JPH0756179A - Production of transparent conductive film - Google Patents
Production of transparent conductive filmInfo
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- JPH0756179A JPH0756179A JP5198141A JP19814193A JPH0756179A JP H0756179 A JPH0756179 A JP H0756179A JP 5198141 A JP5198141 A JP 5198141A JP 19814193 A JP19814193 A JP 19814193A JP H0756179 A JPH0756179 A JP H0756179A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ポリエーテルサルフォ
ン(以下、PESと称す)フィルムを基板とした透明導
電性フィルムの製造方法に関する。更に詳しくは本発明
は、液晶表示装置用透明電極、電場発光用電極などオプ
トエレクトロニクス、電気分野に広く利用可能な、透明
性、光学的等方性、表面精度に優れたPESフィルムを
基板とする透明導電性フィルムの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a transparent conductive film using a polyether sulfone (hereinafter referred to as PES) film as a substrate. More specifically, the present invention uses as a substrate a PES film having excellent transparency, optical isotropy and surface accuracy, which can be widely used in optoelectronics such as transparent electrodes for liquid crystal display devices and electrodes for electroluminescence, and electric fields. The present invention relates to a method for manufacturing a transparent conductive film.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、液晶表示装置はあらゆる分野で使
用されてきており、特にワードプロセッサーやパーソナ
ルコンピューターなどの電子産業分野で数多く使用され
ている。液晶表示装置は例えば図1に示すような構造を
している。液晶表示装置を薄型、軽量にするために、一
部品である液晶表示装置用用透明電極も薄型化、軽量化
が重要な要求項目となっている。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been used in all fields, particularly in the electronic industry field such as word processors and personal computers. The liquid crystal display device has a structure as shown in FIG. 1, for example. In order to make the liquid crystal display device thin and lightweight, it is an important requirement that the transparent electrode for the liquid crystal display device, which is one component, be thin and lightweight.
【0003】また、液晶表示装置は液晶の配向によって
発生する光学的異方性を利用しているので、透明導電性
フィルムの基板には高度な光学的等方性が必要とされ
る。このため、結晶性の材料で透明電極を作成すると結
晶部分で光の散乱、分子の配向による屈折の原因となる
ために、透明性に優れた非結晶の材料で透明電極を構成
することが望まれている。Further, since the liquid crystal display device utilizes the optical anisotropy generated by the alignment of the liquid crystal, the substrate of the transparent conductive film is required to have a high degree of optical isotropy. Therefore, if a transparent electrode is made of a crystalline material, it will cause light scattering at the crystal part and refraction due to the orientation of molecules, so it is desirable to configure the transparent electrode with an amorphous material with excellent transparency. It is rare.
【0004】また、表面に微細でも凹凸があると光の部
分的な散乱、屈折の原因となるため透明性、光学的等方
性が悪くなり、透明導電性フィルムの基板として用いる
には適さなくなる。その上、透明導電層は非常に薄い膜
であるので、表面が少しでも粗いと透明導電層が均一に
設けることができず部分的な導電性の差異や断線の原因
となるという理由からも表面は平滑でなければならな
い。さらに、複雑な製造工程で使用される各種薬品に対
して侵されない耐薬品性、耐熱性をもつことも必要とさ
れている。また、液晶素子は酸素による劣化を起こし易
いために、透明導電性フィルムはガスバリア性の高いも
のでなければならない。Further, even if the surface is fine, if it has irregularities, it causes partial scattering and refraction of light, which deteriorates transparency and optical isotropy, making it unsuitable for use as a substrate of a transparent conductive film. . Moreover, since the transparent conductive layer is a very thin film, if the surface is a little rough, the transparent conductive layer cannot be evenly provided, which may cause a partial difference in conductivity or disconnection. Must be smooth. Further, it is also required to have chemical resistance and heat resistance that are not affected by various chemicals used in complicated manufacturing processes. Moreover, since the liquid crystal element is easily deteriorated by oxygen, the transparent conductive film must have a high gas barrier property.
【0005】特開昭59−137927号公報には透明
電極の基板として表面を研磨したガラス板が用いられて
いる。ガラス板は非結晶性でありガスバリア能も高い
が、可撓性に劣り、薄型化、量産化という要求に応える
ことが不可能である。In Japanese Patent Laid-Open No. 59-137927, a glass plate having a polished surface is used as a substrate for a transparent electrode. Although a glass plate is non-crystalline and has a high gas barrier ability, it is inferior in flexibility and cannot meet the demands for thinning and mass production.
【0006】そこで、プラスチックフィルム叉はシート
を使用した透明導電性フィルムの基板が提案されてい
る。特開昭60−260019号公報にはポリカーボネ
ート(以下、PCと称す)フィルム、ポリサルフォン
(以下、PSと称す)フィルム、ポリエチレンテレフタ
レート(以下、PETと称す)フィルム、ポリエーテル
エーテルケトン(以下、PEEKと称す)フィルム、P
ESフィルムを基板とする透明導電性フィルムが示され
ているが、PCフィルムは膜厚が薄いとき剛性が悪く、
PSフィルムは耐熱性に不足するため適さず、また、P
ETフィルム、PEEKフィルムは結晶化による光学的
異方性を有するので、光の偏光を利用している液晶表示
装置用透明導電性フィルムの基板として用いるには適さ
ない。Therefore, a transparent conductive film substrate using a plastic film or sheet has been proposed. JP-A-60-260019 discloses a polycarbonate (hereinafter referred to as PC) film, a polysulfone (hereinafter referred to as PS) film, a polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film, a polyether ether ketone (hereinafter referred to as PEEK). Film), P
Although a transparent conductive film using an ES film as a substrate is shown, the PC film has poor rigidity when the film thickness is thin,
PS film is not suitable because it lacks heat resistance.
Since the ET film and the PEEK film have optical anisotropy due to crystallization, they are not suitable for use as a substrate of a transparent conductive film for a liquid crystal display device which utilizes polarized light.
【0007】ここにPESフィルムは耐熱性、機械的特
性、電気的特性、耐薬品性、透明性に優れ、非結晶性で
あるのでエレクトロニクスの分野などで重要なフィルム
である。しかし、通常PESフィルムは溶融押し出し法
により製造されていて、この押し出しフィルムは、融点
が高くかつ流動性の悪いPESを高温高圧条件下で処理
するためしばしばダイライン、フィッシュアイ、ブツな
どを含み表面精度が悪い。このため、光の乱反射や屈折
の乱れが生じ易くなり、透明性、光学的等方性に悪影響
を及ぼしている。また、透明導電層を均一に設けること
ができないため断線が生じ易くなり精密エレクトロニク
スの分野での使用には制限がある。The PES film is an important film in the field of electronics because it has excellent heat resistance, mechanical properties, electrical properties, chemical resistance, transparency and is non-crystalline. However, the PES film is usually manufactured by the melt extrusion method, and the PES film having a high melting point and poor fluidity is processed under high temperature and high pressure conditions. Is bad. Therefore, irregular reflection of light and disorder of refraction are likely to occur, which adversely affects transparency and optical isotropy. Further, since the transparent conductive layer cannot be uniformly provided, disconnection is likely to occur, which limits its use in the field of precision electronics.
【0008】以上の欠点から、押し出し法ではなくPE
Sを有機溶媒に溶解させた溶液を支持体に塗布、乾燥
後、支持体と剥離する方法(キャスティング法)により
PESフィルムを製膜する試みが一部でなされていた。Due to the above-mentioned drawbacks, the PE method is used instead of the extrusion method.
Some attempts have been made to form a PES film by a method in which S is dissolved in an organic solvent is applied to a support, dried, and then peeled from the support (casting method).
【0009】特開昭60−138514号公報にPES
のキャスティングフィルムによる液晶カバーフィルム
(透明導電性フィルム基板)が示されている。しかし、
従来のキャスティング法では、溶媒の蒸発にともなって
表面層の密度、表面張力が不均一になり、表面が平滑な
面とならないでユズ皮の様な凹凸を生ずる現象であるユ
ズ肌などの欠点があり、また、支持体と密着している面
に関しても微細な凹凸があるため、十分に平滑なフィル
ムを得ることはできなかった。Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-138514 discloses PES.
The liquid crystal cover film (transparent conductive film substrate) by the casting film of the above is shown. But,
In the conventional casting method, the density of the surface layer and the surface tension become non-uniform with the evaporation of the solvent, and the surface is not smooth, and there are defects such as yuzu skin, which is a phenomenon that causes unevenness like yuzu skin. In addition, since the surface that is in close contact with the support also has fine irregularities, a sufficiently smooth film could not be obtained.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、平滑性、光学的等方性、表示の鮮明さに優れた透
明導電性フィルムの製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide a method for producing a transparent conductive film which is excellent in smoothness, optical isotropy and display clarity.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、透明導電
性フィルムを使用した液晶表示装置において鮮明でかつ
輝度の高い画像を得るため鋭意検討した結果、キャステ
ィング法によりPESフィルムを製膜する方法におい
て、PES溶液にレベリング剤を適量添加することによ
りコーティング表面の粗度を小さくし、かつ、表面粗度
(Ra)が0.05μm以下の支持体の上にキャスティ
ングすることによりキャスティング面の平滑性を改良で
きることを見い出し、更に同時に実施することにより相
乗的に効果があることを発見し発明を完成させた。DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have conducted extensive studies to obtain a clear and high-luminance image in a liquid crystal display device using a transparent conductive film, and as a result, form a PES film by the casting method. In the method, the roughness of the coating surface is reduced by adding an appropriate amount of a leveling agent to the PES solution, and the casting surface is smoothed by casting on a support having a surface roughness (Ra) of 0.05 μm or less. The inventors have found that the properties can be improved, and have found that they have a synergistic effect when they are carried out simultaneously, and completed the invention.
【0012】すなわち、本発明はポリエーテルサルフォ
ン溶液にレベリング剤を加え、表面粗度(Ra)が0.
05μm以下の支持体に塗布、乾燥した後、支持体から
剥離して製膜したフィルムの片面に透明導電層を積層
し、更に少なくとも片面にガスバリア層を積層すること
を特徴とする透明導電性フィルムの製造方法である。That is, according to the present invention, a leveling agent is added to a polyether sulfone solution to give a surface roughness (Ra) of 0.
A transparent conductive film characterized in that a transparent conductive layer is laminated on one surface of a film formed by peeling from the support after coating and drying on a support having a thickness of 05 μm or less, and further a gas barrier layer is laminated on at least one surface. Is a manufacturing method.
【0013】本発明のPESとしては、市販のPES樹
脂が使用できる。本発明においてキャスティング法によ
りPESフィルムを製膜する場合に用いるPESの溶媒
には、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと
称す)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下、DMA
Cと称す)、シクロヘキサノン(以下、CHと称す)、
N−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPと称す)、
ジクロロメチル、クロロホルム、テトラクロロエタン、
塩化メチレンなどPESが溶解可能な有機溶媒があげら
れる。特に、PESの溶解性、沸点の面からDMF、D
MAC、CH、NMPが好ましい。また、PESを直接
溶解させる作用はないがメチルエチルケトン、トルエ
ン、アセトンなどを希釈剤として用いてもよい。A commercially available PES resin can be used as the PES of the present invention. In the present invention, the solvent of PES used when forming a PES film by the casting method includes N, N-dimethylformamide (hereinafter, referred to as DMF), N, N-dimethylacetamide (hereinafter, DMA).
C), cyclohexanone (hereinafter referred to as CH),
N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter referred to as NMP),
Dichloromethyl, chloroform, tetrachloroethane,
An organic solvent in which PES can be dissolved, such as methylene chloride, can be used. Especially, from the viewpoint of solubility and boiling point of PES, DMF, D
MAC, CH, NMP are preferred. Further, although it does not directly dissolve PES, methyl ethyl ketone, toluene, acetone or the like may be used as a diluent.
【0014】PESの溶解法については特に限定はしな
いが、例えば加温状態にある溶媒にPESのパウダーを
攪拌しながら添加する方法がある。平滑にキャスティン
グするためにはPESを溶解する際に生じた泡を脱気す
ることが好ましい。溶媒に対するPESの割合は特に限
定はしないが、経済性、塗布のしやすさの点から溶媒1
00重量部に対して20〜100重量部が好ましい。The method of dissolving PES is not particularly limited, but for example, there is a method of adding PES powder to a solvent in a heated state while stirring. For smooth casting, it is preferable to degas bubbles generated when PES is dissolved. The ratio of PES to the solvent is not particularly limited, but solvent 1 may be used in terms of economy and ease of coating.
20 to 100 parts by weight is preferable with respect to 00 parts by weight.
【0015】また、PES溶液にレベリング剤を適量加
えることが好ましい。PES溶液をそのまま支持体に塗
布すると、乾燥過程で粘度が変化し表面の凹凸の原因と
なる。そこで、表面張力を下げる作用のあるレベリング
剤を添加しキャスティングを行うとPES溶液の流展性
が良くなり、表面の凹凸を防止できるので均一な塗膜を
得ることができる。Further, it is preferable to add an appropriate amount of a leveling agent to the PES solution. When the PES solution is applied as it is to the support, the viscosity changes during the drying process, which causes unevenness on the surface. Therefore, when a leveling agent having a function of lowering the surface tension is added and casting is performed, the flowability of the PES solution is improved, and unevenness on the surface can be prevented, so that a uniform coating film can be obtained.
【0016】用いるレベリング剤としては、例えばポリ
ジメチルシロキサン、メチルフェニルシロキサン、有機
変性シロキサンなどのシリコン系のもの、ポリアルキル
アクリレート、ポリアルキルビニルエーテルなどの直鎖
状重合物、フッ素系界面活性剤、テトラフルオロエチレ
ンなどのフッ素系のもの、炭化水素系界面活性剤などが
あげられる。レベリング能の高さ、透明性、光学的等方
性などの品質に影響しないこと、耐熱性に極めて優れて
いることから特にシリコン系、フッ素系のものが特に好
ましい。Examples of the leveling agent to be used include silicon-based ones such as polydimethyl siloxane, methylphenyl siloxane and organic modified siloxanes, linear polymers such as polyalkyl acrylates and polyalkyl vinyl ethers, fluorine-based surfactants, tetra-functional surfactants. Examples thereof include fluorine-based ones such as fluoroethylene and hydrocarbon-based surfactants. Silicon type and fluorine type are particularly preferable because they do not affect the quality such as high leveling ability, transparency and optical isotropy, and have extremely excellent heat resistance.
【0017】レベリング剤の添加割合はPES溶液10
0重量部に対して0.01〜5重量部が好ましい。レベ
リング剤の添加割合が上記の範囲内である場合には、レ
ベリング剤の効果により表面が平滑で透明なフィルムを
得ることができる。レベリング剤の添加割合が0.01
重量部より少ない場合にはレベリング剤の効果が出ず、
また、5重量部より多い場合にはPES溶液が均一に流
展せず、はじかれたり、乾燥後レベリング剤が表面に浮
きだし光の散乱を起こすために好ましくない。レベリン
グ剤のPES溶液への添加方法は特に限定しないが、液
状のレベリング剤を添加する場合は、PES溶液を攪拌
しながらレベリング剤を滴下することにより行う方法が
例としてあげられる。The addition ratio of the leveling agent is 10% for the PES solution.
0.01 to 5 parts by weight is preferable with respect to 0 parts by weight. When the addition ratio of the leveling agent is in the above range, a film having a smooth surface and a transparent surface can be obtained due to the effect of the leveling agent. Addition ratio of leveling agent is 0.01
If less than the weight part, the effect of the leveling agent does not appear,
On the other hand, if the amount is more than 5 parts by weight, the PES solution does not flow evenly and is repelled, or the leveling agent floats on the surface after drying and scatters light. The method of adding the leveling agent to the PES solution is not particularly limited, but when adding a liquid leveling agent, a method of dropping the leveling agent while stirring the PES solution can be given as an example.
【0018】また、安定剤、消泡剤など各種品質改良剤
を、表面の平滑性、透明性、光学的等方性などの性質を
損なわない範囲で使用してもよい。Further, various quality improving agents such as stabilizers and defoamers may be used within a range not impairing the properties such as surface smoothness, transparency and optical isotropy.
【0019】PES溶液を塗布する支持体は、PETフ
ィルム、PCフィルム、PEEKフィルム、ポリイミド
(以下、PIと称す)フィルム、ポリプロピレンフィル
ムなど表面が平滑で耐熱性、使用有機溶媒に対する耐薬
品性のあるどのプラスチックフィルムでも良いが、耐熱
性、表面の平滑性、経済性から特にPETフィルムが好
ましい。The support on which the PES solution is applied is a PET film, a PC film, a PEEK film, a polyimide (hereinafter referred to as PI) film, a polypropylene film or the like, has a smooth surface, heat resistance, and chemical resistance to the organic solvent used. Although any plastic film may be used, a PET film is particularly preferable in terms of heat resistance, surface smoothness, and economy.
【0020】また、支持体の表面粗度(Ra)は0.0
5μm以下であることが好ましい。0.05μm以下で
あれば、液晶表示装置用の透明導電性フィルムとして用
いるにふさわしい、表面の平滑なPESフィルムが得ら
れる。0.05μmを超えると支持体の表面は十分に平
滑であるといえず、キャスティング法によりPESフィ
ルムを製膜する際にPESフィルムの支持体に密着して
いる面に支持体の凹凸が転写され、表面粗度の大きい、
平滑ではないPESフィルムとなる。そのため、フィル
ムの表面で光の屈折や散乱が起こり、透明性、光学的等
方性を要求される液晶表示装置用透明導電性フィルムの
基板として用いるには適さなくなる。The surface roughness (Ra) of the support is 0.0
It is preferably 5 μm or less. When the thickness is 0.05 μm or less, a PES film having a smooth surface suitable for use as a transparent conductive film for a liquid crystal display device can be obtained. If it exceeds 0.05 μm, the surface of the support cannot be said to be sufficiently smooth, and when the PES film is formed by the casting method, the irregularities of the support are transferred to the surface of the PES film that is in close contact with the support. , High surface roughness,
The PES film is not smooth. Therefore, light refraction and scattering occur on the surface of the film, which makes it unsuitable for use as a substrate of a transparent conductive film for a liquid crystal display device which requires transparency and optical isotropy.
【0021】塗布方法は均一に流延出来るものであれば
何でもよいが、例えば、ダイコート法、メイヤーバーコ
ート法、3本リバース法などの公知の方法があげられ
る。PES溶液をろ過し、不溶物や不純物を取り除きな
がら塗布することがきれいな塗膜を形成するために好ま
しい。Any coating method may be used as long as it can be uniformly cast, and examples thereof include known methods such as a die coating method, a Mayer bar coating method and a three-bar reverse method. It is preferable to filter the PES solution and apply the PES solution while removing insolubles and impurities in order to form a clean coating film.
【0022】乾燥温度は支持体の耐熱温度にも依存する
が、70℃以上230℃以下が好ましく、100℃以上
200℃以下が更に好ましい。70℃より低い温度では
溶媒の乾燥効率が悪く、230℃より高い温度では突沸
などにより表面状態が悪くなる。Although the drying temperature depends on the heat resistant temperature of the support, it is preferably 70 ° C. or higher and 230 ° C. or lower, and more preferably 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. If the temperature is lower than 70 ° C, the drying efficiency of the solvent is poor, and if the temperature is higher than 230 ° C, the surface condition is deteriorated due to bumping.
【0023】乾燥時間は塗布厚み、乾燥温度にもよるが
5分以上が好ましい。5分より短ければ残存溶媒量が多
くなる。The drying time depends on the coating thickness and the drying temperature, but is preferably 5 minutes or more. If it is shorter than 5 minutes, the amount of residual solvent increases.
【0024】PESフィルムの厚みは、通常5μm以上
500μm以下、好ましくは10μm以上300μm以
下、更に好ましくは25μm以上100μm以下が適当
である。5μmより薄ければ機械的強度などに劣り、5
00μmより厚ければ可撓性に劣る上、乾燥の際多大な
時間を要し実用的でない。The thickness of the PES film is usually 5 μm or more and 500 μm or less, preferably 10 μm or more and 300 μm or less, and more preferably 25 μm or more and 100 μm or less. If the thickness is less than 5 μm, the mechanical strength is inferior.
If it is thicker than 00 μm, it is inferior in flexibility, and a great amount of time is required for drying, which is not practical.
【0025】液晶表示装置の透明導電性フィルムの基板
に用いるPESフィルムは透明性、光学的等方性に優れ
ていなければならない。透明性、光学的等方性に優れて
いればPESフィルムに入射した光はまっすぐ一様に透
過するが、表面に凹凸がある場合その部分で光が二方向
に屈折する現象(複屈折)がおこるので、液晶表示装置
に用いた場合、表示が二重にぼやけ不鮮明になるため、
PESフィルムの表面が平滑でなければならない。PE
Sフィルムの光学的等方性としては、レターデーション
値(以下、R値と称す)が20nm以下であることが好
ましい。。ここで、R値とは複屈折による光の位相のズ
レを示す値であり、小さいほど光学的等方性が良い。R
値が20nmより大きければ偏向子の配向軸と基板の配
向軸を合わせる必要性が出てくるため作業性が悪く、配
向軸がずれると表示が不鮮明で適正視角が狭くなり、品
質の良い透明導電性フィルムを得ることができない。The PES film used as the substrate of the transparent conductive film of the liquid crystal display device must have excellent transparency and optical isotropy. If the transparency and optical isotropy are excellent, the light incident on the PES film is transmitted straight and evenly, but if the surface has irregularities, there is a phenomenon in which the light is refracted in two directions (birefringence). Therefore, when used in a liquid crystal display device, the display will be double blurred and unclear,
The surface of the PES film should be smooth. PE
Regarding the optical isotropy of the S film, it is preferable that the retardation value (hereinafter referred to as R value) is 20 nm or less. . Here, the R value is a value indicating a phase shift of light due to birefringence, and the smaller the R value, the better the optical isotropy. R
If the value is larger than 20 nm, it becomes necessary to align the alignment axis of the deflector with the alignment axis of the substrate, which leads to poor workability. If the alignment axis is misaligned, the display becomes unclear and the proper viewing angle becomes narrow, resulting in a high quality transparent conductive film. Film cannot be obtained.
【0026】透明導電層としては、金、銀、パラジウム
などの金属薄膜、酸化インジウム錫(以下、ITOと称
す)、酸化錫の群から選ばれる1種または2種以上を積
層したものが用いられる。As the transparent conductive layer, a metal thin film of gold, silver, palladium or the like, indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO), or a laminate of one or more selected from the group of tin oxide is used. .
【0027】透明導電層を形成する方法としては、スプ
レー法、塗布法、真空処理法などの公知の方法が利用で
きる。ここで、真空処理法とは、真空下で金属などの薄
膜を形成する方法であって、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト
蒸着法、イオンクラスタービーム法などがあげられる。As a method for forming the transparent conductive layer, known methods such as a spray method, a coating method and a vacuum treatment method can be used. Here, the vacuum treatment method is a method for forming a thin film of metal or the like under vacuum, and examples thereof include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, an ion beam assisted vapor deposition method, and an ion cluster beam method. .
【0028】透明導電層の厚みとしては50〜5000
Åが好ましい。厚みが上記の範囲内にある場合には透明
性、導電性共に優れた膜となる。一方厚みが50Åより
薄い場合には、透明性は高いが導電性が悪くなり、50
00Åより厚いと導電性は良いが透明性が悪くなる。The thickness of the transparent conductive layer is 50 to 5,000.
Å is preferred. When the thickness is within the above range, the film has excellent transparency and conductivity. On the other hand, if the thickness is less than 50Å, the transparency is high, but the conductivity is poor, and
If it is thicker than 00Å, the conductivity is good, but the transparency is poor.
【0029】酸素により液晶素子が劣化するため透明導
電性フィルムにガスバリア層を設けることが好ましい。
本発明に用いられるガスバリア層としては、PVDC、
PVA、エチレン−ビニルアルコール共重合体(以下、
EVOHと称す)の有機層、ITO、酸化珪素などの無
機層があげられる。Since a liquid crystal element is deteriorated by oxygen, it is preferable to provide a gas barrier layer on the transparent conductive film.
As the gas barrier layer used in the present invention, PVDC,
PVA, ethylene-vinyl alcohol copolymer (hereinafter,
Examples thereof include an organic layer (referred to as EVOH) and an inorganic layer such as ITO and silicon oxide.
【0030】これらのうち有機層を積層する方法として
は、液状のものを積層する場合にはダイコート法、メイ
ヤーバーコート法、3本リバース法などの公知の方法に
より塗布する方法、フィルム状のものを積層する場合に
はフィルムドライラミネート法などの公知の方法により
ラミネートする方法などがあげられる。塗布厚みは1μ
m以上100μm以下が好ましく、5μm以上60μm
以下が更に好ましい。1μmより薄ければ耐透気性に劣
り、100μmより厚ければ可撓性が悪くなる。Among these, as a method for laminating the organic layer, in the case of laminating a liquid one, a coating method by a known method such as a die coating method, a Mayer bar coating method, a three-bar reverse method, or a film-shaped method is used. In the case of laminating, a known method such as a film dry laminating method may be used. Coating thickness is 1μ
m or more and 100 μm or less is preferable, and 5 μm or more and 60 μm
The following are more preferable. If it is less than 1 μm, the air resistance is poor, and if it is more than 100 μm, the flexibility is poor.
【0031】無機層に関しては透明導電層と同様の方法
で、好ましくは50Å以上5000Å以下、更に好まし
くは100Å以上〜1500Å以下に積層される。50
Åより薄いと耐透気性に劣り、5000Åより厚いと可
撓性に劣る上、ひびが入って耐透気性が悪くなることも
ある。The inorganic layer is laminated in the same manner as the transparent conductive layer, preferably 50 Å or more and 5000 Å or less, and more preferably 100 Å or more and 1500 Å or less. Fifty
If it is thinner than Å, the air resistance is poor, and if it is thicker than 5000 Å, it is inferior in flexibility, and it may crack to deteriorate the air resistance.
【0032】上記のガスバリア層が単独叉は2種以上
で、基板上に透明導電層を積層してなる透明導電性フィ
ルムの少なくとも片面に積層されていればよい。The above-mentioned gas barrier layers may be used alone or in combination of two or more, and may be laminated on at least one surface of a transparent conductive film obtained by laminating a transparent conductive layer on a substrate.
【0033】また、ガスバリア層を保護する層として、
エポキシ樹脂層、アクリル樹脂層、UV硬化樹脂層など
が設けられていてもよい。As a layer for protecting the gas barrier layer,
An epoxy resin layer, an acrylic resin layer, a UV curable resin layer, etc. may be provided.
【0034】[0034]
【実施例】以下、実施例により本発明を詳述する。な
お、実施例中の測定値は次の方法によった。表面粗度 (Ra) Surfcom554A(東京精密(株)製)を用い表
面粗度(Ra、単位:μm)を、測定長さは2.5m
m、カットオフ値は0.8mmという条件で測定した。R値(レターデーション値) Abbeの屈折率計(アタゴ(株)製)で中間液にヨウ
化メチレンを用いて、流れ方向及び幅方向(流れ方向に
垂直な方向)の屈折率を測定し次式により計算した。 R値=d・|n1 −n2 |(単位:nm) d;フィルムの厚み(nm) n1 ;流れ方向の屈折率 n2 ;幅方向の屈折率酸素透過率 OX−TRAN100型酸素透過率測定装置(モダンコ
ントロール(株)製)を使用し、温度23℃、相対湿度
100%で測定した。なお、本発明の耐透気性はこの酸
素透過率で評価する。EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples. In addition, the measured value in an Example was based on the following method. Surface roughness (Ra) The surface roughness (Ra, unit: μm) was measured using Surfcom554A (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.), and the measurement length was 2.5 m.
m, and the cutoff value was 0.8 mm. R value (retardation value) Abbe's refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.) was used to measure the refractive index in the flow direction and width direction (direction perpendicular to the flow direction) using methylene iodide as an intermediate solution. Calculated by the formula. R value = d · | n 1 −n 2 | (unit: nm) d; Film thickness (nm) n 1 ; Refractive index in flow direction n 2 ; Refractive index in width direction Oxygen transmission rate OX-TRAN100 type Using a rate measuring device (manufactured by Modern Control Co., Ltd.), measurement was performed at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 100%. The air permeability of the present invention is evaluated by this oxygen permeability.
【0035】実施例1 80℃に加温したDMF(和光純薬工業(株)製)10
0重量部に対し、PESパウダー(BASF(株)製、
商品名:ULTRASON E2010)を50重量部
攪拌しながら溶解した。さらに該PES溶液100重量
部に対しシリコン系レベリング剤(東レ・ダウコーニン
グ・シリコーン(株)製、商品名:DC29PA)0.
05重量部をPES溶液を攪拌しながら滴下した。膜厚
100μm、表面粗度(Ra)が0.04μmのPET
フィルム(ユニチカ(株)製、商品名:エンブレット)
上にダイコート法で該PES溶液を乾燥後の厚みが50
μmになるようコーティングし、180℃で20分間乾
燥後PETフィルムより剥離しPESのキャスティング
フィルムを得た。該キャスティングフィルムにはダイラ
インやブツは無く、表面が平滑で透明性も良かった。Example 1 DMF (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 10 heated to 80 ° C.
PES powder (manufactured by BASF Corp.,
(Trade name: ULTRASON E2010) was dissolved while stirring 50 parts by weight. Further, with respect to 100 parts by weight of the PES solution, a silicon-based leveling agent (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., trade name: DC29PA) was used.
05 parts by weight of the PES solution was added dropwise with stirring. PET with a film thickness of 100 μm and surface roughness (Ra) of 0.04 μm
Film (manufactured by Unitika Ltd., trade name: Emblet)
The thickness of the PES solution after drying is 50 by the die coating method.
It was coated to a thickness of μm, dried at 180 ° C. for 20 minutes, and then peeled off from the PET film to obtain a PES casting film. The casting film had no die lines and no spots, had a smooth surface and good transparency.
【0036】次に、該キャスティングフィルムの片面
に、ITO/銀/ITOの3層からなる透明導電層をD
Cマグネトロンスパッタリング法により1000Åの厚
みで形成した。更に詳しく説明すると、真空槽を1×1
0-3 Torrまで排気した後、アルゴンガスを圧力3
×10-3 Torrまで導入し、更に全圧が4.5×1
0-3 Torrになるよう酸素ガスを導入して、インジ
ウム錫合金ターゲットを用いてDCマグネトロンスパッ
タリング法により、該PESのキャスティングフィルム
の片面に400Åの厚みのITO層を形成した。つい
で、ITO層の上に金属銀ターゲットを用いてアルゴン
ガス圧力3×10-3 Torrで同様に200Åの銀層
を設けた。更に、第1層と同様にITO層を400Åの
厚みで設けた。Next, a transparent conductive layer consisting of three layers of ITO / silver / ITO is formed on one surface of the casting film D.
It was formed with a thickness of 1000 Å by C magnetron sputtering method. More specifically, the vacuum chamber is 1 × 1.
After evacuating to 0 -3 Torr, the pressure of argon gas is reduced to 3
Introduced up to × 10 -3 Torr and further total pressure is 4.5 × 1
An oxygen gas was introduced to 0 −3 Torr, and an ITO layer having a thickness of 400 Å was formed on one surface of the PES casting film by a DC magnetron sputtering method using an indium tin alloy target. Then, a 200 Å silver layer was similarly formed on the ITO layer by using a metallic silver target at an argon gas pressure of 3 × 10 -3 Torr. Further, similarly to the first layer, an ITO layer was provided with a thickness of 400Å.
【0037】次にその上層に、ガスバリア層としてPV
DC(呉羽化学工業(株)製、商品名:クレハロンラテ
ックス)を、メイヤーバーコート法により乾燥後の厚み
が30μmになるよう塗布し、100℃で8分間乾燥
し、透明導電性フィルムを得た。Next, PV is used as a gas barrier layer on the upper layer.
DC (Kureha Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Kureharon latex) was applied by the Meyer bar coat method so that the thickness after drying would be 30 μm, and dried at 100 ° C. for 8 minutes to obtain a transparent conductive film. It was
【0038】該キャスティングフィルムの支持体と密着
していた面を支持体面、その反対側の面を塗布面とし
て、それらの表面粗度(Ra)、R値、及び、該透明導
電性フィルムを用いて液晶表示装置を実際に組み立てた
場合の表示の鮮明さが現状品(ガラス板使用)に対しど
れくらい差があるか、酸素透過率に関する評価を行っ
た。評価結果を表1に示す。表示の鮮明さはガラス板の
場合を○として、○、△、×の3段階で目視により評価
した。The surface of the casting film that was in close contact with the support was used as the support surface, and the opposite surface was used as the coating surface, and the surface roughness (Ra), R value, and the transparent conductive film were used. We evaluated the oxygen transmission rate to see how much the sharpness of the display when the liquid crystal display device was actually assembled differed from the current product (using a glass plate). The evaluation results are shown in Table 1. The sharpness of the display was evaluated visually by three grades of ◯, Δ, and ×, where ◯ is a glass plate.
【0039】実施例2 PESパウダーを溶解する溶媒をDMF50重量部に対
しトルエン(和光純薬工業(株)製)50重量部の混合
溶媒とし、添加するレベリング剤の量をPES溶液10
0重量部に対し0.5重量部加えたこと以外は実施例1
と同様にしてPESのキャスティングフィルムを作成し
た。該キャスティングフィルムにはダイラインやブツは
無く、表面が平滑で透明性も良かった。該キャスティン
グフィルム上に実施例1と同様に透明導電層を設け、更
にその上層にガスバリア層としてPVA(日本合成化学
工業(株)製、商品名:ゴーセノール)をメイヤーバー
コート法により乾燥後の厚みが50μmになるよう塗布
し、120℃で6分間乾燥し透明導電性フィルムを得
た。該キャスティングフィルム及び透明導電性フィルム
に関する評価を実施例1と同様に行った。評価結果を表
1に示す。Example 2 A solvent for dissolving PES powder was mixed with 50 parts by weight of DMF in 50 parts by weight of toluene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the amount of the leveling agent added was 10 parts by weight of PES solution.
Example 1 except that 0.5 parts by weight was added to 0 parts by weight
A PES casting film was prepared in the same manner as in. The casting film had no die lines and no spots, had a smooth surface and good transparency. A transparent conductive layer was provided on the casting film in the same manner as in Example 1, and PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Gohsenol) as a gas barrier layer was further formed thereon by the Mayer bar coating method to obtain a thickness after drying. Of 50 μm, and dried at 120 ° C. for 6 minutes to obtain a transparent conductive film. The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
【0040】実施例3 用いるレベリング剤をフッ素系レベリング剤(旭硝子
(株)製、商品名:サーフロン)とし、PES溶液10
0重量部に対し0.1重量部添加したこと以外は実施例
1と同様にしてPESのキャスティングフィルムを作成
した。該キャスティングフィルムにはダイラインやブツ
は無く、表面が平滑で透明性も良かった。Example 3 The leveling agent used was a fluorine-based leveling agent (made by Asahi Glass Co., Ltd., trade name: Surflon), and the PES solution 10 was used.
A PES casting film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.1 part by weight was added to 0 part by weight. The casting film had no die lines and no spots, had a smooth surface and good transparency.
【0041】次に、該キャスティングフィルムの片面に
実施例1と同様にして透明導電層を設けた。更に、その
上層にガスバリア層としてSiO2 を、RFマグネトロ
ンスパッタリング法によりSiO2 ターゲットを用いて
アルゴンガス圧力3×10-3Torrで、200Åの厚
みに積層した。該キャスティングフィルム及び透明導電
性フィルムに関する評価を実施例1と同様に行った。評
価結果を表1に示す。Then, a transparent conductive layer was provided on one surface of the casting film in the same manner as in Example 1. Further, SiO 2 as a gas barrier layer was further laminated thereon by an RF magnetron sputtering method using an SiO 2 target at an argon gas pressure of 3 × 10 −3 Torr to a thickness of 200 Å. The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
【0042】実施例4 用いるレベリング剤をフッ素系レベリング剤(三井デュ
ポンフロロケミカル(株)製、商品名:テフロンTL
P)とし、これをよくDMFに分散させたものをPES
溶液100重量部に対し0.5重量部添加したこと以外
は実施例1と同様にしてPESのキャスティングフィル
ムを作成した。該キャスティングフィルムにはダイライ
ンやブツは無く、表面が平滑で透明性も良かった。次
に、該キャスティングフィルムの片面に実施例1と同様
にして透明導電層を設けた。更に、その上層にガスバリ
ア層としてSiO2 を、RFマグネトロンスパッタリン
グ法によりSiO2 ターゲットを用いてアルゴンガス圧
力3×10-3Torrで、200Åの厚みに積層した。
更にその上層に実施例2と同様にして乾燥後の厚みが2
0μmになるようにしてPVAを積層した。該キャステ
ィングフィルム及び透明導電性フィルムに関する評価を
実施例1と同様に行った。評価結果を表1に示す。Example 4 The leveling agent used was a fluorine-based leveling agent (manufactured by Mitsui DuPont Fluorochemical Co., Ltd., trade name: Teflon TL).
P), which is well dispersed in DMF.
A PES casting film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.5 part by weight was added to 100 parts by weight of the solution. The casting film had no die lines and no spots, had a smooth surface and good transparency. Next, a transparent conductive layer was provided on one surface of the casting film in the same manner as in Example 1. Further, SiO 2 as a gas barrier layer was further laminated thereon by an RF magnetron sputtering method using an SiO 2 target at an argon gas pressure of 3 × 10 −3 Torr to a thickness of 200 Å.
Furthermore, the thickness after drying was 2 as in Example 2 as the upper layer.
PVA was laminated so as to have a thickness of 0 μm. The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
【0043】実施例5 作成するPESのキャスティングフィルムの厚みを10
0μmとしたこと以外は実施例1と同様にしてPESの
キャスティングフィルムを作成した。該キャスティング
フィルムにはダイラインは無く、表面は平滑で透明性も
良かった。次に、該キャスティングフィルムにガスバリ
ア層であるSiO2 層を両面に設けること以外は実施例
3と同様にして、透明導電層及びガスバリア層を設け
た。該キャスティングフィルム及び透明導電性フィルム
に関する評価を実施例1と同様に行った。評価結果を表
1に示す。Example 5 The thickness of the PES casting film to be prepared is 10
A PES casting film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 0 μm. The casting film had no die line, the surface was smooth and the transparency was good. Next, a transparent conductive layer and a gas barrier layer were provided in the same manner as in Example 3 except that a SiO 2 layer that was a gas barrier layer was provided on both surfaces of the casting film. The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
【0044】実施例6 支持体を膜厚100μm、表面粗度(Ra)が0.01
μmのPIフィルム(宇部興産(株)製、商品名:UP
ILEX)とし、乾燥温度を130℃、乾燥時間を1時
間としたこと以外は実施例1と同様にしてPESのキャ
スティングフィルムを作成した。該キャスティングフィ
ルムにはダイラインは無く、表面は平滑で透明性も良か
った。次に、該キャスティングフィルムの片面に実施例
1と同様にして透明導電層を設けた。さらに、透明導電
層の逆側の面にガスバリア層としてITO層を400Å
の厚みで実施例1の透明導電層と同様の方法で設けた。
該キャスティングフィルム及び透明導電性フィルムに関
する評価を実施例1と同様に行った。結果を表1に示
す。Example 6 A support having a film thickness of 100 μm and a surface roughness (Ra) of 0.01
μm PI film (manufactured by Ube Industries, Ltd., trade name: UP
(ILEX), the drying temperature was 130 ° C., and the drying time was 1 hour, to prepare a PES casting film in the same manner as in Example 1. The casting film had no die line, the surface was smooth and the transparency was good. Next, a transparent conductive layer was provided on one surface of the casting film in the same manner as in Example 1. In addition, an ITO layer is used as a gas barrier layer on the opposite side of the transparent conductive layer at 400 Å
With the same thickness as the transparent conductive layer of Example 1.
The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
【0045】比較例1 330℃でPESレジンを溶融し押し出ししてPESフ
ィルムを作成した。この押し出しPESフィルムにはス
ジやダイライン、ブツが多数あった。次に、該押し出し
PESフィルムに実施例1と同様にして透明導電層、ガ
スバリア層を設けた。該押し出しフィルム及び透明導電
性フィルムに関する評価を実施例1と同様に行った。評
価結果を表1に示す。表示の鮮明さに関しては、フィル
ムと偏向の配向軸を互いに45℃の角度になるようにし
て液晶表示装置を組み立てたときに特に表示が不鮮明で
あった。Comparative Example 1 A PES film was prepared by melting and extruding a PES resin at 330 ° C. The extruded PES film had many streaks, die lines, and spots. Next, a transparent conductive layer and a gas barrier layer were provided on the extruded PES film in the same manner as in Example 1. The extrusion film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1. Regarding the display clarity, the display was particularly unclear when the liquid crystal display device was assembled with the orientation axes of the film and the deflection being at an angle of 45 ° C.
【0046】比較例2 レベリング剤を添加しないこと以外は実施例1と同様に
してPESのキャスティングフィルムを作成した。該キ
ャスティングフィルムの表面には凹凸がありざらざらし
ていた。次に、該キャスティングフィルムに実施例1と
同様にして透明導電層、ガスバリア層を設けた。該キャ
スティングフィルム及び透明導電性フィルムに関する評
価を実施例1と同様に行った。評価結果を表1に示す。
表示の鮮明さに関しては、もやもやとした感じになり不
鮮明であった。Comparative Example 2 A PES casting film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the leveling agent was not added. The surface of the casting film had irregularities and was rough. Next, a transparent conductive layer and a gas barrier layer were provided on the casting film in the same manner as in Example 1. The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
Regarding the sharpness of the display, it was unclear because it felt muddy.
【0047】比較例3 レベリング剤をPES溶液100重量部に対し10重量
部加えたこと以外は実施例1と同様にしてPESのキャ
スティングフィルムを作成した。該キャスティングフィ
ルムは溶液がはじき、またレベリング剤の乾燥したもの
が表面に浮きだし透明性、表面の平滑性の良くないフィ
ルムであった。次に、該キャスティングフィルムに実施
例1と同様にして透明導電層、ガスバリア層を設けた。
該キャスティングフィルム及び透明導電性フィルムに関
する評価を実施例1と同様に行った。評価結果を表1に
示す。表示の鮮明さに関しては、はじきの部分や表面に
凹凸のある部分で表示が乱れていた。Comparative Example 3 A PES casting film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 10 parts by weight of the leveling agent was added to 100 parts by weight of the PES solution. The casting film was a film in which the solution was repelled, and the dried leveling agent floated on the surface and the transparency and surface smoothness were poor. Next, a transparent conductive layer and a gas barrier layer were provided on the casting film in the same manner as in Example 1.
The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1. Regarding the sharpness of the display, the display was distorted at the repelling portion and the portion with unevenness on the surface.
【0048】比較例4 レベリング剤をPES溶液100重量部に対し0.00
1重量部加えたこと以外は実施例1と同様にしてPES
のキャスティングフィルムを作成した。該キャスティン
グフィルムは溶液がはじき、またレベリング剤の乾燥し
たものが表面に浮きだし透明性、表面の平滑性の良くな
いフィルムであった。次に、該キャスティングフィルム
に実施例1と同様にして透明導電層、ガスバリア層を設
けた。該キャスティングフィルム及び透明導電性フィル
ムに関する評価を実施例1と同様に行った。評価結果を
表1に示す。表示の鮮明さに関しては、もやもやとした
感じになり不鮮明であった。Comparative Example 4 A leveling agent was added to 0.00 parts by weight of PES solution in an amount of 0.00
PES as in Example 1 except that 1 part by weight was added.
I made a casting film. The casting film was a film in which the solution was repelled, and the dried leveling agent floated on the surface and the transparency and surface smoothness were poor. Next, a transparent conductive layer and a gas barrier layer were provided on the casting film in the same manner as in Example 1. The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1. Regarding the sharpness of the display, it was unclear because it felt muddy.
【0049】比較例5 支持体を膜厚100μm、表面粗度(Ra)が0.2μ
mのPIフィルム(三井東圧化学(株)製、商品名:レ
グルス)としたこと以外は実施例1と同様にしてPES
のキャスティングフィルムを作成した。該キャスティン
グフィルムには、表面に微細な凹凸があり平滑ではなく
透明性も悪かった。次に、該キャスティングフィルムの
片面に実施例1と同様にして透明導電層、ガスバリア層
を設けた。該キャスティングフィルム及び透明導電性フ
ィルムに関する評価を実施例1と同様に行った。評価結
果を表1に示す。表示の鮮明さに関しては、ぼやけて不
鮮明であった。Comparative Example 5 The support has a film thickness of 100 μm and a surface roughness (Ra) of 0.2 μm.
m PE film (trade name: Regulus, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.)
I made a casting film. The casting film had fine irregularities on the surface, was not smooth, and had poor transparency. Next, a transparent conductive layer and a gas barrier layer were provided on one surface of the casting film in the same manner as in Example 1. The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1. Regarding the sharpness of the display, it was blurry and unclear.
【0050】比較例6 ガスバリア層を設けないこと以外は実施例1と同様にし
てPESのキャスティングフィルム及び透明導電性フィ
ルムを得た。該キャスティングフィルム及び透明導電性
フィルムに関する評価を実施例1と同様に行った。評価
結果を表1に示す。Comparative Example 6 A PES casting film and a transparent conductive film were obtained in the same manner as in Example 1 except that the gas barrier layer was not provided. The casting film and the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
【0051】[0051]
【表1】 *1:PES溶液100重量部に対する割合、単位 重
量部 *2:単位 cc/m2 /24hr 溶媒に対するPESの割合:溶媒100重量部に対し5
0重量部[Table 1] * 1: PES ratio 100 parts by weight of the solution, the unit parts * 2: ratio of PES to the unit cc / m 2/24 hr or solvent: 5 to 100 parts by weight of the solvent
0 parts by weight
【0052】[0052]
【発明の効果】本発明により、PES溶液にレベリング
剤を添加し、表面が平滑な支持体を用いてキャスティン
グ法により製膜することにより、透明性、光学的等方性
に優れたPESフィルムを基板とし、更に耐透気性にも
優れ、液晶表示装置用透明電極、電場発光体用電極、エ
レクトロクロミズム用電極などエレクトロニクスの分野
に広く利用され得る、信頼性の高い透明導電性フィルム
の提供が可能となった。According to the present invention, a PES film excellent in transparency and optical isotropy is obtained by adding a leveling agent to a PES solution and forming a film by a casting method using a support having a smooth surface. A highly reliable transparent conductive film that can be widely used in the field of electronics such as transparent electrodes for liquid crystal display devices, electrodes for electroluminescent bodies, electrodes for electrochromism, etc. Became.
【図1】は、液晶表示装置の一例を示したものである。FIG. 1 shows an example of a liquid crystal display device.
【図2】は、PESのキャスティングフィルムに透明導
電層とガスバリア層を積層したものである。FIG. 2 shows a PES casting film laminated with a transparent conductive layer and a gas barrier layer.
【図3】は、PESのキャスティングフィルムに透明導
電層を設け、その両面にガスバリア層を積層したもので
ある。FIG. 3 shows a PES casting film provided with a transparent conductive layer, and a gas barrier layer laminated on both surfaces thereof.
1 上偏光板 2 下偏光板 3 プラスチック基板 4 透明導電膜 5 配向膜 6 反射板 7 液晶 8 シール 9 PESのキャスティングフィルム 10 透明導電層 11 ガスバリア層 1 Upper Polarizing Plate 2 Lower Polarizing Plate 3 Plastic Substrate 4 Transparent Conductive Film 5 Alignment Film 6 Reflector 7 Liquid Crystal 8 Seal 9 PES Casting Film 10 Transparent Conductive Layer 11 Gas Barrier Layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉開 正彰 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井東圧化学株式会社内 (72)発明者 坂井 祥浩 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井東圧化学株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Masaaki Yoshikai 2-1-1, Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. (72) Yoshihiro Sakai 2-chome, Tango-dori, Minami-ku, Nagoya, Aichi No. 1 Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.
Claims (2)
グ剤を加え、表面粗度(Ra)が0.05μm以下の支
持体に塗布、乾燥した後、支持体から剥離して製膜した
フィルムの片面に透明導電層を積層し、更に少なくとも
片面にガスバリア層を積層することを特徴とする透明導
電性フィルムの製造方法。1. A leveling agent is added to a polyether sulfone solution, coated on a support having a surface roughness (Ra) of 0.05 μm or less, dried, and then peeled from the support to form a film on one side. A method for producing a transparent conductive film, comprising laminating a transparent conductive layer, and further laminating a gas barrier layer on at least one surface.
サルフォン溶液100重量部に対して、0.01〜5重
量部であることを特徴とする請求項1の透明導電性フィ
ルムの製造方法。2. The method for producing a transparent conductive film according to claim 1, wherein the amount of the leveling agent added is 0.01 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyether sulfone solution.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5198141A JPH0756179A (en) | 1993-08-10 | 1993-08-10 | Production of transparent conductive film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5198141A JPH0756179A (en) | 1993-08-10 | 1993-08-10 | Production of transparent conductive film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0756179A true JPH0756179A (en) | 1995-03-03 |
Family
ID=16386143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5198141A Pending JPH0756179A (en) | 1993-08-10 | 1993-08-10 | Production of transparent conductive film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0756179A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001205743A (en) * | 2000-01-28 | 2001-07-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | Optical plastic substrate |
JP2010264677A (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Toppan Printing Co Ltd | Laminate |
-
1993
- 1993-08-10 JP JP5198141A patent/JPH0756179A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001205743A (en) * | 2000-01-28 | 2001-07-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | Optical plastic substrate |
JP2010264677A (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Toppan Printing Co Ltd | Laminate |
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