JPH0763535A - Axis regulating reflecting mirror and axis regulating optical system - Google Patents

Axis regulating reflecting mirror and axis regulating optical system

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JPH0763535A
JPH0763535A JP5210014A JP21001493A JPH0763535A JP H0763535 A JPH0763535 A JP H0763535A JP 5210014 A JP5210014 A JP 5210014A JP 21001493 A JP21001493 A JP 21001493A JP H0763535 A JPH0763535 A JP H0763535A
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JP
Japan
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reticle
axis
optical system
image
shift
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JP5210014A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Katsunuma
淳 勝沼
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Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide an axis regulating optical system in which the inclination of the reflected optical axis of an axis regulating optical system to a standard optical axis can be detected, and the slippage of its parallel shift can be detected. CONSTITUTION:In an axis regulating optical system has a lighting means for lighting a projecting reticule 2 having a prescribed pattern and a collimating optical system 4 for projecting the lighting light through the projecting reticule 2 toward a reflecting means 5 as a parallel luminous flux, the reflecting means has an optical element having a flat surface 5a and a surface 5b having a curvature in order from the axis regulating optical system side.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光学系の光軸や機械的
回転軸の調整に使用される軸調整用光学系に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an axis adjusting optical system used for adjusting an optical axis or a mechanical rotation axis of an optical system.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の軸調整用光学系としては、例えば
図6に示すものが知られている。図6において、光源部
101からの照明光は、例えば十字線等のパターン(指
標)が設けられた投光レチクル102を照明する。そし
て、投光レチクル102を介した照明光は、ハーフプリ
ズム103により反射され、コリメータレンズ104に
より平行光束となり、図示なき被検物体上に設けられた
コリメータミラーCMに向かう。ここで、コリメータミ
ラーCMは、平面鏡にて構成されている。コリメータミ
ラーCMにて反射された反射光は、再びコリメータレン
ズ104を介して、ハーフプリズム103を透過する。
ハーフプリズム103の透過側には、例えば十字線等の
指標が設けられたレチクル107が配置されている。こ
こで、コリメータレンズ104により、投光レチクル1
02とレチクル107とは、共役な配置となっている。
レチクル107の透過側には、接眼レンズEPが設けら
れており、この接眼レンズEPによって、投光レチクル
102の指標の像とレチクル107上に設けられた指標
とのずれの拡大観察が可能となる。これにより、コリメ
ートミラーCMでの反射光の傾きを計測することができ
る。
2. Description of the Related Art As a conventional axis adjusting optical system, for example, one shown in FIG. 6 is known. In FIG. 6, the illumination light from the light source unit 101 illuminates the projection reticle 102 provided with a pattern (index) such as a crosshair. Then, the illumination light that has passed through the projection reticle 102 is reflected by the half prism 103, becomes a parallel light flux by the collimator lens 104, and travels toward a collimator mirror CM provided on an object to be measured (not shown). Here, the collimator mirror CM is composed of a plane mirror. The reflected light reflected by the collimator mirror CM passes through the half prism 103 again via the collimator lens 104.
On the transmission side of the half prism 103, a reticle 107 provided with an index such as a crosshair is arranged. Here, the collimator lens 104 causes the projection reticle 1
02 and the reticle 107 are arranged in a conjugate manner.
An eyepiece lens EP is provided on the transmission side of the reticle 107, and this eyepiece lens EP enables enlarged observation of the deviation between the image of the index of the projection reticle 102 and the index provided on the reticle 107. . Thereby, the tilt of the reflected light on the collimator mirror CM can be measured.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図6に
示す軸調整用光学系においては、コリメートミラーCM
での反射光束の傾き角、すなわち軸調整用光学系の基準
光軸に対するコリメートミラーCMの光軸(反射光軸)
の傾きを測定することは可能であるが、この基準光軸に
対する反射光軸の平行シフト成分のずれを検出すること
ができなかった。
However, in the axis adjusting optical system shown in FIG. 6, the collimating mirror CM is used.
Angle of the reflected light flux at, that is, the optical axis of the collimating mirror CM (reflected optical axis) with respect to the reference optical axis of the axis adjusting optical system
Although it is possible to measure the inclination of, the deviation of the parallel shift component of the reflected optical axis from the reference optical axis could not be detected.

【0004】そこで、本発明は、軸調整用光学系の基準
光軸に対する反射光軸の傾きが検出可能であり、かつそ
の平行シフトのずれが検出可能な軸調整用光学系を提供
することを目的とする。
Therefore, the present invention provides an axis adjusting optical system capable of detecting the tilt of the reflection optical axis with respect to the reference optical axis of the axis adjusting optical system and detecting the deviation of the parallel shift. To aim.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明による軸調整用光学系は、以下の構成を有
する。例えば図1に示す如く、所定のパターンが設けら
れた投光レチクル(2)を照明する照明手段と、投光レ
チクルを介した照明光を反射手段(5)に向けて平行光
束で投射するコリメート光学系(4)とを有する軸調整
用光学系において、反射手段は、軸調整用光学系側から
順に、平面(5a)と曲率を持つ面(5b)とを有する
光学素子を持つように構成される。
In order to achieve the above object, the axis adjusting optical system according to the present invention has the following constitution. For example, as shown in FIG. 1, an illumination means for illuminating a projection reticle (2) provided with a predetermined pattern and a collimator for projecting illumination light through the projection reticle toward a reflecting means (5) as a parallel light beam. In the axis adjusting optical system having the optical system (4), the reflecting means has an optical element having a plane (5a) and a surface (5b) having a curvature in order from the axis adjusting optical system side. To be done.

【0006】[0006]

【作用】上述の如き構成により、軸調整用光学系の基準
軸に対して反射手段(5)の光軸が傾いている場合に
は、反射手段の平面(5a)にて反射された光によりそ
の傾き角(傾き成分のずれ)を検出できる。また、軸調
整用光学系の基準軸と反射手段(5)の光軸とが平行シ
フト成分のずれを持つ場合には、反射手段の曲率を持つ
面(5b)にて反射された光によりその平行シフト成分
のずれを検出できる。
With the above-described structure, when the optical axis of the reflecting means (5) is inclined with respect to the reference axis of the axis adjusting optical system, the light reflected by the plane (5a) of the reflecting means is used. The tilt angle (deviation of the tilt component) can be detected. When the reference axis of the axis adjusting optical system and the optical axis of the reflecting means (5) have a deviation of the parallel shift component, the light reflected by the surface (5b) having the curvature of the reflecting means causes The shift of the parallel shift component can be detected.

【0007】以下、図2を参照してこの原理について述
べる。図2は、軸調整用光学系の測定原理を説明するた
めの斜視図である。図2(a) において、図示なき光源か
らの照明光は、所定パターン(指標)を有する不図示の
投光レチクルを照明する。そして、この投光レチクルか
らの光は、コリメータレンズ4を介して平行光束とな
り、反射手段5に到達する。図2では、反射手段5の平
面5aで反射される光束を実線で表し、反射手段5の曲
率を持つ面5bで反射される光束を破線で表している。
ここで、軸調整用光学系の中心軸(光軸)を基準軸AxS
とし、反射手段5の中心軸(光軸)をAx5 とする。
The principle will be described below with reference to FIG. FIG. 2 is a perspective view for explaining the measurement principle of the axis adjusting optical system. In FIG. 2A, the illumination light from a light source (not shown) illuminates a projection reticle (not shown) having a predetermined pattern (index). Then, the light from the projection reticle becomes a parallel light flux through the collimator lens 4 and reaches the reflecting means 5. In FIG. 2, the light flux reflected by the plane 5a of the reflection means 5 is represented by a solid line, and the light flux reflected by the surface 5b having the curvature of the reflection means 5 is represented by a broken line.
Here, the central axis (optical axis) of the axis adjusting optical system is set to the reference axis Ax S.
And the central axis (optical axis) of the reflecting means 5 is Ax 5 .

【0008】さて、反射手段5の平面5aにて反射され
る光束は、コリメータレンズ4を介して、ティルトレチ
クル7上に集光される。反射手段5の中心軸Ax5 が基準
軸Ax S に対して傾いており、かつ平行シフト成分のずれ
を持つ場合には、投光レチクルの像である指標像I
t は、ティルトレチクル7上の基準軸AxS と交わる箇所
に設けられた指標Pt とは異なる箇所に結像する。ここ
で、図2(b) の如く、指標像It と指標Pt とのずれ量
Δtは、反射手段5の中心軸Ax5 と基準軸AxS との傾き
角(傾き成分のずれ)と対応している。従って、ずれ量
Δtを計測すれば、中心軸Ax5 と基準軸AxS との傾き角
が分かる。
Now, the light is reflected by the flat surface 5a of the reflecting means 5.
The luminous flux that passes through the collimator lens 4
It is focused on the clou 7. Central axis Ax of the reflection means 5FiveIs the standard
Axis Ax SIs tilted with respect to and the shift of the parallel shift component
, The index image I, which is the image of the projection reticle.
tIs the reference axis Ax on the tilt reticle 7.SWhere it intersects
Index P provided intAn image is formed at a different position from. here
Then, as shown in FIG. 2 (b), the index image ItAnd index PtDeviation from
Δt is the central axis Ax of the reflection means 5FiveAnd the reference axis AxSInclination with
Corresponds to the angle (deviation of the tilt component). Therefore, the amount of deviation
If Δt is measured, the central axis AxFiveAnd the reference axis AxSTilt angle with
I understand.

【0009】また、反射手段5の曲率を持つ面5bにて
反射される光束は、コリメータレンズ4を介して、シフ
トレチクル6上に集光される。このとき、投光レチクル
の像である指標像Is はシフトレチクル6の上の基準軸
AxS と交わる箇所に設けられた指標Ps とは異なる箇所
に結像する。ここで、図2(c) の如く、指標像Is と指
標Ps とのずれ量Δsは、反射手段5の中心軸Ax5 と基
準軸AxS との傾き成分のずれと平行シフト成分のずれと
の双方に対応したものとなる。
The light beam reflected by the curved surface 5b of the reflecting means 5 is focused on the shift reticle 6 via the collimator lens 4. At this time, the index image I s, which is the image of the projection reticle, is the reference axis on the shift reticle 6.
The image is formed at a position different from the index P s provided at the position intersecting with Ax S. Here, as shown in FIG. 2 (c), the deviation amount Δs between the index image I s and the index P s is the deviation of the tilt component between the central axis Ax 5 of the reflecting means 5 and the reference axis Ax S and the parallel shift component. It corresponds to both the deviation.

【0010】なお、上述のような軸調整用光学系を用い
て、軸調整用光学系の基準軸AxS に対する反射手段のず
れを調整する場合には、まず、反射手段5の中心軸Ax5
と基準軸AxS との傾きを調整することが望ましい。これ
により、第1レチクル6上のずれ量Δsは、中心軸Ax5
と基準軸AxS との平行シフト成分のずれ量のみに対応す
ることになる。
When adjusting the deviation of the reflecting means with respect to the reference axis Ax S of the axis adjusting optical system using the above-mentioned axis adjusting optical system, first, the central axis Ax 5 of the reflecting means 5 is adjusted.
It is desirable to adjust the inclination between the reference axis and the reference axis Ax S. As a result, the deviation amount Δs on the first reticle 6 becomes smaller than the central axis Ax 5
And the reference axis Ax S only corresponds to the shift amount of the parallel shift component.

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照して本発明による実施例を
説明する。図1は、本発明による第1実施例の軸調整用
光学系の構成図である。図1において、光源とコリメー
タレンズとを有する光源部1は、投光レチクル2を照明
する。ここで、光源部1としては、白色連続光源やレー
ザ光源を適用することができる。投光レチクル2には、
例えば十字線等の指標(パターン)が表面上に設けられ
ており、この十字線指標の中心は、軸調整用光学系の基
準軸と一致している。投光レチクル2からの光は、ハー
フプリズム3で反射された後、投光レチクル2のパター
ン面上に前側焦点が位置するように設けられたコリメー
タレンズ4を介して平行光束となる。なお、本実施例に
おいては、コリメータレンズ4の光軸を軸調整用光学系
の基準軸とする。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of an axis adjusting optical system according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, a light source unit 1 having a light source and a collimator lens illuminates a light projection reticle 2. Here, as the light source unit 1, a white continuous light source or a laser light source can be applied. For the projection reticle 2,
For example, an index (pattern) such as a cross line is provided on the surface, and the center of this cross line index coincides with the reference axis of the axis adjusting optical system. The light from the projection reticle 2 is reflected by the half prism 3 and then becomes a parallel light flux via a collimator lens 4 provided so that the front focus is located on the pattern surface of the projection reticle 2. In this embodiment, the optical axis of the collimator lens 4 is the reference axis of the axis adjusting optical system.

【0012】さて、計測を行おうとする被検物体には、
反射手段としての反射部材5が取り付けられている。こ
こで、被検物体としては、機械的回転軸や軸受等が考え
られる。反射部材5は、全体として平凸形状であり、第
1面5aが平面のハーフミラーで構成され、第2面5b
が第1面5a側に凹面を向けた反射面で構成されてい
る。なお、本実施例では、第1及び第2面に反射膜を設
ける構成としているが、例えば、第1及び第2面での表
面反射を利用する構成であっても良い。このときには、
第1面と第2面との表面処理を何も行わなけれは良い。
ここで、反射部材5は、コリメータレンズ4側に第1面
5aを向けるように、即ち光の入射側に第1面5aが向
くように配置される。
Now, for the object to be measured,
A reflecting member 5 as a reflecting means is attached. Here, the object to be inspected may be a mechanical rotating shaft, a bearing, or the like. The reflecting member 5 has a plano-convex shape as a whole, and the first surface 5a is composed of a half mirror having a flat surface, and the second surface 5b is formed.
Is a reflective surface having a concave surface facing the first surface 5a side. In addition, in this embodiment, the reflective film is provided on the first and second surfaces. However, for example, the surface reflection on the first and second surfaces may be used. At this time,
It is good that no surface treatment is performed on the first surface and the second surface.
Here, the reflecting member 5 is arranged so that the first surface 5a faces the collimator lens 4 side, that is, the first surface 5a faces the light incident side.

【0013】反射部材5の第1面5aで反射された光
は、図中実線で示す如く、再びコリメータレンズ4を介
して集光され、ハーフプリズム3を透過した後、ティル
トレチクル7上に投光レチクル2の指標像It を形成す
る。また、反射部材5の第2面5bで反射された光は、
図中破線で示す如く、再びコリメータレンズ4を介して
集光され、シフトレチクル6上に投光レチクル2の指標
像Is を形成する。
The light reflected by the first surface 5a of the reflecting member 5 is condensed again through the collimator lens 4 as shown by the solid line in the figure, passes through the half prism 3, and then is projected onto the tilt reticle 7. forming an index image I t of the light reticle 2. Further, the light reflected by the second surface 5b of the reflecting member 5 is
As indicated by the broken line in the figure, the light is focused again through the collimator lens 4 to form the index image I s of the projection reticle 2 on the shift reticle 6.

【0014】ここで、ティルトレチクル7とシフトレチ
クル6とには、例えば十字線状の指標(パターン)が設
けられている。これらの十字線指標の中心点は、それぞ
れ軸調整用光学系の基準軸(コリメータレンズ4の光
軸)と一致している。なお、シフトレチクル6及びティ
ルトレチクル7上に設けられる指標としては、十字線状
の指標に限られず、目盛が設けられた指標であっても良
い。
Here, the tilt reticle 7 and the shift reticle 6 are provided with, for example, cross-shaped indices (patterns). The center points of these crosshair indices coincide with the reference axis (optical axis of the collimator lens 4) of the axis adjusting optical system. The indexes provided on the shift reticle 6 and the tilt reticle 7 are not limited to the cross-shaped indexes, and indexes provided with scales may be used.

【0015】また、シフトレチクル6は、光軸方向に沿
って可動となるように設けられている。これにより、反
射部材5と軸調整用光学系との距離が変化した場合で
も、反射部材5の第2面5bを介した光による投光レチ
クル2の像形成位置にシフトレチクルを移動させれば良
い。これにより、投光レチクル2の像は、シフトレチク
ル6上に結像される。なお、ティルトレチクル7に関し
ては、ティルトレチクル7上に形成される投光レチクル
2の像が反射部材の第1面5a(平面)で反射された光
を用いているため、反射部材5と軸調整用光学系との距
離が変化した場合でも常に一定位置に投光レチクル2の
像が形成される。従って、ティルトレチクル7は、光軸
方向に沿って可動でなくとも良い。
The shift reticle 6 is provided so as to be movable along the optical axis direction. Accordingly, even if the distance between the reflecting member 5 and the axis adjusting optical system changes, if the shift reticle is moved to the image forming position of the light projecting reticle 2 by the light passing through the second surface 5b of the reflecting member 5. good. As a result, the image of the projection reticle 2 is formed on the shift reticle 6. Regarding the tilt reticle 7, since the image of the projection reticle 2 formed on the tilt reticle 7 uses the light reflected by the first surface 5a (flat surface) of the reflection member, the reflection member 5 and the axis adjustment are performed. The image of the projection reticle 2 is always formed at a fixed position even when the distance from the use optical system changes. Therefore, the tilt reticle 7 does not have to be movable along the optical axis direction.

【0016】ティルトレチクル7の透過側には、基準軸
に沿って、リレーレンズ8及びリレーレンズ11が設け
られている。ここで、リレーレンズ8とリレーレンズ1
1との間の光路中には、光路を分割するためのハーフプ
リズム9が設けられている。図中実線にて示す如く、テ
ィルトレチクル7からの光は、リレーレンズ8、ハーフ
プリズム9及びリレーレンズ11を順に介して、撮像素
子12上にティルトレチクル7の像を形成する。また、
図中破線にて示す如く、シフトレチクル6からの光は、
ハーフプリズム3、ティルトレチクル7、リレーレンズ
8及びハーフプリズム9を順に介して、撮像素子10上
にシフトレチクルの像を形成する。これらの撮像素子1
0、12からの画像信号は、図示なきTVモニタ上に表
示される。これにより、軸調整用光学系の基準軸と、反
射部材5の中心軸とのずれを観察することができる。な
お、撮像素子10、12としては、例えばCCD、撮像
管等を適用することができる。また、撮像素子10、1
2の代わりに、撮像素子10、12の位置に形成される
中間像を観察するための接眼レンズを適用しても良い。
A relay lens 8 and a relay lens 11 are provided on the transmission side of the tilt reticle 7 along the reference axis. Here, the relay lens 8 and the relay lens 1
A half prism 9 for dividing the optical path is provided in the optical path between the optical path 1 and the optical path 1. As shown by the solid line in the figure, the light from the tilt reticle 7 forms an image of the tilt reticle 7 on the image pickup element 12 through the relay lens 8, the half prism 9 and the relay lens 11 in this order. Also,
As indicated by the broken line in the figure, the light from the shift reticle 6 is
An image of the shift reticle is formed on the image sensor 10 through the half prism 3, the tilt reticle 7, the relay lens 8, and the half prism 9 in this order. These image pickup devices 1
The image signals from 0 and 12 are displayed on a TV monitor (not shown). Thereby, the deviation between the reference axis of the axis adjusting optical system and the central axis of the reflecting member 5 can be observed. As the image pickup elements 10 and 12, for example, a CCD, an image pickup tube or the like can be applied. In addition, the image pickup device 10, 1
Instead of 2, an eyepiece lens for observing an intermediate image formed at the positions of the image pickup devices 10 and 12 may be applied.

【0017】なお、本実施例において、シフトレチクル
6上には、反射部材5の第2面5bを介した投光レチク
ル2の指標像Is の他に、反射部材5の第1面5aを介
した光が到達する。この第1面5aを介した光による投
光レチクル2の指標像It は、シフトレチクル6上でデ
ィフォーカス像となるため、第2面5bを介した光によ
る投光レチクル2の指標像IS を観察する際の実質的な
影響は生じない。また、ティルトレチクル7上には、反
射部材5の第1面5aを介した投光レチクル2の指標像
t の他に、反射部材の第2面5bを介した光が到達す
る。ここで、この第2面5bを介した光による投光レチ
クル2の指標像Is は、ティルトレチクル7上でディフ
ォーカス像となるため、第1面5aを介した光による投
光レチクル2の指標像It を観察する際に実質的な影響
は生じない。
In this embodiment, the first surface 5a of the reflecting member 5 is provided on the shift reticle 6 in addition to the index image I s of the projection reticle 2 through the second surface 5b of the reflecting member 5. Through the light arrives. Since the index image I t of the projection reticle 2 by the light passing through the first surface 5a becomes a defocus image on the shift reticle 6, the index image I of the projection reticle 2 by the light passing through the second surface 5b is obtained. There is no substantial effect on observing S. Further, on the tilt reticle 7, in addition to the index image I t of the projection reticle 2 via the first surface 5 a of the reflecting member 5, light via the second surface 5 b of the reflecting member arrives. Here, since the index image I s of the projection reticle 2 due to the light passing through the second surface 5b becomes a defocus image on the tilt reticle 7, the index image I s of the projection reticle 2 due to the light passing through the first surface 5a. No substantial influence occurs when observing the index image I t .

【0018】次に、上述の如き軸調整用光学系を用いた
軸調整方法について説明する。まず、測定すべき被検物
に反射部材5を取りつける。このとき、軸調整用光学系
側(光の入射側)に、第1面5a(平面)が位置するよ
うに取りつける。次に、軸調整用光学系の光軸上(基準
軸上)に反射部材5が位置するように、軸調整用光学系
の大体の位置決めを行なう。
Next, an axis adjusting method using the above-described axis adjusting optical system will be described. First, the reflecting member 5 is attached to the object to be measured. At this time, the first surface 5a (flat surface) is attached so as to be located on the axis adjusting optical system side (light incident side). Then, the axis adjusting optical system is roughly positioned so that the reflecting member 5 is located on the optical axis (on the reference axis) of the axis adjusting optical system.

【0019】そして、軸調整用光学系の光源を点灯さ
せ、投光レチクル2を介した光を反射部材5に向けて投
射する。その後、撮像素子10によるシフトレチクル6
上の像を観察しながら、シフトレチクル6を光軸上に沿
って移動させ、投光レチクル2の像がシフトレチクル6
上に形成されるようにする。次に、撮像素子12による
ティルトレチクル7の像を観察しながら、ティルトレチ
クル7上の指標Pt と投光レチクル2の指標像It との
ずれ量Δtが0になるように、反射部材5が取り付けら
れている被検物の傾きを調整する。これにより、反射部
材5と軸調整用光学系との傾き成分のずれが調整され
る。
Then, the light source of the axis adjusting optical system is turned on, and the light transmitted through the projection reticle 2 is projected toward the reflecting member 5. After that, the shift reticle 6 by the image sensor 10
While observing the upper image, the shift reticle 6 is moved along the optical axis so that the image of the projection reticle 2 is shifted.
To be formed on top. Next, while observing the image of the tilt reticle 7 by the image pickup device 12, the reflecting member 5 is adjusted so that the deviation amount Δt between the index P t on the tilt reticle 7 and the index image I t of the light projection reticle 2 becomes zero. Adjust the tilt of the object to which is attached. As a result, the deviation of the tilt component between the reflecting member 5 and the axis adjusting optical system is adjusted.

【0020】そして、撮像素子10によるシフトレチク
ル6の像を観察しながら、シフトレチクル6上の指標P
s と投光レチクル2の指標像Is とのずれ量Δsが0と
なるように、反射部材5が取り付けられている被検物の
平行シフト成分のずれを調整する。このように、反射部
材5と軸調整用光学系との傾きを調整した後に、平行シ
フト成分のずれ調整を行なっているため、シフトレチク
ル6上の指標Ps と指標像Is との位置ずれは、反射部
材5の中心軸と軸調整用光学系の基準軸との平行シフト
成分のずれ量のみに対応する。従って、反射部材5(被
検物)と軸調整用光学系とのずれを調整する際には、傾
き成分のずれと平行シフト成分のずれとを独立に調整す
ることが可能となる。よって、反射部材5(被検物)と
軸調整用光学系との調整がより簡単となる利点がある。
Then, while observing the image of the shift reticle 6 by the image pickup device 10, the index P on the shift reticle 6 is observed.
The shift of the parallel shift component of the test object to which the reflecting member 5 is attached is adjusted so that the shift amount Δs between s and the index image I s of the projection reticle 2 becomes zero. In this way, since the deviation of the parallel shift component is adjusted after adjusting the inclination between the reflecting member 5 and the axis adjusting optical system, the positional deviation between the index P s and the index image I s on the shift reticle 6 is performed. Corresponds to only the shift amount of the parallel shift component between the central axis of the reflecting member 5 and the reference axis of the axis adjusting optical system. Therefore, when adjusting the deviation between the reflection member 5 (inspection object) and the axis adjusting optical system, the deviation of the tilt component and the deviation of the parallel shift component can be adjusted independently. Therefore, there is an advantage that the adjustment of the reflection member 5 (inspection object) and the axis adjusting optical system becomes easier.

【0021】次に、図3を参照して本発明による第2実
施例を説明する。図3は、本発明による軸調整用光学系
により、イメージローテータの調整を行なう実施例を示
す図である。なお、説明を簡単にするために、図1に示
す第1実施例と同様の機能を有する部材には、同一の符
号を付してある。図3において、図中破線にて示す部分
が軸調整用光学系を示している。図3に示す軸調整用光
学系において、図1に示す第1実施例とは異なる部分
は、シフトレチクル6A、6Bを設けた点である。これ
らのシフトレチクル6Aとシフトレチクル6Bとは、そ
の光軸(基準軸)上の位置が異なるように配置されてい
る。ここで、軸調整用光学系と反射部材5との間に光路
中に、イメージローテータIMを挿入した場合、軸調整
用光学系と反射部材5との間の光路長が変化するが、こ
の光路長変化によらず、シフトレチクル6A、6B上に
投光レチクル2の指標像が形成されることになる。尚、
シフトレチクル6Aは、図1に示す第1実施例と同様に
基準軸方向に可動に設けられている。
Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram showing an embodiment in which the image rotator is adjusted by the axis adjusting optical system according to the present invention. For simplification of description, members having the same functions as those of the first embodiment shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. In FIG. 3, a portion indicated by a broken line in the drawing shows an axis adjusting optical system. The optical axis adjusting optical system shown in FIG. 3 differs from the first embodiment shown in FIG. 1 in that shift reticles 6A and 6B are provided. The shift reticle 6A and the shift reticle 6B are arranged so that their positions on the optical axis (reference axis) are different. Here, when the image rotator IM is inserted in the optical path between the axis adjusting optical system and the reflecting member 5, the optical path length between the axis adjusting optical system and the reflecting member 5 changes. The index image of the projection reticle 2 is formed on the shift reticles 6A and 6B regardless of the length change. still,
The shift reticle 6A is movably provided in the reference axis direction as in the first embodiment shown in FIG.

【0022】また、図3に示す第2実施例においては、
撮像素子10、12からの画像信号を処理する信号処理
部13と、信号処理部13からの画像情報に基づいて、
画像を表示するための表示部14、15を図示してあ
る。ここで、表示部14は、撮像素子10によるシフト
レチクル6A、6Bの画像を表示し、表示部15は、撮
像素子12によるティルトレチクル7の画像を表示する
ものである。
Further, in the second embodiment shown in FIG.
Based on the signal processing unit 13 that processes the image signals from the image pickup devices 10 and 12, and the image information from the signal processing unit 13,
Shown are displays 14, 15 for displaying images. Here, the display unit 14 displays the images of the shift reticles 6A and 6B by the image pickup device 10, and the display unit 15 displays the image of the tilt reticle 7 by the image pickup device 12.

【0023】ここで、調整すべきイメージローテータI
Mは、図中破線で囲まれる如く、3枚の平面鏡M1 、M
2 ,M3 からなり、これら3枚の平面鏡M1 〜M3 は、
それぞれ微調節が可能であるように図示なき支持部材に
より支持される。まず、イメージローテータIMの調整
に先立って、反射部材5の調整を行なう。このとき、図
1に示す実施例と同様に、反射部材5の中心軸と軸調整
用光学系の基準軸とを一致させる。なお、この調整に際
して、反射部材5と軸調整用光学系との平行シフト成分
のずれを調整するときには、軸調整用光学系のシフトレ
チクル6Aを使用する。
Here, the image rotator I to be adjusted
M is three plane mirrors M 1 and M as surrounded by broken lines in the figure.
2 and M 3 , and these three plane mirrors M 1 to M 3 are
Each is supported by a support member (not shown) so that fine adjustment is possible. First, the reflection member 5 is adjusted prior to the adjustment of the image rotator IM. At this time, similarly to the embodiment shown in FIG. 1, the central axis of the reflecting member 5 and the reference axis of the axis adjusting optical system are aligned. In this adjustment, when adjusting the deviation of the parallel shift component between the reflecting member 5 and the axis adjusting optical system, the shift reticle 6A of the axis adjusting optical system is used.

【0024】反射部材5と軸調整用光学系との調節が完
了した後、、軸調整用光学系と反射部材5との間(コリ
メータレンズ4と反射部材5との間)の光路中に調整す
べきイメージローテータIMを挿入する。その後、撮像
素子12を介したティルトレチクル7の像を表示部15
により観察しながら、ティルトレチクル7上の指標Pt
と投光レチクル2の指標像It とのずれ量ΔTを0とす
るように、3枚の平面鏡M1 〜M3 を微調節する。これ
により、イメージローテータIMにおける平面鏡M1
の光軸と平面鏡M3 側の光軸との傾き成分のずれが調整
される。
After the adjustment of the reflecting member 5 and the axis adjusting optical system is completed, adjustment is made in the optical path between the axis adjusting optical system and the reflecting member 5 (between the collimator lens 4 and the reflecting member 5). Insert the image rotator IM to be used. After that, an image of the tilt reticle 7 via the image sensor 12 is displayed on the display unit 15.
While observing, the index P t on the tilt reticle 7
The three plane mirrors M 1 to M 3 are finely adjusted so that the amount of deviation ΔT between the index image I t of the projection reticle 2 and 0 is zero. As a result, the deviation of the tilt component between the optical axis on the plane mirror M 1 side and the optical axis on the plane mirror M 3 side in the image rotator IM is adjusted.

【0025】次に、イメージローテータIMにおける平
面鏡M1 側の光軸と平面鏡M3 側の光軸との平行シフト
成分のずれの調整を行なう。このとき、イメージローテ
ータIMの平面鏡M1 〜M3 、反射部材5及びコリメー
タレンズ4を介した投光レチクル2の指標の像は、シフ
トレチクル6Aとは異なる位置に結像する。本実施例で
は、この結像位置にシフトレチクル6Bを設けている。
このシフトレチクル6Bは、イメージローテータIMの
微調節による光路長変化が発生しても、常に投光レチク
ル2の指標像を良好に結像させるために、基準軸方向に
沿って移動可能に設けられている。
Next, the deviation of the parallel shift component between the optical axis on the plane mirror M 1 side and the optical axis on the plane mirror M 3 side in the image rotator IM is adjusted. At this time, the image of the index of the projection reticle 2 via the plane mirrors M 1 to M 3 of the image rotator IM, the reflecting member 5, and the collimator lens 4 is formed at a position different from the shift reticle 6A. In this embodiment, the shift reticle 6B is provided at this image forming position.
The shift reticle 6B is provided so as to be movable along the reference axis direction so that the index image of the projection reticle 2 can always be favorably formed even if the optical path length changes due to the fine adjustment of the image rotator IM. ing.

【0026】また、シフトレチクル6Bと撮像素子10
とを共役関係にするため、リレーレンズ8は、基準軸方
向に沿って移動可能に設けられている。例えば、シフト
レチクル6Aよりもシフトレチクル6Bがコリメータレ
ンズ4側に配置される場合、シフトレチクル6Aからシ
フトレチクル6Bへ切り換える際、リレーレンズ8をコ
リメータレンズ4側から遠ざかるように移動させれば良
い。これにより、シフトレチクル6Aまたは6Bの何れ
を用いる場合でも、撮像素子10上では常に投光レチク
ル2の指標像を観察できる。
Further, the shift reticle 6B and the image pickup device 10
The relay lens 8 is provided so as to be movable along the reference axis direction in order to make and the conjugate relationship. For example, when the shift reticle 6B is arranged closer to the collimator lens 4 side than the shift reticle 6A, the relay lens 8 may be moved away from the collimator lens 4 side when switching from the shift reticle 6A to the shift reticle 6B. As a result, the index image of the projection reticle 2 can always be observed on the image sensor 10 regardless of which of the shift reticles 6A and 6B is used.

【0027】ここで、イメージローテータIMにおける
光軸の傾きが調整されているため、シフトレチクル6B
上でのシフトレチクル6Bの指標Ps と投光レチクル2
の指標像Is とのずれ量Δsは、イメージローテータI
Mの平面鏡M1 側の光軸と平面鏡M3 側の光軸との平行
シフトずれのみを表す。そこで、撮像素子10によるシ
フトレチクル6Bの画像を表示部14で観察しながら、
上記ずれ量Δsが0となるように、イメージローテータ
IMを構成する3枚の平面鏡M1 〜M3 の調整を行な
う。
Here, since the inclination of the optical axis in the image rotator IM is adjusted, the shift reticle 6B.
Indicator of the shift reticle 6B of the above P s and the projected reticle 2
Of the index image I s of the image rotator I
Only the parallel shift deviation between the optical axis of the plane mirror M 1 side of M and the optical axis of the plane mirror M 3 side is shown. Therefore, while observing the image of the shift reticle 6B by the image sensor 10 on the display unit 14,
The three plane mirrors M 1 to M 3 forming the image rotator IM are adjusted so that the above-mentioned shift amount Δs becomes zero.

【0028】これにより、イメージローテータIMの平
面鏡M1 側と平面鏡M3 側との光軸が一致するように調
整ができる。このように、本実施例によれば、イメージ
ローテータIMの光軸ずれを傾き成分と平行シフト成分
とに分けて検出可能な構成であるため、傾き成分の調整
と平行シフト成分の調整とを分けてイメージローテータ
IMを調整することが可能となる。従って、より簡単か
つ合理的な調整ができる。これにより、例えばイメージ
ローテータIMを光路から頻繁に挿脱する場合、イメー
ジローテータIMを光路中に挿入する際に光軸調整が手
際良く行なえる利点がある。
This makes it possible to make adjustments so that the optical axes of the plane mirror M 1 side and the plane mirror M 3 side of the image rotator IM coincide with each other. As described above, according to the present embodiment, since the optical axis shift of the image rotator IM can be detected separately for the tilt component and the parallel shift component, the tilt component adjustment and the parallel shift component adjustment are separated. Therefore, the image rotator IM can be adjusted. Therefore, more simple and rational adjustment can be performed. Thereby, for example, when the image rotator IM is frequently inserted and removed from the optical path, there is an advantage that the optical axis can be adjusted easily when the image rotator IM is inserted into the optical path.

【0029】なお、本実施例では、2枚のシフトレチク
ル6A、6Bを用いたが、その代わりに図1に示す実施
例と同様に1枚のシフトレチクル6を光軸方向に可動に
設けても良い。このとき、イメージローテータIMの調
整を行なう際に、シフトレチクル6の光軸方向の位置を
移動させて、3枚の平面鏡M1 〜M3 を介した投光レチ
クル2の像をシフトレチクル6上に形成すれば良い。
In this embodiment, the two shift reticles 6A and 6B are used. Instead of this, one shift reticle 6 is provided movably in the optical axis direction as in the embodiment shown in FIG. Is also good. At this time, when the image rotator IM is adjusted, the position of the shift reticle 6 in the optical axis direction is moved so that the image of the projection reticle 2 is transferred onto the shift reticle 6 via the three plane mirrors M 1 to M 3. It may be formed in.

【0030】また、上述の第1及び第2実施例では、シ
フトレチクル6(6A、6B)とティルトレチクル7と
を共軸に配置する構成としているが、ハーフプリズム等
で光路を分割して、分割された光路のそれぞれに、シフ
トレチクルとティルトレチクルとを配置することもでき
る。次に、図4を参照して、本発明による第3実施例を
説明する。図4は、第3実施例による軸調整用光学系の
構成を示す図である。尚、図4では、図1及び図3に示
す実施例と同様の機能を示す部材には、同じ符号を付し
てある。
In the first and second embodiments described above, the shift reticle 6 (6A, 6B) and the tilt reticle 7 are arranged coaxially, but the optical path is divided by a half prism or the like. A shift reticle and a tilt reticle can be arranged in each of the divided optical paths. Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the axis adjusting optical system according to the third embodiment. In FIG. 4, members having the same functions as those of the embodiment shown in FIGS. 1 and 3 are designated by the same reference numerals.

【0031】図4において、光源部1からの照明光は、
例えば十字形状の指標が設けられた投光レチクル2を照
明する。投光レチクル2からの光は、投光レチクル2の
指標形成面上に前側焦点が位置するように配置されたコ
リメータレンズ24Aを介して、図中実線で示す如き平
行光束となる。コリメータレンズ24Aからの平行光束
は、ハーフプリズム23にて反射され、反射部材25に
達する。この反射部材25は、全体として平凹形状であ
り、平面である第1面25aと、第1面25a側に凸面
を向けた第2面25bとから構成される光学素子であ
る。ここで、第1面25aは、ハーフミラーで構成さ
れ、第2面25bは、反射面で構成されている。なお、
図1の第1実施例と同様に、第1及び第2面は、反射膜
を設ける構成の代わりに、第1及び第2面での表面反射
を利用する構成であっても良い。この反射部材25は、
第1面25a側が軸調整用光学系側(ハーフプリズム2
3側)を向くように配置される。
In FIG. 4, the illumination light from the light source unit 1 is
For example, the projection reticle 2 provided with a cross-shaped index is illuminated. The light from the projection reticle 2 becomes a parallel light flux as shown by the solid line in the figure via the collimator lens 24A arranged so that the front focal point is located on the index forming surface of the projection reticle 2. The parallel light flux from the collimator lens 24A is reflected by the half prism 23 and reaches the reflecting member 25. The reflecting member 25 is an optical element having a plano-concave shape as a whole and including a flat first surface 25a and a second surface 25b having a convex surface facing the first surface 25a. Here, the first surface 25a is composed of a half mirror, and the second surface 25b is composed of a reflecting surface. In addition,
Similar to the first embodiment of FIG. 1, the first and second surfaces may use the surface reflection on the first and second surfaces instead of the structure in which the reflective film is provided. This reflecting member 25 is
The side of the first surface 25a is the side of the axis adjusting optical system (half prism 2
3 side).

【0032】さて、反射部材25の第1面25a(平
面)にて反射された光は、図中実線にて示す如く、平行
光束の状態でハーフプリズム23を透過し、その透過方
向に配置されるコリメータレンズ24Bに達する。な
お、本実施例では、コリメータレンズ24Aとコリメー
タレンズ24Bとを同一のレンズで構成しているが、こ
れらのコリメータレンズ24A、24Bは互いに異なる
レンズで構成しても良い。コリメータレンズ24Bを介
した反射部材25からの光は、このコリメータレンズ2
4Bによって集光作用を受け、ハーフプリズム29にて
反射され、コリメータレンズ24Bの後側焦点に配置さ
れたティルトレチクル7上に達する。このとき、ティル
トレチクル7上には、ハーフプリズム23、コリメータ
レンズ24A、24B及び反射部材25を介した光によ
り、投光レチクル2上の指標像が形成される。
The light reflected by the first surface 25a (flat surface) of the reflecting member 25 passes through the half prism 23 in a parallel light flux state as shown by the solid line in the figure, and is arranged in the transmitting direction. Reaching the collimator lens 24B. In this embodiment, the collimator lens 24A and the collimator lens 24B are the same lens, but the collimator lenses 24A and 24B may be different lenses. The light from the reflecting member 25 via the collimator lens 24B is emitted from the collimator lens 2
4B receives the light condensing effect, reflects it by the half prism 29, and reaches the tilt reticle 7 arranged at the rear focal point of the collimator lens 24B. At this time, an index image on the projection reticle 2 is formed on the tilt reticle 7 by the light passing through the half prism 23, the collimator lenses 24A and 24B, and the reflecting member 25.

【0033】なお、本実施例においては、軸調整用光学
系の基準軸をコリメータレンズ24Bの光軸としてい
る。ここで、シフトレチクル6の指標は、この基準軸上
に設けられている。また、ティルトレチクル7上の中心
位置には、十字線状の指標が設けられており、この中心
位置は、ハーフプリズム29にて偏向された基準軸上に
ある。そして、投光レチクル2の指標は、コリメータレ
ンズ24Aの光軸上に設けられており、この光軸と基準
軸とは、ハーフプリズム23で交差する。
In this embodiment, the reference axis of the axis adjusting optical system is the optical axis of the collimator lens 24B. Here, the index of the shift reticle 6 is provided on this reference axis. A cross-shaped index is provided at the center position on the tilt reticle 7, and the center position is on the reference axis deflected by the half prism 29. The index of the projection reticle 2 is provided on the optical axis of the collimator lens 24A, and this optical axis and the reference axis intersect at the half prism 23.

