JPH0754647B2 - Multilayer film for touch switch - Google Patents

Multilayer film for touch switch

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JPH0754647B2
JPH0754647B2 JP60269444A JP26944485A JPH0754647B2 JP H0754647 B2 JPH0754647 B2 JP H0754647B2 JP 60269444 A JP60269444 A JP 60269444A JP 26944485 A JP26944485 A JP 26944485A JP H0754647 B2 JPH0754647 B2 JP H0754647B2
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film
touch switch
electric resistance
less
port
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章志 小林
正幸 小川
弘 畠山
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Toray Industries Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はタッチスイッチ用積層フィルム、特に表面電気
抵抗が1012Ω/口以下の耐摩耗層を積層してなるタッチ
スイッチ用積層フィルムに関するものである。
The present invention relates to a laminated film for a touch switch, and more particularly to a laminated film for a touch switch formed by laminating a wear resistant layer having a surface electric resistance of 10 12 Ω / port or less. Is.

[従来技術] 従来、タッチスイッチ用積層フィルムとしては、ポリエ
ステルフィルム/導電層の積層体が知られている。ま
た、ポリエステルフィルムは傷がつきやすく、これを防
止するため耐摩耗層/ポリエステルフィルム/導電層の
積層体も知られている(特開昭56−55253、特開昭60−1
31238)。
[Prior Art] Conventionally, a laminate of a polyester film / a conductive layer is known as a laminate film for a touch switch. Further, the polyester film is easily scratched, and in order to prevent it, a laminate of abrasion resistant layer / polyester film / conductive layer is also known (JP-A-56-55253, JP-A-60-1).
31238).

しかし、かかる従来のタッチスイッチ用積層体はその積
層体の表層のポリエステルフィルムあるいは耐摩耗層の
表面電気抵抗が1014〜1017Ω/口のように高抵抗である
ため触手、摩擦により静電気が発生、滞電するため、こ
の静電気によりスイッチが入力したままになるといった
操作性不良があった。
However, such a conventional laminate for a touch switch has a high surface resistance such as 10 14 to 10 17 Ω / mouth of the surface polyester film or abrasion resistant layer of the laminate, so that static electricity is generated by tentacles and friction. Since the static electricity is generated and stored, the static electricity causes the switch to remain input, resulting in poor operability.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明の目的は上記欠点を解消せしめ、静電気の発生、
滞電がなく、操作性不良が起きないタッチスイッチ用積
層フィルムを提供せんとするものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks, to generate static electricity,
An object of the present invention is to provide a laminated film for a touch switch, which is free from electric charge and does not cause poor operability.

[問題点を解決するための手段] 本発明は上記目的を達成するため次の構成、すなわち 有機高分子フィルム基材Aに、表面電気抵抗1012Ω/口
以下であって、第4級アンモニウム塩共重合物とメラミ
ン化合物との混合物からなる層と有機ケイ素化合物から
なる層で形成される耐摩耗層B、表面電気抵抗3×103
Ω/口以下の透明導電層Cが、A/B/Cの順に積層され、
該積層体の光線透過率が70%以上であることを特徴とす
るタッチスイッチ用積層フィルム、あるいは、有機高分
子フィルム基材Aに、表面電気抵抗1012Ω/口以下であ
って、有機ケイ素化合物と酸化スズとの混合物からなる
耐摩耗層B、表面電気抵抗3×103Ω/口以下の透明導
電層Cが、B/A/Cの順に積層され、該積層体の光線透過
率が70%以上であることを特徴とするタッチスイッチ用
積層フィルムを提供するものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention has the following constitution, namely, an organic polymer film substrate A having a surface electric resistance of 10 12 Ω / port or less and a quaternary ammonium salt. Abrasion resistant layer B formed of a layer composed of a mixture of a salt copolymer and a melamine compound and a layer composed of an organosilicon compound, and a surface electric resistance of 3 × 10 3
Ω / port or less of transparent conductive layer C is laminated in the order of A / B / C,
The laminate has a light transmittance of 70% or more, or a laminated film for a touch switch, or an organic polymer film substrate A, which has a surface electric resistance of 10 12 Ω / port or less and an organosilicon film. A wear resistant layer B made of a mixture of a compound and tin oxide and a transparent conductive layer C having a surface electric resistance of 3 × 10 3 Ω / port or less are laminated in the order of B / A / C, and the light transmittance of the laminate is It is intended to provide a laminated film for a touch switch, which is 70% or more.

本発明の積層体を構成する有機高分子フィルム基材Aと
しては、周知の熱可塑性樹脂から成り、機械的強度、寸
法安定性が優れ、透明性の高い高分子フィルムが好まし
く、延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが
最適であるが、他にポリカーボネート、ポリプロピレン
などからなるフィルムも適している。有機高分子フィル
ム基材Aは必要に応じて接着性を向上させるため、公知
のコロナ放電処理などの表面処理を行なったり、表面改
質層を設けることができる。該フィルムの厚さは通常50
〜250μが使用できるが、タッチスイッチとしての腰の
強さから100〜200μが好ましい。
The organic polymer film substrate A constituting the laminate of the present invention is preferably a polymer film made of a well-known thermoplastic resin and having excellent mechanical strength and dimensional stability and high transparency, and stretched polyethylene. A terephthalate film is most suitable, but a film made of polycarbonate, polypropylene or the like is also suitable. The organic polymer film substrate A may be subjected to a known surface treatment such as corona discharge treatment or provided with a surface modification layer in order to improve the adhesiveness if necessary. The thickness of the film is usually 50
~ 250μ can be used, but 100 ~ 200μ is preferable from the strength of the waist as a touch switch.

本発明の積層体を構成する表面電気抵抗1012Ω/口以下
の耐摩耗層Bとしては、表面電気抵抗を1012Ω/口以下
に保持するための材料と耐摩耗性を保持するための材料
を積層あるいは混合したものが使用される。
The surface electrical resistivity 10 12 Omega / mouth following wear-resistant layer B constituting the laminate of the present invention, the surface electrical resistance 10 12 Omega / mouth for holding the following material and for holding the wear-resistant A layered or mixed material is used.

耐摩耗性を保持する材料としては、有機ケイ素化合物
(以下、『ケイ素化合物』と称する)が適しており、こ
れはR1 nSiXm(式中R1はケイ素に直接炭素が結合した形
のメチル、フェニル、γ−メタクリロキシプロピル、γ
−グリシドキシプロピル、N(β−アミノエチル)γ−
アミノプロピル、γ−メチルカプトプロピル、ビニルな
どの有機基で、好ましくは炭素数1〜7のもの、XはC1
〜C6のアルコキシ基、nは0または1、mは3または4
の整数。)で示される化合物、例えばメチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、N(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシランなどを稀薄な酸性水溶
液、例えば希塩酸水溶液や希硫酸水溶液などでアルコキ
キシ基を加水分解してプレポリマーとなした後、他の成
分と混合して得られる塗料を硬化せしめた物である。該
硬化物はケイ素化合物の加水分解プレポリマーに含まれ
る−SiOH基の縮合物であるSi−O−Si基を有するもの
で、その赤外吸収スペクトルにおいて波長8μ〜10μに
最大吸収を示す。
Organosilicon compounds (hereinafter referred to as “silicon compounds”) are suitable as materials that maintain wear resistance, and these are R 1 n SiX m (where R 1 is a form in which carbon is directly bonded to silicon). Methyl, phenyl, γ-methacryloxypropyl, γ
-Glycidoxypropyl, N (β-aminoethyl) γ-
An organic group such as aminopropyl, γ-methylcaptopropyl and vinyl, preferably having 1 to 7 carbon atoms, and X is C 1
To C 6 alkoxy group, n is 0 or 1, m is 3 or 4
Integer. ), For example, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, N (β-aminoethyl) γ- Aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, etc. are hydrolyzed to give a prepolymer by hydrolyzing the alkoxy group with a dilute acidic aqueous solution such as dilute hydrochloric acid aqueous solution or dilute sulfuric acid aqueous solution. It is a cured product of the paint obtained by mixing with the components. The cured product has a Si-O-Si group, which is a condensate of -SiOH groups contained in a hydrolyzed prepolymer of a silicon compound, and has a maximum absorption at a wavelength of 8 to 10 µ in its infrared absorption spectrum.

該ケイ素化合物層は上記のように縮合反応硬化物である
ため塗膜の収縮によるカールが発生しやすいが、前述の
一般式R1 nSiXmにおいて、R1がグリシドキシ基を含む有
機基である場合、カールが少なく、かつフレキシブル性
の点において優れており、10%伸長時でも塗膜に亀裂を
生じることがなく好ましい。
Since the silicon compound layer is a condensation reaction cured product as described above, curling easily occurs due to shrinkage of the coating film, but in the general formula R 1 n SiX m , R 1 is an organic group containing a glycidoxy group. In this case, curling is small, flexibility is excellent, and no crack occurs in the coating film even at 10% elongation, which is preferable.

ケイ素化合物層の厚さは0.5〜10μがよく、より好まし
くは2〜6μの範囲が良い。膜厚が0.5μ未満の場合で
は耐摩耗生が不足するため傷が発生しやすい。一方、膜
厚が10μを越えると塗膜に亀裂が発生しやすくなり好ま
しくない。
The thickness of the silicon compound layer is preferably 0.5-10 μm, more preferably 2-6 μm. If the film thickness is less than 0.5 μ, abrasion resistance is insufficient and scratches are likely to occur. On the other hand, if the film thickness exceeds 10 μ, cracks are likely to occur in the coating film, which is not preferable.

ケイ素化合物層単独の表面電気抵抗は1014Ω/1017Ω/
口であるが、該ケイ素化合物層の表面電気抵抗を1012Ω
/口以下に保持するために、抵抗層とケイ素化合物の積
層、あるいはケイ素化合物と導電性粉体を混合して使用
する。
Surface electric resistance of silicon compound layer is 10 14 Ω / 10 17 Ω /
The surface electrical resistance of the silicon compound layer is 10 12 Ω
In order to keep the temperature below the mouth, the resistance layer and the silicon compound are laminated, or the silicon compound and the conductive powder are mixed and used.

低抵抗層としては第4級アンモニウム塩共重合物とメラ
ン化合物とからなる硬化物層がフィルム基材およびケイ
素化合物との接着性が優れている点で好適である。第4
級アンモニウム塩共重合物とメラミン化合物との混合割
合は固形分重量比で前者100重量部に対して後者3〜40
重量部の範囲となすのが好ましい。
As the low resistance layer, a cured product layer composed of a quaternary ammonium salt copolymer and a melan compound is preferable because it has excellent adhesion to the film substrate and the silicon compound. Fourth
The mixing ratio of the quaternary ammonium salt copolymer and the melamine compound is 3 to 40 for the former 100 parts by weight based on the solid content weight ratio.
It is preferably in the range of parts by weight.

メラミン化合物が3重量部未満の場合は硬化が不十分と
なり、重ね塗りされるケイ素化合物や、その溶剤に浸さ
れ導電性を発揮できない。一方、40重量部を越えると導
電性高分子の含有率が低下するため導電性が発揮できな
い。
If the amount of the melamine compound is less than 3 parts by weight, the curing will be insufficient and the silicon compound to be overcoated or the solvent thereof will not be able to exhibit conductivity. On the other hand, if the amount exceeds 40 parts by weight, the content of the conductive polymer decreases, and the conductivity cannot be exhibited.

第4級アンモニウム塩共重合物とは繰り返し単位中に少
なくとも1個の第4級アンモニウム塩を有する導電性高
分子で、一般式 (式中、R2は水素またはメチル基、R3はメチル基または
エチル基)で示される第4級アンモニウム化合物Aと一
般式 (式中、R4は水素またはメチル基、R5はメチル基または
エチル基。)で示される第4級アンモニウム化合物Bの
共重合物で、その共重合比率はAが100〜60モル%、B
が0〜40モル%が好ましい。Bが40モル%を越えるとメ
ラミン化合物との硬化反応が不充分となることもあり、
重ね塗りされるとケイ素化合物や、その溶剤に侵されて
導電性を発揮できない場合が出てくることもある。
The quaternary ammonium salt copolymer is a conductive polymer having at least one quaternary ammonium salt in a repeating unit and has a general formula (Wherein R 2 is hydrogen or a methyl group, and R 3 is a methyl group or an ethyl group) and a quaternary ammonium compound A represented by the general formula (In the formula, R 4 is hydrogen or a methyl group, R 5 is a methyl group or an ethyl group.) A copolymer of a quaternary ammonium compound B having a copolymerization ratio of A of 100 to 60 mol%, B
Is preferably 0 to 40 mol%. If B exceeds 40 mol%, the curing reaction with the melamine compound may become insufficient,
When overcoated, there are cases in which the silicon compound or its solvent may not be able to exert conductivity due to being attacked.

第4級アンモニウムAとしては、例えば、2−ヒドロキ
シ3−メタクリロキシプロピルトリメチルアンモニウム
クロライド、2−ヒドロキシ3−アクリロキプロピルト
リエチルアンモニウムクロライド、第4級アンモニウム
塩Bとしては、例えば2−メタクリロキシエチルトリメ
チルアンモニウムクロライド、2−アクリロキシトリエ
チルアンモニウムクロライドなどが使用できる。
As the quaternary ammonium A, for example, 2-hydroxy-3-methacryloxypropyltrimethylammonium chloride, 2-hydroxy-3-acryloxypropyltriethylammonium chloride, and as the quaternary ammonium salt B, for example, 2-methacryloxyethyltrimethyl. Ammonium chloride, 2-acryloxytriethylammonium chloride and the like can be used.

メラミン化合物とは下記一般式で示されるメチロール化
メラミンあるいはアルキルエーテル化メチロールメラミ
ンである。
The melamine compound is a methylolated melamine or an alkyl etherified methylol melamine represented by the following general formula.

(ただし、R6、R7は−H、−CH2OH、−CH2-O-R8(R8はC
1〜C4のアルキル基)から選ばれた基。R6、R7は同一で
あっても異なるものであってもよい。) 第4級アンモニウム塩共重合体とメラミン化合物とから
なる硬化物層の厚さは好ましくは0.1〜5μ、より好ま
しくは0.2〜2μである。
(Wherein, R 6, R 7 is -H, -CH 2 OH, -CH 2 -OR 8 (R 8 is C
A group selected from 1 to C 4 alkyl groups). R 6 and R 7 may be the same or different. ) The thickness of the cured product layer comprising the quaternary ammonium salt copolymer and the melamine compound is preferably 0.1 to 5 μ, more preferably 0.2 to 2 μ.

ケイ素化合物に混合する導電性粉体としては酸化亜鉛、
酸化スズが挙げられるが、より好ましくはアンチモンを
ドープした酸化スズがよい。
Zinc oxide as the conductive powder to be mixed with the silicon compound,
Examples thereof include tin oxide, and more preferable is tin oxide doped with antimony.

ケイ素化合物と酸化スズの混合比は前者の固形分100重
量部に対して、後者が50〜600重量部となすのがよく、
より好ましくは100〜400重量部である。後者が50重量部
未満の場合は、滞電防止性が不足し、600重量部を越え
る場合は耐摩耗性が低下する。
The mixing ratio of the silicon compound and tin oxide is preferably 50 to 600 parts by weight with respect to the solid content of 100 parts by weight of the former,
It is more preferably 100 to 400 parts by weight. If the latter is less than 50 parts by weight, the antistatic property is insufficient, and if it exceeds 600 parts by weight, the wear resistance is deteriorated.

酸化スズ含有ケイ素化合物は塗膜表面に微細な凹凸が形
成されるため、結果として艶消し効果が発現し塗布面の
反射防止ができる。
Since the tin oxide-containing silicon compound forms fine irregularities on the surface of the coating film, as a result, a matte effect is exhibited and reflection on the coated surface can be prevented.

ケイ素化合物層に艶消しを付与することを目的とする場
合の混合粉体としては、二酸化ケイ素が効果的である。
この二酸化ケイ素粉体は平均粒子径が0.1〜10μの大き
さで、ケイ素化合物の固型分100重量部に対して、3〜5
0重量部の割合で混合することにより艶消し効果が発揮
できる。
Silicon dioxide is effective as a mixed powder for the purpose of imparting a matt to the silicon compound layer.
The silicon dioxide powder has an average particle size of 0.1 to 10μ, and is 3 to 5 per 100 parts by weight of the solid content of the silicon compound.
A matting effect can be exhibited by mixing at a ratio of 0 part by weight.

本発明の積層体を構成する表面電気抵抗3×103Ω/口
以下の透明導電層Cとしては、金または銀を50%以上含
む金属化合物又はインジウム・スズ酸化物などの導電層
の少なくとも1種からなる薄膜が好ましく、その厚さは
10〜1000Åが好適である。インジウム・スズ酸化物の組
成は酸化インジウム(In2O3)が85〜95重量%、酸化ス
ズ(SnO2)15〜5重量%が好ましい。一方、金と銀を含
む金属化合物は各々単体でも良いが、透明性、耐蝕性の
点から金銀合金が良く、金の含有量30〜70%が好まし
い。
As the transparent conductive layer C having a surface electric resistance of 3 × 10 3 Ω / port or less, which constitutes the laminate of the present invention, at least one of conductive layers such as a metal compound containing 50% or more of gold or silver or indium tin oxide is used. A thin film of seeds is preferred and its thickness is
10 to 1000Å is suitable. The composition of indium / tin oxide is preferably 85 to 95% by weight of indium oxide (In 2 O 3 ) and 15 to 5% by weight of tin oxide (S n O 2 ). On the other hand, the metal compound containing gold and silver may be used alone, but a gold-silver alloy is preferable in terms of transparency and corrosion resistance, and a gold content of 30 to 70% is preferable.

次に本発明の積層フィルムの製造方法について説明す
る。
Next, a method for producing the laminated film of the present invention will be described.

まず有機高分子フィルム基材Aはポリエチレンテレフタ
レート、ポリカーボネート、ポリプロピレン樹脂などを
公知の方法で加熱溶融してシート状に成形した後、必要
に応じて延伸加工を施すことにより製造することができ
る。透明性の高いフィルムを製造するためには、溶融成
形時の冷却温度を低く保つこと、表面の平滑性を良くす
るために異物の混入を防止することが必要である。
First, the organic polymer film substrate A can be produced by heating and melting polyethylene terephthalate, polycarbonate, polypropylene resin and the like by a known method to form a sheet, and then stretching the sheet if necessary. In order to produce a highly transparent film, it is necessary to keep the cooling temperature at the time of melt molding low and to prevent the inclusion of foreign matter in order to improve the smoothness of the surface.

次に表面電気抵抗1012Ω/口以下の耐摩耗層は第4級ア
ンモニウム塩共重合物とメラミン化合物を溶剤に溶かし
て濃度1〜10%に調整し、必要に応じて硬化触媒を加え
た塗料を有機高分子フィルムの片面に通常のロールコー
ター、スプレー法などにより塗布し加熱硬化させた後、
該塗膜面上に、一般式R1 nSiXm(式中、R1はケイ素に直
接炭素が結合した形の有機基、XはC1〜C6のアルコキシ
基、nは0または1、mは4または3の整数。)で示さ
れる化合物に稀薄な酸性水溶液、例えばN/1000〜N/10の
希塩酸水溶液を加え、加水分解してプレポリマーとなし
た後、必要に応じて硬化剤、硬化触媒、添加剤などを加
えて、さらに溶剤で希釈して濃度5〜40%に調整した塗
料をロールコーター、スプレー法などにより塗布し、こ
れを加熱あるいは紫外線、β線、γ線の放射線などによ
り硬化させる。
Next, the wear resistance layer having a surface electric resistance of 10 12 Ω / mouth or less was prepared by dissolving the quaternary ammonium salt copolymer and the melamine compound in a solvent to adjust the concentration to 1 to 10%, and a curing catalyst was added if necessary. After coating the coating on one side of the organic polymer film with a normal roll coater, spray method, etc. and heating and curing,
On the surface of the coating film, R 1 n SiX m (wherein R 1 is an organic group in which carbon is directly bonded to silicon, X is a C 1 to C 6 alkoxy group, n is 0 or 1, m is an integer of 4 or 3.) A dilute acidic aqueous solution, for example, a dilute hydrochloric acid aqueous solution of N / 1000 to N / 10 is added to the compound to hydrolyze it into a prepolymer, and then a curing agent if necessary. , A curing catalyst, additives, etc., and further diluted with a solvent to adjust the concentration to 5-40%, and then apply it by a roll coater, spray method, etc., and heat it, or irradiate it with ultraviolet rays, β rays, γ rays. To cure.

上記の加水分解プレポリマーを主成分とする塗料に二酸
化ケイ素粒子を混合すれば塗膜を艶消しにすることがで
きる。
The coating film can be made matte by mixing silicon dioxide particles with the above-mentioned coating material containing the hydrolyzed prepolymer as a main component.

なお、加水分解プレポリマーを主成分とする塗料に酸化
スズを混合すると、この塗料単独で耐摩耗性と滞電防止
性を発揮できるので、この場合は有機高分子フィルムに
直接塗布できる。
In addition, when tin oxide is mixed with a paint containing a hydrolyzed prepolymer as a main component, the paint alone can exhibit abrasion resistance and antistatic property, and in this case, it can be directly applied to the organic polymer film.

次に透明導電層Cは、上記の塗布積層フイルムの非塗布
面にインジウム・スズ酸化物または、金または銀を50%
以上含む金属化合物を電子ビーム蒸着、スパッタリング
などの方法で薄膜形成する。表面電気抵抗を3×103Ω
/口以下とするためには付着膜厚を、インジウム・スズ
酸化物の場合は少なくとも30Å以上、好ましくは50〜30
0Å、金または銀を50%以上含む金属化合物の場合は50
〜300Åとなすのがよい。
Next, the transparent conductive layer C is formed by applying 50% of indium tin oxide or gold or silver on the non-coated surface of the above coated laminated film.
The metal compound containing the above is formed into a thin film by a method such as electron beam evaporation or sputtering. Surface electric resistance is 3 × 10 3 Ω
In order to keep the thickness below / hole, the thickness of the deposited film is at least 30Å or more for indium tin oxide, preferably 50 to 30
0Å, 50 for metal compounds containing 50% or more of gold or silver
It is recommended to set it up to 300Å.

本発明の有機ケイ素化合物を含有してなる耐摩耗層B
は、酸化ケイ素などの無機ケイ素化合物よりなる耐摩耗
層に比べ著しく耐摩耗性が優れる。酸化ケイ素の層は有
機高分子フィルム基材Aを加熱できないので粉末状のも
のが付着しているのみであり膜自体の強さはない。一
方、有機ケイ素化合物は、著しい加熱を要さずとも形成
された膜が均一で一体的なものであり、酸化ケイ素の層
に比べてはるかに耐摩耗性が大きいのである。
Abrasion resistant layer B containing the organosilicon compound of the present invention
Has significantly better wear resistance than a wear resistant layer made of an inorganic silicon compound such as silicon oxide. Since the layer of silicon oxide cannot heat the organic polymer film substrate A, only a powdery substance is attached and the film itself has no strength. On the other hand, the organic silicon compound has a uniform and integrated film formed without requiring significant heating, and has much higher abrasion resistance than the silicon oxide layer.

本発明の特性値は次の測定方法により測定したものであ
る。
The characteristic value of the present invention is measured by the following measuring method.

(1)耐摩耗性 スチールウール#0000に荷重500gをかけて耐摩耗層(B
層)を10回摩擦し、摩擦部分の傷発生の有無を目視判定
する。
(1) Abrasion resistance Wear-resistant layer (B
Rub the layer) 10 times and visually check for scratches on the rubbed portion.

(2)表面電気抵抗値 ゴム硬度約60度のゴムシート上に、35mm幅にカットした
サンプルをのせる。2mm厚さのパラジウム板2枚を間隔3
5mmにセットした測定用電極を上記サンプルと直交する
位置に置き、荷重500gをかけて該電極間の抵抗値をデジ
タルテスター(岩崎通信機製VOAC707)を使用し抵抗値
を直読した。
(2) Surface electric resistance value A sample cut into a width of 35 mm is placed on a rubber sheet having a rubber hardness of about 60 degrees. Two 2mm thick palladium plates spaced 3
The measurement electrode set to 5 mm was placed at a position orthogonal to the sample, a load of 500 g was applied, and the resistance value between the electrodes was directly read using a digital tester (VOAC707 manufactured by Iwasaki Tsushinki).

(3)スイッチ操作性 タッチスイッチ面をナイロン布で10回摩擦した後、直ち
にスイッチ操作を行ない、スイッチの誤動作の有無を調
べる。本評価は10回繰り返して行なう。
(3) Switch operability After rubbing the surface of the touch switch with a nylon cloth 10 times, immediately operate the switch to check for any switch malfunction. This evaluation is repeated 10 times.

(4)光線透過率 JIS K6714−58に準じて測定した。(4) Light transmittance Measured according to JIS K6714-58.

(5)60度鏡面光沢度 艶消しの程度を光沢度で表現した。光沢度の値が小であ
るほど艶消しの程度が強い。光沢度はJIS K5400−79に
準じて測定した。
(5) 60 degree specular gloss The degree of matte is expressed in terms of gloss. The smaller the value of glossiness, the stronger the degree of matting. The glossiness was measured according to JIS K5400-79.

[実施例] 次に、実施例に基づいて本発明の実施態様を説明する。[Examples] Next, embodiments of the present invention will be described based on Examples.

実施例1 二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム
(厚さ100μ)の片面に下記の塗料ACを固形分塗布量が1
g/m2になるようにロールコーターで塗布し、140℃で5
分間乾燥した。引続いて該塗膜面上に下記の塗料TC−1
を固形分塗布量が4g/m2になるようにロールコーターで
塗布し、150℃で3分間乾燥し、塗布積層フィルムを得
た。得られた塗布積層フィルムの非塗布面に1n2O3/SnO
2、90/10のインジウム・スズ酸化物をスパッタリング法
により厚さ200Åの薄膜を形成させてタッチスイッチ用
積層フィルムを得た。なお、スパッタリングは真空度10
-3Torrにてアルゴンガス導入のもとに行なった。このよ
うにして得られたタッチスイッチ用積層フィルムの透明
導電面にケミカルエッチングを施し回路を作成した。す
なわち、日経エレクトロニクス1981年6月8日号、122
〜137頁に記載されているように短冊形をした透明電極
を対置して縦横に組み合せたスイッチマトリックスを作
成した。詳細は該文献の通りである。
Example 1 The following coating AC was applied to one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness 100 μ) at a solid content of 1
Apply with a roll coater to g / m 2 and apply at 140 ℃ for 5
Dry for minutes. Subsequently, the following paint TC-1 was applied on the coating surface.
Was coated with a roll coater so that the solid coating amount was 4 g / m 2, and dried at 150 ° C. for 3 minutes to obtain a coated laminated film. 1 n 2 O 3 / S n O on the non-coated surface of the obtained coated laminated film
2 , 90/10 thin film of indium tin oxide was formed into a thin film with a thickness of 200Å by a sputtering method to obtain a laminated film for a touch switch. The degree of vacuum is 10 for sputtering.
It was carried out at -3 Torr with the introduction of argon gas. The transparent conductive surface of the thus obtained laminated film for a touch switch was chemically etched to form a circuit. In other words, Nikkei Electronics June 8, 1981, 122
As described on page 137, strip-shaped transparent electrodes were placed opposite to each other to form a switch matrix which was combined vertically and horizontally. Details are as in the literature.

回路を作成した後、スペーサーを介して対向電極と対面
させてスイッチを組み立てた。本スイッチの評価結果を
表1に示す。
After the circuit was created, the switch was assembled by facing the counter electrode through the spacer. Table 1 shows the evaluation results of this switch.

塗料AC 第4級アンモニウム塩共重合物 を前者が80モル%、後者が20モル%の比率に共重合した
もので濃度30%の水溶液。) 100重量部とメラミン化合物(三和ケミカル(株)製
“ニカラック"MW12−LF、濃度70%)13重量部を水/メ
タノール=1/1(重量比)の溶剤280重量部に溶解して調
合した。
Paint AC quaternary ammonium salt copolymer The former is a copolymer of 80 mol% and the latter is 20 mol% and is an aqueous solution with a concentration of 30%. ) 100 parts by weight and 13 parts by weight of a melamine compound (“Nikalac” MW12-LF manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., concentration 70%) are dissolved in 280 parts by weight of a solvent of water / methanol = 1/1 (weight ratio). I prepared it.

塗料TC−1 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランをN/100
−塩酸水溶液で加水分解して得られたプレポリマー(固
形分濃度58%)100重量部をトルエン210重量部に溶解さ
せた後、硬化剤としてアセチルアセトンアルミニウム塩
6重量部を添加・溶解させて塗料TC−1を得た。
Paint TC-1 γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane N / 100
-Paint prepared by dissolving 100 parts by weight of a prepolymer (solid content concentration 58%) obtained by hydrolysis with an aqueous hydrochloric acid solution in 210 parts by weight of toluene, and then adding and dissolving 6 parts by weight of acetylacetone aluminum salt as a curing agent. TC-1 was obtained.

比較例1 実施例1において、塗料ACの塗布を省略して、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムに直接塗料TC−1を塗布し
た後、実施例1と同様にインジウム・スズ酸化物薄膜を
形成し、回路作成後タッチスイッチを組み立てた。評価
結果を表1に示す。
Comparative Example 1 In Example 1, the application of the coating AC was omitted, the coating TC-1 was directly applied to the polyethylene terephthalate film, and then an indium tin oxide thin film was formed in the same manner as in Example 1 to prepare a circuit. I assembled the touch switch. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例2 二軸延伸されたポリエタレンテレフタレートフィルム
(厚さ188μ)の片面に、実施例1の塗料TC−1と酸化
スズ(触媒化成工業(株)製ELCOM,TL−20)を固形分重
量比で100/100に混合・分散した塗料を固形分塗布量が5
g/m2になるようにロールコーターで塗布し、150℃で3
分間乾燥し、塗布積層フィルムを得た。得られた塗布積
層フィルムの非塗布面にスパッタリングにより厚さ100
Åの金の薄膜を形成させてタッチスイッチ用積層フィル
ムを得た。該積層フィルムを実施例1と同様に回路作
成、スイッチ化した。本スイッチの評価結果を表1に示
す。
Example 2 On one side of a biaxially stretched poly (ethylene terephthalate) film (thickness 188 μ), the paint TC-1 of Example 1 and tin oxide (ELCOM, TL-20 manufactured by Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd.) were added as solid weight. The ratio of 100/100 mixed and dispersed paint is 5
Apply with a roll coater to g / m 2 and apply at 150 ℃ for 3
After drying for a minute, a coated laminated film was obtained. The thickness of the non-coated surface of the obtained coated laminated film was 100 by sputtering.
A thin film of gold of Å was formed to obtain a laminated film for a touch switch. The laminated film was formed into a circuit and made into a switch in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the evaluation results of this switch.

実施例3 二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム
(厚さ125μ)の片面に実施例1の塗料ACを固形分塗布
量が2g/m2になるようにロールコーターで塗布し、140℃
で10分間乾燥した。引続いて該塗膜面上に実施例1の塗
料TC−1と二酸化ケイ素(富士デヴィソン(株)製“サ
イロイド"150、平均粒子径2.5μ)を固形分重量比で100
/100に混合・分散した塗料を固形分塗布量が5g/m2にな
るようにロールコーターで塗布し、150℃で3分間乾燥
した後、実施例1と同様にインジウム・スズ酸化物の薄
膜形成、回路作成、スイッチ化した。評価結果を表1に
示す。
Example 3 The coating AC of Example 1 was coated on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness 125 μ) with a roll coater so that the solid coating amount was 2 g / m 2 , and the temperature was 140 ° C.
And dried for 10 minutes. Subsequently, the paint TC-1 of Example 1 and silicon dioxide ("Syloid" 150 manufactured by Fuji Davisson Co., Ltd., average particle size 2.5 µ) were applied to the surface of the coating film at a solid content weight ratio of 100.
A coating material mixed / dispersed in 100/100 was applied with a roll coater so that the solid coating amount was 5 g / m 2 and dried at 150 ° C. for 3 minutes, and then a thin film of indium tin oxide was prepared as in Example 1. Formed, created circuits, made into switches. The evaluation results are shown in Table 1.

比較例2 実施例1において、塗料AC、塗料TC−1をともに塗布せ
ずに、導明導電膜のみ形成させて同様にスイッチ化し
た。評価結果を表1に示す。
Comparative Example 2 In the same manner as in Example 1, the coating AC and the coating TC-1 were not applied, but only the light-conducting conductive film was formed, and a switch was formed in the same manner. The evaluation results are shown in Table 1.

比較例3 実施例1においてインジウム・スズ酸化物の代りにパラ
ジウムを150Å厚さに形成させた。この場合は表1に示
したようにスイッチとしての機能に問題はなかったが光
線透過率が著しく低下した。
Comparative Example 3 Palladium was formed to a thickness of 150 Å in place of indium tin oxide in Example 1. In this case, as shown in Table 1, there was no problem in the function as a switch, but the light transmittance was significantly lowered.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】有機高分子フィルム基材Aに、表面電気抵
抗1012Ω/口以下であって、第4級アンモニウム塩共重
合物とメラミン化合物との混合物からなる層と有機ケイ
素化合物からなる層で形成される耐摩耗層B、表面電気
抵抗3×103Ω/口以下の透明導電層Cが、B/A/Cの順に
積層され、該積層体の光線透過率が70%以上であること
を特徴とするタッチスイッチ用積層フィルム。
1. An organic polymer film substrate A comprising a layer having a surface electric resistance of 10 12 Ω / port or less and comprising a mixture of a quaternary ammonium salt copolymer and a melamine compound, and an organosilicon compound. A wear-resistant layer B formed of layers and a transparent conductive layer C having a surface electric resistance of 3 × 10 3 Ω / port or less are laminated in the order of B / A / C, and the light transmittance of the laminate is 70% or more. A laminated film for a touch switch, which is characterized.
【請求項2】表面電気抵抗3×103Ω/口以下の透明導
電層Cがインジウム・スズ酸化物あるいは金または銀を
50%以上含む金属化合物であることを特徴とする特許請
求の範囲第(1)項記載のタッチスイッチ用積層フィル
ム。
2. The transparent conductive layer C having a surface electric resistance of 3 × 10 3 Ω / port or less is made of indium tin oxide or gold or silver.
The laminated film for a touch switch according to claim (1), which is a metal compound containing 50% or more.
【請求項3】有機高分子フィルム基材Aに、表面電気抵
抗1012Ω/口以下であって、有機ケイ素化合物と酸化ス
ズとの混合物からなる耐摩耗層B、表面電気抵抗3×10
3Ω/口以下の透明導電層Cが、B/A/Cの順に積層され、
該積層体の光線透過率が70%以上であることを特徴とす
るタッチスイッチ用積層フィルム。
3. An organic polymer film substrate A having a surface electric resistance of 10 12 Ω / port or less, a wear resistant layer B made of a mixture of an organic silicon compound and tin oxide, and a surface electric resistance of 3 × 10 5.
A transparent conductive layer C of 3 Ω / port or less is laminated in the order of B / A / C,
A laminated film for a touch switch, wherein the laminated body has a light transmittance of 70% or more.
【請求項4】表面電気抵抗3×103Ω/口以下の透明導
電層Cがインジウム・スズ酸化物あるいは金または銀を
50%以上含む金属化合物であることを特徴とする特許請
求の範囲第(3)項記載のタッチスイッチ用積層フィル
ム。
4. The transparent conductive layer C having a surface electric resistance of 3 × 10 3 Ω / port or less is made of indium tin oxide or gold or silver.
The laminated film for a touch switch according to claim (3), which is a metal compound containing 50% or more.
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