JPH0770706A - Low thermal expansion alloy and production thereof - Google Patents

Low thermal expansion alloy and production thereof

Info

Publication number
JPH0770706A
JPH0770706A JP29239193A JP29239193A JPH0770706A JP H0770706 A JPH0770706 A JP H0770706A JP 29239193 A JP29239193 A JP 29239193A JP 29239193 A JP29239193 A JP 29239193A JP H0770706 A JPH0770706 A JP H0770706A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
less
thermal expansion
low thermal
alloy
expansion alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP29239193A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2914129B2 (en
Inventor
Masaaki Miyauchi
昌明 宮内
Yusuke Minami
雄介 南
Yoshikazu Ishizawa
嘉一 石沢
Akira Ehata
明 江畑
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=26482006&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH0770706(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP29239193A priority Critical patent/JP2914129B2/en
Publication of JPH0770706A publication Critical patent/JPH0770706A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2914129B2 publication Critical patent/JP2914129B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Heat Treatment Of Steel (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a low thermal expansion alloy by specifying the compsn. constituted of Ni, N, B, C, Si, Mn, P, S, Al and Fe and precipitating BN on the surface. CONSTITUTION:A low thermal expansion alloy having a compsn. contg., by weight, 25-50% Ni, >=0.002% N, 0.001-0.02% B, <=0.05% C, <=0.3% Si, <=1.5% Mn, <=0.02% P, <=0.02% S and <=0.03% SolAl, furthermore contg., at need, one or two kinds of 0.5-10% Cr and 0.5-20% Co, and the balance Fe with inevitable impurities, and in which BN is precipitated on the surface by >=90% of the surface is used. This low thermal expansion alloy is obtd. by heating the same alloy to >=1000 deg.C, thereafter rapidly cooling it, furthermore heating it to 600 to 950 deg.C in a nonoxidizing atmosphere and subsequently executing cooling, or heating the alloy to >=1000 deg.C in a nonoxidizing atmosphere, thereafter executing cooling to 950-600 deg.C, holding it for a specific time for precipitating BN on the surface and thereafter executing cooling.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、主に半導体製造装置、
理化学機器、粒子加速器、医療機器、ブラウン管等の真
空機器および高純度ガス雰囲気に装入又は装着される部
品、及びその構成用部材として使用される低熱膨張合金
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention mainly relates to semiconductor manufacturing equipment,
The present invention relates to a physics and chemistry equipment, a particle accelerator, a medical equipment, a vacuum equipment such as a cathode ray tube, a component charged or mounted in a high-purity gas atmosphere, and a low thermal expansion alloy used as a constituent member thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造装置、表面解析装置、粒子加
速器、ブラウン管等の真空を利用した装置・機器におい
ては、従来からその構成部品にはステンレス鋼や、熱膨
張が問題となる場合には低熱膨張合金が用いられてい
る。低熱膨張合金としては、Fe−Ni系合金(例えば
Fe−36Ni合金、Fe−42Ni合金)やFe−N
i−Cr系合金(例えばFe−42Ni−6Cr合金、
Fe−38Ni−8Cr合金、Fe−36Ni−2Cr
合金)やFe−Ni−Cr−Co系合金(例えばFe−
38Ni−8Cr−5Co)やFe−Ni−Co系合金
(例えばFe−32Ni−5Co合金、Fe−30Ni
−17Co合金)等の合金が使用されている。
2. Description of the Related Art In semiconductor manufacturing equipment, surface analysis equipment, particle accelerators, cathode ray tubes, and other equipment and equipment that use vacuum, stainless steel is conventionally used for the components, and low heat when thermal expansion is a problem. Expansion alloys are used. As the low thermal expansion alloy, an Fe-Ni-based alloy (for example, Fe-36Ni alloy, Fe-42Ni alloy) or Fe-N
i-Cr alloy (for example, Fe-42Ni-6Cr alloy,
Fe-38Ni-8Cr alloy, Fe-36Ni-2Cr
Alloys) and Fe-Ni-Cr-Co alloys (eg Fe-
38Ni-8Cr-5Co) and Fe-Ni-Co type alloys (for example, Fe-32Ni-5Co alloy, Fe-30Ni).
-17Co alloy) and the like are used.

【0003】しかし、ステンレス鋼や低熱膨張合金の部
品・部材の表面に吸着しているガスや水分が真空機器中
において放出され、真空装置・機器の真空度を悪くし、
また雰囲気を汚染するため、その部品・部材の製造時或
いは装置の組立時に数百度の温度に加熱し脱ガスするベ
ーキング処理と呼ばれる長時間の脱ガス処理を行ってい
る。
However, the gas and water adsorbed on the surfaces of parts and members made of stainless steel or low thermal expansion alloy are released into the vacuum equipment, which deteriorates the vacuum degree of the vacuum equipment and equipment.
Further, in order to pollute the atmosphere, a long-time degassing process called a baking process of heating to a temperature of several hundreds of degrees and degassing is performed at the time of manufacturing the parts / members or assembling the apparatus.

【0004】上記構成部品の材質がオーステナイト系ス
テンレス鋼の場合は、この対策として表面に窒化ボロン
を析出させることが有効であることが知られている。即
ち、特公昭62−39234号公報には窒化ボロンを鋼
材表面に析出させた鋼材が提案されている。窒化ボロン
の析出方法としては、ボロン(B)、窒素(N)及びセ
リウム(Ce)を添加したステンレス鋼を真空中で70
0〜900℃に加熱することによっている。
When the material of the above-mentioned constituent parts is austenitic stainless steel, it is known that it is effective to deposit boron nitride on the surface as a countermeasure against this. That is, Japanese Patent Publication No. Sho 62-39234 proposes a steel material in which boron nitride is deposited on the surface of the steel material. As a method of depositing boron nitride, a stainless steel containing boron (B), nitrogen (N) and cerium (Ce) added in a vacuum is used.
It depends on heating to 0-900 degreeC.

【0005】また、特開平2−57667号公報には、
B、N、およびカルシウム(Ca)、マグネシウム(M
g)を添加した鋼材を、10-5Torr以下の真空度も
しくは99.99%以上の不活性ガス雰囲気において6
50〜850℃の温度で加熱することにより、窒化ボロ
ンを前記ステンレス鋼材の表面に析出させる方法が提案
されている。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 2-57667 discloses that
B, N, and calcium (Ca), magnesium (M
g) is added to the steel material in a vacuum degree of 10 -5 Torr or less or in an inert gas atmosphere of 99.99% or more 6
A method has been proposed in which boron nitride is deposited on the surface of the stainless steel material by heating at a temperature of 50 to 850 ° C.

【0006】本願の発明者らは、すでに特開平3−04
2367号公報により、Bを0.005〜0.05%を
含有し、かつNを0.08〜0.3%含有するステンレ
ス鋼を、水素または窒素、アルゴン等の不活性ガスに水
素を全圧の1vol%以上添加した混合ガス中で、60
0〜900℃の温度に加熱することにより、表面に窒化
ボロンを析出させたステンレス鋼の製造方法を提案し
た。
The inventors of the present application have already disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-04.
According to Japanese Patent No. 2367, a stainless steel containing 0.005 to 0.05% of B and 0.08 to 0.3% of N is added to hydrogen or an inert gas such as nitrogen or argon. 60% in a mixed gas containing more than 1 vol% of pressure
A method for producing stainless steel in which boron nitride is deposited on the surface by heating to a temperature of 0 to 900 ° C. has been proposed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の真空装
置が高性能になるにしたがい、装置を構成する部品・部
材に対する要求も厳しくなっている。オーステナイト系
ステンレス鋼は一般に熱膨張が大きいため、用途によ
り、これに代わり低熱膨張合金が用いられることも多く
なってきた。
However, as the above-mentioned vacuum device has higher performance, the requirements for parts and members constituting the device have become more severe. Since austenitic stainless steel generally has large thermal expansion, low thermal expansion alloys have been increasingly used instead of this depending on the application.

【0008】しかし、前述の低熱膨張合金の場合も、そ
の合金の表面におけるガスの吸着或いは放出があり、こ
れを低減する有効な解決策はなく、従来通り長時間加熱
による脱ガスが行なわれている。よって、低熱膨張合金
であるインバー合金等の使用範囲が拡大するに従って、
この合金の吸着ガス、放出ガスを低減する技術の開発が
望まれている。この低熱膨張合金であるインバー合金等
は、真空装置用の部材ばかりでなく、高純度の不活性雰
囲気中(例えば、Ar,N2 ,He等)で使用される部
材にも使用される。
However, even in the case of the above-mentioned low thermal expansion alloy, there is adsorption or desorption of gas on the surface of the alloy, and there is no effective solution to reduce this, and degassing by heating for a long time is carried out as usual. There is. Therefore, as the usage range of Invar alloy, which is a low thermal expansion alloy, expands,
Development of a technique for reducing the adsorbed gas and released gas of this alloy is desired. The low thermal expansion alloy Invar alloy and the like are used not only for members for vacuum devices but also for members used in a high-purity inert atmosphere (for example, Ar, N 2 , He, etc.).

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者は低熱膨張合金
であるインバー合金等について上記した問題を解決すべ
く検討を重ねた結果、窒化ボロンのガス非吸着性に注目
し、低熱膨張合金に添加するB量及びN量、その他種々
の析出条件(固溶化処理温度、析出温度、析出時の雰囲
気等)を研究した結果、適正な化学成分、固溶化処理温
度、析出処理温度、雰囲気等を選択することにより窒化
ボロンが合金表面の大部分を覆うように析出する条件を
見い出し、本発明を完成したもので、下記の通りであ
る。
Means for Solving the Problems As a result of repeated studies to solve the above-mentioned problems with Invar alloy, which is a low thermal expansion alloy, the present inventors have paid attention to the gas non-adsorption property of boron nitride and As a result of studying the amount of B and N to be added and other various precipitation conditions (solution treatment temperature, precipitation temperature, atmosphere at the time of precipitation, etc.), appropriate chemical components, solution treatment temperature, precipitation temperature, atmosphere, etc. were selected. The present invention has been completed by selecting the conditions under which boron nitride is deposited so as to cover most of the alloy surface, and the present invention has been completed.

