JPH0771395A - Evacuator - Google Patents

Evacuator

Info

Publication number
JPH0771395A
JPH0771395A JP284593A JP284593A JPH0771395A JP H0771395 A JPH0771395 A JP H0771395A JP 284593 A JP284593 A JP 284593A JP 284593 A JP284593 A JP 284593A JP H0771395 A JPH0771395 A JP H0771395A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum chamber
trap panel
vacuum
trap
pump
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP284593A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2656199B2 (en
Inventor
Takeshi Jinbo
毅 神保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Priority to JP5002845A priority Critical patent/JP2656199B2/en
Priority to KR1019930026950A priority patent/KR100235686B1/en
Priority to EP94100312A priority patent/EP0610666B1/en
Priority to DE1994609555 priority patent/DE69409555T2/en
Publication of JPH0771395A publication Critical patent/JPH0771395A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2656199B2 publication Critical patent/JP2656199B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE: To accelerate a vent in a vacuum chamber and to shorten the rise time of a pump by forcefully vaporizing the water molecules stuck to the trap panel of a turbopump with a heating device. CONSTITUTION: When a turbopump 15 with a trap is driven to exhaust a vacuum chamber, the water moledules in gas molecules are frozen and aggregated by an annular trap panel 24, a support frame 25 and a center section trap panel 26 at the inlet of a pump case 18. If the vacuum chamber is communicated with the atmosphere at the stationary temperature when an operation under vacuum is completed and the vacuum chamber is vented to the atmospheric pressure, such a trouble occurs that the water molecules frozen on a trap panel 23 are quickly liquefied and flow back into the vacuum chamber. When a heating device 27 is provided near the intake port 21 of the turbopump 15, the trap panel 23 can be heated from the stationary temperature to the normal temperature in several minutes. The water molecules aggregated on the trap panel 23 can be quickly vaporized, the rise/fall time of the turbopump 15 can be shortened, and work efficiency can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、スパッタ装置その他の
真空プロセスを有する装置などに用いられる真空排気装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum exhaust device used for a sputtering device and other devices having a vacuum process.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体、光学などの産業分野で真空装置
は広く使用されている。このような真空プロセスを有す
る装置を使用する一例として、PVD(physical vapor
deposition )法がある。PVD法は、薄膜とする技
術、主として金属を物理的に堆積するもので、その成形
法の一つであるスパッタ法は、原理的には放電の方法に
よって真空内でAr+ などを加速して負電位に保った電
極(ターゲット)に衝突させるものである。この方法に
よると、電極物質はAr+ エネルギをもらった表面から
脱離し(これをスパッタ現象という)、その飛び出した
物質がほかの基板上に堆積し、薄膜となる。
2. Description of the Related Art Vacuum devices are widely used in industrial fields such as semiconductors and optics. As an example of using an apparatus having such a vacuum process, PVD (physical vapor) is used.
deposition) method. The PVD method is a technique for forming a thin film, mainly a metal is physically deposited, and the sputtering method, which is one of the forming methods, in principle, accelerates Ar + in a vacuum by a discharge method. It collides with an electrode (target) kept at a negative potential. According to this method, the electrode material is desorbed from the surface receiving Ar + energy (this is referred to as a sputtering phenomenon), and the protruding material is deposited on another substrate to form a thin film.

