JPH0750252A - 位置決めステージ装置およびこれを用いた露光装置 - Google Patents
位置決めステージ装置およびこれを用いた露光装置Info
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- JPH0750252A JPH0750252A JP21099993A JP21099993A JPH0750252A JP H0750252 A JPH0750252 A JP H0750252A JP 21099993 A JP21099993 A JP 21099993A JP 21099993 A JP21099993 A JP 21099993A JP H0750252 A JPH0750252 A JP H0750252A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
する必要のない位置決めステージ装置およびこれを用い
た露光装置を実現する。 【構成】 xステージ2はx電動シリンダ5によってx
方向へ移動され、yステージ3はxステージ2に支持さ
れ、y電動シリンダ7によってy方向へ移動する。xス
テージ2の微動調節を行うxリニアモータ6の可動子6
bはxステージ2と一体であり、固定子6aはx電動シ
リンダ5のロッド5aと一体である突当て板5cと一体
的に設けられており、x電動シリンダ5が駆動されたと
きはxステージ2とともに移動するため、xリニアモー
タ6のコイルを複数にする必要はない。yリニアモータ
8についても同様である。
Description
工作機械および精密測定器等に用いられる位置決めステ
ージ装置およびこれを用いた露光装置に関するものであ
る。
密測定器等においては、露光されるウエハ等基板や、被
加工物あるいは被測定物を高精度で位置決めすることが
要求される。このために、基板や被加工物等を保持する
保持盤とこれを案内する案内面の間を静圧軸受装置によ
って非接触に保つとともに、保持盤を移動させる駆動装
置にリニアモータを用いることで、位置決めの精度およ
び速度を向上させた位置決めステージ装置が開発され
た。このような位置決めステージ装置の従来例を図8に
示す。
クロトロン放射光等のX線を露光光とするX線露光装置
に用いられる縦型の位置決めステージ装置であって、ベ
ース101と一体であるxガイド102aに案内されて
水平面内の一方向(以下、「x方向」という。)に往復
移動自在であるxステージ102と、xステージ102
と一体であるyガイド103aに案内されて垂直方向
(以下、「y方向」という。)に往復移動自在であるy
ステージ103と、yステージ103に設けられたウエ
ハチャック104と、xステージ102をx方向に移動
させるx電動シリンダ105と、xステージ102をx
方向に微小量だけ移動させるxリニアモータ106と、
yステージ103をy方向に移動させるy電動シリンダ
107と、yステージ103をy方向に微小量だけ移動
させるyリニアモータ108と、yステージ103の重
量を張力によって相殺する定張力バネ109からなり、
x電動シリンダ105のロッド105aはxすき間継手
105bを介してxステージ102に連結され、y電動
シリンダ107のロッド107aはyすき間継手107
bを介してyステージ103に連結されている。
105のロッド105aの自由端に一体的に設けられた
突当て板105cと、xステージ102の側面から突出
する一対のL形部材105dからなり、突当て板105
cは、xステージ102の側面とこれに対向する各L形
部材105dの係止部105eの間に形成されたすき間
に遊合され、該すき間の寸法は数ミクロンないし数10
ミクロンである。図示しない指令ラインの指令信号を受
けてx電動シリンダ105のロッド105aが前進する
ときは、突当て板105cがxステージ102に当接さ
れてこれを前進させ、x電動シリンダ105のロッド1
05aが後退するときは突当て板105cが各L形部材
105dの係止部105eに係合してxステージ102
を後退させる。これによって、xステージ102を、前
記指令信号に基づくx方向指令位置まで数ミクロンを残
すところへ移動させる。yすき間継手107bについて
も同様に構成されている。
01と一体である固定子106aと、xステージ102
と一体である小型の可動子106bからなり、yリニア
モータ108も同様にxステージ102と一体である固
定子108aと、yステージ103と一体である小型の
可動子108bからなる。各固定子106a,108a
は、図9に示すように、多数のコイルC0 を長尺のコイ
ル保持体H0 に保持させたものであり、各コイルC0 に
電流が供給されたときの磁場の変化によって各可動子1
06b,108bに推力を発生するもので、前述のよう
にx電動シリンダ105やy電動シリンダ107の駆動