【0010】(1)請求項1の発明は下記の成分組成
(成分組成はwt%である)を有する低熱膨張合金であ
る。 Ni:25 〜50 %、 N:0.002 % 以上、B:0.001 〜0.02
%、 C:0.05 %以下、Si:0.3 %以下、 Mn:1.5 %以
下、P:0.02 %以下、 S:0.02 %以下、Sol.Al:0.03
% 以下を含有し、残部がFeおよび不可避的不純物からな
っている。
(1) The invention of claim 1 is a low thermal expansion alloy having the following component composition (the component composition is wt%). Ni: 25-50%, N: 0.002% or more, B: 0.001-0.02
%, C: 0.05% or less, Si: 0.3% or less, Mn: 1.5% or less, P: 0.02% or less, S: 0.02% or less, Sol.Al: 0.03
% Or less, with the balance being Fe and inevitable impurities.

【0011】(2)請求項2の発明は、請求項1の発明
合金に対し、更に、Cr:0.5〜10 %とCo:0.5〜20 %の一種
又は二種を含有する低熱膨張合金である。 (3)請求項3の発明は下記の特徴(成分組成はwt%
である)を備えた低熱膨張合金である。 (a)請求項1又は2に記載した成分組成を有する合金
であって、(b)前記合金の表面に窒化ボロンが該表面
の90%以上に析出している。
(2) The invention of claim 2 is a low thermal expansion alloy which, in addition to the alloy of claim 1, further contains one or two of Cr: 0.5-10% and Co: 0.5-20%. . (3) The invention of claim 3 has the following characteristics (the composition of the components is wt%
Is a low thermal expansion alloy. (A) An alloy having the component composition according to claim 1 or 2, wherein (b) boron nitride is deposited on the surface of the alloy in 90% or more of the surface.

【0012】(4)請求項4の発明は下記の工程(成分
組成はwt%である)を備えた低熱膨張合金の製造方法
である。 (a)Ni:25 〜50 %、 N:0.002 % 以上、B:0.001
〜0.02 %、 C:0.05 %以下、Si:0.3 %以下、 Mn:
1.5 %以下、P:0.02 %以下、 S:0.02 %以下、Sol.A
l:0.03 % 以下を含有し、残部がFeおよび不可避的不純
物からなっている低熱膨張合金を用意し、(b)前記合
金を1000℃以上に加熱し、その後急冷し、(c)更
に、非酸化性雰囲気で600〜950℃に加熱し、その
後冷却する。
(4) The invention of claim 4 is a method for producing a low thermal expansion alloy, which comprises the following steps (component composition is wt%). (A) Ni: 25-50%, N: 0.002% or more, B: 0.001
~ 0.02%, C: 0.05% or less, Si: 0.3% or less, Mn:
1.5% or less, P: 0.02% or less, S: 0.02% or less, Sol.A
A low thermal expansion alloy containing l: 0.03% or less and the balance of Fe and unavoidable impurities is prepared, (b) the alloy is heated to 1000 ° C. or higher, and then rapidly cooled, (c) further Heat to 600-950 ° C in an oxidizing atmosphere and then cool.

【0013】(5)請求項5の発明は請求項4におい
て、同項(a)に記載した成分組成に更にCr:0.5〜10 %
とCo:0.5〜20 %の一種又は二種を含有した低熱膨張合金
の製造方法である。 (6)請求項6の発明は下記の工程(成分組成はwt%
である)を備えた低熱膨張合金の製造方法。 (a)請求項4(a)又は請求項5(a)記載の低熱膨
張合金を用意し、(b)前記低熱膨張合金を非酸化性雰
囲気で1000℃以上に加熱し、その後950〜600
℃の範囲に冷却し、窒化ボロンを前記合金の表面に析出
させるため所定の時間保持し、その後冷却する。
(5) The invention of claim 5 is the same as that of claim 4 in which the content of Cr is 0.5 to 10%.
And Co: 0.5 to 20% of one or two kinds of low thermal expansion alloys. (6) In the invention of claim 6, the following steps (component composition is wt%
The method for producing a low thermal expansion alloy comprising: (A) The low thermal expansion alloy according to claim 4 (a) or 5 (a) is prepared, and (b) the low thermal expansion alloy is heated to 1000 ° C. or higher in a non-oxidizing atmosphere, and then 950 to 600.
It is cooled to a range of 0 ° C., held for a predetermined time to precipitate boron nitride on the surface of the alloy, and then cooled.

【0014】[0014]

【作用】以下、請求項に記載した成分組成の限定理由を
述べる。 Ni:Niは低熱膨張合金の基本構成元素であり、Ni
添加量が25%未満または50%を越える場合は低熱膨
張特性が損なわれる。従って、Coを含まない場合はN
iの適正範囲は30〜50%が望ましい。他方、合金中
にCoが含まれる場合は、このCoの改善効果が加わる
ため25〜45%が望ましい(請求項1)。
The reason for limiting the component composition described in the claims will be described below. Ni: Ni is the basic constituent element of the low thermal expansion alloy, and Ni
If the added amount is less than 25% or more than 50%, the low thermal expansion property is impaired. Therefore, N does not include Co
The appropriate range of i is preferably 30 to 50%. On the other hand, when Co is contained in the alloy, the improvement effect of Co is added, so that 25 to 45% is preferable (claim 1).