【0003】上記のようなスパッタ装置には、薄膜物質
を真空中で高エネルギイオンにするための真空チャンバ
が必要となる。この真空チャンバ内の気体を排気するた
めには真空排気装置が必要となるが、この真空排気装置
には、従来クライオポンプ又はトラップターボポンプが
使用されている。図4を参照してヘリウムガス冷凍機を
用いたクライオポンプシステムの一例を説明する。真空
チャンバ1には、メインバルブ(高真空バルブ)2を有
する管路8を介してクライオプンプ3が接続されてい
る。クライオポンプ3はクライオラフバルブ4を介して
ロータリポンプ(メカニカルポンプ)5に接続されてい
る。真空チャンバ1からは上記系統と別に途中にチャン
バラフバルブ6を有する管路7が導出されており、この
管路7の他端は、クライオラフバルブ4とロータリポン
プ5とを結ぶ管路8aに接続されている。さらに、真空
チャンバ1からは別系統の管路9が途中にチャンバベン
トバルブ10を介して導出されている。
The above sputtering apparatus requires a vacuum chamber for converting thin film substances into high energy ions in vacuum. A vacuum exhaust device is required to exhaust the gas in the vacuum chamber, and a cryopump or a trap turbo pump is conventionally used for this vacuum exhaust device. An example of a cryopump system using a helium gas refrigerator will be described with reference to FIG. A cryopump 3 is connected to the vacuum chamber 1 via a conduit 8 having a main valve (high vacuum valve) 2. The cryopump 3 is connected to a rotary pump (mechanical pump) 5 via a cryoraf valve 4. A conduit 7 having a chamber rough valve 6 is led from the vacuum chamber 1 in the middle of the system, and the other end of the conduit 7 is connected to a conduit 8a connecting the cryoraf valve 4 and the rotary pump 5. It is connected. Furthermore, a pipeline 9 of another system is led out from the vacuum chamber 1 via a chamber vent valve 10 on the way.

【0004】クライオポンプ3の構成例は図5に示され
ている。図において、ヘリウガス小型冷凍機(図示せ
ず)に接続された回転軸11がポンプケース12内に進
入しており、軸先端にコールド羽根13が設けられてい
る。ポンプケース12の吸気口にはバッフル14が設け
られており、吸気口には管路8が接続される。
An example of the structure of the cryopump 3 is shown in FIG. In the figure, a rotary shaft 11 connected to a Heliu gas small refrigerator (not shown) has entered a pump case 12, and a cold blade 13 is provided at the tip of the shaft. A baffle 14 is provided at the intake port of the pump case 12, and the pipe line 8 is connected to the intake port.

【0005】上記のクライオポンプ3では、バッフル1
4、コールド羽根13などが極低温に冷却されており管
路8を通って気相から入射する気体分子のうち、水蒸気
やそれより蒸気圧の高い気体はポンプ入口のバッフル1
4などにより凝縮排気される。それより低い窒素、酸
素、アルゴン等の気体はコールド羽根13に接着され、
さらに蒸気圧の低い気体はコールドパネル(図示せず)
に接着され、吸着剤にそれぞれ捕獲される。
In the above cryopump 3, the baffle 1
4. Among the gas molecules that are cooled to a cryogenic temperature such as 4 and cold vanes 13 and enter from the gas phase through the conduit 8, water vapor or gas having a higher vapor pressure than that is the baffle 1 at the pump inlet.
4, etc. are condensed and exhausted. Lower gases such as nitrogen, oxygen, and argon are bonded to the cold blade 13,
Cold panel (not shown) for gas with lower vapor pressure
Are adhered to and are captured by the adsorbent.

【0006】上記のクライオポンプ3を用いて図4の真
空排気システムにより排気を行うには、まずチャンバベ
ントバルブ10と、メインバルブ2と、クライオラフバ
ルブ4を閉じ、チャンバラフバルブ6を開き、ロータリ
ポンプ5を駆動して真空チャンバ1内の荒引きを行な
う。つぎに、チャンバラフバルブ6を閉じ、クライオポ
ンプ3を駆動して真空チャンバ1内を高真空にする。上
記の真空排気システムでは、クライオポンプ3の能力
上、メインバルブ2とクライオラフバルブ4は絶対に必
要であり、チャンバラフバルブ6も真空チャンバ1内を
荒引き排気するためには必要である。また、チャンバベ
ントバルブ10は真空ポンプの種類に関係なく必要であ
る。
In order to evacuate using the above-mentioned cryopump 3 by the vacuum evacuation system of FIG. 4, first, the chamber vent valve 10, the main valve 2 and the cryoraf valve 4 are closed, and the chamber rough valve 6 is opened. The rotary pump 5 is driven to rough the vacuum chamber 1. Next, the chamber rough valve 6 is closed and the cryopump 3 is driven to make the vacuum chamber 1 a high vacuum. In the above vacuum evacuation system, the main valve 2 and the cryoraf valve 4 are absolutely necessary due to the capability of the cryopump 3, and the chamber rough valve 6 is also necessary for rough evacuation of the vacuum chamber 1. Further, the chamber vent valve 10 is necessary regardless of the type of vacuum pump.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】クライオポンプはため
込み式のポンプであるため、スイッチONから稼動開始
までの立ち上がり時間(所定温度まで冷却される時間)
および、スイッチOFFから稼動停止までの立下がり時
間(所定温度まで昇温する時間)が1時間ないし2時間
もかかるが、その間は真空チャンバ内をクライオポンプ
と連通した状態では大気開放して作業することができな
い。このため真空チャンバとクライオポンプの間には必
ずメインバルブ2が必要となる。
Since the cryopump is a self-contained pump, the rise time from the switch ON to the start of operation (time to cool to a predetermined temperature)
Also, the fall time from the switch OFF until the operation is stopped (time to heat up to a predetermined temperature) takes 1 to 2 hours, and during that time, work is performed with the atmosphere open to the atmosphere while the vacuum chamber is in communication with the cryopump. I can't. Therefore, the main valve 2 is always required between the vacuum chamber and the cryopump.

【0008】メインバルブ2には高真空ベローズバルブ
その他が使用されるが、高真空側と大気圧側との気圧差
が大きく、しかも、密閉する必要上、メインバルブの構
造は一般に複雑にならざるを得ない。しかしメインバル
ブの構造が複雑になると、それだけバルブを構成する各
部材の表面積が大きくなり、バルブが高真空中に存在す
ることから、各部材の表面に付着する塵による発塵の原
因となり、また各部材の素材から放出ガスが発生する原
因となり、これが真空チャンバに流れ、その内部の高真
空化を妨げるという問題があった。つまり、真空チャン
バとクライオポンプとの間には、真空チャンバ内を高真
空にするうえでメインバルブが存在しないことが最も理
想的であるが、図4のクライオポンプを用いた真空排気
システムではメインバルブを除去するとはできない。
A high-vacuum bellows valve or the like is used as the main valve 2, but the pressure difference between the high-vacuum side and the atmospheric pressure side is large, and the main valve 2 needs to be hermetically sealed. I don't get. However, when the structure of the main valve becomes complicated, the surface area of each member that constitutes the valve becomes large, and the valve is in a high vacuum, which causes dust to be generated on the surface of each member. There has been a problem that released gas is generated from the material of each member, which flows into the vacuum chamber, and prevents high vacuum inside. That is, it is ideal that there is no main valve between the vacuum chamber and the cryopump in order to create a high vacuum in the vacuum chamber. However, in the vacuum exhaust system using the cryopump of FIG. You cannot remove the valve.

【0009】一方、クライオポンプに代えてポンプ吸気
口にトラップパネルを配設し、こののトラップパネルを
冷却してこれに水分子を付着させ、この水分子を除去す
るトラップパネル付きターボポンプ(図示せず)が使用
されることがある。しかし、このトラップパネル付きタ
ーボポンプでも、トラップに付着した水分子を気化して
除去し、再び稼動開始するまでには1時間程度かかる。
つまり、真空チャンバ内を大気圧までベントするには、
クライオポンプの場合と同様トラップパネルが定常温
度、(つまり、水分子を吸着できる温度で、約100K
ビン)から常温(例えば300K)になっていなればな
らないが、それに約1時間程度かかるのである。
On the other hand, instead of the cryopump, a trap panel is provided at the pump intake port, the trap panel is cooled, water molecules are attached to it, and a turbo pump with a trap panel (FIG. (Not shown) may be used. However, even with this turbo pump with a trap panel, it takes about 1 hour to vaporize and remove the water molecules attached to the trap and start the operation again.
In other words, to vent the vacuum chamber to atmospheric pressure,
Similar to the case of the cryopump, the trap panel has a steady temperature (that is, at a temperature at which water molecules can be adsorbed, about 100K
The temperature in the bottle must be room temperature (for example, 300K), but it takes about 1 hour.

【0010】このため、トラップパネル付きターボポン
プを使用する場合でも、真空チャンバとトラップパネル
付きターボポンプとの間にはメインバルブが必要とな
り、クライオポンプの場合と同様メインバルブからの発
塵、放出ガスなどの問題が生じる。
Therefore, even when a turbo pump with a trap panel is used, a main valve is required between the vacuum chamber and the turbo pump with a trap panel, and dust generation and release from the main valve are the same as in the case of the cryopump. Problems such as gas will occur.

【0011】本発明は排気ポンプとして使用するトラッ
プパネル付きターボポンプの立上がり時間を短くし、上
記のメインバルブ除去による不具合をなくすことによ
り、上記の問題点を解決した真空排気装置を提供するこ
とを目的とする。
The present invention provides a vacuum exhaust system which solves the above problems by shortening the rise time of a turbo pump with a trap panel used as an exhaust pump and eliminating the above problems caused by removal of the main valve. To aim.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係る真空排気装
置は、真空チャンバ内の気体を排気ポンプにより排気す
る真空排気装置において、上記排気ポンプを、吸気口部
に加熱装置を有するトラップパネル付きターボポンプに
より構成したことを特徴とする。また、上記トラップパ
ネル付きターボポンプは管路を介して直接真空チャンバ
に接続するとよい。
A vacuum exhaust apparatus according to the present invention is a vacuum exhaust apparatus for exhausting gas in a vacuum chamber by an exhaust pump, the exhaust pump having a trap panel having a heating device at an intake port. It is characterized by being configured by a turbo pump. Further, the turbo pump with a trap panel may be directly connected to the vacuum chamber via a pipe line.

【0013】[0013]

【作用】上記の構成によると、トラップパネル付きター
ボポンプのトラップパネルに付着した水分子を加熱装置
により短時間で強制的に気化させ、ターボポンプを稼動
して急速に排気できる。
According to the above construction, the water molecules attached to the trap panel of the turbo pump with the trap panel can be forcibly vaporized by the heating device in a short time, and the turbo pump can be operated to rapidly exhaust the water.

【0014】[0014]

【実施例】以下本発明に係る真空排気装置の実施例を図
を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a vacuum exhaust device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】図1は実施例に係るトラップパネル付きタ
ーボポンプ15を示し、図3には上記ポンプ15を用い
た真空排気システムを示す。図3において、真空チャン
バ1とトラップパネル付きターボポンプ15とは、管路
16を介して直接接続されている。トラップパネル付き
ターボポンプ15は補助バルブ17を介してロータリポ
ンプ5と接続されている。真空チャンバ1からはチャン
バベントバルブ10を介して管路9が導出されている。
FIG. 1 shows a turbo pump 15 with a trap panel according to an embodiment, and FIG. 3 shows a vacuum exhaust system using the pump 15. In FIG. 3, the vacuum chamber 1 and the turbo pump 15 with a trap panel are directly connected via a pipe 16. The turbo pump 15 with a trap panel is connected to the rotary pump 5 via an auxiliary valve 17. A pipe line 9 is led out from the vacuum chamber 1 via a chamber vent valve 10.

【0016】上記真空排気システムに用いられるトラッ
プパネル付きターボポンプ15は、図1に示すように構
成されている。図1の分図(b)は破断側面図、分図
(a)はトラップパネルの縦断正面図である。各図にお
いて、ポンプケース18内には主軸部19と一体の羽根
車20が設けられており、ポンプケース18の一端側に
は吸気口21が設けられ、他端側には排気口が設けられ
ている。吸気口21の周縁部には、管路16と接続する
ためのフランジ22が設けられている。
The turbo pump 15 with a trap panel used in the above vacuum exhaust system is constructed as shown in FIG. 1 (b) is a broken side view, and FIG. 1 (a) is a vertical sectional front view of the trap panel. In each drawing, an impeller 20 integral with the main shaft portion 19 is provided in the pump case 18, an intake port 21 is provided at one end of the pump case 18, and an exhaust port is provided at the other end. ing. A flange 22 for connecting to the conduit 16 is provided on the peripheral portion of the intake port 21.

【0017】上記ポンプケース18の吸気口21の内側
にはトラップパネル23が設けられている。トラップパ
ネル23は図2に拡大図で示すように環状トラップパネ
ル24を有し、その内周面には、吸気口21の中央部で
交差するよう正面から見て略十字状に配された支持フレ
ーム25の外端が固定されている。
A trap panel 23 is provided inside the intake port 21 of the pump case 18. As shown in the enlarged view of FIG. 2, the trap panel 23 has an annular trap panel 24, and the inner peripheral surface of the trap panel 23 is arranged in a cross shape as seen from the front so as to intersect at the center of the intake port 21. The outer end of the frame 25 is fixed.

【0018】支持フレーム25の中央側面に中央部トラ
ップパネル26が設けられている。この中央部トラップ
パネル26は、羽根車20の主軸部19の断面形状と同
じ円板形状で、かつ主軸部19の直径と略同一寸法に設
けられている。また、中央部トラップパネル26と主軸
部19とは同一軸線上に設けられている。環状トラップ
パネル24と支持フレーム25と中央部トラップパネル
26は、いずれもコールドパネルであって、水分子だけ
をトラップすることができ、水分子の急速な排気によ
り、排気時間の短縮を可能にするものである。また、他
の気体分子はターボポンプの羽根車20により強制排気
させられる。
A central trap panel 26 is provided on the central side surface of the support frame 25. The central trap panel 26 has the same disk shape as the cross-sectional shape of the main shaft portion 19 of the impeller 20, and is provided with substantially the same size as the diameter of the main shaft portion 19. Further, the central trap panel 26 and the main shaft portion 19 are provided on the same axis. The annular trap panel 24, the support frame 25, and the central trap panel 26 are all cold panels and can trap only water molecules, and the rapid evacuation of water molecules enables reduction of the exhaust time. It is a thing. Further, other gas molecules are forcibly discharged by the impeller 20 of the turbo pump.

【0019】本実施例では、上記トラップパネル23と
ポンプケース18の吸気口21との間隔に例えば加熱コ
イルからなる加熱装置27が配置されている。この加熱
装置27はトラップパネル23に吸着された水分子を短
時間で、急速かつ強制的に蒸発させるためのものであ
る。したがって、加熱装置27の具体的構成および配置
位置は図示例に限らない。
In the present embodiment, a heating device 27 composed of, for example, a heating coil is arranged in the space between the trap panel 23 and the intake port 21 of the pump case 18. The heating device 27 is for rapidly and forcibly evaporating the water molecules adsorbed on the trap panel 23 in a short time. Therefore, the specific configuration and arrangement position of the heating device 27 are not limited to the illustrated example.

【0020】また、環状トラップパネル24には、熱伝
導率の高い銅などを使用した熱伝導体28が結合されて
おり、熱伝導体28の端部は冷凍機29の冷凍部30に
結合されている。そして、冷凍機29にて発生した低温
熱源を熱伝導体28によりトラップパネル23に導き、
これを冷却する。トラップパネル23の冷却温度は、ト
ラップパネル23に対する熱負荷と、冷却能力のバラン
スにより決まる。なお、冷凍器29は、ポンプケース1
8と一体の保持ケース31の端部に取り付けられてお
り、冷凍機29の冷却部30と熱伝導体28は、保持ケ
ース31内に収容されている。
A heat conductor 28 made of copper or the like having a high heat conductivity is coupled to the annular trap panel 24, and an end portion of the heat conductor 28 is coupled to a freezing section 30 of a refrigerator 29. ing. Then, the low temperature heat source generated in the refrigerator 29 is guided to the trap panel 23 by the heat conductor 28,
Cool it. The cooling temperature of the trap panel 23 is determined by the balance between the heat load on the trap panel 23 and the cooling capacity. The refrigerator 29 is the pump case 1
8 is attached to an end portion of a holding case 31 that is integral with 8, and the cooling unit 30 and the heat conductor 28 of the refrigerator 29 are housed in the holding case 31.

【0021】本実施例の作用を説明する。The operation of this embodiment will be described.

【0022】図3の真空排気システムで排気を行うに
は、チャンバベントバルブ10を閉じ、補助バルブ17
を開いてロータリポンプ5を駆動し、真空チャンバ1内
の荒引きを行なう。それと同時に、トラップパネル付き
ターボポンプ15と、トラップパネル23の冷凍機29
を駆動する。ターボポンプは数分で定常回転となり、真
空チャンバ1内を排気し、さらに1時間程度でトラップ
パネル23が定常温度となり、真空チャンバ1内を高真
空にすることができる。
To perform evacuation with the vacuum evacuation system of FIG. 3, the chamber vent valve 10 is closed and the auxiliary valve 17 is used.
Is opened to drive the rotary pump 5 to perform rough evacuation of the vacuum chamber 1. At the same time, the turbo pump 15 with the trap panel and the refrigerator 29 of the trap panel 23
To drive. The turbo pump is steadily rotated in a few minutes to evacuate the inside of the vacuum chamber 1, and the trap panel 23 is brought to a steady temperature in about 1 hour to make the inside of the vacuum chamber 1 high vacuum.

【0023】トラップパネル付きターボポンプ15を駆
動するとき、図1に示すように、羽根車20の回転によ
り、真空チャンバ1内の気体分子が吸気口21からポン
プケース18内に吸引され、排気口から排気される。こ
のとき、気体分子のうち、卓越した部分を占める水分子
はポンプケース18の入口において環状トラップパネル
24と支持フレーム25と中央部トラップパネル26と
により凍結凝集され、効率的排気が行なわれる。
When the turbo pump 15 with a trap panel is driven, as shown in FIG. 1, the rotation of the impeller 20 causes the gas molecules in the vacuum chamber 1 to be sucked into the pump case 18 from the intake port 21 and to the exhaust port. Exhausted from. At this time, water molecules that occupy an outstanding portion of the gas molecules are frozen and aggregated by the annular trap panel 24, the support frame 25, and the central trap panel 26 at the inlet of the pump case 18, and efficient exhaust is performed.

【0024】真空チャンバ1内の真空下での操作が終
り、例えば、真空チャンバ1内を排除するなどのため、
チャンバベントバルブ10を開き、真空チャンバ1を大
気圧にベントすることがある。この場合ターボポンプ1
5のトラップパネル23は定常温度(例えば100K)
から常温(300K)になっていなければならず、定常
温度のまま大気と連通すると、トラップパネル23に氷
となって吸着された水分子が急速に気化したり液化して
真空チャンバ1に逆流するなどの不具合が生じる。その
ため、従来は、トラップパネル23を定常温度から常温
に上げるまでに時間が約1時間程度かかっていたが、本
実施例によると、ターボポンプ15の吸気口21近傍に
加熱装置27を設けているので、トラップパネル23を
数分で定常温度から常温まで昇温できる。そしてトラッ
プパネル23が常温になれば補助バルブ17を閉じると
共に、ターボポンプ15をOFFにし、補助バルブ17
を閉じてチャンバベントバルブ10を開き、真空チャン
バ1をベントし、大気圧にできる。
After the operation in the vacuum chamber 1 under vacuum is completed, for example, the inside of the vacuum chamber 1 is removed,
The chamber vent valve 10 may be opened to vent the vacuum chamber 1 to atmospheric pressure. In this case turbo pump 1
The trap panel 23 of No. 5 has a steady temperature (for example, 100K)
Must be at room temperature (300K) from the above, and when communicating with the atmosphere at a constant temperature, water molecules adsorbed as ice on the trap panel 23 are rapidly vaporized or liquefied and flow back into the vacuum chamber 1. Such problems occur. Therefore, conventionally, it took about 1 hour to raise the trap panel 23 from the steady temperature to the normal temperature, but according to the present embodiment, the heating device 27 is provided near the intake port 21 of the turbo pump 15. Therefore, the trap panel 23 can be heated from the steady temperature to room temperature in a few minutes. When the trap panel 23 reaches normal temperature, the auxiliary valve 17 is closed, the turbo pump 15 is turned off, and the auxiliary valve 17 is turned off.
Can be closed and the chamber vent valve 10 is opened to vent the vacuum chamber 1 to atmospheric pressure.

【0025】本実施例の場合、真空チャンバ1をベント
できる状態にもっていくのに、上述のように10分程度
かかる。従来のようにメインバルブ付きであれば、この
10分の待ち時間は必要ないが、しかし、この10分間
を待つことにより、メインバルブを省略できて構成が簡
単になり、メインバルブを省いたことによるメリットの
方が大きい。とくに、真空性能、パーティクル等を含め
ると、メインバルブ省略の効果は計りしれない。
In the case of this embodiment, it takes about 10 minutes as described above to bring the vacuum chamber 1 into a state in which it can be vented. If you have a main valve as in the past, you do not need to wait 10 minutes, but by waiting for 10 minutes, you can omit the main valve and simplify the configuration and omit the main valve. The benefits are greater. Especially, when the vacuum performance and particles are included, the effect of omitting the main valve is immeasurable.

【0026】なお、本実施例の各部の構成は、必要に応
じて設計変更してよいものである。
The configuration of each part of this embodiment may be changed in design as necessary.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の真空排気
装置によると、ターボ分子ポンプにより、気体分子を強
制的に排気できると共に、トラップパネルにより、排気
すべき気体分子の卓越した部分を占める水分子の排気が
行なえる。しかも、吸気口部に設けた加熱装置によりト
ラップパネルに凝結した水分子の気化と排気を素早く行
なうことができ、ターボ分子ポンプの立上げ、立下げ時
間を短くでき、作業効率を向上することができる。ま
た、ターボ分子ポンプの立上げ、立下げ時間の短縮化に
伴ない、ターボ分子ポンプを真空チャンバに直接接続す
ることが可能となって、従来のメインバルブを省略して
も何ら不具合がなく、したがって構造の簡易化が図れ
る。さらに、メインバルブを不要とすることで、真空時
このメインバルブが発生源である発塵、放出ガスを減少
でき、真空チャンバのクリーンな真空排気が得られる。
さらにメインバルブが無くなるぶん排気ポート部のコン
ダクタンスが大きくなるので真空性能が向上する。
As described above, according to the vacuum exhaust apparatus of the present invention, gas molecules can be forcibly exhausted by the turbo molecular pump, and the trap panel occupies an outstanding portion of the gas molecules to be exhausted. Water molecules can be exhausted. Moreover, the heating device provided in the intake port can quickly vaporize and exhaust the water molecules condensed in the trap panel, shorten the startup and shutdown times of the turbo molecular pump, and improve the work efficiency. it can. In addition, with the shortening of the startup and shutdown times of the turbo molecular pump, it is possible to connect the turbo molecular pump directly to the vacuum chamber, and there is no problem even if the conventional main valve is omitted. Therefore, the structure can be simplified. Furthermore, by eliminating the need for the main valve, dust generation and emission gas, which are the generation sources of this main valve during vacuum, can be reduced, and clean vacuum exhaust of the vacuum chamber can be obtained.
Furthermore, since the main valve is eliminated, the conductance of the exhaust port is increased, so that the vacuum performance is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】分図(a)は分図(b)のトラップパネルの縦
断正面図、分図(b)は、実施例に係るトラップパネル
付きターボポンプの破断側面図である。
FIG. 1A is a vertical sectional front view of a trap panel shown in FIG. 1B, and FIG. 1B is a cutaway side view of a turbo pump with a trap panel according to an embodiment.

【図2】分図(a)はトラップパネルの拡大斜視図、分
図(b)は分図(a)のII−II断面図である。
FIG. 2A is an enlarged perspective view of a trap panel, and FIG. 2B is a sectional view taken along line II-II of FIG. 2A.

【図3】実施例に係る真空排気システムの説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a vacuum exhaust system according to an embodiment.

【図4】従来のクライオポンプを用いた真空排気システ
ムの説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a conventional vacuum pumping system using a cryopump.

【図5】クライオポンプの説明断面図である。FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view of a cryopump.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…真空チャンバ、2…メインバルブ、5…ロータリポ
ンプ、10…チャンバベントバルブ、15…トラップパ
ネル付きターボポンプ、16…管路、17…補助バル
ブ、18…ポンプケース、20…羽根車、23…トラッ
プパネル、24…環状トラップパネル、25…支持フレ
ーム、26…中央部トラップパネル、27…加熱装置、
28…熱伝導体、29…冷凍機。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vacuum chamber, 2 ... Main valve, 5 ... Rotary pump, 10 ... Chamber vent valve, 15 ... Turbo pump with trap panel, 16 ... Pipe line, 17 ... Auxiliary valve, 18 ... Pump case, 20 ... Impeller, 23 ... trap panel, 24 ... annular trap panel, 25 ... support frame, 26 ... central trap panel, 27 ... heating device,
28 ... Heat conductor, 29 ... Refrigerator.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空チャンバ内の気体を排気ポンプによ
り排気する真空排気装置において、前記排気ポンプを、
吸気口部に加熱装置を有するトラップパネル付きターボ
ポンプにより構成したことを特徴とする真空排気装置。
1. A vacuum exhaust device for exhausting gas in a vacuum chamber by an exhaust pump, wherein the exhaust pump comprises:
A vacuum evacuation device comprising a turbo pump with a trap panel having a heating device at an intake port.
【請求項2】 前記トラップパネル付きターボポンプ
は、管路を介して直接真空チャンバに接続されている構
成を特徴とする請求項1記載の真空排気装置。
2. The vacuum exhaust apparatus according to claim 1, wherein the turbo pump with the trap panel is configured to be directly connected to the vacuum chamber via a pipe line.
JP5002845A 1993-01-11 1993-01-11 Opening method of vacuum chamber and PVD apparatus Expired - Fee Related JP2656199B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5002845A JP2656199B2 (en) 1993-01-11 1993-01-11 Opening method of vacuum chamber and PVD apparatus
KR1019930026950A KR100235686B1 (en) 1993-01-11 1993-12-09 Vacuum exhausting system
EP94100312A EP0610666B1 (en) 1993-01-11 1994-01-11 Turbomolecular pump
DE1994609555 DE69409555T2 (en) 1993-01-11 1994-01-11 Turbomolecular pump

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5002845A JP2656199B2 (en) 1993-01-11 1993-01-11 Opening method of vacuum chamber and PVD apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0771395A true JPH0771395A (en) 1995-03-14
JP2656199B2 JP2656199B2 (en) 1997-09-24

Family

ID=11540744

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5002845A Expired - Fee Related JP2656199B2 (en) 1993-01-11 1993-01-11 Opening method of vacuum chamber and PVD apparatus

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2656199B2 (en)
KR (1) KR100235686B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014001743A (en) * 2003-09-30 2014-01-09 Edwards Ltd Vacuum pump

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH025792A (en) * 1988-03-07 1990-01-10 Toshiba Corp Turbo molecular pump and its operating method
JPH04175475A (en) * 1990-11-09 1992-06-23 Hitachi Ltd Composite vacuum exhaust pump combining low temperature trap with turbo molecule pump

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH025792A (en) * 1988-03-07 1990-01-10 Toshiba Corp Turbo molecular pump and its operating method
JPH04175475A (en) * 1990-11-09 1992-06-23 Hitachi Ltd Composite vacuum exhaust pump combining low temperature trap with turbo molecule pump

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014001743A (en) * 2003-09-30 2014-01-09 Edwards Ltd Vacuum pump

Also Published As

Publication number Publication date
JP2656199B2 (en) 1997-09-24
KR100235686B1 (en) 1999-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4449373A (en) Reduced vacuum cryopump
JP2001501693A (en) Cryopump / getter pump combination pump and its regeneration method
CN101568727B (en) Cryotrap and vacuum processing device with cryotrap
JP5553638B2 (en) Cold trap and vacuum exhaust device
EP0610666B1 (en) Turbomolecular pump
US5154582A (en) Rough vacuum pump using bulk getter material
JPH0771395A (en) Evacuator
US5231840A (en) Cryopump
JP2568364B2 (en) Turbo pump with trap panel
EP0214277B1 (en) Cryopump regeneration method and apparatus
JPH04187873A (en) Evacuation device
JP2802035B2 (en) Vacuum exhaust device
JP3052096B2 (en) Cryopump
JP7311522B2 (en) cryopump
JP5732404B2 (en) Process chamber with built-in exhaust system
JP2946733B2 (en) Vacuum exhaust device
Singleton The performance characteristics of modern vacuum pumps
JPH02248659A (en) High vacuum exhaust device
TW202235748A (en) cryopump
Weston Pumping systems
JP2018076194A (en) Vacuum treatment apparatus and rare-gas collection apparatus
JPH0547695A (en) Exhaust method in fine processor
JPH0658258A (en) Cryopump
JPH01277687A (en) Cryopump
JPH02207185A (en) Vacuum device

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19960806

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19970513

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees