JPH075678B2 - Method for producing fluorine-containing copolymer - Google Patents

Method for producing fluorine-containing copolymer

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JPH075678B2
JPH075678B2 JP63097980A JP9798088A JPH075678B2 JP H075678 B2 JPH075678 B2 JP H075678B2 JP 63097980 A JP63097980 A JP 63097980A JP 9798088 A JP9798088 A JP 9798088A JP H075678 B2 JPH075678 B2 JP H075678B2
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雅之 山名
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フッ素樹脂塗料の原料などとして有用なカル
ボキシル基を含有する含フッ素共重合体の製造法、特に
ハロゲンイオン発生量の少ない製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a method for producing a fluorinated copolymer containing a carboxyl group, which is useful as a raw material for a fluororesin coating material, and particularly to a method for producing a small amount of halogen ions. Regarding

〔従来の技術およびその課題〕[Conventional technology and its problems]

カルボキシル基を有するビニルエーテルとフルオロオレ
フィンを共重合させると、カルボキシル基を有するフッ
素樹脂を製造することができるが、カルボキシル基を有
するビニルエーテルは合成が困難である。たとえば、ヒ
ドロキシアルキルビニルエーテルと二塩基性酸無水物を
反応させて(ハーフエステル化)カルボキシル基を有す
るビニルエーテルを合成しようとしても、カルボキシル
基とビニル基が反応して分子内で環化してしまい、目的
物をうることができない。
By copolymerizing a vinyl ether having a carboxyl group and a fluoroolefin, a fluororesin having a carboxyl group can be produced, but a vinyl ether having a carboxyl group is difficult to synthesize. For example, even if a hydroxyalkyl vinyl ether is reacted with a dibasic acid anhydride (half-esterification) to synthesize a vinyl ether having a carboxyl group, the carboxyl group and the vinyl group react with each other to cyclize in the molecule, I can't get things.

したがって、カルボキシル基を含有する含フッ素共重合
体は、たとえばヒドロキシル基を含有するビニルエーテ
ルとフルオロオレフィンとの共重合体を製造し、ついで
共重合体に含有させるヒドロキシル基と二塩基性酸無水
物を反応(ハーフエステル化)させる方法(特公昭61-4
9323号公報参照)によってえている。しかし、この方法
では共重合ののちハーフエステル化を行なうので、共重
合の溶媒として二塩基性酸無水物と反応する安価なアル
コール類などを使用し難いという問題がある。
Therefore, the fluorine-containing copolymer containing a carboxyl group is, for example, a copolymer of vinyl ether containing a hydroxyl group and a fluoroolefin is produced, and then a hydroxyl group and a dibasic acid anhydride are contained in the copolymer. Method of reacting (half-esterification) (Japanese Patent Publication No. 61-4
9323 gazette). However, in this method, since half-esterification is carried out after the copolymerization, there is a problem that it is difficult to use an inexpensive alcohol or the like which reacts with a dibasic acid anhydride as a solvent for the copolymerization.

本発明者らは、カルボキシル基を含有するビニルエーテ
ルの製法について鋭意検討した結果、ヒドロキシルアル
キルビニルエーテルと二塩基性酸無水物を反応させる
際、塩基性化合物を系内に存在させておくと分子内環化
反応が生じず、えられたビニルエーテルのカルボキシル
基が塩基性化合物の塩の形をとることにより安定性が向
上し、しかもフルオロオレフィンと共重合させるばあい
に収率が格段に向上することを見出した。
The present inventors have conducted extensive studies on a method for producing a vinyl ether containing a carboxyl group, and as a result, when reacting a hydroxylalkyl vinyl ether with a dibasic acid anhydride, if a basic compound is allowed to exist in the system, an intramolecular ring That the carboxyl group of the obtained vinyl ether takes the form of the salt of the basic compound, the stability is improved, and the yield is significantly improved when it is copolymerized with the fluoroolefin. I found it.

ところで含フッ素重合体を含有する電着塗装用組成物
は、従来のアクリル系樹脂を含有するものに比して耐薬
品性、、耐候性などに著しく優れた塗膜を与えることが
知られている(たとえば特開昭62-59676号公報、特開昭
62-127362号公報)。
By the way, a composition for electrodeposition coating containing a fluoropolymer is known to give a coating film having remarkably excellent chemical resistance, weather resistance, etc. as compared with a composition containing a conventional acrylic resin. (For example, JP-A-62-59676, JP-A-62-59676)
62-127362).

しかしながら、含フッ素重合体を有する組成物を用いて
電着を行なうばあい、ハロゲンイオンの存在により種々
の問題が生じている。
However, when electrodeposition is carried out using a composition having a fluoropolymer, various problems are caused by the presence of halogen ions.

たとえば、本発明者らの研究によれば、電着における電
着塗装用組成物中のハロゲンイオンの影響としてはつぎ
のようなものがあげられる。
For example, according to the research conducted by the present inventors, the following are the effects of halogen ions in the composition for electrodeposition coating in electrodeposition.

(1)陽極金属の溶出 この点については、被塗装物が陽極となるアニオン系電
着塗装用組成物のばあいに大きな影響を与え、特に被塗
装物がアルミニウムのばあいは、フッ素イオンではAl2O
3+6HF→2AlF3+3H2O+112kcal/molという反応が生
じ、アルマイト層が破壊されて致命的な欠陥が生ずる。
(1) Elution of anode metal In this respect, when an anion-based electrodeposition coating composition in which the object to be coated serves as an anode is greatly affected, particularly when the object to be coated is aluminum, fluorine ions are not used. Al 2 O
3 + 6HF → 2AlF 3 + 3H 2 O + 112kcal / mol that reaction occurs, fatal defect occurs alumite layer is destroyed.

(2)電着塗装用組成物の安定性の低下 ハロゲンイオンによる塩折作用によって含フッ素重合体
の水溶性や水分散性が損なわれ、保存安定性が低下す
る。
(2) Decrease in stability of composition for electrodeposition coating Due to salting action due to halogen ions, water solubility and water dispersibility of the fluoropolymer are impaired and storage stability is reduced.

(3)比電導度の上昇 比電導度の上昇によりクーロン収率が低下するほか、高
電着電圧のため塗膜欠陥が生ずる。
(3) Increase in specific electric conductivity Coulomb yield decreases due to increase in specific electric conductivity, and coating defects occur due to high electrodeposition voltage.

こうした影響は他のハロゲンイオンでも生ずるが、フッ
素イオンがもっとも大きな影響を与える。
Although such an effect occurs with other halogen ions, fluorine ion has the greatest effect.

