat liquid (A) having the following composition was applied to the surface of the substrate thus treated and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 30 mg / m 2 . Undercoat liquid (A) Aminoethylphosphonic acid 0.10 g Phenylphosphonic acid 0.15 g Triethanolamine 0.05 g β-alanine 0.10 g Methanol 40 g Pure water 60 g Thus, the substrate (I) was prepared. Next, 25 ml of the following photosensitive solution was applied onto this substrate (I) by rod coating.
/ M 2 and was dried at 100 ° C for 1 minute to obtain a positive photosensitive lithographic printing plate. The coating amount after drying was about 1.7 g / m 2 .
【0037】 〔感光液〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特 許第3,635,709 号明細書の実施例1に記載されているもの) 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ, パラ比;6対4、重量平均分子量3,000 、数平均分子量 1,100 、未反応のクレゾールを0.7%含有) 1.1g m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量 平均分子量1,700 、数平均分子量600 、未反応のクレゾ ールを1%含有) 0.3g ピロガロールとアセトンの縮合生成物(重量平均分子量2,200 、 数平均分子量700) 0.1g ポリ〔N−(P−アミノスルホニルフェニル)アクリル アミド−コ−ノルマルブチルアクリレート−コ−ジエ チレングリコールモノメチルエーテルメタクリレート〕 (各モノマーのモル比は順に40:40:20、重量平 均分子量40,000、数平均分子量20,000) 0.2g p−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279 号明細書に記載されているもの) 0.02g ナフトキノンジアジド−1,2−ジアジド−4−スルホン酸 クロライド 0.01g[Photosensitive Solution] Esterification product of 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin (as described in Example 1 of US Pat. No. 3,635,709) 0.45 g Cresol-formaldehyde novolak resin (meta-para ratio; 6 to 4, weight average molecular weight 3,000, number average molecular weight 1,100, containing 0.7% unreacted cresol) 1.1 g m-cresol-formaldehyde novolac resin (weight average molecular weight 1,700, number average molecular weight 600, containing 1% of unreacted cresol) 0.3 g Condensation product of pyrogallol and acetone (weight average molecular weight 2,200, number average molecular weight 700) 0.1 g Poly [N- (P-amino Sulfonylphenyl) acryl amide-co-normal butyl acrylate-co-diethylene glycol monomethyl ether Crylate] (The molar ratio of each monomer is 40:40:20, weight average molecular weight 40,000, number average molecular weight 20,000) 0.2 g p-normal octylphenol-formaldehyde resin (described in US Pat. No. 4,123,279) 0.02 g Naphthoquinone diazide-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride 0.01 g
【0038】 テトラヒドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g ピロガロール 0.05g 有機ハロゲン化合物(表1参照) 0.02g N−(1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニル オキシ)−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミド 0.01g ビクトリアピュア−ブルーBOH〔保土谷化学(株)製〕の 対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料 0.045g 1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロ キシメチルフェニル)エチル〕−4−〔α,α−ビス(4− ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)エチル〕 ベンゼン 0.04g (特願平4−245049号明細書の化合物(X)) メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.01g メチルエチルケトン 20g メタノール 4.5g プロピレングリコールモノメチルエーテル 0.3g 水 0.2gTetrahydrophthalic anhydride 0.02 g Benzoic acid 0.02 g Pyrogallol 0.05 g Organohalogen compound (see Table 1) 0.02 g N- (1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonyloxy) -cyclohexane -1,2-Dicarboxylic acid imide 0.01g Victoria Pure-Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.] Dye in which the counter anion was changed to 1-naphthalenesulfonic acid 0.045g 1- [α-methyl-α- (4-Hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) ethyl] benzene 0.04 g (Japanese Patent Application No. 4- 245049 Compound (X)) Megafac F-177 (Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Fluorine-based surfactant) 0.01 g Ethyl ketone 20g Methanol 4.5g Propylene glycol monomethyl ether 0.3g Water 0.2g
【0039】このようにして作製した感光性平版印刷版
を真空焼枠中で透明なポジティブフィルムを通して1m
の距離から3kwのメタルハライドランプにより15秒間
又は1分間露光を行なったのち、露光部(非画像部)と
未露光部(ベタ画像)の濃度差ΔDをマクベス反射濃度
計にて測定した。結果を表1に示す。感度は富士写真フ
ィルム(株)製ステップウェッジ(各段の濃度差が0.1
5)を上記の方法で感光性平版印刷版に焼き付けたの
ち、25℃、30秒間 SiO2 /K2O のモル比が1.74の
珪酸カリウムの5.26%水溶液(pH=12.7)で現像し
たところ、クリアー段数は、15秒露光で1段、1分露
光で5段であった。さらに、同様の測定を感光性平版印
刷版試料を60℃、湿度80%の条件下で3日間保存し
た試料についても行なった。結果を表1に示す。比較例
の有機ハロゲン化合物(C1)〜(C3)は米国特許第
3,954,475 号に記載されたものである。The photosensitive lithographic printing plate thus prepared was passed through a transparent positive film in a vacuum baking frame for 1 m.
After exposure for 15 seconds or 1 minute from a distance of 3 kw with a metal halide lamp, the density difference ΔD between the exposed portion (non-image portion) and the unexposed portion (solid image) was measured with a Macbeth reflection densitometer. The results are shown in Table 1. The sensitivity is a step wedge made by Fuji Photo Film Co., Ltd. (the density difference between each step is 0.1
After 5) was baked onto the photosensitive lithographic printing plate by the above method, a 5.26% aqueous solution of potassium silicate (pH = 12.7) having a SiO 2 / K 2 O molar ratio of 1.74 at 25 ° C. for 30 seconds. ), The number of clear steps was 1 step for 15-second exposure and 5 steps for 1-minute exposure. Further, the same measurement was performed on a sample in which the photosensitive lithographic printing plate sample was stored at 60 ° C. and 80% humidity for 3 days. The results are shown in Table 1. Comparative examples of the organic halogen compounds (C1) to (C3) are disclosed in US Pat.
It is described in No. 3,954,475.
【0040】[0040]
【化4】 [Chemical 4]
【0041】[0041]
【表1】 ─────────────────────────────────── 有機ハロゲン化合物 露光可視画性 経時後の露光可視画性 15秒露光 1分露光 15秒露光 1分露光 ─────────────────────────────────── 本発明の化合物(1) 0.15 0.27 0.15 0.26 本発明の化合物(2) 0.16 0.28 0.15 0.27 本発明の化合物(3) 0.14 0.27 0.14 0.26 本発明の化合物(4) 0.14 0.27 0.14 0.26 比較例の化合物(C1) 0.05 0.23 0.02 0.11 比較例の化合物(C2) 0.06 0.24 0.02 0.12 比較例の化合物(C3) 0.05 0.24 0.03 0.12 ───────────────────────────────────[Table 1] ─────────────────────────────────── Organic halogen compounds Exposure Visibility Visual exposure Exposure after aging Visibility 15 second exposure 1 minute exposure 15 second exposure 1 minute exposure ──────────────────────────────────── Compound (1) of the present invention 0.15 0.27 0.15 0.26 Compound (2) of the present invention 0.16 0.28 0.15 0.27 Compound (3) 0.14 0.1 of the present invention 27 0.14 0.26 Compound (4) of the present invention 0.14 0.27 0.14 0.26 Compound (C1) of Comparative Example 0.05 05.23 0.02 0.11 Compound of Comparative Example ( C2) 0.06 0.24 0.02 0.12 Comparative Example Compound (C3) 0.05 05.24 0.03 0.12 ────────────────── ──────────────────
【0042】表1から明らかなように、本発明の感光性
組成物を用いた感光性平版印刷版は、露光可視画性が、
特に低露光で優れ、高温、高湿下で経時させても、劣化
が少ない優れたものである。As is apparent from Table 1, the photosensitive lithographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention has an exposure visible image property.
In particular, it is excellent in low exposure and has little deterioration even when it is aged under high temperature and high humidity.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/039 7/105 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location G03F 7/039 7/105
Claims (1)
て、下記一般式(I)で示される化合物及び該化合物の
光分解生成物と相互作用し得る染料を含有することを特
徴とする感光性組成物。 【化1】 式中、R1 、R2 は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜
8のアルキル基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは
1〜3の整数を示す。1. A photosensitive composition which acts positively, comprising a compound represented by the following general formula (I) and a dye capable of interacting with a photodegradation product of the compound. Composition. [Chemical 1] In the formula, R 1 and R 2 are each a hydrogen atom or a carbon number of 1 to
8 represents an alkyl group, X represents a halogen atom, and m represents an integer of 1 to 3.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5219892A JPH0772625A (en) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | Photosensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5219892A JPH0772625A (en) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | Photosensitive composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0772625A true JPH0772625A (en) | 1995-03-17 |
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ID=16742682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5219892A Pending JPH0772625A (en) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | Photosensitive composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0772625A (en) |
-
1993
- 1993-09-03 JP JP5219892A patent/JPH0772625A/en active Pending
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