【0015】Cr:CrはFe−Ni系低熱膨張合金の
特性を損なわずに添加できる元素であり、Cr添加量が
0.5 〜10%の範囲で優れた低熱膨張合金が存在する。
従ってCrの添加量は0.5 〜10%とする(請求項
2)。
Cr: Cr is an element that can be added without impairing the characteristics of the Fe-Ni-based low thermal expansion alloy.
Excellent low thermal expansion alloys exist in the range of 0.5 to 10%.
Therefore, the amount of Cr added is 0.5 to 10% (claim 2).

【0016】Co:CoはFe−Ni系低熱膨張合金及
びFe−Ni−Cr系低熱膨張合金の特性を損なわずに
添加できる元素であり、且つNiの代替え元素としても
働き、Co添加量が0.5 〜20%の範囲で優れた低熱膨
張合金が存在する。従って本発明の合金ではCoの添加
量は0.5 〜20%とする(請求項2)。
Co: Co is an element that can be added without impairing the characteristics of the Fe-Ni-based low thermal expansion alloy and the Fe-Ni-Cr-based low thermal expansion alloy, and also acts as a substitute element for Ni. Excellent low thermal expansion alloys exist in the range of -20%. Therefore, in the alloy of the present invention, the amount of Co added is 0.5 to 20% (claim 2).

【0017】B:窒化ボロンを合金の表面に析出させる
ためには、合金中にB及びNを含有する必要があり、こ
のB及びNの適正な範囲がある。Bに関しては、0.0
01%未満では窒化ボロンの析出が充分でなく、合金表
面の一部しか覆わない。一方、0.02 %を超えると熱
間加工性を著しく損なう。したがって、Bの含有範囲を
0.001〜0.02 %とする。
B: In order to deposit boron nitride on the surface of the alloy, it is necessary to contain B and N in the alloy, and there is an appropriate range of B and N. For B, 0.0
If it is less than 01%, the precipitation of boron nitride is not sufficient and only a part of the alloy surface is covered. On the other hand, if it exceeds 0.02%, the hot workability is significantly impaired. Therefore, the content range of B is set to 0.001 to 0.02%.

【0018】N:窒化ボロンを形成するための必須の元
素である。このNの含有量が0.002 %未満では窒化
ボロンの析出が十分でない。一方、上限は特に規定はな
いが、Niが多量に含まれる合金中ではNが固溶しにく
くなるため、0.02 %を超える量を添加することは製
造上問題がある。従って、Nの含有量は0.002 〜
0.02 %が望ましい。
N: An essential element for forming boron nitride. If the N content is less than 0.002%, boron nitride is not sufficiently precipitated. On the other hand, the upper limit is not particularly specified, but N is less likely to form a solid solution in an alloy containing a large amount of Ni, so adding an amount exceeding 0.02% poses a manufacturing problem. Therefore, the content of N is 0.002-
0.02% is desirable.

【0019】尚、B及びNの含有量に関してはオーステ
ナイト系ステンレス鋼においてはBを0.005〜0.
05%とし、Nについては0.08〜0.3%が良いと
されている。一方、本発明に係る低熱膨張合金において
はCr含有量がオーステナイト系ステンレス鋼に比較し
少ないため、より少ないN含有量で足り、またBおよび
Nが多量に含有している場合には析出したB,Nが介在
物ともなり、従って鋼の清浄度を害する。この点で本発
明に係る低熱膨張合金においては、ステンレス鋼の場合
と異なり、上述の通り、B,Nをいずれも低く含有させ
ることが重要である。
Regarding the contents of B and N, in austenitic stainless steel, B is 0.005 to 0.
It is considered to be 05%, and N is preferably 0.08 to 0.3%. On the other hand, in the low thermal expansion alloy according to the present invention, since the Cr content is smaller than that of the austenitic stainless steel, a smaller N content is sufficient, and when B and N are contained in large amounts, the precipitated B is precipitated. , N also act as inclusions, thus impairing the cleanliness of the steel. In this respect, unlike the case of stainless steel, in the low thermal expansion alloy according to the present invention, as described above, it is important to contain both B and N in a low amount.

【0020】その他の元素について 本発明に係る低熱膨張合金においては、Feに対しN
i,Cr,Co等を添加した合金系が基本となるが、製
造においては、実際上低熱膨張合金という特性を損なわ
ない範囲でその他の成分を添加させることができる。か
かる元素としては以下のものがある。
Regarding other elements In the low thermal expansion alloy according to the present invention, N is added to Fe.
The alloy system to which i, Cr, Co, etc. are added is basically used, but in the production, other components can be added as long as the characteristics of the low thermal expansion alloy are not impaired. Such elements include the following.

【0021】Cは0.05%以下、Siは0.03%以
下、Mnは1.5%以下、更に合金中の不純物としてP
は0.02%以下、Sは0.02%以下を含有すること
ができ、またSol.Alは0.1%以下含有することができ
る。C,Si,Mnについては上記成分組成範囲を超え
ると、低熱膨張性をそこなう。PとSはいずれも不純物
であるから、下限である0%であってもよい。Sol.Alは
本発明の合金を溶製し、鋳造する際、0.001%以上
含有していることが鋳造時の気泡発生を防止するため望
ましく、他方非金属介在物は少ないほうが望ましいので
0.03%以下が望ましい。以上が請求項に記載した低
熱膨張合金の成分組成の限定理由である。
C is 0.05% or less, Si is 0.03% or less, Mn is 1.5% or less, and P is an impurity in the alloy.
Can contain 0.02% or less, S can contain 0.02% or less, and Sol.Al can contain 0.1% or less. When C, Si, and Mn exceed the above composition range, low thermal expansion is impaired. Since P and S are both impurities, the lower limit may be 0%. Sol.Al is desirable to contain 0.001% or more when melting and casting the alloy of the present invention in order to prevent generation of bubbles at the time of casting, while it is desirable that there are few non-metallic inclusions. 0.03% or less is desirable. The above are the reasons for limiting the component composition of the low thermal expansion alloy described in the claims.

【0022】これらの成分組成を有する低熱膨張合金は
現実には板、パイプ、各種の鍛造品、その他の形状にお
いて製造される。これらの素材から、すでに述べたよう
な真空装置等の部品として使用するためには最終部品に
加工した後、以下に述べるような熱処理を行ない、これ
らの部品の表面に窒化ボロンをほぼ全面に析出させるこ
とが重要である。ここで窒化ボロンとは、走査型オージ
ェ電子分光装置による解析結果では主にBNと推定され
るが、その他BとNとの種々の結合状態の窒化ボロンを
も含むと推定される。
The low thermal expansion alloys having these component compositions are actually manufactured in plates, pipes, various forged products, and other shapes. In order to use these materials as parts for the vacuum equipment as already mentioned, after processing into the final parts, heat treatment as described below is performed, and boron nitride is deposited almost all over the surface of these parts. It is important to let Here, the boron nitride is presumed to be mainly BN in the analysis result by the scanning Auger electron spectroscope, but it is also presumed that other boron nitride in various bonding states of B and N is also included.

【0023】以下この窒化ボロンを析出させるための熱
処理条件について述べる。固溶化処理 上記B及びNを含有する低熱膨張合金に固溶化処理を施
し、窒化ボロンの析出処理を行なうが、固溶化処理温度
は1000℃未満では固溶するB及びNが少なく、窒化
ボロンの析出量は僅かである。従って固溶化処理温度は
1000℃以上が必要である。固溶化処理温度に加熱
し、その後これに急冷処理を施す。固溶化処理のための
雰囲気は、この合金の加工プロセスにより異なる。固溶
化処理し、その後急冷した合金を最終的な部品・部材に
加工し、窒化ボロンの析出処理を行う場合は上記固溶化
処理は酸化性雰囲気でもよい。上記加工時に表面の酸化
膜を削除できるためである。しかし、この合金を最終的
な部品・部材に加工し、固溶化処理し、続いて窒化ボロ
ンの析出処理を行う場合は、固溶化処理のために加熱す
る際、非酸化雰囲気で行うことが望ましい。合金の表面
酸化を防止し、窒化ボロンの表面への析出を円滑にする
ためである。
The heat treatment conditions for depositing this boron nitride will be described below. Solution Treatment The low thermal expansion alloy containing B and N is subjected to solution treatment to perform boron nitride precipitation treatment. However, when the solution treatment temperature is less than 1000 ° C., B and N dissolved in a small amount, and boron nitride is dissolved. The amount of precipitation is slight. Therefore, the solution treatment temperature must be 1000 ° C. or higher. It is heated to the solution treatment temperature and then subjected to a quenching treatment. The atmosphere for solution treatment depends on the processing process of this alloy. When the solution treatment is performed and then the quenched alloy is processed into the final parts / members and the boron nitride precipitation treatment is performed, the solution treatment may be performed in an oxidizing atmosphere. This is because the oxide film on the surface can be removed during the above processing. However, when this alloy is processed into the final parts / members, subjected to solution treatment, and then boron nitride precipitation treatment, it is desirable to perform it in a non-oxidizing atmosphere when heating for solution treatment. . This is for preventing the surface oxidation of the alloy and for facilitating the deposition of boron nitride on the surface.

【0024】窒化ボロンの析出処理 固溶化処理のため1000℃以上に保持し、その後急冷
処理を施し、その後非酸化性雰囲気で600〜950℃
に加熱し、窒化ボロンを表面に析出させる。又は、非酸
化性雰囲気で1000℃以上に保持し、一旦950〜6
00℃に急冷し、窒化ボロンを析出させ、その後冷却す
ることもできる。酸化性雰囲気の場合には表面に酸化皮
膜が生成し、窒化ボロンの析出は不十分となるためであ
る。
Precipitation treatment of boron nitride The temperature is maintained at 1000 ° C. or higher for solid solution treatment, and then rapid cooling treatment is performed, and then 600 to 950 ° C. in a non-oxidizing atmosphere.
Then, boron nitride is deposited on the surface. Alternatively, the temperature is maintained at 1000 ° C. or higher in a non-oxidizing atmosphere, and once 950 to 6
It is also possible to rapidly cool to 00 ° C. to precipitate boron nitride and then cool. This is because in the case of an oxidizing atmosphere, an oxide film is formed on the surface and the deposition of boron nitride becomes insufficient.

【0025】従って、例えば真空中、水素中、又は全圧
で1%以上の水素を含む不活性ガス(アルゴン,窒素
等)のような非酸化性雰囲気中での処理が必要である。
また、析出温度が600℃未満ではB及びNの合金中の
拡散が遅く表面に充分な窒化ボロンが析出しない。一
方、950℃を超えると固溶化処理温度に近い温度とな
り析出処理温度で過飽和となるB及びNが減少し、やは
り窒化ボロンの析出量が減少する。よって、窒化ボロン
の析出処理温度の適正範囲は600〜950℃とした。
析出処理時間には特に制限はないが、1分〜6分程度で
充分な窒化ボロン皮膜が形成される。
Therefore, it is necessary to perform the treatment in vacuum, in hydrogen, or in a non-oxidizing atmosphere such as an inert gas (argon, nitrogen, etc.) containing 1% or more of hydrogen at the total pressure.
Further, if the deposition temperature is less than 600 ° C., diffusion of B and N in the alloy is slow and sufficient boron nitride is not deposited on the surface. On the other hand, when the temperature exceeds 950 ° C., the temperature becomes close to the solution treatment temperature and B and N that become supersaturated at the precipitation treatment temperature decrease, and the precipitation amount of boron nitride also decreases. Therefore, the appropriate range of the boron nitride precipitation treatment temperature is 600 to 950 ° C.
The precipitation treatment time is not particularly limited, but a sufficient boron nitride film is formed in about 1 to 6 minutes.

【0026】[0026]

【実施例】前述のような本発明の具体的な実施例につい
て以下に説明する。表1に示す組成の合金を真空中で溶
製した後、熱間圧延により12mm厚の板にした。これ
らの板を種々の固溶化温度で30分間保持後、水冷し、
10mm角、1mm厚のサンプルに加工した。このサン
プルの表面をバフ研磨し、電解研磨した後、種々の条件
で窒化ボロンの析出処理を行った。非酸化系雰囲気に
は、Fe−Ni系では真空(1×10-5Torr以
下)、Fe−Ni−Cr系では窒素(純度99.999
9%)、Fe−Ni−Cr−Co系では水素(純度9
9.99%)、Fe−Ni−Co系ではアルゴンと水素
(全圧の1vol %)を用いた。析出処理をしたサンプル
は、走査型オージェ電子分光装置で窒化ボロンの表面被
覆率を測定した。表2〜表4に析出条件及びその結果を
示す。
EXAMPLES Specific examples of the present invention as described above will be described below. After alloys having the compositions shown in Table 1 were melted in vacuum, they were hot-rolled into 12 mm thick plates. After holding these plates at various solution temperatures for 30 minutes, water-cooled,
The sample was processed into a 10 mm square and 1 mm thick sample. The surface of this sample was buffed and electropolished, and then boron nitride was deposited under various conditions. The non-oxidizing atmosphere is vacuum (1 × 10 −5 Torr or less) in the Fe—Ni system and nitrogen (purity 99.999) in the Fe—Ni—Cr system.
9%), hydrogen in the Fe-Ni-Cr-Co system (purity 9
9.99%), and argon and hydrogen (1 vol% of total pressure) were used in the Fe-Ni-Co system. For the sample subjected to the precipitation treatment, the surface coverage of boron nitride was measured by a scanning Auger electron spectroscopy apparatus. Tables 2 to 4 show the deposition conditions and the results.

【0027】表2〜表5の結果によれば、本発明による
ものは窒化ボロンの表面被覆率は90%以上と非常に高
い被覆率で窒化ボロン皮膜が合金表面に析出しているこ
とがわかる。これに対し比較例によるものはほとんどが
60%以下で、高いものでも70〜80%程度の低い被
覆率である。従って、本発明により真空中等に使用され
る部品はガス吸着に対し高い抵抗性を有する優れた特性
をもつ製品を製造することができることが確認された。
From the results of Tables 2 to 5, it can be seen that the boron nitride film according to the present invention has a very high boron nitride surface coverage of 90% or more and is deposited on the alloy surface. . On the other hand, most of the comparative examples have a coverage of 60% or less, and the high ones have a low coverage of about 70 to 80%. Therefore, according to the present invention, it was confirmed that the parts used in a vacuum or the like can produce a product having excellent characteristics having high resistance to gas adsorption.

【0028】本発明はこのような実施例に限定されるも
のでないことは無論であり、前記した本発明の趣旨に照
らし適宜設計変更して実施できることは当然であり、こ
のように設計変更することは本発明の範囲である。例え
ば、真空中で600〜950℃に加熱し、析出処理を行
い、不活性ガスによる急冷方法や、固溶化温度から直接
析出処理まで一旦下げ、連続して析出処理を行う方法も
含まれる。これらは析出処理の時間短縮やコスト低減に
有効である。
It is needless to say that the present invention is not limited to such an embodiment, and it is needless to say that the present invention can be implemented by appropriately changing the design in light of the above-mentioned gist of the present invention. Is within the scope of the invention. For example, a method of heating at 600 to 950 ° C. in a vacuum to carry out the precipitation treatment and quenching with an inert gas, or a method of once lowering from the solution temperature to the direct precipitation treatment and then performing the precipitation treatment continuously are included. These are effective in reducing the time and cost of the precipitation treatment.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【0031】[0031]

【表3】 [Table 3]

【0032】[0032]

【表4】 [Table 4]

【0033】[0033]

【表5】 [Table 5]

【0034】[0034]

【表6】 [Table 6]

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の合金を使
用することにより、長時間のベーキング処理や長時間排
気するといった不経済な処理することなく、真空または
高純度の不活性ガス雰囲気で使用できる真空装置用部品
・部材の製造が可能となる。従って、半導体製造装置、
理化学機器、粒子加速器、医療機器、ブラウン管等の装
置等の性能を向上させることが可能であり、工業的にも
その効果の大きい発明である。
As described above, by using the alloy of the present invention, it is possible to perform vacuum or high-purity inert gas atmosphere without uneconomical treatment such as long-time baking treatment or long-time evacuation. It becomes possible to manufacture usable vacuum device parts / members. Therefore, semiconductor manufacturing equipment,
It is an invention that is capable of improving the performance of devices such as physics and chemistry equipment, particle accelerators, medical equipment, and cathode ray tubes, and has a great effect industrially.

フロントページの続き (72)発明者 江畑 明 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内Front Page Continuation (72) Inventor Akira Ebata 1-2-1, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Nihon Steel Pipe Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の成分組成(成分組成はwt%であ
る)を有する低熱膨張合金。 Ni:25 〜50 %、 N:0.002 % 以上、 B:0.001 〜0.02 %、 C:0.05 %以下、 Si:0.3 %以下、 Mn:1.5 %以下、 P:0.02 %以下、 S:0.02 %以下、 Sol.Al:0.03 % 以下を含有し、 残部がFeおよび不可避的不純物からなっている。
1. A low thermal expansion alloy having the following component composition (the component composition is wt%). Ni: 25-50%, N: 0.002% or more, B: 0.001-0.02%, C: 0.05% or less, Si: 0.3% or less, Mn: 1.5% or less, P: 0.02% or less, S: 0.02% or less, Sol.Al: 0.03% or less is contained, and the balance consists of Fe and inevitable impurities.
【請求項2】 下記の成分組成(成分組成はwt%であ
る)を有する低熱膨張合金。 Ni:25 〜50 %、 N:0.002 % 以上、 B:0.001 〜0.02 %、 C:0.05 %以下、 Si:0.3 %以下、 Mn:1.5 %以下、 P:0.02 %以下、 S:0.02 %以下、 Sol.Al:0.03 % 以下を含有し、更に、 Cr:0.5〜10 % と Co:0.5〜20 % の一種又は二種を含
有し、 残部がFeおよび不可避的不純物からなっている。
2. A low thermal expansion alloy having the following component composition (the component composition is wt%). Ni: 25-50%, N: 0.002% or more, B: 0.001-0.02%, C: 0.05% or less, Si: 0.3% or less, Mn: 1.5% or less, P: 0.02% or less, S: 0.02% or less, Sol.Al: 0.03% or less is contained, and one or two kinds of Cr: 0.5 to 10% and Co: 0.5 to 20% are contained, and the balance is Fe and inevitable impurities.
【請求項3】 下記の特徴(成分組成はwt%である)
を備えた低熱膨張合金。 (a)請求項1又は2に記載した成分組成を有する低熱
膨張合金であって、(b)前記低熱膨張合金の表面に窒
化ボロンが該表面の90%以上に析出している。
3. The following characteristics (component composition is wt%):
Low thermal expansion alloy with. (A) A low thermal expansion alloy having the component composition according to claim 1 or 2, wherein (b) boron nitride is deposited on the surface of the low thermal expansion alloy in 90% or more of the surface.
【請求項4】 下記の工程(成分組成はwt%である)
を備えた低熱膨張合金の製造方法。 (a)Ni:25 〜50 %、 N:0.002 % 以上、 B:0.001 〜0.02 %、 C:0.05 %以下、 Si:0.3 %以下、 Mn:1.5 %以下、 P:0.02 %以下、 S:0.02 %以下、 Sol.Al:0.03 % 以下を含有し、 残部がFeおよび不可避的不純物からなっている低熱膨張
合金を用意し、(b)前記合金を1000℃以上に加熱
し、その後急冷し、(c)更に、非酸化性雰囲気で60
0〜950℃に加熱し、その後冷却する。
4. The following steps (component composition is wt%)
And a method for producing a low thermal expansion alloy. (A) Ni: 25 to 50%, N: 0.002% or more, B: 0.001 to 0.02%, C: 0.05% or less, Si: 0.3% or less, Mn: 1.5% or less, P: 0.02% or less, S: 0.02 % Or less, Sol.Al: 0.03% or less, and a low thermal expansion alloy containing the balance of Fe and unavoidable impurities is prepared. (B) The alloy is heated to 1000 ° C. or higher and then rapidly cooled, c) Furthermore, in a non-oxidizing atmosphere, 60
Heat to 0-950 ° C and then cool.
【請求項5】 下記の工程(成分組成はwt%である)
を備えた低熱膨張合金の製造方法。 (a)Ni:25 〜50 %、 N:0.002 % 以上、 B:0.001 〜0.02 %、 C:0.05 %以下、 Si:0.3 %以下、 Mn:1.5 %以下、 P:0.02 %以下、 S:0.02 %以下、 Sol.Al:0.03 % 以下を含有し、更に、 Cr:0.5〜10 % と Co:0.5〜20 % の一種又は二種を含
有し、 残部がFeおよび不可避的不純物からなっている低熱膨張
合金を用意し、(b)前記低熱膨張合金を1000℃以
上に加熱し、その後急冷し、(c)更に、非酸化性雰囲
気で600〜950℃に加熱し、その後冷却する。
5. The following steps (component composition is wt%)
And a method for producing a low thermal expansion alloy. (A) Ni: 25 to 50%, N: 0.002% or more, B: 0.001 to 0.02%, C: 0.05% or less, Si: 0.3% or less, Mn: 1.5% or less, P: 0.02% or less, S: 0.02 % Or less, Sol.Al: 0.03% or less, and Cr: 0.5-10% and Co: 0.5-20%, one or two, with the balance being Fe and inevitable impurities. An expansion alloy is prepared, (b) the low thermal expansion alloy is heated to 1000 ° C. or higher and then rapidly cooled, and (c) further heated to 600 to 950 ° C. in a non-oxidizing atmosphere and then cooled.
【請求項6】 下記の工程(成分組成はwt%である)
を備えた低熱膨張合金の製造方法。 (a)請求項4(a)又は請求項5(a)記載の低熱膨
張合金を用意し、 (b)前記低熱膨張合金を非酸化性雰囲気で1000℃
以上に加熱し、その後950〜600℃の範囲に冷却
し、窒化ボロンを前記合金の表面に析出させるため所定
の時間保持し、その後冷却する。
6. The following steps (component composition is wt%)
And a method for producing a low thermal expansion alloy. (A) A low thermal expansion alloy according to claim 4 (a) or 5 (a) is prepared, and (b) the low thermal expansion alloy is heated to 1000 ° C. in a non-oxidizing atmosphere.
It is heated to the above temperature and then cooled to a range of 950 to 600 ° C., and is held for a predetermined time to precipitate boron nitride on the surface of the alloy, and then cooled.
JP29239193A 1993-06-24 1993-10-29 Low thermal expansion alloy and method for producing the same Expired - Fee Related JP2914129B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29239193A JP2914129B2 (en) 1993-06-24 1993-10-29 Low thermal expansion alloy and method for producing the same

