JPH0770446A - Resin composition for plating, plating method of molded product, and plated molded product - Google Patents

Resin composition for plating, plating method of molded product, and plated molded product

Info

Publication number
JPH0770446A
JPH0770446A JP6138905A JP13890594A JPH0770446A JP H0770446 A JPH0770446 A JP H0770446A JP 6138905 A JP6138905 A JP 6138905A JP 13890594 A JP13890594 A JP 13890594A JP H0770446 A JPH0770446 A JP H0770446A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
resin composition
molded product
plated
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6138905A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3052038B2 (en
Inventor
Yoshiaki Miura
義昭 三浦
Takeo Hashimoto
武夫 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority to JP6138905A priority Critical patent/JP3052038B2/en
Publication of JPH0770446A publication Critical patent/JPH0770446A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3052038B2 publication Critical patent/JP3052038B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the composition capable of forming molded products having an excellent shielding effect for electromagnetic waves, and having high adhesion to the plating. CONSTITUTION:A resin composition for plating characterized by containing 100wt.pt. of a thermoplastic resin and 0.1-15wt.pt. of a cationic surfactant. A method of plating a molded product by plating a molded product of a thermoplastic resin composition obtained by combining 0.1-15wt.pt. of a cationic surfactant to 100wt.pt. of a thermoplastic resin in a resin composition containing a thermoplastic resin.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、メッキ用樹脂組成
物、メッキ方法およびメッキされた成形品に関し、さら
に詳しくは、ABS樹脂の表面にメッキを施す工程をそ
のまま使用してメッキ処理を行うことのできる成形体を
容易に製造することのできるメッキ用樹脂組成物、AB
S以外の樹脂成形体ではメッキが困難であるとされてい
た樹脂成形体であっても容易にメッキ処理をすることの
できるメッキ方法、および素材である樹脂の種類を問わ
ずにメッキされてなるメッキ成形体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin composition for plating, a plating method and a plated product, and more specifically, it is possible to carry out a plating treatment using the step of plating the surface of an ABS resin as it is. A resin composition for plating, which can easily produce a molded product capable of
A resin molding other than S, which is said to be difficult to plate, can be plated easily regardless of the type of resin used as a plating method and material. The present invention relates to a plated molded body.

【0002】[0002]

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来から
ABS樹脂の成形体の表面にメッキを施す技術は良く知
られている。ところが、ABS樹脂のメッキラインを用
いて、ポリオレフィンやポリスチレンなどの成形体の表
面にメッキを施しても、メッキが前記成形体の表面に付
着しない。
2. Description of the Related Art Conventionally, a technique for plating the surface of an ABS resin molded body is well known. However, even if a surface of a molded body such as polyolefin or polystyrene is plated with an ABS resin plating line, the plating does not adhere to the surface of the molded body.

【0003】もしポリオレフィンやポリスチレンなどの
成形体の表面に密着性良くメッキ層を形成することがで
きると、安価な材料コストで電磁波シールド成形体や、
装飾用成形体、その他の工業材料を製造することができ
る。
If a plating layer can be formed on the surface of a molded product such as polyolefin or polystyrene with good adhesiveness, an electromagnetic wave shield molded product or an electromagnetic wave shield molded product can be produced at a low material cost.
It is possible to manufacture decorative molded products and other industrial materials.

【0004】現在、特殊メッキラインを使用してポリプ
ロピレンやポリスチレンなどの樹脂成形体の表面にメッ
キを施すことができるのではあるが、ABS樹脂の成形
体のメッキラインに使用されるような汎用の設備を使用
することができない。特殊メッキラインでは、ABS樹
脂成形体のメッキラインに比べて工程が数多く、また樹
脂の種類ごとに処理剤が相違することなどの問題点があ
る。しかもこの特殊メッキラインでは、治具等の絶縁部
にもメッキが施されてしまうので、電気メッキの工程が
必要なときには、治具の付け替えや剥離工程がさらに必
要になるなどの問題点もある。
At present, it is possible to use a special plating line to plate the surface of a resin molding such as polypropylene or polystyrene. However, it is not possible to use a general-purpose plating line for ABS resin molding. Unable to use the equipment. The special plating line has a number of steps as compared with the plating line for the ABS resin molded body, and there are problems that the treating agent is different for each kind of resin. Moreover, in this special plating line, the insulating portion of the jig or the like is also plated. Therefore, when the electroplating process is required, there is a problem that a jig replacement or a peeling process is further required. .

【0005】ポリオレフィン組成物の成形体にメッキを
施す古い技術として、特公昭46−4674号公報に記
載された方法がある。
As an old technique for plating a molded body of a polyolefin composition, there is a method described in Japanese Patent Publication No. 46-4674.

【0006】この公報には、ポリオレフィンと非イオン
界面活性剤とを含有してなるポリオレフィン組成物は、
その成形体の表面に密着性の良い金属メッキを形成する
ことができることを開示している。この公報によると、
ポリオレフィンとイオン性界面活性剤とを含有する組成
物は密着性の良好なメッキを施すことのできないことが
示唆されている。この公報ではポリオレフィン以外の熱
可塑性樹脂に非イオン界面活性剤を配合すると、金属メ
ッキに適した樹脂組成物が果たして得られるのか不明で
ある。
In this publication, a polyolefin composition containing a polyolefin and a nonionic surfactant is
It is disclosed that a metal plating having good adhesion can be formed on the surface of the molded body. According to this publication,
It has been suggested that a composition containing a polyolefin and an ionic surfactant cannot be plated with good adhesion. In this publication, it is unclear whether a resin composition suitable for metal plating can be obtained by adding a nonionic surfactant to a thermoplastic resin other than polyolefin.

【0007】結局のところ、前記公報における記載で
は、ポリオレフィンと非イオン界面活性剤とを含有する
ポリオレフィン組成物はメッキを施すことができるけれ
ど、他の樹脂と非イオン界面活性剤とを含有する樹脂組
成物にはメッキを良好に施すことができるのかは不明で
あり、イオン界面活性剤を組み合わせても良好なメッキ
を施すことができないことが明らかになっている。
After all, according to the description in the above publication, the polyolefin composition containing the polyolefin and the nonionic surfactant can be plated, but the resin containing another resin and the nonionic surfactant is used. It is unclear whether the composition can be plated well, and it has been clarified that good plating cannot be carried out even if an ionic surfactant is combined.

【0008】この発明は前記事情に基づいて完成され
た。
The present invention has been completed based on the above circumstances.

【0009】すなわち、この発明の目的は、ポリオレフ
ィンを初めとするいずれの熱可塑性樹脂であってもその
成形体の表面にも密着性の良い良好なメッキを施すこと
のできるメッキ用樹脂組成物を提供することにある。
That is, an object of the present invention is to provide a plating resin composition capable of performing good plating with good adhesion even on the surface of a molded body of any thermoplastic resin including polyolefin. To provide.

【0010】この発明の他の目的は、いずれの熱可塑性
樹脂であってもその成形体の表面に良好なメッキを施す
ことのできるメッキ方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a plating method capable of applying excellent plating to the surface of a molded body of any thermoplastic resin.

【0011】この発明の他の目的は、従来ではメッキを
施すことのできなかった樹脂であっても、良好にその表
面にメッキが施されてなる成形品を提供することにあ
る。
Another object of the present invention is to provide a molded product in which the surface of a resin which has not been plated in the past can be plated well.

【0012】[0012]

【前記課題を解決するための手段】前記課題を解決する
ための請求項1に記載の発明は、熱可塑性樹脂100重
量部、およびカチオン系界面活性剤0.1〜15重量部
を含有することを特徴とするメッキ用樹脂組成物であ
り、請求項2に記載の発明は、熱可塑性樹脂100重量
部に対してさらに滑剤0.01〜5重量部および/また
は高融点化合物1〜500重量部を含有してなる前記請
求項1に記載のメッキ用樹脂組成物であり、請求項3に
記載の発明は、前記カチオン系界面活性剤が第4級アン
モニウム塩である前記請求項1に記載のメッキ用樹脂組
成物であり、請求項4に記載の発明は、前記熱可塑性樹
脂がポリオレフィン、ポリスチレンおよびポリカーボネ
ートよりなる群から選択される少なくとも一種である前
記請求項1に記載のメッキ用樹脂組成物であり、請求項
5に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載のメ
ッキ用樹脂組成物を成形して得られる成形体をメッキ処
理することを特徴とする成形体のメッキ方法であり、請
求項6に記載の発明は、請求項5に記載のメッキ方法に
よりメッキされたメッキ成形体である。
The invention according to claim 1 for solving the above-mentioned problems contains 100 parts by weight of a thermoplastic resin and 0.1 to 15 parts by weight of a cationic surfactant. The resin composition for plating, characterized in that the invention according to claim 2 further comprises 0.01 to 5 parts by weight of a lubricant and / or 1 to 500 parts by weight of a high melting point compound with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin. The resin composition for plating according to claim 1, wherein the cationic surfactant is a quaternary ammonium salt, and the invention according to claim 3 further comprises: The resin composition for plating according to claim 4, wherein the thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of polyolefin, polystyrene and polycarbonate. A resin composition for kicks, wherein the invention according to claim 5 is characterized in that a molded body obtained by molding the resin composition for plating according to claim 1 or 2 is plated. It is a method for plating a molded body, and the invention according to claim 6 is a plated molded body plated by the plating method according to claim 5.

【0013】以下にこの発明を詳述する。The present invention will be described in detail below.

【0014】(A)メッキ用樹脂組成物 −熱可塑性樹脂− この発明における熱可塑性樹脂としては、たとえば、ポ
リエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン
−アクリル酸エチル共重合体、ポリプロピレン、4−メ
チルペンテン−1、ポリスチレン、シンジオタクチック
構造を有するポリスチレン、ABS樹脂、AS樹脂、A
CS樹脂、メタクリル酸メチル樹脂、塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル−塩化
ビニリデン共重合樹脂、塩化ビニル−アクリル酸エステ
ル共重合樹脂、塩化ビニル−メタクリル酸共重合樹脂、
塩化ビニル−アクリルニトリル共重合体、エチレン−塩
化ビニル共重合体、プロピレン−塩化ビニル共重合体、
塩化ビニリデン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセトアセ
タール、ポリビニルブチラール、ポリビニルエーテル、
ポリアミド6,6(ナイロン6,6)、ポリアミド6
(ナイロン6)、ポリアミド4,6(ナイロン4,
6)、ポリアミドMXD6、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、不飽和ポリ
エステル樹脂、ポリアリレート、ポリフェニレンスルフ
ィド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミド
イミド、ポリイミドなどを挙げることができる。
(A) Resin Composition for Plating--Thermoplastic Resin-- Examples of the thermoplastic resin in the present invention include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, polypropylene, 4- Methylpentene-1, polystyrene, polystyrene having syndiotactic structure, ABS resin, AS resin, A
CS resin, methyl methacrylate resin, vinyl chloride resin,
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer resin, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer resin, vinyl chloride-methacrylic acid copolymer resin,
Vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, propylene-vinyl chloride copolymer,
Vinylidene chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl acetoacetal, polyvinyl butyral, polyvinyl ether,
Polyamide 6,6 (nylon 6,6), polyamide 6
(Nylon 6), polyamide 4,6 (nylon 4,
6), polyamide MXD6, polycarbonate, polyacetal, polyphenylene ether, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, unsaturated polyester resin, polyarylate, polyphenylene sulfide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyetherimide, polyamideimide, polyimide And so on.

【0015】これらの中でも、ポリエチレンおよびポリ
プロピレンなどのポリオレフィンならびにポリスチレン
は、低コストで種々の成形品を製造するのに便利な樹脂
である。ポリオレフィンは、その優れた耐薬品性を生か
した用途、たとえば自動車用資材や包装材料に好適であ
る。ポリスチレンはその優れた寸法特性を生かして外郭
用材料に好適であり、家庭電器製品およびオフィスオー
トメーションなどにおける筐体、カバー等の用途に好適
である。
Among these, polyolefins such as polyethylene and polypropylene and polystyrene are convenient resins for producing various molded products at low cost. Polyolefin is suitable for applications making use of its excellent chemical resistance, for example, automobile materials and packaging materials. Polystyrene is suitable as a material for the outer shell by taking advantage of its excellent dimensional characteristics, and is suitable for applications such as housings and covers in home electric appliances and office automation.

【0016】ポリカーボネートはその優れた耐熱性、剛
性および耐衝撃性を生かした用途たとえば筐体のシャー
シ用材料に好適である。
Polycarbonate is suitable for applications that make use of its excellent heat resistance, rigidity and impact resistance, for example, as a material for chassis of housing.

【0017】この発明においては、前記した各種の熱可
塑性樹脂を初めとする各種の熱可塑性樹脂を適宜に選択
してその一種を単独で使用することができるし、またそ
の二種以上を併用することもできる。
In the present invention, various thermoplastic resins including the above-mentioned various thermoplastic resins can be appropriately selected and used alone, or two or more thereof can be used in combination. You can also

【0018】−カチオン系界面活性剤− この発明におけるカチオン系界面活性剤としては、たと
えばアミン塩、四級アンモニウム塩を挙げることができ
る。
-Cationic Surfactant- Examples of the cationic surfactant in the present invention include amine salts and quaternary ammonium salts.

【0019】前記アミン塩としては、一級、二級および
三級の高級アルキルアミン類を酸で中和することにより
得ることのできる脂肪族アミン塩を挙げることができ
る。
Examples of the amine salt include aliphatic amine salts which can be obtained by neutralizing primary, secondary and tertiary higher alkylamines with an acid.

【0020】四級アンモニウム塩としては、芳香族四級
アンモニウム塩、脂肪族四級アンモニウム塩、複素環四
級アンモニウム塩などを挙げることができる。この芳香
族四級アンモニウム塩としては、ベンザルコニウム塩、
塩化ベンゼトニウム塩などを挙げることができる。前記
脂肪族四級アンモニウム塩としては、アルキルトリメチ
ルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム
塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩などを挙
げることができる。複素環四級アンモニウム塩として
は、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩、ア
ルキルイソキノリニウム塩、ジアルキルモルホリニウム
塩などを挙げることができる。これらの外にも、前記四
級アンモニウム塩としては、四級アンモニウムクロライ
ド、四級アンモニウムサルフェート、四級アンモニウム
ニトレート等を挙げることができる。
Examples of the quaternary ammonium salt include aromatic quaternary ammonium salt, aliphatic quaternary ammonium salt, and heterocyclic quaternary ammonium salt. As the aromatic quaternary ammonium salt, benzalkonium salt,
Examples thereof include benzethonium chloride salt. Examples of the aliphatic quaternary ammonium salt include alkyl trimethyl ammonium salt, dialkyl dimethyl ammonium salt, and alkyl dimethyl benzyl ammonium salt. Examples of the heterocyclic quaternary ammonium salt include an alkylpyridinium salt, an imidazolinium salt, an alkylisoquinolinium salt, and a dialkylmorpholinium salt. In addition to these, examples of the quaternary ammonium salt include quaternary ammonium chloride, quaternary ammonium sulfate, and quaternary ammonium nitrate.

【0021】これらの中でも脂肪族四級アンモニウム塩
を採用すると、メッキ付着性の向上効果に優れるので特
に好ましい。もっともこの脂肪族四級アンモニウム塩に
限らず、この発明においては前記各種のカチオン系界面
活性剤を適宜に選択してその一種を単独で使用すること
ができるし、またその二種以上を併用することもでき
る。
Of these, the use of an aliphatic quaternary ammonium salt is particularly preferable because it has an excellent effect of improving the plating adhesion. However, not limited to this aliphatic quaternary ammonium salt, in the present invention, one of the various cationic surfactants can be appropriately selected and used alone, or two or more thereof can be used in combination. You can also

【0022】この発明においては、特にメッキ用樹脂組
成物中のカチオン系界面活性剤の含有量は、熱可塑性樹
脂100重量部に対して0.1〜15重量部であり、好
ましくは0.2〜10重量部であり、より好ましくは
0.3〜7重量部である。カチオン系界面活性剤の含有
量が0.1重量部未満であると、メッキが成形体の表面
に十分に付着せず、15重量部を越えると成形体の表面
にメッキが付着することは可能であるが容易にメッキが
剥離する。しかも15重量部を越えると、成形体の耐熱
性等の物性が低下し、樹脂組成物の混練も困難になる。
In the present invention, the content of the cationic surfactant in the plating resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 0.2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermoplastic resin. 10 to 10 parts by weight, more preferably 0.3 to 7 parts by weight. When the content of the cationic surfactant is less than 0.1 part by weight, the plating does not adhere sufficiently to the surface of the molded product, and when it exceeds 15 parts by weight, the plating can adhere to the surface of the molded product. However, the plating is easily peeled off. Moreover, if it exceeds 15 parts by weight, physical properties such as heat resistance of the molded product are deteriorated and it becomes difficult to knead the resin composition.

【0023】カチオン系界面活性剤が室温で液体である
ときには、混練加工時に食い込み不良の問題を生じるこ
とがある。このような場合には、事前にシリカや炭酸カ
ルシウムなどの無機化合物にこのカチオン系界面活性剤
を吸着させておくのも良く、高濃度のマスターバッチを
形成しても良い。このような工夫を行うことにより混練
加工性がさらに改善される。
When the cationic surfactant is liquid at room temperature, it may cause a problem of bite failure during kneading. In such a case, the cationic surfactant may be adsorbed on an inorganic compound such as silica or calcium carbonate in advance, or a high-concentration master batch may be formed. The kneading workability is further improved by making such a device.

【0024】−滑剤− この発明のメッキ用樹脂組成物における前記カチオン系
界面活性剤の分散を良好にするためには、滑剤を配合す
るのが好ましい。
-Lubricant- In order to improve the dispersion of the cationic surfactant in the plating resin composition of the present invention, it is preferable to add a lubricant.

【0025】この滑剤としては、流動パラフィン、パラ
フィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレ
ン、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体など
の炭化水素系滑剤、ステアリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸な
どの脂肪酸系滑剤、ステアリルアミド、パルミチルアミ
ド、オレイルアミド、メチレンビスステアロアミド、エ
チレンビスステアロアミドなどの脂肪酸アミド系滑剤、
ブチルステアレート、エチレングリコールモノステアレ
ートなどのエステル系滑剤、セチルアルコール、ステア
リルアルコールなどのアルコール系滑剤、ステアリン酸
鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステ
アリン酸マグネシウムなどの金属石けん類、カルナバロ
ウ、カンデリラロウ、モンタンロウなどの天然もしくは
合成ワックスなどを挙げることができる。
Examples of the lubricant include hydrocarbon-based lubricants such as liquid paraffin, paraffin wax, microwax, low-polymerization polyethylene, polystyrene and ethylene-vinyl acetate copolymer, stearic acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidine. Fatty acid-based lubricants such as acids and behenic acid, fatty acid amide-based lubricants such as stearylamide, palmitylamide, oleylamide, methylenebisstearamide and ethylenebisstearamide,
Butyl stearate, ester lubricants such as ethylene glycol monostearate, alcohol lubricants such as cetyl alcohol, stearyl alcohol, lead stearate, calcium stearate, zinc stearate, metallic soaps such as magnesium stearate, carnauba wax, candelilla wax, Mention may be made of natural or synthetic waxes such as montan wax.

【0026】各種の滑剤の中でも金属石けん類が好まし
く、特に、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウ
ム、およびステアリン酸マグネシウムなどが好ましい。
Among the various lubricants, metallic soaps are preferable, and zinc stearate, calcium stearate, magnesium stearate and the like are particularly preferable.

【0027】滑剤のメッキ用樹脂組成物中の含有量とし
ては、通常、熱可塑性樹脂100重量部に対して通常
0.01〜5重量部であり、好ましくは0.02〜3重
量部である。滑剤の含有量が前記範囲内にあるとメッキ
の付着性が更に良好であり、メッキが容易に剥離するこ
ともなく、樹脂の混練も円滑に支障なく行われることが
できる。換言すると0.01重量部よりも少ないとメッ
キの付着性が低下することがあり、また5重量部よりも
多いとメッキが剥離し易くなることがあり、また、メッ
キ用樹脂組成物の混練が困難になることがある。
The content of the lubricant in the plating resin composition is usually 0.01 to 5 parts by weight, preferably 0.02 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermoplastic resin. . When the content of the lubricant is within the above range, the adhesion of the plating is further improved, the plating does not easily peel off, and the resin can be kneaded smoothly and without any trouble. In other words, if the amount is less than 0.01 parts by weight, the adhesion of the plating may be reduced, and if it is more than 5 parts by weight, the plating may be easily peeled off, and the kneading of the plating resin composition may be difficult. It can be difficult.

【0028】別の観点よりすると、場合によっては、滑
剤の熱可塑性樹脂100重量部に対する含有量につき、
0.01重量部および0.02重量部のいずれかを下限
値とし、1重量部を上限値とするいずれかの範囲を好適
含有量範囲として採用されることもできる。
From another point of view, in some cases, the content of the lubricant in 100 parts by weight of the thermoplastic resin is
It is also possible to employ any range of 0.01 parts by weight and 0.02 parts by weight as a lower limit value and 1 part by weight as an upper limit value as a preferable content range.

【0029】−高融点化合物− この発明のメッキ用樹脂組成物における前記カチオン系
界面活性剤の分散を良好にするためには、樹脂組成物の
混練温度では融解することのない高融点化合物を配合す
るのが好ましい。
—High Melting Point Compound— In order to improve the dispersion of the cationic surfactant in the plating resin composition of the present invention, a high melting point compound that does not melt at the kneading temperature of the resin composition is added. Preferably.

【0030】したがって、前記高融点化合物としてはこ
の発明のメッキ用樹脂組成物の混練温度に依存して選択
されることになり、一般的記述として、250℃以上、
好ましくは300℃以上の融点を有する化合物、あるい
は明確な融点を有さず、軟化点あるいは分解点が250
℃以上、好ましくは300℃以上である化合物が採用さ
れる。したがって、この発明における「高融点化合物」
なる概念は「融点」を有する物質に限定されないことは
確かである。
Therefore, the high melting point compound is selected depending on the kneading temperature of the plating resin composition of the present invention. As a general description, 250 ° C. or higher,
Preferably, the compound has a melting point of 300 ° C. or higher, or does not have a definite melting point and has a softening point or a decomposition point of 250.
A compound having a temperature of not less than 0 ° C, preferably not less than 300 ° C is adopted. Therefore, the "high melting point compound" in the present invention
Certainly the concept is not limited to substances with a "melting point".

【0031】いずれにしても、この発明における高融点
化合物としては、タルク、炭酸カルシウム、水酸化マグ
ネシウム、デカブロモジフェニルエーテル、デカブロモ
ジフェニルエタン、デカブロモジフェニルプロパン、デ
カブロモジフェニル、テトラデカブロモジフェノキシベ
ンゼン、エチレンビステトラブロモフタルイミド、酸化
チタン、酸化アンチモン、硫酸バリウム、ガラス粉末、
ガラス繊維、カーボンブラック、酸化亜鉛、マグネシウ
ムオキシサルフェート、チタンウイスカーなどを挙げる
ことができる。
In any case, talc, calcium carbonate, magnesium hydroxide, decabromodiphenyl ether, decabromodiphenylethane, decabromodiphenylpropane, decabromodiphenyl, tetradecabromodiphenoxybenzene are used as the high melting point compound in the present invention. , Ethylenebistetrabromophthalimide, titanium oxide, antimony oxide, barium sulfate, glass powder,
Examples thereof include glass fiber, carbon black, zinc oxide, magnesium oxysulfate and titanium whiskers.

【0032】前記高融点化合物は、その粒径が15μm
以下であるのが好ましく、特に10μm以下であるのが
好ましい。高融点化合物の粒径が前記値以下であると成
形品の表面におけるメッキの付着性が向上する。
The high melting point compound has a particle size of 15 μm.
It is preferably the following or less, and particularly preferably 10 μm or less. When the particle size of the high melting point compound is not more than the above value, the adhesion of plating on the surface of the molded product is improved.

【0033】この高融点化合物のメッキ用樹脂組成物中
の含有量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して通常1
〜500重量部であり、好ましくは2〜300重量部で
あり、さらに好ましくは3〜200重量部である。含有
量が前記範囲内にあると、メッキの付着性が良好であ
り、またメッキの剥離も起こり難い。なお、常にそうで
あるとは限らないが、高融点化合物の含有量が1重量部
未満であるとメッキの付着性が低下することがあり、ま
た500重量部よりも多いとメッキが剥離し易くなるこ
とがある。
The content of this high melting point compound in the plating resin composition is usually 1 per 100 parts by weight of the thermoplastic resin.
To 500 parts by weight, preferably 2 to 300 parts by weight, and more preferably 3 to 200 parts by weight. When the content is within the above range, the adhesion of plating is good and the peeling of plating is unlikely to occur. Although it is not always the case, if the content of the high melting point compound is less than 1 part by weight, the adhesion of the plating may decrease, and if it is more than 500 parts by weight, the plating is likely to peel off. May be.

【0034】また、この発明のメッキ用樹脂組成物にお
いては、前記滑剤と共にこの高融点化合物を併用するこ
ともできる。
In the plating resin composition of the present invention, the high melting point compound may be used in combination with the lubricant.

【0035】併用するにせよ、併用しないにせよ、この
発明において好適な高融点化合物は、この明細書の実施
例に開示されてある。
High melting compounds suitable for use in the present invention, whether used in combination or not, are disclosed in the examples of this specification.

【0036】−その他の任意成分− この発明のメッキ用樹脂組成物は、この発明の目的を阻
害しない限りにおいて各種の他の成分を含有しても良
い。
-Other Optional Components- The plating resin composition of the present invention may contain various other components as long as the object of the present invention is not impaired.

【0037】そのような他の成分としては、たとえば難
燃剤、酸化防止剤、離型剤、着色剤、無機充填剤、補強
材、耐光安定剤、相溶化剤、可塑剤、熱安定剤、銅害防
止剤等を挙げることができる。
Examples of such other components include flame retardants, antioxidants, release agents, colorants, inorganic fillers, reinforcing materials, light stabilizers, compatibilizers, plasticizers, heat stabilizers, copper. Examples include harm inhibitors and the like.

【0038】前記酸化防止剤としては、例えば、2,6
−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキ
シアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフ
ェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2−
メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、2,2−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t
−ブチルフェノール)、4,4−チオビス(3−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、4,4−ブチリデンビ
ス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、テト
ラキス{メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート}メタン、1,
1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−
t−ブチルフェニル)ブタンのようなフェノール系化合
物、フェニル−β−ナフチルアミン、N,N−ジフェニ
ル−p−フェニレンジアミンのようなアミン系化合物、
トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリフェニル
フォスファイト、トリオクタデシルフォスファイト、ジ
フェニルイソデシルフォスファイトのようなリン系化合
物、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネー
トのような硫黄化合物等を挙げることができる。
Examples of the antioxidant include 2,6
-Di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) ) Propionate, 2,2-
Methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2-methylene-bis- (4-ethyl-6-t
-Butylphenol), 4,4-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4-butylidenebis- (3-methyl-6-t-butylphenol), tetrakis {methylene-3- (3,5- Di-t-butyl-4
-Hydroxyphenyl) propionate} methane, 1,
1,3-tris- (2-methyl-4-hydroxy-5-
phenol-based compounds such as t-butylphenyl) butane, amine-based compounds such as phenyl-β-naphthylamine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine,
Phosphorus compounds such as tris (nonylphenyl) phosphite, triphenylphosphite, trioctadecylphosphite, diphenylisodecylphosphite, dilaurylthiodipropionate, dimyristylthiodipropionate, distearylthiodipropionate Examples thereof include sulfur compounds.

【0039】前記離型剤としては、例えば、カルナバワ
ックス、パラフィンワックス、シリコーン油等を挙げる
ことができる。
Examples of the releasing agent include carnauba wax, paraffin wax, silicone oil and the like.

【0040】前記着色剤としては、プラスチックの着色
に使用される通常の顔料および染料などの着色剤を使用
することができる。
As the colorant, colorants such as usual pigments and dyes used for coloring plastics can be used.

【0041】前記無機充填剤としては、たとえば、硫酸
カルシウム、硫酸マグネシウム、マイカ、シリカ、アス
ベスト、ガラスビーズ、ガラスフレーク、酸化亜鉛、酸
化マグネシウム、酸化モリブデン、酸化スズ、酸化ジル
コニウム、酸化鉄、アルミナ、石英粉、金属粉などを挙
げることができる。
Examples of the inorganic fillers include calcium sulfate, magnesium sulfate, mica, silica, asbestos, glass beads, glass flakes, zinc oxide, magnesium oxide, molybdenum oxide, tin oxide, zirconium oxide, iron oxide, alumina, Examples thereof include quartz powder and metal powder.

【0042】前記補強剤としては、炭素繊維、合成繊
維、金属繊維などを挙げることができる。
Examples of the reinforcing agent include carbon fiber, synthetic fiber, metal fiber and the like.

【0043】前記耐光安定剤としては、例えば、フェニ
ルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート
等のサリチル酸系紫外線吸収剤、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾ
フェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、2−(2
−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、さらにシアノアク
リレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定
剤、ニッケル系の化合物を挙げることができる。
Examples of the light resistance stabilizer include salicylic acid type ultraviolet absorbers such as phenyl salicylate and pt-butylphenyl salicylate, and benzophenone type ultraviolet rays such as 2,4-dihydroxybenzophenone and 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone. Absorbent, 2- (2
-Hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-t-butylphenyl)
Examples thereof include benzotriazole-based UV absorbers, cyanoacrylate-based UV absorbers, hindered amine-based light stabilizers, and nickel-based compounds.

【0044】この発明のメッキ用樹脂組成物の調製方法
については特に制限がなく、たとえば前記熱可塑性樹
脂、カチオン系界面活性剤ならびに所望に応じて用いら
れる各種の任意成分を、リボンブレンダー、タンブルミ
キサー、ヘンシェルミキサー、オープンロール、バンバ
リーミキサイー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュ
ー押出機、単軸往復動スクリュー押出機などを用いて溶
融混練することにより調製することができる。
The method for preparing the plating resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, the thermoplastic resin, the cationic surfactant and various optional components used as desired may be added to a ribbon blender or a tumble mixer. , Henschel mixer, open roll, Banbury mixer, single screw extruder, twin screw extruder, single screw reciprocating screw extruder and the like.

【0045】この発明のメッキ用樹脂組成物は、公知の
成形法たとえば回転成形法、インフレーション成形法、
キャスト成形法、押出成形法、射出成形法、押出成形法
などにより、シート、フィルム、パイプ、各種の筐体な
どを初めとする各種の成形体に成形することができる。
The resin composition for plating of the present invention can be produced by a known molding method such as rotational molding method, inflation molding method,
By a cast molding method, an extrusion molding method, an injection molding method, an extrusion molding method, etc., various molded products including a sheet, a film, a pipe, various casings and the like can be molded.

【0046】この発明のメッキ用樹脂組成物は、次に説
明するメッキ方法により、メッキ用樹脂組成物の各種成
形体の表面にメッキを施すことができる。
The plating resin composition of the present invention can be plated on the surface of various molded products of the plating resin composition by the plating method described below.

【0047】(B)メッキ方法 この発明のメッキ方法は、熱可塑性樹脂を含有する樹脂
組成物に、前記熱可塑性樹脂100重量部に対してカチ
オン系界面活性剤0.1〜15重量部を配合し、得られ
る熱可塑性樹脂組成物を成形して得られる成形体をメッ
キ処理することを基本内容とする。
(B) Plating Method In the plating method of the present invention, a resin composition containing a thermoplastic resin is mixed with 0.1 to 15 parts by weight of a cationic surfactant per 100 parts by weight of the thermoplastic resin. Then, the basic content is to plate the molded product obtained by molding the obtained thermoplastic resin composition.

【0048】前記熱可塑性樹脂組成物としては、この発
明のメッキ用樹脂組成物を好適に使用することができ
る。
The plating resin composition of the present invention can be preferably used as the thermoplastic resin composition.

【0049】前記熱可塑性樹脂組成物特にこの発明のメ
ッキ用樹脂組成物を成形して得られた成形体を、ABS
樹脂成形体のメッキを行うためのたとえば以下の工程に
供してその表面にメッキを施すことができる。
A molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition, particularly the plating resin composition of the present invention, is made into ABS.
For example, the surface of the resin molding can be plated by the following steps for plating the resin molding.

【0050】(1) 脱脂工程 この工程は、次工程のエッチング液による成形体の濡れ
を向上させることを目的とする。
(1) Degreasing step This step is intended to improve the wetting of the molded body by the etching solution in the next step.

【0051】この工程では、たとえば40〜60℃のア
ルカリ溶液に、成形体を、1〜2分浸漬する。なお、こ
の工程は不可欠の工程ではない。この工程におけるアル
カリ溶液の温度および浸漬時間は、メッキ用樹脂組成物
における熱可塑性樹脂の種類などに応じて適宜に選択す
るのが良い。というのは、熱可塑性樹脂の種類によって
は、成形体の変形などを生じる恐れがあるからである。
成形体をアルカリ溶液に浸漬する時間も前記時間に限定
されず、メッキ用樹脂組成物を形成する熱可塑性樹脂の
種類に応じて適宜に変更することができる。
In this step, the molded body is dipped in an alkaline solution at 40 to 60 ° C. for 1 to 2 minutes, for example. Note that this step is not an essential step. The temperature and immersion time of the alkaline solution in this step may be appropriately selected according to the type of thermoplastic resin in the plating resin composition. This is because, depending on the type of thermoplastic resin, the molded body may be deformed.
The time for immersing the molded body in the alkaline solution is not limited to the above time, and can be appropriately changed depending on the type of the thermoplastic resin forming the resin composition for plating.

【0052】(2) エッチング工程 この工程は、成形体の表面を化学的にエッチングして金
属メッキ膜との密着性を確保することを目的とする。
(2) Etching Step This step is intended to chemically etch the surface of the molded body to ensure adhesion with the metal plating film.

【0053】この工程では、成形体をエッチング液中に
浸漬する。
In this step, the molded body is dipped in the etching solution.

【0054】エッチング液としては、クロム酸と硫酸と
の混合溶液、クロム酸と硫酸とりん酸との混合溶液など
を挙げることができる。
Examples of the etching solution include a mixed solution of chromic acid and sulfuric acid, a mixed solution of chromic acid, sulfuric acid and phosphoric acid.

【0055】エッチング液の組成、温度およびエッチン
グ液中に成形体を浸漬しておくエッチング条件について
は、メッキ用樹脂組成物を形成する熱可塑性樹脂の種類
に応じて適宜に変更することができる。
The composition of the etching solution, the temperature, and the etching conditions for immersing the molded body in the etching solution can be appropriately changed depending on the kind of the thermoplastic resin forming the plating resin composition.

【0056】(3) 触媒化工程 エッチング工程を経た成形体は、触媒化工程に供され
る。この触媒化工程は、化学メッキ反応の開始に必要な
触媒である貴金属の核を成形体の表面に析出させること
を目的にする。この目的を十分に達成するには、エッチ
ング工程におけるエッチング液のクロム酸がこの工程に
持ち込まれることを極力避けねばならないので、触媒化
工程に供される成形体は十分に水洗し、場合によっては
水洗の後に、あるいは水洗に代えて弱酸またはアルカリ
により十分に中和を行っておくことが望ましい。
(3) Catalytic Step The molded body that has undergone the etching step is subjected to the catalytic step. This catalyzation step aims at precipitating precious metal nuclei, which is a catalyst necessary for starting the chemical plating reaction, on the surface of the molded body. In order to sufficiently achieve this purpose, it is necessary to avoid as much as possible the chromic acid of the etching solution in the etching step from being brought into this step, so the molded body to be subjected to the catalyzing step should be thoroughly washed with water and, in some cases, It is desirable to sufficiently neutralize with a weak acid or alkali after or after washing with water.

【0057】この触媒化工程においては、たとえば、感
受性化溶液に成形体を浸漬し、次いで活性化溶液に成形
体を浸漬する。
In this catalysis step, for example, the molded body is dipped in the sensitizing solution, and then the molded body is dipped in the activating solution.

【0058】感受性化溶液としては、たとえば塩化第一
錫の塩酸溶液を挙げることができる。活性化溶液として
は塩化パラジウムの塩酸溶液、硝酸銀のアンモニア水溶
液、塩化第一錫、塩化パラジウムおよび塩酸を適切な比
率で混合した溶液などを挙げることができる。
Examples of the sensitizing solution include a solution of stannous chloride in hydrochloric acid. Examples of the activating solution include a hydrochloric acid solution of palladium chloride, an aqueous ammonia solution of silver nitrate, a solution in which stannous chloride, palladium chloride and hydrochloric acid are mixed in an appropriate ratio.

【0059】(4) 化学メッキ工程 適切な触媒化工程を経た成形体は、たとえば水洗を経て
から化学メッキ工程に供される。この化学メッキ工程
は、化学メッキ浴に成形体を浸漬することを内容とす
る。
(4) Chemical Plating Step The molded body that has undergone an appropriate catalyzing step is washed with water, for example, and then subjected to a chemical plating step. This chemical plating step involves immersing the molded body in a chemical plating bath.

【0060】化学メッキ浴としては、たとえば化学銅浴
および化学ニッケル浴などを挙げることができる。
Examples of the chemical plating bath include chemical copper bath and chemical nickel bath.

【0061】この化学メッキ工程では化学メッキ浴に成
形体を浸漬すると、成形体の表面で直ちに化学メッキ反
応が起こり、化学的還元により成形体の表面に金属が析
出する。
In this chemical plating step, when the molded body is immersed in the chemical plating bath, a chemical plating reaction immediately occurs on the surface of the molded body, and a metal is deposited on the surface of the molded body by chemical reduction.

【0062】析出する金属の膜厚は、成形体を化学メッ
キ浴に浸漬する時間に比例する。したがって、所望の金
属膜厚になるように浸漬時間を適宜に選択するのが良
い。
The film thickness of the deposited metal is proportional to the time for immersing the molded body in the chemical plating bath. Therefore, it is preferable to appropriately select the immersion time so as to obtain a desired metal film thickness.

【0063】この化学メッキ工程により成形体の表面に
は所望の膜厚を有する金属メッキが形成される。メッキ
を有する成形体(以下においてメッキ成形体と称するこ
とがある。)は、たとえば電磁波遮蔽用としての、通信
機器製品、家庭電器製品、家庭用情報機器、オフィスオ
ートメーション機器、自動車内外装品などの製品として
使用されることができる。もっとも、この化学メッキ工
程を経たメッキ成形体は、次の電気メッキ工程に供して
さらにメッキを施しても良い。
By this chemical plating step, metal plating having a desired film thickness is formed on the surface of the molded body. A molded product having plating (hereinafter, also referred to as a plated molded product) is used for electromagnetic wave shielding, such as a communication device product, a home electric appliance, a home information device, an office automation device, an automobile interior / exterior product, etc. Can be used as a product. However, the plated molded body that has been subjected to this chemical plating step may be subjected to the next electroplating step and further plated.

【0064】(5) 電気メッキ工程 この電気メッキ工程は、金属表面に行うメッキ形成と同
様の処理により前記メッキ成形体のメッキ表面に金属メ
ッキを形成する。
(5) Electroplating Step In this electroplating step, metal plating is formed on the plating surface of the above-mentioned plated molded body by the same treatment as the plating formation on the metal surface.

【0065】この電気メッキ工程に前記メッキ成形体を
供する前に、前記メッキ成形体の表面を、たとえば酸浸
漬や脱脂により十分に清浄にしておくのが望ましい。
Before the plated molded body is subjected to this electroplating step, it is desirable that the surface of the plated molded body be sufficiently cleaned, for example, by acid immersion or degreasing.

【0066】メッキ浴としては単純塩浴と錯イオン浴と
を挙げることができる。また、メッキ浴として銅メッキ
浴、ニッケルメッキ浴、クロムメッキ浴、亜鉛メッキ
浴、錫メッキ浴、金メッキ浴、銀メッキ浴、ロジウムメ
ッキ浴などを挙げることができる。
Examples of the plating bath include a simple salt bath and a complex ion bath. Examples of the plating bath include a copper plating bath, a nickel plating bath, a chrome plating bath, a zinc plating bath, a tin plating bath, a gold plating bath, a silver plating bath, and a rhodium plating bath.

【0067】前記各種のメッキ浴の組成は、前記メッキ
成形体の表面にさらに形成しようとする金属の種類など
に応じて適宜に決定される。
The composition of each of the various plating baths is appropriately determined according to the kind of metal to be further formed on the surface of the plated molded body.

【0068】電解条件としては、電流密度、温度、電流
効率などを挙げることができる。
The electrolysis conditions may include current density, temperature, current efficiency and the like.

【0069】たとえば電流密度が小さいときには一般に
結晶核発生の頻度が小さいので析出物の結晶粒は大き
く、内部応力の大きなメッキになる傾向があり、電流密
度が大きくなると多数の結晶核が発生するので結晶粒子
は小さく固いメッキになる。さらに電流密度が大きくな
るとメッキは金属イオンの拡散支配のもとで行われるよ
うになるから、突起や樹枝状、海綿状の析出物が出現
し、緻密なメッキが得られなくなることもある。したが
って、これらの一般的傾向を考慮して、所望する製品が
得られるように電流密度を適宜に選択するのが良い。電
解時の温度についても、温度が低いと金属イオンの移動
度が小さいために低電流密度においても拡散支配になり
緻密なメッキが得られないことがあり、また液の導電率
も小さいからメッキの付着が悪くなるという一般的傾向
があるから、このような傾向を考慮して、電解時の温度
を適宜に選択するのが良い。
For example, when the current density is low, the frequency of generation of crystal nuclei is generally low, so that the crystal grains of the precipitate are large and the plating tends to be large in internal stress. When the current density is high, a large number of crystal nuclei are generated. The crystal grains are small and hard plating. When the current density further increases, the plating is performed under the control of diffusion of metal ions, so that protrusions, dendritic or spongy precipitates may appear, and dense plating may not be obtained. Therefore, in consideration of these general tendencies, it is preferable to appropriately select the current density so as to obtain a desired product. Regarding the temperature during electrolysis, if the temperature is low, the mobility of metal ions is low, so diffusion control may occur even at low current densities, and dense plating may not be obtained. Since there is a general tendency that adhesion becomes poor, it is preferable to appropriately select the temperature during electrolysis in consideration of such a tendency.

【0070】以上のようにして、表面にメッキされた成
形体が得られる。場合によってはメッキ成形体にさらに
電気メッキを施すことにより、工業用材料あるいは装飾
品に適した最終メッキ成形体を得ることができる。
As described above, a molded product having a plated surface is obtained. In some cases, the final plated molded body suitable for industrial materials or decorative articles can be obtained by further subjecting the plated molded body to electroplating.

【0071】この発明のメッキ用樹脂組成物において
は、その熱可塑性樹脂としてポリオレフィンやポリスチ
レンを使用すると、ABS樹脂成形体のメッキラインも
しくはそれと同等の簡単なメッキラインを使用して、成
形体の表面に密着性良くメッキを施すことができる。し
たがって、この発明のメッキ用樹脂組成物もしくはメッ
キ方法を採用すると、ポリオレフィンなどの成形体にメ
ッキを施すときのような特殊処理が不要になり、メッキ
成形体もしくは最終メッキ成形体を得るのに工程数を大
幅に削減することができることになる。
In the resin composition for plating of the present invention, when polyolefin or polystyrene is used as the thermoplastic resin, the surface of the molded product can be obtained by using the plating line of the ABS resin molded product or a simple plating line equivalent thereto. Can be plated with good adhesion. Therefore, when the plating resin composition or the plating method of the present invention is adopted, a special treatment such as when plating a molded product such as a polyolefin becomes unnecessary, and a process for obtaining a plated molded product or a final plated molded product is achieved. The number can be significantly reduced.

【0072】[0072]

【実施例】【Example】

(実施例1〜17、比較例1〜15)表1および表2に
示す各成分と、酸化防止剤(チバガイギー社製イルガノ
ックス1010)0.1重量部とをドライブレンドし、
加熱温度220〜250℃およびロータ回転数800r
pmの条件の下で二軸混練機により混練し、ペレットを
得た。
(Examples 1 to 17, Comparative Examples 1 to 15) Each component shown in Table 1 and Table 2 was dry blended with 0.1 part by weight of an antioxidant (Irganox 1010 manufactured by Ciba Geigy),
Heating temperature 220-250 ° C and rotor speed 800r
The mixture was kneaded with a twin-screw kneader under the condition of pm to obtain pellets.

【0073】表1および表2中における成分を以下に示
す。
The components in Tables 1 and 2 are shown below.

【0074】熱可塑性樹脂 A1;エチレン−プロピレンブロック共重合体(出光石
油化学(株)製、 J−785H)、MI=10g/10
分 A2;HIポリスチレン(出光石油化学(株)製、 HT
53) A3;エチレン−オクテン−1共重合体(出光石油化学
(株)製、 モアテック0138N)、MI=1g/10
分 A4;ポリカーボネート(出光石油化学(株)製、 タフ
ロンIN−1900A)、MI=19g/10分 A5;ポリプロピレン(出光石油化学(株)製、 E−2
50G)、MI=1g/10分 界面活性剤 B1;カチオン系界面活性剤、日本油脂(株)製、エレ
ガン264WAX(脂肪族第四級アンモニウムサルフェ
ート) B2;カチオン系界面活性剤、日本油脂(株)製、カチ
オンM2−100(芳香族第四級アンモニウム塩) B3;カチオン系界面活性剤、日本油脂(株)製、カチ
オンAR−4(複素環系第四級アンモニウム塩) B4;カチオン系界面活性剤、日本油脂(株)製、カチ
オンSA(脂肪族アミン塩) B5;ノニオン系界面活性剤、日本油脂(株)製、ノニ
オンNS−210(ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル) B6;ノニオン系界面活性剤、日本油脂(株)製、スタ
ホームDL(ラウリン酸ジエタノールアミド) B7;両性系界面活性剤、日本油脂(株)製、ニッサン
アノンBF(ジメチルアルキルベタイン) B8;アニオン系界面活性剤、日本油脂(株)製、エレ
ガンA−2000S(アルキルサルゲート) B9;カチオン系界面活性剤[日本油脂(株)製、エレ
ガン264WAX(脂肪族第四級アンモニウムサルフェ
ート)]のシリカ含浸パウダー(シリカ20重量%/エ
レガン264WAX80重量%) 上記シリカ;分解温度950℃、富士シリシア化学
(株)製、合成シリカSYLYSIA−350 B10;カチオン系界面活性剤[日本油脂(株)製、エレ
ガン264WAX(脂肪族第四級アンモニウムサルフェ
ート)]の炭酸カルシウム(D1)含浸パウダー(炭酸
カルシウム20重量%/エレガン264WAX80重量
%) 滑剤 C1;金属石けん系、日本油脂(株)製、マグネシウム
ステアレート 高融点化合物 D1;炭酸カルシウム、粒径0.8μm、融点なし。分
解温度898℃、ケーシー工業(株)製、ライトン32
X D2;水酸化マグネシウム、粒径1μm、融点なし。分
解温度340℃、協和化学工業(株)製、キスマ5B D3;酸化アンチモン、粒径0.5μm、融点656℃
以上、日本精鉱(株)製、アトックスS D4;デカブロモジフェニルエーテル、粒径3〜5μ
m、融点305℃以上、マナック(株)製、EB−10
WS D5;タルク、粒径2μm、融点1,200℃、浅田製
粉(株)製、FFR D6;ガラス繊維、粒径10μm、長さ3mm、軟化温
度840℃、旭ファイバーグラス(株)製、JA−42
9A D7;デカブロモジフェニルエタン、粒径5μm、融点
350℃、エチル社製、Saytex8010 <評価試験> (1)樹脂物性 前述の方法により得られた各種ペレットを射出成形方法
により成形し、得られた試験片について評価を行なっ
た。結果を表1〜3に示した。
Thermoplastic resin A1; ethylene-propylene block copolymer (manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., J-785H), MI = 10 g / 10
Minute A2: HI polystyrene (manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., HT
53) A3; ethylene-octene-1 copolymer (manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., Moretec 0138N), MI = 1 g / 10
Minute A4: Polycarbonate (Teflon IN-1900A, manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.), MI = 19 g / 10 minutes A5: Polypropylene (manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., E-2)
50G), MI = 1 g / 10 minutes Surfactant B1; Cationic surfactant, NOF Corporation, Elegan 264WAX (aliphatic quaternary ammonium sulfate) B2; Cationic surfactant, NOF Corporation ), Cation M2-100 (aromatic quaternary ammonium salt) B3; cationic surfactant, manufactured by NOF CORPORATION, cation AR-4 (heterocyclic quaternary ammonium salt) B4; cationic interface Activator, manufactured by NOF CORPORATION, cationic SA (aliphatic amine salt) B5; nonionic surfactant, manufactured by NOF CORPORATION, nonion NS-210 (polyoxyethylene nonylphenyl ether) B6; nonionic interface Activator, manufactured by NOF Corporation, Stahome DL (lauric acid diethanolamide) B7; amphoteric surfactant, manufactured by NOF Corporation, Nissa Anone BF (Dimethylalkylbetaine) B8; Anionic surfactant, NOF CORPORATION, Elegan A-2000S (alkyl sulgate) B9; Cationic surfactant [NOF Corporation, ELEGAN 264WAX (fat) Group quaternary ammonium sulfate)] silica-impregnated powder (silica 20% by weight / elegan 264WAX 80% by weight) The above silica; decomposition temperature 950 ° C., manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd., synthetic silica SYLYSIA-350 B10; cationic surfactant Agent [Nippon Oil and Fats Co., Ltd., Elegan 264WAX (aliphatic quaternary ammonium sulfate)] impregnated with calcium carbonate (D1) powder (20% by weight calcium carbonate / 80% by weight Elegan 264WAX) Lubricants C1; metal soap, Nippon Oil & Fats Manufactured by Magnesium Steale Preparative high melting compounds D1; calcium carbonate, grain size 0.8 [mu] m, no melting point. Decomposition temperature 898 ° C., Casen Industry Co., Ltd., Ryton 32
XD2; magnesium hydroxide, particle size 1 μm, no melting point. Decomposition temperature 340 ° C., Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., Kisuma 5B D3; antimony oxide, particle size 0.5 μm, melting point 656 ° C.
As described above, manufactured by Nippon Seiko Co., Ltd., Atox SD4; decabromodiphenyl ether, particle size 3 to 5 µ
m, melting point 305 ° C or higher, Manac Co., Ltd., EB-10
WS D5; talc, particle size 2 μm, melting point 1,200 ° C., Asada Flour Milling Co., Ltd., FFR D6; glass fiber, particle size 10 μm, length 3 mm, softening temperature 840 ° C., Asahi Fiber Glass Co., Ltd., JA -42
9A D7: Decabromodiphenylethane, particle size 5 μm, melting point 350 ° C., manufactured by Ethyl Co., Saytex 8010 <Evaluation test> (1) Physical properties of resin Various pellets obtained by the above method were molded by an injection molding method, and obtained. The test pieces were evaluated. The results are shown in Tables 1 to 3.

【0075】(a)曲げ強さ;JIS K7203に準
拠した。
(A) Bending strength: According to JIS K7203.

【0076】(b)アイゾット衝撃強さ;JIS K−
7110に準拠(ノッチ付き)した。
(B) Izod impact strength; JIS K-
7110 (notched).

【0077】(c)熱変形温度(HDT);JIS K
−7207に準拠(低荷重)した。
(C) Heat distortion temperature (HDT); JIS K
It conformed to -7207 (low load).

【0078】(2)メッキ付着性 前記方法により得られた各種ペレットを射出成形方法に
より成形して縦横が150×150mmであり、厚みが
3mmである角板を得た。この角板を下記工程のABS
メッキラインに供して無電解ニッケルメッキを行ってメ
ッキされた角板を得た。この角板におけるメッキの付着
した面積の比率を測定した。
(2) Plating Adhesion Various pellets obtained by the above method were molded by an injection molding method to obtain a rectangular plate having a length and width of 150 × 150 mm and a thickness of 3 mm. ABS this square plate in the following process
The plate was subjected to electroless nickel plating on a plating line to obtain a plated square plate. The ratio of the area where plating was attached on this square plate was measured.

【0079】測定結果として、メッキが付着しなかった
場合を0、メッキが80%程度付着した場合を80、メ
ッキが100%付着した場合を100で、表1〜3中に
示した。
The measurement results are shown in Tables 1 to 3 when the plating did not adhere, 0 when the plating adhered to about 80%, and 100 when the plating adhered to 100%.

【0080】<メッキライン> 〈1〉脱脂(脱脂温度;50℃、脱脂時間5分、脱脂溶
液;アルカリ性)、 〈2〉水洗(水洗時間30秒)、 〈3〉エッチング(エッチング溶液組成;CrO3 40
0g/リットル、H2SO4 400g/リットル、エッ
チング溶液温度70℃、浸漬時間10分間)、 〈4〉水洗(水洗時間1分)、 〈5〉中和(硫酸10ml/リットル、過酸化水素10
ml/リットルの溶液で2分間洗浄)、 〈6〉水洗(水洗時間30秒)、 〈7〉触媒化(感受性化溶液;塩化第一錫の10g/リ
ットル塩酸溶液、塩化パラジウムの0.3g/リットル
塩酸溶液、感受性化溶液への浸漬時間;3分、温度;3
5℃)、 〈8〉35℃の活性化溶液(硫酸)中に2分間浸漬 〈9〉水洗(水洗時間30秒)、 〈10〉42℃の硫酸ニッケル浴に5分浸漬、 〈11〉水洗(水洗時間30秒)、 〈12〉80℃で30分間乾燥 (3)メッキ密着性 前記のメッキされた角板を用いてASTM D3359
に基づくテープ試験を行った。すなわち、角板のメッキ
表面に、1.5mmのクロスハッチを付け、以下の基準
で判定をした。結果を表1〜3に示した。
<Plating line><1> Degreasing (degreasing temperature: 50 ° C., degreasing time: 5 minutes, degreasing solution: alkaline), <2> water washing (water washing time 30 seconds), <3> etching (etching solution composition: CrO) 3 40
0 g / liter, H 2 SO 4 400 g / liter, etching solution temperature 70 ° C., immersion time 10 minutes), <4> Washing with water (washing time 1 minute), <5> Neutralization (sulfuric acid 10 ml / liter, hydrogen peroxide 10)
Washing with a solution of ml / liter for 2 minutes), <6> Washing with water (washing time 30 seconds), <7> Catalysis (sensitizing solution; stannous chloride 10 g / liter hydrochloric acid solution, palladium chloride 0.3 g / Immersion in liter hydrochloric acid solution, sensitizing solution; 3 minutes, temperature; 3
5 ° C), <8> Immerse in activation solution (sulfuric acid) at 35 ° C for 2 minutes <9> Wash with water (washing time 30 seconds), <10> Soak in nickel sulfate bath at 42 ° C for 5 minutes, <11> Wash with water (Washing time 30 seconds), <12> Drying at 80 ° C for 30 minutes (3) Plating adhesion ASTM D3359 using the plated square plate
The tape test based on That is, a 1.5 mm cross hatch was attached to the plated surface of the square plate, and the judgment was made according to the following criteria. The results are shown in Tables 1 to 3.

【0081】○・・・5%以内の剥離 △・・・5〜50%の剥離 ×・・・50%以上の剥離 (4)シールド効果 前記のメッキされた角板を用いてアドバンテスト(株)
製のスペクトラムアナライザーTR4172およびプラ
スチック・シールド材評価器TR17301Aを用い
て、前記プラスチック・シールド材評価器TR1730
1Aにプローブアンテナをセットして、300MHzに
おける電界波のシールド効果を測定した。この測定法
は、MIL−STD−285に基づいてアドバンテスト
(株)により開発された測定方法である。結果を表1〜
3に示した。
◯: Peeling within 5% Δ: Peeling within 5 to 50% X: Peeling over 50% (4) Shielding effect Advantest Co., Ltd. using the plated square plate
By using a spectrum analyzer TR4172 and a plastic shield material evaluator TR17301A manufactured by
The probe antenna was set to 1A and the shield effect of the electric field wave at 300 MHz was measured. This measuring method is a measuring method developed by Advantest Corporation based on MIL-STD-285. The results are shown in Table 1
Shown in 3.

【0082】[0082]

【表1】 [Table 1]

【0083】[0083]

【表2】 [Table 2]

【0084】[0084]

【表3】 [Table 3]

【0085】(実施例18〜20、比較例16) (1)電気メッキ付着性 実施例18については、前記実施例13に記載の樹脂組
成物と同じ樹脂組成物を用いて、実施例19について
は、前記実施例14に記載の樹脂組成物と同じ樹脂組成
物を用いて、実施例20については、前記実施例15に
記載の樹脂組成物と同じ樹脂組成物を用いて、および比
較例16については、前記比較例14に記載の樹脂組成
物と同じ樹脂組成物を用いて、それぞれペレットを調製
し、これらのペレットを射出成形方法により成形して縦
横が150×150mmであり、厚みが3mmである角
板を得た。この角板に、前記実施例1におけるのと同様
の<メッキライン>を経て無電解メッキを行い、次いで
以下の<電気メッキライン>に従って電気メッキを行っ
た。この角板における電気メッキの付着した面積の比率
を測定した。結果を表4に示した。
(Examples 18 to 20, Comparative Example 16) (1) Electroplating Adhesiveness In Example 18, the same resin composition as that described in Example 13 was used, and in Example 19 Using the same resin composition as the resin composition described in Example 14 above, for Example 20 using the same resin composition as the resin composition described above in Example 15, and Comparative Example 16 For the above, using the same resin composition as the resin composition described in Comparative Example 14, pellets were respectively prepared, and these pellets were molded by an injection molding method to have a length and width of 150 × 150 mm and a thickness of 3 mm. I got a square plate. This square plate was electroless plated through the same <plating line> as in Example 1, and then electroplated according to the following <electroplating line>. The ratio of the area where the electroplating was adhered on this square plate was measured. The results are shown in Table 4.

【0086】〈12〉硫酸銅浴に室温で50分間浸漬
(電流密度;3A/dm2 ) 〈13〉30分間の水洗 〈14〉半光沢ニッケル浴に50℃で9分間浸漬(電流
密度;4A/dm2 ) 〈15〉光沢ニッケル浴に50℃で9分間浸漬(電流密
度;4A/dm2 ) 〈16〉30分間の水洗 〈17〉クロム浴に45℃で1.5分間浸漬(電流密
度;15A/dm2 ) 〈18〉30分間の水洗 〈19〉80℃で60分間の乾燥 (2)電気メッキ密着性 前記の電気メッキされた角板を用いてテープ試験を行っ
た。角板のメッキ表面に10mm幅の粘着テープを粘着
してから90度剥離試験を行った。剥離速度は50mm
/分であった。剥離強度が0.8kg/cm以上である
と、実用レベルであると評価した。この剥離強度は市販
ABSにおけるメッキの剥離強度のレベルに対応する。
<12> Immersion in copper sulfate bath at room temperature for 50 minutes (current density; 3 A / dm 2 ) <13> Washing with water for 30 minutes <14> Immersion in semi-bright nickel bath at 50 ° C. for 9 minutes (current density; 4 A) / Dm 2 ) <15> Immersed in bright nickel bath at 50 ° C for 9 minutes (current density; 4 A / dm 2 ) <16> Washed for 30 minutes <17> Immersed in chromium bath at 45 ° C for 1.5 minutes (current density 15A / dm 2 ) <18> Washing with water for 30 minutes <19> Drying at 80 ° C. for 60 minutes (2) Electroplating adhesion A tape test was conducted using the above electroplated square plate. A 90 mm peel test was performed after the 10 mm width adhesive tape was adhered to the plated surface of the square plate. Peeling speed is 50 mm
/ Min. The peel strength of 0.8 kg / cm or more was evaluated as a practical level. This peel strength corresponds to the level of peel strength of the plating on commercial ABS.

【0087】[0087]

【表4】 [Table 4]

【0088】[0088]

【発明の効果】この発明によると、ABS樹脂成形品の
メッキラインのような簡単なメッキラインにより、電磁
波シールド効果に優れ、メッキ密着性に優れた、メッキ
を有する成形体を得ることができるメッキ用樹脂組成物
を提供することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to obtain a molded product having a plating, which is excellent in electromagnetic wave shielding effect and plating adhesion, by a simple plating line such as a plating line for ABS resin molded products. A resin composition for use can be provided.

【0089】この発明によると、熱可塑性樹脂がどのよ
うな種類であっても、ABS樹脂成形体のメッキライン
のような簡単なメッキラインで成形体に、密着性良くメ
ッキを施すことのできるメッキ方法を提供することがで
きる。
According to the present invention, plating can be applied to a molded product with good adhesion by using a simple plating line such as a plating line of an ABS resin molded product, regardless of the type of the thermoplastic resin. A method can be provided.

【0090】この発明によると、種々の樹脂から得られ
る成形体の表面にメッキされた成形体を提供することが
できる。
According to the present invention, it is possible to provide a molded product obtained by plating the surface of a molded product obtained from various resins.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 25/04 KFZ 69/00 KKK C23C 18/16 A ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C08L 25/04 KFZ 69/00 KKK C23C 18/16 A

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱可塑性樹脂100重量部、およびカチ
オン系界面活性剤0.1〜15重量部を含有することを
特徴とするメッキ用樹脂組成物。
1. A resin composition for plating comprising 100 parts by weight of a thermoplastic resin and 0.1 to 15 parts by weight of a cationic surfactant.
【請求項2】 熱可塑性樹脂100重量部に対してさら
に滑剤0.01〜5重量部および/または高融点化合物
1〜500重量部を含有してなる前記請求項1に記載の
メッキ用樹脂組成物。
2. The resin composition for plating according to claim 1, further comprising 0.01 to 5 parts by weight of a lubricant and / or 1 to 500 parts by weight of a high melting point compound with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin. object.
【請求項3】 前記カチオン系界面活性剤が第4級アン
モニウム塩である前記請求項1に記載のメッキ用樹脂組
成物。
3. The plating resin composition according to claim 1, wherein the cationic surfactant is a quaternary ammonium salt.
【請求項4】 前記熱可塑性樹脂がポリオレフィン、ポ
リスチレンおよびポリカーボネートよりなる群から選択
される少なくとも一種である前記請求項1に記載のメッ
キ用樹脂組成物。
4. The plating resin composition according to claim 1, wherein the thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of polyolefin, polystyrene and polycarbonate.
【請求項5】 請求項1または請求項2に記載のメッキ
用樹脂組成物を成形して得られる成形体をメッキ処理す
ることを特徴とする成形体のメッキ方法。
5. A method for plating a molded body, which comprises subjecting a molded body obtained by molding the resin composition for plating according to claim 1 or 2 to a plating treatment.
【請求項6】 請求項5に記載のメッキ方法によりメッ
キされたメッキ成形体。
6. A plated molded body plated by the plating method according to claim 5.
JP6138905A 1993-06-30 1994-06-21 Resin composition for plating, method for plating molded article, and plated molded article Expired - Fee Related JP3052038B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6138905A JP3052038B2 (en) 1993-06-30 1994-06-21 Resin composition for plating, method for plating molded article, and plated molded article

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16095393 1993-06-30
JP5-160953 1993-06-30
JP6138905A JP3052038B2 (en) 1993-06-30 1994-06-21 Resin composition for plating, method for plating molded article, and plated molded article

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0770446A true JPH0770446A (en) 1995-03-14
JP3052038B2 JP3052038B2 (en) 2000-06-12

Family

ID=26471845

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6138905A Expired - Fee Related JP3052038B2 (en) 1993-06-30 1994-06-21 Resin composition for plating, method for plating molded article, and plated molded article

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3052038B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000336274A (en) * 1999-05-27 2000-12-05 Sanyo Chem Ind Ltd Modifier composition for resin molded article and resin molded article
JP2010223852A (en) * 2009-03-25 2010-10-07 Toshiba Corp Electric inspection probe, manufacturing method of the same and manufacturing method of semiconductor device
JP2019108428A (en) * 2017-12-15 2019-07-04 コニカミノルタ株式会社 Thermoplastic resin composition and molded body

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000336274A (en) * 1999-05-27 2000-12-05 Sanyo Chem Ind Ltd Modifier composition for resin molded article and resin molded article
JP2010223852A (en) * 2009-03-25 2010-10-07 Toshiba Corp Electric inspection probe, manufacturing method of the same and manufacturing method of semiconductor device
JP2019108428A (en) * 2017-12-15 2019-07-04 コニカミノルタ株式会社 Thermoplastic resin composition and molded body

Also Published As

Publication number Publication date
JP3052038B2 (en) 2000-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4910072A (en) Selective catalytic activation of polymeric films
JP5177426B2 (en) Composition for etching treatment for resin molding
CN101195911B (en) Preprocessing solution and method for forming coating metal layer on substrate with plastic surface
JP6317090B2 (en) Method for electroless plating and solution used therefor
JP2021511398A (en) Polyphenylene sulfide resin composition, its production method and injection molded products produced from it.
JP4815822B2 (en) Method for producing composite thermoplastic resin plated molded article
JP3052038B2 (en) Resin composition for plating, method for plating molded article, and plated molded article
TWI404475B (en) Selective deposition of metal on plastic substrates
US3655433A (en) Platable polymers
US5075037A (en) Selective catalytic activation of polymeric films
JP2022099719A (en) Polypropylene resin composition, polypropylene resin object to be plated, polypropylene resin product having metal layer, method for manufacturing the same, polypropylene resin wiring base material and method for manufacturing the same
KR102439968B1 (en) Thermoplastic resin composition, method for preparing thereof and molding products comprising thereof
JP2791935B2 (en) Communication equipment housing
JP2581543B2 (en) Method for producing plated wholly aromatic polyester liquid crystal polymer molded article
JP3487484B2 (en) Plated molded body, resin composition for plated molded body, and method for producing plated molded body
US3562118A (en) Metal plated plastics and process therefor
US3499881A (en) Electroplatable polyolefins
JPS623173B2 (en)
US3567532A (en) Acidic conditioner for plastic materials
JPH10272727A (en) Partially plated product and its manufacture
JP7138880B1 (en) Electroless plating method
JP2000302616A (en) Antibacterial resin composition, antibacterial composition and molded product therefrom
JP2000212759A (en) Plated product of urethane resin and its plating method
JP2011068995A (en) Plating method for aromatic polycarbonate based resin molding, and plated molding
JPS60155681A (en) Method for sticking catalyst for electroless plating to polyamide resin

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090407

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090407

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100407

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100407

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110407

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130407

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130407

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140407

Year of fee payment: 14

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees