JPH0752590B2 - Driving method for semiconductor optical memory - Google Patents

Driving method for semiconductor optical memory

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JPH0752590B2
JPH0752590B2 JP62283413A JP28341387A JPH0752590B2 JP H0752590 B2 JPH0752590 B2 JP H0752590B2 JP 62283413 A JP62283413 A JP 62283413A JP 28341387 A JP28341387 A JP 28341387A JP H0752590 B2 JPH0752590 B2 JP H0752590B2
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optical memory
optical
voltage
light
layer
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義春 田代
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は画像処理や光論理演算等に必要な半導体光メモ
リーの駆動方法に関する。
The present invention relates to a method for driving a semiconductor optical memory required for image processing, optical logic operation and the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

光コンピューター、光交換及び光・電気集積回路の分野
において、光メモリー素子として用いられるpnpn接合素
子が注目されている(例えばJ.Appl.Phy.59(2)1986,
pp596-600)。従来知られている構造の素子の断面図を
第4図に示す。図において、このpnpn接合素子はn型Ga
As基板1上に、n型で不純物濃度5×1017cm-3のn−Al
0.4Ga0.6As層2を1μm,p型で不純物濃度1×1019cm-3
のp−GaAs層3を50Å,n型で不純物濃度1×1017cm-3
n−GaAs(発光層)4を1μm,p型で不純物濃度5×10
18cm-3のp−Al0.4Ga0.6As層5を1μm,p型で不純物濃
度1×1019cm-3のp−GaAs層6を0.1μmをそれぞれMBE
法により連続成長する。得られたウェハーを用いてAuZn
のアロイによりリング状にp型電極7を、またAuGeNiに
よりn型電極8を形成すると第4図のpnpn接合素子が得
られる。
In the fields of optical computers, optical switching, and optical / electrical integrated circuits, pnpn junction devices used as optical memory devices have been attracting attention (for example, J. Appl. Phy. 59 (2) 1986,
pp596-600). FIG. 4 shows a sectional view of an element having a conventionally known structure. In the figure, this pnpn junction element is an n-type Ga
N-Al with n-type impurity concentration of 5 × 10 17 cm -3 on As substrate 1
0.4 Ga 0.6 As layer 2 1 μm, p-type impurity concentration 1 × 10 19 cm -3
The p-GaAs layer 3 of 50 Å, the n-type has an impurity concentration of 1 × 10 17 cm -3 of the n-GaAs (light-emitting layer) 4 μm, and the p-type has an impurity concentration of 5 × 10 7.
MBE of an 18 cm −3 p-Al 0.4 Ga 0.6 As layer 5 of 1 μm and a p-type impurity concentration of 1 × 10 19 cm −3 p-GaAs layer 6 of 0.1 μm.
It grows continuously by the method. Using the obtained wafer, AuZn
When the p-type electrode 7 and the n-type electrode 8 are formed in the ring shape and the AuGeNi alloy, respectively, the pnpn junction element shown in FIG. 4 is obtained.

このようなpnpn接合を有する半導体構造にはスイッチン
グ機能がある。このスイッチング電圧は微弱な光入射を
行うと低電圧側にシフトすることが知られている。バイ
アス電圧をスイッチング電圧より少し低い電圧に設定し
ておき、微弱光を入射するとオフ状態からオン状態にス
イッチングさせることができる。オン状態にスイッチン
グするとすべてのpn接合が順バイアスになり、発光す
る。このとき負荷抵抗の大きさを選択することにより強
い光出力強度を得ることができる。また入射光を切った
後でも順バイアス状態が保持されるので、一種の光メモ
リーとして働かせることができる。この従来例では、発
光及び受光の作用がともにn-GaAs層4においてなされ
る。
A semiconductor structure having such a pnpn junction has a switching function. It is known that this switching voltage shifts to the low voltage side when weak light is incident. The bias voltage is set to a voltage slightly lower than the switching voltage, and when weak light enters, it is possible to switch from the off state to the on state. When switched to the on state, all pn junctions are forward biased and emit light. At this time, a strong light output intensity can be obtained by selecting the magnitude of the load resistance. Further, since the forward bias state is maintained even after the incident light is cut off, it can be used as a kind of optical memory. In this conventional example, both light emission and light reception are performed in the n-GaAs layer 4.

上記の光メモリー素子を同一基板上に集積化することに
より半導体光メモリーが形成される。
A semiconductor optical memory is formed by integrating the above optical memory devices on the same substrate.

このような半導体光メモリーにおいて、場所によって感
度の異なる重みつきの記憶機能は応用上重要である。こ
のような重みつき記憶機能を実現するためには印加する
駆動パルスの電圧レベルを変化させる必要がある。光メ
モリー素子の電流−電圧特性を第5図に示す。第5図に
おいて、光メモリー素子に光が入射されない状態10では
光メモリー素子のスイッチングは印加される電圧がスイ
ッチング電圧Vs以上のときに生じる。この光メモリー素
子に“入射光量1"を入射した状態11ではVsよりも低い電
圧V1でスイッチングが生じ、“入射光量1"よりも光量の
大きな“入射光量2"を入射した状態12では電圧V1よりも
さらに低い電圧V2でスイッチングが生じる。そのために
書き込みに重みをつけ、記憶しやすい素子と記憶しにく
い素子とを、同一基板上に同一構造で形成した光メモリ
ー素子を実現することができる。すなわちV2<V3<V1
る電圧V3を光メモリー素子に印加することにより“入射
光量2"の光ではON状態となれるが“入射光量1"の光では
光メモリー素子はON状態とはなれず記憶されない。また
V1<V4<Vsなる電圧V4を光メモリー素子に印加すること
により“入射光量1"あるいは“入射光量2"のいずれの光
量でもON状態となれる。そこで同一基板上に第4図の構
造で形成した光メモリー素子に第5図に示したV3の印加
電圧とV4の印加電圧とを加えておき、“入射光量1"なる
光を入射することによりV4の印加電圧の素子のみON状態
とすることができる。このようにすれば光メモリー素子
の光感度がかわり、光データの書き込みに重みをつける
ことができる。
In such a semiconductor optical memory, a weighted storage function having different sensitivity depending on location is important for application. In order to realize such a weighted storage function, it is necessary to change the voltage level of the applied drive pulse. The current-voltage characteristics of the optical memory device are shown in FIG. In FIG. 5, in the state 10 where light is not incident on the optical memory element, the switching of the optical memory element occurs when the applied voltage is equal to or higher than the switching voltage V s . In the state 11 when "incident light amount 1" is incident on this optical memory element, switching occurs at a voltage V 1 lower than V s , and in the condition 12 where "incident light amount 2" having a larger light amount than "incident light amount 1" is incident. Switching occurs at a voltage V 2 which is lower than the voltage V 1 . Therefore, it is possible to realize an optical memory element in which writing is weighted and an element that is easy to store and an element that is hard to store are formed on the same substrate with the same structure. That is, by applying a voltage V 3 such that V 2 <V 3 <V 1 to the optical memory element, it can be turned on by the light of “incident light intensity 2”, but the optical memory element is turned on by the light of “incident light intensity 1”. I can't remember it. Also
By applying a voltage V 4 such that V 1 <V 4 <V s to the optical memory element, the ON state can be obtained with either the “incident light amount 1” or the “incident light amount 2”. Therefore, the applied voltage of V 3 and the applied voltage of V 4 shown in FIG. 5 are added to the optical memory device formed with the structure of FIG. 4 on the same substrate, and the light of “incident light amount 1” is incident. As a result, only the element with the applied voltage of V 4 can be turned on. In this way, the photosensitivity of the optical memory element is changed, and it is possible to weight the writing of optical data.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかし、かかる駆動方法を用いて重みつきの記憶を実現
するためには電源構成が複雑になるという問題があっ
た。すなわち、複数個の光メモリー素子に対し、各々個
別に電圧を変化させるために共通電源で駆動できず、光
メモリー素子の個数だけ電源が必要であった。また、各
々の電源電圧を判別し、制御する必要があった。さらに
電圧V3とV4と異なるバイアス電圧でON状態において流れ
る電流(出力光量)を一定(I1)にするためには第5図
に示したように負荷抵抗により“負荷直線1"13と“負荷
直線2"14を切り変える必要もあった。そのために、この
ような駆動方法では例えば100×100マトリックス、1000
×1000マトリックス等の大容量光メモリーを想定した場
合、上述のような重み機能を付けるには複雑となりその
実現はほとんど不可能であった。
However, in order to realize weighted storage using such a driving method, there has been a problem that the power supply configuration becomes complicated. That is, a plurality of optical memory elements cannot be driven by a common power source because the voltages are individually changed, and power sources are required for the number of optical memory elements. Further, it is necessary to determine and control each power supply voltage. Furthermore, in order to make the current (output light intensity) that flows in the ON state at a bias voltage different from the voltages V 3 and V 4 constant (I 1 ), as shown in FIG. It was also necessary to switch the “load line 2” 14. Therefore, in such a driving method, for example, 100 × 100 matrix, 1000
Assuming a large-capacity optical memory such as a × 1000 matrix, it would be complicated to add the weighting function described above, and it was almost impossible to realize it.

本発明の目的は複雑な電源を必要とせず半導体光メモリ
ーの記憶の書き込みに重みをつける機能を実現すること
にある。
An object of the present invention is to realize a function of weighting the writing of the memory of the semiconductor optical memory without requiring a complicated power source.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明はpnpn接合素子の内部に第1の禁制帯幅を持つ発
光層を有し、禁制帯幅が前記第1の禁制帯幅よりも広い
半導体層で前記発光層の両側を挟んだ光メモリー素子
を、少なくともカソード層あるいはアノード層以外を分
離してその複数個を同一基板上に形成し、かつ各々の発
光層及び受光層とをほぼ同一基板上に形成された半導体
光メモリーの駆動方法において、光情報を書き込む光メ
モリー素子の書き込みパルスにタイミングを合せて光情
報及び隣接する光メモリー素子の記憶データとを同時に
入射することを特徴とする半導体光メモリーの駆動方法
である。
The present invention relates to an optical memory having a light emitting layer having a first forbidden band width inside a pnpn junction device, and a semiconductor layer having a forbidden band width wider than the first forbidden band width sandwiching both sides of the light emitting layer. In a method for driving a semiconductor optical memory, wherein a plurality of elements are separated on at least a cathode layer or an anode layer and formed on the same substrate, and each light emitting layer and light receiving layer are formed on substantially the same substrate. A method for driving a semiconductor optical memory, characterized in that the optical information and the stored data of an adjacent optical memory element are simultaneously entered in time with a write pulse of the optical memory element for writing the optical information.

〔作用〕[Action]

上記の手段によれば、半導体メモリーを形成しているpn
pn光メモリーがON状態となって発光した場合、素子の発
光層に対し垂直方向と水平方向に光が生じることを利用
し、光情報が入射するタイミングに合せ隣接する光メモ
リー素子の記憶データを同時に入射することにより記憶
データの有無による書き込みの重み付けが可能となる。
According to the above means, the pn forming the semiconductor memory is
When the pn optical memory is turned on and emits light, light generated in the vertical and horizontal directions with respect to the light emitting layer of the device is used to store the stored data of the adjacent optical memory device at the timing when the optical information is incident. The simultaneous incidence allows the weighting of writing depending on the presence or absence of stored data.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。第1図は本発明の動作を説明するための半導体
光メモリーの断面模式図である。光メモリー素子21は第
4図に示したものと同一構造のものであり、隣接して基
板1上に付属メモリー素子22を平行に有している。第4
図の積層構造と同一構成部分には同一番号を付して説明
を省略する。この付属メモリー素子22は層構造が光メモ
リー素子21と同一であり、発光・受光を行うn−GaAs
(発光層)4は同一平面上にあり、またこの発光層4に
対し垂直方向の光の出入窓は設けられておらず、素子サ
イズも光メモリー素子21に比べ小型となっている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of a semiconductor optical memory for explaining the operation of the present invention. The optical memory device 21 has the same structure as that shown in FIG. 4, and has an attached memory device 22 in parallel on the substrate 1 adjacent thereto. Fourth
The same components as those of the laminated structure shown in the figure are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. This attached memory element 22 has the same layer structure as the optical memory element 21, and is an n-GaAs that emits and receives light.
The (light emitting layer) 4 is on the same plane, and a light entrance / exit window in a direction perpendicular to the light emitting layer 4 is not provided, and the element size is smaller than the optical memory element 21.

第2図に第1図の素子を2×2のマトリックス状に形成
した半導体光メモリーの平面図及び駆動回路模式図を示
す。第2図に示すように各光メモリー素子と付属素子に
は電源19,20及び負荷抵抗17,18が直列に接続されてい
る。第1図に示すように光メモリー素子21に光情報9を
入射し、これをON状態とし、そのときの水平方向の光情
報出力15により付属メモリー素子22に光情報を転送・記
憶させることができる。これを利用して重み付書き込み
を行った。
FIG. 2 shows a plan view and a drive circuit schematic diagram of a semiconductor optical memory in which the elements of FIG. 1 are formed in a 2 × 2 matrix. As shown in FIG. 2, power supplies 19 and 20 and load resistors 17 and 18 are connected in series to each optical memory device and the accessory device. As shown in FIG. 1, the optical information 9 is incident on the optical memory element 21, and this is turned on, and the optical information output 15 in the horizontal direction at that time allows the optical information to be transferred and stored in the attached memory element 22. it can. Using this, weighted writing was performed.

第3図(イ)に光メモリー素子への印加電圧(a)と付
属メモリー素子への印加電圧(b)を示した。第3図
(ロ)には第2図に示すA素子23、B素子25、C素子2
7、D素子29への光情報の入射光量と入射タイミングの
関係を示した。第3図(ハ)には各タイミングにおける
光メモリー素子の光情報の出力を示した。電源20から第
3図(イ)の(a)に示す印加電圧を、電源19からは第
3図(ロ)の(b)に示す印加電圧を供給した。電圧V3
は第5図に示す電圧であり、電圧V5はホールディング電
圧Vhより少し高い電圧(Vh<V5<V2)であり、電圧V6
負の電圧である。
FIG. 3A shows the applied voltage (a) to the optical memory device and the applied voltage (b) to the attached memory device. FIG. 3B shows A element 23, B element 25, C element 2 shown in FIG.
7 shows the relationship between the incident light amount of the optical information on the D element 29 and the incident timing. FIG. 3C shows the output of optical information from the optical memory element at each timing. The applied voltage shown in (a) of FIG. 3 (a) was supplied from the power supply 20, and the applied voltage shown in (b) of FIG. 3 (b) was supplied from the power supply 19. Voltage V 3
Is the voltage shown in FIG. 5, the voltage V 5 is a voltage slightly higher than the holding voltage V h (V h <V 5 <V 2 ), and the voltage V 6 is a negative voltage.

第3図(ハ)において、A素子23、D素子29に初期デー
タを書き込み、他の素子より高い重みを付ける。そこで
第3図(イ)の(a)、第3図(ロ)の(a)に示すよ
うにt1において、A素子23、D素子29に第5図で示した
“入射光量2"の光量をもつ書き込み用光情報33を入射す
る。そのタイミングt1に合せて書き込み、読み出し兼用
であるセットパルス31が光メモリー素子に印加されA素
子23、D素子29がON状態となる(第3図(ハ)の
(a))。そのとき第3図(イ)の(b)に示すように
付属メモリー素子へもタイミングt1に合せセットパルス
34が印加されており、第1図に示す光メモリー素子21の
水平方向の光情報15により第2図に示すA付属素子24、
D付属素子30に光情報を記憶できる。その後第3図
(イ)の(a)に示すリセットパルス32によりA素子2
3、D素子29の記憶は消去される。そのために第3図
(ロ)に示した書き込み用光情報33は第2図のA付属素
子24、D付属素子30のみに残ることになる。その記憶は
第3図(ロ)に示したバイアス35により保持される。
In FIG. 3C, initial data is written in the A element 23 and the D element 29, and weighted higher than other elements. Therefore, as shown in (a) of FIG. 3 (a) and (a) of FIG. 3 (b), at t 1 , the “incident light amount 2” shown in FIG. Light information for writing 33 having a light quantity is incident. A set pulse 31 for both writing and reading is applied to the optical memory element at the timing t 1 and the A element 23 and the D element 29 are turned on ((a) in FIG. 3C). At that time, as shown in (b) of FIG. 3 (a), a set pulse is also applied to the attached memory element at the timing t 1.
34 is applied, and according to the optical information 15 in the horizontal direction of the optical memory device 21 shown in FIG. 1, the A auxiliary device 24 shown in FIG.
Optical information can be stored in the D attachment element 30. After that, by the reset pulse 32 shown in (a) of FIG.
3. The memory of the D element 29 is erased. Therefore, the writing optical information 33 shown in FIG. 3B remains only in the A attached element 24 and the D attached element 30 in FIG. The memory is held by the bias 35 shown in FIG.

次に第3図(ロ)に示すようにt2のタイミングで第5図
に示した“入射光量1"の光量を有する光情報36をA素子
23、B素子25に入射する。そのとき第5図に示すように
光メモリー素子にはV3の電圧が印加されるために“入射
光量1"の光量の光ではON状態になることはできず、第2
図に示すB素子25はOFF状態のままである。しかし、第
2図に示すA素子23はA付属素子24の記憶データが第1
図に示す水平方向の光情報15として入射されるためにON
状態となることができる(第3図(ハ)の(b))。そ
の後第3図(イ)の(a)に示すようにリセットパルス
32によりA素子23の記憶を消去される。同様に第3図
(ロ)に示すようにt3ではB素子25とC素子27とに、t4
ではC素子27とD素子29とに、t5ではD素子29とA素子
23とに“入射光量1"の光量を有する光情報を入射する。
A素子23とD素子29とはON状態となることができその他
はOFF状態のままである(第3図(ハ)の(c),
(d),(e))。これにより第3図(ハ)に示すよう
に初期データを書き込まれたA素子23、D素子29のみが
同じ光情報によりON状態となり、その他はOFF状態のま
まとなる。
Then the optical information 36 A device having a light intensity of FIG. 3 shown in FIG. 5 at a timing t 2 as shown in (b) "the amount of incident light 1"
23, incident on the B element 25. At that time, as shown in FIG. 5, since the voltage V 3 is applied to the optical memory element, it cannot be turned on by the light having the “incident light intensity 1”.
The B element 25 shown in the figure remains in the OFF state. However, the A element 23 shown in FIG.
ON to enter as horizontal optical information 15 shown in the figure
It can be in a state ((b) of FIG. 3 (c)). Then, as shown in (a) of FIG.
The memory of the A element 23 is erased by 32. Similarly, and C elements 27 t 3 the B element 25 as shown in FIG. 3 (b), t 4
In C element 27 and D element 29, in t 5 , D element 29 and A element
Optical information having a light amount of “incident light amount 1” is incident on 23 and 23.
The A element 23 and the D element 29 can be in the ON state, and the others remain in the OFF state ((c) of FIG. 3 (c),
(D), (e)). As a result, as shown in FIG. 3C, only the A element 23 and the D element 29 in which the initial data is written are turned on by the same optical information, and the others are kept in the off state.

以上によりpnpn光メモリー素子8個(光メモリー素子4
個、付属メモリー素子4個)に対し、電源2個により学
習機能を持たせることができた。ここで第2図に示した
負荷抵抗17は光情報出力の強度を、負荷抵抗18は初期記
憶の寄与を抵抗値を変えることで各々変化させるために
設けたものである。
By the above, 8 pnpn optical memory devices (optical memory device 4
It was possible to give a learning function to each of the two, and four attached memory elements) by using two power supplies. The load resistor 17 shown in FIG. 2 is provided to change the intensity of the optical information output, and the load resistor 18 is provided to change the contribution of the initial memory by changing the resistance value.

本実施例ではpnpn光メモリー素子2個(光メモリー素子
1個、付属メモリー素子1個)で1つの光メモリー素子
としたが特に個数は限定されるものではない。また8個
の光メモリー素子での駆動を示したがこれも特に個数に
限定されるものではない。
In this embodiment, two pnpn optical memory elements (one optical memory element and one attached memory element) are used as one optical memory element, but the number is not particularly limited. Further, driving with eight optical memory elements is shown, but this is not particularly limited to the number.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように本発明によれば、画像処理や光論理演算等
に必要な半導体光メモリーの駆動に関し、光情報を書き
込む光メモリー素子の書き込みパルスにタイミングを合
せて光情報及び隣接する光メモリー素子の記憶データと
を同時に入射することによって、複雑な電源を必要とせ
ず半導体光メモリーの記憶の書き込みに重みをつける機
能を実現できる効果を有する。
As described above, according to the present invention, regarding the driving of the semiconductor optical memory required for image processing, optical logic operation, etc., the optical information and the adjacent optical memory element are synchronized with the write pulse of the optical memory element for writing the optical information. By simultaneously inputting the stored data and the stored data, the function of weighting the writing of the storage of the semiconductor optical memory can be realized without requiring a complicated power source.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の効果を説明するための半導体光メモリ
ーの断面模式図、第2図は本実施例の半導体光メモリー
の駆動回路を模式的に示す平面図、第3図(イ)の
(a),(b)は光メモリー素子と付属メモリー素子へ
の印加電圧を示す図、第3図(ロ)の(a)〜(d)は
光メモリー素子への光情報の入射光量と入射タイミング
の関係を示す図、第3図(ハ)の(a)〜(e)は各タ
イミングにおける光メモリー素子の光情報の出力を示す
図、第4図は従来技術を説明するための半導体光メモリ
ーの断面模式図、第5図は光メモリー素子の電流−電圧
特性を示した図である。 1……n-GaAs基板、2……n-Al0.4Ga0.6As層 3,6……p-GaAs層、4……n-GaAs(発光層) 5……p-Al0.4Ga0.6As層、7……p型電極 8……n型電極、9,15,16,36……光情報 13,14……負荷直線、17,18……負荷抵抗 19,20……電源、21……光メモリー素子 22……付属メモリー素子、23……A素子 24……A付属素子、25……B素子 26……B付属素子、27……C素子 28……C付属素子、29……D素子 30……D付属素子、31,34……セットパルス 32……リセットパルス、33……書き込み用光情報 35……バイアス
FIG. 1 is a schematic sectional view of a semiconductor optical memory for explaining the effect of the present invention, FIG. 2 is a plan view schematically showing a drive circuit of the semiconductor optical memory of this embodiment, and FIG. (A) and (b) are diagrams showing applied voltages to the optical memory element and the attached memory element, and (a) to (d) of FIG. 3B are incident light amounts and incidences of optical information to the optical memory element. FIG. 3 is a diagram showing a timing relationship, FIGS. 3 (a) to 3 (e) are diagrams showing the output of optical information from the optical memory element at each timing, and FIG. 4 is a semiconductor optical diagram for explaining the prior art. FIG. 5 is a schematic sectional view of the memory, and FIG. 5 is a diagram showing current-voltage characteristics of the optical memory element. 1 …… n-GaAs substrate, 2 …… n-Al 0.4 Ga 0.6 As layer 3,6 …… p-GaAs layer, 4 …… n-GaAs (light emitting layer) 5 …… p-Al 0.4 Ga 0.6 As layer , 7 …… p-type electrode 8 …… n-type electrode, 9,15,16,36 …… optical information 13,14 …… load line, 17,18 …… load resistance 19,20 …… power supply, 21 …… Optical memory device 22 …… Attached memory device, 23 …… A device 24 …… A device, 25 …… B device 26 …… B device, 27 …… C device 28 …… C device, 29 …… D Element 30 …… D accessory element, 31,34 …… Set pulse 32 …… Reset pulse, 33 …… Light information for writing 35 …… Bias

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Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】pnpn接合素子の内部に第1の禁制帯幅を持
つ発光層を有し、禁制帯幅が前記第1の禁制帯幅よりも
広い半導体層で前記発光層の両側を挟んだ光メモリー素
子を、少なくともカソード層あるいはアノード層以外を
分離してその複数個を同一基板上に形成し、かつ各々の
発光層及び受光層とをほぼ同一基板上に形成された半導
体光メモリーの駆動方法において、光情報を書き込む光
メモリー素子の書き込みパルスにタイミングを合せて光
情報及び隣接する光メモリー素子の記憶データとを同時
に入射することを特徴とする半導体光メモリーの駆動方
法。
1. A pnpn junction element having a light emitting layer having a first forbidden band width, wherein both sides of the light emitting layer are sandwiched by semiconductor layers having a forbidden band width wider than the first forbidden band width. Driving of an optical memory device in which a plurality of optical memory devices are formed on the same substrate by separating at least a portion other than a cathode layer or an anode layer, and each light emitting layer and light receiving layer are formed on almost the same substrate. In the method, a method for driving a semiconductor optical memory is characterized in that the optical information and the stored data of an adjacent optical memory element are simultaneously made incident in time with a write pulse of the optical memory element for writing the optical information.
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