【0034】本実施例においても、ティルトレチクル7
上の指標と、このティルトレチクル7上に形成される投
光レチクル2の指標像との位置ずれが、軸調整用光学系
の基準軸に対する反射部材25の基準軸(光軸)の傾き
に対応している。このため、ティルトレチクル7を観察
しながら、反射部材25が取り付けられた被検物体を調
整すれば、軸調整用光学系に対する被検物体の傾きを調
整できる。
Also in this embodiment, the tilt reticle 7 is used.
The positional deviation between the index above and the index image of the projection reticle 2 formed on the tilt reticle 7 corresponds to the inclination of the reference axis (optical axis) of the reflecting member 25 with respect to the reference axis of the axis adjusting optical system. is doing. Therefore, if the object to be inspected to which the reflecting member 25 is attached is adjusted while observing the tilt reticle 7, the inclination of the object to be inspected with respect to the axis adjusting optical system can be adjusted.

【0035】一方、反射部材25の第2面25B(凸
面)で反射された軸調整用光学系からの光は、発散光束
となりハーフプリズム23を透過してコリメータレンズ
24Bに達する。反射部材25からの発散光束は、コリ
メータレンズ24Bにより集光作用を受け、ハーフプリ
ズム29を透過した後、シフトレチクル6上に達する。
ここで、シフトレチクル6上には、ハーフプリズム2
3、コリメータレンズ24A、24B及び反射部材25
を介した光により、投光レチクル2の指標像が形成され
る。ここで、シフトレチクル6上には、十字線状の指標
が形成されており、この指標は、軸調整用光学系の基準
軸上に設けられている。
On the other hand, the light from the axis adjusting optical system reflected by the second surface 25B (convex surface) of the reflecting member 25 becomes a divergent light beam, passes through the half prism 23, and reaches the collimator lens 24B. The divergent light flux from the reflecting member 25 is condensed by the collimator lens 24B, passes through the half prism 29, and then reaches the shift reticle 6.
Here, on the shift reticle 6, the half prism 2
3, collimator lenses 24A, 24B and reflecting member 25
The index image of the light projection reticle 2 is formed by the light passing through. Here, a cross-shaped index is formed on the shift reticle 6, and this index is provided on the reference axis of the axis adjusting optical system.

【0036】ここで、シフトレチクル6上の指標と投光
レチクル2の指標像との位置ずれは、反射部材25の基
準軸と、軸調整用光学系の基準軸との傾きと平行シフト
とに対応したものとなる。なお、本実施例では、ティル
トレチクル7を用いて反射部材25と軸調整用光学系と
の基準軸の傾きを調整しているため、シフトレチクル6
上の指標と指標像との位置ずれは、基準軸同士の平行シ
フトずれのみに対応したものとなる。このため、シフト
レチクル7を観察しながら、反射部材25が取り付けら
れた被検物体を調整すれば、軸調整用光学系に対する被
検物体の平行ずれを調整できる。
The positional deviation between the index on the shift reticle 6 and the index image on the projection reticle 2 is due to the parallel shift and the inclination between the reference axis of the reflecting member 25 and the reference axis of the axis adjusting optical system. It will be compatible. In this embodiment, since the tilt reticle 7 is used to adjust the inclination of the reference axis between the reflecting member 25 and the axis adjusting optical system, the shift reticle 6 is adjusted.
The positional deviation between the index and the index image corresponds only to the parallel shift deviation between the reference axes. Therefore, by observing the shift reticle 7 and adjusting the test object to which the reflecting member 25 is attached, the parallel displacement of the test object with respect to the axis adjusting optical system can be adjusted.

【0037】なお、図4においては、シフトレチクル6
及びティルトレチクル7を観察するための接眼レンズ
は、図示省略している。また、この接眼レンズの代わり
に、シフトレチクル6及びティルトレチクル7を直接に
眼視で観察しても良く、図1の第1実施例の如きリレー
光学系を介した像を表示部で観察しても良い。このよう
に、本実施例においても、反射部材25(被検物)と軸
調整用光学系との傾きのずれと平行シフトのずれとを独
立に調整できるため、反射部材25(被検物)と軸調整
用光学系との調整がより簡単となる利点がある。
Incidentally, in FIG. 4, the shift reticle 6
The eyepiece for observing the tilt reticle 7 is not shown. Further, instead of this eyepiece, the shift reticle 6 and the tilt reticle 7 may be directly visually observed, and an image through the relay optical system as in the first embodiment of FIG. 1 is observed on the display unit. May be. As described above, also in the present embodiment, since the deviation of the inclination and the deviation of the parallel shift between the reflecting member 25 (inspection object) and the axis adjusting optical system can be adjusted independently, the reflecting member 25 (inspection object). There is an advantage that the adjustment with the axis adjusting optical system becomes easier.

【0038】次に、図5を参照して本発明による第4実
施例を説明する。図5は、本発明の第4実施例の構成を
示す図である。なお、説明を簡単にするために、図5に
おいては、図1乃至図4に示す実施例と同様の機能を有
する部材には、同じ符号を付してある。図5において、
投光レチクル2は、光源1によって照明される。投光レ
チクル2からの光は、ハーフプリズム3を透過して、ハ
ーフプリズム29によって反射され、コリメータレンズ
4に達する。このコリメータレンズ4は、前述の各実施
例と同様に、投光レチクルのパターン面と前側焦点位置
とが一致するように配置されている。従って、コリメー
タレンズ4を介した投光レチクル2からの光は、平行光
束となって、反射部材25へ向かう。尚、この反射部材
25は、図4の第3実施例のものと同じものである。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram showing the configuration of the fourth exemplary embodiment of the present invention. For simplification of explanation, in FIG. 5, members having the same functions as those of the embodiment shown in FIGS. 1 to 4 are designated by the same reference numerals. In FIG.
The light projection reticle 2 is illuminated by the light source 1. The light from the light projection reticle 2 passes through the half prism 3, is reflected by the half prism 29, and reaches the collimator lens 4. The collimator lens 4 is arranged so that the pattern surface of the projection reticle and the front focus position coincide with each other, as in the above-described embodiments. Therefore, the light from the projection reticle 2 via the collimator lens 4 becomes a parallel light flux and travels toward the reflecting member 25. The reflecting member 25 is the same as that of the third embodiment shown in FIG.

【0039】さて、反射部材25の第1面(コリメータ
レンズ4側の平面)で反射された光は、再びコリメータ
レンズ4を介した後、ハーフプリズム29及びハーフプ
リズム3で順に反射され、投光レチクル2と共役に配置
されたティルトレチクル7に達する。このティルトレチ
クル7上には、反射部材25の第1面(平面)で反射さ
れた光による投光レチクル2の像が形成される。
The light reflected by the first surface (the plane on the collimator lens 4 side) of the reflecting member 25 passes through the collimator lens 4 again, and then is sequentially reflected by the half prism 29 and the half prism 3 to be projected. Reach the tilt reticle 7 which is arranged conjugate with the reticle 2. An image of the projection reticle 2 is formed on the tilt reticle 7 by the light reflected by the first surface (flat surface) of the reflecting member 25.

【0040】また、反射部材25の第2面(コリメータ
レンズ4側に凸を向けた面)で反射された光は、再びコ
リメータレンズ4を介した後、ハーフプリズム29を透
過して、ハーフプリズム29の透過方向に配置されたシ
フトレチクル6に達する。ここで、シフトレチクル6上
には、反射部材25の第2面(凸面)で反射された光に
よる投光レチクル2の像が形成される。
The light reflected by the second surface of the reflecting member 25 (the surface having the convex surface facing the collimator lens 4 side) passes through the collimator lens 4 again, and then passes through the half prism 29 to form the half prism. The shift reticle 6 arranged in the transmission direction of 29 is reached. Here, an image of the projection reticle 2 formed by the light reflected by the second surface (convex surface) of the reflecting member 25 is formed on the shift reticle 6.

【0041】本実施例においても、ティルトレチクル7
と投光レチクル2の像との位置ずれが、軸調整用光学系
に対する反射部材25の傾きに対応しており、シフトレ
チクル6と投光レチクル2の像との位置ずれが、軸調整
用光学系に対する反射部材25の傾きと平行シフト成分
のずれとに対応している。従って、上述の各実施例の如
く、ティルトレチクル7上に形成される投光レチクル2
の像を観察しながら、軸調整用光学系に対する反射部材
25の傾きを調整する。傾きの調整後には、シフトレチ
クル6と投光レチクル2の像との位置ずれは、軸調整用
光学系に対する反射部材25の平行シフト成分のずれの
みに対応するため、シフトレチクル7を観察しながら、
反射部材25を調整すれば、軸調整用光学系に対する反
射部材25の平行シフト成分のずれを調整できる。
Also in this embodiment, the tilt reticle 7
And the image of the projection reticle 2 correspond to the inclination of the reflection member 25 with respect to the axis adjusting optical system, and the position deviation between the shift reticle 6 and the image of the projection reticle 2 corresponds to the axis adjusting optical system. It corresponds to the inclination of the reflecting member 25 with respect to the system and the shift of the parallel shift component. Therefore, as in the above-described embodiments, the projection reticle 2 formed on the tilt reticle 7 is used.
While observing the image of, the tilt of the reflecting member 25 with respect to the axis adjusting optical system is adjusted. After the tilt adjustment, the positional deviation between the shift reticle 6 and the image of the projection reticle 2 corresponds only to the deviation of the parallel shift component of the reflecting member 25 with respect to the axis adjusting optical system. Therefore, while observing the shift reticle 7. ,
By adjusting the reflecting member 25, the shift of the parallel shift component of the reflecting member 25 with respect to the axis adjusting optical system can be adjusted.

【0042】なお、上述の各実施例から、反射部材(反
射手段)を構成する光学素子の曲率を持つ面は、凹面で
あっても凸面であっても良いことが分かる。また、上記
の各実施例では、シフトレチクル6又はティルトレチク
ル7上の指標と投光レチクル2の指標像とを比較してい
たが、シフトレチクル6及びティルトレチクル7の代わ
りに、CCD等の撮像素子を配置して、直接に投光レチ
クル2の指標像を検出する構成でも良い。このときに
は、傾き成分のずれを検出するための撮像素子と、平行
シフト成分のずれを検出するための撮像素子との光路を
ハーフプリズム等で分割すれば良い。
From each of the above-described embodiments, it can be seen that the surface having the curvature of the optical element forming the reflecting member (reflecting means) may be concave or convex. In each of the above embodiments, the index image on the shift reticle 6 or the tilt reticle 7 and the index image on the projection reticle 2 are compared, but instead of the shift reticle 6 and the tilt reticle 7, an image of a CCD or the like is picked up. A configuration in which elements are arranged and the index image of the projection reticle 2 is directly detected may be used. At this time, the optical paths of the image pickup device for detecting the shift of the tilt component and the image pickup device for detecting the shift of the parallel shift component may be divided by a half prism or the like.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、光学系の
光軸や機械的回転軸の調整を行なう際に、傾きの成分と
平行シフトの成分とに分けて検出できるため、傾きの調
整と平行シフトの調整とに分けて調整作業が行なえる。
よって、調整作業がより簡単となる利点がある。
As described above, according to the present invention, the tilt component and the parallel shift component can be detected separately when adjusting the optical axis or the mechanical rotation axis of the optical system. Adjustment work can be performed separately for adjustment and parallel shift adjustment.
Therefore, there is an advantage that the adjustment work becomes easier.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による第1実施例の構成を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a first exemplary embodiment of the present invention.

【図2】本発明の原理を説明するための斜視図である。FIG. 2 is a perspective view for explaining the principle of the present invention.

【図3】本発明による第2実施例の構成を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a second exemplary embodiment of the present invention.

【図4】本発明による第3実施例の構成を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a third exemplary embodiment of the present invention.

【図5】本発明による第4実施例の構成を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a fourth exemplary embodiment of the present invention.

【図6】従来の軸調整用光学系の構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a conventional axis adjusting optical system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 … 光源部、 2 … 投光レチクル、 4 … コリメータレンズ、 5 … 反射部材、 6 … シフトレチクル、 7 … ティルトレチクル、 1 ... Light source part, 2 ... Projection reticle, 4 ... Collimator lens, 5 ... Reflecting member, 6 ... Shift reticle, 7 ... Til reticle,

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】所定のパターンが設けられたレチクルを照
明する照明手段と、前記レチクルを介した照明光を反射
手段に向けて平行光束で投射するコリメート光学系とを
有する軸調整用光学系において、 前記反射手段は、前記軸調整用光学系側から順に、平面
と曲率を持つ面とを有する光学素子を持つことを特徴と
する軸調整用光学系。
1. An axis adjusting optical system comprising: an illuminating means for illuminating a reticle provided with a predetermined pattern; and a collimating optical system for projecting an illumination light passing through the reticle to a reflecting means as a parallel light beam. The axis adjusting optical system is characterized in that the reflecting means has an optical element having a plane and a surface having a curvature in order from the side of the axis adjusting optical system.
【請求項2】前記平面で反射された光による前記レチク
ルの像形成位置に設けられた第1のレチクルと、前記曲
率を持つ面で反射された光による前記レチクルの像形成
位置に設けられた第2のレチクルとを有することを特徴
とする請求項1記載の軸調整用光学系。
2. A first reticle provided at an image forming position of the reticle by light reflected by the plane, and a first reticle provided at an image forming position of the reticle by light reflected by the surface having the curvature. The axis adjusting optical system according to claim 1, further comprising a second reticle.
【請求項3】前記平面は半反射面で構成され、前記曲率
を持つ面は反射面で構成されることを特徴とする請求項
1又は2記載の軸調整用光学系。
3. The axis adjusting optical system according to claim 1, wherein the flat surface is a semi-reflective surface, and the surface having the curvature is a reflective surface.
【請求項4】軸調整用光学系からの平行光束を反射さ
せ、かつ該反射によって前記軸調整用光学系の基準軸と
のずれを検出するための軸調整用反射鏡において、 前記軸調整用光学系側から順に、平面と曲率を持つ面と
を有することを特徴とする軸調整用反射鏡。
4. An axis-adjusting reflecting mirror for reflecting a parallel light beam from an axis-adjusting optical system and detecting a deviation from a reference axis of the axis-adjusting optical system by the reflection. An axis-adjusting reflecting mirror having a plane and a surface having a curvature in order from the optical system side.
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