JPH07503701A - Peptides with tachykinin antagonistic activity - Google Patents

Peptides with tachykinin antagonistic activity

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JPH07503701A
JPH07503701A JP5500803A JP50080393A JPH07503701A JP H07503701 A JPH07503701 A JP H07503701A JP 5500803 A JP5500803 A JP 5500803A JP 50080393 A JP50080393 A JP 50080393A JP H07503701 A JPH07503701 A JP H07503701A
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松尾 昌昭
萩原 大二郎
三宅 宏
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藤沢薬品工業株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 タキキニン拮抗作用を有するペプチド 技術分野 本発明は新規なペプチド化合物、および医薬として許容されるその塩に関する。[Detailed description of the invention] Peptides with tachykinin antagonistic activity Technical field The present invention relates to novel peptide compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof.

更に詳細には、タキキニン拮抗作用、特にサブスタンスP拮抗作用、ニューロキ ニンA拮抗作用、ニューロキニン曜抗作用のような、薬理的活性を有する新規な ペプチド化合物、および医薬として許容されるその塩、それらの製造方法、それ らの医薬組成物、ならびに医薬としてのそれらの用途に関するものである。More specifically, tachykinin antagonism, especially substance P antagonism, Novel pharmacological activities such as nin A antagonistic action and neurokinin agonist action. Peptide compounds, pharmaceutically acceptable salts thereof, methods for their production, and their use as medicaments.

本発明の一つの目的は、タキキニン拮抗作用、特にサブスタンスP拮抗作用、ニ ューロキニンA拮抗作用、ニューロキニン困吉抗作用その他のような薬理的活性 を有する新規でかつ有効なペプチド化合物、および医薬として許容されるその塩 を提供することにある。One object of the present invention is to provide tachykinin antagonism, particularly substance P antagonism, Pharmacological activities such as neurokinin A antagonism, neurokinin antagonism, etc. Novel and effective peptide compounds having and pharmaceutically acceptable salts thereof Our goal is to provide the following.

本発明の他の目的は、前記ペプチド化合物、およびこれらの塩類の製造方法を提 供することにある。Another object of the present invention is to provide a method for producing the peptide compounds and their salts. It is about providing.

本発明のその他の目的は、活性成分として前記ペプチド化合物および医薬として 許容されるその塩が含まれる医薬組成物を提供することにある。Another object of the invention is to use the peptide compound as an active ingredient and as a medicament. An object of the present invention is to provide a pharmaceutical composition containing an acceptable salt thereof.

本発明の更に他の目的は、例えば、喘息、気管支炎、鼻炎、咳、熔出等のような 呼吸系の病気、結膜炎、春季カタル等のような眼の病気、接触性皮膚炎、アトピ ー性皮膚炎、尊麻疹、その他の湿疹性皮膚炎等のような皮膚病、慢性関節リウマ チ、変形性関節炎等のような炎症性の病気、痛み(例えば偏頭痛、頭痛、歯痛、 癌の苦痛、背中の痛み等)その他の、人、動物にみられるタキキニンが媒介する 病気の治療用、予防用として有効なタキキニン拮抗薬、特にサブスタンス吻抗薬 、ニューロキニン^拮抗薬、ニューロキニン曜抗薬としての前記ペプチド化合物 および医薬として許容されるその塩の用途を提供することにある。Yet another object of the present invention is to treat diseases such as asthma, bronchitis, rhinitis, cough, eczema, etc. Respiratory diseases, conjunctivitis, eye diseases such as vernal keratitis, contact dermatitis, atopic - Skin diseases such as dermatitis, measles, other eczematous dermatitis, and rheumatoid arthritis. inflammatory diseases such as osteoarthritis, pain (e.g. migraine, headache, toothache, cancer pain, back pain, etc.) and other tachykinins found in humans and animals. Tachykinin antagonists, especially substance antagonists, effective for the treatment and prevention of diseases , the above-mentioned peptide compound as a neurokinin antagonist, or a neurokinin antagonist and to provide pharmaceutically acceptable uses for its salts.

発明の開示内容 本発明の目的化合物は次の一般式(I)で表わされる。Disclosure of the invention The target compound of the present invention is represented by the following general formula (I).

式: [式中、R1は低級アルキル基、アリール基、アル(低級)アルキル基、アリー ルアミノ基、ピリジル基、ピロリル基、ピラゾロピリジル基、キノリル基、また は式: (式中、l は単結合または2型詰合、XはCHまたはN1およびZはO,Sま たはNH,これらの基は適当な置換基を有していてもよい、を意味する。); R2は水素または低級アルキル基; Rsは水素または適当な置換基。formula: [In the formula, R1 is a lower alkyl group, an aryl group, an a(lower)alkyl group, an aryl Ruamino group, pyridyl group, pyrrolyl group, pyrazolopyridyl group, quinolyl group, and is the formula: (In the formula, l is a single bond or 2-type packing, X is CH or N1, and Z is O, S or or NH, meaning that these groups may have appropriate substituents. ); R2 is hydrogen or a lower alkyl group; Rs is hydrogen or an appropriate substituent.

R4は適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基、およびR6は適当な置 換基を有していてもよいアル(低級)アルキル基またはピリジル(低級)アルキ ル基を意味するか、またはR4とR8は互いに結合してベンゼン縮合低級アルキ レン基を形成;Aは適当な置換基を有していてもよいアミノ酸残基;および Yは−、低級アルキレン基、低級アルケニレン基または低級アルキルイミノ基を それぞれ意味する、 但し、R1がアリール基または式。R4 is a lower alkyl group which may have a suitable substituent, and R6 is a suitable substituent. Al (lower) alkyl group or pyridyl (lower) alkyl group that may have a substituent or R4 and R8 are bonded to each other to form a benzene-fused lower alkyl group. Forms a ren group; A is an amino acid residue that may have a suitable substituent; and Y is -, lower alkylene group, lower alkenylene group or lower alkylimino group Each means However, R1 is an aryl group or a formula.

[式中、Xは前と同じ意味、およびZは0またはN−R: <式中R:は水素ま たは低級アルキル基を意味する)を意味する]のときは、R2は水素、 R4は適当な置換基を有してもよい低級アルキル基、R11は適当な置換基を有 していてもよいアル(低級)アルキル基、Aは式: (式中、R7はヒドロキシ基または低級アルコキシ基を意味する)、およびYは −または低級アルケニレン基、 R3は適当な置換基である。] 本発明に従って、新規ペプチド化合物(1)は下記反応式で説明される製造法に よって製造することができる。[In the formula, X has the same meaning as before, and Z is 0 or N-R: <In the formula, R: is hydrogen or or lower alkyl group], R2 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group which may have an appropriate substituent, and R11 has an appropriate substituent. an optionally alkyl group, A is of the formula: (In the formula, R7 means a hydroxy group or a lower alkoxy group), and Y is - or lower alkenylene group, R3 is a suitable substituent. ] According to the present invention, the novel peptide compound (1) can be produced by the method described in the reaction formula below. Therefore, it can be manufactured.

製造法1 (II) 製造法2 (IV) その反応性誘導体またはその塩 製造法3 (1−a) またはその塩 製造法4 で またはその塩 製造例5 その反応性誘導体またはその塩 (1−a) またはその塩 製造例6 (1−e) またはその塩 (1−f) またはその塩 (1−g) またはその塩 製造例7 またはその塩 製造法8 [式中、R1、R1、R3、R4、R3、A、XおよびYはそれぞれ前と同じ意 味であり、 R;は保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、R二はカルボキシ(低級)ア ルキル基、R:は保護されたカルボキシ(低級)アルキル基または保護されたア ミノ(低級)アルキル基、 R=カルボキシ(低級)アルキル基またはアミノ(低級)アルキル基、R:はア ミノ(低級)アルキル基、 R:はグアニジノ(低級)アルキル基、R8は水素またはハロゲン、 Alは、アミノ基、ヒドロキシ基および/またはカルボキシ基を含むアミノ酸残 基、 A2は保護されたアミン基、保護されたヒドロキシ基および/または保護された カルボキシ基を含むアミノ酸残基、 A3は、適当な置換基を有するスルホニルオキシ基を含むアミノ酸残基、A4は 、アジド基を含むアミノ酸残基、A5は、アミノ基を含むアミノ酸残基、Maは 、アルカリ金属を意味する)。Manufacturing method 1 (II) Manufacturing method 2 (IV) its reactive derivative or its salt Manufacturing method 3 (1-a) or its salt Manufacturing method 4 in or its salt Manufacturing example 5 its reactive derivative or its salt (1-a) or its salt Manufacturing example 6 (1-e) or its salt (1-f) or its salt (1-g) or its salt Manufacturing example 7 or its salt Manufacturing method 8 [In the formula, R1, R1, R3, R4, R3, A, X and Y each have the same meaning as before. It's the taste, R; is a protected carboxy (lower) alkyl group, R2 is a carboxy (lower) alkyl group; alkyl group, R: is a protected carboxy(lower) alkyl group or a protected alkyl group; mino (lower) alkyl group, R = carboxy (lower) alkyl group or amino (lower) alkyl group, R: is a mino (lower) alkyl group, R: is a guanidino (lower) alkyl group, R8 is hydrogen or halogen, Al is an amino acid residue containing an amino group, a hydroxy group, and/or a carboxy group. basis, A2 is a protected amine group, a protected hydroxy group and/or a protected amino acid residues containing a carboxy group, A3 is an amino acid residue containing a sulfonyloxy group with a suitable substituent, A4 is , an amino acid residue containing an azide group, A5 is an amino acid residue containing an amino group, Ma is an amino acid residue containing an amino group, , meaning alkali metal).

原料化合物(n)、(III)、(IV)および(V)については、それらのあ る種のものは新規であり、後述の製造法、実施例で説明した操作法または常法に よって製造することができる。Regarding raw material compounds (n), (III), (IV) and (V), their These types of products are new and cannot be applied to the production method described later, the operation method explained in the examples, or the conventional method. Therefore, it can be manufactured.

本発明の明細書を通じて、アミノ酸、ペプチド、保護基、縮合剤等については当 分針で一般に使用されている IUPAC−IUB (生化学命名法委員会)に よる略号によって示すことにする。Throughout the specification of the present invention, amino acids, peptides, protecting groups, condensing agents, etc. IUPAC-IUB (Biochemical Nomenclature Committee) commonly used for minute hands It will be indicated by the abbreviation .

更に、特に指示がなければ、これらの略号で表示したアミノ酸およびそれらの残 基がそのような略号によって示される場合には、L−配置の化合物および残基を 意味する。Additionally, unless otherwise specified, amino acids and their residues designated by these abbreviations are When a group is designated by such an abbreviation, compounds and residues in the L-configuration are designated as means.

出発化合物および目的化合物の好適な医薬として許容される塩は慣用の無毒性の 塩であって、有機酸塩(例えば酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒 石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ギ酸塩、トルエンスルホ ン酸塩等)、無機酸塩(例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨー化水素酸塩、硫酸塩 、硝酸塩、りん酸塩等)のような酸付加塩、またはアミノ酸(例えばアルギニン 、アスパラギン酸、グルタミン酸等)との塩、またはアルカリ金属塩(例えばナ トリウム塩、カリウム塩等)およびアルカリ土類金属塩(例えばカルシウム塩、 マグネシウム塩等)のような金属塩、アンモニウム塩;有機塩基との塩(例えば 、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシク ロヘキシルアミン塩、N、 N’ −ジベンジルエチレンジアミン塩等)等を包 含し得る。Suitable pharmaceutically acceptable salts of the starting and target compounds can be prepared using conventional non-toxic salts. salts, including organic acid salts (e.g. acetates, trifluoroacetates, maleates, alcoholic acid salts) stone salt, methanesulfonate, benzenesulfonate, formate, toluenesulfonate salts), inorganic acid salts (e.g. hydrochlorides, hydrobromides, hydroiodides, sulfates) , nitrates, phosphates, etc.), or amino acids (e.g. arginine). , aspartic acid, glutamic acid, etc.), or alkali metal salts (e.g., sodium thorium salts, potassium salts, etc.) and alkaline earth metal salts (e.g. calcium salts, metal salts such as magnesium salts, ammonium salts; salts with organic bases (e.g. , trimethylamine salt, triethylamine salt, pyridine salt, picoline salt, dicycline lohexylamine salt, N,N’-dibenzylethylenediamine salt, etc.) may be included.

この明細書の以上および以下の記載において、この発明の範囲内に包含される種 々の定義の好適な例および説明を以下詳細に説明する。In the foregoing and following descriptions of this specification, species included within the scope of this invention Preferred examples and explanations of each definition will be described in detail below.

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子 エないし6個(好ましくは工な いし4個)を意味するものとする。Unless otherwise specified, "lower" means carbon atoms with 5 to 6 carbon atoms (preferably carbon atoms). 4 stones).

好適な「低級アルキル基」としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル 、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような直鎖また は分岐鎖アルキル基、それらの中で最も好ましくはメチル基が挙げられる。Suitable "lower alkyl groups" include methyl, ethyl, propyl, and isopropyl. , butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl etc. is a branched alkyl group, most preferably a methyl group.

好適な「アリール基」および「アリールアミノ基」の好適な「アリール」部分と しては、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、クメニル、ナフチル二等の基 が挙げられ、それらの中で好ましいものとしてはC6−C1oアリール基等が挙 げられ、最も好ましいものとしては、フェニル基が挙げられる。A suitable “aryl group” and a suitable “aryl” moiety of an “arylamino group” The groups include phenyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, naphthyl, etc. Among these, preferred are C6-C1o aryl groups, etc. Among them, the most preferred is phenyl group.

好適な「アル(低級)アルキル基」としては、モノ、またはジまたはトリフェニ ル(低級)アルキル基(例えばトリチル、ベンズヒドリル、ベンジル、フェネチ ル等の基)等の基が挙げられる。Suitable "al(lower) alkyl groups" include mono-, di-, or triphenyl groups. (lower) alkyl groups (e.g. trityl, benzhydryl, benzyl, phenethyl) Groups such as ru) and the like can be mentioned.

好適な「低級アルキレン基」としては、メチレン、エチレン、トリメチレン、プ ロピレン、テトラメチレン、メチルトリメチレン、ヘキサメチレン等のような炭 素原子1個ないし6個を有するアルキレン基、それらの中で好ましくはメチレン 基、エチレン基、またはトリメチレン基が挙げられる。Suitable "lower alkylene groups" include methylene, ethylene, trimethylene, and polymer. Charcoal such as lopylene, tetramethylene, methyltrimethylene, hexamethylene etc. Alkylene groups having 1 to 6 atoms, preferably methylene group, ethylene group, or trimethylene group.

好適な「低級アルケニレン基」としては、ビニレン基、プロペニレン基等のよう な炭素原子2個ないし6個を有するアルケニレン基、それらの中で好ましいもの としてはビニレン基が挙げられる。Suitable "lower alkenylene groups" include vinylene groups, propenylene groups, etc. alkenylene groups having 2 to 6 carbon atoms, preferred among them Examples include vinylene groups.

好適な「低級アルキルイミノ基」としてはメチルイミノ基、エチルイミノ基等が 挙げられる。Suitable "lower alkylimino groups" include methylimino groups, ethylimino groups, etc. Can be mentioned.

好適な「アミノ酸残基」とは、アミノ酸から誘導された二価の残基を意味し、そ のようなアミノ酸としてはグリシン(Gly)、 D−または L−アラニン  (Ala)、 β−アラニン (βAla)、 D−または L−バリン(Va l)、D−または L−oイシン (Leu)、D−またはL−イソロイシン  (Ile)、D−または L−セリン (Ser)、D−または L−スレオニ ン (Thr)、D −または L−システィン(Cys)、D−または L− メチオニン (Met)、D−またはL−フェニルアラニン (Phe)、D− または L−トリプトファン(Trp)、D−または L−チロシン (Tyr ) 、D−またはL−プロリン (P r o)、 3. 4−ジデヒドロプロ リン (△(3゜4)Pro) のような D−または L−ジデヒドロプロリ ン (△Pro)、 3−ヒドロキシプロリン (Pro (30H))および  4−ヒドロキシプロリン (Pro (40H))のような D−または L −ヒドロプロリン (Pro (OH))、 D−または L−アゼチジン−2 −カルボン酸 (Azt)、D−または L−チオプロリン (Tpr)、3− アミノプロリン (Pro (3NH,)) および 4−アミノプロリン ( Pro (4NH2))のような D−または L−アミノプロリン(Pro( NHz ))、 D−または L−ピログルタミン酸(pG l u)、D−ま たは L−2−アミノイソブチル酸 (Aib)、D−または L−グルタミン 酸 (Glu)、D−または L−アスパラギン酸 (Asp)、 D−または  L−グルタミン (G ] n)、D−または L−アスパラギン (Asn )、D−または L−リジン(Lys)、D−または L−アルギニン (A  r g)、D−またはL−ヒスチジン (His)、D−または L−オルニチ ン (Orn)、5−ヒドロキシピペリジン−2−カルボン酸のような D−ま たは L−ヒドロキシピペリジンカルボン酸、 3−メルカプトプロリン (P r。Suitable "amino acid residue" refers to a divalent residue derived from an amino acid; Amino acids such as glycine (Gly), D- or L-alanine (Ala), β-alanine (βAla), D- or L-valine (Va l), D- or L-o isine (Leu), D- or L-isoleucine (Ile), D- or L-serine (Ser), D- or L-threony (Thr), D- or L-cystine (Cys), D- or L- Methionine (Met), D- or L-phenylalanine (Phe), D- or L-tryptophan (Trp), D- or L-tyrosine (Tyr ), D- or L-proline (P r o), 3. 4-didehydropro D- or L-didehydroprolyl such as phosphorus (△(3°4)Pro) (△Pro), 3-hydroxyproline (Pro (30H)) and D- or L such as 4-hydroxyproline (Pro (40H)) -Hydroproline (Pro (OH)), D- or L-azetidine-2 -Carboxylic acid (Azt), D- or L-thioproline (Tpr), 3- Aminoproline (Pro (3NH, )) and 4-aminoproline ( D- or L-aminoproline (Pro(4NH2)) like D- or L-aminoproline (Pro(4NH2)) NHz)), D- or L-pyroglutamic acid (pG l u), D-ma or L-2-aminoisobutyric acid (Aib), D- or L-glutamine Acid (Glu), D- or L-aspartic acid (Asp), D- or L-glutamine (G]n), D- or L-asparagine (Asn ), D- or L-lysine (Lys), D- or L-arginine (A r g), D- or L-histidine (His), D- or L-ornichidine Orn, 5-hydroxypiperidine-2-carboxylic acid, etc. or L-hydroxypiperidinecarboxylic acid, 3-mercaptoproline (P r.

(3SH)) および 4−メルカプトプロリン (Pro (4SH)) の ような D−または I7−メルカプトプロリン (Pro (SH)) があ り、 そしてこれらの側鎖はアミノ基、ヒドロキシ基、チオール基またはカルボ キシ基であって、適当な置換基で置換されていてもよい。前記置換基には、カル バモイル基、低級アルカノイル基(例えばホルミル基、アセチル基等)のような アシル基、低級アルコキシカルボニル基(例えば t−ブトキシカルボニル基等 )、トリハロ(低級)アルコキシカルボニル基(例えば 2. 2. 2−トリ クロロエトキシカルボニル基等)、アル(低級)アルコキシカルボニル基 (例 えばベンジルオキシカルボニル基等)、低級アルキルスルホニル基(例えばメシ ルエチルスルホニル基等)、低級アルコキシアリル基(例えばメトキシアリル基 、エトキシアリル基等)、アリールスルホニル基(例えばフェニルスルホニル基 、トリルスルホニル基等)、ハロアル(低級)アルコキシカルボニル基(例えば 0−クロロベンジルオキシカルボニル基等)、カルボキシ(低級)アルカノイル 基(例えばカルボキシアセチル基、カルボキシプロピオニル基等)、グリシル基 、β−アラニル基、 N−低級アルコキシカルボニルグリシル基(例えば N− t−ブトキシカルボニルグリシル基等)および N−低級アルコキシカルボニル −β−アラニル基(例えば N−t−ブトキシカルボニル−β−アラニル基等) 、N、N−ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルカノイル基(例えば N、  N−ジメチルアミノアセチル基、N、N−ジエチルアミノアセチル基、N、 N −ジメチルアミノプロピオニル基、N、N−ジエチルアミノプロピオニル基等) 、カルボキシアリル基、モルホリノカルボニル基、アミノ(低級)アルカノイル 基(例えばアミノアセチル基、アミノプロピオニル基等)、N−アル(低級)ア ルコキシカルボニルアミノ(低級)アルカノイル基(例えばN−ベンジルオキシ カルボニルアミノアセチル基等)、トレオニル基、 N−低級アルコキシカルポ ニルトレオニル基(例えば N −t−ブトキシカルボニルグリシル基等)、  N−低級アルカノイルトレオニル基(例えば N−アセチルトレオニル基等)、 N−低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル−N−低級アルコキシカルボニ ルアミノ(低級)アルカノイル基(例えば N−t−ブトキシカルボニルメチル −N−t−ブトキシカルボニルアミノアセチル基等)、α−グルタミル基、 N −アル(低級)アルコキシカルボニル−〇−アル(低級)−アルキル−α−グル タミル基(例えば N−ベンジルオキシカルボニル−〇−ベンジルーα−グルタ ミル基等)、γ−グルタミル基、N−アル(低級)アルコキシカルボニル−O− アル(低級)−アルキル−γ−グルタミル基(例えば N−ペンジルオキシカル ボニルー 〇−ベンジルーγ−グルタミル基等)、低級アルキル基(例えばメチ ル基、エチル基、t−ブチル基等)、カルボキシ(低級)アルキル基(例えばカ ルボキシメチル基等)、エステル化カルボキン(低級)アルキル基(例えばエト キシカルボニルメチル基等)のような保護されたカルボキシ(低級)アルキル基 、モルホリノ基、グリシノアミド基、トレオニノアミド基、N′ −グルタミノ −N−低級アルキルアミド基(例えばN′−グルタミノ−N−t−ブチルアミド 基等)、ジ(低級)アルキルアミノ基(例えばジメチルアミノ基等)、アル(低 級)アルキル基(例えばベンジル基、フエネンル基等)、トリハロ(低級)アル キル基(例えば 2,2゜2−トリクロロエチル基等)、低級アルコキシカルボ ニル(低級)アルキル基(例えばメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボ ニルメチル基、t−ブトキシカルボニルメチル基等)、または当分野で使用され る通常の保護基が含まれる。かかるアミノ酸がチオ(硫黄)を含む場合はそのス ルフオキシドまたはスルホンであってもよい。(3SH)) and 4-mercaptoproline (Pro (4SH)) D- or I7-mercaptoproline (Pro (SH)) is and these side chains can be amino groups, hydroxy groups, thiol groups or carboxyl groups. It is an xy group, and may be substituted with an appropriate substituent. The above substituents include Bamoyl group, lower alkanoyl group (e.g. formyl group, acetyl group, etc.) Acyl group, lower alkoxycarbonyl group (e.g. t-butoxycarbonyl group, etc.) ), trihalo(lower)alkoxycarbonyl group (e.g. 2. 2. 2-tri (chloroethoxycarbonyl group, etc.), al(lower) alkoxycarbonyl group (e.g. (e.g. benzyloxycarbonyl group), lower alkylsulfonyl group (e.g. ethylsulfonyl group, etc.), lower alkoxyallyl group (e.g. methoxyallyl group), , ethoxyallyl group, etc.), arylsulfonyl group (e.g. phenylsulfonyl group) , tolylsulfonyl group, etc.), haloal(lower) alkoxycarbonyl group (e.g. (0-chlorobenzyloxycarbonyl group, etc.), carboxy (lower) alkanoyl groups (e.g. carboxyacetyl group, carboxypropionyl group, etc.), glycyl group , β-alanyl group, N-lower alkoxycarbonylglycyl group (e.g. N- t-butoxycarbonylglycyl group, etc.) and N-lower alkoxycarbonyl -β-alanyl group (e.g. N-t-butoxycarbonyl-β-alanyl group, etc.) , N,N-di(lower)alkylamino(lower)alkanoyl group (e.g. N, N-dimethylaminoacetyl group, N, N-diethylaminoacetyl group, N, N -dimethylaminopropionyl group, N,N-diethylaminopropionyl group, etc.) , carboxyallyl group, morpholinocarbonyl group, amino (lower) alkanoyl groups (e.g. aminoacetyl group, aminopropionyl group, etc.), N-al(lower) a alkoxycarbonylamino(lower)alkanoyl group (e.g. N-benzyloxy carbonylaminoacetyl group, etc.), threonyl group, N-lower alkoxy carpo Nylthreonyl group (e.g. N-t-butoxycarbonylglycyl group, etc.), N-lower alkanoylthreonyl group (e.g. N-acetylthreonyl group, etc.), N-lower alkoxycarbonyl (lower)alkyl-N-lower alkoxycarbonyl Ruamino (lower) alkanoyl group (e.g. N-t-butoxycarbonylmethyl -N-t-butoxycarbonylaminoacetyl group, etc.), α-glutamyl group, N -al(lower)alkoxycarbonyl-〇-al(lower)-alkyl-α-glue Tamyl group (e.g. N-benzyloxycarbonyl-〇-benzyl-α-gluta (mil group, etc.), γ-glutamyl group, N-al(lower)alkoxycarbonyl-O- Al(lower)-alkyl-γ-glutamyl group (e.g. N-penzyloxycarboxyl group) Bonyl-〇-benzy-γ-glutamyl group, etc.), lower alkyl groups (such as methoxy carboxy (lower) alkyl group (e.g. carboxyl group, ethyl group, t-butyl group, etc.), carboxy (lower) alkyl group (e.g. (e.g., carboxymethyl group), esterified carboxyne (lower) alkyl group (e.g., etho protected carboxy (lower) alkyl groups such as (oxycarbonylmethyl, etc.) , morpholino group, glycinoamide group, threoninoamide group, N'-glutamino -N-lower alkylamide group (e.g. N'-glutamino-Nt-butyramide) groups), di(lower) alkylamino groups (e.g. dimethylamino groups, etc.), al(lower) alkylamino groups (e.g. dimethylamino groups, etc.), )alkyl group (e.g. benzyl group, phenylene group, etc.), trihalo(lower)alkyl group Kill group (e.g. 2,2゜2-trichloroethyl group etc.), lower alkoxycarbo Nyl (lower) alkyl groups (e.g. methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbo nylmethyl group, t-butoxycarbonylmethyl group, etc.), or as used in the art. This includes the usual protecting groups. If such amino acids contain thio (sulfur), It may also be a sulfoxide or a sulfone.

好適な「カルボキシ(低級)アルキル基」としては、カルボキシメチル、カルボ キンエチル、カルボキンプロピル等の基が挙げられる。Suitable "carboxy (lower) alkyl groups" include carboxymethyl, carbo Examples include groups such as quinethyl and carboquinpropyl.

好適な[保護されたカルボキシ(低級)アルキル基」とは、カルボキシ基がエス テル化されたカルボキシ基のような常用の保護基によって保護されたカルボキン 基である、上記カルボキン(低級)アルキル基を意味する。Suitable [protected carboxy (lower) alkyl group] means that the carboxy group is Carboxynes protected by common protecting groups such as telated carboxy groups means the above-mentioned carboxyne (lower) alkyl group.

エステル化されたカルボキシ基のエステル部分の好適な例としては、低級アルキ ルエステル(例えばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、を− ブチルエステル等)等が挙げられる。Suitable examples of the ester moiety of the esterified carboxy group include lower alkyl esters (e.g. methyl ester, ethyl ester, propyl ester, - butyl ester, etc.).

好適な[適当な置換基を有していてもよいカルバモイル(低級)アルキル基」と しては、カルバモイル(低級)アルキル基(例えばカルバモイルメチル基、カル バモイルエチル基、カルバモイルプロピル基等)、低級アルキルカルバモイル( 低級)アルキル基のような適当な置換基を有するカルバモイル(低級)アルキル 基(例えばメチルカルバモイルメチル基、エチルカルバモイルメチル基等)、 アミノ(低級)アルキルカルバモイル(低級)アルキル基(例えばアミノメチル 基、カルバモイルメチル基、アミノエチルカルバモイルメチル基、等)、低級ア ルキルアミノ(低級)アルキルカルバモイル(低級)アルキル基(例えばジメチ ルアミノメチルカルバモイルメチル基、ジメチルアミノエチルカルバモイルメチ ル基等)等が挙げられる。A suitable [carbamoyl (lower) alkyl group which may have a suitable substituent] carbamoyl (lower) alkyl group (e.g. carbamoylmethyl group, carbamoylmethyl group, bamoylethyl group, carbamoylpropyl group, etc.), lower alkylcarbamoyl ( carbamoyl (lower) alkyl with suitable substituents such as lower) alkyl groups; groups (e.g. methylcarbamoylmethyl group, ethylcarbamoylmethyl group, etc.), Amino(lower)alkylcarbamoyl(lower)alkyl group (e.g. aminomethyl group, carbamoylmethyl group, aminoethylcarbamoylmethyl group, etc.), lower atom lucylamino(lower)alkylcarbamoyl(lower)alkyl groups (e.g. dimethylene) dimethylaminoethylcarbamoylmethyl group, dimethylaminoethylcarbamoylmethyl group etc.).