一方、前記カルボキシル基含有ビニルエーテルモノマー
組成物とフルオロオレフィンとの共重合反応では、どう
してもハロゲンイオンが発生してしまう。そこで、その
共重合反応を鋭意検討したところ、後述するようにビニ
ルエーテルモノマー組成物中のビニルエーテル(Ia)ま
たは(Ib)を(II)の特定量とすることにより、ハロゲ
ンイオンの発生を極力抑えることができ、しかも高収率
で含フッ素共重合体をうることができることを見出し、
本発明を完成するに至った。
On the other hand, halogen ions are inevitably generated in the copolymerization reaction of the carboxyl group-containing vinyl ether monomer composition and the fluoroolefin. Therefore, as a result of diligent study of the copolymerization reaction, as described below, the halogen ether generation was suppressed as much as possible by setting the vinyl ether (Ia) or (Ib) in the vinyl ether monomer composition to a specific amount of (II). Found that it is possible to obtain a fluorine-containing copolymer in high yield,
The present invention has been completed.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので
あり、 式(Ia): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)OM (Ia) (式中、R1は炭素原子数2〜10の2価の脂肪族基、R2
2価の有機基、Mはアルカリ金属である)で表わされる
ビニルエーテル(以下、ビニルエーテル(Ia)という)
または式(Ib): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)O ・HY (Ib) (式中、R1およびR2は前記と同じ、Yはチッ素原子また
はリン原子を含有する化合物であって、そのpKaが6〜1
2である1官能性の塩基性化合物である)で表わされる
ビニルエーテル(以下ビニルエーテル(Ib)という。た
だし、以下、(Ia)と(Ib)を合わせて(I)というば
あいもある)と、式(II): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)OH (II) (式中、R1およびR2は前記と同じ)で表わされる遊離の
カルボキシル基を有するビニルエーテル(以下、ビニル
エーテル(II)という)とからなり、ビニルエーテル
(I)がビニルエーテル(II)の1〜50モル%、好まし
くは5〜50モル%含有されてなるビニルエーテルモノマ
ー組成物をフルオロオレフィンと共重合させることを特
徴とする含フッ素共重合体のハロゲンイオン発生量の少
ない製造法に関するものである。
 The present invention has been made to solve the above problems.
Yes, formula (Ia): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) OM (Ia) (In the formula, R1Is a divalent aliphatic group having 2 to 10 carbon atoms, R2Is
A divalent organic group, M is an alkali metal)
Vinyl ether (hereinafter referred to as vinyl ether (Ia))
Or formula (Ib): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) O ・ HY  (Ib) (In the formula, R1And R2Is the same as above, Y is a nitrogen atom or
Is a compound containing a phosphorus atom, and its pKa is 6 to 1
2 is a monofunctional basic compound which is 2)
Vinyl ether (hereinafter referred to as vinyl ether (Ib).
However, in the following, (Ia) and (Ib) are combined and referred to as (I)
There is also a case) and formula (II): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) OH (II) (In the formula, R1And R2Is the same as above)
Vinyl ether having a carboxyl group (hereinafter referred to as vinyl
Ether (II)), vinyl ether
(I) is 1 to 50 mol% of vinyl ether (II), preferably
Vinyl ether monomer containing 5 to 50 mol%
-Special feature of copolymerizing the composition with fluoroolefin
As a result, the amount of halogen ion generated from the fluorine-containing copolymer is low.
There is no manufacturing method.

[好ましい実施態様] 本発明で用いるビニルエーテルモノマー組成物は、前記
のごとく、ビニルエーテル(II)単独使用のばあいに比
して各段に保存安定性が向上している。その理由は、安
定なビニルエーテル(I)を(II)の1モル%以上、特
に5モル%以上共存させることにより、ビニルエーテル
(II)の環化を促進するH の系内濃度が低下するため
であると推定される。
[Preferred Embodiment] The vinyl ether monomer composition used in the present invention is
Like vinyl ether (II) alone
And the storage stability is improved in each stage. The reason is cheap
A specific vinyl ether (I) is used in an amount of 1 mol% or more of (II),
Coexistence of 5 mol% or more in vinyl ether
H that promotes cyclization of (II) Because the concentration in the system decreases
Is estimated to be

ビニルエーテルモノマー組成物のうち、ビニルエーテル
(I)は、 式: CH2=CHOR1OH (式中、R1は前記と同じ)で表わされるヒドロキシアル
キルビニルエーテル、 式: (式中、R2は前記と同じ)で表わされる二塩基性酸無水
物、 および アルカリ金属化合物またはチッ素原子もしくはリン原
子を含有する化合物であってそのpKa(水中25℃におけ
る酸解離指数)が6〜12の1官能性の塩基性化合物(以
下、両者を区別しないときは単に塩基という)を反応
させることによりえられる。
Among the vinyl ether monomer compositions, the vinyl ether (I) is a hydroxyalkyl vinyl ether represented by the formula: CH 2 ═CHOR 1 OH (wherein R 1 is the same as above), and the formula: (In the formula, R 2 is the same as above) and an alkali metal compound or a compound containing a nitrogen atom or a phosphorus atom, and its pKa (acid dissociation index at 25 ° C in water) Can be obtained by reacting a monofunctional basic compound of 6 to 12 (hereinafter, simply referred to as a base when the two are not distinguished).

この製法の原料であるヒドロキシアルキルビニルエーテ
ルの具体例としては、4−ヒドロキシブチルビニルエー
テル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒド
ロキシ−n−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ
−iso−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−2
−メチルエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−1,1
−シメチルエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシシク
ロヘキシルビニルエーテル、3−ヒドロキシシクロヘキ
シルビニルエーテル、2−ヒドロキシシクロヘキシルビ
ニルエーテル、4−ヒドロキシベンゾオキシビニルなど
をあげることができる。
Specific examples of the hydroxyalkyl vinyl ether which is a raw material of this production method include 4-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxy-n-propyl vinyl ether, 2-hydroxy-iso-propyl vinyl ether and 2-hydroxy-2.
-Methylethyl vinyl ether, 2-hydroxy-1,1
-Cymethyl ethyl vinyl ether, 4-hydroxy cyclohexyl vinyl ether, 3-hydroxy cyclohexyl vinyl ether, 2-hydroxy cyclohexyl vinyl ether, 4-hydroxy benzooxy vinyl etc. can be mentioned.

二塩基性酸無水物およびビニルエーテル(I)または
(II)に含有されるR2としては、式(i): CHX1 pCX2 2 q (i) 〔式中、X1は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキ
ル基、X2は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル
基、pおよびqは0または1〜11の整数(ただし、同時
に0であることはない)を示す〕で表わされる基、式
(ii): CH2 rCX3=CHs (ii) 〔式中、rは0または1〜3の整数、sは1〜3の整
数、X3は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基
を示す〕で表わされる基、式(iii): 〔式中、R7はCHX4 t基(ただし、X4は水素原子また
は炭素原子数1〜3のアルキル基、tは1〜4の整数で
ある)、 −CH2CH=CHCH2−基、 で表わされる基、 式(iv): 〔式中、R8はCHX5 u基(ただし、Xは水素原子また
は炭素原子数1〜3のアルキル基、uは3〜4の整数で
ある)またはCX6=CX7 v基(ただし、X6およびX7
同一または異なり水素原子または炭素原子数1〜3のア
ルキル基、vは2〜3の整数である)を示す〕で表わさ
れる基、式(v): −C(=CH2)−CH2− (v) で表わされる基または式(vi): で表わされる基などをあげることができる。
R 2 contained in the dibasic acid anhydride and vinyl ether (I) or (II) has the formula (i): CHX 1 p CX 2 2 q (i) [wherein, X 1 is a hydrogen atom or a carbon atom]. An alkyl group having 1 to 3 atoms, X 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and p and q represent 0 or an integer of 1 to 11 (however, they cannot be 0 at the same time). A group represented by formula (ii): CH 2 r CX 3 = CH s (ii) [In the formula, r is 0 or an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 3, X 3 is a hydrogen atom or carbon. A group represented by an alkyl group having 1 to 3 atoms], formula (iii): [In the formula, R 7 is a CHX 4 t group (provided that X 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and t is an integer of 1 to 4), —CH 2 CH═CHCH 2 — group. , A group represented by the formula (iv): [In the formula, R 8 is a CHX 5 u group (provided that X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, u is an integer of 3 to 4) or a CX 6 = CX 7 v group (provided that X 6 and X 7 are the same or different and each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, v is an integer of 2 to 3], a group represented by the formula (v): —C (= CH 2 ) —CH 2 — (v) group or formula (vi): And the like.

二塩基性酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、
無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水フタル酸、無
水アジピン酸、無水グルタル酸、無水グルタコン酸、無
水イタコン酸、無水1,8−ナフタル酸、無水シトラコン
酸、無水1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、無水4−
メチル−1,2−ヘキサンジカルボン酸、無水cis−4−シ
クロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、無水1−シクロヘ
キセン−1,2−ジカルボン酸、シクロペンタジエンと無
水マレイン酸のディールスーアンダー反応による付加物
などをあげることができる。
Specific examples of the dibasic acid anhydride, maleic anhydride,
Succinic anhydride, methylsuccinic anhydride, phthalic anhydride, adipic anhydride, glutaric anhydride, glutaconic anhydride, itaconic anhydride, 1,8-naphthalic acid, citraconic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, anhydrous 4-
Methyl-1,2-hexanedicarboxylic acid, cis-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 1-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, cyclopentadiene and maleic anhydride by Diels-Under reaction And so on.

一般に、ヒドロキシル化合物と二塩基性酸無水物との反
応は塩基性触媒の存在下に、次式に従って進行する。
Generally, the reaction of a hydroxyl compound and a dibasic acid anhydride proceeds according to the following formula in the presence of a basic catalyst.

このばあい、90%以上の収率で目的物をうるには高々0.
5モル%(二塩基性酸無水物基準)の塩基を使用すれば
充分である。しかしながら、本発明者らの研究によれば
ヒドロキシル化合物としてカチオン反応性に富むヒドロ
キシルビニルエーテルを使用するばあい、反応は後述す
るごとく、塩基が存在しなければ目的物がえられず、ま
た0.5モル%程度では目的物の収率は低く、しかも安定
性がわるいため重合用モノマーとして適さない。
In this case, it is at most 0 to obtain the target product with a yield of 90% or more.
It is sufficient to use 5 mol% (based on dibasic acid anhydride) of base. However, according to the research conducted by the present inventors, when a cation-reactive hydroxyl vinyl ether is used as the hydroxyl compound, the reaction cannot be obtained without the presence of a base, as described later, and 0.5 mol% If the degree is low, the yield of the desired product is low, and the stability is poor, so it is not suitable as a monomer for polymerization.

しかし、前記の塩基を1モル%以上存在させることに
より収率は90%を超え、しかもえられる生成物も安定と
なり、収率の低下は防ぐことができる。その理由は、塩
基がカルボキシル基とビニル基の反応を防ぎ、かつ前
記したごとく生成したビニルエーテル(II)の環化を防
いでいるものと考えられる。なお、塩基はカルボキシ
ル基と化学量論的に反応するが、前記のごとく反応系内
に酸無水物に対して1モル%以上存在すればよく、そ
のばあいビニルエーテル(I)と(II)の混合物がえら
れる。
However, the presence of the above-mentioned base in an amount of 1 mol% or more makes the yield more than 90%, and the obtained product becomes stable, so that the decrease in the yield can be prevented. It is considered that the reason is that the base prevents the reaction between the carboxyl group and the vinyl group and also prevents the cyclization of the vinyl ether (II) produced as described above. Although the base reacts stoichiometrically with the carboxyl group, it may be present in the reaction system in an amount of 1 mol% or more with respect to the acid anhydride as described above, in which case the vinyl ether (I) and (II) A mixture is obtained.

また、モノマー組成物はビニルエーテル(I)と(II)
との混合物に塩基を加え、ビニルエーテル(II)と反
応させることによってもえられる。後添加する塩基は
反応の際に存在させた塩基と同一でも異なっていてもよ
い。このばあいもビニルエーテル(II)のカルボキシル
基と塩基とは化学量論的に反応する。
Further, the monomer composition is vinyl ether (I) and (II)
It can also be obtained by adding a base to a mixture with and reacting with vinyl ether (II). The base added afterwards may be the same as or different from the base present during the reaction. Also in this case, the carboxyl group of vinyl ether (II) and the base react stoichiometrically.

塩基としては前記のごとくアルカリ金属化合物と特定
の1官能性の塩基性化合物が用いられる。
As the base, an alkali metal compound and a specific monofunctional basic compound are used as described above.

アルカリ金属化合物としては、Li,KまたはNaの化合物が
好ましく、たとえば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
ラート、カリウムメチラートなどがあげられる。
As the alkali metal compound, a compound of Li, K or Na is preferable, and for example, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate,
Examples thereof include potassium carbonate, sodium methylate, sodium ethylate and potassium methylate.

特定の1官能性の塩基性化合物は、前記のごとくチッ素
原子またはリン原子を含有する化合物であって、そのpK
aが6〜12、好ましくは8〜11の塩基性化合物である。p
Kaがこの範囲にあるものは塩形成能が高く、ビニルエー
テル(II)の安定化作用が大きい。すなわち、二塩基性
酸無水物のカルボン酸よりも高いpKaを有するものが
高い塩形成能を有し、特に対応するカルボン酸よりも3
〜8高いpKaを有するものが好ましい。好適な1官能性
の塩基性化合物としてはアンモニア、アミン類、フォス
フィン類などがあげられる。アミン類の具体例として
は、たとえばメチルアミン、エチルアミン、n−プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イ
ソブチルアミン、sec−ブチルアミン、1,2−ジメチルプ
ロピルアミン、2−エチルヘキシルアミン、トリデシル
アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プ
ロピルアミン、ジ−イソプロピルアミン、ジブチルアミ
ン、ジ−イソブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、
ジ−2−エチルヘキシルアミン、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n
−ブチルアミン、N−メチルブチルアミン、N−エチル
ブチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメ
チルイソプロピルアミン、N,N−ジメチルテトラデシル
アミン、N,N−ジメチルオクタデシルアミン、2−メト
キシエチルアミン、3−エトキシエチルアミン、シクロ
ヘキシルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、N,N−
ジメチルベンジルアミン、4−メトキシフェニルエチル
アミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、イソプロパノールアミン、ジメチル
エタノールアミン、ピロリジン、ピペリジン、1−メチ
ルピペリジン、4−メチルピペリジン、モルホリンなど
があげられる。
The specific monofunctional basic compound is a compound containing a nitrogen atom or a phosphorus atom as described above, and its pK
a is a 6-12 basic compound, preferably 8-11 basic compound. p
Those having Ka in this range have high salt-forming ability and have a large stabilizing effect on vinyl ether (II). That is, a dibasic acid anhydride having a higher pKa than that of the carboxylic acid has a high salt-forming ability, and particularly 3% higher than that of the corresponding carboxylic acid.
Those with a pKa of ~ 8 are preferred. Suitable monofunctional basic compounds include ammonia, amines, phosphines and the like. Specific examples of amines include, for example, methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, sec-butylamine, 1,2-dimethylpropylamine, 2-ethylhexylamine, tridecylamine, Dimethylamine, diethylamine, di-n-propylamine, di-isopropylamine, dibutylamine, di-isobutylamine, di-sec-butylamine,
Di-2-ethylhexylamine, trimethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n
-Butylamine, N-methylbutylamine, N-ethylbutylamine, N, N-dimethylethylamine, N, N-dimethylisopropylamine, N, N-dimethyltetradecylamine, N, N-dimethyloctadecylamine, 2-methoxyethylamine, 3-ethoxyethylamine, cyclohexylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, dicyclohexylamine, benzylamine, N, N-
Examples thereof include dimethylbenzylamine, 4-methoxyphenylethylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, isopropanolamine, dimethylethanolamine, pyrrolidine, piperidine, 1-methylpiperidine, 4-methylpiperidine, and morpholine.

フォスフィン類の具体例としては、たとえばトリメチル
フォスフィン、トリエチルフォスフィン、トリプロピル
フォスフィン、トリブチルフォスフィン、トリオクチル
フォスフィン、トリラウリルフォスフィン、トリステア
リルフォスフィン、ジメチルフォスフィン、ジエチルフ
ォスフィン、ジブチルフォスフィン、ジオクチルフォス
フィン、ジラウリルフォスフィンのごときジ−もしくは
トリアルキルフォスフィン類;トリス(3−ヒドロキシ
プロピル)フォスフィン、トリス(2−シアノエチル)
フォスフィン、トリス(2−メトキシエチル)フォスフ
ィン、トリス(2−クロロエチル)フォスフィン、トリ
ス(2−メトキシカルボニル)フォスフィン、トリス
(2−(2−ジメチルアミノエトキシ)カルボニル)フ
ォスフィン、トリス(2−エトキシカルボニル)フォス
フィン、ビス(3−ヒドロキシプロピル)フォスフィ
ン、ビス(2−シアノエチル)フォスフィンのごときジ
−もしくはトリ−置換アルキルフォスフィン類;ジシク
ロペンチルフォスフィン、ジシクロヘキシルフォスフィ
ン、トリシクロペンチルフォスフィン、トリシクロヘキ
シルフォスフィンのごとき脂環式フォスフィン類;トリ
フェニルフォスフィン、トリス(4−メチルフェニル)
フォスフィン、ジフェニルフォスフィン、ビス(4−メ
チルフェニル)フォスフィンのごときジ−もしくはトリ
アリールフォスフィン類;トリベンジルフォスフィン、
トリフェネチルフォスフィン、ジベンジルフォスフィ
ン、ジフェネチルフォスフィンのごときジ−もしくはト
リ−アラルキルフォスフィン類;テトラメチレンフォス
フィン、テトラメチレン−メチル−フォスフィンなどの
環内にリン原子を有するフォスフィン類;ジフェニルメ
チルフォスフィン、ジフェニルエチルフォスフィン、フ
ェニルジエチルフォスフィンのごときリン原子に互いに
異なる2種または3種の有機基が結合したフォスフィン
類などがあげられる。特に第3級アミンが好ましい。
Specific examples of phosphines include, for example, trimethylphosphine, triethylphosphine, tripropylphosphine, tributylphosphine, trioctylphosphine, trilaurylphosphine, tristearylphosphine, dimethylphosphine, diethylphosphine, dibutyl. Di- or trialkylphosphines such as phosphine, dioctylphosphine and dilaurylphosphine; tris (3-hydroxypropyl) phosphine, tris (2-cyanoethyl)
Phosphine, tris (2-methoxyethyl) phosphine, tris (2-chloroethyl) phosphine, tris (2-methoxycarbonyl) phosphine, tris (2- (2-dimethylaminoethoxy) carbonyl) phosphine, tris (2-ethoxycarbonyl) Di- or tri-substituted alkylphosphines such as phosphine, bis (3-hydroxypropyl) phosphine, bis (2-cyanoethyl) phosphine; dicyclopentylphosphine, dicyclohexylphosphine, tricyclopentylphosphine, tricyclohexylphosphine Alicyclic phosphines; triphenylphosphine, tris (4-methylphenyl)
Di- or triarylphosphines such as phosphine, diphenylphosphine, bis (4-methylphenyl) phosphine; tribenzylphosphine,
Di- or tri-aralkylphosphines such as triphenethylphosphine, dibenzylphosphine and diphenethylphosphine; phosphines having a phosphorus atom in the ring such as tetramethylenephosphine and tetramethylene-methylphosphine; diphenyl Examples thereof include phosphines such as methylphosphine, diphenylethylphosphine, and phenyldiethylphosphine in which two or three different organic groups are bonded to a phosphorus atom. A tertiary amine is particularly preferable.

反応温度は、通常−80〜100℃、好ましくは20〜50℃で
ある。溶媒は、通常使用するが、使用しなくても実施で
きる。溶媒は、二塩基性酸無水物と反応するアルコール
類を除き使用することができるが、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類
が、原料の反応性の低下、反応混合物の着色などをもた
らさないので好ましい。塩基の使用量は、前記の二
塩基性酸無水物に対して、通常0.01〜1.2、好ましくは
0.05〜1.0(ただし、モル比)である。
The reaction temperature is generally −80 to 100 ° C., preferably 20 to 50 ° C. A solvent is usually used, but it can be carried out without using it. The solvent can be used except for alcohols that react with dibasic acid anhydrides, but ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone may cause a decrease in the reactivity of raw materials and coloring of the reaction mixture. It is preferable because it does not exist. The amount of the base used is usually 0.01 to 1.2 with respect to the above dibasic acid anhydride, preferably
It is 0.05 to 1.0 (however, molar ratio).

本発明の製造法は、かかるビニルエーテルモノマー組成
物とフルオロオレフィンを共重合させる際に、ビニルエ
ーテルモノマー組成物中のビニルエーテル(I)をビニ
ルエーテル(II)の1〜50モル%、好ましくは5〜50モ
ル%とに特徴がある。
In the production method of the present invention, when the vinyl ether monomer composition and a fluoroolefin are copolymerized, the vinyl ether (I) in the vinyl ether monomer composition is 1 to 50 mol% of the vinyl ether (II), preferably 5 to 50 mol. It is characterized by%.

ビニルエーテル(I)が(II)の50モル%を超えると、
モノマー組成物自体の安定性は問題ないがハロゲンイオ
ンの発生量が大きくなり、その塩折効果によりたとえば
水性塗料などの水性液にしたばあい安定性に劣る。電着
塗料として使用するばあいは、さらに前記のごとき悪影
響を与える。
When the vinyl ether (I) exceeds 50 mol% of (II),
The stability of the monomer composition itself is not a problem, but the amount of halogen ions generated is large, and the salt composition has poor stability when used in an aqueous liquid such as an aqueous paint. When it is used as an electrodeposition paint, the above-mentioned adverse effects are further exerted.

一方、1モル%未満のばあいは、ハロゲンイオンの発生
量は抑えられるが、ビニルエーテル組成物の安定性がわ
るく、収率の低下をきたすのみならず、その分解物によ
って塗膜性能(ワキやハジキなど)が低下する。さらに
電着塗料のばあいに雑イオン(酢酸イオンなど)の増加
につながる。
On the other hand, when the amount is less than 1 mol%, the amount of halogen ions generated is suppressed, but the vinyl ether composition is poor in stability and not only the yield is lowered, but also the decomposition product thereof causes the coating film performance (armpit and Repelling, etc.) will decrease. Furthermore, in the case of electrodeposition paint, it leads to an increase in miscellaneous ions (such as acetate ions).

本発明の製造法によれば、生成共重合体中のフッ素イオ
ンを500ppm以下、フッ素イオンと塩素イオンの合計量を
1500ppm以下に抑えることができ、収率も90%以上に維
持することができる。
According to the production method of the present invention, the fluorine ion in the produced copolymer is 500 ppm or less, and the total amount of fluorine ion and chlorine ion is
It can be suppressed to 1500 ppm or less, and the yield can be maintained at 90% or more.

共重合系は、基本的にビニルモノマー組成物、フルオロ
オレフィン、溶媒、重合開始剤からなる。重合方法とし
ては乳化重合、懸濁重合、溶液重合などを採用すること
ができる。
The copolymerization system basically comprises a vinyl monomer composition, a fluoroolefin, a solvent and a polymerization initiator. As the polymerization method, emulsion polymerization, suspension polymerization, solution polymerization and the like can be adopted.

重合温度は開始剤や溶媒の種類に応じて適宜変更するこ
とができるが、通常−20〜150℃、好ましくは、5〜95
℃である。反応圧力も適宜選択可能であるが、通常0〜
50kg/cm2Gである。
The polymerization temperature can be appropriately changed depending on the type of the initiator and the solvent, but is usually −20 to 150 ° C., preferably 5 to 95.
℃. The reaction pressure can be appropriately selected, but is usually 0 to
It is 50 kg / cm 2 G.

フルオロオレフィンとしては、たとえばテトラフルオロ
エチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオ
ロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデ
ン、フッ化ビニルなどをあげることができる。
Examples of fluoroolefins include tetrafluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, hexafluoropropylene, trifluoroethylene, vinylidene fluoride, vinyl fluoride and the like.

本発明において、ビニルエーテル(I)、(II)とフル
オロオレフィンの反応モル比は、通常、ビニルエーテル
/フルオロオレフィン=0.1〜80/20〜99.9である。
In the present invention, the reaction molar ratio of vinyl ether (I), (II) and fluoroolefin is usually vinyl ether / fluoroolefin = 0.1-80 / 20-99.9.

水溶性塗料として含フッ素共重合体を使用するばあい、
この共重合体の水溶性を良好にするうえで、ビニルエー
テル(I)、(II)は5〜60モル%含有されていること
が好ましく、これのカルボキシル基は30%以上中和され
ていることがさらに好ましい(電着塗装のばあい)。中
和に用いる化合物としては前記塩基で例示したものが
あげられる。
When using a fluorocopolymer as a water-soluble paint,
In order to improve the water solubility of this copolymer, it is preferable that the vinyl ethers (I) and (II) are contained in an amount of 5 to 60 mol%, and the carboxyl groups thereof are neutralized by 30% or more. Is more preferable (for electrodeposition coating). Examples of the compound used for neutralization include those exemplified as the above base.

含フッ素共重合体を有機溶剤に溶解し、いわゆる溶剤型
塗料として使用するばあい、ビニルエーテル(I)、
(II)の含有量は、基材との密着性の点で1〜15モル%
が好ましく、顔料分散性の点で2〜10モル%が好まし
い。
When the fluorine-containing copolymer is dissolved in an organic solvent and used as a so-called solvent type coating material, vinyl ether (I),
The content of (II) is 1 to 15 mol% in terms of adhesion to the base material.
Is preferable, and 2-10 mol% is preferable from the viewpoint of pigment dispersibility.

前記含フッ素共重合体には、ビニルエーテルとフルオロ
オレフィンのほかに、他種のエチレン性不飽和化合物を
含フッ素共重合体に対し80モル%以下の量比で含有させ
ることができる。他種のエチレン性不飽和化合物として
は、たとえば式: CH2=CH−OC=O)kR3 (式中、R3は炭素原子数1〜17の脂肪族基、炭素原子数
3〜17の脂環式基、炭素原子数1〜20のフルオロアルキ
ル基、炭素原子数1〜17の水酸基含有脂肪族基、炭素原
子数3〜17の水酸基含有脂環式基または炭素原子数6〜
20の水酸基含有芳香族基、kは0または1を示す)で表
わされるアルキルビニルエーテルまたはビニルエステル
があげられ、具体例としては、たとえばメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエ
ーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニ
ルエーテル、イソブチルビニルエーテル、t−ブチルビ
ニルエーテル、n−ペンテンビニルエーテル、n−ヘキ
シルビニルエーテル、n−オクチルビニルエーテル、2
−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニ
ルエーテル、ラウリルビニルエーテル、ステアリルビニ
ルエーテル、2,2,2−トリフルオロエチルビニルエーテ
ル、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルビニルエーテ
ル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルビニルエーテ
ル、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンテルビニル
エーテル、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチルビニ
ルエーテル、酢酸ビニルエステル、プロピオン酸ビニル
エステル、酢酸ビニルエステル、ピバリン酸ビニルエス
テル、カプロン酸ビニルエステル、ラウリン酸ビニルエ
ステル、バーサチック酸ビニルエステル、シクロヘキサ
ンカルボン酸ビニルエステル、4−ヒドロキシブチルビ
ニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、
3−ヒドロキシ−n−プロピルビニルエーテル、2−ヒ
ドロキシ−iso−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロ
キシ−2−メチルエチルビニルエーテル、2−ヒドロキ
シ−1,1−ジメチルエチルビニルエーテル、4−ヒドロ
キシシクロヘキシルビニルエーテル、3−ヒドロキシシ
クロヘキシルビニルエーテル、2−ヒドロキシシクロヘ
キシルビニルエーテル、4−ヒドロキシベンゾオキシビ
ニルなどがあげられる。
In addition to vinyl ether and fluoroolefin, the fluorine-containing copolymer may contain another kind of ethylenically unsaturated compound in an amount ratio of 80 mol% or less with respect to the fluorine-containing copolymer. Other types of ethylenically unsaturated compounds, for example the formula: CH 2 = CH-OC = O) k R 3 ( wherein, R 3 is an aliphatic group having a carbon number of 1 to 17, carbon atoms 3 to 17 Alicyclic group, fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, hydroxyl group-containing aliphatic group having 1 to 17 carbon atoms, hydroxyl group containing alicyclic group having 3 to 17 carbon atoms, or 6 carbon atoms
Alkyl vinyl ether or vinyl ester represented by 20 hydroxyl group-containing aromatic groups, k is 0 or 1, and specific examples include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n- Butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, n-pentene vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, n-octyl vinyl ether, 2
-Ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, stearyl vinyl ether, 2,2,2-trifluoroethyl vinyl ether, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl vinyl ether, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl Vinyl ether, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentene vinyl ether, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate , Vinyl acetate, pivalic acid vinyl ester, caproic acid vinyl ester, lauric acid vinyl ester, versatic acid vinyl ester, cyclohexanecarboxylic acid vinyl ester, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether,
3-hydroxy-n-propyl vinyl ether, 2-hydroxy-iso-propyl vinyl ether, 2-hydroxy-2-methylethyl vinyl ether, 2-hydroxy-1,1-dimethylethyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 3-hydroxycyclohexyl Examples thereof include vinyl ether, 2-hydroxycyclohexyl vinyl ether and 4-hydroxybenzooxy vinyl.

さらに式: CH2=CX8C(=O)O)mR9 (式中、X8は水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル
基またはトリフルオロメチル基、R9は水素原子、塩素原
子、炭素原子数1〜17の脂肪族基、ヒドロキシル基を有
する炭素原子数1〜17の脂肪族基、炭素原子数3〜17の
脂環式基または炭素原子数1〜20のフルオロアルキル
基、mは0または1を示す)で表わされる化合物があげ
られ、具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブ
テン、イソブテン、スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、イソブチルアクリレート、メチルアクリレート、
エチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプ
ロピルα−フルオロアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7−ドデカフルオロペンチルα−トリフルオロメチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,
15−ノナコサフルオロペンタデシルアクリレート、2−
ヒドロキシプロピルα−クロロアクリレート、オクチル
α−クロロアクリレート、オクタデシルアククリレート
などがあげられる。
Furthermore, the formula: CH 2 ═CX 8 C (═O) O) m R 9 (wherein, X 8 is a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group, and R 9 is a hydrogen atom or a chlorine atom. An aliphatic group having 1 to 17 carbon atoms, an aliphatic group having 1 to 17 carbon atoms having a hydroxyl group, an alicyclic group having 3 to 17 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, m represents 0 or 1), and specific examples include ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, styrene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isobutyl acrylate, methyl acrylate,
Ethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl α-fluoroacrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7-dodecafluoropentyl α-trifluoromethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,
15-Nonacosafluoropentadecyl acrylate, 2-
Examples thereof include hydroxypropyl α-chloroacrylate, octyl α-chloroacrylate and octadecyl acrylate.

また、式: CH2=CHCH2X9 (式中、X9は炭素原子、水酸基または炭素原子数1〜8
の脂肪族オキシ基を示す)で表わされる化合物も使用で
き、具体例としてはたとえばアリルアルコール、アリル
クロライド、アリルメチルエーテル、アリルイソプロピ
ルエーテル、アリルオクチルエーテルなどがあげられ
る。
Further, the formula: CH 2 ═CHCH 2 X 9 (wherein, X 9 is a carbon atom, a hydroxyl group or a carbon number of 1 to 8).
Which represents an aliphatic oxy group of), and specific examples thereof include allyl alcohol, allyl chloride, allyl methyl ether, allyl isopropyl ether, and allyl octyl ether.

また要すれば、共重合時に少量の多価金属(たとえばM
g、Ca、Zn、Alなど)または多官能性のチッ素原子もし
くはリン原子含有化合物(たとえばアルキルジアミン、
アルキルトリアミンなどのポリアミン類、アルキルジフ
ォスフィン、アルキルトリフォスフィンなどのポリフォ
スフィン類)とビニルエーテル(II)との塩からなるジ
ビニルエーテルやトリビニルエーテルなどを共重合成分
として存在させることもでき、このばあいは部分ゲル化
により艶消しなどの用途に用いることができる。
If necessary, a small amount of polyvalent metal (for example, M
g, Ca, Zn, Al) or polyfunctional compounds containing nitrogen or phosphorus atoms (eg alkyldiamine,
Polyamines such as alkyltriamine, polydiphosphines such as alkyldiphosphine and alkyltriphosphine) and divinyl ether or trivinyl ether, which is a salt of vinyl ether (II), can be present as a copolymerization component. When it is partially gelled, it can be used for matting.

重合溶媒としては、トリクロロトリフルオロエタン、ジ
クロロテトラフルオロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの
エステル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ルなどのアルコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、モノグライム、ジグライムなどのグリコールエ
ーテル類、水などをあげることができる。
As the polymerization solvent, halogenated hydrocarbons such as trichlorotrifluoroethane and dichlorotetrafluoroethane, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and aromatics such as toluene and xylene. Examples thereof include group hydrocarbons, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, glycol ethers such as ethyl cellosolve, butyl cellosolve, monoglyme and diglyme, and water.

重合開始剤としては、たとえば過硫酸塩(過硫酸アンモ
ニウム、過硫酸カリウムなど)、過硫酸塩と亜硫酸塩
(亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウムなど)または酸性
亜硫酸塩(酸性亜硫酸カリウム、酸性亜硫酸ナトリウム
など)からなるレドックス系開始剤、有機過酸化物(ジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、tert−ブチル
パーオキシブチレート、ベンゾイルパーオキサイド、イ
ソブチリルパーオキサイドなど)、アゾ化合物(アゾビ
スイソブチロニトリルなど)などをあげることができ
る。開始剤の使用量は、通常使用する全単量体に対し0.
001〜5重量%、好ましくは0.05〜2.0重量%である。
Examples of the polymerization initiator include persulfates (ammonium persulfate, potassium persulfate, etc.), persulfates and sulfites (potassium sulfite, sodium sulfite, etc.), or acidic sulfites (potassium acid sulfite, sodium acid sulfite, etc.). Examples include redox initiators, organic peroxides (diisopropyl peroxydicarbonate, tert-butyl peroxybutyrate, benzoyl peroxide, isobutyryl peroxide, etc.), azo compounds (azobisisobutyronitrile, etc.), etc. You can The amount of the initiator used is 0 with respect to all the monomers normally used.
It is 001 to 5% by weight, preferably 0.05 to 2.0% by weight.

本発明の製造法の操作方式は、回分式、連続式、半連続
式のいずれでもよい。
The operation system of the production method of the present invention may be a batch system, a continuous system, or a semi-continuous system.

つぎに本発明の実施例に基づいて説明するが、本発明は
かかる実施例のみに限定されるものではない。
Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

参考例1 1000mlのフラスコに無水1,2−シクロヘキサンジカルボ
ン酸(酸無水物)405g(2.63モル)およびアセトン40g
からなる溶液を入れ、トリエチルアミン(塩基:pKa=1
0.72)2.63g(0.28モル)を添加し、磁気攪拌機で5分
間攪拌した。
Reference Example 1 In a 1000 ml flask, anhydrous 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid (anhydride) 405 g (2.63 mol) and acetone 40 g
Solution containing triethylamine (base: pKa = 1
0.72) 2.63 g (0.28 mol) was added, and the mixture was stirred with a magnetic stirrer for 5 minutes.

この混合物を氷水で0〜10℃になるように冷却しなが
ら、ヒドロキシブチルビニルエーテル305g(2.63モル)
を2g/分の割合で滴下した。
While cooling this mixture with ice water to 0 to 10 ° C, 305 g (2.63 mol) of hydroxybutyl vinyl ether was added.
Was added dropwise at a rate of 2 g / min.

反応混合物についてフーリエ変換核磁気共鳴分析(FT-N
MR、13C、テトラメチルシラン標準)を行ない、下記の
本発明のビニルエーテル(I)(以下、cHHEM塩とい
う)と対応する遊離のビニルエーテル(II)(以下、cH
HEMという)がほぼ10/85(モル比)での収率で生成して
いることを確認した。各炭素原子(a〜mの符号を付
す)のケミカルシフトを示す。
Fourier Transform Nuclear Magnetic Resonance Analysis (FT-N) of the reaction mixture
MR, 13 C, tetramethylsilane standard) was performed, and the following vinyl ether (I) of the present invention (hereinafter referred to as cHHEM salt) and corresponding free vinyl ether (II) (hereinafter referred to as cHHEM salt) were used.
It was confirmed that HEM) was produced in a yield of about 10/85 (molar ratio). The chemical shift of each carbon atom (denoted by a to m) is shown.

のケミカルシフトを示す。Shows the chemical shift of.

δ(ppm)=85.6(a)、151.5(b)、67.2(c)、2
5.3-25.6(d)、62.8(e)、173.3(f)、42.9
(g)、27.4(h)、24.4(i)、43.5(j)、176.2
(k)、44.9(i)、9.1(m) 参考性2 参考例1のトリエチルアミン量を第1表に示す量に変更
したほかは参考例1と同様の手順でcHHEM塩とcHHEMとか
らなるモノマー組成物を製造した。FT-NMRで分析した収
率を第1表に示す。
δ (ppm) = 85.6 (a), 151.5 (b), 67.2 (c), 2
5.3-25.6 (d), 62.8 (e), 173.3 (f), 42.9
(G), 27.4 (h), 24.4 (i), 43.5 (j), 176.2
(K), 44.9 (i), 9.1 (m) Reference property 2 A monomer comprising cHHEM salt and cHHEM in the same procedure as in Reference Example 1 except that the amount of triethylamine in Reference Example 1 was changed to the amount shown in Table 1. A composition was produced. The yields analyzed by FT-NMR are shown in Table 1.

さらに、えられた反応生成物の20℃および−20℃で保存
したときの分解率(%)を13C−NMRによって調べた。
結果を第1表に併記する。
Further, the decomposition rate (%) of the obtained reaction product when stored at 20 ° C and -20 ° C was examined by 13 C-NMR.
The results are also shown in Table 1.

参考例3 参考例2の実験番号2の条件でえられた反応生成物(cH
HEM塩/cHHEM=0.1/84.9:モル比)に第2表に示す塩基を
加えてcHHEMをcHHEM塩に変換し、参考例2と同様にして
分解率を調べた。結果を第2表に示す。
Reference Example 3 Reaction product obtained under the condition of Experiment No. 2 of Reference Example 2 (cH
The bases shown in Table 2 were added to (HEM salt / cHHEM = 0.1 / 84.9: molar ratio) to convert cHHEM into a cHHEM salt, and the decomposition rate was examined in the same manner as in Reference Example 2. The results are shown in Table 2.

第2表から明らかなように、pKaが6未満の塩基性化合
物ではその塩基性が弱いためcHHEMの安定化への寄与が
小さいことがわかる。
As is clear from Table 2, the basic compound having a pKa of less than 6 has a weak basicity and thus has a small contribution to the stabilization of cHHEM.

実施例1 攪拌機を備えた容積800mlのガラス製オートクレーブに
モノグライム160gを仕込み、液体チッ素で固化後、脱気
した。
Example 1 160 g of monoglyme was charged into a glass autoclave having a volume of 800 ml equipped with a stirrer, solidified with liquid nitrogen, and then deaerated.

その後、クロロトリフルオロエチレン(以下、CTFEとい
う)を128.2g仕込み、系内を65℃に加熱した。つぎに、
別途参考例1でえたビニルエーテルモノマー組成物(cH
HEM塩/cHHEM=10/85、モル比)72.83g、ヒドロキシブチ
ルビニルエーテル(以下、HBVEという)49.9g、炭素原
子数10のアルキル基を有するカルボン酸のビニルエステ
ル[シエル化学社製のベオバ10(以下、VAという)]6
1.4gおよびアゾビスイソブチロニトリル(以下、AIBNと
いう)1.64gを混合し、液体チッソで固化後脱気したモ
ノマー混合物を4時間かけて連続して仕込んだ。系内温
度は65℃に維持した。仕込み終了後、65℃で16時間反応
を続け、カルボキシル基含有含フッ素共重合体をえた。
収量は451gで共重合体濃度は64.3%であった(収率、9
8.9%。理論共重合体濃度65%とした)。
Then, 128.2 g of chlorotrifluoroethylene (hereinafter referred to as CTFE) was charged, and the system was heated to 65 ° C. Next,
Vinyl ether monomer composition separately obtained in Reference Example 1 (cH
HEM salt / cHHEM = 10/85, molar ratio) 72.83 g, hydroxybutyl vinyl ether (hereinafter referred to as HBVE) 49.9 g, vinyl ester of a carboxylic acid having an alkyl group having 10 carbon atoms [Coba Chemical's Veova 10 ( Hereinafter referred to as VA)] 6
1.4 g and azobisisobutyronitrile (hereinafter referred to as AIBN) 1.64 g were mixed, and the monomer mixture degassed after solidification with liquid nitrogen was continuously charged for 4 hours. The system temperature was maintained at 65 ° C. After the completion of the charging, the reaction was continued at 65 ° C. for 16 hours to obtain a carboxyl group-containing fluorocopolymer.
The yield was 451 g and the copolymer concentration was 64.3% (yield, 9
8.9%. The theoretical copolymer concentration was 65%).

えられた共重合体中のフッ素イオンと塩素イオンの濃度
を測定した。
The concentrations of fluorine ion and chlorine ion in the obtained copolymer were measured.

重合体中のフッ素イオン濃度:220ppm 重合体中の塩素イオン濃度:351ppm (ハロゲンイオン含量の測定法) 含フッ素重合体1.0gをメチルイソブチルケトン100gに溶
解し、イオン交換水100gを入れ、300ccの分液ロートで
よく振ってから分液し、イオンクロマト法によって水相
中のフッ素イオンおよび塩素イオン濃度を測定した。な
お、イオン含量は重合体に対する値である。
Fluorine ion concentration in polymer: 220ppm Chloride ion concentration in polymer: 351ppm (Measurement method of halogen ion content) Fluorine-containing polymer 1.0g was dissolved in methyl isobutyl ketone 100g, ion-exchanged water 100g was put, and 300cc of The mixture was shaken well with a separating funnel and then separated, and the fluorine ion and chlorine ion concentrations in the aqueous phase were measured by an ion chromatography method. The ionic content is the value for the polymer.

実施例2〜5および比較例1〜2 第3表に示す重合系で実施例1と同様にして共重合を行
ない、それぞれ含フッ素共重合体をえた。それらの収量
および共重合体濃度を第3表に示す。
Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 2 Copolymerization was carried out in the same manner as in Example 1 using the polymerization systems shown in Table 3 to obtain fluorine-containing copolymers. Their yields and copolymer concentrations are shown in Table 3.

なお、第3表中、EVEはエチルビニルエーテルを、コハ
ク酸HEMは を、コハク酸HEM塩はそのトリエチルアミン塩を示す。
In Table 3, EVE is ethyl vinyl ether and succinic acid HEM is The succinic acid HEM salt represents its triethylamine salt.

〔発明の効果〕 本発明の製造法によれば、高い収率を維持しつつハロゲ
ンイオンの発生量を抑えることができ、したがってえら
れる共重合体を用いた水性塗料、とくに電着塗料は安定
性も塗装性能も良好で、形成される塗膜も均質で高性能
のものとなる。
[Effects of the Invention] According to the production method of the present invention, it is possible to suppress the amount of halogen ions generated while maintaining a high yield, and therefore a water-based coating using the obtained copolymer, particularly an electrodeposition coating is stable. The coating properties are good and the coating film formed is homogeneous and of high performance.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】式(Ia): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)OM (Ia) (式中、R1は炭素原子数2〜10の2価の脂肪族基、R2
2価の有機基、Mはアルカリ金属である)で表わされる
ビニルエーテル、または式(Ib): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)O ・HY (I
b) (式中、R1およびR2は前記と同じ、Yはチッ素原子また
はリン原子を含有する化合物であって、そのpKaが6〜1
2である1官能性の塩基性化合物である)で表わされる
ビニルエーテルと、式(II): CH2=CHOR1OC(=O)R2C(=O)OH (II) (式中、R1およびR2は前記と同じ)で表わされるビニル
エーテルとからなり、式(Ia)で表わされるビニルエー
テルまたは式(Ib)で表わされるビニルエーテルが式
(II)で表わされるビニルエーテルの1〜50モル%含有
されてなるビニルエーテルモノマー組成物をフルオロオ
レフィンと共重合させることを特徴とするハロゲンイオ
ン発生量の少ない含フッ素共重合体の製造方法。
1. Formula (Ia): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) OM (Ia) (In the formula, R1Is a divalent aliphatic group having 2 to 10 carbon atoms, R2Is
A divalent organic group, M is an alkali metal)
Vinyl ether, or formula (Ib): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) O ・ HY  (I
b) (In the formula, R1And R2Is the same as above, Y is a nitrogen atom or
Is a compound containing a phosphorus atom, and its pKa is 6 to 1
2 is a monofunctional basic compound which is 2)
Vinyl ether and formula (II): CH2= CHOR1OC (= O) R2C (= O) OH (II) (In the formula, R1And R2Is the same as above)
Vinyl ether consisting of ether and represented by formula (Ia)
Tellur or vinyl ether represented by formula (Ib)
Containing 1 to 50 mol% of vinyl ether represented by (II)
The vinyl ether monomer composition prepared by
Halogen-iod characterized by being copolymerized with reffin
A method for producing a fluorine-containing copolymer that generates a small amount of hydrogen.
【請求項2】アルカリ金属がNa、KまたはLiである請求
項1記載の製造法。
2. The method according to claim 1, wherein the alkali metal is Na, K or Li.
【請求項3】塩基性化合物がpKa8〜11のものである請求
項1記載の製造法。
3. The method according to claim 1, wherein the basic compound has a pKa of 8-11.
【請求項4】塩基性化合物がアンモニア、アミン類また
はフォスフィン類である請求項1記載の製造法。
4. The method according to claim 1, wherein the basic compound is ammonia, amines or phosphines.
【請求項5】塩基性化合物が第3アミン類である請求項
4記載の製造法。
5. The method according to claim 4, wherein the basic compound is a tertiary amine.
【請求項6】R2が2価の炭化水素基である請求項1記載
の製造法。
6. The method according to claim 1, wherein R 2 is a divalent hydrocarbon group.
【請求項7】R2が式(i) CHX1 pCX2 2 q (i) [式中、X1は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキ
ル基、X2は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル
基、pおよびqは0または1〜11の整数(ただし、同時
に0であることはない)を示す]で表わされる基、式
(ii): CH2 rCX3=CHs (ii) [式中、rは0または1〜3の整数、sは1〜3の整
数、X3は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基
を示す]で表わされる基、式(iii): [式中、R7はCHX4 t基(ただし、X4は水素原子また
は炭素原子数1〜3のアルキル基、tは1〜4の整数で
ある)、 −CH2CH=CHCH2−基、 で表わされる基、 式(iv): [式中、R8はCHX5 u基(ただし、Xは水素原子また
は炭素原子数1〜3のアルキル基、uは3〜4の整数で
ある)またはCX6=CX7 v基(ただし、X6およびX7
同一または異なり水素原子または炭素原子数1〜3のア
ルキル基、vは2〜3の整数である)を示す]で表わさ
れる基、式(v): −C(=CH2)−CH2− (v) で表わされる基または式(vi): で表わされる基である請求項6記載の製造法。
7. R 2 is of the formula (i) CHX 1 p CX 2 2 q (i) [wherein, X 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and X 2 is a hydrogen atom or a carbon atom. A group represented by formula (ii): CH 2 r CX 3 ═CH, wherein p and q are 0 or an integer of 1 to 11 (however, they are not 0 at the same time) s (ii) [wherein r is 0 or an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 3, X 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms], a group (Iii): [In the formula, R 7 is a CHX 4 t group (provided that X 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and t is an integer of 1 to 4), —CH 2 CH═CHCH 2 — group. , A group represented by the formula (iv): [In the formula, R 8 is a CHX 5 u group (provided that X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, u is an integer of 3 to 4) or a CX 6 = CX 7 v group (provided that X 6 and X 7 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, v is an integer of 2 to 3], a group represented by the formula (v): —C (═CH 2 ) —CH 2 — (v) group or formula (vi): The method according to claim 6, which is a group represented by:
【請求項8】フルオロオレフィンがテトラフルオロエチ
レン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプ
ロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデンお
よびフッ化ビニルよりなる群から選ばれたものである請
求項1記載の製造法。
8. The method according to claim 1, wherein the fluoroolefin is selected from the group consisting of tetrafluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, hexafluoropropylene, trifluoroethylene, vinylidene fluoride and vinyl fluoride.
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