によってxステージ102やyステージ103が移動
し、これらとともに各可動子106b,108bが移動
したとき、各可動子106b,108bの新たな位置を
検出して所定のコイルに電流を供給する電流切換装置を
備えている。
4aを有し、吸着面104aは真空吸着力によってウエ
ハW0 を吸着する。ウエハチャック104のx方向の位
置は、yステージ103に設けられた図示しないxミラ
ーの反射光を受光するx干渉計によってモニタされ、そ
の出力は図示しないxサーボ演算器に負帰還され、xサ
ーボ演算器は指令ラインから送信される指令信号とx干
渉計の出力の差に基づいてxリニアモータ106を駆動
し、xステージ102を微小量だけ移動させる。また、
ウエハチャック104のy方向の位置は、yステージ1
03に設けられたyミラーの反射光を受光する図示しな
いy干渉計によってモニタされ、その出力は図示しない
yサーボ演算器に負帰還され、yサーボ演算器はyリニ
アモータ108を駆動してyステージ103を微小量だ
け移動させる。このようなxリニアモータ106および
yリニアモータ108による微動調節は、前述のよう
に、xステージ102、yステージ103がそれぞれの
指令信号に基づく指令位置まで数ミクロンを残すところ
へx電動シリンダ105、y電動シリンダ107によっ
て移動されたのちに行われるもので、これによってyス
テージ103は最終的に位置決めされる。
シリンダ107は、それぞれ図10に示すように、ウォ
ータジャケット付きのモータMと、ギヤ列Gと、軸受B
によって回転自在に支持されたねじ棒Rと、これによっ
て軸方向に移動されるナットNからなり、ナットNは、
x電動シリンダ105、y電動シリンダ107のそれぞ
れのロッド105a,107aに一体的に設けられたも
のであり、モータMの回転をギヤ列Gを介してねじ棒R
に伝達し、ねじ棒Rの回転によってナットNを進退させ
るように構成されている。モータMは前述のようにウォ
ータージャケット付きであるため、その発熱によってx
ステージ102やyステージ103の温度が上昇するお
それはない。また、xリニアモータ106およびyリニ
アモータ108は位置決めサーボにのみ用いられ、ステ
ージの加減速はしないので、発熱量は極めて小さく、前
述のように小型の設計が可能である。位置決めステージ
装置E0 は、このようにxステージ102およびyステ
ージ103の駆動装置の発熱による位置決めの精度の低
下を極力防ぐとともに、リニアモータによる高精度で応
答性の高い位置決めを実現するものである。
の技術によれば、前述のように、各リニアモータの固定
子が多数のコイルを有し、各電動シリンダの駆動によっ
て各リニアモータの可動子が新たな位置へ移動したとき
に各可動子の位置を検出して所定のコイルを選択し、こ
れに電流を供給する必要があるため、可動子の位置を検
出する位置センサや、その出力に基づいてコイルを選択
して電流を供給するための複雑な電流切換装置を設けな
ければならず、位置決めステージ装置全体が大型化かつ
複雑化するのを避けることができない。
に鑑みてなされたものであり、微動調節用のリニアモー
タのコイルを複数にする必要のない位置決めステージ装
置を提供することを目的とするものである。
め、本発明の位置決めステージ装置は、案内手段に沿っ
て所定の軸方向に往復移動自在である移動台と、該移動
台を前記軸方向へ移動させる第1の駆動手段と、前記移
動台を前記軸方向へ微小量だけ移動させるリニアモータ
からなる第2の駆動手段を有し、前記リニアモータの可
動子と固定子のうちの一方が前記移動台と一体的に設け
られており、他方が、前記第1の駆動手段によって前記
移動台が移動するときにこれとともに移動するように構
成されていることを特徴とする。
動台を目的位置の近くまで移動させたうえで、第2の駆
動手段によって微動調節を行う。移動台が第1の駆動手
段によって移動されるとき、これとともにリニアモータ
の可動子と固定子も移動するため、リニアモータのコイ
ルを複数にする必要がない。その結果、コイルを選択す
るための位置センサや電流切換装置を必要としない。
装置を示す模式斜視図であって、本実施例の露光装置
は、シンクロトロン放射光等のX線を露光光とする露光
手段を有するX線露光装置である。図1に示す縦型の位
置決めステージ装置E−1は、ベース1と一体である案
内手段であるxガイド2aに案内されて水平面内の一方
向(以下、「x方向」という。)に往復移動自在である
移動台であるxステージ2と、xステージ2と一体であ
る案内手段であるyガイド3aに案内されて垂直方向
(以下、「y方向」という。)に往復移動自在である移
動台であるyステージ3と、yステージ3に設けられた
ウエハチャック4と、xステージ2をx方向に移動させ
る第1の駆動手段であるx電動シリンダ5と、xステー
ジ2をx方向に微小量だけ移動させる第2の駆動手段で
あるxリニアモータ6と、yステージ3をy方向に移動
させる一対の第1の駆動手段であるy電動シリンダ7
と、yステージ3をy方向に微小量だけ移動させる一対
の第2の駆動手段であるyリニアモータ8と、yステー
ジ3の重量を張力によって相殺する定張力バネ9からな
り、x電動シリンダ5のロッド5aはxすき間継手5b
を介してxステージ2に連結され、各y電動シリンダ7
のロッド7aはyすき間継手7bを介してyステージ3
に連結されている。
ロッド5aの自由端に一体的に設けられた当接手段であ
る突当て板5cと、xステージ2の側面から突出する一
対のL形部材5dからなり、突当て板5cは、xステー
ジ2の側面とこれに対向する各L形部材5dの係止部5
eの間に形成されたすき間に遊合され、該すき間の寸法
は数ミクロンないし数10ミクロンである。図示しない
指令ラインの指令信号を受けてx電動シリンダ5のロッ
ド5aが前進するときは、突当て板5cがxステージ2
に当接されてこれを前進させ、x電動シリンダ5のロッ
ド5aが後退するときは突当て板5cがL形部材5dの
係止部5eに係合してxステージ2を後退させる。x電
動シリンダ5はこのようにしてxステージ2を前記指令
信号に基づくx方向指令位置まで数ミクロンを残すとこ
ろへ移動させる。
当接手段である突当て板7cと一対のL形部材7dから
構成されている。
突当て板5cと一体である固定子6aと、xステージ2
と一体である小型の可動子6bからなり、各yリニアモ
ータ8も同様にyすき間継手7bの突当て板7cと一体
である固定子8aと、yステージ3と一体である小型の
可動子8bからなる。
拡大して示すように、1個のコイルC1 をxすき間継手
5bの突当て板5cと一体的に結合させたものであり、
前述のようにx電動シリンダ5の駆動によってxステー
ジ2が移動したとき、これとともに移動する。各yリニ
アモータ8の固定子8bも同様に1個のコイルをyすき
間継手7bの突当て板7cと一体的に結合させたもので
あり、各y電動シリンダ7の駆動によってyステージ3
が移動したとき、これとともに移動する。すなわち、多
数のコイルを直列に配設した従来例の固定子と異なり、
本実施例の各固定子6a,8aは1個のコイルからな
り、x電動シリンダ5およびy電動シリンダ7が駆動さ
れたとき、該コイルが、各可動子6b,8bとともに、
xステージ2、yステージ3のそれぞれの指令位置に数
ミクロンを残すところまで移動するように構成されてい
るため、可動子6b,8bの位置を検出する位置センサ
やコイルを選択励磁するための電流切換装置を必要とせ
ず、従って、各可動子6b,8bとともに各固定子6
a,8bを大幅に小形化することができるうえに、装置
の簡略化に大きく貢献するものである。
aを有し、吸着面4aは真空吸着力によってウエハWを
吸着する。ウエハチャック4のx方向の位置は、yステ
ージ3に設けられた図示しないxミラーの反射光を受光
するx干渉計によってモニタされ、その出力は図示しな
いxサーボ演算器に負帰還され、xサーボ演算器は指令
ラインから送信される指令信号とx干渉計の出力の差に
基づいてxリニアモータ6を駆動し、xステージ2を移
動させる。また、ウエハチャック4のy方向の位置は、
yステージ3に設けられたyミラーの反射光を受光する
図示しないy干渉計によってモニタされ、その出力は図
示しないyサーボ演算器に負帰還され、yサーボ演算器
は各yリニアモータ8を駆動してyステージ3を移動さ
せる。
リンダ7は、それぞれ従来例と同様に、図示しないウォ
ータジャケット付きのモータと、ギヤ列と、軸受によっ
て回転自在に支持されたねじ棒と、これによって軸方向
に移動されるナットからなり、ナットは、x電動シリン
ダ5、両y電動シリンダ7のそれぞれのロッド5a,7
aに一体的に設けられており、モータの回転をギヤ列を
介してねじ棒に伝達し、ねじ棒の回転によってナットを
進退させるように構成されており、モータの発熱によっ
てxステージ2やyステージ3の温度が上昇するおそれ
はない。また、xリニアモータ6および各yリニアモー
タ8は位置決めサーボにのみ用いられ、ステージの加減
速はしないので、発熱量は極めて小さく、前述のように
小型の設計ができる。位置決めステージ装置E−1は、
このようにxステージおよびyステージの駆動装置の発
熱による位置決めの精度の低下を極力防ぎ、リニアモー
タによる高精度で応答性の高い位置決めを実現するとと
もに、各リニアモータの固定子の小形化や位置センサや
電流切換装置の省略によって、位置決めステージ装置全
体の小形化および簡略化を大幅に促進するものである。
の位置決めステージ装置E−2は、第1実施例の一対の
y電動シリンダ7の替わりに、より大形のy電動シリン
ダ17を1個用いてそのロッド17aをyすき間継手1
7bによってyステージ3に連結するとともに、微動調
節用のxリニアモータ6の替わりにリニアモータである
ボイスコイルモータ18を設け、ボイスコイルモータ1
8の固定子18bおよびyリニアモータ8の固定子8b
をそれぞれx方向およびy方向へ移動させるための第3
の駆動手段であるx補助シリンダ19およびy補助シリ
ンダ20を用いたものである。x補助シリンダ19はx
電動シリンダ5と同期して同方向に同量だけ駆動され、
y補助シリンダ20はy電動シリンダ17と同期して同
方向に同量だけ駆動される。ベース1、xステージ2、
yステージ3、ウエハチャック4、x電動シリンダ5、
そのロッド5a、xすき間継手5b、yリニアモータ
8、定張力バネ9については第1実施例と同様であるの
で同一符号で表わし、説明は省略する。本変形例はyリ
ニアモータ8およびボイスコイルモータ18の可動子の
取付位置を限定する必要がないため、yリニアモータ8
やボイスコイルモータ18の駆動時の防振効果等を考慮
して最適な取付位置を選ぶことができる。
で、これは、第2実施例のx電動シリンダ5のロッド5
aをxステージ2に連結するxすき間継手5bおよびy
電動シリンダ17のロッド17aをyステージ3に連結
するyすき間継手17bの替わりに、それぞれ、一対の
平行バネからなるxバネ継手25bおよびyバネ継手2
7bを用いたものである。すなわち、xバネ継手25b
はx電動シリンダ5のロッド5aの自由端を挟持する一
対の平行バネ28a,28bからなり、これらはxステ
ージ2に保持されており、x電動シリンダ5のロッド5
aは平行バネ28a,28bの弾力性の許す範囲内にお
いてxステージ2に対してx方向へ往復微動できるよう
に構成されている。yバネ継手27bも同様に一対の平
行バネ29a,29bからなり、y電動シリンダ17の
ロッド17aはこれらの弾力性の許す範囲内においてy
ステージ3に対してy方向へ往復微動できるように構成
されている。
装置を示すもので、本実施例の露光装置は、図示しない
ウエハ等基板を水平に保持して露光する露光手段を有す
る縮小投影型の露光装置(ステッパ)である。図5の位
置決めステージ装置E−3は、水平な案内面31aとこ
れに沿って所定の方向(以下、「X方向」という。)に
のびる一対の案内手段であるガイド31bを有するベー
ス31と、図示しない静圧軸受によって案内面31a上
に非接触で支持され、ガイド31bに沿って往復移動自
在である移動台であるXステージ32と、Xステージ3
2の案内手段である案内面に沿ってX方向と直交するY
方向へ往復移動自在である移動台であるYステージ33
からなり、ウエハ等基板はYステージ33の上面に設け
られた吸着面に吸着される。Xステージ32は、交互に
または互に逆方向に駆動される一対の第1の駆動手段で
あるX電動シリンダ34によってX方向に移動される。
すなわち、各X電動シリンダ34の当接手段であるロッ
ド34aはXステージ32のX方向の各端面に当接され
ており、Xステージ32は、一方のX電動シリンダ34
の駆動力によってX方向へ前進し、他方のX電動シリン
ダ34の駆動力によって後退するように構成されてい
る。また、Yステージ33を、Xステージ32によって
Y方向へ移動させる駆動装置は、Yステージ33のY方
向の各端面に当接される一対の当接手段である突当て棒
35cを有し、各突当て棒35cは、ねじ棒35aの回
転によってY方向へ移動し、両ねじ棒35aは互に逆方
向に回転駆動される第1の駆動手段であるYモータ35
によって回転される。すなわち、Yステージ33は、一
方のYモータ35の駆動力によってY方向に前進し、他
方のYモータ35の駆動力によって後退する。
れぞれ微動調節用に一対ずつ設けられた第2の駆動手段
であるXリニアモータ36、Yリニアモータ38の可動
子36b,38bを保持しており、各Xリニアモータ3
6の固定子36aは1個のコイルからなり、各X電動シ
リンダ34と同期して駆動される第3の駆動手段である
X補助モータ39によってXステージ32の移動ととも
に同方向に同量だけ移動するように構成され、各Yリニ
アモータ38の固定子38aも同様に1個のコイルから
なり、各Yモータ35と同期して駆動される第3の駆動
手段であるY補助モータ40によってYステージ33の
移動とともに同方向に同量だけ移動するように構成され
ている。
36aのみを拡大して示すもので、固定子36aはX補
助モータ39によって回転されるねじ棒39aに螺合す
るナット部材39bと一体であり、ナット部材39b
は、ねじ棒39aと平行に配設された案内棒39cに沿
って摺動する。各Yリニアモータ38の固定子38aに
ついても同様にY補助モータ40によって回転されるね
じ棒40aに螺合し、案内棒40cに沿って移動するナ
ット部材40bと一体である。
よびYリニアモータ38は、Xステージ32およびYス
テージ33が所定の指令信号に基づくX電動シリンダ3
4およびYモータ35の駆動によってそれぞれの指令位
置まで数ミクロンを残す位置まで移動したのちに駆動さ
れ、最終的な微動調節を行う。各Xリニアモータ36お
よびYリニアモータ38の固定子36a,38aはXス
テージ32およびYステージ33とそれぞれ同期して同
方向に同量だけ移動するため、従来例のようにコイルを
複数設ける必要がない。
これは、各Yリニアモータ38の固定子38aを一方の
Yモータ35によって駆動される突当て棒35cに一体
的に設けるとともに、各Xリニアモータ36の固定子3
6aを各X電動シリンダ34のロッド34aと一体的に
設けたものである。本変形例は各固定子36a,38a
を駆動するための補助モータを必要としないが、各固定
子36a,38aのXステージ32、Yステージ33に
対する取付位置が極めて狭い範囲に限定され、Xステー
ジ32をX方向へ駆動する両X電動シリンダ34をXス
テージ32の両側へ分散して配設する必要がある等の制
約を有する。
ので、以下に記載するような効果を奏する。
を必要とせず、従って、前記リニアモータのコイルを選
択するための位置センサや電流切換装置を設ける必要が
ない。その結果、位置決めステージ装置の小形化や簡略
化を促進できる。
斜視図である。
結部分を拡大して示す拡大部分斜視図である。
斜視図である。
形例を示す斜視図である。
斜視図である。
結部分を拡大して示す拡大部分斜視図である。
形例を示す斜視図である。
分斜視図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 案内手段に沿って所定の軸方向に往復移
動自在である移動台と、該移動台を前記軸方向へ移動さ
せる第1の駆動手段と、前記移動台を前記軸方向へ微小
量だけ移動させるリニアモータからなる第2の駆動手段
を有し、前記リニアモータの可動子と固定子のうちの一
方が前記移動台と一体的に設けられており、他方が、前
記第1の駆動手段によって前記移動台が移動するときに
これとともに移動するように構成されていることを特徴
とする位置決めステージ装置。 - 【請求項2】 可動子が移動台と一体的に設けられてお
り、第1の駆動手段が前記移動台に設けられた一対の互
に逆向きの当接面に交互に当接される当接手段を有し、
該当接手段に固定子が一体的に設けられていることを特
徴とする請求項1記載の位置決めステージ装置。 - 【請求項3】 可動子が移動台と一体的に設けられてお
り、固定子が第3の駆動手段によって移動するように構
成されていることを特徴とする請求項1記載の位置決め
ステージ装置。 - 【請求項4】 請求項1ないし3いずれか1項記載の位
置決めステージ装置と、これに支持された基板を露光す
る露光手段を有することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21099993A JP3072212B2 (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 位置決めステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
US08/282,328 US5537186A (en) | 1993-08-03 | 1994-07-29 | Movable stage mechanism and exposure apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21099993A JP3072212B2 (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 位置決めステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0750252A true JPH0750252A (ja) | 1995-02-21 |
JP3072212B2 JP3072212B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=16598654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21099993A Expired - Fee Related JP3072212B2 (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 位置決めステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3072212B2 (ja) |
-
1993
- 1993-08-03 JP JP21099993A patent/JP3072212B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3072212B2 (ja) | 2000-07-31 |
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