好適な「適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基」としては、低級アル キル基、カルボキシ(低級)アルキル基、保護されたカルボキシ(低級)アルキ ル基、適当な置換基を有していてもよいカルバモイル低級アルキル基、その例と しては、上記に示したようなものであり、アミノ(低級)アルキル基、保護され たアミノ(低級)アルキル基、その例としては下記に示したようなものであり、 低級アルキルアミノ(低級)アルキル基(例えば、ジメチルアミノメチル、ジメ チルアミノエチル、等の基)、ヒドロキシ(低級)アルキル基(例えば、ヒドロ キシメチル、ヒドロキシエチル、等の基)、アシルオキシ(低級)アルキル基( 例えばアセチルトレオニル基、等)のような保護されたヒドロキシ(低級)アル キル基、ハロ(低級)アルキル基(例えば、トリフルオロメチル基、等)、ピロ リジニル(低級)アルキル基(例えばピロリジン−1−イルエチル基、等)、等 のようなアミノ酸およびペプチドの化学の分野において使用される常用の基が挙 げられる。Suitable "lower alkyl groups which may have appropriate substituents" include lower alkyl groups. Kyl group, carboxy (lower) alkyl group, protected carboxy (lower) alkyl group carbamoyl lower alkyl group which may have a suitable substituent, examples thereof is as shown above, with an amino (lower) alkyl group, a protected amino (lower) alkyl groups, examples of which are as shown below, Lower alkylamino (lower) alkyl groups (e.g., dimethylaminomethyl, thylaminoethyl, etc.), hydroxy (lower) alkyl groups (e.g., hydro groups such as oxymethyl, hydroxyethyl, etc.), acyloxy (lower) alkyl groups ( Protected hydroxy (lower) alkyl groups such as acetylthreonyl, etc.) Kyl group, halo (lower) alkyl group (e.g. trifluoromethyl group, etc.), pyro Lysinyl (lower) alkyl group (e.g. pyrrolidin-1-ylethyl group, etc.), etc. Commonly used groups used in the field of amino acid and peptide chemistry such as can be lost.

好適な「アミン、ヒドロキシおよび/またはカルボキンを含むアミノ酸残基」と しては、Pro (40H) 、Ser、Thr、Tyr等のような二価の残基 が挙げられる。Suitable “amine, hydroxy and/or carboxine-containing amino acid residues” and divalent residues such as Pro (40H), Ser, Thr, Tyr, etc. can be mentioned.

好適な[保護されたアミノ基、保護されたヒドロキシ基および/または保護され たカルボキシ基を含むアミノ酸残基」とは、カルバモイル基、低級アルキルスル ホニル基(例えばメシル基、エチルスルホニル基、等)、アリールスルホニル基 (例えばフェニルスルホニル基、トリルスルホニル基、等)、低級アルコキシカ ルボニル(低級)アルキル基(例えばメトキシカルボニルメチル基、エトキシカ ルボニルメチル基、等)等のようなアミノ酸およびペプチドの化学の分野で使用 される常用の基で保護された上記アミノ基、ヒドロキシ基および/またはカルボ キシ基を意味する。A suitable [protected amino group, protected hydroxy group and/or protected "Amino acid residue containing a carboxy group" refers to a carbamoyl group, a lower alkyl sulfur group, Honyl group (e.g. mesyl group, ethylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (e.g. phenylsulfonyl group, tolylsulfonyl group, etc.), lower alkoxylic acid Carbonyl (lower) alkyl groups (e.g. methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonyl) Used in the field of chemistry of amino acids and peptides, such as carbonylmethyl groups, etc. The above amino groups, hydroxy groups and/or carboxyl groups protected with commonly used groups means xy group.

好適な「ピリジル(低級)アルキル基」としては、2−ピリジルメチル基、3− ピリジルメチル基、4−ピリジルメチル基等が挙げられる。Suitable "pyridyl (lower) alkyl groups" include 2-pyridylmethyl groups, 3- Examples include pyridylmethyl group and 4-pyridylmethyl group.

(式中、R4とR5は互いに結合してベンゼン縮合低級アルキレン基を形成する )の好適な例としては、1−インドリニル基、2−イソインドリニル基、1゜2 、 3. 4−テトラヒドロキノリン−1−イル基、1. 2. 3. 4−テ トラヒドロイソキノリン−2−イル基等があげられる。(In the formula, R4 and R5 combine with each other to form a benzene-fused lower alkylene group. ) are preferable examples of 1-indolinyl group, 2-isoindolinyl group, 1゜2 , 3. 4-tetrahydroquinolin-1-yl group, 1. 2. 3. 4-Te Examples include trahydroisoquinolin-2-yl group.

好適な「ヒドロキシ(低級)アルキル基」としては、ヒドロキシメチル基、ヒド ロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等が挙げられる。Suitable "hydroxy (lower) alkyl groups" include hydroxymethyl group, hydroxy Examples include a roxyethyl group and a hydroxypropyl group.

好適な「保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基」とは、ヒドロキシ基がアシ ル(例えば、アセチル等)のような常用の保護基で保護された上記ヒドロキシ( 低級)アルキル基を意味し、アセチルオキシエチル基等が挙げられる。A suitable "protected hydroxy (lower) alkyl group" is one in which the hydroxy group is an acyl group. The above-mentioned hydroxy ( (lower) alkyl group, such as acetyloxyethyl group.

好適な「アミノ保護基」としてはアミノ酸およびペプチドの化学の分野で使用さ れる常用の保護基、即ち低級アルカノイル基(例えばホルミル基、アセチル基、 プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、 ビバオイル基、ヘキサノイル基等)、低級アルコキシカルボニル基(例えばメト キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシ カルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等)、低級アルカンスルホニル基(例 えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基等)等のようなアシル基が挙げら れる。Suitable "amino protecting groups" include those used in the field of amino acid and peptide chemistry. commonly used protecting groups such as lower alkanoyl groups (e.g. formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, vivaoyl group, hexanoyl group, etc.), lower alkoxycarbonyl group (e.g. meth Oxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxy carbonyl group, t-butoxycarbonyl group, etc.), lower alkanesulfonyl group (e.g. For example, acyl groups such as methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, etc. It will be done.

好適な「カルボキシ(低級)アルコキシ基」としては、カルボキシメトキシ基、 カルボキシエトキシ基、カルボキシプロポキシ基等が挙げられる。Suitable "carboxy (lower) alkoxy groups" include carboxymethoxy groups, Examples include carboxyethoxy group and carboxypropoxy group.

好適な[保護されたカルボキシ(低級)アルコキシ」とは、カルボキシ基がエス テル化されたカルボキシ基のような常用の保護基によって保護された上記カルボ キシ(低級)アルコキシ基を意味する。そのエステル部分の好ましい例としては 、低級アルキルエステル(例えばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエ ステル、t−ブチルエステル等)等が挙げられる。Suitable [protected carboxy (lower) alkoxy] means that the carboxy group is The above-mentioned carbo means a xy (lower) alkoxy group. A preferable example of the ester part is , lower alkyl esters (e.g. methyl ester, ethyl ester, propyl ester) ster, t-butyl ester, etc.).

好適な「低級アルコキシ」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソピ ロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ等のような直鎖または分岐鎖アルコキシが 挙げられる。Suitable "lower alkoxy" includes methoxy, ethoxy, propoxy, and isopoxy. Straight chain or branched alkoxy such as ropoxy, butoxy, hexyloxy etc. Can be mentioned.

好適な適当な置換基を有するスルホニルオキシを含むアミノ酸残基」とは、適当 な置換基を有するスルホニルオキシ基が低級アルキルスルホニルオキシ基(例え ばメチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基等)、ハロ(低級)ア ルキルスルホニルオ牛シ基(例えばトリフルオロスルホニルオキシ基等)、アリ ールスルホニルオキシ基(例えばフェニルスルホニルオキシ基、トリルスルホニ ルオキシ基等)等である適当な置換基を有するスルホニルオキシを含むアミノ酸 から誘導された二価の残基を意味する。``A suitable sulfonyloxy-containing amino acid residue with a suitable substituent'' means a suitable sulfonyloxy-containing amino acid residue A sulfonyloxy group having a substituent is a lower alkylsulfonyloxy group (e.g. (methylsulfonyloxy group, ethylsulfonyloxy group, etc.), halo (lower) a rukylsulfonyloxy group (e.g. trifluorosulfonyloxy group, etc.), ali lsulfonyloxy group (e.g. phenylsulfonyloxy group, tolylsulfonyloxy group) Amino acids containing sulfonyloxy with a suitable substituent such as sulfonyloxy group, etc. means a divalent residue derived from

好適な「アジドを含むアミノ酸残基」としては、P ro (4N3 )等のよ うなアミノ酸の二価の残基が挙げられる。Suitable “amino acid residues containing azide” include Pro (4N3) and the like. Examples include divalent residues of amino acids.

好適な「アミノを含むアミノ酸残基」としては、Pro (4NH,)等のよう なアミノ酸の二価の残基が挙げられる。Suitable "amino acid residues containing amino" include Pro (4NH, ), etc. Examples include divalent residues of amino acids.

好適な「アミノ(低級)アルキル基」としては、アミノメチル基、アミノエチル 基、アミノプロピル基等が挙げられる。Suitable "amino (lower) alkyl groups" include aminomethyl group, aminoethyl group, group, aminopropyl group, etc.

好適な「保護されたアミノ(低級)アルキル基」とは、アミノ基が、アシルアミ ノ基のような常用の保護基で保護された上記アミノ(低級)アルキル基を意味す る。そのアシル部分の好ましい例としては低級アルコキシカルボニル基(例えば 、t−ブトキシカルボニル基等)等が挙げられる。A suitable "protected amino (lower) alkyl group" means that the amino group is an acyl amino group. means the above amino (lower) alkyl group protected with a commonly used protecting group such as Ru. Preferred examples of the acyl moiety include lower alkoxycarbonyl groups (e.g. , t-butoxycarbonyl group, etc.).

好適な「グアニジノ(低級)アルキル基」としては、グアニジノメチル基、グア ニジノエチル基、グアニジノプロピル基等が挙げられる。Suitable "guanidino (lower) alkyl groups" include guanidinomethyl group, guanidinomethyl group, guanidinomethyl group, guanidino(lower) alkyl group, etc. Examples include nidinoethyl group and guanidinopropyl group.

好適な「ハロゲン」としては、クロロ、フルオロ等が挙げられる。Suitable "halogens" include chloro, fluoro, and the like.

好適な「アルカリ金属」としては、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。Suitable "alkali metals" include sodium, potassium, and the like.

R1における好適な置換基としては、上記したような適当な置換基を有していて もよい低級アルキル、上記したようなアミン保護基、ヒドロキシ基、ハロゲン( 例えばフルオロ、クロロ等)、低級アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ 基等)、N、N−ジ(低級)アルキルアミノ基(例えばジメチルアミノ基等)、 低級アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、t−ブトキシカル ボニル基等)、低級アルキレンアミノ(低級)アルキル基(例えばピロリジン− 1−イルエチル基等)等のようなアミノ酸およびペプチドの化学の分野において 使用される常用の基が挙げられる。Suitable substituents for R1 include those having suitable substituents as described above. lower alkyl groups, amine protecting groups as described above, hydroxy groups, halogens ( (e.g. fluoro, chloro, etc.), lower alkoxy groups (e.g. methoxy, butoxy) groups), N,N-di(lower)alkylamino groups (e.g. dimethylamino groups, etc.), lower alkoxycarbonyl group (e.g. methoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group) (bonyl group, etc.), lower alkyleneamino(lower) alkyl group (e.g. pyrrolidine- In the field of amino acid and peptide chemistry, such as 1-ylethyl group, etc. Mention may be made of the commonly used groups.

R3における好適な置換基としては、上記したような適当な置換基を有していで もよい低級アルキル、カルボキシ(低級)アルコキシ、保護されたカルボキシ( 低級)アルコキシ、ハロゲン(例えばフルオロ、クロロ等)、低級アルコキシ( 例えばメトキシ、ブトキシ等)、ニトロ、アミノ アミノ保護基が前記したちの である保護されたアミノ等のようなアミノ酸およびペプチドの化学の分野で使用 される常用の基が挙げられる。Suitable substituents for R3 include the above-mentioned suitable substituents. May be lower alkyl, carboxy (lower) alkoxy, protected carboxy ( (lower) alkoxy, halogen (e.g. fluoro, chloro, etc.), lower alkoxy ( For example, methoxy, butoxy), nitro, amino, amino protecting groups are is used in the field of chemistry of amino acids and peptides such as protected amino etc. Commonly used groups are mentioned.

R1,R2、R3、R4、R5、AおよびYの好ましい実施態様は次の通りであ る。Preferred embodiments of R1, R2, R3, R4, R5, A and Y are as follows. Ru.

R1はジ(低級)アルコキシフェニル基、低級アルコキシを有していてもよいモ ノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、インドリニル基、ピリジル 基または式: (式中、R6は低級アルキル基、ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキル基 、ピロリジニル(低級)アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エステル 化されたカルボキシ(低級)アルキル基、アミノ(低級)アルキル基、グアニジ ノ(低級)アルキル基、ピリジル(低級)アルキル基またはアシルアミノ(低級 )アルキル基、およびR8は水素またはハロゲンを意味する。)、R2は水素ま たは低級アルキル基、 R3は低級アルキル基またはハロゲン、R4は低級アルキル基、カルボキシ(低 級)アルキル基、またはエステル化されたカルボキシ(低級)アルキル基、 R5はモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基またはピリジル(低 級)アルキル基、 Aは側鎖が低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エス テル化されたカルボキシ(低級)アルキル基及び(低級)アルキルスルホニル基 からなる基から選ばれた基で置換されていてもよいヒドロキシプロリン、グリシ ン、セリン、メチオニン、リジン、ヒスチジン、グルタミン、チオプロリンおよ びアミノプロリンのような適当な置換基を有していてもよいアミノ酸から誘導さ れた二価の残基、および、 Yは一1低級アルキレ基ン、低級アルケニレン基または低級アルキルイミノ基で ある。R1 is a di(lower) alkoxyphenyl group, a moiety which may have lower alkoxy; - or di- or triphenyl (lower) alkyl group, indolinyl group, pyridyl group Group or formula: (In the formula, R6 is a lower alkyl group, a di(lower)alkylamino(lower)alkyl group , pyrrolidinyl (lower) alkyl group, carboxy (lower) alkyl group, ester carboxy (lower) alkyl group, amino (lower) alkyl group, guanidine (lower) alkyl group, pyridyl (lower) alkyl group or acylamino (lower) ) alkyl group, and R8 means hydrogen or halogen. ), R2 is hydrogen or or lower alkyl group, R3 is a lower alkyl group or halogen, R4 is a lower alkyl group, carboxy (lower (lower) alkyl group, or an esterified carboxy (lower) alkyl group, R5 is mono-, di- or triphenyl (lower) alkyl group or pyridyl (lower) class) alkyl group, A has a side chain that is a lower alkoxycarbonyl group, a carboxy (lower) alkyl group, or an Terified carboxy (lower) alkyl group and (lower) alkylsulfonyl group Hydroxyproline, which may be substituted with a group selected from the group consisting of Serine, methionine, lysine, histidine, glutamine, thioproline and derived from amino acids that may have suitable substituents such as aminoproline and aminoproline. a divalent residue, and Y is a lower alkylene group, a lower alkenylene group or a lower alkylimino group. be.

RIR2R3R4R5AおよびYの特に好ましい実施態様は次の通りである。Particularly preferred embodiments of RIR2R3R4R5A and Y are as follows.

R1は式 (式中、R6は低級アルキルおよびR8は水素を意味する)、R2は水素、 R3は低級アルキル基またはハロゲン、R4は低級アルキル基、 R5はフェニル(低級)アルキル基、 Aはヒドロキシプロリン、および Yは−である。R1 is the formula (In the formula, R6 means lower alkyl and R8 means hydrogen), R2 is hydrogen, R3 is a lower alkyl group or halogen, R4 is a lower alkyl group, R5 is a phenyl (lower) alkyl group, A is hydroxyproline, and Y is -.

また、R1,R2、R3、R4、R5、AおよびYの好まし実施態様は次の通り である。Further, preferred embodiments of R1, R2, R3, R4, R5, A and Y are as follows. It is.

R1はジ(低級)アルコキシフェニル基、低級アルコキシを有していてもよいモ ノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、インドリニル基、ピリジル 基または式; R6 (式中、R6は低級アルキル基、ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキル基 、ピロリジニル(低級)アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エステル 化されたカルボキシ(低級)アルキル基、アミノ(低級)アルキル基、グアニジ ノ(低級)アルキル基、ピリジル(低級)アルキル基またはアンルアミノ(低級 )アルキル基、およびR8は水素またはハロゲンを意味する。)、R2は水素ま たは低級アルキル基、 R3は水素、 R4は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、またはエステル化され たカルボキシ(低級)アルキル基、 R5はモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、Aは側鎖が低級ア ルコキシカルボニル、カルボキシ(低級)アルキル、エステル化されたカルボキ シ(低級)アルキル及び(低級)アルキルスルホニルからなる基から選ばれた置 換基で置換されていてもよいグリシン、セリン、メチオニン、リジン、ヒスチジ ン、グルタミン、チオプロリンおよびアミノプロリンのような適当な置換基を有 していてもよいアミノ酸から誘導された二価の残基でヒドロキシプロリンを除く もの、および Yは一1低級アルキレン基、低級アルケニレン基またはアルキルイミノ基である 。R1 is a di(lower) alkoxyphenyl group, a moiety which may have lower alkoxy; - or di- or triphenyl (lower) alkyl group, indolinyl group, pyridyl group group or formula; R6 (In the formula, R6 is a lower alkyl group, a di(lower)alkylamino(lower)alkyl group , pyrrolidinyl (lower) alkyl group, carboxy (lower) alkyl group, ester carboxy (lower) alkyl group, amino (lower) alkyl group, guanidine (lower) alkyl group, pyridyl (lower) alkyl group or anruamino (lower) ) alkyl group, and R8 means hydrogen or halogen. ), R2 is hydrogen or or lower alkyl group, R3 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group, a carboxy(lower) alkyl group, or an esterified carboxy (lower) alkyl group, R5 is a mono-, di-, or triphenyl (lower) alkyl group, and A is a lower alkyl group in the side chain. Rukoxycarbonyl, carboxy(lower)alkyl, esterified carboxy A radical selected from the group consisting of (lower) alkyl and (lower) alkylsulfonyl. Glycine, serine, methionine, lysine, histide that may be substituted with substituents with suitable substituents such as glutamine, glutamine, thioproline and aminoproline. Divalent residues derived from optional amino acids, excluding hydroxyproline things, and Y is a lower alkylene group, a lower alkenylene group or an alkylimino group .

またR1、R2、R3、R4、R5、AおよびYの好ましい実施態様は次の通り である。Further, preferred embodiments of R1, R2, R3, R4, R5, A and Y are as follows. It is.

R1はジ(低級)アルコキシフェニル基、低級アルコキシを有していてもよいモ ノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、インドリニル基、ピリジル 基または式: (式中、R6は、ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキル基、ピロリジニル (低級)アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エステル化されたカルボ キシ(低級)アルキル基、アミノ(低級)アルキル基、グアニジノ(低級)アル キル基、ピリジル(低級)アルキル基またはアシルアミノ(低級)アルキル基、 およびR8は水素またはハロゲンを意味する。)、R2は水素または低級アルキ ル基、 R3は水素、 R4は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、またはエステル化され たカルボキシ(低級)アルキル基、 R5はモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、Aはカルボキシ( 低級)アルキル、エステル化されたカルボキシ低級アルキル及び(低級)アルキ ルスルホニルからなる基から選ばれた置換基で置換されていてもよいヒドロキシ プロリンから誘導された二価の残基、および、Yは一1低級アルキレン基、低級 アルケニレン基またはアルキルイミノ基である。R1 is a di(lower) alkoxyphenyl group, a moiety which may have lower alkoxy; - or di- or triphenyl (lower) alkyl group, indolinyl group, pyridyl group Group or formula: (In the formula, R6 is a di(lower)alkylamino(lower)alkyl group, pyrrolidinyl (lower) alkyl group, carboxy (lower) alkyl group, esterified carbo xy(lower)alkyl group, amino(lower)alkyl group, guanidino(lower)alkyl group Kyl group, pyridyl (lower) alkyl group or acylamino (lower) alkyl group, and R8 means hydrogen or halogen. ), R2 is hydrogen or lower alkyl group, R3 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group, a carboxy(lower) alkyl group, or an esterified carboxy (lower) alkyl group, R5 is a mono-, di-, or triphenyl (lower) alkyl group, and A is carboxy ( lower) alkyl, esterified carboxy lower alkyl and (lower) alkyl Hydroxy which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of sulfonyl Divalent residue derived from proline, and Y is 11 lower alkylene group, lower It is an alkenylene group or an alkylimino group.

目的化合物(I)の製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the target compound (I) will be explained in detail below.

製造法よ 目的化合物(I)またはその塩は、化合物(I I)またはアミノ基におけるそ の反応性誘導体またはその塩を化合物(I I I)またはカルボキシ基におけ るその反応性誘導体またはその塩と反応させることによって製造することができ る。Manufacturing method The target compound (I) or its salt is compound (II) or its salt in the amino group. or a salt thereof at the compound (II) or the carboxy group can be produced by reacting with a reactive derivative thereof or a salt thereof. Ru.

化合物(I I)のアミノ基における好適な反応誘導体としては、化合物(T  I) とアルデヒド、ケトン等のようなカルボニル化合物との反応によって生成 するシッフ塩基型のイミノ化合物またはその互変異性エナミン型の異性体、化合 物(I I)とビス(トリメチルシリル)アセトアミド、モノ(トリメチルシリ ル)アセトアミド[例えばN−(トリメチルシリル)アセトアミトコ、ビス(ト リアルキル)尿素等のようなシリル化合物との反応によって生成するシリル誘導 体;化合物(I I)と三塩化燐またはホスゲンとの反応によって生成する誘導 体その他を挙げることができる。A suitable reaction derivative at the amino group of compound (II) is compound (T I) produced by the reaction with carbonyl compounds such as aldehydes, ketones, etc. Schiff base type imino compound or its tautomeric enamine type isomer, compound (II) and bis(trimethylsilyl)acetamide, mono(trimethylsilyl) ) Acetamide [e.g. N-(trimethylsilyl)acetamitoco, bis(trimethylsilyl)acetamide] (realkyl) silyl derivatives produced by reaction with silyl compounds such as urea, etc. derivative produced by the reaction of compound (II) with phosphorus trichloride or phosgene The body and others can be mentioned.

化合物(I I)およびその反応性誘導体の好適な塩としては、化合物(1)に ついて例示した塩を挙げることができる。Suitable salts of compound (II) and its reactive derivatives include compound (1) Examples of salts mentioned above can be mentioned.

化合物(I I I) のカルボキシ基における反応性誘導体の好適な例として は、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド、活性エステル等を挙げることがで きる。その好適な例としては、酸塩化物;酸アジド、置換燐酸(例えばジアルキ ル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等) 、ジアルキル亜燐酸、低級アルカンスルホン酸(例えばメタンスルホン酸、エタ ンスルホン酸等)、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、脂肪族カルボン酸(例えば、酢酸 、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ビバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、2−エチル 酪酸、トリクロロ酢酸等)または芳香族カルボン酸(例えば安息香酸等)等の酸 との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメ チルピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性アミド、または活性 エステル(例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチルイ ミノメチル[(CH3)2 N =CH−]エステル、ビニルエステル、プロパ ルギルエステル、p−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェニルエス テル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフ ェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p− ニトロフェニルチオエステル、p−タレシルチオエステル、カルボキシメチルチ オエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8− キノリルチオエステル等)またはN−ヒドロキシ化合物(例えばN、N−ジメチ ルヒドロキシルアミン、l−ヒドロキシ−2−(IH)−ピリドン、N−ヒドロ キシスクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロれらの反応性誘 導体は、使用すべき化合物(I I I)の種類によって、これらの中から適宜 選択することができる。As a preferable example of a reactive derivative at the carboxy group of compound (II) can include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, etc. Wear. Suitable examples thereof include acid chlorides; acid azides, substituted phosphoric acids (e.g. dialkylated phosphoric acids); phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, etc.) , dialkyl phosphorous acids, lower alkanesulfonic acids (e.g. methanesulfonic acid, ethane sulfonic acid, etc.), sulfite, thiosulfuric acid, sulfuric acid, aliphatic carboxylic acids (such as acetic acid) , propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, bivaric acid, valeric acid, isovaleric acid, 2-ethyl Acids such as butyric acid, trichloroacetic acid, etc.) or aromatic carboxylic acids (e.g. benzoic acid, etc.) mixed acid anhydrides; symmetrical acid anhydrides; imidazole, 4-substituted imidazole, dimethyl Active amides, or active with tilpyrazoles, triazoles or tetrazoles Esters (e.g. cyanomethyl ester, methoxymethyl ester, dimethyl ester) Minomethyl [(CH3)2 N=CH-] ester, vinyl ester, propane Lugyl ester, p-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester tel, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylf phenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester, p- Nitrophenyl thioester, p-talesyl thioester, carboxymethyl thioester Oester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8- (e.g. quinolyl thioester) or N-hydroxy compounds (e.g. N,N-dimethyl hydroxylamine, l-hydroxy-2-(IH)-pyridone, N-hydro Reactive inducers of oxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, and 1-hydrochloride The conductor can be selected from among these depending on the type of compound (II) to be used. You can choose.

化合物(I I I)およびその反応性誘導体の好適な塩としては、無機塩基と の塩、例えばアルカリ金属塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ 土類金属塩(例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等)、有機塩基との塩、例え ば有機アミン塩(例えばトリチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、 N、 N’ −ジベンジルエチレンジアミン塩等)化合物<I)について例示し た酸付加塩が挙げられる。Suitable salts of compound (II) and its reactive derivatives include salts with inorganic bases and salts, such as alkali metal salts (e.g. sodium salts, potassium salts, etc.), alkali Earth metal salts (e.g. calcium salts, magnesium salts, etc.), salts with organic bases, e.g. organic amine salts (e.g. tritylamine salt, triethylamine salt, pyridine salt, Examples of compounds <I) (N, N'-dibenzylethylenediamine salt, etc.) Examples include acid addition salts.

反応は、通常、水、アルコール(例えばメタノール、エタノール等)、アセトン 、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、 テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N、 N−ジメチルホルムアミド、ピリジン 等の慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中で 行われる。これらの慣用の溶媒は水と混合して用いてもよい。The reaction usually involves water, alcohol (e.g. methanol, ethanol, etc.), acetone. , dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, Tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, pyridine or any other organic solvent that does not adversely affect the reaction. It will be done. These conventional solvents may be used in combination with water.

化合物(I I I)を遊離酸またはその塩の形でこの反応に使用する場合、反 応は、慣用の縮合剤、例えばN、 N’ −ジシクロへキシルカルボジイミド; N−シクロへキシル−N′−モルホリノエチルカルボジイミド;N−シクロへキ シル−N’ −(4−ジエチルアミノンクロヘキシルチルカルボジイミド、N,  N’−ジイソプロピルカルボジイミド;N−エチル−N’ − (3−ジメチ ルアミノプロピル)カルボジイミド、N,N’ −カルボニルビス−(2−メチ ルイミダゾール);ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン、ジフェ ニルケテン−N−シクロヘキシルイミン;エトキシアセチ−3ン,1ーアルコキ シ−1−クロロエチレン;トリアルキルホスファイト:ポリ燐酸エチル;ポリ燐 酸イソプロピル;オキシ塩化燐(塩化ホスホリル);三塩化燐;塩化チオニル: 塩化オキサリル;ハロギ酸低級アルキル(例えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸 イソプロピル等)、トリフェニルホスフィン:2−エチル−7−ヒドロキシベン ズイソオキサゾリウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニル)イソオキサ ゾリウムヒドロキシド分子内塩.1−、(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ )−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、N,N−ジメチルホルムアミドと 塩化チオニル、ホスゲン、オキシ塩化燐等と反応させて調整されるいわゆるビル スマイヤー試薬のような慣用の縮合剤の存在下に行うことが望ましい。When compound (II) is used in this reaction in the form of a free acid or its salt, the reaction In addition, conventional condensing agents such as N,N'-dicyclohexylcarbodiimide; N-cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide; N-cyclohexyl sil-N'-(4-diethylaminonechlorohexyltylcarbodiimide, N, N'-diisopropylcarbodiimide; N-ethyl-N'-(3-dimethy carbodiimide, N,N'-carbonylbis-(2-methylaminopropyl)carbodiimide, limidazole); pentamethylene ketene-N-cyclohexylimine, dife Nylketene-N-cyclohexylimine; ethoxyacetylene,1-alkoxy C-1-chloroethylene; Trialkyl phosphite: Ethyl polyphosphate; Polyphosphorus Isopropyl acid; Phosphorous oxychloride (phosphoryl chloride); Phosphorus trichloride; Thionyl chloride: Oxalyl chloride; lower alkyl haloformates (e.g. ethyl chloroformate, chloroformate isopropyl, etc.), triphenylphosphine: 2-ethyl-7-hydroxyben Diisoxazolium salt; 2-ethyl-5-(m-sulfophenyl)isoxa Zolium hydroxide inner salt. 1-, (p-chlorobenzenesulfonyloxy )-6-chloro-IH-benzotriazole, N,N-dimethylformamide and So-called buildings prepared by reacting with thionyl chloride, phosgene, phosphorus oxychloride, etc. Preferably, this is carried out in the presence of a conventional condensing agent such as Smeyer's reagent.

反応は、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、N −(低級)アルキルモルホリン、N、N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等 の無機または有機塩基の存在下で行うこともできる。The reaction involves alkali metal bicarbonate, tri(lower)alkylamine, pyridine, N -(lower)alkylmorpholine, N,N-di(lower)alkylbenzylamine, etc. It can also be carried out in the presence of an inorganic or organic base.

反応温度は特に限定されず、通常、冷却下ないし加温下で行われる。The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

製造法2 目的化合物(I)またはその塩は、化合物(IV)またはアミン基におけるその 反応性誘導体またはその塩を化合物(V)またはカルボキシ基におけるその反応 性誘導体またはその塩と反応させることによって製造することができる。Manufacturing method 2 The target compound (I) or its salt is compound (IV) or its salt in the amine group. Reaction of the reactive derivative or its salt to compound (V) or its reaction at the carboxy group It can be produced by reacting with a chemical derivative or a salt thereof.

化合物(IV)およびその反応性誘導体の好適な塩としては、化合物(I I) について例示した塩を挙げることができる。Suitable salts of compound (IV) and its reactive derivatives include compound (II) The salts exemplified above can be mentioned.

化合物(V)およびその反応性誘導体の好適な塩としては、化合物(I I I )について例示した塩を挙げることができる。Suitable salts of compound (V) and its reactive derivatives include compound (II ) can be mentioned as examples of salts.

この反応は前記製造法1と同様にして行うことができ、従うで使用すべき試薬お よび例えば溶媒、反応温度等の反応条件については、製造法1の説明を参照すれ ば良い。This reaction can be carried out in the same manner as in Production Method 1 above, and the reagents to be used and For reaction conditions such as solvent and reaction temperature, please refer to the explanation of Production Method 1. Good.

製造法3 目的化合物(1−b)またはその塩は化合物(1−a)またはその塩をアミン、 ヒドロキシおよび/またはカルボキン保護基の脱離反応に付することにより製造 することができる。Manufacturing method 3 The target compound (1-b) or a salt thereof is obtained by combining compound (1-a) or a salt thereof with an amine, Manufactured by subjecting to elimination reaction of hydroxy and/or carboxine protecting groups can do.

この脱離反応においては、カルボキシ保護基の脱離反応で使用される常法、例え ば加水分解、還元、ルイス酸を使用する脱離等の全てが適用されつる。In this elimination reaction, conventional methods used in the elimination reaction of carboxy protecting groups, such as For example, hydrolysis, reduction, elimination using Lewis acids, etc. are all applicable.

カルボキシ保護基がエステルである場合には、保護基は加水分解またはルイス酸 を用いる脱離法によって脱離されつる。If the carboxy protecting group is an ester, the protecting group can be hydrolyzed or Vine is desorbed by the desorption method using

加水分解は塩基または酸の存在下で行うことが望ましい。Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or acid.

好適な塩基としては、アルカリ金属水酸化物(例えば水酸化ナトリウム、水酸化 カリウム等)、アルカリ土類金属水酸化物(例えば水酸化マグネシウム、水酸化 カルシウム等)、アルカリ金属炭酸塩(例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等 )、アルカリ土類金属炭酸塩(例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等)、 アルカリ金属炭酸水素塩(例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、 アルカリ金属酢酸塩(例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等)、アルカリ土類 金属リン酸塩(例えばリン酸マグネシウム、リン酸カルシウム等)、アルカリ金 属リン酸水素塩(例えばリン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム等)等 の無機塩基およびトリアルキルアミン(例えばトリメチルアミン、トリエチルア ミン等)、ピコリン、N−メチルピロリジン、N−メチルモルホリン、1.5− ジアザビシクロ[4,3,0コノン−5−エン、1.4−ジアザビシクロ[2, 2,2]オクタン、1. 5−ジアザビシクロ[5,4,0コーウンデセン−5 等の有機塩基を挙げることができる。Suitable bases include alkali metal hydroxides (e.g. sodium hydroxide, hydroxide potassium, etc.), alkaline earth metal hydroxides (e.g. magnesium hydroxide, hydroxide calcium, etc.), alkali metal carbonates (e.g., sodium carbonate, potassium carbonate, etc.) ), alkaline earth metal carbonates (e.g. magnesium carbonate, calcium carbonate, etc.), Alkali metal bicarbonate (e.g. sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.), Alkali metal acetates (e.g. sodium acetate, potassium acetate, etc.), alkaline earths Metal phosphates (e.g. magnesium phosphate, calcium phosphate, etc.), alkali gold Hydrogen phosphates (e.g. disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, etc.), etc. inorganic bases and trialkylamines (e.g. trimethylamine, triethylamine) ), picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1.5- diazabicyclo[4,3,0con-5-ene, 1,4-diazabicyclo[2, 2,2] octane, 1. 5-diazabicyclo[5,4,0 undecene-5 Organic bases such as

好適な酸としては、有機酸(例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸等)および無機酸 (例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等)を挙げることができる。Suitable acids include organic acids (e.g. formic acid, acetic acid, propionic acid, etc.) and inorganic acids. (For example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, etc.).

この加水分解は通常、有機溶媒、水またはそれらの混合溶媒中で行われる。This hydrolysis is usually carried out in an organic solvent, water or a mixed solvent thereof.

反応温度は特に限定されず、カルボキシ保護基の種類および脱離法の種類によっ て適宜選択すれば良い。The reaction temperature is not particularly limited and depends on the type of carboxy protecting group and the type of elimination method. You can select it as appropriate.

ルイス酸を用いる脱離反応は化合物(1−a)またはその塩を三ハロゲン化ホウ 素(例えば三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素等)、四ハロゲン化チタン(例えば四 塩化チタン、四臭化チタン等)、四ハロゲン化錫(例えば四塩化錫、四臭化錫等 )、ハロゲン化アルミニウム(例えば塩化アルミニウム、臭化アルミニウム等) 、トリハロ酢酸(例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)等のようなルイ ス酸と反応させることにより行われる。この脱離反応はカチオン捕捉剤(例えば アニソール、フェノール等)の存在下に行うことが望ましく、通常はニトロアル カン(例えばニトロメタン、ニトロメタン等)、ハロゲン化アル牛しン(例えば 塩化メチレン、塩化エチレン等)、ジエチルエーテル、二硫化炭素のような溶媒 中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のあらゆる溶媒 中でも行われる。これらの溶媒はそれらの混合物として用いても良い。In the elimination reaction using a Lewis acid, compound (1-a) or its salt is converted into boron trihalide. (e.g., boron trichloride, boron trifluoride, etc.), titanium tetrahalide (e.g., boron trifluoride, etc.) titanium chloride, titanium tetrabromide, etc.), tin tetrahalide (e.g., tin tetrachloride, tin tetrabromide, etc.) ), aluminum halides (e.g. aluminum chloride, aluminum bromide, etc.) , trihaloacetic acids (e.g. trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), etc. This is done by reacting with sulfuric acid. This elimination reaction is caused by a cation scavenger (e.g. Anisole, phenol, etc.) is preferable, and nitroalcohol is usually used. (e.g. nitromethane, nitromethane, etc.), halogenated alcohol (e.g. Solvents such as methylene chloride, ethylene chloride, diethyl ether, carbon disulfide, etc. Any other solvent that does not adversely affect the reaction may be used. It takes place inside. These solvents may be used as a mixture thereof.

還元脱離法はハロ(低級)アルキルエステル(例えば2−ヨードエチルエステル 、2. 2. 2−トリクロロエチルエステル等)、アル(低級)アルキルエス テル(例えばベンジルエステル等ン等のような保護基の脱離に適用するのが好ま しい。この脱離反応に適用され得る還元法としては、金属(例えば亜鉛、亜鉛ア マルガム等)、またはクロム化合物塩(例えば塩化第一クロム、酢酸第一クロム 等)と有機酸あるいは無機酸(例えば酢酸、プロピオン酸、塩酸等)の組み合わ せ;および例えば慣用の金属触媒(例えばパラジウム−炭素、ラネーニッケル等 )の存在下における接触還元常法がその例として挙げることができる。The reductive elimination method uses halo (lower) alkyl esters (e.g. 2-iodoethyl ester). , 2. 2. 2-trichloroethyl ester, etc.), Al(lower) alkyl ester It is preferably applied to the removal of protecting groups such as benzyl esters, etc. Yes. Reduction methods that can be applied to this elimination reaction include metals (e.g. zinc, zinc malgam, etc.), or chromium compound salts (e.g. chromous chloride, chromous acetate, etc.) and an organic or inorganic acid (e.g. acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, etc.) and, for example, conventional metal catalysts (e.g. palladium-carbon, Raney nickel, etc.); ) can be cited as an example of the conventional catalytic reduction method.

反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下、室温ないし加温下に反応が行わ れる。The reaction temperature is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling, at room temperature, or under heating. It will be done.

製造法4 目的化合物(I−d)またはその塩は、化合物(I−c)またはその塩をカルボ キシまたはアミノ保護基の脱離反応に付することにより製造することができる。Manufacturing method 4 The target compound (I-d) or a salt thereof is a compound (I-c) or a salt thereof that is It can be produced by subjecting it to an elimination reaction of an xy or amino protecting group.

この反応は前記製造法3と同様にして行うことができ、従って使用すべき試薬お よび例えば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件については、 製造法3の説明を参照すれば良い。This reaction can be carried out in the same manner as in Production Method 3 above, and therefore the reagents to be used and and reaction conditions such as base, acid, reducing agent, catalyst, solvent, reaction temperature, etc. Please refer to the explanation of manufacturing method 3.

製造法5 目的化合物(1−a)またはその塩は化合物(1−b)またはアミノ、ヒドロキ シおよび/またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩をアミノ 、ヒドロキシおよび/またはカルボキシ保護基の導入反応に付することにより製 造することができる。Manufacturing method 5 Target compound (1-a) or its salt is compound (1-b) or amino, hydroxy its reactive derivatives or salts thereof at the carboxy and/or carboxy groups. , by subjecting it to a reaction for introducing hydroxy and/or carboxy protecting groups. can be built.

この反応は前記製造法1と同様にして行うことができ、従って使用すべき試薬お よび例えば溶媒、反応温度等の反応条件については、製造法lの説明を参照すれ ば良い。This reaction can be carried out in the same manner as in Production Method 1 above, and therefore the reagents and For reaction conditions such as solvent and reaction temperature, please refer to the description of Production Method I. Good.

R1におけるアミノ基がこの反応中または製造法の後処理で反応する場合もこの 発明の範囲内に含まれる。This also applies if the amino group in R1 reacts during this reaction or in the post-treatment of the manufacturing method. within the scope of the invention.

製造法6−(i) 化合物(I−f)またはその塩は、化合物(I−e)またはその塩を化合物(V l)と反応させることにより製造することができる。Manufacturing method 6-(i) Compound (I-f) or its salt is compound (I-e) or its salt, compound (V It can be produced by reacting with l).

この反応は通常、ジメチルスルホキシドのような慣用の溶媒または反応に悪影響 を及ぼさないその他の溶媒中で行なわれる。This reaction is usually caused by the use of conventional solvents such as dimethyl sulfoxide or It is carried out in other solvents that do not affect

反応温度は特に限定されず、通常加温下ないし加熱下で行われる。The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out with or without heating.

製造法6−(ii) 目的化合物(I−g)またはその塩は、化合物(I−f)またはその塩を水素添 加反応に付することにより製造することができ。この反応は通常トリフェニルホ スフィン、パラジウム−炭素等の存在下で行われる。Manufacturing method 6-(ii) The target compound (I-g) or its salt can be obtained by hydrogenating the compound (I-f) or its salt. It can be produced by subjecting it to an addition reaction. This reaction is usually It is carried out in the presence of sphine, palladium-carbon, etc.

反応は、通常、アルコール(例えばメタノール、エタノール等)のような慣用の 溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中で行われる。The reaction is usually carried out using a conventional alcohol such as alcohol (e.g. methanol, ethanol, etc.). It is carried out in a solvent or any other organic solvent that does not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下で行われる。The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

製造法7 目的化合物(1−i)またはその塩は化合物(1−h)またはその塩をカルボキ シ保護基の脱離反応に付することにより製造することができる。Manufacturing method 7 The target compound (1-i) or a salt thereof is a carboxylic compound (1-h) or a salt thereof. It can be produced by subjecting it to an elimination reaction of a protecting group.

この反応は前記製造法3と同様にして行うことができ、従って使用すべき試薬お よび例えば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件については、 製造法3の説明を参照すれば良い。This reaction can be carried out in the same manner as in Production Method 3 above, and therefore the reagents to be used and and reaction conditions such as base, acid, reducing agent, catalyst, solvent, reaction temperature, etc. Please refer to the explanation of manufacturing method 3.

製造法8 目的化合物([−K)またはその塩は、化合物(1−f)またはその塩をアミジ ノ基の導入反応に付すことにより製造することができる。Manufacturing method 8 The target compound ([-K) or a salt thereof is obtained by converting the compound (1-f) or a salt thereof into an amidite It can be produced by subjecting it to a reaction for introducing a group.

この反応は、3.5−ジメチルピラゾール−1−カルボキサミド等のようなアミ ジノ基の導入化剤の存在下およびトリアルキルアミン(例えばトリエチルアミン 等)のような塩基の存在下に行われる。This reaction is performed using amino acids such as 3,5-dimethylpyrazole-1-carboxamide, etc. In the presence of a dino-introducing agent and a trialkylamine (e.g. triethylamine) etc.) in the presence of a base such as

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下で行われる。The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

前記製造法で得られた化合物は、粉末化、再結晶、カラムクロマトグラフイー、 再析出などの慣用の方法で単離、精製することができる。The compound obtained by the above production method is subjected to powdering, recrystallization, column chromatography, It can be isolated and purified by conventional methods such as reprecipitation.

化合物(1)およびその他の化合物には不斉炭素に基づく1個以上の立体異性体 が存在する場合があるが、これらの異性体およびそれらの混合物はすべて本発明 の範囲に含まれる。Compound (1) and other compounds have one or more stereoisomers based on asymmetric carbon atoms. All these isomers and mixtures thereof are included in the present invention. included in the range.

目的化合物(1)および医薬として許容されるその塩は、タキキニン拮抗作用、 特にサブスタンス P拮抗作用、ニューロキニン A拮抗作用、ニューロキニン  B拮抗作用のような薬理的活性を有し、従って、タキキニンが媒介する病気、 特にサブスタンス Pが媒介する病気例えば、喘息、気管支炎、鼻炎、咳、熔出 等のような呼吸系の病気、結膜炎、春季カタル等のような眼の病気、接触性皮膚 炎、アトピー性皮膚炎、尊麻疹、その他の湿疹性皮膚炎等のような皮膚病、慢性 関節リウマチ、変形性関節炎等の炎症性の病気、痛み(例えば偏頭痛、頭痛、歯 痛、癌の苦痛、背中の痛み等)その他の治療用、予防用として有効である。The target compound (1) and its pharmaceutically acceptable salts have tachykinin antagonistic activity, Especially substance P antagonism, neurokinin A antagonism, neurokinin Diseases that have pharmacological activities such as B-antagonism and are therefore mediated by tachykinins, In particular, diseases mediated by substance P, such as asthma, bronchitis, rhinitis, cough, Respiratory diseases such as conjunctivitis, eye diseases such as vernal conjunctivitis, etc., contact skin diseases Chronic skin diseases such as dermatitis, atopic dermatitis, measles, other eczematous dermatitis, etc. Inflammatory diseases such as rheumatoid arthritis and osteoarthritis, pain (e.g. migraines, headaches, dental It is effective for the treatment and prevention of pain, cancer pain, back pain, etc.).

更に、本発明の目的化合物(1)は、緑内障、葡萄膜炎その他の眼の病気、潰瘍 、潰瘍性大腸炎、過敏性腸管症候群、食物性アレルギーその他の胃腸病、腎炎そ の他のような炎症性の病気、高血圧、狭心症、心不全、血栓症その他のような循 環器病、癲癲、痙性痙痺、 その他の治療用、予防用として有効である。Furthermore, the object compound (1) of the present invention can be used to treat glaucoma, uveitis and other eye diseases, and ulcers. , ulcerative colitis, irritable bowel syndrome, food allergies and other gastrointestinal diseases, nephritis, etc. Other inflammatory diseases such as hypertension, angina, heart failure, thrombosis and others It is effective for the treatment and prevention of ring diseases, epilepsy, spasmodic paralysis, and others.

治療用として投与するために、この発明の目的化合物(1)および医薬として許 容されるその塩は、経口投与、非経口投与および外用投与に適した有機もしくは 無機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容される担体と混合して、 前記化合物を有効成分として含有する常用の医薬製剤の形で使用される。医薬製 剤はカプセル、錠剤、糖衣錠、顆粒剤、溶液、懸濁液、エマルジョン等であって もよい。必要に応じて上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤または乳化剤、緩衝剤お よびその他慣用の添加剤が含まれていてもよい。For therapeutic administration, the objective compound (1) of this invention and a pharmaceutically acceptable The salts thereof may be prepared in organic or in admixture with a pharmaceutically acceptable carrier such as an inorganic solid or liquid excipient, The compounds are used in the form of customary pharmaceutical preparations containing them as active ingredients. Pharmaceutical product The drug may be a capsule, tablet, sugar-coated tablet, granule, solution, suspension, emulsion, etc. Good too. Auxiliary agents, stabilizers, wetting or emulsifying agents, buffering agents, etc. may be added to the above formulations as necessary. and other conventional additives may also be included.

化合物(1)の投与量は、患者の年齢、条件、などによって変化するが、化合物 (1)は平均1回投与量約0.1mg、1mg、10mg、50mg。The dosage of compound (1) varies depending on the patient's age, condition, etc. For (1), the average single dose is approximately 0.1 mg, 1 mg, 10 mg, and 50 mg.

]、00mg、250mg、500mg、を投与すれば喘息等の治療に有効であ る。一般的には1日あたり0.1mg/個体〜約1,000mg/個体の範囲を 患者に投与すればよい。], 00mg, 250mg, 500mg is effective in treating asthma etc. Ru. Generally, the range is 0.1 mg/individual to approximately 1,000 mg/individual per day. Just administer it to the patient.

目的化合物(1)の有効性を説明するため、化合物(1)の代表的化合物による 薬理試験データを以下に示した。In order to explain the effectiveness of the target compound (1), we will use representative compounds of the compound (1). Pharmacological test data are shown below.

試験化合物 (a) (1)’H−サブスタンス P 受容体の結合試験方法 (a)粗製の肺膜組織の調製 メイルハート’J (Male Hartly)系のモルモットを断頭して犠牲 に供した。気管と肺を取り除き、緩衝液(0,25M蔗糖、50mM Tris −HCISpH7,5,0,1mM EDTA)中でポリトロン(Kinema tica)により均質化させた。このホモジネートを遠心分離器(1,OOOx g、10分間)にかけて組織の塊りを取り除き、そして上溝を更に遠心分離機( 14,OOOxg、20分間)にかけてペレットを生成した。test compound (a) (1) 'H-substance P receptor binding test method (a) Preparation of crude lung membrane tissue Decapitate and sacrifice a Male Hartly guinea pig Served. The trachea and lungs were removed and buffered (0.25M sucrose, 50mM Tris). - Polytron (Kinema) in HCIS pH 7, 5, 0, 1mM EDTA) tica). This homogenate was centrifuged (1,00x g, for 10 minutes) to remove tissue clumps, and the upper groove was further centrifuged ( 14, OOOxg for 20 minutes) to generate pellets.

このペレットを緩衝液(50mM Tr i 5−Hc L pH7,5)中に 懸濁させてテフロンホモジナイザーで均質化し、遠心分離’、e!(14,00 0xg、20分間)にかけて粗製の膜部分としてのペレットを生成した。このペ レットを使用するまで一70℃で貯蔵した。This pellet was placed in a buffer solution (50mM Tr i 5-Hc L pH 7.5). Suspend and homogenize with a Teflon homogenizer, centrifuge, e! (14,00 0xg for 20 minutes) to produce a pellet as a crude membrane fraction. This page The pellets were stored at -70°C until use.

(b)’H−サブスタンス Pと調製膜組織の結合冷凍した粗製の膜部分を解凍 し、媒質1 (50mM Tris−HCI、 pH7,5,5mM MnCL  O,02% BSA、2μg/ml キモスタチン、4μg/ml oイペプ チン、 40 tt g/m +バシトラシン )中に懸濁させた。 3H−サ ブスタンス P(1日M)を調製膜試料の 100μmと一緒にし、4℃で30 分間最終液量 500m1の媒質1の中で培養した。 培養を終れば、 反応混 合物を直ちに吸引しながらホットマン(Whatman)の G F/B グラ スフィルター(使用前に 0゜1%のポリエチレンイミンで 3時間前処理する 。)で濾過した。 それからこのフィルターを 5mlの緩衝液(50mM T ris−Hcl、 pH75)で 4回洗浄した。 放射能がパソカードシンチ レーションカウンター(Packerd TRI −CARB 4530 )の  5m1Aquazol−2で計数した。(b) Combination of 'H-substance P and prepared membrane tissue Thawing the frozen crude membrane part and medium 1 (50mM Tris-HCI, pH 7,5,5mM MnCL O, 02% BSA, 2 μg/ml Chymostatin, 4 μg/ml o Ipep Chin, 40 tt g/m + bacitracin). 3H-sa Bustane P (1 day M) was combined with 100 μm of the prepared membrane sample and heated for 30 minutes at 4°C. Culture was carried out in medium 1 with a final volume of 500 ml per minute. After completing the culture, remove the reaction mixture. Immediately aspirate the compound while using Whatman's G F/B graph. filter (pretreated with 0.1% polyethyleneimine for 3 hours before use) . ) was filtered. Then add this filter to 5ml of buffer (50mM T Washed 4 times with ris-Hcl, pH 75). Radioactivity is paso card cinch Ration counter (Packard TRI-CARB 4530) Counting was performed using 5ml Aquazol-2.

試験結果 以下、製造例、実施例により本発明の詳細な説明する。Test results Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to production examples and examples.

これらの製造例、実施例では、出発化合物、目的化合物は下記のIUPAC−I UBで採用した略号と共に下記の略号を利用して表す。In these production examples and examples, the starting compound and target compound are the following IUPAC-I The following abbreviations are used together with the abbreviations adopted by UB.

Ac・アセチル Boc:t−ブトキシカルボニル Bu’:t−ブチル Bzh :ベンズヒドリル Bzl・ベンジル DMF ジメチルホルムアミド DMSO・ジメチルスルホキシド Et、エチル HOBT:N−ヒドロキシベンゾトリアゾールIPE イソプロピルニーチル Me、メチル 2Nal:3−(2−ナフチル)アラニン2Na I (6−CI) + 3−  [2−(6−クロロナフチル)〕アラニン2Na l (6−Me) : 3  [2(6−メチルナフチル)]アラニンHC]/DOX: 1.4ジオキサン 中の塩酸Pro (40H):4−ヒドロキシプロリンTEA: トリエチルア ミン TFAニトリフルオロ酢酸 THF :テトラヒドロフラン Tpr:チオプロリン WSC:1−エチル−3−(3’−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドZ :ペンジルオキシ力ルボニル 下記の製造例と実施例で用いられる出発化合物、および得られる目的化合物は下 記の表に表され、出発化合物の式は上段に、目的化合物の式は下段にそれぞれ示 される。Ac/acetyl Boc: t-butoxycarbonyl Bu': t-butyl Bzh: Benzhydryl Bzl・Benzil DMF dimethylformamide DMSO/dimethyl sulfoxide Et, ethyl HOBT: N-hydroxybenzotriazole IPE isopropyl nityl Me, methyl 2Nal: 3-(2-naphthyl)alanine 2Na I (6-CI) + 3- [2-(6-chloronaphthyl)]alanine 2Na l (6-Me): 3 [2(6-methylnaphthyl)]alanine HC]/DOX: 1.4 dioxane Hydrochloric acid Pro (40H): 4-hydroxyproline TEA: Triethyl acetate min TFA nitrifluoroacetic acid THF: Tetrahydrofuran Tpr: thioproline WSC: 1-ethyl-3-(3'-dimethylaminopropyl)carbodiimide Z : Penzyloxycarbonyl The starting compounds used in the following production examples and examples, and the target compounds obtained are shown below. The formula of the starting compound is shown in the upper row, and the formula of the target compound is shown in the lower row. be done.

製造例1 ナトリウムエトキシド(6,03g)のエタノール(340ml)溶液に、2− アセトアミドマロン酸ジエチル(17,5g)および出発化合物(17g)を室 温で加える。混合物を2.5時間還流する。冷却後、混合物を濾過し、濾液を減 圧下で濃縮する。生成した結晶性固体を濾取し、エタノールで洗浄し、乾燥して 、目的化合物(17,1g)を得る。Manufacturing example 1 In a solution of sodium ethoxide (6.03 g) in ethanol (340 ml), 2- Diethyl acetamidomalonate (17.5 g) and the starting compound (17 g) were placed in a room. Add warm. The mixture is refluxed for 2.5 hours. After cooling, filter the mixture and reduce the filtrate. Concentrate under pressure. The formed crystalline solid was collected by filtration, washed with ethanol, and dried. , to obtain the target compound (17.1 g).

mp: 139−141’C IR(Nujol): 3380,1750,1640,1510.1310゜ 1295.1210.1190 cm−’NMR(DMSO−d、、δ): 1 .18 (6H,t、J=7゜06Hz)、1.98 (3H,s)、3.60  (2H,s)、4.17 (4H。mp: 139-141'C IR (Nujol): 3380, 1750, 1640, 1510.1310° 1295.1210.1190 cm-'NMR (DMSO-d,, δ): 1 .. 18 (6H, t, J=7°06Hz), 1.98 (3H, s), 3.60 (2H, s), 4.17 (4H.

q、J=7.03Hz)、7.15−8.35 (7H,m)MASS:M”3 91 製造例2 出発化合物(16,9g)のエタノール(170ml)および水(170ml) 中懸濁混合液に水酸化カリウム(1,45g)を加え、溶液を還流する。還流が 始まつた後に2回に分は水酸化カリウム(各1.45g)を加える;1回目は、 還流の開始から3時間後に、又2回目は更に2時間の還流が終わった後。全還流 時間は7時間である。冷却後、溶液を濃縮塩酸を用いてpH1に酸性化し、水冷 下で30分攪拌する。沈殿物を濾過により集め、水で洗浄し、乾燥した、目的の 化合物(11,89g)を得る。q, J=7.03Hz), 7.15-8.35 (7H, m) MASS: M”3 91 Manufacturing example 2 Starting compound (16.9 g) in ethanol (170 ml) and water (170 ml) Potassium hydroxide (1.45 g) is added to the medium suspension mixture and the solution is refluxed. The reflux After the start, add potassium hydroxide (1.45 g each) in two doses; 3 hours after the start of reflux, and a second time after another 2 hours of reflux. total reflux The time is 7 hours. After cooling, the solution was acidified to pH 1 using concentrated hydrochloric acid and cooled with water. Stir at the bottom for 30 minutes. The precipitate was collected by filtration, washed with water, dried, and the desired A compound (11.89 g) is obtained.

IR(ヌジジール)+3600.3520,3300,1730,1620゜1 570.1220.1185cm ’NMR(DMSO−d6 、δ) : 1 . 77 (3H,S’) 3. 00 (IH。IR (nujijiru) +3600.3520,3300,1730,1620゜1 570.1220.1185cm 'NMR (DMSO-d6, δ): 1 .. 77 (3H, S’) 3. 00 (IH.

dd 、J=13.7Hz および 9. 4Hz )、3. 21 (LH。dd, J=13.7Hz and 9. 4Hz), 3. 21 (LH.

dd、J=13.8Hz および 5. 1Hz )、 4.45−4. 60 (IH,m)、7. 45−8. 0 (6H,m)、8. 26 (IH,d 、J=8゜1Hz)、12.74 (IH,brs)MASS+M”291 製造例3 出発化合物(8,8g)の水(176ml)中懸濁液に、IN水酸化ナトリウム 水溶液(31ml)を加える。溶液を37℃まで加温し、lN塩酸でpHを7. 5に調整する。塩化コバルト(目)・6水和物(44mg)とアシラーゼ(商標 ニアシラーゼアミノ15000)(440mg)を溶液に加える。反応混合物を IN水酸化ナトリウム溶液でpHを7.5に維持しながら37℃で一夜撹拌する 。沈澱を濾取し、水で洗浄し、乾燥して、目的化合物(3,6g)を得る。dd, J=13.8Hz and 5. 1Hz), 4.45-4. 60 (IH, m), 7. 45-8. 0 (6H, m), 8. 26 (IH, d , J=8°1Hz), 12.74 (IH, brs) MASS+M”291 Manufacturing example 3 A suspension of the starting compound (8.8 g) in water (176 ml) was added with IN sodium hydroxide. Add aqueous solution (31 ml). The solution was warmed to 37°C and adjusted to pH 7.0 with 1N hydrochloric acid. Adjust to 5. Cobalt chloride hexahydrate (44mg) and acylase (trademark) Niacylase Amino 15000) (440 mg) is added to the solution. reaction mixture Stir overnight at 37 °C while maintaining pH at 7.5 with IN sodium hydroxide solution. . The precipitate is collected by filtration, washed with water, and dried to obtain the target compound (3.6 g).

IR(Nujol): 2600−2450.1615,1555,1530゜ 1420.1310 cm−’ MASS : M” 249 [αコ o : 1 1. 56 (C−0,5,IN Na0H)製造例4 出発化合物(3,0g)の塩化メチレン(60ml)溶液に、セチルトリメチル アンモニウムクロリド(0,55gL粉末水酸化ナトリウム(3,42g)およ び1−(2−クロロエチル)ピロリジン・塩酸塩(2,94g)を水冷下に、加 える。混合物を室温で一晩中撹拌する。濾過後、濾液を食塩水で洗浄し、硫酸マ グネシウムで乾燥する。クロロホルム−メタノール(50:1〜30:1)の混 合物を溶出液とするシリカゲルカラム(105g)で粗生成物を精製して、目的 化合物(2,90g)を油状物として得る。IR (Nujol): 2600-2450.1615, 1555, 1530° 1420.1310cm-' MASS: M" 249 [α    : 1 1. 56 (C-0,5,IN NaOH) Production Example 4 Cetyltrimethyl was added to a solution of the starting compound (3.0 g) in methylene chloride (60 ml). Ammonium chloride (0,55gL powdered sodium hydroxide (3,42g) and and 1-(2-chloroethyl)pyrrolidine hydrochloride (2.94 g) under water cooling. I can do it. The mixture is stirred at room temperature overnight. After filtration, the filtrate was washed with saline and sulfuric acid macerate was added. Dry with gnesium. Mixture of chloroform-methanol (50:1 to 30:1) The crude product was purified using a silica gel column (105 g) using the compound as an eluent, and the desired The compound (2.90 g) is obtained as an oil.

IR(CHCI ) + 1700 cm ’NMR(DMSO−d δ) +  1.65(4H,m)、 2.506+ (4H,m)、 2.81 (2H,t、J=6.4Hz)、 3.81 (3 H。IR (CHCI) + 1700 cm’NMR (DMSO-d δ) + 1.65 (4H, m), 2.506+ (4H, m), 2.81 (2H, t, J=6.4Hz), 3.81 (3 H.

s)、 4. 36 (2H,t、J=6. 4Hz)、 7. 17−7、  3 (2H。s), 4. 36 (2H, t, J=6.4Hz), 7. 17-7, 3 (2H.

m)、 7.60(IH,m)、 8.0(IH,m)、 8.16(IH。m), 7.60 (IH, m), 8.0 (IH, m), 8.16 (IH.

S) 製造例5 出発化合物(2,9g)をメタノール(58ml)とIN水酸化ナトリウム(2 2ml)の混合物に溶解する。混合物を4時間還流する。冷却後、混合物を濃縮 し、酢酸エチルと水を加え、水層を分離する。lN塩酸でpHを4に調整し、減 圧下、乾固するまで濃縮して、目的化合物を得る。この目的化合物を、さらに精 製することなく次の段階に用いる。S) Manufacturing example 5 The starting compound (2.9 g) was dissolved in methanol (58 ml) and IN sodium hydroxide (2.9 g). 2 ml) of the mixture. The mixture is refluxed for 4 hours. After cooling, concentrate the mixture Then add ethyl acetate and water and separate the aqueous layer. Adjust the pH to 4 with 1N hydrochloric acid and reduce Concentrate to dryness under pressure to obtain the desired compound. This target compound can be refined further. Used in the next step without manufacturing.

NMR(DMSO−d δ) : 1.65(4H,m)、 2.506゜ (4H,m)、 2. 81 (2H,t、J=6Hz)、 4. 34 (2 H,t。NMR (DMSO-d δ): 1.65 (4H, m), 2.506° (4H, m), 2. 81 (2H, t, J=6Hz), 4. 34 (2 H,t.

J=6.5Hz)、 7.1−7.25 (2H,m)、 7.55 (IH。J=6.5Hz), 7.1-7.25 (2H, m), 7.55 (IH.

m) 、 8. 0 (2H,m) MASS : M+ 258 製造例6 製造例4と同様にして目的化合物を得る。m), 8. 0 (2H, m) MASS: M+ 258 Manufacturing example 6 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 4.

TR(Film) : 1700 cm−1BMR(DMSO−d δ) :  2.17(6H,S)、 2.62I (2H,t、J=6Hz)、 3.80 (3H,s)、4.33 (2H,t 。TR (Film): 1700 cm-1BMR (DMSO-d δ): 2.17 (6H, S), 2.62I (2H, t, J=6Hz), 3.80 (3H, s), 4.33 (2H, t .

J=8Hz)、 7. 2−7. 3 (2H,m)、 7. 6 (IH,m )、 8゜0 (IH,m)、 8. 15 (IH,s)製造例7 製造例5と同様にして目的化合物を得る。J=8Hz), 7. 2-7. 3 (2H, m), 7. 6 (IH, m ), 8°0 (IH, m), 8. 15 (IH,s) Production example 7 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 5.

(1) mp : 229℃−(dec、)IR(Nujol) : 2700 . 1695. 1665 cm−’NMR(DMSO−d δ) : 2.7 9(6H,s)、 3.506′ (2H,t、J=6Hz)、 4.75 (2H,t、J=6Hz)、 7.2 0−7.35(2H,m)、 7.77(IH,m)、 8.04(IH,m) 。(1) mp: 229℃-(dec,)IR (Nujol): 2700 .. 1695. 1665 cm-'NMR (DMSO-d δ): 2.7 9 (6H, s), 3.506' (2H, t, J=6Hz), 4.75 (2H, t, J=6Hz), 7.2 0-7.35 (2H, m), 7.77 (IH, m), 8.04 (IH, m) .

8、 18 (IH,5) (2) mp : 212℃− IR(Nujol) : 3450. 2610. 1681. 1520゜8 80、 850. 815. 795. 760. 732 cm ’NMR( DMSO−d δ) + 3.38(IH,br s)、4゜6′ 02 (3H,m) 、 7. 15−7. 80 (4H,m)製造例8 出発化合物(2,0g)の水(20ml)とアセトン(20ml)の混合溶媒中 懸濁液にTEA (2,46m1)を水冷下で加える。溶液に、ジーt−プチル ジカルボナート(2,1g)のアセトン(5ml)溶液を加え、溶液をトリエチ ルアミン(1,23m1)を加えながら同温度で2時間、さらに室温で2時間撹 拌する。アセトンを除去した後、水(50ml)を加え、水層をジエチルエーテ ルで1回洗浄する。水層をlN塩酸でpH1に調整し、酢酸エチルで抽出する。8, 18 (IH, 5) (2) mp: 212℃- IR (Nujol): 3450. 2610. 1681. 1520゜8 80, 850. 815. 795. 760. 732 cm’NMR ( DMSO-d δ) + 3.38(IH,br s), 4゜6' 02 (3H, m), 7. 15-7. 80 (4H, m) Production example 8 Starting compound (2.0 g) in a mixed solvent of water (20 ml) and acetone (20 ml) Add TEA (2.46 ml) to the suspension under water cooling. In solution, di-t-butyl A solution of dicarbonate (2.1 g) in acetone (5 ml) was added and the solution was diluted with triethyl chloride. Stir at the same temperature for 2 hours while adding Ruamine (1.23ml), and then stir at room temperature for 2 hours. Stir. After removing acetone, water (50 ml) was added and the aqueous layer was diluted with diethyl ether. Wash once with water. The aqueous layer was adjusted to pH 1 with 1N hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate.

抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去した後、結 晶性固体を集め、乾燥して、目的化合物(2,66g)を得る。The extract is washed with brine and dried over magnesium sulfate. After distilling off the solvent, The crystalline solid is collected and dried to obtain the desired compound (2.66 g).

mp : 146−148℃ IR(Nujol) : 3370. 1720. 1695. 1520゜1 270、−1170 cm−” NMR(DMSO−d δ) : 1.28(9H,s)、 2.966゜ (IH,dd、J=23.8Hz および 10.2Hz)、 3.20(IH ,dd、J=13.6Hz および 4. 5Hz)、 4. 15−4.3( IH,s)、 7. 19 (IH,d、J=8. 4Hz)、 7. 45− 7゜55 (2H,m)、 7. 75−8. 05 (4H,m)、 12.  65 (1B。mp: 146-148℃ IR (Nujol): 3370. 1720. 1695. 1520゜1 270, -1170 cm-” NMR (DMSO-d δ): 1.28 (9H, s), 2.966° (IH, dd, J=23.8Hz and 10.2Hz), 3.20 (IH , dd, J=13.6Hz and 4. 5Hz), 4. 15-4.3 ( IH,s), 7. 19 (IH, d, J=8.4Hz), 7. 45- 7゜55 (2H, m), 7. 75-8. 05 (4H, m), 12. 65 (1B.

製造例9 製造例8と同様にして目的化合物を得る。Production example 9 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 8.

mp : 122℃ (dec、) IR(Nujol) : 3380. 1720. 1690. 1520゜1 270. 1180 cm ’ NMR(DMSO−d δ) : 1.29(9H,s)、 2.456′ (3H,s)、 2.97 (IH,dd、J=23.9Hz および 10. 2Hz)、3.17 (IH,dd、J=18.4Hz および 4゜6Hz) 、4. 1−4. 3 (IH,m)、7. 1−7. 8 (7H,m)。mp: 122℃ (dec,) IR (Nujol): 3380. 1720. 1690. 1520゜1 270. 1180 cm ’ NMR (DMSO-d δ): 1.29 (9H, s), 2.456' (3H, s), 2.97 (IH, dd, J=23.9Hz and 10. 2Hz), 3.17 (IH, dd, J=18.4Hz and 4°6Hz) ,4. 1-4. 3 (IH, m), 7. 1-7. 8 (7H, m).

12.64 (IH,br s) MASS : M+1329 製造例1O 出発化合物(2,0g)、ヒスチジンメチルエステル・2塩酸塩(2゜76g) およびHOBT (1,54g)(7)DMF (40ml)溶液に、WSC( 2,08m1)を水冷下に加える。溶液を同温度で1時間、室温で一夜撹拌する 。溶媒を留去した後、残渣に水とジエチルエーテルを加える。水層を分離し、放 置する。生成する結晶を集め、洗浄し、乾燥して、目的化合物(2,06g)を 得る。12.64 (IH,brs) MASS: M+1329 Production example 1O Starting compound (2.0g), histidine methyl ester dihydrochloride (2°76g) and HOBT (1,54 g) (7) WSC ( 2.08ml) was added under water cooling. Stir the solution at the same temperature for 1 hour and at room temperature overnight. . After distilling off the solvent, water and diethyl ether are added to the residue. Separate the aqueous layer and release place The resulting crystals were collected, washed, and dried to obtain the target compound (2.06 g). obtain.

IR(Nujol) : 3180. 1745. 1635. 1545゜1 400 am ’ NMR(DMSO−d δ) + 3.07 (2H,d、J=7゜6′ 12Hz)、 3.62 (3H,s)、 3.84 (3H,s)、 4.7 3(IH,dd、J=13.9Hz および 7. 41Hz)、6. 95− 8゜30 (9H,m) MASS + M+1326 製造例II 出発化合物(2,0g)のメタノール(40m l)溶液に、ヒドラジン水和物 (1,79m1)を加える。溶液を室温で一夜撹拌する。沈澱を集め、メタノー ルで洗浄し、乾燥して、目的化合物(1,08g)を得る。IR (Nujol): 3180. 1745. 1635. 1545゜1 400 am NMR (DMSO-d δ) + 3.07 (2H, d, J = 7゜6' 12Hz), 3.62 (3H, s), 3.84 (3H, s), 4.7 3 (IH, dd, J=13.9Hz and 7.41Hz), 6. 95- 8゜30 (9H, m) MASS + M+1326 Production example II Hydrazine hydrate was added to a solution of the starting compound (2.0 g) in methanol (40 ml). Add (1,79ml). The solution is stirred at room temperature overnight. Collect the precipitate and add methanol The target compound (1.08 g) is obtained by washing with water and drying.

mp : 26]℃−(dec、) IR(Nujol) + 3400. 3300. 1660. 1635゜1 555、 1530 am−1 HMR(DMSO−d δ) : 2.95 (2H,d、J=7゜6″ 79Hz)、 3.85 (3H,s)、 4.22 (2H,br s)、  4゜67 (IH,dd、J=14.1Hz および 7.5Hz)、6.82 (IH,s)、 7.1−8.2(7H,m)、 9.15 (IH,s)。mp: 26]℃-(dec,) IR (Nujol) +3400. 3300. 1660. 1635゜1 555, 1530 am-1 HMR (DMSO-d δ): 2.95 (2H, d, J=7°6″ 79Hz), 3.85 (3H, s), 4.22 (2H, br s), 4°67 (IH, dd, J=14.1Hz and 7.5Hz), 6.82 (IH, s), 7.1-8.2 (7H, m), 9.15 (IH, s).

11.77 (IH,br s) MASS : M+1326 製造例12 出発化合物(2,0g)のDMF (40ml)溶液に、ヨー化メチル(5゜0 9m1)および粉末炭酸カリウム(5,30g)を加える。混合物を75℃で4 時間撹拌する。混合物を濾過し、濾液を減圧下濃縮し、残渣に水を加える。結晶 性沈澱を濾取し、水で洗浄し、40℃で乾燥して、目的化合物(2,94g)を 得る。11.77 (IH,brs) MASS: M+1326 Production example 12 To a solution of the starting compound (2.0 g) in DMF (40 ml) was added methyl iodide (5°0 9 ml) and powdered potassium carbonate (5.30 g). The mixture was heated at 75°C Stir for an hour. The mixture is filtered, the filtrate is concentrated under reduced pressure, and water is added to the residue. crystal The precipitate was collected by filtration, washed with water, and dried at 40°C to obtain the target compound (2.94 g). obtain.

mp:94−96℃ IR(Nujol) : 1710. 1520. 875. 850゜800 、 767、 733 cm−’NMR(DMSO−d δ) : 3.87( 3H,s)、 4.026゜ (3H,s)、 7. 20−7. 80 (4H,m)製造例13 出発化合物(2,43g) 、N−メチルベンジルアミン(0,91m1)及び HOBT (0,94g)(7)塩化メチレン溶液に、WSC−塩酸塩(1,3 3g)を水冷下に加える。溶液を同温度で1時間撹拌し、室温で一夜撹拌する。mp:94-96℃ IR (Nujol): 1710. 1520. 875. 850°800 , 767, 733 cm-'NMR (DMSO-d δ): 3.87 ( 3H,s), 4.026° (3H,s), 7. 20-7. 80 (4H, m) Production example 13 Starting compound (2,43 g), N-methylbenzylamine (0,91 ml) and HOBT (0.94g) (7) WSC-hydrochloride (1,3 3g) was added under water cooling. The solution is stirred at the same temperature for 1 hour and at room temperature overnight.

溶媒を留去した後、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、分取した有機層を水、炭 酸水素ナトリウム水溶液、0.5N塩酸、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マ グネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、目的化合物(1,40g)を結晶性固 体として得る。After distilling off the solvent, the reaction mixture was extracted with ethyl acetate, and the separated organic layer was washed with water and charcoal. Wash with sodium hydroxide aqueous solution, 0.5N hydrochloric acid, water and saline in order, and remove sulfuric acid. Dry with gnesium. The solvent was distilled off to give the target compound (1.40 g) as a crystalline solid. Get it as a body.

mp:99−103 ℃ IR(Nujol)+3370.1685,1645,1515゜1405、  1250. 1170 cm−’NMR(DMSO−d δ) : ]、、15 −7. 35 (9H,m)。mp:99-103℃ IR (Nujol)+3370.1685,1645,1515°1405, 1250. 1170 cm-'NMR (DMSO-d δ): ], 15 -7. 35 (9H, m).

6゜ 2、 75−3. 20 (5H,m)、4.40−4. 85 (3H,m) 、6゜95−8.05 (12H,m) 製造例14 製造例13と同様にして目的化合物を得る。6゜ 2, 75-3. 20 (5H, m), 4.40-4. 85 (3H, m) , 6°95-8.05 (12H, m) Production example 14 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 13.

NMR(DMSO−d δ)=1゜22および1.32 (9H。NMR (DMSO-d δ) = 1°22 and 1.32 (9H.

6′ 43m)、2.46 (3H,s)、 2.75および2. 85 (3H,s ) 。6' 43m), 2.46 (3H, s), 2.75 and 2. 85 (3H,s ).

2、 9−3. 1 (2H,m) 、4. 4−4. 8 (3H,m) 、 6. 9−7. 8(12)(、m) 製造例15 出発化合物(3,08g) (7)塩化J +Liン(30m l )溶液に、 4NHC1/DOX (27,5m1)を水冷下に加える。溶液を同温度で5分 間撹拌する。水浴を除去し、溶液を室温で30分間撹拌する。溶媒を留去し、残 渣をジイソプロピルエーテルで結晶化させ、生成物を濾取し、水酸化ナトリウム で減圧下、乾燥して、目的化合物(2,36g)を得る。2, 9-3. 1 (2H, m), 4. 4-4. 8 (3H, m), 6. 9-7. 8(12)(,m) Production example 15 Starting compound (3.08 g) (7) J chloride + Lin (30 ml) solution, Add 4NHC1/DOX (27.5ml) while cooling with water. Keep the solution at the same temperature for 5 minutes Stir for a while. Remove the water bath and stir the solution for 30 minutes at room temperature. Distill the solvent and leave the residue The residue was crystallized with diisopropyl ether, the product was collected by filtration, and sodium hydroxide was added. The mixture was dried under reduced pressure to obtain the target compound (2.36 g).

mp : 177−185℃ IR(Nujol) : 3420. 1650. 1600. 1495゜1 285 cm ” NMR(DMSO−d 、5) : 2.65 およU 2.70(3H。mp: 177-185℃ IR (Nujol): 3420. 1650. 1600. 1495゜1 285cm” NMR (DMSO-d, 5): 2.65 and U 2.70 (3H.

6′ s)、 3. 15−3. 40 (2H,m)、 4. 0−4. 8 (3 H,m)。6′ s), 3. 15-3. 40 (2H, m), 4. 0-4. 8 (3 H, m).

7、 0−8. 1 (IIH,m)、 8. 5’8 (3H,br s)製 造例16 製造例15と同様にして目的化合物を得る。7, 0-8. 1 (IIH, m), 8. Made of 5'8 (3H, brs) Example 16 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 15.

mp:170−172℃ IR(Nujol) : 3500−3350. 1650,1605゜151 0.1450 cm ’ NMR(DMSO−d δ) : 2.47(3H,s)、2.61お6゜ よび2. 70 (3H,s)、 3. 1−3. 3 (2H,m)、 3.  95−4゜8 (3H,m)、 6. 95−7. 8 (IIH,m)、  8. 49 (2H,brS) 製造例17 出発化合物(1,3g) 、Boa−(2S、4R)−Pro (40H)−O H(0,77g)およびHOBT (0,45g)の塩化メチレン(26ml) 中温合物に、WSC(0,61m1)を水冷下に加える。溶液を同温度で1時間 、室温で一夜撹拌する。溶媒を留去し、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、分取 した有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、0.5N塩酸、水および食塩水で 順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、目的化合物(1゜ 88g)を無定形固体として得る。mp:170-172℃ IR (Nujol): 3500-3350. 1650, 1605゜151 0.1450 cm’ NMR (DMSO-d δ): 2.47 (3H, s), 2.61 o 6° and 2. 70 (3H, s), 3. 1-3. 3 (2H, m), 3. 95-4°8 (3H, m), 6. 95-7. 8 (IIH, m), 8. 49 (2H,brS) Production example 17 Starting compound (1,3g), Boa-(2S,4R)-Pro(40H)-O H (0,77 g) and HOBT (0,45 g) in methylene chloride (26 ml) WSC (0.61 ml) is added to the medium temperature mixture under water cooling. The solution was kept at the same temperature for 1 hour. , stir overnight at room temperature. The solvent was distilled off, the reaction mixture was extracted with ethyl acetate, and the preparative The organic layer was mixed with an aqueous sodium bicarbonate solution, water, 0.5N hydrochloric acid, water and brine. Wash sequentially and dry with magnesium sulfate. The solvent was distilled off to obtain the target compound (1° 88 g) as an amorphous solid.

NMR(DMSO−d δ) : 1.10−1.40 (9H,m)。NMR (DMSO-d δ): 1.10-1.40 (9H, m).

6″ 1、 50−1. 80 (IH,m)、 1. 80−2. 10 (IH, m)、 2゜70−3. 30 (7H,m)、 4. 10−5. 20 ( 6H,m)、 6. 90−8. 0 (IIH,m)、 8. 35−8.  50 (IH,m)製造例18 製造例17と同様にして目的化合物を得る。6″ 1, 50-1. 80 (IH, m), 1. 80-2. 10 (IH, m), 2°70-3. 30 (7H, m), 4. 10-5. 20 ( 6H, m), 6. 90-8. 0 (IIH, m), 8. 35-8.  50 (IH, m) Production example 18 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 17.

NMR(DMSO−d δ):1.21 および 1. 39 (9H。NMR (DMSO-d δ): 1.21 and 1. 39 (9H.

6゛ s)、1.6−1.8(IH,m)、1.8−2.0(IH,m)、2゜40( 3H,s)、2.7−3.5(7H,m)、4.1−5.2(6H。6゛ s), 1.6-1.8 (IH, m), 1.8-2.0 (IH, m), 2゜40 ( 3H, s), 2.7-3.5 (7H, m), 4.1-5.2 (6H.

m)、6.9−7.8 (IIH,m)、8.35−8.5 (IH,m)(2 ) IR(CHCI ) : 3300. 1710. 1640゜1485、  1365. 1165 am ’NMR(DMSO−d δ) : 1.37 (9H,s)、2.756′ および 2. 83 (3H,s)、 2. 90−3. 25 (2H,m) 、 3゜43−3. 60 (2H,m)、4. 20−4. 75 および  4. 90−5゜20 (3H,m) 、6.85−7. 95 および 8.  25−8.40(14H,m) (3) rR(CHCI ) + 3300. 1710−1620゜1515 −1490. 1450. 1360. 1160 cm ’NMR(DMSO −d δ) : 1.37 (9H,s)、1.55−6′ 1、 9 (2H,m)、 1. 95−2. 2 (2H,m)、 2. 7 3 および2、82(3H,s)、2.9−3.25(3H,m)、3.85− 4.0(2H,m)、4.3−4.6 (2H,m)、4.9−5.2 (IH 。m), 6.9-7.8 (IIH, m), 8.35-8.5 (IH, m) (2 ) IR (CHCI): 3300. 1710. 1640゜1485,  1365. 1165 am 'NMR (DMSO-d δ): 1.37 (9H,s), 2.756' and 2. 83 (3H, s), 2. 90-3. 25 (2H, m) , 3゜43-3. 60 (2H, m), 4. 20-4. 75 and 4. 90-5°20 (3H, m), 6.85-7. 95 and 8. 25-8.40 (14H, m) (3) rR (CHCI) + 3300. 1710-1620゜1515 -1490. 1450. 1360. 1160cm’NMR (DMSO -d δ): 1.37 (9H, s), 1.55-6' 1, 9 (2H, m), 1. 95-2. 2 (2H, m), 2. 7 3 and 2, 82 (3H, s), 2.9-3.25 (3H, m), 3.85- 4.0 (2H, m), 4.3-4.6 (2H, m), 4.9-5.2 (IH .

m)、6.7−7、9 (13H,m)、8.3−8.4 (LH,m)(4)  IR(CHCI ) : 3330. 1715. 1635゜1500、  1460. 1170 cm ’NMR(DMSO−d δ) 、: 1.38 (9H,s)、2.736゜ および 2. 82 (3H,s)、2. 9−3. 3 (2H,m)、 3 .4−3、6(2H,m)、3.9−5.2(5H,m)、6.65−7.95 (13H,m)、8. 15−8. 3 (IH,m)(5) IR(CHCI  ) : 3320. 1720. 1635゜1495、 1460. 13 20. 1170 cm ’NMR(DMSO−d δ) + 1.37(9H ,s)、1.6−6゜ 1、85 (2H,m、)、1.9−2.0 (3H,m)、2.25−2.4 (2H,m) 、 2. 74 および 2. 83 (3H,s)、 2.  95−3゜25 (2H,m)、 3.9−5.2 (4H,m)、 6.9− 7.9(13H,m)、 8.26 (IH,d、J=7.92Hz)NMR( DMSO−d δ) : 1. 1−1. 5 (9H,m)、 2゜6゜ 7−3. 4 (7H,m)、 4. 3−5. 2(6H,m)、 6. 9 −7. 9(12H,m)、 8.45−8.6 (IH,m)NMR(DMS O−d δ) + 1.1−1.55 (6H,m)。m), 6.7-7, 9 (13H, m), 8.3-8.4 (LH, m) (4) IR (CHCI): 3330. 1715. 1635゜1500,  1460. 1170 cm 'NMR (DMSO-d δ), : 1.38 (9H,s), 2.736° and 2. 82 (3H, s), 2. 9-3. 3 (2H, m), 3 .. 4-3, 6 (2H, m), 3.9-5.2 (5H, m), 6.65-7.95 (13H, m), 8. 15-8. 3 (IH, m) (5) IR (CHCI ): 3320. 1720. 1635°1495, 1460. 13 20. 1170 cm 'NMR (DMSO-d δ) + 1.37 (9H ,s), 1.6-6° 1, 85 (2H, m,), 1.9-2.0 (3H, m), 2.25-2.4 (2H, m), 2. 74 and 2. 83 (3H, s), 2.  95-3゜25 (2H, m), 3.9-5.2 (4H, m), 6.9- 7.9 (13H, m), 8.26 (IH, d, J = 7.92Hz) NMR ( DMSO-d δ): 1. 1-1. 5 (9H, m), 2゜6゜ 7-3. 4 (7H, m), 4. 3-5. 2 (6H, m), 6. 9 -7. 9 (12H, m), 8.45-8.6 (IH, m) NMR (DMS O-d δ) + 1.1-1.55 (6H, m).

6′ 1、 37 (9H,s) 、 2. 74 および 2. 82 (3H,s ) 、 2゜85−3. 3 (4H,m)、 3. 9−5. 15 (6H ,m)、 6. 7−7゜95 (19H,m)、 8.35−8.45 (I H,m)(8) mp : 126.0−127.0℃IR(Nujol) :  3330. 1710. 1635. 1515゜859、 820 cm− 1 NMR(DMSO−d δ)=1゜347 (9H,s)、 1.456゜ −1,70(2H,m)、 1.859,1.902(3H,s)、 2.10 −2.35(2H,m)、 2.803,2.912(3H,s)、 2.90 −3.25 (2H,m)、 3.90−4.15 (LH,m)、 4.37 9(J=15.11Hz)、 4.515 (J=18.40Hz)、 4.6 00(J=15.38Hz)、 4.726 (2H,d、J=16.62Hz )。6' 1, 37 (9H, s), 2. 74 and 2. 82 (3H,s ), 2°85-3. 3 (4H, m), 3. 9-5. 15 (6H , m), 6. 7-7゜95 (19H, m), 8.35-8.45 (I H, m) (8) mp: 126.0-127.0℃ IR (Nujol):  3330. 1710. 1635. 1515°859, 820cm- 1 NMR (DMSO-d δ) = 1°347 (9H, s), 1.456° -1,70 (2H, m), 1.859, 1.902 (3H, s), 2.10 -2.35 (2H, m), 2.803, 2.912 (3H, s), 2.90 -3.25 (2H, m), 3.90-4.15 (LH, m), 4.37 9 (J=15.11Hz), 4.515 (J=18.40Hz), 4.6 00 (J=15.38Hz), 4.726 (2H, d, J=16.62Hz ).

4.95−5.25 (IH,m)、 6.830 (J=14.62Hz)。4.95-5.25 (IH, m), 6.830 (J=14.62Hz).

6.887 (IH,d、J=8.20Hz)、 6.95−7.90 (12 H。6.887 (IH, d, J=8.20Hz), 6.95-7.90 (12 H.

m)、 8.383 (J=8.31Hz)、 8.496 (LH,d、J= 8゜50Hz) 製造例19 出発化合物(1,72g)の塩化メチレン溶液(20ml)に、4NHC1/D OX (12,3m1)を水冷下に加える。溶液を同温度で5分間、室温で20 分間撹拌する。溶媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで粉砕し、濾取し 、乾燥して、目的化合物(1,52g)を得る。m), 8.383 (J=8.31Hz), 8.496 (LH, d, J= 8゜50Hz) Production example 19 A solution of the starting compound (1,72 g) in methylene chloride (20 ml) was added with 4N HCl/D Add OX (12.3 ml) under water cooling. The solution was heated at the same temperature for 5 minutes, then at room temperature for 20 minutes. Stir for a minute. The solvent was distilled off, and the residue was triturated with diisopropyl ether and collected by filtration. and drying to obtain the target compound (1.52 g).

mp + 131℃−(dec、) IR(Nujol) : 3350−3150. 1670. 1640゜15 30cm’ NMR(DMSO−d δ) : 1. 7−1. 9 (LH,m)、 2゜ 6゜ 2−2. 4 (IH,m) 、 2. 77 および 2. 85 (3H, s) 、 2゜9−3. 4 (4H,m)、 4. 2−4. 6 および  5. 0−5. 2 および5、 5−5. 65 (6H,m)、 7. 9 −8. 05 (IIH,m)、 8゜58 (IH,br s)、 9.26  (IH,d、J=7.70Hz)。mp + 131℃-(dec,) IR (Nujol): 3350-3150. 1670. 1640゜15 30cm’ NMR (DMSO-d δ): 1. 7-1. 9 (LH, m), 2゜ 6゜ 2-2. 4 (IH, m), 2. 77 and 2. 85 (3H, s), 2゜9-3. 4 (4H, m), 4. 2-4. 6 and 5. 0-5. 2 and 5, 5-5. 65 (6H, m), 7. 9 -8. 05 (IIH, m), 8゜58 (IH, brs), 9.26 (IH, d, J=7.70Hz).

10.05 (IH,br s) 製造例20 製造例19と同様にして目的化合物を得る。10.05 (IH,brs) Production example 20 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 19.

NMR(DMSO−d δ) : 1. 7−1. 9 (IH,m)、 2゜ 6゜ 2−2.4 (IH,m)、 2.47 (3H,s)、2. 77 および  2゜83 (3H,s)、 2.95−3.35 (4H,m)、 4.2−5 .6(6H,m)、 6.9−7.8 (IIH,m)、 8.6 (IH,b rs)、 9.23 (LH,d、J=7.6Hz)、 9.85 (IH,b rS) NMR(DMSO−d δ):2.79 および 2.87 (3H。NMR (DMSO-d δ): 1. 7-1. 9 (IH, m), 2゜ 6゜ 2-2.4 (IH, m), 2.47 (3H, s), 2. 77 and 2゜83 (3H, s), 2.95-3.35 (4H, m), 4.2-5 .. 6 (6H, m), 6.9-7.8 (IIH, m), 8.6 (IH, b rs), 9.23 (LH, d, J=7.6Hz), 9.85 (IH, b rS) NMR (DMSO-d δ): 2.79 and 2.87 (3H.

6゜ s)、 2.90−3.30 (2H,m)、 3.40−3.50 (2H。6゜ s), 2.90-3.30 (2H, m), 3.40-3.50 (2H.

m)、 4.20−5.25 (3H,m)、 6.80−7.95 (12H 。m), 4.20-5.25 (3H, m), 6.80-7.95 (12H .

m)、 8. 18 (3H,br s)、 9. 00−9. 15 (IH ,m)NMR(DMSO−d δ) : 1.9−2.05 (2H,m)。m), 8. 18 (3H, brs), 9. 00-9. 15 (IH , m) NMR (DMSO-d δ): 1.9-2.05 (2H, m).

6゜ 2、 2−2. 35 (2H,m)、 2. 76 および 2. 85 ( 3H,m) 。6゜ 2, 2-2. 35 (2H, m), 2. 76 and 2. 85 ( 3H, m).

3、 0−3. 3 (2H,m) 、 3. 7−3. 9 (3H,m)  、 4. 35−5.2 (3H,m)、 6.85−7.95 (12H,m )、 8.36(3H,br s)、 9.17 (LH,d、J=8.46H z)NMR(DMSO−d δ):2.76 および 2. 85 (3H。3.0-3. 3 (2H, m), 3. 7-3. 9 (3H, m) , 4. 35-5.2 (3H, m), 6.85-7.95 (12H, m ), 8.36 (3H, br s), 9.17 (LH, d, J=8.46H z) NMR (DMSO-d δ): 2.76 and 2. 85 (3H.

6゜ s)、 3.0−3.3 (2H,m)、 3.65−3.95 (2H,m) 。6゜ s), 3.0-3.3 (2H, m), 3.65-3.95 (2H, m) .

4.3−5.6(5H,m)、 6.9−7.95(12H,m)、 8.22 (3H,br s)、 9.0−9.1 (IH,m)NMR(DMSO−d  δ) : 1.95−2.1 (5H,m)。4.3-5.6 (5H, m), 6.9-7.95 (12H, m), 8.22 (3H,br s), 9.0-9.1 (IH,m)NMR(DMSO-d) δ): 1.95-2.1 (5H, m).

6゛ 2、 45−2. 55 (2H,m)、2. 76 および 2. 85 ( 3H。6゛ 2, 45-2. 55 (2H, m), 2. 76 and 2. 85 ( 3H.

s)、 3.0−3.3(2H,m)、 3.8−5.2(4H,m)、 L9 −7.95 (12H,m)、 8.37 (3H,br s)、 9.1−9 ゜2 (IH,m) (6) mp : 190℃−(dec、)IR(Nujol) : 3200 . 2700. 1680. 1650゜1555、 1450 am ’ NMR(DMSO−d δ):2.77 および 2. 86 (3H。s), 3.0-3.3 (2H, m), 3.8-5.2 (4H, m), L9 -7.95 (12H, m), 8.37 (3H, br s), 9.1-9 ゜2 (IH, m) (6) mp: 190℃-(dec,)IR (Nujol): 3200 .. 2700. 1680. 1650゜1555, 1450 am ’ NMR (DMSO-d δ): 2.77 and 2. 86 (3H.

s)、 2.95−3.6 (4H,m)、 4.2−4.7 (5H,m)。s), 2.95-3.6 (4H, m), 4.2-4.7 (5H, m).

5.0−5.25(IH,m)、 6.9−8.0(13H,m)、 9.Hl (IH,d、J=7.5Hz) 製造例21 出発化合物(0,50g)の酢酸エチル(10ml)溶液に、4N塩酸/酢酸エ チル(20ml)を水冷下に加える。溶液を同温度で1時間撹拌する。残渣をジ エチルエーテルで粉砕し、濾取し、水酸化ナトリウムで減圧下に乾燥して、目的 化合物(0,38g)を得る。5.0-5.25 (IH, m), 6.9-8.0 (13H, m), 9. Hl (IH, d, J=7.5Hz) Production example 21 A solution of the starting compound (0.50 g) in ethyl acetate (10 ml) was added with 4N hydrochloric acid/ethyl acetate. Chill (20 ml) is added under water cooling. The solution is stirred at the same temperature for 1 hour. Remove the residue Triturate with ethyl ether, filter, dry over sodium hydroxide under reduced pressure, and The compound (0.38 g) is obtained.

IR(Nujol) : 3400. 1678. 1630. 1562゜1 546、 815. 730 cm ”NMR(DMSO−d δ) : 1. 74. 1.83. 1.916′ (3H,s)、 1.55−1.95 (2H,m)、 2.00−2.30( 2H,m)、 2. 86. 2. 99 (3H,s)、 2. 90−3.  45(2H,m)、 3. 75−3. 90 (IH,m)、 4. 25 −4. 40゜4、 60−4. 85 (2H,m)、 5. 00−5.  30 (IH,m)、 6゜90−7. 90 (13H,m)、 8. 21  (2H,br s)、 9. 05−9、 20 (IH,m) 製造例22 出発化合物(257g)をメタノール(50ml)に溶解し、10%パラジウム −炭素(0,26g)を加える。混合物を、大気圧下、室温で3.5時間水素添 加する。濃塩酸を2滴加え、水素添加を1時間続ける。濾過後、乾固するまで溶 媒を留去して、目的化合物(1,93g)を無定形固体として得る。IR (Nujol): 3400. 1678. 1630. 1562゜1 546, 815. 730 cm”NMR (DMSO-d δ): 1. 74. 1.83. 1.916' (3H, s), 1.55-1.95 (2H, m), 2.00-2.30 ( 2H, m), 2. 86. 2. 99 (3H, s), 2. 90-3. 45 (2H, m), 3. 75-3. 90 (IH, m), 4. 25 -4. 40°4, 60-4. 85 (2H, m), 5. 00-5.  30 (IH, m), 6°90-7. 90 (13H, m), 8. 21 (2H,brs), 9. 05-9, 20 (IH, m) Production example 22 The starting compound (257 g) was dissolved in methanol (50 ml) and 10% palladium - Add carbon (0,26 g). The mixture was hydrogenated for 3.5 hours at room temperature under atmospheric pressure. Add. Add 2 drops of concentrated hydrochloric acid and continue hydrogenation for 1 hour. After filtration, dissolve until dry. The solvent was distilled off to obtain the target compound (1.93 g) as an amorphous solid.

NMR(DMSO−d δ) : 1. 1−1. 6 (6H,m)、 1゜ 6+ 37 (9H,s)、2. 77 および 2.85 (3H,s)、2. 9 5−3、 4 (4H,m) 、 4. 3−5. 2 (4H,m) 、 6 . 7−7、 95(15H,m)、 8.55−8.65 (IH,m)製造 例23 出発化合物(315g)とヨー化メチル(5,0m1)のTHF (30ml) 溶液に、窒素雰囲気中、水冷下に60%水素化ナトリウム(1,20g)を加え る。混合物を室温で一夜撹拌する。混合物に水を加え、THFを留去する。残渣 にジエチルエーテルと水を加え、水層を分離し、有機層を再び水で洗浄する。2 つの水層を合わせ、6N塩酸でpH2に調整し、分離した油状物を酢酸エチルで 抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し て、目的化合物(2,05g)を結晶性固体として得る。NMR (DMSO-d δ): 1. 1-1. 6 (6H, m), 1゜ 6+ 37 (9H, s), 2. 77 and 2.85 (3H, s), 2. 9 5-3, 4 (4H, m), 4. 3-5. 2 (4H, m), 6 .. 7-7, 95 (15H, m), 8.55-8.65 (IH, m) production Example 23 Starting compound (315 g) and methyl iodide (5.0 ml) in THF (30 ml) 60% sodium hydride (1.20 g) was added to the solution under water cooling in a nitrogen atmosphere. Ru. The mixture is stirred at room temperature overnight. Water is added to the mixture and THF is distilled off. residue Add diethyl ether and water, separate the aqueous layer, and wash the organic layer again with water. 2 The two aqueous layers were combined, the pH was adjusted to 2 with 6N hydrochloric acid, and the separated oil was diluted with ethyl acetate. Extract. The extract was washed with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. The desired compound (2.05 g) was obtained as a crystalline solid.

mp : 135−136.5℃ IR(Nujol) : 1750. 1645 cm ’NMR(CDC1, 、δ):1.27 および 1. 36 (9H,s) 。mp: 135-136.5℃ IR (Nujol): 1750. 1645 cm’NMR (CDC1, , δ): 1.27 and 1. 36 (9H, s).

2.69 および 2.77 (3H,s)、4. 74 (dd、J=4゜3 Hz、10.7Hz)、 4.98 (dd、J=5.2Hz、10゜7Hz) 、 7.3−7.85 (7H,m)、 9.16 (IH,br s)製造例 24 製造例13と同様にして目的化合物を得る。2.69 and 2.77 (3H,s), 4. 74 (dd, J=4゜3 Hz, 10.7Hz), 4.98 (dd, J=5.2Hz, 10°7Hz) , 7.3-7.85 (7H, m), 9.16 (IH, brs) production example 24 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 13.

mp : 122−123℃ IR(Nujol) : 1680. 1646 cm ’NMR(CDCl2 .δ) : 0.96.1.058.1.148および 1. 30 (9H, s)、 2. 85 (3H,s)、 2. 90 (3H。mp: 122-123℃ IR (Nujol): 1680. 1646 cm’NMR (CDCl2 .. δ): 0.96.1.058.1.148 and 1. 30 (9H, s), 2. 85 (3H, s), 2. 90 (3H.

s)、 3.0−3.5 (2H,m)、 4.35−4.8 (2H,m)。s), 3.0-3.5 (2H, m), 4.35-4.8 (2H, m).

5.13 および 5.50 (IH,m) 、6.8−7.8 (12H,m )元素分析:計算値 : C74,97,H7,46,H6,48実測値 :  C74,93,H7,70,H6,66製造例25 出発化合物(2,42g)を酢酸エチル(15ml)に溶解し、氷冷する。この 溶液に酢酸エチル中の4N塩酸(30ml)を加える。溶液を同温度で40分間 撹拌し、濃縮する。残渣に、塩化メチレン(50ml)と飽和炭酸水素ナトリウ ム水溶液を加え、有機層を分離し、水層を再び塩化メチレンで抽出する。抽出液 を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して、目的化合物を得製造 例26 製造例25と同様にして目的化合物を得る。5.13 and 5.50 (IH, m), 6.8-7.8 (12H, m ) Elemental analysis: Calculated value: C74,97, H7,46, H6,48 Actual value: C74,93, H7,70, H6,66 Production Example 25 The starting compound (2.42 g) is dissolved in ethyl acetate (15 ml) and cooled on ice. this Add 4N hydrochloric acid in ethyl acetate (30 ml) to the solution. The solution was kept at the same temperature for 40 minutes. Stir and concentrate. Add methylene chloride (50 ml) and saturated sodium bicarbonate to the residue. Add aqueous solution of chlorine, separate the organic layer, and extract the aqueous layer again with methylene chloride. extract liquid were combined, washed with brine, and dried over magnesium sulfate to obtain the target compound. Example 26 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 25.

NMR(DMSO−d δ) : 2.49. 2.50. 2.51゜6゛ 2.54、 2. 57 (6H,s)、 3. 19 (IH,dd、J=1 3゜2Hz、3.5Hz)、 3.55 (IH,dd、J=13.2Hz、9 ゜2Hz)、3. 99 および 4. 39 (J=16. 2Hz)、4. 32および 4.55 (J=14.7Hz)、 4.85 (IH,m)、6 .85−7. 94 (12H,m)、 9. 53 (2H,br s)元素 分析:計算値 : C71,63,H6,83,H7,59゜C10,61 実測値 : C71,40,H6,87,H7,57゜C19,65 製造例27 製造例17と同様にして目的化合物を得る。NMR (DMSO-d δ): 2.49. 2.50. 2.51゜6゛ 2.54, 2. 57 (6H, s), 3. 19 (IH, dd, J=1 3゜2Hz, 3.5Hz), 3.55 (IH, dd, J=13.2Hz, 9 ゜2Hz), 3. 99 and 4. 39 (J=16.2Hz), 4. 32 and 4.55 (J=14.7Hz), 4.85 (IH, m), 6 .. 85-7. 94 (12H, m), 9. 53 (2H,brs) element Analysis: Calculated value: C71,63, H6,83, H7,59°C10,61 Actual measurements: C71,40, H6,87, H7,57°C19,65 Production example 27 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 17.

製造例28 出発化合物(4,5g)、ブロモ酢酸エチル(3,01g)および炭酸カリウム (4,97g)のジメチルホルムアミド(60ml)中温合物を室温で3時間撹 拌する。混合物を濾過し、濾液の溶媒を留去し、水で稀釈し、酢酸エチルで抽出 する。分取した有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水、0.5N塩酸およ び食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、目的化 合物(6,lOg)を結晶性固体として得る。Production example 28 Starting compound (4,5 g), ethyl bromoacetate (3,01 g) and potassium carbonate (4.97 g) in dimethylformamide (60 ml) was stirred at room temperature for 3 hours. Stir. Filter the mixture, evaporate the filtrate, dilute with water, and extract with ethyl acetate. do. The separated organic layer was mixed with water, sodium hydrogen carbonate aqueous solution, water, 0.5N hydrochloric acid and Wash with water and brine, and dry with magnesium sulfate. Distill the solvent and target The compound (6,10g) is obtained as a crystalline solid.

mp : 73−75.5℃ IR(Nujol) : 1748. 1690 cm−1HMR(DMSO− d6. δ) : 1.24 (3H,t、 J=7Hz)。mp: 73-75.5℃ IR (Nujol): 1748. 1690 cm-1HMR (DMSO- d6. δ): 1.24 (3H, t, J=7Hz).

4.21 (2H,q、J=7Hz)、 4.84 (2H,s)、 5. 3 8(2H,s)、 7. 24−7. jO(8H,m)、 7. 84 (I H,s)。4.21 (2H, q, J=7Hz), 4.84 (2H, s), 5. 3 8 (2H, s), 7. 24-7. jO(8H,m), 7. 84 (I H,s).

8.22 (IH,m) 製造例29 出発化合物(6,IOg)をエタノール(100ml)に溶解する。この溶液に ジオキサン中の4N塩酸(0,3m1)と10%パラジウム−炭素(0゜6g) を加える。混合物を大気圧下5時間水素添加する。混合物を濾過し、濾液を濃縮 して、目的化合物(3,5g)を結晶性固体として得る。8.22 (IH, m) Production example 29 The starting compound (6, IOg) is dissolved in ethanol (100ml). in this solution 4N hydrochloric acid in dioxane (0.3 ml) and 10% palladium on carbon (0°6 g) Add. The mixture is hydrogenated under atmospheric pressure for 5 hours. Filter the mixture and concentrate the filtrate The desired compound (3.5 g) was obtained as a crystalline solid.

mp:145−146℃ IR(Nujol) : 2600. 1734. 1660. 1640゜□ −1 NMR(DMSO−d6. δ) : 1.22 (3H,d、 J=7Hz)  。mp: 145-146℃ IR (Nujol): 2600. 1734. 1660. 1640゜□ -1 NMR (DMSO-d6. δ): 1.22 (3H, d, J = 7Hz) .

4゜16 (2H,q、J=7Hz)、5..23 (2H,s)7.17−7 .28(2H,m)、7.44−7.52 (IH,m)、8.0−8.1 ( LH。4°16 (2H, q, J=7Hz), 5. .. 23 (2H, s) 7.17-7 .. 28 (2H, m), 7.44-7.52 (IH, m), 8.0-8.1 ( LH.

rn)、8. 06 (IH,s) 製造例30 出発化合物(2,51g)と4−ブロモ酪酸エチル(1,95g)の溶液に、6 0%水素化ナトリウム(0,40g)を水冷下に加える。混合物を一晩中室温で 撹拌する。混合物の溶媒を留去し、水で稀釈し、酢酸エチルで抽出する。分取し た有機層を炭酸水素ナトリウム溶液および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウ ムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣を石油エーテルで傾瀉して、目的化合物NM R(CDCl δ) : 1.23 (3H,t、J=7Hz)。rn), 8. 06 (IH,s) Production example 30 In a solution of the starting compound (2,51 g) and ethyl 4-bromobutyrate (1,95 g), 6 Add 0% sodium hydride (0.40 g) under water cooling. Leave the mixture overnight at room temperature. Stir. The mixture is evaporated, diluted with water and extracted with ethyl acetate. Preparative separation The organic layer was washed sequentially with sodium bicarbonate solution and brine, and then washed with magnesium sulfate. Dry in a vacuum. The solvent was distilled off and the residue was decanted with petroleum ether to obtain the target compound NM. R (CDCl δ): 1.23 (3H, t, J = 7Hz).

3′ 2、 2<2H,m)、 2. 3 (2H,t、J=7Hz)、 4. 12  (2H。3′ 2, 2<2H, m), 2. 3 (2H, t, J=7Hz), 4. 12 (2H.

q、J=7Hz)、 4.22 (2H,t、J=7Hz)、5.38 (2H 。q, J=7Hz), 4.22 (2H, t, J=7Hz), 5.38 (2H .

s)、7.25−7.51 (8H,m)、7.83 (IH,s)、8゜20  (IH,m) 製造例31 製造例29と同様にして目的化合物を得る。s), 7.25-7.51 (8H, m), 7.83 (IH, s), 8°20 (IH, m) Production example 31 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 29.

mp ・ 92−93℃ IR(Nujol) : 1740. 1655 cm−1HMR(CDCI  6) + 1.25 (3H,t、J=7Hz)。mp ・ 92-93℃ IR (Nujol): 1740. 1655 cm-1HMR (CDCI) 6) +1.25 (3H, t, J=7Hz).

3′ 2.20(3H,t、J=6.5Hz)、 2.33(2H,m)、 4.14 (2H,q、J=7Hz)、 4.25 (2H,t、J=6.5Hz)、 7 ゜25−7.44 (3H,m)、 7.92 (IH,s)、 8.21−8 .3(IH,m) 製造例32 製造例30と同様にして目的化合物を得、精製することなく次の反応に用いる。3′ 2.20 (3H, t, J=6.5Hz), 2.33 (2H, m), 4.14 (2H, q, J=7Hz), 4.25 (2H, t, J=6.5Hz), 7 ゜25-7.44 (3H, m), 7.92 (IH, s), 8.21-8 .. 3 (IH, m) Production example 32 The target compound was obtained in the same manner as in Production Example 30 and used in the next reaction without purification.

製造例33 製造例5と同様にして目的化合物を得る。Production example 33 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 5.

mp : 124.5−125℃ IR(Nujol) : 2500. 1680. 1660. 1535cm  ’ NMR(DMSO−d δ) : 5. 60 (2H,s)、 7. 16− 6′ 7.30 (4H,m)、 7.5 (LH,m)、 7.75 (IH,m) 。mp: 124.5-125℃ IR (Nujol): 2500. 1680. 1660. 1535cm ’ NMR (DMSO-d δ): 5. 60 (2H, s), 7. 16- 6' 7.30 (4H, m), 7.5 (LH, m), 7.75 (IH, m) .

8.05(LH,m)、 8.24(IH,s)、 8.53(LH,m)。8.05 (LH, m), 8.24 (IH, s), 8.53 (LH, m).

12.07 (IH,m) 元素分析:計算値 : C68,95,H5,01,NIo、72(0゜5H2 0として) 実測値 : C69,43,H5,02,N10.39製造例34 出発化合物(6,1g)のアセトンと水の混合溶媒(1: 1. 100m1) 中溶液に、アセトン(50ml)に溶解したジーt−プチルジカルボナート(2 1,8g)を水冷下に加える。得られた溶液を室温で3時間撹拌する。アセトン を留去し、残渣を塩化メチレンで2回抽出する。抽出液を合わせ、0.5N塩酸 および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、目 的化合物(16,7g)を油状物として得る。12.07 (IH, m) Elemental analysis: Calculated values: C68,95, H5,01, NIo, 72 (0°5H2 (as 0) Actual measurements: C69,43, H5,02, N10.39 Production example 34 Starting compound (6.1g) in a mixed solvent of acetone and water (1:1.100ml) Into the medium solution, di-t-butyl dicarbonate (2 1.8 g) was added under water cooling. The resulting solution is stirred at room temperature for 3 hours. acetone is distilled off and the residue is extracted twice with methylene chloride. Combine the extracts and add 0.5N hydrochloric acid. and brine, and dried over magnesium sulfate. Distill the solvent and remove the The compound (16.7 g) is obtained as an oil.

IR(F目m) : 3370. 1690. 1525 cm ’NMR(C DCI δ) : 1.45(9H,s)、 3.283゛ (2H,t、J=5Hz)、 a、69 (2H,t、J=5Hz)製造例35 出発化合物(16,7g)およびトリエチルアミン(12,63g)の塩化メチ レン(140ml)溶液にメタンスルホニルクロリド(12,6g)を−20℃ で20分間で加える。得られた混合物を0℃で1時間撹拌する。溶液を水、0. 5N塩酸および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去 して目的化合物(22,34g)を油状物として得る。目的化合物を分解を防ぐ ため冷凍庫に入れる。IR (Fth m): 3370. 1690. 1525 cm’NMR (C DCI δ): 1.45 (9H, s), 3.283゛ (2H, t, J=5Hz), a, 69 (2H, t, J=5Hz) Production example 35 Methyl chloride of the starting compound (16,7 g) and triethylamine (12,63 g) Methanesulfonyl chloride (12.6 g) was added to a solution of (140 ml) at -20°C. Add in 20 minutes. The resulting mixture is stirred at 0° C. for 1 hour. The solution was diluted with water, 0. Wash sequentially with 5N hydrochloric acid and brine, and dry over magnesium sulfate. Distill the solvent The desired compound (22.34 g) was obtained as an oil. Prevents target compound from decomposition Put it in the freezer.

IR(Film) : 3410. 1700. 1520. 1350゜m− m −1N (CDCl δ) : 1.45C9H,s)、 3.153・ (3H,s)、 3. 46 (2H,m)、 9. 29 (2H,t、J= 5゜2Hz)、 4. 93 (IH,s、br)製造例36 製造例28と同様にして目的化合物を得、精製することなく次の反応に用いる。IR (Film): 3410. 1700. 1520. 1350゜m- m -1N (CDCl δ): 1.45C9H,s), 3.153・ (3H,s), 3. 46 (2H, m), 9. 29 (2H, t, J= 5°2Hz), 4. 93 (IH, s, br) Production example 36 The target compound was obtained in the same manner as in Production Example 28 and used in the next reaction without purification.

製造例37 製造例29と同様にして目的化合物を得る。Production example 37 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 29.

mp : 185−186.5℃(dec、)IR(Nujol) : 345 0. 1680. 1650 cm−1HMR(DMSO−d δ) : 1. 31(9H,s)、 3.326゜ (2H,m)、 4. 27 (2H,t、J=6Hz)、 6. 97 (I H,t。mp: 185-186.5℃ (dec,) IR (Nujol): 345 0. 1680. 1650 cm-1HMR (DMSO-d δ): 1. 31 (9H, s), 3.326° (2H, m), 4. 27 (2H, t, J=6Hz), 6. 97 (I H,t.

J=5. 5Hz)、 7. 2 (2H,m)、 7. 55−7. 6 ( IH,m)。J=5. 5Hz), 7. 2 (2H, m), 7. 55-7. 6 ( IH, m).

7.99(IH,s)、 8.0(IH,m)、 11.94(IH,s)元素 分析:計算値 : C63,14,H6,62,N9.20実測値 : C61 ,68,H6,70,N8.93製造例38 製造例13と同様にして目的化合物を得る。7.99 (IH, s), 8.0 (IH, m), 11.94 (IH, s) element Analysis: Calculated value: C63,14, H6,62, N9.20 Actual value: C61 , 68, H6, 70, N8.93 Production example 38 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 13.

夏R(C)(CI ン : 3320. 1740. 1700. 1650゜ 1500、1450 am ’ NMR(DMSO−d 6) : 1.1−1.3(12H,m)。Summer R (C) (CI): 3320. 1740. 1700. 1650° 1500, 1450 am NMR (DMSO-d6): 1.1-1.3 (12H, m).

6′ 2、 85−3. 15 (2H,m)、 3. 9−4. 9 (7H,m) 、 7. 15−7. 9 (13H,m) MASS : M” 490 製造例39 製造例15と同様にして目的化合物を得る。6' 2, 85-3. 15 (2H, m), 3. 9-4. 9 (7H, m) , 7. 15-7. 9 (13H, m) MASS: M" 490 Production example 39 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 15.

IR(CHCI ) : 3400. 1745. 1665. 1605゜1 490、1470. 1455 cm ’NMR(DMSO−d δ) : 1 .18 (3H,t、J=7゜CI IHz)、 3.2−3.45 (2H,m)、 3.65−4.85 (7H 。IR (CHCI): 3400. 1745. 1665. 1605゜1 490, 1470. 1455 cm NMR (DMSO-d δ): 1 .. 18 (3H, t, J=7゜CI IHz), 3.2-3.45 (2H, m), 3.65-4.85 (7H .

m)、 7. 1−8. 0 (12H,m)、 8. 51 (3H,br  s)製造例4゜ 製造例17と同様にして目的化合物を得る。m), 7. 1-8. 0 (12H, m), 8. 51 (3H,br s) Production example 4゜ The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 17.

NMR(DMSO−d δ) : 1.0−1.15 (9H,m)。NMR (DMSO-d δ): 1.0-1.15 (9H, m).

6′ 1.3−1.4(3H,m)、 1.5−1.7(IH,m)、 1.8−2゜ 0 (LH,m)、2.9−3.4 (4H,m)、 3.95−5.1(IO H,m)、 6. 9−8. 0 (12H,m)、 8. 4−8. 6 ( IH。6' 1.3-1.4 (3H, m), 1.5-1.7 (IH, m), 1.8-2° 0 (LH, m), 2.9-3.4 (4H, m), 3.95-5.1 (IO H, m), 6. 9-8. 0 (12H, m), 8. 4-8. 6 ( IH.

m) 製造例41 出発化合物(4,9g)、ブロモ酢酸エチル(1,69g)、セチルトリメチル アンモニウムクロリド(0,32g)および粉末水酸化ナトリウム(1゜84g )の塩化メチレン(100ml)中温合物を室温で3日間撹拌する。混合物を粉 末セルロースのパッドで濾過する。濾液を濃縮し、水で稀釈し、酢酸エチルで抽 出する。分取した有機層を炭酸水素ナトリウム溶液、IN塩酸、水および食塩水 で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、クロロホルムとメ タノールの混液(50:1)を溶出液とするシリカゲルカラム(150g)で残 渣を精製して、目的化合物(2,89g)を無定形固体として得る。m) Production example 41 Starting compound (4.9 g), ethyl bromoacetate (1.69 g), cetyltrimethyl Ammonium chloride (0.32g) and powdered sodium hydroxide (1°84g) ) in methylene chloride (100 ml) was stirred at room temperature for 3 days. powder mixture Filter through a pad of cellulose. Concentrate the filtrate, dilute with water and extract with ethyl acetate. put out The separated organic layer was added to sodium bicarbonate solution, IN hydrochloric acid, water and brine. and dry with magnesium sulfate. Distill the solvent, add chloroform and The residue was purified using a silica gel column (150 g) using a mixture of tanol (50:1) as the eluent. The residue was purified to obtain the target compound (2.89 g) as an amorphous solid.

NMR(DMSO−d δ) : 1.15−1.25 (9H,m)。NMR (DMSO-d δ): 1.15-1.25 (9H, m).

6′ 1.29 (3H,s)、 1.6−1.8(IH,m)、 2.05−2.3 (IH,m)、 2.7−3.25 (5H,m)、 3.4−3.5 (2H 。6' 1.29 (3H, s), 1.6-1.8 (IH, m), 2.05-2.3 (IH, m), 2.7-3.25 (5H, m), 3.4-3.5 (2H .

m)、、4.0−5.2 (9H,m)、 6.85−7.9 (12H,m) 、。m), 4.0-5.2 (9H, m), 6.85-7.9 (12H, m) ,.

8.4−8.5 (IH,m) MASS + M+ 617 製造例42 製造例19と同様にして目的化合物を得る。8.4-8.5 (IH, m) MASS + M+ 617 Production example 42 The target compound is obtained in the same manner as in Production Example 19.

NMR(DMSO−d δ) : 1.17 (3H,t、J=7゜6゜ 15Hz)、1. 7−1. 9 (IH,m)、2. 15−2. 35 ( IH,m)。NMR (DMSO-d δ): 1.17 (3H, t, J = 7゜6゜ 15Hz), 1. 7-1. 9 (IH, m), 2. 15-2. 35 ( IH, m).

2、 95−3. 4 (4H,m)、4. 0−5. 2 (IOH,m)、 7. 0−8゜0 (12H,m)、8. 57 (IH,br−s)、9.  25−9. 4 (IH。2, 95-3. 4 (4H, m), 4. 0-5. 2 (IOH, m), 7. 0-8゜0 (12H, m), 8. 57 (IH, br-s), 9.  25-9. 4 (IH.

m)、9.81 (IH,br−s) NMR(DMSO−d δ) :L 21 (3H,t、J=7゜6゜ IHz)、1. 7−1. 95 (IH,m)、2. 45−2. 65 ( IH,m)。m), 9.81 (IH, br-s) NMR (DMSO-d δ): L 21 (3H, t, J = 7゜6゜ IHz), 1. 7-1. 95 (IH, m), 2. 45-2. 65 ( IH, m).

2.77および2.85 (3H,s)、 3.0−3.45 (4H,m)、  4゜05−5.2 (9H,m)、6.85−7.95 (12H,m)、8 .7(LH,br−s、9. 2−9. 3 (IH,m) 、10. 25  (IH,br −実施例1 1−メチルインドール−3−カルボン酸(0,47g)、出発化合物(1゜35 g)およびHOBT (0,36g)の塩化メチレン(25ml)溶液に、WS C(0,49m1)を水冷下に加える。溶液を同温度で1時間、室温で一夜撹拌 する。溶媒を留去し、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、分取した有機層を炭酸 水素ナトリウム水溶液、水、0.5N塩酸、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣をクロロホルムとメタノールの混 液(30:1)を溶出液とするシリカゲルカラム(50g>で精製する。目的化 合物を含む両分を合わせ、溶媒を留去して、目的化合物(1,15g)を無定形 固体として得る。2.77 and 2.85 (3H, s), 3.0-3.45 (4H, m), 4゜05-5.2 (9H, m), 6.85-7.95 (12H, m), 8 .. 7 (LH, br-s, 9. 2-9. 3 (IH, m), 10. 25 (IH, br - Example 1 1-methylindole-3-carboxylic acid (0.47 g), starting compound (1°35 g) and HOBT (0.36 g) in methylene chloride (25 ml), add WS C (0.49 ml) is added under water cooling. Stir the solution at the same temperature for 1 hour and at room temperature overnight. do. The solvent was distilled off, the reaction mixture was extracted with ethyl acetate, and the separated organic layer was diluted with carbonate. Wash sequentially with sodium hydrogen aqueous solution, water, 0.5N hydrochloric acid, water and saline, and wash with sulfuric acid. Dry with magnesium. The solvent was distilled off and the residue was dissolved in a mixture of chloroform and methanol. Purify with a silica gel column (50 g) using liquid (30:1) as eluent. Purification The two parts containing the compound were combined, the solvent was distilled off, and the target compound (1.15 g) was amorphous. Obtained as a solid.

NMR(DMSO−d δ) + 1.7−1.9 (IH,m)、 1゜6゜ 9−2. 1 (IH,m)、 2. 72 および 2. 82 (3H,s )、 2゜95−3.3 (2H,m)、 3.6−4.0 (2H,m)、  3.85(3H,s)、4.2−5.15 (6H,m)、 6.9−8.1  (16H。NMR (DMSO-d δ) + 1.7-1.9 (IH, m), 1°6° 9-2. 1 (IH, m), 2. 72 and 2. 82 (3H,s ), 2゜95-3.3 (2H, m), 3.6-4.0 (2H, m), 3.85 (3H, s), 4.2-5.15 (6H, m), 6.9-8.1 (16H.

m)、 8.45−8.6 (IH,m)実施例2 実施例1と同様にして目的化合物を得る。m), 8.45-8.6 (IH, m) Example 2 The target compound is obtained in the same manner as in Example 1.

(1) mp : 126℃−(dec、)IR(Nujol) : 3420 . 3270. 1660. 1630゜1605、 1535. 1320.  1245 cm ”NMR(DMSO−d δ) : 1. 7−1. 9  (IH,m)、 1゜6゜ 9−2. 1 (IH,m)、 2.46 (3H,s)、2.70 および  2゜78 (3H,s)、 2.9−3.25 (2H,m)、 3.6−3. 75(2H,m)、 3.85 (3H,s)、 4.2−5.15 (6H, m)。(1) mp: 126℃-(dec,)IR (Nujol): 3420 .. 3270. 1660. 1630゜1605, 1535. 1320. 1245 cm”NMR (DMSO-d δ): 1. 7-1. 9 (IH, m), 1゜6゜ 9-2. 1 (IH, m), 2.46 (3H, s), 2.70 and 2°78 (3H, s), 2.9-3.25 (2H, m), 3.6-3. 75 (2H, m), 3.85 (3H, s), 4.2-5.15 (6H, m).

6、 85−8. 1 (16H,m)、 8. 4−8. 55 (IH,m )NMR(DMSO−d δ):2.78 および 2. 86 (3H。6, 85-8. 1 (16H, m), 8. 4-8. 55 (IH, m ) NMR (DMSO-d δ): 2.78 and 2. 86 (3H.

6′ s)、 2.95−3.30 (2H,m)、 3.83 (3H,s)、 3 ゜85−3. 95 (2H,m)、 4. 20−5. 25 (3H,m) 、 6. 85−8. 20 (18H,m) 、 8. 40−8. 60  (LH,m)(3) IR(Nujol) : 3275. 1635. 15 48゜740cm’ NMR(DMSO−d δ) + 1. 89. 1. 94 (3H,s)。6′ s), 2.95-3.30 (2H, m), 3.83 (3H, s), 3 ゜85-3. 95 (2H, m), 4. 20-5. 25 (3H, m) , 6. 85-8. 20 (18H, m), 8. 40-8. 60  (LH, m) (3) IR (Nujol): 3275. 1635. 15 48°740cm’ NMR (DMSO-d δ) + 1. 89. 1. 94 (3H, s).

6′ 1.50−2.00 (2H,m)、 2.20−2.45 (2H,m)。6' 1.50-2.00 (2H, m), 2.20-2.45 (2H, m).

2.81. 2.94 (3H,s)、 2.90−3.30 (2H,m)。2.81. 2.94 (3H, s), 2.90-3.30 (2H, m).

3、 82 (3H,s)、 4. 30−4. 85 (3H,m)、 4.  95−5゜25 (LH,m)、 6. 90−7. 90 (16H,m) 、 8. 12 (IH。3, 82 (3H, s), 4. 30-4. 85 (3H, m), 4. 95-5゜25 (LH, m), 6. 90-7. 90 (16H, m) , 8. 12 (IH.

s)、8. 14 (IH,d、J=7.70Hz)、8. 52. 8.65 (IH,d、J=8.18Hz および 8.60Hz)(4) mp : 1 58−160℃ IR(Nujol) : 3550. 3300. 1690. 1675゜1 595、 1530. 1240 cm ’NMR(DMSO−d δ) :  1.8−2.0 (2H,m)、2゜6゜ 1−2.3 (2H,m)、2. 75 および 2.84 (3H,m) 、 2゜9−3. 3 (2H,m) 、 3.84 (3H,s)、 4. 05 −5. 2(4H,m)、6. 75−8. 6 (19H,m)(5) mp  : 108−113℃ IR(Nujol) : 3460. 3330. 1625. 1540゜1 240 cm ” NMR(DMSO−d δ)+2.73 および 2. 84 (3H。s), 8. 14 (IH, d, J=7.70Hz), 8. 52. 8.65 (IH, d, J = 8.18Hz and 8.60Hz) (4) mp: 1 58-160℃ IR (Nujol): 3550. 3300. 1690. 1675゜1 595, 1530. 1240 cm’NMR (DMSO-d δ): 1.8-2.0 (2H, m), 2゜6゜ 1-2.3 (2H, m), 2. 75 and 2.84 (3H, m), 2゜9-3. 3 (2H, m), 3.84 (3H, s), 4. 05 -5. 2 (4H, m), 6. 75-8. 6 (19H, m) (5) mp : 108-113℃ IR (Nujol): 3460. 3330. 1625. 1540゜1 240cm” NMR(DMSO-d δ)+2.73 and 2. 84 (3H.

6゜ s)、2.95−3.3 (2H,m)、3.6−3.75 (2H,m)。6゜ s), 2.95-3.3 (2H, m), 3.6-3.75 (2H, m).

3、85 (3H,s)、4.25−5.25 (5H,m)、6.85−8゜ 5 (19H,m) NMR(DMSO−d δン : 1. 8−2. 0 (2H,m)、 2゜ 6゜ 01 (3H,s)、 2. 4−2. 55 (2H,m)、 2. 75  および2、85 (3H9s) 、3.0−3.3 (2H,m) 、3.84  (3H。3, 85 (3H, s), 4.25-5.25 (5H, m), 6.85-8° 5 (19H, m) NMR (DMSO-d δn: 1. 8-2. 0 (2H, m), 2゜ 6゜ 01 (3H, s), 2. 4-2. 55 (2H, m), 2. 75 and 2, 85 (3H9s), 3.0-3.3 (2H, m), 3.84 (3H.

s)、4.3−5.2 (4H,m)、6.9−8.5 (19H,m)NMR (DMSO−d δ) : 1.2−1.75 (6H,m) 。s), 4.3-5.2 (4H, m), 6.9-8.5 (19H, m) NMR (DMSO-d δ): 1.2-1.75 (6H, m).

6゜ 1、 62 (91イ、s)、 2.74 および 2. 84 (3H,s) 、 2. 9−3.3(4H,m)、3.84(3H,s)、4.35−5.2 (4H。6゜ 1, 62 (91 I, s), 2.74 and 2. 84 (3H, s) , 2. 9-3.3 (4H, m), 3.84 (3H, s), 4.35-5.2 (4H.

m)、6.7−8.5 (20H,m)実施例3 ジフェニル酢酸(424,5g)とHOBT (270mg)との塩化メチレン (15ml)中懸濁液に、WSC・塩酸塩(382mg)を室温で加える。溶液 を同温度で1時間撹拌する。溶液に出発化合物(1,09g)とTEA (0゜ 41g)を加え、溶液を室温で一夜撹拌する。溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチル で抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、0.5N塩酸および食 塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶液を濃縮し、残渣をジエチ ルエーテルから結晶化させ、濾取して目的化合物(1,12g)を得る。m), 6.7-8.5 (20H, m) Example 3 Diphenylacetic acid (424.5g) and HOBT (270mg) in methylene chloride WSC hydrochloride (382 mg) was added to the suspension in (15 ml) at room temperature. solution Stir at the same temperature for 1 hour. Starting compound (1,09g) and TEA (0° 41 g) is added and the solution is stirred at room temperature overnight. Concentrate the solution and dissolve the residue in ethyl acetate. The organic layer was extracted with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, 0.5N hydrochloric acid and food. Wash sequentially with brine and dry with magnesium sulfate. Concentrate the solution and diethify the residue. The desired compound (1.12 g) was obtained by crystallization from ether and filtered.

mp : 200−202℃ IR(Nujol) : 3400. 1695. 1645. 1630゜1 530 cm ” NMR(DMSO−Ld δ) : 1. 7−2. 2 (2H,m)、 2 ゜6′ 77 および 2. 85 (3H,s)、3.0−3. 3 (2H,m)、 3゜3−3. 6(2H,m)、 4. 2−4. 6(4H,m)、 4.  9−5. 3(2H,m)、 6.7−7.9 (23H,m)、 8.48  (d、J=8Hz) および 8. 97 (IHlm)実施例4 実施例3と同様にして目的化合物を得る。mp: 200-202℃ IR (Nujol): 3400. 1695. 1645. 1630゜1 530cm” NMR (DMSO-Ld δ): 1. 7-2. 2 (2H, m), 2 ゜6' 77 and 2. 85 (3H, s), 3.0-3. 3 (2H, m), 3゜3-3. 6 (2H, m), 4. 2-4. 6 (4H, m), 4.  9-5. 3 (2H, m), 6.7-7.9 (23H, m), 8.48 (d, J=8Hz) and 8. 97 (IHlm) Example 4 The target compound is obtained in the same manner as in Example 3.

(1) mp : 197.0−200.5℃IR(Nujol) + 340 0. 3310. 3130. 1678゜1643、 1578. 1530 . 745 cm−1HMR(DMSO−d δ) : 1. 60−2. 2 5 (2H,m) 。(1) mp: 197.0-200.5℃ IR (Nujol) + 340 0. 3310. 3130. 1678°1643, 1578. 1530 .. 745 cm-1HMR (DMSO-d δ): 1. 60-2. 2 5 (2H, m).

6′ 2.57. 2.73. 2.82 (3H,s)、 2.90−3.45(2 H,m)、 3.75. 3.82 (3H,s)、 3. 50−3. 95 (2H,m)、 3.95−5.25 (8H,rn)、 6.55−8.00 (16H,m)、 8.50−8.75 (IH,m)(2) mp : 98  ℃−(dec、)IR(Nujol) : 3430−3220. 1630 . 1600゜1530cm’ NMR(DMSO−d δ) : 1.6−2.1 (6H,m)、2゜6′ 4−3.3 (IIH,m)、3.6−4.0 (2H,m)、4.2−5゜2 (8H,m)、6.8−8.15 (17H,m)、8.45−8.75HMR (DMSO−d δ) + 1.75−1.9 (IH,m) 。6' 2.57. 2.73. 2.82 (3H, s), 2.90-3.45 (2 H, m), 3.75. 3.82 (3H, s), 3. 50-3. 95 (2H, m), 3.95-5.25 (8H, rn), 6.55-8.00 (16H, m), 8.50-8.75 (IH, m) (2) mp: 98 ℃-(dec,)IR (Nujol): 3430-3220. 1630 .. 1600゜1530cm' NMR (DMSO-d δ): 1.6-2.1 (6H, m), 2゜6' 4-3.3 (IIH, m), 3.6-4.0 (2H, m), 4.2-5゜2 (8H, m), 6.8-8.15 (17H, m), 8.45-8.75HMR (DMSO-d δ) + 1.75-1.9 (IH, m).

1、9−2.1 (IH,m)、2. 19(6H,s)、2.6−2.75( 4H,m)、2.80 (3H,s)、3.0−3.3 (2H,m)。1, 9-2.1 (IH, m), 2. 19 (6H, s), 2.6-2.75 ( 4H, m), 2.80 (3H, s), 3.0-3.3 (2H, m).

3、6−4.05 (2H,m)、4.25−5.20 (6H,m)、6゜8 5−8.1 (17H,m)、8.5−8.65 (IH,m)実施例5 インドリン(238mg)の塩化メチレン(8ml)溶液にクロロギ酸トリクロ ロメチル(0,12m1)を水冷下に加える。混合物を室温で1時間撹拌し、ピ リジン(0,16m1)を加え、混合物をさらに1時間撹拌し、氷冷する。出発 化合物(818mg)とTEA (0,21m1)を同温度で加え、室温で5時 間かけてTEA (0,10m1)を混合物に撹拌しながら加える。溶媒を留去 し、残渣を酢酸エチルで抽出し、分取した有機層を炭酸水素ナトリウム溶液、0 .5N塩酸、食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し 、残渣をクロロホルム−メタノール(2%)を溶出液とするシリカゲルカラムク ロマトグラフィー(20g)に付して、目的化合物(480mg)を無定形固体 として得る。3, 6-4.05 (2H, m), 4.25-5.20 (6H, m), 6°8 5-8.1 (17H, m), 8.5-8.65 (IH, m) Example 5 Trichlorochloroformate was added to a solution of indoline (238 mg) in methylene chloride (8 ml). Lomethyl (0.12 ml) is added under water cooling. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour and then pipetted. Lysine (0.16 ml) is added and the mixture is stirred for a further hour and cooled on ice. departure Add the compound (818 mg) and TEA (0.21 ml) at the same temperature, and leave at room temperature for 5 hours. Over time, add TEA (0.10 ml) to the mixture with stirring. Distill the solvent The residue was extracted with ethyl acetate, and the separated organic layer was dissolved in sodium hydrogen carbonate solution, 0. .. Wash sequentially with 5N hydrochloric acid and brine, and dry with magnesium sulfate. distill off the solvent , the residue was filtered into a silica gel column using chloroform-methanol (2%) as the eluent. The target compound (480 mg) was purified as an amorphous solid by chromatography (20 g). get as.

IR(Nujol) : 3400. 3300. 1640. 1630゜m −m −1N (DMSO−d δ) : 1.6−1.85 (IH,m) 。IR (Nujol): 3400. 3300. 1640. 1630゜m -m -1N (DMSO-d δ): 1.6-1.85 (IH, m).

6′ 1、 95−2. 2 (IH,m)、 2. 71 および 2. 80 ( 3H,s) 。6′ 1, 95-2. 2 (IH, m), 2. 71 and 2. 80 ( 3H,s).

2、9−4.0 (8H,m) 、4.2−4.7 (4H,m) 、4.9− 5.2(2H,m)、 6.8−7.9(16H,m)、 8.4(IH,m) MASS : M+ 576 実施例6 出発化合物1 (1,0g)をDMF (20ml)中に懸濁させる。懸濁液を =15℃に冷却し、4NHC1/DOX (1,53m1)を加える。得られた 溶液に、t−ブチルニトリル(0,35m1)を同温度で加え、溶液を20分間 撹拌し、TEA (0,86m1)を加える。別の反応容器に出発化合物11( 0゜99g)とTEA (0,43m1)とのDMF (10ml)溶液を調製 する。この溶液を前者の反応混合物に一20℃で加え、溶液を一10℃で1時間 、0℃で3時間撹拌する。反応混合液を水(150ml)に注ぎ、炭酸水素ナト リウム溶液でpH8に調整する。生成物を酢酸エチルで抽出し、分取した有機層 を炭酸水素ナトリウムおよび食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶 媒を留去し、残渣をクロロホルム−メタノール(30+1〜20:1)を溶出液 とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、目的化合物(1,41g )を得る。2, 9-4.0 (8H, m), 4.2-4.7 (4H, m), 4.9- 5.2 (2H, m), 6.8-7.9 (16H, m), 8.4 (IH, m) MASS: M+ 576 Example 6 Starting compound 1 (1.0 g) is suspended in DMF (20 ml). suspension Cool to =15°C and add 4N HCl/DOX (1,53 ml). obtained Add t-butylnitrile (0.35ml) to the solution at the same temperature, and leave the solution for 20 minutes. Stir and add TEA (0.86 ml). In a separate reaction vessel, starting compound 11 ( Prepare a DMF (10ml) solution of TEA (0.99g) and TEA (0.43ml). do. This solution was added to the former reaction mixture at -20°C and the solution was heated at -10°C for 1 hour. , stir at 0° C. for 3 hours. The reaction mixture was poured into water (150 ml) and diluted with sodium bicarbonate. Adjust the pH to 8 with sodium chloride solution. Extract the product with ethyl acetate and separate the organic layer Wash with sodium bicarbonate and brine and dry with magnesium sulfate. melt The medium was distilled off, and the residue was eluted with chloroform-methanol (30+1 to 20:1). The target compound (1.41g) was subjected to silica gel column chromatography. ).

NMR(DMSO−d δ):2.74 および 2. 81 (3H。NMR (DMSO-d δ): 2.74 and 2. 81 (3H.

s)、 2.85−3.25(4H,m)、 3.84(3H,s)、 4.2 −5. 2 (4H,m)、 6.8−8.5 (21H,m)、 11.79 (IH,br s) 実施例7 出発化合物(1,0g)とTEA (0,59m1)の塩化メチレン(20ml )溶液に、インドール−3−カルボニルクロリド(0,41g)を水冷下に加え る。溶液を同温度で3時間、室温で一夜撹拌する。溶媒を留去し、反応混合物を 酢酸エチルで抽出し、分取した有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、0.5 N塩酸、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留 去し、残渣をクロロホルムとメタノールの混液(30:1)を溶出液とするシリ カゲルカラム(65g)に付す。目的混合物を含む両分を合わせ、溶媒を留去し て、目的化合物(1,0g)を無定形固体として得る。s), 2.85-3.25 (4H, m), 3.84 (3H, s), 4.2 -5. 2 (4H, m), 6.8-8.5 (21H, m), 11.79 (IH, br s) Example 7 Starting compound (1,0 g) and TEA (0,59 ml) in methylene chloride (20 ml) ) Add indole-3-carbonyl chloride (0.41 g) to the solution under water cooling. Ru. The solution is stirred at the same temperature for 3 hours and at room temperature overnight. The solvent was distilled off and the reaction mixture Extract with ethyl acetate, and add the separated organic layer to an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water, 0.5 Wash sequentially with N-hydrochloric acid, water and brine, and dry over magnesium sulfate. Retain the solvent The residue was purified using silica using a mixture of chloroform and methanol (30:1) as the eluent. Apply to Kagel column (65g). Combine both parts containing the target mixture and distill off the solvent. The target compound (1.0 g) was obtained as an amorphous solid.

IR(CHCI ) : 3350−3250. 1640 cm ’NMR( DMSO−d δ):2.76 および 2. 86 (3H。IR (CHCI): 3350-3250. 1640cm’NMR ( DMSO-d δ): 2.76 and 2. 86 (3H.

6゛ s) 、 2. 95−3. 3 (4H,m) 、3. 80 および 3. 83(3H,s)、 4. 3−4. 75 (3H,m)、 5. 0−5.  25 (3H。6゛ s), 2. 95-3. 3 (4H, m), 3. 80 and 3. 83 (3H, s), 4. 3-4. 75 (3H, m), 5. 0-5. 25 (3H.

m)、 6. 9−8. 0 (17H,m)、 8. 65−8. 75 ( IH,m)実施例8 出発化合物(0,86g)の塩化メチレン(18ml)溶液に、4N塩酸/酢酸 エチル(16ml)を水冷下に加える。溶液を同温度で30分間撹拌する。氷浴 を除去し、溶液を室温で1時間撹拌する。溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテ ルで粉砕し、濾取し、水酸化ナトリウムで減圧乾燥して、組物質(0゜87g) を得る。この物質を炭酸水素ナトリウム溶液と塩化メチレン溶液に分配する。分 取した有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣 を塩化メチレン(5ml)に溶解し、4NHCl/DOX (0゜153m1) を加える。溶媒を留去し、残渣を減圧乾燥して、目的化合物(0゜36g)を無 定形固体として得る。m), 6. 9-8. 0 (17H, m), 8. 65-8. 75 ( IH, m) Example 8 To a solution of the starting compound (0.86 g) in methylene chloride (18 ml) was added 4N hydrochloric acid/acetic acid. Add ethyl (16 ml) under water cooling. The solution is stirred for 30 minutes at the same temperature. ice bath is removed and the solution is stirred at room temperature for 1 hour. The solvent was distilled off and the residue was diluted with diethyl ether. Grind with a filter, collect by filtration, and dry under reduced pressure with sodium hydroxide. get. This material is partitioned between a sodium bicarbonate solution and a methylene chloride solution. minutes The separated organic layer is washed with water and dried over magnesium sulfate. Distill the solvent and remove the residue Dissolve in methylene chloride (5 ml) and add 4N HCl/DOX (0°153 ml) Add. The solvent was distilled off and the residue was dried under reduced pressure to remove the target compound (0.36 g). Obtained as a shaped solid.

NMR(DMSO−d δ) : 1. 1−1. 8 (6H,m)、 2゜ 6′ 65−3. 3 (4H,m) 、 2.74 および 2.84 (3H,s ) 。NMR (DMSO-d δ): 1. 1-1. 8 (6H, m), 2゜ 6' 65-3. 3 (4H, m), 2.74 and 2.84 (3H, s ).

3.84 (3H,s)、 4.3−5.2(4H,m)、 6.9−8.5( 22H,m) 実施例9 出発化合物(0,50g)をTHF (loml)に溶解し、4NHC1/DO X (0,39m1)を室温で加える。塩化メチレン(10ml)を加え、溶液 を30分間撹拌する。溶媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで粉砕し、 濾取し、乾燥して、目的化合物(0,53g)を無定形固体として得る。3.84 (3H, s), 4.3-5.2 (4H, m), 6.9-8.5 ( 22H, m) Example 9 The starting compound (0.50 g) was dissolved in THF (loml) and 4N HCl/DO Add X (0.39 ml) at room temperature. Add methylene chloride (10 ml) to the solution. Stir for 30 minutes. The solvent was distilled off, the residue was triturated with diisopropyl ether, It is filtered and dried to obtain the target compound (0.53 g) as an amorphous solid.

NMR(DMSO−d δ) : 1.75−2.15 (2H,m)。NMR (DMSO-d δ): 1.75-2.15 (2H, m).

6゜ 2、 7−3. 35(IIH,m)、 3. 45−4. 2(5H,m)、  4. 3−5.2 (7H,m)、 6. 85−8. 15 (17H,m )、 8. 5−8゜65 (LH,m) 実施例10 出発化合物(1,73g)の塩化メチレン(25ml)溶液にトリエチルアミン (0,707g)とトリメチルアセチルクロリド(0,844g)とを水冷下に 加え、得られた溶液を同温度で15分間撹拌する。溶液をトリフルオロ酢酸アミ ン(3,82g)とトリエチルアミン(0,707g)との塩化メチレン(35 ml)中温合物に水冷下に加える。混合物を同温度で1時間、室温で一夜撹拌す る。トリエチルアミン(0,35m1)を混合物に加え、溶液をさらに6時間撹 拌する。反応混合物を水、稀炭酸水素ナトリウム溶液、0.5N塩酸および食塩 水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣をクロロホ ルムとメタノールの混液(98:8〜96.5:3.5)を溶出液とするシリカ ゲルカラム(80g)に付して、目的化合物(2,70g)を無定形固体として 得る。6゜ 2, 7-3. 35 (IIH, m), 3. 45-4. 2 (5H, m), 4. 3-5.2 (7H, m), 6. 85-8. 15 (17H, m ), 8. 5-8゜65 (LH, m) Example 10 Triethylamine was added to a solution of the starting compound (1.73 g) in methylene chloride (25 ml). (0,707g) and trimethylacetyl chloride (0,844g) under water cooling. and stir the resulting solution for 15 minutes at the same temperature. Add solution to trifluoroacetic acid (3,82 g) and triethylamine (0,707 g) in methylene chloride (35 g). ml) to the medium-hot mixture while cooling with water. The mixture was stirred at the same temperature for 1 hour and at room temperature overnight. Ru. Triethylamine (0.35 ml) was added to the mixture and the solution was stirred for a further 6 hours. Stir. The reaction mixture was mixed with water, dilute sodium bicarbonate solution, 0.5N hydrochloric acid and salt. Wash sequentially with water and dry with magnesium sulfate. The solvent was distilled off and the residue silica using a mixture of lume and methanol (98:8 to 96.5:3.5) as the eluent. Apply the target compound (2.70 g) to a gel column (80 g) as an amorphous solid. obtain.

NMR(DMSO−d δ)=1.22 (3H,t、J=7Hz)。NMR (DMSO-d δ) = 1.22 (3H, t, J = 7Hz).

6′ 1、 7−2. 1 (2H,m)、 2. 72 および 2.81 (3H ,s)。6' 1, 7-2. 1 (2H, m), 2. 72 and 2.81 (3H ,s).

3、 0−3.2 (2H,m)、 3. 6−4. 0 (2H,m)、 4 . 17(2H,q、J=7Hz)、 4. 2−4. 6 (3H,m)、  4. 7 (IH。3, 0-3.2 (2H, m), 3. 6-4. 0 (2H, m), 4 .. 17 (2H, q, J=7Hz), 4. 2-4. 6 (3H, m), 4. 7 (IH.

m)、 5.0−5.25(3H,m)、 5.23(2H,s)、 6.8− 8、 1 (17H,m)、 8. 56 (IH,m)実施例11 出発化合物(2,70g)のエタノール(50ml)溶液に、IN水酸化ナトリ ウム(4,1m1)とエタノール(5ml)の混合物を室温で滴下する。混合物 を1.5時間撹拌する。エタノールを留去し、残渣を水で稀釈し、ジエチルエー テルで1回抽出する。分取した有機層を水層をIN塩酸でpH1に調整し、塩化 メチレンで2回抽出する。抽出液と前記有機層を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸 マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、目的化合物(2,20g)を無定形 固体として得る。m), 5.0-5.25 (3H, m), 5.23 (2H, s), 6.8- 8, 1 (17H, m), 8. 56 (IH, m) Example 11 A solution of the starting compound (2.70 g) in ethanol (50 ml) was added with IN sodium hydroxide. A mixture of ethanol (4.1 ml) and ethanol (5 ml) is added dropwise at room temperature. blend Stir for 1.5 hours. The ethanol was distilled off, the residue was diluted with water, and the residue was diluted with diethyl ether. Extract once with tel. The separated organic layer and aqueous layer were adjusted to pH 1 with IN hydrochloric acid and chlorinated. Extract twice with methylene. The extract and the organic layer were combined, washed with brine, and washed with sulfuric acid. Dry with magnesium. The solvent was distilled off and the target compound (2.20g) was amorphous. Obtained as a solid.

IR(Nujol) + 1730. 1620. 3300 cm ’NMR (DMSO−d δ) + 1. 7−2. 1 (2H,m)、 2゜6゛ 71 および 2.81 (3H,s)、3. 1−3.5 (2H,m)、3 ゜65 および 3. 9 (2H,m)、4. 3−4. 6 (2H,m) 、4゜72 (LH,t、J=7Hz)、 5.05 (2H,m)、 5.1 2 (2H。IR (Nujol) + 1730. 1620. 3300cm’NMR (DMSO-d δ) +1. 7-2. 1 (2H, m), 2゜6゛ 71 and 2.81 (3H, s), 3. 1-3.5 (2H, m), 3 ゜65 and 3. 9 (2H, m), 4. 3-4. 6 (2H, m) , 4゜72 (LH, t, J=7Hz), 5.05 (2H, m), 5.1 2 (2H.

s)、 6. 8−8. 2 (18H,m)、 8. 6 (IH,m)実施 例12 出発化合物(654mg) 、3.5−ジメチルピラゾール−1−カルボキサミ ジンニドラード(201ml)およびトリエチルアミン(202ml)の混合物 を室温で一夜撹拌する。トリエチルアミン(145mg)と、3.5−ジメチル ピラゾール−1−カルボキサミジンニドラード(402mg)を加え、混合物を さらに4日間撹拌する。混合物を濃縮し、水で稀釈し、IN塩酸でpH4に調整 する。溶液をクロロホルムとn−ブタノールの混合溶媒(4: 1)で2回抽出 する。抽出液を合わせ、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで粉末化し、沈澱を濾 取し、乾燥して、目的化合物(680mg)を無定形固体として得る。s), 6. 8-8. 2 (18H, m), 8. 6 (IH, m) Implementation Example 12 Starting compound (654 mg), 3,5-dimethylpyrazole-1-carboxamide Mixture of ginnidrade (201 ml) and triethylamine (202 ml) Stir overnight at room temperature. Triethylamine (145 mg) and 3,5-dimethyl Pyrazole-1-carboxamidine nidrade (402 mg) was added and the mixture Stir for an additional 4 days. The mixture was concentrated, diluted with water and adjusted to pH 4 with IN hydrochloric acid. do. Extract the solution twice with a mixed solvent of chloroform and n-butanol (4:1) do. The extracts were combined, the solvent was distilled off, the residue was triturated with ethyl acetate, and the precipitate was filtered. The sample was taken and dried to obtain the target compound (680 mg) as an amorphous solid.

IR(Nujol) : 3350. 3200. 1635. 15300m NMR(DMSO−d δ) : 1. 8−2. 2 (2H,m)、 2゜ 6゜ 73 および 2.80 (3H,s) 、3.0−3. 3 (2H,m)  、3゜5−3. 75(3H,m)、 3. 9(IH,m)、 4. 3−4 . 8(6H。IR (Nujol): 3350. 3200. 1635. 15300m NMR (DMSO-d δ): 1. 8-2. 2 (2H, m), 2゜ 6゜ 73 and 2.80 (3H, s), 3.0-3. 3 (2H, m) , 3°5-3. 75 (3H, m), 3. 9 (IH, m), 4. 3-4 .. 8 (6H.

m)、 5. 1 (2H,m)、 6. 9−7. 3(IOH,m)、 7 . 4−7、 6(5H,m)、 7. 7−7、 95(5H,m)、 8.  1 (Ifイ。m), 5. 1 (2H, m), 6. 9-7. 3 (IOH, m), 7 .. 4-7, 6 (5H, m), 7. 7-7, 95 (5H, m), 8. 1 (If I.

m)、 8.56 (IH,m) MASS (FAB) + M+H660実施例13 N−ベンジルメチルアミン(0,50g)の塩化メチレン(20ml)溶液にク ロロギ酸トリメチル(0,41g)を水冷下に加える。室温で1時間撹拌し、ピ リジン(0,32g)を混合物に加える。反応混合物をさらに2時間撹拌する。m), 8.56 (IH, m) MASS (FAB) + M+H660 Example 13 A solution of N-benzylmethylamine (0.50 g) in methylene chloride (20 ml) was added. Trimethyl roroformate (0.41 g) is added under water cooling. Stir at room temperature for 1 hour, then Add lysine (0.32 g) to the mixture. The reaction mixture is stirred for a further 2 hours.

混合物に出発化合物(1,69g)とトリエチルアミン(0,47g)を加え、 混合物を室温で4−ジメチルアミノピリジン(0,50g)を反応を完結させる ために加えながら一夜撹拌する。混合物を濃縮し、水で稀釈し、酢酸エチルで抽 出する。分取した有機層を炭酸水素ナトリウム溶液、水、0.5N塩酸、水およ び食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣をク ロロホルムとメタノールの混液(20: 1)を溶出液とするシリカゲルカラム (50g)に付して、目的化合物(1,17g)を無定形固体として得る。Starting compound (1,69 g) and triethylamine (0,47 g) were added to the mixture; Add 4-dimethylaminopyridine (0.50 g) to the mixture at room temperature to complete the reaction. Stir overnight while adding to the mixture. The mixture was concentrated, diluted with water and extracted with ethyl acetate. put out The separated organic layer was mixed with sodium bicarbonate solution, water, 0.5N hydrochloric acid, water and Wash with water and brine, and dry with magnesium sulfate. Distill the solvent and clean the residue. Silica gel column with a mixture of loloform and methanol (20:1) as the eluent (50 g) to obtain the target compound (1.17 g) as an amorphous solid.

NMR(DMSO−d δ) : 1. 5−1. 7 (IH,m)、 1゜ 6′ 8−2. 0 (IH,m)、 2. 63 (3H,m)、2.77 および  2゜85(3H,s)、 2. 9−3. 3(2H,m)、 3. 5−3 . 7(2H。NMR (DMSO-d δ): 1. 5-1. 7 (IH, m), 1゜ 6′ 8-2. 0 (IH, m), 2. 63 (3H, m), 2.77 and 2゜85 (3H, s), 2. 9-3. 3 (2H, m), 3. 5-3 .. 7 (2H.

m)、 4.1−5.3 (8H,m)、 6.8−8.2 (17H,m)。m), 4.1-5.3 (8H, m), 6.8-8.2 (17H, m).

8、 8−8. 9 (IH,m) MASS : M+ 578 実施例14 出発化合物(1,97g)のエタノール(40ml)溶液にIN水酸化ナトリウ ム(2,69g)を加える。溶液を室温で2時間撹拌する。エタノールを留去し 、水と酢酸エチルを加え、水層を分離する。IN塩酸でpH5に調整し、溶液を 一夜放置する。生成する沈澱を濾取し、水で洗浄し、乾燥して目的化合物(1, 60g)を得る。8, 8-8. 9 (IH, m) MASS: M+ 578 Example 14 A solution of the starting compound (1.97 g) in ethanol (40 ml) was added with IN sodium hydroxide. Add 2.69g of rum (2.69g). The solution is stirred at room temperature for 2 hours. distill off ethanol , add water and ethyl acetate, and separate the aqueous layer. Adjust the pH to 5 with IN hydrochloric acid and dissolve the solution. Leave it overnight. The formed precipitate is collected by filtration, washed with water, and dried to obtain the target compound (1, 60g).

IR(Nujol) : 3470. 3150. 1650. 1595゜1 540、 1400. 1230 cm ’NMR(DMSO−d δ) :  1.8−2.0 (IH,m)、2゜6゜ 1−2. 3(IH,m)、2. 23(6H,s)、2.6−2.9(5H。IR (Nujol): 3470. 3150. 1650. 1595゜1 540, 1400. 1230 cm NMR (DMSO-d δ): 1.8-2.0 (IH, m), 2゜6゜ 1-2. 3 (IH, m), 2. 23 (6H, s), 2.6-2.9 (5H.

m)、 3. 0−3. 3 (2H,m)、 3. 8−5. 2 (12H ,m)。m), 3. 0-3. 3 (2H, m), 3. 8-5. 2 (12H , m).

6、 85−8. 1 (17H,m)、8.5−8. 7 (IH,m)実施 例15 出発化合物(4,69g)の塩化メチレン(47ml)溶液に、トリエチルアミ ン(1,44g)とメタンスルホニルクロリド(0,814g)を加える。得ら れた混合物をメタンスルホニルクロリド(0,82g)とトリエチルアミン(1 ,44g)を加えながら室温で3時間撹拌する。溶液を水で洗浄し、分取した有 機層を硫酸マグネシウムで乾燥する。この粗生成物をクロロホルムとメタノール の混液(40:1)を溶出液とするシリカゲルカラム(162g)に付して、目 的化合物(4,77g)を無定形固体として得る。6, 85-8. 1 (17H, m), 8.5-8. 7 (IH, m) Implementation Example 15 Triethylamine was added to a solution of the starting compound (4.69 g) in methylene chloride (47 ml). (1,44 g) and methanesulfonyl chloride (0,814 g). Obtained The resulting mixture was mixed with methanesulfonyl chloride (0.82 g) and triethylamine (1 , 44 g) and stirred at room temperature for 3 hours. Wash the solution with water and collect the sample. Dry the machine layer with magnesium sulfate. This crude product was mixed with chloroform and methanol. The eye was applied to a silica gel column (162 g) using a mixture (40:1) of The target compound (4.77 g) is obtained as an amorphous solid.

NMR(DMSO−d δ) : 1.1−1.25 (3H,m)。NMR (DMSO-d δ): 1.1-1.25 (3H, m).

6゜ 2.0−2.2(IH,m)、 2.3−2.6(IH,m)、 2.73およ び 2. 78 (3H,s)、 3. 22 (3H,s)、 3. 0−3 . 3(2H,m)、 3.8−5.4 (IIH,m)、 6.85−8.1 (17H,m)、 8. 4−8. 8 (IH,m)実施例16 出発化合物(4,73g)とナトリウムアジド(0,83g)とのジメチルスル ホキシド(25ml)溶液を70℃で一夜加熱する。冷却後、酢酸エチル(10 0ml)と水(100ml)を加える。有機層を分取し、水(2回)と食塩水で 洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。濾過後、濾液を50m1まで濃縮する。6゜ 2.0-2.2 (IH, m), 2.3-2.6 (IH, m), 2.73 and Bi 2. 78 (3H, s), 3. 22 (3H, s), 3. 0-3 .. 3 (2H, m), 3.8-5.4 (IIH, m), 6.85-8.1 (17H, m), 8. 4-8. 8 (IH, m) Example 16 Starting compound (4,73 g) and sodium azide (0,83 g) in dimethylsulfate Heat the phoxide (25 ml) solution at 70° C. overnight. After cooling, ethyl acetate (10 0 ml) and water (100 ml). Separate the organic layer and add water (twice) and saline. Wash and dry with magnesium sulfate. After filtration, the filtrate is concentrated to 50 ml.

この溶液にトリフェニルホスフィン(1,68g)を加え、混合物を50℃で3 時間撹拌する。次いで水(0゜35m1)を加え、混合物を65℃で5時間撹拌 する。溶媒を留去し、残留油状物をクロロホルムとメタノールの混液(10:1 〜4:1.傾斜溶出)を溶出液とするシリカゲルカラム(150g)に付して、 目的化合物(3,11g)を得る。Triphenylphosphine (1.68 g) was added to this solution and the mixture was stirred at 50 °C for 3 Stir for an hour. Water (0°35ml) was then added and the mixture was stirred at 65°C for 5 hours. do. The solvent was distilled off, and the residual oil was dissolved in a mixture of chloroform and methanol (10:1). ~4:1. It was applied to a silica gel column (150 g) using gradient elution) as the eluent, The target compound (3.11 g) is obtained.

IR(CHCl、) : 3200. 1750. 1630. 1540゜1 490、 1420. 1200 cm−1HMR(DMSO−d、、δ) :  1. 1−1. 3(3H,m)、 1. 5−1. 7 (IH,m)、  2. 25−2. 45 (IH,m)、 2. 65−2゜85 (3H,m )、 3. 0−3. 5 (6H,m)、 3. 7−5. 3 (9H。IR (CHCl, ): 3200. 1750. 1630. 1540゜1 490, 1420. 1200 cm-1HMR (DMSO-d, δ): 1. 1-1. 3 (3H, m), 1. 5-1. 7 (IH, m), 2. 25-2. 45 (IH, m), 2. 65-2゜85 (3H, m ), 3. 0-3. 5 (6H, m), 3. 7-5. 3 (9H.

m)、 6. 8−8. 1 (17H,m)、 8. 5−8. 8 (IH ,m)+ MASS (FAB) : 660.2 (M+1) 、682.3 (M+N a)” 実施例17 実施例1と同様にして目的化合物を得る。m), 6. 8-8. 1 (17H, m), 8. 5-8. 8 (IH ,m)+ MASS (FAB): 660.2 (M+1), 682.3 (M+N a)” Example 17 The target compound is obtained in the same manner as in Example 1.

(1) mp : 196−200℃ IR(Nujol) : 3450. 1660(sh)、 1640゜159 0、1575. 1530 cm−1HMR(DMSO−d、、δ) : 1.  5−2. 2 (2H,m)、 2゜71 および 2. 76 (3H,s )、 2.8−3. 0 (IH,m)、 3゜5−3. 6 (IH,m)、  3. 18 および 3. 23 (3H,s)、3゜7−4. 0 (2H ,m) 、3. 85 および 3. 86 (3H,s) 、 4゜3−4. 6(3H,m)、 5.1(3H,m)、 5.7(IH,m)。(1) mp: 196-200℃ IR (Nujol): 3450. 1660 (sh), 1640°159 0,1575. 1530 cm-1HMR (DMSO-d,, δ): 1. 5-2. 2 (2H, m), 2゜71 and 2. 76 (3H,s ), 2.8-3. 0 (IH, m), 3°5-3. 6 (IH, m), 3. 18 and 3. 23 (3H, s), 3°7-4. 0 (2H , m), 3. 85 and 3. 86 (3H, s), 4゜3-4. 6 (3H, m), 5.1 (3H, m), 5.7 (IH, m).

6、 8−8. 2 (17H,m) 元素分析:計算値 : C73,61,H6,51,H9,28実測値 : C 73,45,H6,44,H9,12(2) IR(Nujol) + 164 0 cm−1NMR(DMSO−d、、δ) : 1.5−2.3(2H,m) 、 2.71 および 2.74 (3H,s)、2.8−3.0 (IH,m )、3゜13−3.18 (3H,s)、 3.4−3.8 (3H,m)、  4.3−4゜6 (3H,m)、4.8−5.0 (IH,m)、5.4 およ び 5.6−5.8 (2H,m)、 6.8−8.0(14H,m)、 8. 85(2H。6, 8-8. 2 (17H, m) Elemental analysis: Calculated value: C73,61, H6,51, H9,28 Actual value: C 73, 45, H6, 44, H9, 12 (2) IR (Nujol) + 164 0 cm-1 NMR (DMSO-d,, δ): 1.5-2.3 (2H, m) , 2.71 and 2.74 (3H, s), 2.8-3.0 (IH, m ), 3゜13-3.18 (3H, s), 3.4-3.8 (3H, m), 4.3-4゜6 (3H, m), 4.8-5.0 (IH, m), 5.4 and and 5.6-5.8 (2H, m), 6.8-8.0 (14H, m), 8. 85 (2H.

m)、 9.30 (LH,m) (3) IR(CHCl、) + 3450. 3300. 1660゜160 0、1510. 1450. 1280 cm−1HMR(DMSO−d、、δ ) + 1. 6−2. 4(4H,m)、 2. 7−2.9(5H,m)、  2.9−3.8(IOH,m)、 4.1−5.2(6H,m)、 6. 5 −7. 9 (14H,m)、 8. 4−8. 5 (LH。m), 9.30 (LH, m) (3) IR (CHCl, ) + 3450. 3300. 1660゜160 0,1510. 1450. 1280 cm-1HMR (DMSO-d, δ ) + 1. 6-2. 4 (4H, m), 2. 7-2.9 (5H, m), 2.9-3.8 (IOH, m), 4.1-5.2 (6H, m), 6. 5 -7. 9 (14H, m), 8. 4-8. 5 (LH.

m)、 8.7−8.9 (LH,m)MASS : M” 623 (4) IR(CHCl、) : 3270. 1740. 1650゜160 0、1530. 1470. 1200 cm−1HMR(DMSO−d、、δ ) + 1.0−11 (3H,m)、 1.65−2.1 (2H,m)、  2.19(6H,s)、 2.6−2.7(2H。m), 8.7-8.9 (LH, m) MASS: M” 623 (4) IR (CHCl, ): 3270. 1740. 1650゜160 0,1530. 1470. 1200 cm-1HMR (DMSO-d, δ ) + 1.0-11 (3H, m), 1.65-2.1 (2H, m), 2.19 (6H, s), 2.6-2.7 (2H.

m)、 2.8−3.3 (2H,m)、 3.6−5.1 (14H,m)。m), 2.8-3.3 (2H, m), 3.6-5.1 (14H, m).

6.9−8.1 (17H,m)、 8.4−8.6 (IH,m)MASS  (FAB) + 718.3 (M+1)’ 、740.3 (M+Na)”( 5) IR(CHCl3) + 3320. 1755. 1630゜1530 、1460. 1430. 1210. 1130 cm−1HMR(DMSO −d6. δ) : 1. 16 (3H,t、J=7゜1Hz)、 1.75 −1.95 (LH,m)、 2.19 (6H,s)。6.9-8.1 (17H, m), 8.4-8.6 (IH, m) MASS (FAB) + 718.3 (M+1)’, 740.3 (M+Na)” ( 5) IR (CHCl3) + 3320. 1755. 1630゜1530 , 1460. 1430. 1210. 1130cm-1HMR (DMSO -d6. δ): 1. 16 (3H, t, J=7°1Hz), 1.75 -1.95 (LH, m), 2.19 (6H, s).

2.05−2.35(IH,m)、 2.5−2.9(5H,m)、 3.0− 3.3 (2H,m)、 3.75−5.20(13H,m)、 6.85−8 ゜15 (17H,m)、 8.5−8.7 (IH,m)MASS (FAB ) : 732.5 (M+1)゛ 、754.4 (M+Na)’実施例18 実施例10と同様にして目的化合物を得る。2.05-2.35 (IH, m), 2.5-2.9 (5H, m), 3.0- 3.3 (2H, m), 3.75-5.20 (13H, m), 6.85-8 ゜15 (17H, m), 8.5-8.7 (IH, m) MASS (FAB ): 732.5 (M+1)゛, 754.4 (M+Na)' Example 18 The target compound is obtained in the same manner as in Example 10.

(1) IR(Nujol) : 3430. 3300. 1732゜165 0 (sh)、 1630. 1605 cm−1HMR(DMSO−d、、δ ) : 1.7−2.1 (3H,m)、 1゜14 (3H,t、J=7Hz )、 2.29 (2H,t、J=7Hz)、 2゜71 and 2. 81  (3H,s)、 3. 0−3. 3(2H,m)、 3゜65(IH,m) 、 3.9(LH,m)、 4.02(2H,q、J=7Hz)、 4.2−4 .55(5H,m)、 4.71(IH,m)、 5゜0−5. 2 (2H, m)、 6. 87−8. 07 (17H,m)、 8. 54(]、H,m ) 元素分析:計算値 : C69,67、H6,56,H7,93実測1i1 :  C69,54,H6,56,H7,83(2) mp : 184−187℃ (dec、)IR(Nujol) : 3400. 3300. 1660.  1625゜1600cm−1 NMR(DMSO−d、、δ) : 1. 7−2. 1 (2H,m)、 2 ゜71 および 2. 81 (3H,s)、3. 0−3. 3 (2H,m )、 3゜7 および 3. 97 (2H,m)、4. 2−4. 6 (3 H,m)、4゜73(LH,m)、 5.0−5.2(2H,m)、 5.61 (2H,s)。(1) IR (Nujol): 3430. 3300. 1732゜165 0 (sh), 1630. 1605 cm-1HMR (DMSO-d, δ ): 1.7-2.1 (3H, m), 1°14 (3H, t, J=7Hz ), 2.29 (2H, t, J=7Hz), 2°71 and 2. 81 (3H, s), 3. 0-3. 3 (2H, m), 3゜65 (IH, m) , 3.9 (LH, m), 4.02 (2H, q, J=7Hz), 4.2-4 .. 55 (5H, m), 4.71 (IH, m), 5°0-5. 2 (2H, m), 6. 87-8. 07 (17H, m), 8. 54(], H, m ) Elemental analysis: Calculated value: C69,67, H6,56, H7,93 actual measurement 1i1: C69,54, H6,56, H7,83 (2) mp: 184-187℃ (dec,) IR (Nujol): 3400. 3300. 1660.  1625°1600cm-1 NMR (DMSO-d,, δ): 1. 7-2. 1 (2H, m), 2 ゜71 and 2. 81 (3H, s), 3. 0-3. 3 (2H, m ), 3゜7 and 3. 97 (2H, m), 4. 2-4. 6 (3 H, m), 4°73 (LH, m), 5.0-5.2 (2H, m), 5.61 (2H, s).

6、 8−7. 9(IH,m)、 8. 11 (2H,br s)、 8.  55(2H,m) 元素分析:計算値 : C73,96,H5,90,N10.52実測値 :  C72,83,H5,8B、NIo、10(3) mp : 115−120℃ IR(Nujol) : 3430. 3300. 1710. 1655゜1 630、1600 cm−1 HMR(DMSO−d、、δ):1.74 および 1. 35 (9H。6, 8-7. 9 (IH, m), 8. 11 (2H, brs), 8. 55 (2H, m) Elemental analysis: Calculated value: C73,96, H5,90, N10.52 Actual value: C72,83, H5,8B, NIo, 10(3) mp: 115-120℃ IR (Nujol): 3430. 3300. 1710. 1655゜1 630, 1600 cm-1 HMR (DMSO-d, δ): 1.74 and 1. 35 (9H.

s)、 1.7−2.1(2H,m)、 2.71 および 2. 80 (3 H。s), 1.7-2.1 (2H, m), 2.71 and 2. 80 (3 H.

s)、 3. 0−3. 3 (2H,m)、 3. 3 (2H,m)、 3 .7 および3.9 (2H,m) 、 4.2−4.6 (5H,m) 、  4.7(LH。s), 3. 0-3. 3 (2H, m), 3. 3 (2H, m), 3 .. 7 and 3.9 (2H, m), 4.2-4.6 (5H, m), 4.7 (LH.

m)、 5.0−5.2 (2H,m)、 6.8−7.9 (17H,m)。m), 5.0-5.2 (2H, m), 6.8-7.9 (17H, m).

8.06 (IH,d、J=8Hz)、 8.53 (LH,m)元素分析−計 算値 : C7Q、27. H6,60,N9.76実測値 : C69,19 ,H6,61,N9.57(4) IR(CHCl、) : 3450−330 0. 1750゜1640、1535. 1190 cm−1HMR(DMSO −d、、δ) : 1. 22 (3H,t、J=7゜06Hz)、 1.65 −2.15 (2H,m)、 2.71 および 2゜81 (3H,s)、  2.9−3.3(2H,m)、 3.34(2H,s)。8.06 (IH, d, J=8Hz), 8.53 (LH, m) Elemental analysis-meter Calculated value: C7Q, 27. H6,60,N9.76 actual measurement value: C69,19 , H6, 61, N9.57 (4) IR (CHCl, ): 3450-330 0. 1750゜1640, 1535. 1190 cm-1HMR (DMSO -d,,δ): 1. 22 (3H, t, J=7°06Hz), 1.65 -2.15 (2H, m), 2.71 and 2°81 (3H, s), 2.9-3.3 (2H, m), 3.34 (2H, s).

3.5−5.3 (IOH,m)、 6.8−8.15 (17H,m)、 8 ゜45−8.6 (IH,m) MASS (FAB) : 661.3 (M+1)” 、683.2 (M+ Na)′″実施例19 実施例11と同様にして目的化合物を得る。3.5-5.3 (IOH, m), 6.8-8.15 (17H, m), 8 ゜45-8.6 (IH, m) MASS (FAB): 661.3 (M+1)”, 683.2 (M+ Na)''Example 19 The target compound is obtained in the same manner as in Example 11.

(1) IR(Nujol) : 3400−3300. 1720゜1630 cm−1 NMR(DMSO−d@、δ) : 1. 7−2. 1 (3H,m)、 2 ゜22 (2H,m) 、 2. 71 および 2. 81 (3H,s)、  3. 0−3、 3 (2H,m)、 3. 64−3. 69 (IH,m )、 3. 92 (LH。(1) IR (Nujol): 3400-3300. 1720゜1630 cm-1 NMR (DMSO-d@, δ): 1. 7-2. 1 (3H, m), 2 ゜22 (2H, m), 2. 71 and 2. 81 (3H, s), 3. 0-3, 3 (2H, m), 3. 64-3. 69 (IH, m ), 3. 92 (LH.

m)、4.2−4. 5 (5H,m)、 4. 71 (IH,m)、 4.  9−5、 2(2H,m)、 6. 9−8. 1 (17H,m)、 8.  54 (IH。m), 4.2-4. 5 (5H, m), 4. 71 (IH, m), 4. 9-5, 2 (2H, m), 6. 9-8. 1 (17H, m), 8. 54 (IH.

m)、 12.2(N(、br 5) (2) IR(Nujol) : 3420. 3260. 1650−159 0、1530. 1310. 1260. 1200 am−INMR(DMS O−d、、δ) : 1. 8−2. 0(IH,m)、 2. 4−2. 6  (IH,m) 、2.70 および 2.73 (3H,s)、 2. 9− 3.3(2H,m)、3.7−5.2(12H,m)、6.8−8.1(17H ,m) 、8. 8−9.0 (IH,m)MASS (FAB) : 632 .3 (M+1)’ 、654.2 (M+Na)’実施例20 実施例19と同様にして目的化合物を得る。m), 12.2(N(, br 5) (2) IR (Nujol): 3420. 3260. 1650-159 0,1530. 1310. 1260. 1200 am-INMR (DMS O-d,, δ): 1. 8-2. 0 (IH, m), 2. 4-2. 6 (IH, m), 2.70 and 2.73 (3H, s), 2. 9- 3.3 (2H, m), 3.7-5.2 (12H, m), 6.8-8.1 (17H , m), 8. 8-9.0 (IH, m) MASS (FAB): 632 .. 3 (M+1)', 654.2 (M+Na)' Example 20 The target compound is obtained in the same manner as in Example 19.

MASS(FAB) : M+H618,3実施例21 実施例11と同様にして目的化合物を得る。MASS (FAB): M+H618, 3 Example 21 The target compound is obtained in the same manner as in Example 11.

IR(Nujol) + 3400−3200. 1640. 1600゜15 50、1200 cm−1 HMR(DMSO−d、、δ) : 1. 7−1. 9(LH,m)、 1.  9−2. 1 (IH,m)、 2. 24 および 2. 26 (6H, s)、 2. 7−3. 3(4H,m)、 3. 6−5. 1(12H,m )、 7. 0−8. 1(18H,m)、 8. 60 (IH,br s) 実施例22 実施例13と同様にして目的化合物を得る。IR (Nujol) +3400-3200. 1640. 1600゜15 50, 1200 cm-1 HMR (DMSO-d,, δ): 1. 7-1. 9 (LH, m), 1. 9-2. 1 (IH, m), 2. 24 and 2. 26 (6H, s), 2. 7-3. 3 (4H, m), 3. 6-5. 1 (12H, m ), 7. 0-8. 1 (18H, m), 8. 60 (IH,brs) Example 22 The target compound is obtained in the same manner as in Example 13.

IR(CHt、ts) : 3450−3300. 1640. 1480゜1 390、1200 cm−1 HMR(DMSO−d、、δ) : 1. 5−1. 7(IH,m)、 1.  8−2. 0(IH,m)、 2. 65−2. 85(6H,m)、 3.  0−3. 7(4H,m)、 3.80 (3H,s)、 4.05−5.3  (8H,m)。IR (CHt, ts): 3450-3300. 1640. 1480゜1 390, 1200 cm-1 HMR (DMSO-d,, δ): 1. 5-1. 7 (IH, m), 1. 8-2. 0 (IH, m), 2. 65-2. 85 (6H, m), 3. 0-3. 7 (4H, m), 3.80 (3H, s), 4.05-5.3 (8H, m).

6、 8−8. 2 (161−1,m) 、 8. 8−8. 9 (IH, m)MASS : M” 608 国際調査報告 、、、、↑ノ16◇り/I’ll’17(Inフロントページの 続き (51) Int、 C1,’ 識別記号 庁内整理番号A61K 38100  ABJ CO7K 1106 I A61K 37102 ABA BJ AH6, 8-8. 2 (161-1, m), 8. 8-8. 9 (IH, m) MASS: M”608 International Investigation Report...↑ノ16◇ri/I'll'17 (In front page) continuation (51) Int, C1,' Identification symbol Internal office reference number A61K 38100 ABJ CO7K 1106 I A61K 37102 ABA BJ Ah

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1.式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R1は低級アルキル基、アリール基、アル(低級)アルキル基、アリー ルアミノ基、ピリジル基、ピロリル基、ピラゾロピリジル基、キノリル基、また は式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中:■は単結合または2重量結合、XはCHまたはN、およびZはO、Sま たはNH、これらの基は適当な置換基を有していてもよい、を意味する。); R2は水素または低級アルキル基; R3は水素または適当な置換基; R4は適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基、およびR5は適当な置 換基を有していてもよいアル(低級)アルキル基またはピリジル(低級)アルキ ル基を意味するか、またはR4とR5は互いに結合してベンゼン縮合低級アルキ レン基を形成;Aは適当な置換基を有していてもよいアミノ酸残基;および Yは−,低級アルキレン基、低級アルケニレン基または低級アルキルイミノ基を それぞれ意味する、 但し、R1がアリール基または式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Xは前と同じ意味、およびZはOまたはN−R■(式中R■は水素また は低級アルキル基を意味する)を意味する]のときは、R2は水素、 R4は適当な置換基を有してもよい低級アルキル基、R5は適当な置換基を有し ていてもよいアル(低級)アルキル基、Aは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R7はヒドロキシ基または低級アルコキシ基を意味する)、およびYは −または低級アルケニレン基、 R3は適当な置換基である。]で示される化合物または医薬として許容されるそ の塩。 2.R1がジ(低級)アルコキシフェニル基、低級アルコキシ基を有していても よいモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、インドリニル基、ピ リジル基または式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R6は低級アルキル基、ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキル基 、ピロリジニル(低級)アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エステル 化されたカルボキシ(低級)アルキル基、アミノ(低級)アルキル基、グアニジ ノ(低級)アルキル基、ピリジル(低級)アルキル基またはアシルアミノ(低級 )アルキル基、およびR8は水素またはハロゲンを意味する。)、R3が低級ア ルキル基またはハロゲン、R4が低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル 基、またはエステル化されたカルボキシ(低級)アルキル基、 R5がモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基またはピリジル(低 級)アルキル基、 Aが側鎖が低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エス テル化されたカルボキシ(低級)アルキル基及び(低級)アルキルスルホニル基 からなる基から選ばれた置換基で置換されていてもよいヒドロキシプロリン、グ リシン、セリン、メチオニン、リジン、ヒスチジン、グルタミン、チオプロリン およびアミノプロリンからなる基から選はれたアミノ酸から誘導された二価の残 基である請求項1記載の化合物。 3.R1が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R6は低級アルキル基、およびR8は水素を意味する。)、R2が水素 、 R4が低級アルキル基、 R5がフェニル(低級)アルキル基 Aがヒドロキシプロリンから誘導された二価の残基、およびYが−である請求項 2記載の化合物。 4. (1) ▲数式、化学式、表等があります▼ (2) ▲数式、化学式、表等があります▼ からなる基から選ばれた請求項3記載の化合物。 5.R1がジ(低級)アルコキシフェニル基、低級アルコキシ基を有していても よいモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、インドリニル基、ピ リジル基または式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R6は低級アルキル基、ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキル基 、ピロリジニル(低級)アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エステル 化されたカルボキシ(低級)アルキル基、アミノ(低級)アルキル基、グアニジ ノ(低級)アルキル基、ピリジル(低級)アルキル基またはアシルアミノ(低級 )アルキル基およびR8は水素またはハロゲンを意味する。)、R3が水素、 R4が低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、またはエステル化され たカルボキシ(低級)アルキル基、 R5がモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、およびAが側鎖が 低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エステル化され たカルボキシ(低級)アルキル基及び(低級)アルキルスルホニル基からなる基 から選ばれた置換基で置換されていてもよいグリシン、セリン、メチオニン、リ ジン、ヒスチジン、グルタミン、チオプロリンおよびアミノプロリンからなる基 から選ばれたアミノ酸から誘導された二価の残基である請求項1記載の化合物。 6.R1が式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R6は低級アルキル基、およびR8は水素を意味する。)、R2が水素 、 R4が低級アルキル素、 R5がフェニル(低級)アルキル基、 Aがグリシン、セリン、メチオニン、リジン、ヒスチジン、グルタミン、チオプ ロリンからなる基から選ばれたアミノ酸から誘導された二価の残基、およびYが −である請求項5記載の化合物。 7. (1) ▲数式、化学式、表等があります▼ (2) ▲数式、化学式、表等があります▼ (3) ▲数式、化学式、表等があります▼ (4) ▲数式、化学式、表等があります▼ (5) ▲数式、化学式、表等があります▼またはその塩酸塩(6) ▲数式、化学式、表等があります▼ (7) ▲数式、化学式、表等があります▼ (8) ▲数式、化学式、表等があります▼ からなる基から選ばれた請求項6記載の化合物。 8.R1がジ(低級)アルコキシフェニル基、低級アルコキシ基を有していても よいモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、インドリニル基、ピ リジル基または式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R6は低級アルキル基、ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキル基 、ピロリジニル(低級)アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、エステル 化されたカルボキシ(低級)アルキル基、アミノ(低級)アルキル基、グァニジ ノ(低級)アルキル基、ピリジル(低級)アルキル基またはアシルアミノ(低級 )アルキル基、およびR8は水素またはハロゲンを意味する。)、R3が水素、 R4が低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、またはエステル化され たカルボキシ(低級)アルキル基、 R5がモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルキル基、およびAがカルボ キシ(低級)アルキル基、エステル化されたカルボキシ(低級)アルキル基及び 低級アルキルスルホニル基からなる基から選ばれた置換基で置換されていてもよ いヒドロキシプロリンから誘導された二価の残基である請求項1記載の化合物。 9.R1がジ(低級)アルコキシフェニル基、ジフェニル(低級)アルキル基、 インドリニル基、ピリジル基または式:▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R6はジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキル基、ピロリジニル( 低級)アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基、アミノ(低級)アルキル基 、グァニジノ(低級)アルキル基、またはピリジル(低級)アルキル基、および R8は水素を意味する。)、 R4が低級アルキル基、またはカルボキシ(低級)アルキル基、R5がフェニル (低級)アルキル基、 Aがカルボキシ(低級)アルキル基で置換されていてもよいヒドロキシプロリン から誘導された二価の残基、および Yが−、低級アルキレン基または低級アルケニレン基である請求項8記載の化合 物。 10. (1) ▲数式、化学式、表等があります▼ (2) ▲数式、化学式、表等があります▼ (3) ▲数式、化学式、表等があります▼ またはその塩酸塩 (4) ▲数式、化学式、表等があります▼ (5) ▲数式、化学式、表等があります▼ またはその塩酸塩 (6) ▲数式、化学式、表等があります▼ またはその塩酸塩 (7) ▲数式、化学式、表等があります▼ (8) ▲数式、化学式、表等があります▼ (9) ▲数式、化学式、表等があります▼ (10) ▲数式、化学式、表等があります▼ (11) ▲数式、化学式、表等があります▼ (12) ▲数式、化学式、表等があります▼ (13) ▲数式、化学式、表等があります▼ からなる基から選ばれた請求項9記載の化合物。 11.式: 式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R1は低級アルキル基、アリール基、アル(低級)アルキル基、アリー ルアミノ基、ピリジル基、ピロリル基、ピラゾロピリジル基、キノリル基、また は式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中:■は単結合または2重結合、 XはCHまたはN、およびZはO、SまたはNH、これらの基は適当な置換基を 有していてもよい、を意味する。); R2は水素または低級アルキル基; R3は水素または適当な置換基; R4は適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基、およびR5は適当な置 換基を有していてもよいアル(低級)アルキル基またはピリジル(低級)アルキ ル基を意味するか、またはR4とR5は互いに結合してベンゼン縮合低級アルキ レン基を形成;Aは適当な置換基を有していてもよいアミノ酸残基;および Yは−,低級アルキレン基、低級アルケニレン基または低級アルキルイミノ基を それぞれ意味する、 但し、R1がアリール基または式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Xは前と同じ意味、およびZはOまたはN−R■(式中R■は水素また は低級アルキル基を意味する)を意味する]のときは、R2は水素、 R4は適当な置換基を有してもよい低級アルキル基、R5は適当な置換基を有し ていてもよいアル(低級)アルキル基、Aは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R7はヒドロキシ基または低級アルコキシ基を意味する)、およびYは −または低級アルケニレン基、 R3は適当な置換基である。]で示される化合物およびその塩の製造法であって 、 (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R2、R3、R4、R5およびAはそれぞれ前と同じ意味である]で示 される化合物またはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩と、式:R 1−Y−COOH (式中、R1とYはそれぞれ前と同じ意味である)で示される化合物と反応させ て、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5、AおよびYはそれぞれ前と同じ意味で ある)で示される化合物またはその塩を得るか、または(2)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R2、R3、R4、およびR5はそれぞれ前と同じ意味である)で示さ れる化合物またはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩と、式:R1 −Y−CO−A−OH (式中、R1、AおよびYはそれぞれ前と同じ意味である)で示される化合物ま たはカルボキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩と反応させて、式:▲ 数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5、AおよびYはそれぞれ前と同じ意味で ある)で示される化合物またはその塩を得るか、または(3)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5およびYはそれぞれ前と同じ意味、Aは 保護されたアミノ基、保護されたヒドロキシ基および/または保護されたカルボ キシ基を含むアミノ酸残基を意味する)で示される化合物またはその塩をアミノ 保護基、ヒドロキシ保護基および/またはカルボキシ保護基の脱離反応に付して 、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5およびYはそれぞれ前と同じ意味、Aは アミノ基、ヒドロキシ基および/または保護されたカルボキシ基を含むアミノ酸 残基を意味する)で示される化合物またはその塩を得るか、または(4)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R2、R3、R4、R5、A、XおよびYはそれぞれ前と同じ意味、R ■は保護されたカルボキシ(低級)アルキル基または保護されたアミノ(低級) アルキル基、および R8は水素またはハロゲンを意味する)で示される化合物またはその塩をカルボ キシ保護基またはアミノ保護基の脱離反応に付して、式:式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R2、R3、R4、R5、R6、A、XおよびYはそれぞれ前と同じ意 味、R■はカルボキシ(低級)アルキル基またはアミノ(低級)アルキル基を意 味する)で示される化合物またはその塩を得るか、または(5)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5、A1、およびYはそれぞれ前と同じ意 味である)で示される化合物またはアミノ基、ヒドロキシ基、および/またはカ ルボキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩をアミノ保護基、ヒドロキシ 保護基、および/またはカルボキシ保護基の導入反応に付して式:▲数式、化学 式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5、A2、およびYはそれぞれ前と同じ意 味である)で示される化合物またはその塩を得るか、または(6)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5、およびYはそれぞれ前と同じ意味、A 3は適当な置換基を有するスルホニルオキシを含むアミノ酸残基を意味する)で 示される化合物またはその塩と式: MaN3 (式中、Maはアルカリ金属を意味する)で示される化合物と反応させて式:▲ 数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5、およびYはそれぞれ前と同じ意味、A 4はアジドを含むアミノ酸残基を意味する)で示される化合物またはその塩を得 、ついで水素添加反応に付して式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R4、R5、およびYはそれぞれ前と同じ意味、お よびA5はアミノ基を有するアミノ酸残基を意味する)で示される化合物または その塩を得るか、または (7)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3、R5、AおよびYはそれぞれ前と同じ意味、および R■は保護されたカルボキシ(低級)アルキル基を意味する)で示される化合物 またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付して式:▲数式、化学式、表等 があります▼(式中、R1、R2、R3、R5、AおよびYはそれぞれ前と同じ 意味、およびR■はカルボキシ(低級)アルキル基を意味する)で示される化合 物またはその塩を得るか、または (8)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R2、R3、R4,R5、R8、A、XおよびYはそれぞれ前と同じ意 味、およびR■はアミノ(低級)アルキル基を意味する)で示される化合物また はその塩をアミジノ基の導入反応に付して式:▲数式、化学式、表等があります ▼ (式中R2、R3、R4、R5、R8、A、XおよびYはそれぞれ前と同じ意味 、およびR■はグアジノ(低級)アルキル基を意味する)で示される化合物また はその塩を得ることを特徴とする前記ペプチド化合物の製造法。 12.請求項1の化合物を医薬として許容される担体ま賦形剤と混合してなる医 薬組成物。 13.請求項1の化合物を医薬として許容される担体または賦形剤と混合してな る医薬組成物の製造方法。 14.医薬としての請求項1の化合物の用途。 15.タキキニン拮抗剤としての請求項1の化合物の用途。 16.サブスタンスP拮抗剤としての請求項1の化合物の用途。 17.タキキニンが媒介する病気を治療するための医薬製造としての請求項1の 化合物の用途。 18.請求項1の化合物をヒトまたは動物に投与することからなるタキキニンが 媒介する病気を治療する方法。 [Claims] 1. Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R1 is a lower alkyl group, an aryl group, an alkyl group, an aryl Ruamino group, pyridyl group, pyrrolyl group, pyrazolopyridyl group, quinolyl group, and is a formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula: is a single bond or double weight bond, X is CH or N, and Z is O, S or or NH, meaning that these groups may have appropriate substituents. ); R2 is hydrogen or a lower alkyl group; R3 is hydrogen or a suitable substituent; R4 is a lower alkyl group which may have a suitable substituent; and R5 is a suitable substituent. Al (lower) alkyl group or pyridyl (lower) alkyl group that may have a substituent or R4 and R5 are bonded to each other to represent a benzene-fused lower alkyl group. Forms a lene group; A is an amino acid residue that may have an appropriate substituent; and Y means -, a lower alkylene group, a lower alkenylene group, or a lower alkylimino group, respectively, provided that R1 is an aryl group Or formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, X has the same meaning as before, and Z is O or N-R (In the formula, R is hydrogen or means a lower alkyl group], R2 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group that may have an appropriate substituent, and R5 is an alkyl group that may have an appropriate substituent. (lower) alkyl group, A is the formula: ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. It is a substituent. ] or pharmaceutically acceptable compounds thereof. salt. 2. R1 is a di(lower)alkoxyphenyl group, a mono-, di- or triphenyl(lower)alkyl group which may have a lower alkoxy group, an indolinyl group, a Lysyl group or formula: ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. , esterified carboxy (lower) alkyl group, amino (lower) alkyl group, guanidine (lower) alkyl group, pyridyl (lower) alkyl group or acylamino (lower) alkyl group, and R8 mean hydrogen or halogen. ), R3 is a lower R4 is a lower alkyl group, a carboxy (lower) alkyl group, or an esterified carboxy (lower) alkyl group, R5 is a mono-, di-, or triphenyl (lower) alkyl group or a pyridyl (lower) alkyl group; A is a lower alkoxycarbonyl group, a carboxy (lower) alkyl group, Hydroxyproline, which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of terified carboxy (lower) alkyl group and (lower) alkyl sulfonyl group. 2. A compound according to claim 1, which is a divalent residue derived from an amino acid selected from the group consisting of lysine, serine, methionine, lysine, histidine, glutamine, thioproline and aminoproline. 3. R1 is a formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R6 means a lower alkyl group and R8 means hydrogen.), R2 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group, R5 is phenyl (lower) 3. The compound according to claim 2, wherein the alkyl group A is a divalent residue derived from hydroxyproline, and Y is -. 4. The compound according to claim 3, which is selected from the group consisting of (1) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (2) ▲ ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ 5. R1 is a di(lower)alkoxyphenyl group, a mono-, di- or triphenyl(lower)alkyl group which may have a lower alkoxy group, an indolinyl group, a Lysyl group or formula: ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. , esterified carboxy (lower) alkyl group, amino (lower) alkyl group, guanidine (lower) alkyl group, pyridyl (lower) alkyl group or acylamino (lower) alkyl group and R8 mean hydrogen or halogen. ), R3 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group, carboxy (lower) alkyl group, or esterified carboxy (lower) alkyl group, R5 is a mono-, di-, or triphenyl (lower) alkyl group, and A is a side chain. glycine, serine, which may be substituted with a substituent selected from a group consisting of a lower alkoxycarbonyl group, a carboxy (lower) alkyl group, an esterified carboxy (lower) alkyl group, and a (lower) alkylsulfonyl group; Methionine, Ri 2. The compound according to claim 1, which is a divalent residue derived from an amino acid selected from the group consisting of zine, histidine, glutamine, thioproline and aminoproline. 6. R1 is a formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R6 means a lower alkyl group and R8 means hydrogen.), R2 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group, R5 is phenyl (lower) Alkyl group, A is glycine, serine, methionine, lysine, histidine, glutamine, thiop 6. The compound according to claim 5, wherein the divalent residue is derived from an amino acid selected from the group consisting of loline, and Y is -. 7. (1) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (2) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (3) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (4) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. Yes ▼ (5) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or their hydrochloride (6) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (7) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (8) ▲ Mathematical formulas , a chemical formula, a table, etc. ▼ The compound according to claim 6, which is selected from the group consisting of ▼. 8. R1 is a di(lower)alkoxyphenyl group, a mono-, di- or triphenyl(lower)alkyl group which may have a lower alkoxy group, an indolinyl group, a Lysyl group or formula: ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. , esterified carboxy (lower) alkyl group, amino (lower) alkyl group, guanidine (lower) alkyl group, pyridyl (lower) alkyl group or acylamino (lower) alkyl group, and R8 mean hydrogen or halogen. ), R3 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group, carboxy(lower) alkyl group, or esterified carboxy(lower) alkyl group, R5 is a mono-, di-, or triphenyl(lower) alkyl group, and A is a carboxy(lower) alkyl group. Optionally substituted with a substituent selected from a group consisting of a xy(lower)alkyl group, an esterified carboxy(lower)alkyl group, and a lower alkylsulfonyl group. 2. A compound according to claim 1, which is a divalent residue derived from hydroxyproline. 9. R1 is a di(lower) alkoxyphenyl group, a diphenyl(lower) alkyl group, an indolinyl group, a pyridyl group, or a formula: ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R6 is a di(lower) alkylamino (lower) alkyl group, pyrrolidinyl (lower) alkyl group, carboxy (lower) alkyl group, amino (lower) alkyl group, guanidino (lower) alkyl group, or pyridyl (lower) alkyl group, and R8 means hydrogen), R4 is a lower alkyl group or a carboxy (lower) alkyl group, R5 is a phenyl (lower) alkyl group, A is a divalent residue derived from hydroxyproline optionally substituted with a carboxy (lower) alkyl group, and The compound according to claim 8, wherein Y is -, a lower alkylene group or a lower alkenylene group. thing. 10. (1) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (2) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (3) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ or its hydrochloride (4) ▲Mathematical formulas, chemical formulas , tables, etc. ▼ (5) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or its hydrochloride (6) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or its hydrochloride (7) ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. There are ▼ (8) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (9) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (10) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (11) ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, The compound according to claim 9, which is selected from the group consisting of ▼ (12) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (13) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼. 11. Formula: Formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ [In the formula, R1 is a lower alkyl group, an aryl group, an alkyl group, an aryl Ruamino group, pyridyl group, pyrrolyl group, pyrazolopyridyl group, quinolyl group, and is a formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula: is a single or double bond, X is CH or N, and Z is O, S or NH, these groups have appropriate substituents. ); R2 is hydrogen or a lower alkyl group; R3 is hydrogen or a suitable substituent; R4 is a lower alkyl group which may have a suitable substituent; and R5 is a suitable Placed Al (lower) alkyl group or pyridyl (lower) alkyl group that may have a substituent or R4 and R5 are bonded to each other to represent a benzene-fused lower alkyl group. Forms a lene group; A is an amino acid residue that may have an appropriate substituent; and Y means -, a lower alkylene group, a lower alkenylene group, or a lower alkylimino group, respectively, provided that R1 is an aryl group Or formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, X has the same meaning as before, and Z is O or N-R (In the formula, R is hydrogen or means a lower alkyl group], R2 is hydrogen, R4 is a lower alkyl group that may have an appropriate substituent, and R5 is an alkyl group that may have an appropriate substituent. (lower) alkyl group, A is the formula: ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. It is a substituent. ] Formula (1): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R2, R3, R4, R5 and A each have the same meaning as before. Yes] or a reactive derivative thereof at the amino group or a salt thereof is reacted with a compound represented by the formula: R1-Y-COOH (wherein R1 and Y each have the same meaning as before) to form a compound of the formula : ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R1, R2, R3, R4, R5, A and Y each have the same meanings as before) to obtain the compound or its salt, or ( 2) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R2, R3, R4, and R5 each have the same meanings as before) The compound or its reactive derivative in the amino group or its salt and a compound represented by the formula: R1 -Y-CO-A-OH (wherein R1, A and Y each have the same meaning as before) or or a reactive derivative thereof at the carboxy group or a salt thereof, the formula: ▲ has a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc. ▼ (wherein R1, R2, R3, R4, R5, A and Y are respectively have the same meaning) or a salt thereof, or obtain a compound represented by the formula (3): ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R1, R2, R3, R4, R5 and Y are each same meaning, A is a protected amino group, a protected hydroxy group and/or a protected carboxyl group. (meaning an amino acid residue containing an xyl group) or a salt thereof is subjected to an elimination reaction of an amino protecting group, a hydroxy protecting group and/or a carboxy protecting group, and the formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (wherein R1, R2, R3, R4, R5 and Y each have the same meaning as before, A means an amino acid residue containing an amino group, a hydroxy group and/or a protected carboxy group) Obtain the compound shown or a salt thereof, or formula (4): ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R2, R3, R4, R5, A, X and Y each have the same meaning as before, R is a protected carboxy (lower) alkyl group or a protected amino (lower) alkyl group, and R8 means hydrogen or halogen) or a salt thereof. For the elimination reaction of xy-protecting group or amino-protecting group, formula: Formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (In the formula, R2, R3, R4, R5, R6, A, X and Y are Each has the same meaning as the previous one Taste, R■ means carboxy (lower) alkyl group or amino (lower) alkyl group. or a compound represented by the formula (5): ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (In the formula, R1, R2, R3, R4, R5, A1, and Y are each same meaning as before compounds with amino groups, hydroxyl groups, and/or carbon A reactive derivative thereof or a salt thereof at the carboxy group is subjected to an amino-protecting group, hydroxy-protecting group, and/or carboxy-protecting group introduction reaction with the formula: ▲Mathematical formula, chemical There are formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R1, R2, R3, R4, R5, A2, and Y each have the same meaning as before. or a salt thereof, or obtain a compound represented by formula (6): ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (wherein R1, R2, R3, R4, R5, and Y are each A3 means an amino acid residue containing sulfonyloxy with a suitable substituent) or a salt thereof and a compound represented by the formula: MaN3 (wherein Ma means an alkali metal) When reacted with a compound, the formula: ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. A compound or a salt thereof is obtained and then subjected to a hydrogenation reaction to form the formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (In the formula, R1, R2, R3, R4, R5, and Y are Each has the same meaning as before, and A5 means an amino acid residue having an amino group) or a salt thereof, or formula (7): ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R1, R2, R3 , R5, A and Y each have the same meaning as before, and R■ means a protected carboxy (lower) alkyl group) or a salt thereof is subjected to an elimination reaction of the carboxy protecting group to form the formula : ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R1, R2, R3, R5, A and Y each have the same meaning as before, and R means a carboxy (lower) alkyl group) (8) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R2, R3, R4, R5, R8, A, X and Y each have the same meaning as before. taste, and R■ means an amino (lower) alkyl group) or The salt is subjected to an amidino group introduction reaction and the formula: ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R2, R3, R4, R5, R8, A, X and Y each have the same meaning as before, and R means a guazino (lower) alkyl group) or 1. A method for producing a peptide compound, characterized in that a salt thereof is obtained. 12. A pharmaceutical product prepared by mixing the compound of claim 1 with a pharmaceutically acceptable carrier or excipient. Pharmaceutical composition. 13. The compound of claim 1 is mixed with a pharmaceutically acceptable carrier or excipient. A method for producing a pharmaceutical composition. 14. Use of the compound of claim 1 as a medicament. 15. Use of the compound of claim 1 as a tachykinin antagonist. 16. Use of the compound of claim 1 as a substance P antagonist. 17. Use of a compound according to claim 1 in the manufacture of a medicament for the treatment of tachykinin-mediated diseases. 18. A method of treating a tachykinin-mediated disease comprising administering a compound of claim 1 to a human or animal.
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