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15336293 1993-06-24
JP5-153362 1993-06-24
JP29239193A JP2914129B2 (en) 1993-06-24 1993-10-29 Low thermal expansion alloy and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0770706A true JPH0770706A (en) 1995-03-14
JP2914129B2 JP2914129B2 (en) 1999-06-28

Family

ID=26482006

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29239193A Expired - Fee Related JP2914129B2 (en) 1993-06-24 1993-10-29 Low thermal expansion alloy and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2914129B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08152558A (en) * 1993-11-25 1996-06-11 Asahi Optical Co Ltd Zoom lens
JP2000129399A (en) * 1998-10-22 2000-05-09 Nisshin Steel Co Ltd Iron-nickel alloy for shadow mask, and its manufacture

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08152558A (en) * 1993-11-25 1996-06-11 Asahi Optical Co Ltd Zoom lens
JP2000129399A (en) * 1998-10-22 2000-05-09 Nisshin Steel Co Ltd Iron-nickel alloy for shadow mask, and its manufacture

Also Published As

Publication number Publication date
JP2914129B2 (en) 1999-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20090068053A1 (en) High strength and high ductility magnesium alloy and its preparation method
CN109023002B (en) Silicon solid solution reinforced VNbMoTaSi high-entropy alloy and preparation method thereof
JPH0754079A (en) Copper alloy commonly having conductivity and strength
EP1325965B1 (en) Ni-based alloy improved in oxidation-resistance, high temperature strength and hot workability
TW202223116A (en) Method for manufacturing austenitic stainless steel strip
CN1044825C (en) Iron-nickel alloy having low coefficient of expansion
Kimura et al. Microstructure control and mechanical properties of binary Co–Al alloys based on B2 intermetallic compound CoAl
CN100354446C (en) Iron-nickel alloy with low coefficient of thermal expansion for making shade masks
JPH05125474A (en) Aluminum-base alloy combining high strength with high toughness
JP2914129B2 (en) Low thermal expansion alloy and method for producing the same
CN114672716B (en) CoCrNi with high strength and toughness in heat treatment state2(V2B)xEutectic high-entropy alloy and preparation method thereof
JP4172011B2 (en) Ni-based alloy with excellent oxidation resistance, high-temperature strength and hot workability
CN111394636B (en) High-strength high-plasticity high-entropy alloy with martensite phase transformation and preparation method thereof
CN113862529B (en) Aluminum alloy and preparation method thereof
US2721137A (en) Titanium base alloys
JP2976763B2 (en) Manufacturing method of low thermal expansion alloy
JPH0665661A (en) Titanium alloy for ultrahigh vacuum small in amount of gas to be evolved
US2240064A (en) Alloy for metal to glass seals
JP2523677B2 (en) Low thermal expansion lead frame material
JP3042273B2 (en) Method for producing Fe-Ni-based alloy thin plate for IC lead frame with excellent rust resistance
JPH07197158A (en) Nickel base alloy and member for semiconductor producting device using the same and member for liquid crystal producting device using the same
JP3230269B2 (en) Nickel-base heat-resistant alloy with excellent workability
Park et al. Crystallization and Martensitic Transformation Behavior of Ti–Ni–Si Alloy Ribbons Prepared via Melt Spinning
CN113652580A (en) Aluminum alloy strip and preparation method and application thereof
JP2004217947A (en) HIGH STRENGTH AND LOW THERMAL EXPANSION Fe-Ni BASED ALLOY, AND SHADOW MASK

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080416

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees