JPH0765527A - Floating magnetic head and its manufacture - Google Patents

Floating magnetic head and its manufacture

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Publication number
JPH0765527A
JPH0765527A JP21239893A JP21239893A JPH0765527A JP H0765527 A JPH0765527 A JP H0765527A JP 21239893 A JP21239893 A JP 21239893A JP 21239893 A JP21239893 A JP 21239893A JP H0765527 A JPH0765527 A JP H0765527A
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JP
Japan
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slide rail
rail
magnetic head
head chip
protective film
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP21239893A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoyuki Yamamoto
尚之 山本
Minoru Takahashi
実 高橋
Ryosuke Furuishi
亮介 古石
Yasuyuki Sagara
泰之 相良
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To eliminate a wrapping work by hands, to improve working efficiency, to mass-produce easily and to enhance quality by layering a thin film on a surface of a slide rail and shaping the slide rail like a crown. CONSTITUTION:A crown is formed on a rail surface 3A so that a central part of a slide rail 3 on a slide face of a head chip 2 of a floating magnetic head projects a predetermined amount DELTAt. At this time, the crown is formed by the thickness of a thin film 5 layered on the rail surface 3A. In order to form the crown, the head chip 2 is accommodated in a U-shaped jig 10 and subjected to sputtering, whereby a side wall 10A of a height H projects from the rail surface 3A and positioned at each end of the slide rail 3. Accordingly, tone thin film 5 is so controlled as to be thick at the central part and thin at both ends. It becomes unnecessary to wrap each rail surface by hands to form a crown, and the working efficiency is improved with irregularities eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、スライドレールのレー
ル面に形成されるクラウン形状が薄膜の成膜、または、
ヘッドチップを撓ますことによって形成される浮上型磁
気ヘッドとその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film having a crown shape formed on a rail surface of a slide rail, or
The present invention relates to a levitation type magnetic head formed by bending a head chip and a method for manufacturing the same.

【0002】近年、磁気ディスク装置では、コンピュー
タの普及に伴い高密度化, 大容量化などの性能の向上が
めざましく、特に、高密度化に於いては磁気ヘッドと、
記録媒体との間の距離の低減が必須条件となる。
In recent years, magnetic disk devices have been remarkably improved in performance such as high density and high capacity with the spread of computers.
Reducing the distance from the recording medium is an essential condition.

【0003】そこで、磁気ヘッドの浮上量は低下される
傾向にあり、また、浮上量の低下するなかで磁気ヘッド
を安定に浮上させるためには、磁気ヘッドと、記録媒体
との接触を避けるよう記録媒体の表面粗さを小さくしな
ければならない。
Therefore, the flying height of the magnetic head tends to decrease, and in order to stably fly the magnetic head while the flying height decreases, it is necessary to avoid contact between the magnetic head and the recording medium. The surface roughness of the recording medium must be reduced.

【0004】しかし、記録媒体の表面粗さを小さくする
と磁気ヘッドと、記録媒体との間に介在される潤滑剤あ
るいは水分の凝着、所謂スティクションが発生して記録
媒体を回転させるモータの駆動が停止したり、或いは、
磁気ヘッドを支持する支持バネが変形するなどの障害が
生じる。
However, when the surface roughness of the recording medium is reduced, the adhesion of the lubricant or water interposed between the magnetic head and the recording medium, so-called stiction, is generated to drive the motor for rotating the recording medium. Stops, or
Problems such as deformation of the support spring that supports the magnetic head occur.

【0005】したがって、このようなスティクションの
発生を回避するよう磁気ヘッドのスライドレールにクラ
ウン形状が形成されるようになった。
Therefore, a crown shape has been formed on the slide rail of the magnetic head so as to avoid the occurrence of such stiction.

【0006】[0006]

【従来の技術】従来は、図8の従来の説明図に示すよう
に形成されていた。図8の(a) は基板の斜視図、(b) は
棒状体の斜視図,(c)はヘッドチップの斜視図である。
2. Description of the Related Art Conventionally, the structure was formed as shown in the conventional explanatory view of FIG. 8A is a perspective view of a substrate, FIG. 8B is a perspective view of a rod-shaped body, and FIG. 8C is a perspective view of a head chip.

【0007】図8の(a) に示すように、AI2O3-TiC セラ
ミック基板1 にコア4A, コイル4Bおよび接続パッド4Cか
ら成る磁気ヘッド素子4 を薄膜法により形成し、このよ
うに形成されたウエハ状のセラミック基板1 を一点鎖線
で示すようにカッテイングすることで図8の(b) に示す
ようにスライド面2Bとなる側にはスライドレール3 が形
成される棒状体1Aの加工が行われる。
As shown in FIG. 8 (a), a magnetic head element 4 consisting of a core 4A, a coil 4B and a connection pad 4C is formed on an AI 2 O 3 -TiC ceramic substrate 1 by a thin film method, and formed in this way. By cutting the formed wafer-shaped ceramic substrate 1 as shown by the one-dot chain line, the rod-shaped body 1A on which the slide rail 3 is formed is formed on the side that becomes the slide surface 2B as shown in FIG. 8 (b). Done.

【0008】次に、棒状体1Aのスライドレール3 のレー
ル面3Aを研磨し、更に一点鎖線で示すカッティングを行
うことで図8の(c) に示すように、ヘッドチップ2 の形
成が行われていた。
Next, the rail surface 3A of the slide rail 3 of the rod-shaped body 1A is polished and further cut by the one-dot chain line to form the head chip 2 as shown in FIG. 8 (c). Was there.

【0009】したがって、ウエハ状のセラミック基板1
をカッティングすることで背面2B側はフラットに、スラ
イド面2A側にはスライドレール3 が形成され、スライド
レール3 の端面の所定箇所には磁気ヘッド素子4 が設け
られるように構成された複数のヘッドチップ2 を同時に
製造することが行われていた。
Therefore, the wafer-shaped ceramic substrate 1
By cutting the head, the back surface 2B side is flat, the slide rail 3 is formed on the slide surface 2A side, and the magnetic head element 4 is provided at a predetermined position on the end surface of the slide rail 3. Chip 2 was being manufactured at the same time.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このようなウ
エハ状のセラミック基板1 をカッティングすることでヘ
ッドチップ2 を形成する場合は、カッティングの際に生
じるスライドレール3 に於けるスライド面3Aの歪みを除
去すると共に、前述のクラウン形状の形成を行うようヘ
ッドチップ2 の一個一個のレール面3Aをハンドラップす
ることが行われていた。
However, when the head chip 2 is formed by cutting such a wafer-shaped ceramic substrate 1, the distortion of the slide surface 3A on the slide rail 3 caused by the cutting occurs. In addition to removing the above, the rail surface 3A of each head chip 2 has been hand-wrapped so as to form the above-mentioned crown shape.

【0011】このようなハンドラップ作業は、能率が悪
く、かつ、熟練を要するため、品質にバラツキが生じ、
しかも、量産性が得られない問題を有していた。更に、
レール面3Aには磁気ヘッド素子4 のコア4Aが露出される
ているのでハンドラップ作業によってリセスが生じた
り、または、腐食が発生し易くなる問題を有していた。
[0011] Such hand wrapping work is inefficient and requires skill, resulting in variations in quality.
Moreover, there is a problem that mass productivity cannot be obtained. Furthermore,
Since the core 4A of the magnetic head element 4 is exposed on the rail surface 3A, there is a problem that a recess is caused by hand lapping work or corrosion is likely to occur.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】図1は本第1の発明の原
理説明図で、図2は本第2の発明の原理説明図であり、
図1に示すように、スライド面にスライドレール3 を有
するよう形成されるヘッドチップ2 の所定箇所に磁気ヘ
ッド素子4 を備え、該スライドレール3 の長さ方向の中
央部が所定量Δt突出するよう該スライドレール3 のレ
ール面3Aにクラウン形状が形成される浮上型磁気ヘッド
であって、前記クラウン形状が前記レール面3Aに積層さ
れる薄膜5 の厚みによって形成されるように、また、図
2の(a)に示すように、ヘッドチップ2 を撓ませること
でクラウン形状の形成が行われるよう該ヘッドチップ2
に内部応力の作用を行う保護膜6 がスライドレールのレ
ール面3Aに形成されるように、または、図2の(b) に示
すように、ヘッドチップ2を撓ませることでクラウン形
状の形成が行われるようレール面3Aと、スライドレール
3 が形成された反対側となる背面2Bとに逆方向の内部応
力を有する保護膜6が形成されるように構成し、更に、
前記薄膜5 の形成に際しては、前記ヘッドチップ2 を側
壁10A を有するコの字状の治具10に収納することでスパ
ッタリングを行い、該側壁10A の高さH を前記レール面
3Aより突出させると共に、該側壁10Aを前記スライドレ
ール3 の両端に位置させることで該薄膜5 の厚みが該ス
ライドレール3 の中央部では厚く、両端部では薄くなる
よう制御されるように、また、前記保護膜6 は前記ヘッ
ドチップ2 を形成する棒状体1Aの表面にスパッタリング
またはCVDにより成膜することで形成するか、更に、
背面にスパッタリングによる成膜することで形成される
ように、または、前記保護膜6 が成膜された短冊状板部
材11A の複数を積層することで前記ヘッドチップ2 の形
成を行う基板11を形成し、該基板11に前記磁気ヘッド素
子4 の形成を行い、次に、該基板11をカッティングする
該ヘッドチップ2 の形成によって、前記レール面3Aに該
保護膜6 が形成されるようにしたものである。
FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the first invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating the principle of the second invention.
As shown in FIG. 1, a magnetic head element 4 is provided at a predetermined position of a head chip 2 formed to have a slide rail 3 on a slide surface, and a central portion in the length direction of the slide rail 3 projects a predetermined amount Δt. In the flying magnetic head in which a crown shape is formed on the rail surface 3A of the slide rail 3, the crown shape is formed by the thickness of the thin film 5 laminated on the rail surface 3A. 2 (a), the head chip 2 is bent so that the crown shape is formed by bending the head chip 2.
As shown in FIG. 2B, the protective film 6 that exerts an internal stress is formed on the rail surface 3A of the slide rail, or the head chip 2 is bent to form a crown shape. Rail surface 3A and slide rail as done
The protective film 6 having an internal stress in the opposite direction is formed on the back surface 2B on the opposite side where 3 is formed, and further,
When the thin film 5 is formed, the head chip 2 is housed in a U-shaped jig 10 having a side wall 10A to perform sputtering, and the height H of the side wall 10A is set to the rail surface.
By projecting the side wall 10A at both ends of the slide rail 3 while projecting it from 3A, the thickness of the thin film 5 is controlled to be thick at the center of the slide rail 3 and thin at both ends. The protective film 6 is formed on the surface of the rod-shaped body 1A forming the head chip 2 by sputtering or CVD, or further,
The substrate 11 for forming the head chip 2 is formed so as to be formed by forming a film on the back surface by sputtering, or by laminating a plurality of strip-shaped plate members 11A on which the protective film 6 is formed. Then, the magnetic head element 4 is formed on the substrate 11, and then the head chip 2 for cutting the substrate 11 is formed so that the protective film 6 is formed on the rail surface 3A. Is.

【0013】このように構成すことで前述の課題は解決
される。
With this configuration, the above-mentioned problems can be solved.

【0014】[0014]

【作用】即ち、第1の発明に於いては、スライドレール
3 のレール面3Aに薄膜5 を積層することでクラウン形状
の形成が行われるようにしたものであり、また、このよ
うな薄膜5 の積層によりクラウン形状を形成すること
は、ヘッドチップ2 を側壁10A を有するコの字状の治具
10に収納し、スパッタリングを行い、側壁10A に近接し
たスライドレール3 の端面では膜厚みが薄く、中央部で
は膜厚みが厚くなるようにすることで容易に形成するこ
とが行える。
Operation: That is, in the first invention, the slide rail
The thin film 5 is laminated on the rail surface 3A of 3 to form the crown shape. Also, by forming such a thin film 5 to form the crown shape, the head chip 2 is formed on the side wall. U-shaped jig with 10A
It can be easily formed by housing in 10 and performing sputtering so that the film thickness is thin on the end face of the slide rail 3 close to the side wall 10A and thick on the center part.

【0015】したがって、一個一個ハンドラップをする
ことでレール面3Aにクラウン形状を形成することに比較
して、品質および作業能率の向上が図れ、量産性を良く
することができる。
Therefore, as compared with forming a crown shape on the rail surface 3A by hand-wrapping each piece, quality and work efficiency can be improved and mass productivity can be improved.

【0016】また、第2の発明に於いては、ヘッドチッ
プ2 のレール面3Aに保護膜6 を形成するか、または、ヘ
ッドチップ2 のレール面3Aと、背面2Bとに保護膜6 を形
成し、保護膜6 の内部応力によってヘッドチップ2 を撓
ませることでクラウン形状の形成が行われるようにした
ものであり、このような保護膜6 は、ヘッドチップ2を
形成する棒状体1AにスパッタリングまたはCVD によって
成膜することで形成され、棒状体1Aをカッティングする
ことでヘッドチップ2 の形成を行った時、スライドレー
ル3 のレール面3Aおよびレール面3Aと背面2Bとに保護膜
6 の形成が行われるように、また、レール面3Aと背面2B
とに保護膜6 の形成を行う場合は、互いの保護膜6 に於
ける内部応力は逆方向になるように、或いは、予め、ス
パッタリングを行うことで保護膜6 の形成された短冊状
部材11A を積層することで基板11を形成し、基板11に磁
気ヘッド素子4 を形成し、ヘッドチップ2 を形成する基
板11のカッティングよってレール面3Aに保護膜6 の形成
が行われるようにしたものである。
In the second aspect of the invention, the protective film 6 is formed on the rail surface 3A of the head chip 2, or the protective film 6 is formed on the rail surface 3A of the head chip 2 and the back surface 2B. However, the crown shape is formed by bending the head chip 2 by the internal stress of the protective film 6, and such a protective film 6 is formed on the rod-shaped body 1A forming the head chip 2 by sputtering. Alternatively, when the head chip 2 is formed by cutting the rod-shaped body 1A by CVD, a protective film is formed on the rail surface 3A of the slide rail 3 and on the rail surface 3A and the back surface 2B.
Also, the rail surface 3A and the rear surface 2B so that the formation of 6 is performed.
When the protective film 6 is formed on the and the protective film 6, the strip-shaped member 11A on which the protective film 6 is formed is formed so that the internal stresses in the protective films 6 are opposite to each other or by performing sputtering in advance. The magnetic head element 4 is formed on the substrate 11 by laminating the substrate 11 and the protective film 6 is formed on the rail surface 3A by cutting the substrate 11 forming the head chip 2. is there.

【0017】したがって、このような保護膜6 の形成
は、前述の薄膜5 の形成と同様、容易に行うことができ
るので、品質、作業能率、並びに、量産性の向上を図る
ことができる。
Therefore, the formation of such a protective film 6 can be easily performed as in the case of forming the above-mentioned thin film 5, so that the quality, the work efficiency and the mass productivity can be improved.

【0018】[0018]

【実施例】以下本発明を図3〜図7を参考に詳細に説明
する。図3は本第1の発明による一実施例の説明図で、
(a) は斜視図,(b)は治具の斜視図, 図4は本発明の薄膜
形成説明図で、(a)(b1)(b2)(b3) は側面図, 図5は本第
2の発明による一実施例の説明図で、(a)(b)は斜視図,
図6は本発明の保護膜形成説明図(その1)で、(a) は
棒状体の斜視図, (b) は棒状体の取付説明図,(c)は成膜
説明図、図7は本発明の保護膜形成説明図(その2)
で、(a) は板部材の斜視図,(b)は基板の平面図,(c)は磁
気ヘッド素子の形成図,(d)はカッティングの説明図であ
る。全図を通じて、同一符号は同一対象物を示す。
The present invention will be described in detail below with reference to FIGS. FIG. 3 is an explanatory view of an embodiment according to the first invention,
(a) is a perspective view, (b) is a perspective view of a jig, FIG. 4 is an explanatory view of the thin film formation of the present invention, (a) (b1) (b2) (b3) is a side view, and FIG. 2 is an explanatory view of an embodiment according to the invention of FIG. 2, (a) and (b) are perspective views,
6A and 6B are explanatory views (No. 1) of forming a protective film of the present invention. (A) is a perspective view of a rod-shaped body, (b) is an attachment explanatory diagram of the rod-shaped body, (c) is a film formation explanatory diagram, and FIG. Illustration of formation of protective film of the present invention (Part 2)
Here, (a) is a perspective view of a plate member, (b) is a plan view of a substrate, (c) is a formation view of a magnetic head element, and (d) is an explanatory view of cutting. Throughout the drawings, the same reference numerals denote the same objects.

【0019】本第1の発明は図3の(a) に示すように、
ヘッドチップ2 の一面には平坦な背面2Bが、他面にはス
ライドレール3 を形成するスライド面が形成され、スラ
イドレール3 の端面には薄膜技術によって形成されたコ
ア4A, コイル4B, 接続パッド4Cとより成る磁気ヘッド素
子4 が設けられることで形成され、スライドレール3の
レール面3Aには薄膜5 が積層され、薄膜5 の厚みは、ス
ライドレール3 の両端面部では厚みが薄く、中央部では
厚くなるよう中央部が所定突出量Δt となるクラウン形
状がレール面3Aに形成されるようにしたものである。
The first aspect of the present invention is as shown in FIG.
A flat back surface 2B is formed on one surface of the head chip 2, and a slide surface forming a slide rail 3 is formed on the other surface, and a core 4A, a coil 4B and a connection pad formed by thin film technology are formed on the end surface of the slide rail 3. It is formed by providing the magnetic head element 4 consisting of 4C, and the thin film 5 is laminated on the rail surface 3A of the slide rail 3, and the thickness of the thin film 5 is thin on both end surfaces of the slide rail 3 In the above, the rail surface 3A is formed with a crown shape in which the central portion has a predetermined protrusion amount Δt so as to be thick.

【0020】また、このような薄膜5 によりレール面3A
にクラウン形状を形成することは、図3の(b) に示すよ
うに、前述のセラミック基板1 からカッティングするこ
とで形成された棒状体1Aを高さH の側壁10A を有するコ
の字状の治具10に収納し、開口10B からスパッタリング
を行うことで形成し、スパッタリングによってスライド
レール3 のスライド面3Aに薄膜5 によるクラウン形状を
形成後、カッティングすることでヘッドチップ2 の形成
を行う。
Moreover, the rail surface 3A is formed by such a thin film 5.
As shown in FIG. 3 (b), the rod-shaped body 1A formed by cutting from the above-mentioned ceramic substrate 1 is formed into a U-shape having a side wall 10A of height H as shown in FIG. 3 (b). The head chip 2 is formed by accommodating it in a jig 10 and performing sputtering from the opening 10B, forming a crown shape by the thin film 5 on the slide surface 3A of the slide rail 3 by sputtering, and then cutting.

【0021】この場合のスパッタリングは、図4の(a)
に示すように、棒状体1 を収納した治具10をスパッタリ
ング装置のホルダ16に固着し、治具10の開口10B がター
ゲット12に対向するように位置決めすることで行い、ス
パッタ雰囲気ガス中に飛散する矢印F に示す様々な方向
のスパッタ粒子の斜め方向の成分は側壁10A によって遮
断されることになる。
In this case, the sputtering is carried out as shown in FIG.
As shown in Fig. 3, the jig 10 containing the rod-shaped body 1 is fixed to the holder 16 of the sputtering device, and the opening 10B of the jig 10 is positioned so as to face the target 12. The oblique components of the sputtered particles in various directions indicated by arrow F are blocked by the side wall 10A.

【0022】そこで、開口10B の中央部では薄膜5 の厚
みが厚く、側壁10A の近傍では、厚みが薄くなりクラウ
ン形状の形成を行うことができるが、スパッタ粒子の斜
め方向の成分のカットによるクラウン形状の形成を、よ
り効率良く行うためには、ターゲット12の表面積が棒状
体1Aの表面積よりも十分に大きく、かつ、棒状体1Aの成
膜面と、ターゲット12の表面との距離L が極力小さいこ
とが望ましい。
Therefore, the thin film 5 is thick in the central portion of the opening 10B and thin in the vicinity of the side wall 10A so that a crown shape can be formed, but the crown is formed by cutting the components of the sputtered particles in the oblique direction. In order to form the shape more efficiently, the surface area of the target 12 is sufficiently larger than the surface area of the rod-shaped body 1A, and the distance L between the film-formed surface of the rod-shaped body 1A and the surface of the target 12 is as small as possible. Smaller is desirable.

【0023】通常、ウエハ状の基板1 は3in 〜4in の径
に形成され、スライドレール3 の長さが4mm 程度に形成
されるので棒状体1Aのサイズは4 ×100mm 程度となる。
そこで、ターゲット12の表面積が棒状体1Aの表面積より
も十分に大きくなるようターゲット12として8in の径の
カーボンを使用し、棒状体1Aの成膜面と、ターゲット12
の表面との距離L が20mmになるよう位置決めすることで
スライドレール3 の長さが4mm であれば、側壁10A の突
出高さが2mm の場合は、スライドレール3 の中心から45
°以内のターゲット面からの入射粒子が蒸着され、側壁
10A から1mm の距離の箇所では60°以内のターゲット面
からの入射粒子が蒸着され、側壁10A に接する端部の箇
所では垂直な入射粒子のみが蒸着されることになり、ク
ラウン形状の形成が行われることが明らかである。
Usually, the wafer-shaped substrate 1 is formed to have a diameter of 3 to 4 inches, and the slide rail 3 is formed to have a length of about 4 mm, so that the rod-shaped body 1A has a size of about 4 × 100 mm.
Therefore, carbon having a diameter of 8 in is used as the target 12 so that the surface area of the target 12 is sufficiently larger than the surface area of the rod-shaped body 1A.
If the slide rail 3 has a length of 4 mm by positioning so that the distance L from the surface of the slide rail is 20 mm, then if the protruding height of the side wall 10A is 2 mm, the distance from the center of the slide rail 3 is 45 mm.
Incident particles from the target surface within a
Incident particles from the target surface within 60 ° are deposited at a position 1 mm away from 10A, and only vertical incident particles are deposited at the end part in contact with the side wall 10A, so that a crown shape is formed. It is obvious that

【0024】また、スパッタ装置では、図4の(b1)(b2)
(b3)に示すように、治具10を固着するホルダ16が回動さ
れる場合があり、この場合でも、図4の(b1)と(b3)とに
示す治具10が傾斜時は、一方の側壁10A に近接したレー
ル面3Aには入射粒子が蒸着されないため、レール面3Aの
端面では膜厚が薄く、中央部の膜厚が厚くなり、治具10
が図4の(b1)(b2)(b3)に示すように回動されてもクラウ
ン形状の形成が行えることになる。
Further, in the sputtering apparatus, (b1) (b2) in FIG.
As shown in (b3), the holder 16 for fixing the jig 10 may be rotated. Even in this case, when the jig 10 shown in (b1) and (b3) of FIG. 4 is inclined, Since incident particles are not vapor-deposited on the rail surface 3A close to one side wall 10A, the film thickness is small at the end surface of the rail surface 3A, and the film thickness at the central portion is large.
The crown shape can be formed even if the rotation is performed as shown in (b1) (b2) (b3) of FIG.

【0025】実際には、スパッタ装置のチャンバー内を
10-6Torr以下に排気し、Ar90%,CH410%の雰囲気ガスを
10-3Torr迄注入し、1KW の直流電源P を投入して成膜を
行った所、薄膜5 は、アモルファス構造のカーボン膜
で、電気絶縁性が高く、しかも、硬い膜を形成すること
ができ、耐久性があり、放電現象なども回避することが
できる良好な薄膜5 の形成が行えることが確認された。
Actually, the inside of the chamber of the sputtering apparatus is
Evacuate below 10 -6 Torr and use Ar 90%, CH 4 10% atmosphere gas.
When the film was formed by injecting up to 10 -3 Torr and applying a DC power supply P of 1 KW, the thin film 5 is a carbon film with an amorphous structure, and it is possible to form a hard film with high electrical insulation. It was confirmed that a good thin film 5 that can be formed, has durability, and can avoid a discharge phenomenon and the like can be formed.

【0026】また、このように構成するとコア4Aが露出
されるレール面3Aの箇所では薄膜5の厚みは薄く形成さ
れ、薄膜5 によって記録再生特性が損なわれるような悪
影響を与えることなく、しかも、コア4Aの腐食, 磨耗を
防ぐことが行える。
Further, with this structure, the thin film 5 is thinly formed at the portion of the rail surface 3A where the core 4A is exposed, so that the thin film 5 does not adversely affect the recording / reproducing characteristics, and Corrosion and wear of the core 4A can be prevented.

【0027】尚、本第1の発明の説明では、カーボン膜
によって形成することを説明したが、他に、例えば、Si
O2,Zr2,Al2O2などによって薄膜5 を形成することも行
え、同様の効果を得ることができる。
In the description of the first aspect of the present invention, the carbon film is used for the formation.
The thin film 5 can be formed of O 2 , Zr 2 , Al 2 O 2, etc., and the same effect can be obtained.

【0028】更に、第2の発明は、図5の(a) に示すよ
うに、磁気ヘッド素子4 が設けられたヘッドチップ2 の
スライド面2Aに形成されたスライドレール3 のレール面
3Aに保護膜6 を形成し、保護膜6 の内部応力の作用によ
りヘッドチップ2 を撓ませることで突出量Δt のクラウ
ン形状が形成されるようにしたものである。
Furthermore, the second aspect of the present invention is, as shown in FIG. 5A, a rail surface of a slide rail 3 formed on a slide surface 2A of a head chip 2 provided with a magnetic head element 4.
A protective film 6 is formed on 3A, and the head chip 2 is bent by the action of internal stress of the protective film 6 so that a crown shape having a protrusion amount Δt is formed.

【0029】また、図5の(b) の場合は、磁気ヘッド素
子4 が設けられたヘッドチップ2 のスライド面2Aに形成
されたスライドレール3 のレール面3Aと、スライド面2A
の反対側となる背面2Bとに保護膜6 を形成し、レール面
3Aと、背面2Bとの両面に形成さた強化膜6 の内部応力の
作用によりヘッドチップ2 を撓ませることで突出量Δt
のクラウン形状が形成されるようにしたものである。
Further, in the case of FIG. 5B, the rail surface 3A of the slide rail 3 formed on the slide surface 2A of the head chip 2 provided with the magnetic head element 4 and the slide surface 2A.
Protective film 6 is formed on the back side 2B opposite to
By projecting the head chip 2 by the action of internal stress of the reinforcing film 6 formed on both sides of 3A and the back surface 2B, the protrusion amount Δt
The crown shape is formed.

【0030】このような保護膜6 を成膜することは、図
6の(b) に示すコア4A, コイル4B,接続パッド4Cより成
る磁気ヘッド素子4 が形成された棒状体1Aの複数個を図
6の(b) に示すように、枠13によって保持し、枠13によ
って保持された棒状体1Aを図6の(c) に示すチャンバー
14の内部14A に挿入することで行う。
The formation of such a protective film 6 is performed by forming a plurality of rod-shaped bodies 1A on which a magnetic head element 4 including a core 4A, a coil 4B and a connection pad 4C shown in FIG. 6B is formed. As shown in FIG. 6 (b), the rod-shaped body 1A held by the frame 13 and held by the frame 13 is placed in the chamber shown in FIG. 6 (c).
It is done by inserting it into 14A inside 14A.

【0031】例えば、保護膜6 をSiO2の薄膜によって形
成する場合は、チャンバー14の内部14A の気圧を10-6To
rr以下に排気し、アルゴンガスを10mTorr になるよう注
入し、チャンバー14の内部14A に内設されるターゲット
12としてアルミナ材を使用し、ターゲット12に電力の1K
W を供給する電源供給P によって成膜することができ
る。
For example, when the protective film 6 is formed of a thin film of SiO 2 , the pressure inside the chamber 14A is set to 10 −6 To.
Evacuate below rr, inject argon gas to 10mTorr, and target inside the chamber 14A 14A.
Alumina material is used as 12 and the target 12 has 1K of electric power.
A film can be formed by a power supply P that supplies W.

【0032】このようにして成膜された保護膜6 には、
通常、0.1GP の内部応力を有し、レール面3Aを圧縮させ
る力が作用することになる。この場合の保護膜6 と、ヘ
ッドチップ2 の撓み量との関係式を表すと下記の(1式)
に示すようになる。
The protective film 6 thus formed contains
Normally, it has an internal stress of 0.1 GP and a force that compresses the rail surface 3A acts. In this case, the relational expression between the protective film 6 and the deflection amount of the head chip 2 can be expressed as follows (1 formula)
As shown in.

【0033】但し、E はヘッドチップ2 のヤング率,bは
ヘッドチップ2 の厚み,Lはスライドレール3 の長さ, δ
はスライド面3Aの撓み量, σは強化膜6 の内部応力, ν
はポアソン比,dは保護膜6 の膜厚とすると、 d = Eb2δ/3 σ(1−ν)L2 ・・・・・・・・・(1式) そこで、ヘッドチップ2 をAI2O3-TiC セラミック材によ
って形成し、L を2mm,b を0.5mm,νを0.5,E を4GPaとし
た場合は、1 式によりδを30nmの撓み量にすることはd
を50nmにすることで行うことができる。
Here, E is the Young's modulus of the head chip 2, b is the thickness of the head chip 2, L is the length of the slide rail 3, and δ
Is the amount of deflection of the slide surface 3A, σ is the internal stress of the reinforcing film 6, and ν
Is the Poisson's ratio and d is the thickness of the protective film 6, d = Eb 2 δ / 3 σ (1−ν) L 2・ ・ ・ ・ ・ ・ (Equation 1) 2 O 3 -TiC ceramic material, L is 2 mm, b is 0.5 mm, ν is 0.5, and E is 4 GPa.
Can be set to 50 nm.

【0034】したがって、レール面3Aに膜厚50nmのSiO2
の保護膜6 を形成することでΔt が30nmの突出量となる
クラウン形状を形成することが行える。また、保護膜6
を水素カーボン膜によって形成する場合は、チャンバー
14の内部14A の気圧を10-6Torr以下に排気し、アルゴン
ガスと炭化水素ガス、例えば、メタンの混合ガスを10mT
orr になるよう注入し、チャンバー14の内部14A にカー
ボン材より成るターゲットを内設し、DC電力の1KW の電
源P を供給するスパッタリングによって成膜することが
できる。
Therefore, a SiO 2 film having a film thickness of 50 nm is formed on the rail surface 3A.
By forming the protective film 6 of (3), it is possible to form a crown shape in which Δt has a protrusion amount of 30 nm. Also, the protective film 6
When using a hydrogen carbon film, the chamber
The internal 14A pressure of 14 was evacuated to 10 -6 Torr or less, and a mixed gas of argon gas and hydrocarbon gas such as methane was discharged at 10 mT.
It is possible to form a film by injecting so as to become orr, by providing a target made of a carbon material in the interior 14A of the chamber 14, and by supplying a power P of DC power of 1 KW.

【0035】このような水素カーボン膜による内部応力
は、水素の含有量に応じて、0.3GPa〜1GPaの範囲でコン
トロールすることができるので、1GPaの内部応力を有す
るようにすると1 式より膜厚d を5nm 程度に薄くするこ
とで撓み量δが30nmになるようにすることができる。
The internal stress due to such a hydrogen carbon film can be controlled in the range of 0.3 GPa to 1 GPa according to the hydrogen content, so that if the internal stress is set to 1 GPa, the film thickness is more than The bending amount δ can be set to 30 nm by reducing d to about 5 nm.

【0036】また、水素カーボン膜の場合は、摺動性に
優れ、しかも、強化膜6 はコア4Aを覆うように形成され
るため、膜厚を極力薄く形成することでコア4Aの特性に
悪影響を及ぼすことのないようにすることができる。
Further, in the case of the hydrogen carbon film, the slidability is excellent, and since the reinforcing film 6 is formed so as to cover the core 4A, the characteristics of the core 4A are adversely affected by forming the film as thin as possible. Can be prevented.

【0037】更に、このような水素カーボン膜の成膜
は、プラズマCVD 法によって行うことでも可能であり、
この場合は、チャンバー14の内部14A の気圧を10-4Torr
以下に排気し、アルゴンガスと炭化水素例えばジフェニ
ルエタンの混合ガスを100mTorrになるよう注入し、電極
間にFR電力を100W投入することで行え、このようにして
成膜された保護膜6 は2GPaの内部応力を有するようにす
ることが行え、前述の膜厚d を2.5nm 程度にすることで
撓み量δを30nmすことができる。
Further, the formation of such a hydrogen carbon film can also be performed by a plasma CVD method,
In this case, the pressure inside the chamber 14 14A is set to 10 -4 Torr.
Evacuate below, inject a mixed gas of argon gas and hydrocarbon such as diphenylethane to 100 mTorr, and apply FR power of 100 W between the electrodes.The protective film 6 thus formed is 2 GPa. It is possible to have an internal stress of, and the bending amount δ can be set to 30 nm by setting the film thickness d to about 2.5 nm.

【0038】一方、スライドレール3 のレール面3Aの保
護膜6 の成膜に加え、背面2B側に引張応力となる保護膜
6 を成膜すると更にクラウン形状の突出量Δt を大きく
することができる。
On the other hand, in addition to the formation of the protective film 6 on the rail surface 3A of the slide rail 3, a protective film which causes tensile stress on the rear surface 2B side.
When 6 is deposited, the crown-shaped protrusion amount Δt can be further increased.

【0039】このような引張応力となる保護膜6 は、例
えば、チャンバー14の内部にアルミナ材より成るターゲ
ット12を内設し、アルゴン圧を50mTorr にし、パワー密
度が6W/cm以上となるFR電源を投入するスパッタリング
によって膜厚d を100nm 以上に成膜することで0.4GPaの
引張の内部応力を有することになり、撓み量δを60nmに
することが容易に行える。
The protective film 6 having such a tensile stress is, for example, a FR power source in which a target 12 made of an alumina material is provided inside a chamber 14, an argon pressure is set to 50 mTorr, and a power density is 6 W / cm or more. By depositing a film with a film thickness d of 100 nm or more by sputtering, a tensile internal stress of 0.4 GPa is obtained, and the amount of deflection δ can be easily set to 60 nm.

【0040】更に、スライダレール3 のレール面3Aに保
護膜6 を形成することは、図7の(a) に示すように、前
述のようなスパッタリングまたはCVD によって短冊状の
板部材11A にSiO2膜、または、水素カーボン膜による保
護膜6 の成膜を予め行い、その板部材11A の複数個を強
化膜6 がサンドイッチ状になるよう重ね合わせ、図7の
(b) に示すようにクランパ15によってクランプすること
で基板11を形成し、基板11の表面には図7の(c) に示す
ように、薄膜による磁気ヘッド素子4 の形成を行い、磁
気ヘッド素子4 の形成後は、図7の(d) に示す一点鎖線
のようにカッティングを行うことでヘッドチップ2 の形
成を行うことでレール面3Aに保護膜6 の成膜の形成を行
うことができる。
Further, as shown in FIG. 7A, forming the protective film 6 on the rail surface 3A of the slider rail 3 is carried out by sputtering or CVD as described above to form SiO 2 on the strip-shaped plate member 11A. A protective film 6 made of a film or a hydrogen carbon film is formed in advance, and a plurality of plate members 11A are stacked so that the reinforcing film 6 is sandwiched.
The substrate 11 is formed by clamping with the clamper 15 as shown in (b), and the magnetic head element 4 is formed on the surface of the substrate 11 as shown in (c) of FIG. After the element 4 is formed, the head chip 2 is formed by cutting as shown by the alternate long and short dash line in (d) of FIG. 7 to form the protective film 6 on the rail surface 3A. it can.

【0041】このように形成するとスライドレール3 の
レール面3Aに成膜される保護膜6 の表面に磁気ヘッド素
子4 のコア4Aを露出させるようにすることが行え、前述
のコア4Aが保護膜6 によって覆われる場合に比較して、
磁気ヘッド素子4 の記録再生特性を良好にすることがで
きる。
When formed in this way, the core 4A of the magnetic head element 4 can be exposed on the surface of the protective film 6 formed on the rail surface 3A of the slide rail 3, and the core 4A described above can be used as a protective film. Compared to when covered by 6,
The recording / reproducing characteristics of the magnetic head element 4 can be improved.

【0042】尚、本発明の説明図では、薄膜5 および保
護膜6 の成膜がスライドレール3 のレール面3Aのみに成
膜されるように図示されているが、レール面3Aの成膜と
同時にスライダ面2Aに成膜することでも良く、この場合
でも同等の効果を得ることができる。
Although the thin film 5 and the protective film 6 are formed only on the rail surface 3A of the slide rail 3 in the explanatory view of the present invention, the film formation on the rail surface 3A is not shown. It is also possible to form a film on the slider surface 2A at the same time, and even in this case, the same effect can be obtained.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ス
ライドレールのレール面に成膜する薄膜の厚みによって
クラウン形状の形成を行うように、また、スライドレー
ルのレール面またはスライドレールのレール面と背面と
に保護膜を形成することでヘッドチップを撓ませ、クラ
ウン形状の形成を行うようにしたものであり、レール面
に於けるクラウン形状を容易に形成することができ、し
かも、品質の安定したクラウン形状の形成が行える。
As described above, according to the present invention, the crown shape is formed by the thickness of the thin film formed on the rail surface of the slide rail, and the rail surface of the slide rail or the rail of the slide rail. The head chip is bent by forming a protective film on the surface and the back surface to form the crown shape, and the crown shape on the rail surface can be easily formed, and the quality is improved. It is possible to form a stable crown shape.

【0044】したがって、従来のハンドラップによるク
ラウン形状に比較して、品質,耐久性および量産性の向
上が得られ、実用的効果は大である。
Therefore, in comparison with the conventional crown shape obtained by the hand wrap, the quality, durability and mass productivity are improved, and the practical effect is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本第1の発明の原理説明図FIG. 1 is an explanatory view of the principle of the first invention.

【図2】 本第2の発明の原理説明図FIG. 2 is an explanatory view of the principle of the second invention.

【図3】 本第1の発明による一実施例の説明図FIG. 3 is an explanatory diagram of an embodiment according to the first invention.

【図4】 本発明の薄膜形成説明図FIG. 4 is an explanatory view of forming a thin film of the present invention.

【図5】 本第2の発明による一実施例の説明図FIG. 5 is an explanatory diagram of an embodiment according to the second invention.

【図6】 本発明の保護膜形成説明図(その1)FIG. 6 is an explanatory view (No. 1) of forming a protective film of the present invention.

【図7】 本発明の保護膜形成説明図(その2)FIG. 7 is an explanatory view (No. 2) of forming a protective film of the present invention.

【図8】 従来の説明図FIG. 8 is a conventional explanatory diagram.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 ヘッドチップ 3 スライドレ
ール 4 磁気ヘッド素子 5 薄膜 6 保護膜 2B 背面 3A レール面
2 head chip 3 slide rail 4 magnetic head element 5 thin film 6 protective film 2B back surface 3A rail surface

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 相良 泰之 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasuyuki Sagara 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 浮上面にスライドレール(3) を有するよ
う形成されるヘッドチップ(2) の所定箇所に磁気ヘッド
素子(4) を備え、該スライドレール(3) の長さ方向の中
央部が所定量Δt突出するよう該スライドレール(3) の
レール面(3A)にクラウン形状が形成される浮上型磁気ヘ
ッドであって、 前記クラウン形状が前記レール面(3A)に積層される薄膜
(5) の厚みによって形成されることを特徴とする浮上型
磁気ヘッド。
1. A magnetic head element (4) is provided at a predetermined position of a head chip (2) formed so as to have a slide rail (3) on an air bearing surface, and a central portion of the slide rail (3) in the longitudinal direction. Is a flying magnetic head in which a crown shape is formed on the rail surface (3A) of the slide rail (3) so that the crown shape protrudes by a predetermined amount Δt, and the crown shape is a thin film laminated on the rail surface (3A).
A floating magnetic head formed by the thickness of (5).
【請求項2】 浮上面にスライドレール(3) を有するよ
う形成されるヘッドチップ(2) の所定箇所に磁気ヘッド
素子(4) を備え、該スライドレール(3) の長さ方向の中
央部が所定量Δt突出するよう該スライドレール(3) の
レール面(3A)にクラウン形状が形成される浮上型磁気ヘ
ッドであって、 前記ヘッドチップ(2) を撓ませることで前記クラウン形
状の形成が行われるよう該ヘッドチップ(2) に内部応力
の作用を行う強化膜(6) が前記レール面(3A)に形成され
ることを特徴とする浮上型磁気ヘッド。
2. A magnetic head element (4) is provided at a predetermined position of a head chip (2) formed to have a slide rail (3) on an air bearing surface, and the slide rail (3) has a central portion in the longitudinal direction. Is a flying magnetic head in which a crown shape is formed on the rail surface (3A) of the slide rail (3) so as to project a predetermined amount Δt, and the crown shape is formed by bending the head chip (2). The flying magnetic head characterized in that a reinforcing film (6) for exerting an internal stress action on the head chip (2) is formed on the rail surface (3A) so as to perform the above.
【請求項3】 浮上面にスライドレール(3) を有するよ
う形成されるヘッドチップ(2) の所定箇所に磁気ヘッド
素子(4) を備え、該スライドレール(3) の長さ方向の中
央部が所定量Δt突出するよう該スライドレール(3) の
レール面(3A)にクラウン形状が形成される浮上型磁気ヘ
ッドであって、 前記ヘッドチップ(2) を撓ませることで前記クラウン形
状の形成が行われるよう前記レール面(3A)と、前記スラ
イドレール(3) が形成された反対側となる背面(2B)とに
逆方向の内部応力を有する保護膜(6) が成膜されること
を特徴とする浮上型磁気ヘッド。
3. A magnetic head element (4) is provided at a predetermined position of a head chip (2) formed to have a slide rail (3) on an air bearing surface, and the slide rail (3) has a central portion in the longitudinal direction. Is a flying magnetic head in which a crown shape is formed on the rail surface (3A) of the slide rail (3) so as to project a predetermined amount Δt, and the crown shape is formed by bending the head chip (2). So that the rail surface (3A) and the back surface (2B) opposite the slide rail (3) are formed with a protective film (6) having an internal stress in the opposite direction. A floating magnetic head.
【請求項4】 請求項1記載の前記薄膜(5) の形成に際
して、前記ヘッドチップ(2) を側壁(10A) を有するコの
字状の治具(10)に収納することでスパッタリングを行
い、該スパタッタリングに際して、該側壁(10A) の高さ
(H) が前記レール面(3A)より突出されるように形成する
と共に、前記スライドレール(3) の両端に該側壁(10A)
を位置させることで該薄膜(5) の厚みが該スライドレー
ル(3) の中央部では厚く、両端部では薄くなるよう制御
されること特徴とする浮上型磁気ヘッドの製造方法。
4. When forming the thin film (5) according to claim 1, sputtering is performed by accommodating the head chip (2) in a U-shaped jig (10) having a side wall (10A). , The height of the side wall (10A) at the time of the spattering
(H) is formed so as to protrude from the rail surface (3A), and the side walls (10A) are provided at both ends of the slide rail (3).
Is located so that the thickness of the thin film (5) is controlled to be thicker at the center of the slide rail (3) and thinner at both ends of the slide rail (3).
【請求項5】 請求項2記載の前記保護膜(6) は、前記
ヘッドチップ(2) を形成する棒状体(1A)にスパッタリン
グまたはCVDにより成膜することで形成され、成膜
後、該棒状体(1A)をカッティングすることで前記スライ
ド面(3A)に該保護膜(6) の成膜が行われる該ヘッドチッ
プ(2) の形成を行うことを特徴とする浮上型磁気ヘッド
の製造方法。
5. The protective film (6) according to claim 2, which is formed by forming a film on the rod-shaped body (1A) forming the head chip (2) by sputtering or CVD, and after forming the film, Manufacturing of the flying magnetic head, characterized in that the head chip (2) is formed by forming the protective film (6) on the slide surface (3A) by cutting the rod-shaped body (1A). Method.
【請求項6】 請求項3記載の前記保護膜(6) は、前記
ヘッドチップ(2) を形成する棒状体(1A)の表面にスパッ
タリングまたはCVDにより成膜することと、該棒状体
(1A)の背面にスパッタリングにより成膜することとによ
って形成され、該棒状体(1A)をカッティングすることで
前記レール面(3A)と前記背面(2B)とでは逆方向の内部応
力を有する該保護膜(6) の成膜が行われる該ヘッドチッ
プ(2)の形成を行うことを特徴とする浮上型磁気ヘッド
の製造方法。
6. The rod-shaped body according to claim 3, wherein the protective film (6) is formed on the surface of the rod-shaped body (1A) forming the head chip (2) by sputtering or CVD.
(1A) is formed by depositing a film on the back surface by sputtering, and by cutting the rod-shaped body (1A), the rail surface (3A) and the back surface (2B) have internal stresses in opposite directions. A method of manufacturing a flying magnetic head, characterized in that the head chip (2) on which a protective film (6) is formed is formed.
【請求項7】 請求項2記載の前記ヘッドチップ(2) を
形成する基板(11)が予め前記保護膜(6) の成膜された複
数の短冊状板部材(11A) を該保護膜(6) がサンドイッチ
される如く積層することで形成され、該基板(11)に前記
磁気ヘッド素子(4) の形成を行い、次に、該基板(11)を
カッティングし、前記レール面(3A)に該保護膜(6) が露
出されるようにすることで、該保護膜(6) が該レール面
(3A)に成膜される該ヘッドチップ(2) の形成を行うこと
を特徴とする浮上型磁気ヘッドの製造方法。
7. The substrate (11) forming the head chip (2) according to claim 2, is provided with a plurality of strip-shaped plate members (11A) on which the protective film (6) is formed in advance. 6) are laminated so as to be sandwiched, the magnetic head element (4) is formed on the substrate (11), then the substrate (11) is cut, and the rail surface (3A) is formed. By exposing the protective film (6) to the rail surface, the protective film (6) is
A method of manufacturing a flying magnetic head, comprising forming the head chip (2) formed on (3A).
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010113536A (en) * 2000-06-19 2001-12-28 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 Method for manufacturing a structure with curved surfaces
US7130154B2 (en) 1999-12-28 2006-10-31 Alps Electric Co., Ltd. Magnetic head slider having protrusions provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor

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