JPH077114B2 - Phosphor panel for X-ray sensitization having heating and drying means - Google Patents

Phosphor panel for X-ray sensitization having heating and drying means

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JPH077114B2
JPH077114B2 JP5079687A JP5079687A JPH077114B2 JP H077114 B2 JPH077114 B2 JP H077114B2 JP 5079687 A JP5079687 A JP 5079687A JP 5079687 A JP5079687 A JP 5079687A JP H077114 B2 JPH077114 B2 JP H077114B2
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phosphor
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support
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亜紀子 加野
中野  邦昭
文生 島田
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention 【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本発明は医学用X線写真の直接撮影用増感スクリーン或
は間接撮影用蛍光スクリーンに関する。
The present invention relates to an intensifying screen for direct radiography of a medical X-ray photograph or a fluorescent screen for indirect radiography.

【発明の背景】BACKGROUND OF THE INVENTION

直接撮影用増感スクリーン(intensifying screen、一
般に増感紙と呼ばれる)及び間接撮影用蛍光スクリーン
(fluorescent screen、一般に蛍光板と呼ばれる)は、
X線によって蛍光を発する蛍光体を、X線撮影に支障の
ない支持体上に塗設し、更に形成された蛍光体層を保護
層で被覆したものである。前記増感紙は支持体の表面に
ハロゲン化銀感光層が塗設された写真感光材料(Xレイ
フィルム)に密着させられて保持され、X線が照射され
ることによって発光し、写真感光材料のX線に対する感
度を間接的に向上させている。また蛍光板に於てはX線
像を可視画像に変換し、これを間接撮影用カメラあるい
は撮影管等で撮影可能にしている。 前記増感紙、蛍光板等の蛍光スクリーンは一般にパネル
形態をなしているので以後の説明には両者を一括してX
線写真増感用蛍光体パネルに、更に省略して蛍光体パネ
ル或は単にパネルと称する。 前記増感紙に使用する蛍光体は、従来一般的に直接撮影
用Xレイフィルムの感色性がレギュラーである場合には
4000〜5000Åに蛍光スペクトルを有するタングステン酸
カルシウムを主系統とした蛍光体ユーロピウム賦活硫酸
バリウム蛍光体等が用いられ更に直接撮影用Xレイフィ
ルムの感色性がオルソマチックの場合にはテルビニウム
を賦活剤とした酸化硫化カドリニウム系の5400Å付近に
ピークを有する蛍光体等が用いられている。また間接撮
影用Xレイフィルムの感光性はオルソマティックである
ので前記蛍光板は5400〜5500Åに蛍光スペクトルを有す
る銀を賦活剤とする硫化カドミウム亜鉛系のものが使用
される。 ところで前記蛍光体は、まづX線エネルギーの吸収効率
のよいこと、発光効果のよいこと、写真感光材料の感光
スペクトルを効率よくカバーする蛍光スペクトルを発す
ること、残光がなく画像の鮮鋭性、撮影操作に支障を与
えぬことが要求される。 ここに於て、LaOBr:Tb等の希土類蛍光体、BaFBr:Eu、Ba
FCl:Eu等のアルカリ土類蛍光体はX線の吸収効率、発光
効率が高く発光スペクトル領域も好適であり、X線写真
増感用蛍光体として好しい。またCsI:Na、CaI:Tl、RbB
r:Tl等のアルカリハライド蛍光体は前記性能を備えると
共に蒸着等の気相堆積法によって容易に蛍光体層を形成
できるので蛍光体層中の蛍光体充填密度が100%に近
く、結着剤溶液に蛍光体粒子を懸濁、分散させた蛍光体
塗料を塗布した蛍光体層に比べ感度、粒状性及び画像の
鮮鋭性が著しく向上して好ましい。 また更に蛍光体パネルには繰返し使用が可能であること
(耐用性)が強く要求される 即ち、前記蛍光体パネルは、得られるX線画像の画質を
劣化させることなく長期間あるいは多数回の繰返しの使
用に耐える性能を有することが望まれる。そのためには
前記蛍光体パネル中の蛍光体層が外部からの物理的ある
いは化学的刺激から十分に保護される必要がある。しか
しながら蛍光体は一般に吸湿性であり、とくに前記希土
類、アルカリ土類或はアルカリハライド系の蛍光体は吸
湿性が強い。前記蛍光体層が水分を吸収すると、アルカ
リ土類系蛍光体(例えばBaFBr:Eu)等は分解しX線に対
する感度が低下する。またアルカリハライド系蛍光体
(例えばCsI:Na)等は吸湿、脱湿によりX線に対する感
度が変動し、撮影条件が不安定となり、また得られるX
線画像の画質の劣化をもたらすため、前記蛍光体層に水
分が含有されないよう保護することが望まれる。 従来の蛍光体パネルにおいては、上記の問題に対処する
ため特性を犠牲にして吸湿性の少い蛍光体を選び且つ必
要に応じ蛍光体層面を保護層で被覆する方法がとられて
きた。 この保護層は、たとえば特開昭59−42500号に記述され
ているように、保護層用塗布液を蛍光体層上に直接塗布
して形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保
護層を蛍光体層上に接着する方法により形成されてい
る。 しかし、前記保護層は層厚を厚くして水分の透過率を下
げようとすると画像の鮮鋭性が劣化してしまうため薄層
化する必要があり、水分の透過を完全に防止することは
不可能であった。このため前記BaFBr:Euのようなアルカ
リ土類金属系の蛍光体、CsI:Naのようなアルカリ金属系
の蛍光体あるいはLaOBr:Tl蛍光体等の吸湿性が著しい蛍
光体は、吸湿による特性の劣化が起こりこれら蛍光体は
X線吸収効率、発光効率などの諸特性が優れているにも
かかわらず、X線写真増感用蛍光体として利用すること
は困難であった。 前記蛍光体パネルの耐用性を向上するために特に耐湿性
防湿手段の点でのよりいっそうの改良が望まれている
が、前記保護層の透湿性を低下させるための方法以外は
防湿性に関してほとんど検討されていないのが現状であ
る。
Intensifying screens (generally called intensifying screens) for direct photography and fluorescent screens (generally called fluorescent screens) for indirect photography are
A phosphor that emits fluorescence by X-rays is coated on a support that does not interfere with X-ray photography, and the formed phosphor layer is covered with a protective layer. The intensifying screen is held in close contact with a photographic light-sensitive material (X-ray film) having a silver halide light-sensitive layer coated on the surface of a support, and emits light when irradiated with X-rays. The sensitivity to X-rays is indirectly improved. The fluorescent plate converts an X-ray image into a visible image, which can be photographed by an indirect photographing camera or a photographing tube. Since the fluorescent screens such as the intensifying screen and the fluorescent plate are generally in the form of a panel, they will be collectively referred to as X in the following description.
A liner-sensitized phosphor panel is referred to as a phosphor panel or simply a panel for brevity. The phosphor used for the intensifying screen is generally used when the X-ray film for direct photography has a regular color sensitivity.
Phosphor mainly composed of calcium tungstate having a fluorescence spectrum of 4000 to 5000Å Europium activated barium sulfate phosphor etc. is used, and if the X-ray film for direct photography is orthomatic, terbium is an activator. The cadmium oxysulfide-based phosphor having a peak near 5400Å is used. Further, since the photosensitivity of the X-ray film for indirect photography is orthomatic, a cadmium zinc sulfide-based one having silver having an emission spectrum of 5400 to 5500Å as an activator is used as the fluorescent plate. By the way, the above-mentioned phosphor has good absorption efficiency of X-ray energy, good emission effect, emits a fluorescence spectrum that efficiently covers the photosensitive spectrum of the photographic light-sensitive material, has no afterglow, and provides sharpness of an image. It is required not to interfere with the shooting operation. Here, rare-earth phosphors such as LaOBr: Tb, BaFBr: Eu, Ba
Alkaline earth phosphors such as FCl: Eu have high X-ray absorption efficiency and emission efficiency and are suitable in the emission spectrum region, and are preferable as X-ray sensitization phosphors. Also CsI: Na, CaI: Tl, RbB
Alkali halide phosphors such as r: Tl have the above-mentioned performance and can easily form a phosphor layer by a vapor deposition method such as vapor deposition, so the phosphor packing density in the phosphor layer is close to 100%, and the binder This is preferable because the sensitivity, the graininess and the sharpness of the image are remarkably improved as compared with the phosphor layer coated with the phosphor coating in which the phosphor particles are suspended and dispersed in the solution. Further, it is strongly required that the phosphor panel can be used repeatedly (durability). That is, the phosphor panel can be repeatedly used for a long time or many times without deteriorating the image quality of the obtained X-ray image. It is desired to have the ability to withstand the use of For that purpose, the phosphor layer in the phosphor panel must be sufficiently protected from external physical or chemical stimuli. However, the phosphors are generally hygroscopic, and the rare earth, alkaline earth or alkali halide phosphors are particularly hygroscopic. When the phosphor layer absorbs water, the alkaline earth-based phosphor (for example, BaFBr: Eu) is decomposed and the sensitivity to X-ray is lowered. In addition, the sensitivity of X-rays of alkali halide phosphors (such as CsI: Na) changes due to moisture absorption and dehumidification, which makes the imaging conditions unstable and the X
Since the quality of the line image is deteriorated, it is desired to protect the phosphor layer from containing water. In the conventional phosphor panel, in order to deal with the above-mentioned problems, a method has been adopted in which a phosphor having a low hygroscopic property is selected at the sacrifice of characteristics and a phosphor layer surface is covered with a protective layer as needed. This protective layer is formed, for example, as described in JP-A-59-42500, by directly applying a protective layer coating solution on the phosphor layer, or by forming a separately formed protective layer in advance. It is formed by a method of adhering on the body layer. However, if the protective layer is made thicker to reduce the water permeability, the sharpness of the image will be deteriorated, so it is necessary to make it thinner, and it is not possible to completely prevent the moisture transmission. It was possible. Therefore, the alkaline earth metal-based phosphors such as BaFBr: Eu, the alkali metal-based phosphors such as CsI: Na or the LaOBr: Tl phosphors or the like, which have remarkable hygroscopicity, have characteristics due to moisture absorption. Although these phosphors deteriorate due to their excellent properties such as X-ray absorption efficiency and emission efficiency, it has been difficult to use them as X-ray sensitizing phosphors. In order to improve the durability of the phosphor panel, further improvement is particularly desired in terms of moisture resistance and moisture-proof means, but most of the moisture-proof properties other than the method for reducing the moisture permeability of the protective layer. The current situation is that it has not been examined.

【発明の目的】[Object of the Invention]

本発明は、蛍光体パネルにおける前述のような現状に鑑
みてなされたものであり、本発明の目的は蛍光体層の乾
燥度を保ち、長期間にわたり良好な状態で使用が可能で
ある蛍光体パネルを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned current situation in the phosphor panel, and an object of the present invention is to maintain the dryness of the phosphor layer and to use the phosphor in a good state for a long period of time. To provide a panel.

【発明の構成】[Constitution of the invention]

前記した本発明の目的は、X線照射時に蛍光を発する蛍
光体を用いるX線写真増感用蛍光体パネルに加熱乾燥手
段を組込んだことを特徴とするX線写真増感用蛍光体パ
ネルによって達成される。 尚本発明の態様として前記加熱乾燥手段は蛍光体パネル
の構成層、支持体中に含有組込まれてもよいし、発熱体
からなる層を別途設けてもよい。 次に本発明を具体的に説明する。 X線照射時蛍光を発する蛍光体を用いる蛍光体パネル
は、一般に支持体上に蛍光体層(以後蛍光層と略称す
る)と該蛍光層の機能を補完するための各種構成層(例
えば保護層、フィルタ層或は接着層等)からなってい
る。 第1図に本発明の蛍光体パネルの各種態様を例示する。 第1図(a)において、1は支持体、2Hは乾燥乾燥用発
熱体(以後発熱体と略称する)が含有組込まれた発熱蛍
光層、3は保護層である。尚該保護層が蛍光層の周側面
まで被覆する例を示した。同図(b)は蛍光層2に対す
る支持体1の裏面に発熱体からなる発熱層H1が支持体1
に接して設けられており、同図(c)において発熱体か
らなる発熱層H2は支持体に関し蛍光層2と同側、支持体
に接して設けられ、保護層3は蛍光層2のみの全表面を
被覆している。同図(d)において1Hは支持体中に発熱
体が含有組込まれた発熱支持体である。同図(e)にお
いては、H3は発熱体自身が支持体を兼ねる支持発熱体で
あり、保護層3が蛍光層2及び支持発熱体H3の裏面を含
め全表面を包んで被覆している。同図(f)は発熱層H4
が蛍光層2の上面に接して設けられ、同図(g)では蛍
光層2が発熱層H2およびH4に差挟まれた態様である。同
図(h)は発熱体が含有組込まれた発熱保護層3Hを有す
る例である。 本発明のパネルは上例に限らないが、発熱体からなるか
或は発熱体が含有組込まれた層が蛍光層と写真感光材料
との間に位置する場合には、該パネル該発熱体層は蛍光
に対し透明な物質が用いられる。 前記発熱体が含有組込まれた層あるいは発熱支持体には
カーボンブラック、金属微粉末等の薄電性微粉末を用い
られることが好しい。 また発熱体からなる発熱層には、透明な酸化インジウム
等の電気低抗体の金属酸化物或は金属等の蒸着、スパッ
タリングによる薄膜、またはカーボンブラック、金属微
粉末等を分散懸濁する塗料の塗布膜が用いられる。 また、前記発熱体自身が支持体を兼ねる支持発熱体に
は、カーボンファイバシート等が用いられる。 パネルの乾燥もしくは防湿のための加熱温度範囲は40〜
150℃、好しくは40〜80℃であって、該温度範囲におい
ては、支持体、保護層に非耐熱性素材(例えばポリエチ
レンテレフタレート等)使用の自由が許される。また加
熱温度が高すぎると、X線照射時に蛍光層の感度低下を
生じたり、残光量が増大したり、写真感光材料が熱カブ
リを生じたりして好しくない。 加熱の時期はX線画像を与えるX線照射時および/また
は非照射時の任意時期でよい。乾燥に要する時間は含湿
により30%相対感度に低下したパネルに於ても80℃で1.
0〜2.0時間でほぼ100%に回復できる。尚気相堆積によ
る粘着剤フリーの蛍光層の方が乾燥効率(感度回復速
度)がよい。 また照射時よりも非照射時の加熱温度を高め乾燥効果を
上げる等の方策を講じてもよいし、照射時は加熱を中止
するようにしてもよい。 また使用の度毎に逐次乾燥処理を行ってもよいし、夜間
等の非使用時或は蛍光体が水分により分解しその機能回
復不能に陥入らない限度の長期貯蔵後に一括除湿処理を
行ってもよい。 前記した態様例のように発熱体をパネルに組込む場合、
発熱体は電流回路を形成しパネル全面に充分加熱効果を
及しうる形態及び配置に関る支障を避けた形態であれば
如何様のパターンを採ってもよい。その例を第2図に示
す。同図(a)は発熱体に均一薄層回路を形成させた例
であり、同図(b)は櫛型、同図(c)は屈曲単線型回
路とした例である。第2図においてPは電極、Hは発熱
体である。 次にパネルの乾燥温度制御は熱電対等の温度検出器に温
度制御器、ヒータ用電源を組合せることによって容易に
行うことができる。第3図にその1例のブロック図を示
した。 また別個に加熱・乾燥装置を併用いてもよい。 次に本発明のパネルの除湿効率の一例を第4図に示す。
該パネルの構造は第1図(c)の仕様であり、蛍光体と
してはCsI:Na蛍光体を用いている。 また第5図に前記パネルの蛍光層の含水率(水mg/揮尽
層9)と蛍光発光強度の関係を示す。 図に明かなように蛍光層の加熱により、該層の除湿及び
防湿がなされ、パネルの耐用性が保証される。 本発明のパネルにおいて用いられる支持体としては各種
高分子材料、ガラス、ウール、木綿、紙、金属等が用い
られ、またそれらの組合せとしてもよい。情報記録材料
としての取扱い上可撓性のあるシート或いはウェブに加
工できるものでもよく、この点から例えばセルロースア
セテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリ
イミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボ
ネイトフィルム等のプラスチックフィルムが好ましい。 また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には80μm〜1000μmであり、取
扱い上の点から、さらに好ましくは150μm〜500μmで
ある。 これら支持体の表面は滑面であってもよいし、蛍光層と
の接着性を向上させる目的でマット面としてもよいしま
た下引層を設けてもよい。 本発明の蛍光体パネルに用いられる蛍光体としては、Y2
O2S:Tb、Gd2O2S:Tb、La2O2S:Tb、(Y,Gd)2O2S:Tb、
(Y,Gd)2O2S:Tb,Tm、Y2O2S:Eu、Gd2O2S:Eu、(Y,Gd)2
O2S:Eu、Y2O3:Eu、Gd2O3:Eu、(Y,Gd)2O3:Eu、YVO4:E
u、YPO4:Tb、GdPO4:Tb、LaPO4:Tb、YPO4:Eu、LaOBr:T
b、LaOBr:Tb,Tm、LaOCl:Tb、LaOCl:Tb,Tm、GdOBr:Tb、G
dOCl:Tb、CaWO4、CaWO:Pb、MgWO4、BaSO4:Pb、BaSO4:Eu
2+、(Ba,Sr)SO4:Eu2+、Ba3(PO42:Eu2+、(Ba,Sr)
(PO42:Eu2+、BaFCl:Eu2+、BaFBr:Eu2+、BaFCl:Eu
2+,Tb、BaFBr:Eu2+,Tb、BaF2,BaCl2,KCl:Eu2+、BaF2,Ba
Cl2,BaSO4,KCl:Eu2+、(Ba,Mg)F2,BaCl2,KCl:Eu2+、Cs
I:Na、CsI:Tl、RbBr:Tl、RbBr,CsBr:Tl、NaI、ZnS:Ag、
(Zn,Cd)S:Ag、ZnS:Cu、ZnS:Cu,Al、(Zn,Cd)S:Cu、
(Zn,Cd)S:Cu,Al、(Zn,Cd)S:Au,Al、HfP2O7:Cu等の
X線蛍光体があげられる。 しかし、本発明のパネルに用いられる蛍光体は、前述の
蛍光体に限られるものではなく、X線照射時に発光を示
す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。 上記蛍光体のうち特に水分に弱い蛍光体は、LaOBr:Tb:
系蛍光体、アルカリ土類金属系蛍光体、アルカリ金属系
蛍光体であり、これら蛍光体に本発明を適用するとその
効果は特に大きい。 本発明のパネルは前記の蛍光体の少なくとも一種類を含
む一つ若しくは二つ以上の蛍光層から成る蛍光層群を有
してもよい。また、それぞれの蛍光層に含まれる蛍光体
は同一であってもよいが異なっていてもよい。 前記蛍光層は、特開昭61−73100号に述べられているよ
うに蛍光体を蒸着法、スパッタリング法等の方法を用い
ることにより結着剤を含有しない層状構成として支持体
上に形成してもよいし、蛍光体を適当な結着剤中に分散
して塗布液を調製し、それを支持体上に塗布することに
より形成してもよい。この時蛍光体粒子の平均粒径は0.
1〜100μm、好しくは0.5〜30μmである。本発明のパ
ネルにおいて、結着剤を用いる場合には、例えばゼラチ
ンの如き蛋白質、デキストランの如きポリサッカライド
またはアラビアゴム、ポリビニルブチラート、ポリ酢酸
ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビ
ニリデン−塩化ビニルコポリマ、ポリメチルメタクリレ
ート、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマ、ポリウレタ
ン、セルロースアセテートブチラート、ポリビニルアル
コール等のような通常層構成に用いられる結着剤が使用
される。 しかし、本発明のパネルに関しては、とくに前記特開昭
61−73100号において提案されているように、蛍光層が
結着剤が含有しない構造を有することが好ましい。結着
剤を含有しない蛍光層の形成法としては、以下のような
方法があげられる。 第1の方法として蒸着法がある。該方法においては、ま
ず支持体を蒸着装置内に設置した後装置内を排気して10
-6Torr程度の真空度とする。次いで、前記蛍光体の少な
くとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方
法で加熱蒸発させて前記支持体表面に蛍光体を所望の厚
さに堆積させる。 この結果、結着剤を含有しない蛍光層が形成されるが、
前記蒸着工程では複数回に分けて蛍光層を形成すること
も可能である。また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱
器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着を行うこ
とも可能である。 また、前記蒸着法においては、蛍光体原料を複数の抵抗
加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、
支持体上で目的とする蛍光体を合成すると同時に蛍光層
を形成することも可能である。 さらに前記蒸着法においては、蒸着時、必要に応じて被
蒸着物を冷却あるいは加熱してもよい。また、蒸着終了
後蛍光層を加熱処理してもよい。 第2の方法としてスパッタリング法がある。該方法にお
いては、蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に装置
した後装置内を一旦排気して10-6Torr程度の真空度と
し、次いでスパッタリング用のガスとしてAr,Ne等の不
活性ガスをスパッタ装置内に導入して10-3Torr程度のガ
ス圧とする。 次に、前記蛍光体をターゲットとして、スパッタリング
することにより、前記支持体表面に蛍光体を所望の厚さ
に堆積させ、前記蒸着法と同様に蛍光層を形成すること
ができる。 第3の方法としてCVD法がある。該方法は目的とする蛍
光体あるいは蛍光体原料を含有する有機金属化合物を
熱、高周波電力等のエネルギで分解することにより、支
持体上に結着剤を含有しない蛍光層を得る。 第4の方法として吹着け法がある。該方法は蛍光体粉末
を結着層上に吹き着けることにより支持体上に結着剤を
含有しない蛍光層を得る。 本発明のパネルの蛍光層の層厚は、目的とするパネルの
X線に対する感度、蛍光体の種類等によって異なるが、
結着剤を含有しない場合で60μm〜1000μmの範囲、さ
らに好ましくは100μm〜800μmの範囲から選ばれるの
が好ましく、結着剤を含有する場合で100μm〜1000μ
mの範囲、さらに好ましくは100μm〜500μmの範囲か
ら選ばれるのが好ましい。 本発明に於ては前記のような保護層を設けることが好ま
しい。保護層用材料としては、たとえば酢酸セルロー
ス、ニトロセルロース、エチルセルロースなどのセルロ
ース誘導体、あるいはポリメチルメタクリレート、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボ
ネート、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリロニトリ
ル、ポリメチルアリルアルコール、ポリメチルビニルケ
トン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテ
ート、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸、ポリグリシン、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルピロリドン、ポリビニルアミン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル、ポリアミド(ナイロン)、ポリ四弗化エ
チレン、ポリ三弗化−塩化エチレン、ポリプロピレン、
四弗化エチレン−六弗化プロピレン共重合体、ポリビニ
ルイソブチルエーテル、ポリスチレンなどがあげられ
る。 また、特開昭61−176900号に述べられているように放射
線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂の少なくともいずれか
一方を含有する塗布液を保護層を設置すべき面に塗布
し、特開昭61−176900号に示したような装置を用いて紫
外線あるいは電子線などの放射線の照射および/または
加熱を施して前記塗布液を硬化させてもよい。 前記放射線硬化型樹脂としては、不飽和二重結合を有す
る化合物またはこれを含む組成物であればよく、このよ
うな化合物は、好ましくは不飽和二重結合を2個以上有
するプレポリマおよび/またはオリゴマであり、さら
に、これらに不飽和二重結合を有する単量体(ビニルモ
ノマ)を反応性希釈剤として含有させることができる。 前記のように形成される保護層の一層の層厚は0.5μm
〜1000μm程度、さらに好ましくは1μm〜50μm程度
の範囲にあることが好ましい。またSiO2,SiC,SiN,Al2O3
等の無機物質層を真空蒸着法、スパッタリング法等によ
り形成してもよい。前記無機物質層の層厚は0.1μm〜1
0μm程度が好ましい。 本発明のパネルは、支持体上に蛍光層を設けた後に該蛍
光層に保護層を形成して製造してもよいし、あるかじめ
形成した保護層を前記蛍光層上に付設して製造してもよ
い。あるいは保護層上に蛍光層を形成した後、支持体を
設ける手順をとってもよい。 尚保護層には蛍光スペクトル領域に有害な吸収がないこ
とが好ましい。
The above-mentioned object of the present invention is to incorporate a heating and drying means into a phosphor panel for X-ray photosensitization using a phosphor that emits fluorescence upon irradiation with X-rays. Achieved by As a mode of the present invention, the heating and drying means may be incorporated and incorporated in the constituent layer of the phosphor panel and the support, or a layer composed of a heating element may be separately provided. Next, the present invention will be specifically described. A phosphor panel using a phosphor that emits fluorescence upon irradiation with X-rays is generally a phosphor layer (hereinafter abbreviated as a fluorescent layer) on a support and various constituent layers (for example, a protective layer) for complementing the function of the fluorescent layer. , A filter layer or an adhesive layer). FIG. 1 illustrates various aspects of the phosphor panel of the present invention. In FIG. 1 (a), 1 is a support, 2H is a heat-generating fluorescent layer in which a drying / drying heating element (hereinafter abbreviated as a heating element) is incorporated, and 3 is a protective layer. An example is shown in which the protective layer covers the peripheral side surface of the fluorescent layer. In the same figure (b), on the back surface of the support 1 for the fluorescent layer 2, a heating layer H1 made of a heating element is provided on the support 1.
The heating layer H2 composed of a heating element is provided on the same side of the support as the fluorescent layer 2 and in contact with the support in FIG. It covers the surface. In FIG. 1D, 1H is a heat generating support in which a heat generating element is contained and incorporated in the support. In (e) of the figure, H3 is a supporting heating element in which the heating element itself also serves as a support, and the protective layer 3 covers and covers the entire surface including the back surface of the fluorescent layer 2 and the supporting heating element H3. The same figure (f) shows the heating layer H4
Is provided in contact with the upper surface of the fluorescent layer 2, and the fluorescent layer 2 is sandwiched between the heat generating layers H2 and H4 in FIG. FIG. 3H is an example having a heat generation protection layer 3H in which a heating element is contained and incorporated. The panel of the present invention is not limited to the above example, but when the layer formed of the heating element or the layer containing the heating element is located between the fluorescent layer and the photographic light-sensitive material, the panel is heated. Is a substance transparent to fluorescence. It is preferable to use a thin electroconductive fine powder such as carbon black or metal fine powder for the layer containing the heating element or incorporated therein or the heating support. In addition, the heating layer consisting of a heating element is applied with a thin film by vapor deposition or sputtering of a metal oxide or metal with a low electrical resistance such as transparent indium oxide, or by coating with a paint that disperses and suspends carbon black, fine metal powder, etc. Membranes are used. Further, a carbon fiber sheet or the like is used for the supporting heating element in which the heating element itself also serves as a supporting body. The heating temperature range for panel drying or moisture protection is 40 ~
The temperature is 150 ° C., preferably 40 to 80 ° C. Within this temperature range, the use of non-heat resistant materials (such as polyethylene terephthalate) for the support and the protective layer is allowed. On the other hand, if the heating temperature is too high, the sensitivity of the fluorescent layer is reduced during X-ray irradiation, the amount of afterglow is increased, and the photographic light-sensitive material is subject to thermal fog, which is not preferable. The heating may be performed at any time during X-ray irradiation and / or non-irradiation during which an X-ray image is provided. The time required for drying is 80 ° C even with a panel whose relative sensitivity is reduced by 30% due to moisture content.
It can recover to almost 100% in 0 to 2.0 hours. The adhesive layer-free fluorescent layer formed by vapor deposition has a better drying efficiency (sensitivity recovery speed). Further, measures such as increasing the heating temperature during non-irradiation rather than during irradiation to enhance the drying effect may be taken, or heating may be stopped during irradiation. It may be dried sequentially after each use, or it may be subjected to batch dehumidification when not in use, such as at night, or after long-term storage to the extent that the phosphor does not decompose and is unable to recover its function. Good. When the heating element is incorporated in the panel as in the above-mentioned embodiment,
The heating element may have any pattern as long as it forms a current circuit and has a form capable of exerting a sufficient heating effect on the entire surface of the panel and a form avoiding any troubles related to the arrangement. An example thereof is shown in FIG. The figure (a) is an example in which a uniform thin layer circuit is formed on the heating element, the figure (b) is a comb type, and the figure (c) is an example of a bent single line type circuit. In FIG. 2, P is an electrode and H is a heating element. Next, the panel drying temperature control can be easily performed by combining a temperature detector such as a thermocouple with a temperature controller and a heater power source. FIG. 3 shows a block diagram of one example thereof. Also, a heating / drying device may be separately used in combination. Next, an example of the dehumidification efficiency of the panel of the present invention is shown in FIG.
The structure of the panel has the specifications shown in FIG. 1 (c), and CsI: Na phosphor is used as the phosphor. Further, FIG. 5 shows the relationship between the water content of the fluorescent layer of the panel (mg water / exhaust layer 9) and the fluorescence emission intensity. As is apparent from the figure, heating of the fluorescent layer dehumidifies and protects the layer, ensuring the durability of the panel. As the support used in the panel of the present invention, various polymer materials, glass, wool, cotton, paper, metal and the like are used, or a combination thereof may be used. It may be one that can be processed into a flexible sheet or web for handling as an information recording material, and in this respect, for example, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyamide film, polyimide film, triacetate film, polycarbonate film, etc. Plastic films are preferred. The layer thickness of these supports varies depending on the material of the support used and the like, but is generally 80 μm to 1000 μm, and more preferably 150 μm to 500 μm from the viewpoint of handling. The surface of these supports may be a smooth surface, may be a matte surface for the purpose of improving the adhesiveness to the fluorescent layer, and may be provided with an undercoat layer. Examples of the phosphor used in the phosphor panel of the present invention include Y 2
O 2 S: Tb, Gd 2 O 2 S: Tb, La 2 O 2 S: Tb, (Y, Gd) 2 O 2 S: Tb,
(Y, Gd) 2 O 2 S: Tb, Tm, Y 2 O 2 S: Eu, Gd 2 O 2 S: Eu, (Y, Gd) 2
O 2 S: Eu, Y 2 O 3 : Eu, Gd 2 O 3 : Eu, (Y, Gd) 2 O 3 : Eu, YVO 4 : E
u, YPO 4 : Tb, GdPO 4 : Tb, LaPO 4 : Tb, YPO 4 : Eu, LaOBr: T
b, LaOBr: Tb, Tm, LaOCl: Tb, LaOCl: Tb, Tm, GdOBr: Tb, G
dOCl: Tb, CaWO 4 , CaWO: Pb, MgWO 4 , BaSO 4 : Pb, BaSO 4 : Eu
2+ , (Ba, Sr) SO 4 : Eu 2+ , Ba 3 (PO 4 ) 2 : Eu 2+ , (Ba, Sr)
3 (PO 4 ) 2 : Eu 2+ , BaFCl: Eu 2+ , BaFBr: Eu 2+ , BaFCl: Eu
2+ , Tb, BaFBr: Eu 2+ , Tb, BaF 2 , BaCl 2 , KCl: Eu 2 + , BaF 2 , Ba
Cl 2 ,, BaSO 4 , KCl: Eu 2+ , (Ba, Mg) F 2 , BaCl 2 , KCl: Eu 2+ , Cs
I: Na, CsI: Tl, RbBr: Tl, RbBr, CsBr: Tl, NaI, ZnS: Ag,
(Zn, Cd) S: Ag, ZnS: Cu, ZnS: Cu, Al, (Zn, Cd) S: Cu,
Examples of X-ray phosphors include (Zn, Cd) S: Cu, Al, (Zn, Cd) S: Au, Al, and HfP 2 O 7 : Cu. However, the phosphor used in the panel of the present invention is not limited to the above-mentioned phosphor, and may be any phosphor as long as it emits light upon irradiation with X-rays. Among the above phosphors, a phosphor that is particularly sensitive to moisture is LaOBr: Tb:
System phosphors, alkaline earth metal system phosphors, and alkali metal system phosphors, and when the present invention is applied to these phosphors, the effect is particularly large. The panel of the present invention may have a phosphor layer group consisting of one or more phosphor layers containing at least one kind of the above-mentioned phosphor. The phosphors contained in each phosphor layer may be the same or different. The phosphor layer is formed on the support as a layered structure containing no binder by using a phosphor such as a vapor deposition method or a sputtering method as described in JP-A-61-73100. Alternatively, the phosphor may be dispersed in an appropriate binder to prepare a coating solution, and the coating solution may be coated on a support to form the coating solution. At this time, the average particle size of the phosphor particles is 0.
It is 1 to 100 μm, preferably 0.5 to 30 μm. When a binder is used in the panel of the present invention, for example, a protein such as gelatin, a polysaccharide such as dextran or gum arabic, polyvinyl butyrate, polyvinyl acetate, nitrocellulose, ethyl cellulose, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, Binders usually used for layer constitution such as polymethylmethacrylate, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyurethane, cellulose acetate butyrate and polyvinyl alcohol are used. However, regarding the panel of the present invention, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No.
As proposed in No. 61-73100, it is preferable that the fluorescent layer has a structure containing no binder. Examples of the method for forming the fluorescent layer containing no binder include the following methods. The first method is a vapor deposition method. In this method, first, the support is placed in the vapor deposition apparatus, and then the apparatus is evacuated.
-Set the vacuum to about -6 Torr. Next, at least one of the phosphors is heated and evaporated by a method such as a resistance heating method or an electron beam method to deposit the phosphor to a desired thickness on the surface of the support. As a result, a fluorescent layer containing no binder is formed,
It is also possible to form the fluorescent layer in a plurality of times in the deposition process. Further, in the vapor deposition step, co-evaporation can be performed using a plurality of resistance heaters or electron beams. In the vapor deposition method, the phosphor material is co-deposited using a plurality of resistance heaters or electron beams,
It is also possible to synthesize the desired phosphor on the support and simultaneously form the phosphor layer. Further, in the vapor deposition method, the vapor deposition target may be cooled or heated during vapor deposition, if necessary. Further, the fluorescent layer may be heat-treated after completion of vapor deposition. The second method is a sputtering method. In this method, as in the vapor deposition method, after the support is placed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is once evacuated to a vacuum degree of about 10 -6 Torr, and then an inert gas such as Ar or Ne is used as a gas for sputtering. The gas is introduced into the sputtering apparatus to a gas pressure of about 10 -3 Torr. Next, by using the phosphor as a target and performing sputtering, the phosphor is deposited on the surface of the support to a desired thickness, and a phosphor layer can be formed in the same manner as in the vapor deposition method. The third method is the CVD method. In this method, an organometallic compound containing a target phosphor or a phosphor raw material is decomposed by heat or energy such as high frequency power to obtain a binder-free phosphor layer on a support. The fourth method is the spraying method. In this method, a phosphor powder is sprayed on the binder layer to obtain a binder-free phosphor layer on the support. The layer thickness of the phosphor layer of the panel of the present invention varies depending on the sensitivity of the target panel to X-rays, the type of phosphor, etc.,
When the binder is not contained, it is preferably selected from the range of 60 μm to 1000 μm, more preferably from 100 μm to 800 μm, and when the binder is contained, 100 μm to 1000 μm.
It is preferable to be selected from the range of m, more preferably from 100 μm to 500 μm. In the present invention, it is preferable to provide the protective layer as described above. Examples of the material for the protective layer include cellulose derivatives such as cellulose acetate, nitrocellulose, and ethyl cellulose, or polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyvinyl acetate, polyacrylonitriletrilonitrile, polymethylallyl alcohol, polymethyl vinyl. Ketone, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyglycine, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyvinylamine, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, polyamide (nylon), Polytetrafluoride ethylene, polytrifluoride-ethylene chloride, polypropylene,
Examples thereof include tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, polyvinyl isobutyl ether, polystyrene and the like. Further, as described in JP-A-61-176900, a coating solution containing at least one of a radiation-curable resin and a thermosetting resin is applied to the surface on which a protective layer is to be placed, The coating liquid may be cured by irradiating with radiation such as ultraviolet rays or electron beams and / or heating by using an apparatus as shown in No. 61-176900. The radiation curable resin may be a compound having an unsaturated double bond or a composition containing the same, and such a compound is preferably a prepolymer and / or an oligomer having two or more unsaturated double bonds. Further, a monomer having an unsaturated double bond (vinyl monomer) can be contained therein as a reactive diluent. The layer thickness of the protective layer formed as described above is 0.5 μm.
˜1000 μm, more preferably 1 μm to 50 μm. In addition, SiO 2 , SiC, SiN, Al 2 O 3
Inorganic substance layers such as may be formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like. The inorganic material layer has a thickness of 0.1 μm to 1
About 0 μm is preferable. The panel of the present invention may be manufactured by providing a fluorescent layer on a support and then forming a protective layer on the fluorescent layer, or by manufacturing a protective layer formed on the fluorescent layer on the fluorescent layer. You may. Alternatively, after forming the fluorescent layer on the protective layer, a procedure for providing the support may be adopted. The protective layer preferably has no harmful absorption in the fluorescence spectrum region.

【実施例】 次に、実施例によって本発明を説明する。 実施例1 支持体として500μm厚の化学強化ガラスを蒸着器中に
設置した。次に抵抗加熱用のタングステンボート中にア
ルカリハライド蛍光体(CsI:0.003Na)を入れ.、抵抗
加熱用電極にセットし、続いて蒸着器を排気して2×10
-6Torrの真空度とした。 次にタングステンボートに電流を流し、抵抗加熱法によ
ってアルカリハライド蛍光体を蒸発させ化学強化ガラス
上に蛍光層の層厚が300μmの厚さになるまで堆積させ
た。 次にこのパネルを大気中に取出した後、化学強化ガラス
の輝尽層の設けられていない面に、ポリイミドフィルム
上にITOを蒸着した導電膜シート(ミクロ技術研究所
製、10Ω/□)を接着し、また蛍光層表面には20μm厚
の透明ポリエチレンテレフタレートシートを接着して、
第1図(b)に示した構造の本発明のパネルAを得た。 このパネルAに電極と第3図の様な温度制御回路を取付
け、80℃に蛍光層を加熱しながら、30℃、相対湿度70%
の恒温室に放置し、経時による感度変化を測定した結果
を第6図曲線aに示す。 実施例2 実施例1において、蛍光層の加熱を140℃にした以外は
実施例1と同様にして経時による感度変化を測定し、第
6図曲線bをえた。 実施例3 実施例1において、支持体として予め蛍光層を設ける側
に透明導電膜(ITO,10Ω/□)が蒸着されている500μ
m厚の化学強化ガラスを用いた以外は実施例1と同様に
して本発明のパネルBを得た。尚透明導電膜上には透明
導電膜と蛍光体との反応を防止するためのSiO膜(2000
Å)が設けてある。次にこのパネルBの経時による感度
変化を実施例1と同様にして測定、第6図曲線Cとして
示す。 比較例1 実施例1で作製したパネルAの蛍光層を加熱しないで30
%で相対温度70%の恒温室に放置し、経時による感度変
化を測定した結果を第6図曲線pとして示す。 第6図より、本発明のパネルは蛍光層を加熱することに
よって吸湿による感度の低下を防止し、耐用性が保証さ
れる。 実施例4 アルカリハライド蛍光体(0.9RbBr・0.1CsI:0.0001/T
I)8重量部とポリビニルブチラール樹脂1重量部と溶
剤(シクロヘキサノン)5重量部を用いて混合・分散
し、蛍光層用塗布液を調製した。次にこの塗布液を水平
に置いた500μm厚の化学強化ガラス支持体上に均一に
塗布し、自然乾燥させて300μm厚の輝尽層を形成し
た。 このようにして得られたパネルを化学強化ガラスの蛍光
層の設けられていない面に実施例1と同様の導電性シー
トを接着し、また蛍光層表面には20μm厚の透明ポリエ
チレンテレフタレートシートを接着して本発明のパネル
Cを得た。 実施例1のパネルAと本実施例のパネルCとを30℃で相
対湿度80%の恒温室に十分長期間放置した後、30℃で相
対湿度60%の恒温室に取り出し、第3図の様な温度制御
回路を取付け、蛍光層を80℃に加熱して前記パネルA,C
の感度回復の様子を調べた。結果を第8図曲線d(パネ
ルA)、曲線e(パネルC)として示す。 比較例2 実施例1のパネルAを実施例4と同様に30℃で相対湿度
80%の恒温室に十分長期間放置した後、30℃で相対湿度
60%の恒温室に取り出し、蛍光層を加熱しないで前記パ
ネルAの感度回復の様子を調べた。結果を第7図曲線q
として示す。 第7図より、本発明のパネルは吸湿により一旦感度が低
下しても、感光層の加熱により感度が回復することがわ
かる。尚、本発明のパネルのうちパネルAは蛍光層に結
着剤を含んでいないので、感度の回復が早い。
EXAMPLES Next, the present invention will be described with reference to examples. Example 1 As a support, a chemically strengthened glass having a thickness of 500 μm was placed in an evaporator. Next, put an alkali halide phosphor (CsI: 0.003Na) in a tungsten boat for resistance heating. , Set it to the resistance heating electrode, then evacuate the vaporizer to 2 x 10
-6 Torr vacuum level. Next, an electric current was applied to the tungsten boat to evaporate the alkali halide phosphor by a resistance heating method and deposit the phosphor layer on the chemically strengthened glass until the layer thickness of the phosphor layer became 300 μm. Next, after taking this panel out into the air, a conductive film sheet (10 Ω / □, manufactured by Micro Engineering Laboratory Co., Ltd.) was prepared by depositing ITO on a polyimide film on the surface of the chemically strengthened glass where the stimulating layer was not provided. And a 20 μm thick transparent polyethylene terephthalate sheet on the surface of the fluorescent layer,
A panel A of the present invention having the structure shown in FIG. 1 (b) was obtained. Attach the electrodes and the temperature control circuit as shown in Fig. 3 to this panel A, and heat the fluorescent layer to 80 ℃, 30 ℃, relative humidity 70%.
The curve a in FIG. 6 shows the result of measuring the change in sensitivity with time by leaving it in a constant temperature chamber. Example 2 The sensitivity change with time was measured in the same manner as in Example 1 except that the heating of the fluorescent layer was 140 ° C., and the curve b in FIG. 6 was obtained. Example 3 In Example 1, a transparent conductive film (ITO, 10 Ω / □) was vapor-deposited on the side where a fluorescent layer was previously provided as a support 500 μ
A panel B of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that m-thick chemically strengthened glass was used. On the transparent conductive film, a SiO film (2000
Å) is provided. Next, the change in sensitivity with time of this panel B was measured in the same manner as in Example 1, and is shown as curve C in FIG. Comparative Example 1 The phosphor layer of panel A prepared in Example 1 was heated without heating.
The curve p in FIG. 6 shows the result of measuring the change in sensitivity with time after leaving it in a thermostatic chamber at a relative temperature of 70% at 70%. As shown in FIG. 6, the panel of the present invention prevents deterioration of sensitivity due to moisture absorption by heating the fluorescent layer and guarantees durability. Example 4 Alkali halide phosphor (0.9RbBr / 0.1CsI: 0.0001 / T
I) 8 parts by weight, 1 part by weight of polyvinyl butyral resin and 5 parts by weight of a solvent (cyclohexanone) were mixed and dispersed to prepare a coating solution for a fluorescent layer. Next, this coating solution was uniformly applied onto a 500 μm-thick chemically strengthened glass support placed horizontally, and naturally dried to form a 300 μm-thick photostimulation layer. The panel thus obtained was adhered to the surface of the chemically strengthened glass on which the fluorescent layer was not provided with the same conductive sheet as in Example 1, and to the surface of the fluorescent layer was adhered a transparent polyethylene terephthalate sheet having a thickness of 20 μm. The panel C of the present invention was obtained. After the panel A of Example 1 and the panel C of this example were left in a temperature-controlled room at 30 ° C. and a relative humidity of 80% for a sufficiently long period of time, they were taken out to a temperature-controlled room at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 60%. Install a temperature control circuit like this, and heat the fluorescent layer to 80 ℃
The state of sensitivity recovery of was investigated. The results are shown in FIG. 8 as curve d (panel A) and curve e (panel C). Comparative Example 2 As in Example 4, the panel A of Example 1 was subjected to relative humidity at 30 ° C.
After leaving it in an 80% thermostatic chamber for a long time, the relative humidity at 30 ℃
It was taken out into a 60% thermostatic chamber, and the state of sensitivity recovery of the panel A was examined without heating the fluorescent layer. The result is shown in FIG.
Show as. It can be seen from FIG. 7 that the panel of the present invention recovers the sensitivity by heating the photosensitive layer even if the sensitivity is once lowered due to moisture absorption. In addition, since panel A of the panel of the present invention does not contain a binder in the fluorescent layer, the recovery of sensitivity is fast.

【発明の効果】【The invention's effect】

以上述べたように加熱機構を内蔵させた本発明のパネル
は、 (1) 加熱することにより、蛍光体への水分の吸着が
防止され、放射線に対する感度の低下が阻止される。 (2) 加熱することにより蛍光体に吸着された水分が
放出され、水分吸着による蛍光体の劣化性能が回復す
る。 (3) 加熱することにより、長寿命残光を引きおこす
トラップレベルが減少してS/Nが向上する。 等の好ましい挙動を有し、パネルの耐用性が上る。
As described above, the panel of the present invention having a built-in heating mechanism (1) is heated to prevent moisture from being adsorbed on the phosphor and prevent a decrease in sensitivity to radiation. (2) By heating, the water adsorbed on the phosphor is released, and the deterioration performance of the phosphor due to water adsorption is restored. (3) By heating, the trap level that causes long-life afterglow is reduced and S / N is improved. Etc., and the durability of the panel is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明のパネルの態様例の断面図である。第2
図は発熱体の回路パターンを示す図、第3図は温度制御
のブロック図である。 第4図はパネル蛍光層の除湿効率を示す図であり、第5
図は蛍光層の含水率と感度の関係を示す図である。 第6図は防湿に対する温度効果を示し、第7図は加熱に
よる感度回復挙動を示すグラフである。 1……支持体、2……蛍光層、 3……保護層、1H……発熱支持体、 2H……発熱蛍光層、3H……発熱保護層、 H1,H2及びH4……発熱層、 H3……支持発熱体。
FIG. 1 is a sectional view of an example of the aspect of the panel of the present invention. Second
FIG. 3 is a diagram showing a circuit pattern of a heating element, and FIG. 3 is a block diagram of temperature control. FIG. 4 is a diagram showing the dehumidification efficiency of the panel fluorescent layer.
The figure shows the relationship between the water content of the fluorescent layer and the sensitivity. FIG. 6 shows the temperature effect on moisture proof, and FIG. 7 is a graph showing the sensitivity recovery behavior by heating. 1 ... Support, 2 ... Fluorescent layer, 3 ... Protective layer, 1H ... Exothermic support, 2H ... Exothermic fluorescent layer, 3H ... Exothermic protective layer, H1, H2 and H4 ... Exothermic layer, H3 …… Supporting heating element.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特公 平6−31910(JP,B2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References Japanese Patent Publication 6-31910 (JP, B2)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】X線照射時に蛍光を発する蛍光体を用いる
X線写真増感用蛍光体パネルに加熱乾燥手段を組込んだ
ことを特徴とするX線写真増感用蛍光体パネル。
1. A phosphor panel for X-ray photosensitization, wherein a heating and drying means is incorporated into a phosphor panel for X-ray photosensitization using a phosphor that emits fluorescence upon irradiation with X-rays.
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