JPH0749415A - Manufacture of color filter - Google Patents

Manufacture of color filter

Info

Publication number
JPH0749415A
JPH0749415A JP19462893A JP19462893A JPH0749415A JP H0749415 A JPH0749415 A JP H0749415A JP 19462893 A JP19462893 A JP 19462893A JP 19462893 A JP19462893 A JP 19462893A JP H0749415 A JPH0749415 A JP H0749415A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
black matrix
pixel
light
solution
forming solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19462893A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keijiro Inoue
敬二郎 井上
Kuniko Kimura
邦子 木村
Nobuo Matsumura
宣夫 松村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP19462893A priority Critical patent/JPH0749415A/en
Publication of JPH0749415A publication Critical patent/JPH0749415A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Abstract

PURPOSE:To provide a color filter which has a high light-shielding black matrix and also is excellent in surface flatness by applying a black matrix forming solution, after picture elements having oil repellency or water repellency to the black matrix forming solution have been formed on a light transmissible base. CONSTITUTION:Picture elements of a plurality of colors that have been patterned are laminated on a light transmissible base. The picture element has gaps in which a black matrix can be formed and also has such a characteristic that the oil repellency or water repellency to a black matrix forming solution is large. The black matrix forming solution is mixed with a light-shielding agent and is chiefly colored in black color; and when it is applied, in the picture element part, the solution is repelled and does not adhere to it, so that the solution can be applied to the picture-element gap parts where oil repellency or water repellency to the black matrix forming solution does not act. After drying, a desired color filter can be manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子に使用さ
れるカラーフィルタに関するものであり、さらに詳しく
は、表示品質の高い低コストな液晶表示用カラーフィル
タの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used in a liquid crystal display device, and more particularly to a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display which has high display quality and is low in cost.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、液晶表示用カラーフィルタは、
光透過性基板上に形成された赤、緑、青の三原色の画素
を一絵素として多数の絵素から構成される。そして、各
画素間には、表示コントラストを高めるために一定の幅
を持つストライプ状、格子状などの遮光領域(一般に黒
色で、ブラックマトリックスと称されている)が設けら
れている。
2. Description of the Related Art Generally, color filters for liquid crystal displays are
Pixels of three primary colors of red, green and blue formed on a light transmissive substrate are composed of a large number of picture elements as one picture element. Between each pixel, stripe-shaped or grid-shaped light-shielding regions (generally black and called a black matrix) having a certain width are provided in order to enhance display contrast.

【0003】従来のカラーフィルタは、予めフォトリソ
グラフィ法でパターン化されたブラックマトリックスを
利用しており、微細なパターンからなる金属薄膜により
形成されることが多い。このブラックマトリックスに用
いられている金属としては、Cr、Ni、Al等があ
り、その形成方法としては、スパッタ法や真空蒸着法な
どの真空薄膜形成法が広く用いられている。次に、微細
なパターンを形成するために、通常フォトリソグラフィ
の手法により、フォトレジストのパターンを形成した
後、このレジストパターンをエッチングマスクとして金
属薄膜のエッチングを行なう。この工程により、フォト
レジストの微細パターンと一致する金属薄膜の微細パタ
ーンを形成することができる。
A conventional color filter utilizes a black matrix which has been patterned by a photolithography method in advance, and is often formed of a metal thin film having a fine pattern. The metals used for the black matrix include Cr, Ni, Al and the like, and as a forming method thereof, a vacuum thin film forming method such as a sputtering method or a vacuum evaporation method is widely used. Next, in order to form a fine pattern, a photoresist pattern is usually formed by a photolithography technique, and then the metal thin film is etched using the resist pattern as an etching mask. By this step, a fine pattern of the metal thin film that matches the fine pattern of the photoresist can be formed.

【0004】また、画素を形成する方法としては、フォ
トリソグラフィの手法を用いて形成するのが一般的で、
可染媒体を染色する方法、顔料分散感光性組成物を用い
る方法、パターニングした電極を利用した電着法などの
他に、低コストの製造方法として印刷法やインクジェッ
ト法で着色部分を形成する方法もある。
Further, as a method for forming pixels, it is general to use a photolithography technique.
In addition to a method of dyeing a dyeable medium, a method of using a pigment-dispersed photosensitive composition, an electrodeposition method using a patterned electrode, etc., a method of forming a colored portion by a printing method or an inkjet method as a low-cost manufacturing method. There is also.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、金属薄膜に
より形成されたブラックマトリックスは、金属薄膜を形
成する工程での製造コストが高く、カラーフィルタその
ものの価格を引き上げる原因になっている。さらに、ブ
ラックマトリックス用の金属薄膜として一般に用いられ
ているCrは反射率が高いため、外光の強い場所ではC
r面からの反射光も強く、特に透過型のディスプレーに
カラーフィルタを組み込んだ場合には、表示品位を著し
く損ねるという問題があった。この反射光を低減させる
ためには、Crと光透過性基板間に酸化クロムのような
層を設ける方法が提案されているが、ブラックマトリッ
クスの製造コストはさらに増加することになり、コスト
ダウンの点からは好ましくない。
However, the black matrix formed of the metal thin film has a high manufacturing cost in the step of forming the metal thin film, which causes the price increase of the color filter itself. Further, since Cr, which is generally used as a metal thin film for the black matrix, has a high reflectance, C is used in a place where the external light is strong.
The light reflected from the r-plane is also strong, and there is a problem that the display quality is significantly impaired, especially when a color filter is incorporated in a transmissive display. In order to reduce this reflected light, a method of providing a layer such as chromium oxide between Cr and the light transmissive substrate has been proposed, but the manufacturing cost of the black matrix will be further increased, and the cost will be reduced. It is not preferable from the point of view.

【0006】このため、例えば遮光剤によって着色され
た樹脂をパターニング化したり、可染性の樹脂をパター
ニングした後黒色に染色したりして、ブラックマトリッ
クスを形成した後、複数色の画素を形成してカラーフィ
ルタを製造する方法が提案されている。しかし、これら
の方法では、十分な遮光性を得るためにはブラックマト
リックスの膜厚を厚くする必要がある。しかし、従来の
カラーフィルタの形成方法においては、画素は、本来の
画素領域部のみではなく、遮光領域部、すなわちブラッ
クマトリックス上にも若干重なるように形成しており、
そのため本来の画素領域部ととブラックマトリックス部
での総膜厚に差が生じ、カラーフィルタ表面の平坦性が
非常に悪くなる。したがって、十分な遮光性を有するブ
ラックマトリックスと良好な表面平坦性を両立すること
は、非常に難しいという問題があった。
Therefore, for example, a resin colored with a light shielding agent is patterned, or a dyeable resin is patterned and then dyed black to form a black matrix, and then pixels of a plurality of colors are formed. A method of manufacturing a color filter has been proposed. However, in these methods, it is necessary to increase the film thickness of the black matrix in order to obtain a sufficient light shielding property. However, in the conventional method of forming a color filter, the pixels are formed not only in the original pixel area portion but also in the light-shielding area portion, that is, on the black matrix,
Therefore, a difference occurs in the total film thickness between the original pixel region portion and the black matrix portion, and the flatness of the color filter surface becomes extremely poor. Therefore, there is a problem that it is very difficult to satisfy both the black matrix having a sufficient light shielding property and the good surface flatness.

【0007】本発明は、かかる技術の諸欠点に鑑み、創
案されたもので、その目的とするところは、高遮光性の
ブラックマトリックスを有し、かつ表面平坦性に優れた
カラーフィルタを製造する方法を提供することにある。
The present invention was devised in view of the drawbacks of such a technique, and an object thereof is to produce a color filter having a black matrix having a high light-shielding property and excellent in surface flatness. To provide a method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
光透過性基板上にブラックマトリックス用間隙を有し、
かつブラックマトリックス形成用溶液に対して撥油また
は撥水作用を有する画素を形成した後、該ブラックマト
リックス形成用溶液を塗布することにより該画素間隙に
ブラックマトリックスを形成することを特徴とするカラ
ーフィルタの製造方法によって達成される。
The object of the present invention is as follows.
Having a black matrix gap on the light-transmissive substrate,
A color filter characterized by forming a pixel having an oil-repellent or water-repellent action on a black matrix forming solution and then applying the black matrix forming solution to form a black matrix in the pixel gap. It is achieved by the manufacturing method of.

【0009】すなわち、本発明は、以下の製造方法によ
ってカラーフィルタ用ブラックマトリックスを製造しよ
うとするものである。まず、光透過性基板上にパターン
化された複数色の画素を積層する。この画素は、ブラッ
クマトリックスが形成できるよう間隙を有し、かつブラ
ックマトリックス形成用の溶液に対して溌油または溌水
作用の大なる特性を有しているものである。ブラックマ
トリックス形成用溶液は、遮光剤を混入して主として黒
色に着色されたもので、この上に塗布する。このとき、
画素部分ではブラックマトリックス形成用溶液ははじか
れるため付着せず、よって、ブラックマトリックス形成
用の溶液に対して溌油または溌水作用を示さない画素間
隙部分に溶液を塗布せしめることができる。この後、乾
燥することよって所望のブラックマトリックスを製造で
きる。本発明の製造方法では、遮光剤を所定の濃度に混
入した溶液を所定の量だけ塗布することによって、ブラ
ックマトリックス部の膜厚を画素部の膜厚と同等にする
ことが可能であり、容易に表面平坦性に優れたカラーフ
ィルタを製造することができる。また、画素の膜厚は比
較的厚いため、ブラックマトリックスの遮光性を十分高
いものとすることができる。
That is, the present invention is intended to manufacture a black matrix for a color filter by the following manufacturing method. First, patterned pixels of a plurality of colors are stacked on a light transmissive substrate. This pixel has a gap so that a black matrix can be formed, and has a large property of oil-repelling or water-repelling action with respect to the solution for forming the black matrix. The black matrix forming solution is mainly colored black by mixing a light shielding agent, and is applied onto this. At this time,
Since the black matrix forming solution is repelled in the pixel portion and does not adhere to the pixel portion, the solution can be applied to the pixel gap portion which does not exhibit oil-repelling or water-repelling action with respect to the black matrix forming solution. After that, the desired black matrix can be manufactured by drying. In the manufacturing method of the present invention, it is possible to make the film thickness of the black matrix part equal to the film thickness of the pixel part by applying a predetermined amount of a solution containing a light-shielding agent mixed in a predetermined concentration, which is easy. It is possible to manufacture a color filter having excellent surface flatness. In addition, since the pixel has a relatively large film thickness, the light-shielding property of the black matrix can be made sufficiently high.

【0010】以下、さらに詳細に説明する。まず最初
に、本発明に用いられる光透過性基板としては、特に限
定されるものではなく、ガラス、プラスチックのフィル
ムまたはシートなどが好ましく用いられる。
The details will be described below. First, the light transmissive substrate used in the present invention is not particularly limited, and a glass or plastic film or sheet is preferably used.

【0011】次に、光透過性基板上に複数色の画素を形
成する。画素は、まず、画素形成用溶液を光透過性基板
上に塗布し、熱風で乾燥することによって着色層を積層
した後、フォトリソグラフィの手法を用いて着色層をパ
ターン化することによって画素を形成する。同様にし
て、光透過性基板上にパターン化された複数色の画素を
形成する。
Next, pixels of a plurality of colors are formed on the light transmissive substrate. Pixels are first formed by applying a pixel forming solution on a light-transmissive substrate and stacking the colored layers by drying with hot air, and then patterning the colored layers using a photolithography technique. To do. Similarly, patterned pixels of a plurality of colors are formed on the light transmissive substrate.

【0012】本発明に用いられる画素は、次工程で遮光
剤を混入したブラックマトリックス形成用溶液を塗布し
た時に、その溶液に対して十分な撥油または撥水作用を
有するものであり、ブラックマトリックス形成用溶液を
はじき、少なくともその溶液が画素上に残らないような
反発性を有するものである。すなわち、画素としては、
ブラックマトリックス形成用溶液の後退接触角が20°
以上、好ましくは40°以上、さらに好ましくは80°
以上であるような反発性を有することが望ましい。この
ため、画素は、ブラックマトリックス形成用溶液に対し
て、十分な溌油・溌水作用を付与する必要がある。すな
わち、画素形成用溶液としては、少なくとも着色剤、バ
インダー樹脂、溶媒以外に、ブラックマトリックス形成
用溶液に対して撥油または撥水作用を付与せしめる成分
からなる。着色剤は、画素形成用溶液中に分散または溶
解させ、バインダー樹脂は溶解させて用いる。撥油また
は撥水作用を付与せしめる成分がバインダー樹脂を兼ね
ていてもよく、この場合は、撥油または撥水作用の大な
る樹脂を画素形成用溶液中に溶解させて用いる。また、
撥油または撥水作用をもたない通常用いられている種々
の樹脂をバインダー樹脂として用いた場合は、撥油・撥
水作用の大なる材料を画素形成用溶液中に分散、または
溶解させて用いることができる。
The pixel used in the present invention has a sufficient oil-repellent or water-repellent action on the solution when a black matrix-forming solution containing a light-shielding agent is applied in the next step. It has a resilience so that it repels the forming solution and at least the solution does not remain on the pixel. That is, as a pixel,
The receding contact angle of the black matrix forming solution is 20 °
Or more, preferably 40 ° or more, more preferably 80 °
It is desirable to have the resilience as described above. Therefore, it is necessary for the pixel to impart a sufficient oil / water repellent action to the black matrix forming solution. That is, the pixel forming solution includes at least a colorant, a binder resin, a solvent, and a component that imparts oil repellency or water repellency to the black matrix forming solution. The colorant is dispersed or dissolved in the pixel forming solution, and the binder resin is dissolved before use. The component that imparts oil repellency or water repellency may also serve as the binder resin. In this case, a resin having a large oil repellency or water repellency is dissolved in the pixel forming solution before use. Also,
When various commonly used resins that do not have oil repellency or water repellency are used as the binder resin, disperse or dissolve a material having a large oil repellency or water repellency in the pixel forming solution. Can be used.

【0013】非感光性の撥油または撥水作用の大なる樹
脂としては、界面エネルギーの低い、ケイ素、フッ素等
の原子を含む樹脂が好適に用いられる。例えば、主鎖ま
たは側鎖に有機シリコーンを有するもので、鎖状構造も
しくは環状構造を有するシロキサン成分を含むシリコー
ン樹脂やシリコーンゴム、この他にはフッ化ビニリデ
ン、フッ化ビニル、三フッ化エチレンなどやこれらの共
重合体、もしくは四フッ化エチレンや他の重合体との共
重合体などの弗素樹脂等も好適に用いられる。
As the non-photosensitive resin having a large oil-repellent or water-repellent effect, a resin having a low interfacial energy and containing atoms such as silicon and fluorine is preferably used. For example, those having organic silicone in the main chain or side chain, silicone resin or silicone rubber containing a siloxane component having a chain structure or a cyclic structure, vinylidene fluoride, vinyl fluoride, ethylene trifluoride, etc. Further, a fluororesin such as a copolymer thereof or a copolymer with ethylene tetrafluoride or another polymer is also preferably used.

【0014】また、ブラックマトリックス形成溶液に対
して撥油または撥水作用を示さないエポキシ系樹脂、ア
クリル系、ポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ポリビニル系樹脂、ゼラチン等の通常用
いられている種々の非感光性樹脂をバインダーとして用
いた場合は、撥油または撥水作用の大なる材料を分散、
または溶解させたものが好適に用いることができる。撥
油または撥水作用の大なる材料とは、界面エネルギーの
低い、フッ素、ケイ素等の原子を含む材料が好ましい。
フッ素原子を含む撥油または撥水作用の大なる材料とし
ては、四フッ化エチレンからなるポリマーおよびオリゴ
マーがあり、溶媒に不溶であるため反発層中に微粒子と
して分散させるのに適している。これ以外に、低分子化
合物としては、分子内にフッ素原子を含む基と親水性お
よびまたは親油性基を有するものも適しており、これら
の分子構造を有するものとしては、例えばフッ素系界面
活性剤として知られているものが好適に用いられ、一般
式(1)〜(6)で表わされる。
Further, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyvinyl resin, gelatin, or the like which is not oil-repellent or water-repellent to the black matrix forming solution is usually used. When various non-photosensitive resins are used as binders, it disperses materials having a large oil-repellent or water-repellent effect,
Alternatively, a dissolved product can be preferably used. The material having a large oil-repellent or water-repellent effect is preferably a material having a low interfacial energy and containing atoms such as fluorine and silicon.
Materials having a large oil-repellent or water-repellent action containing a fluorine atom include polymers and oligomers made of tetrafluoroethylene, which are insoluble in a solvent and are suitable for being dispersed as fine particles in a repulsion layer. In addition to these, as the low molecular weight compound, those having a group containing a fluorine atom and a hydrophilic and / or lipophilic group in the molecule are also suitable, and examples of those having such a molecular structure include, for example, fluorine-based surfactants. What is known as is preferably used and is represented by the general formulas (1) to (6).

【化1】 さらに、溶剤可溶性のポリマー、オリゴマーとしては、
フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、三フッ化エチレンな
どやこれらの共重合体、もしくは四フッ化エチレンや他
の重合体との共重合体などが適している。
[Chemical 1] Furthermore, as solvent-soluble polymers and oligomers,
Suitable are vinylidene fluoride, vinyl fluoride, ethylene trifluoride and the like, copolymers thereof, or copolymers with tetrafluoroethylene and other polymers.

【0015】画素を形成する方法としては、例えば、光
透過性基板上にパターン形成用の感光性樹脂層を積層
後、さらにその上に画素形成用溶液を塗布、乾燥し、着
色層を積層した後、フォトリソグラフィ法で感光性樹脂
層と着色層を同時にパターン化するいわゆるリフトオフ
法と称されている方法や、着色層とパターン形成用の感
光性樹脂層をこの順に積層した後、まず、感光性樹脂層
をフォトリソグラフィ法でパターン化し、その後パター
ン化した感光性樹脂層をマスクとして着色層をエッチン
グした後、感光性樹脂層を取り除く方法がある。
As a method for forming pixels, for example, a photosensitive resin layer for pattern formation is laminated on a light-transmissive substrate, and then a pixel forming solution is applied and dried to laminate a colored layer. After that, a method called a so-called lift-off method in which a photosensitive resin layer and a colored layer are simultaneously patterned by a photolithography method, or after stacking a colored layer and a photosensitive resin layer for pattern formation in this order, first, There is a method in which the photosensitive resin layer is patterned by photolithography, the colored layer is then etched using the patterned photosensitive resin layer as a mask, and then the photosensitive resin layer is removed.

【0016】パターン形成用の感光性樹脂としては、光
分解型樹脂、光架橋型感光性樹脂、光重合型樹脂などが
あり、IC、LSI等の製造用としてポジ型レジスト、
ネガ型レジストや印刷版材などとして用いられているも
のが好適に使用できる。光分解型樹脂としては、例えば
クレゾールノボラック樹脂にナフトキノンジアジド化合
物を配合したものがあり、光架橋型感光性樹脂として
は、エチレン性不飽和結合を有するモノマ、オリゴマ、
ポリマと、紫外線によってラジカルを発生する開始剤と
を主成分とする感光性組成物、感光性ポリアミック酸液
などが好適に用いられる。
Photosensitive resins for pattern formation include photodegradable resins, photocrosslinkable photosensitive resins, and photopolymerizable resins. Positive resists for manufacturing ICs, LSIs, etc.,
What is used as a negative resist or a printing plate material can be preferably used. Examples of the photodegradable resin include those in which a naphthoquinonediazide compound is mixed with a cresol novolac resin, and as the photocrosslinking photosensitive resin, a monomer having an ethylenically unsaturated bond, an oligomer,
A photosensitive composition containing a polymer and an initiator that generates a radical by ultraviolet rays as a main component, a photosensitive polyamic acid solution, and the like are preferably used.

【0017】画素の形成方法としては、これ以外にも、
バインダー樹脂として、感光性を付与したものを用いた
画素形成用溶液を光透過性基板上に塗布、乾燥し、着色
層を積層した後、これをフォトリソグラフィ法で直接パ
ターン化して画素を得る方法も利用できる。撥油または
撥水作用の大なる感光性樹脂としては、前述のパターン
形成用の感光性樹脂、特に、エチレン性不飽和結合を有
するモノマ、オリゴマ、ポリマと、紫外線によってラジ
カルを発生する開始剤とを主成分とする感光性組成物、
感光性ポリアミック酸液などの光架橋型感光性樹脂中に
撥油または撥水作用の大なる材料を同様に分散、または
溶解させたもの、撥油または撥水作用の大なる樹脂に感
光性を付与させたもので、例えば、界面エネルギーの低
い、ケイ素、フッ素等の原子を含む感光性樹脂で、主鎖
または側鎖に有機シリコーンを有するものや弗素樹脂等
が好適に用いられる。
In addition to this, as a method of forming pixels,
A method of obtaining a pixel by directly applying a photosensitivity-imparting solution as a binder resin to a pixel forming solution on a light-transmissive substrate, drying it, and laminating a coloring layer, and then directly patterning this by a photolithography method. Is also available. As the photosensitive resin having a large oil-repellent or water-repellent action, the above-mentioned photosensitive resin for pattern formation, particularly, a monomer, an oligomer or a polymer having an ethylenically unsaturated bond, and an initiator which generates a radical by ultraviolet rays, A photosensitive composition containing as a main component,
A photo-crosslinking photosensitive resin such as a photosensitive polyamic acid solution in which a material having a large oil-repellent or water-repellent effect is similarly dispersed or dissolved, or a resin having a large oil-repellent or water-repellent effect is made photosensitive. A photosensitive resin having a low interfacial energy and containing an atom such as silicon or fluorine, which has organic silicone in the main chain or side chain, or a fluororesin is preferably used.

【0018】また、撥油または撥水作用の大なる材料を
感光性および非感光性樹脂中に分散または溶解させて画
素を形成した場合、遮光剤を混入した溶液を塗布する前
に十分な熱処理をして、画素表面に、撥油または撥水作
用の大なる材料を表面に析出させることが有効である。
熱処理温度は、感光性および非感光性樹脂、撥油または
撥水作用の大なる材料のガラス転移温度以上が好まし
く、通常100℃以上、さらに好ましくは150℃以
上、より好ましくは200℃以上である。熱処理温度の
上限は、撥油または撥水作用の大なる材料が熱分解する
温度である。
When a pixel having a large oil-repellent or water-repellent effect is dispersed or dissolved in a photosensitive or non-photosensitive resin to form pixels, a sufficient heat treatment is applied before applying a solution containing a light-shielding agent. Then, it is effective to deposit a material having a large oil repellency or water repellency on the surface of the pixel.
The heat treatment temperature is preferably not lower than the glass transition temperature of the photosensitive and non-photosensitive resins and the material having a large oil-repellent or water-repellent action, and is usually 100 ° C. or higher, further preferably 150 ° C. or higher, and more preferably 200 ° C. or higher. . The upper limit of the heat treatment temperature is the temperature at which a material having a large oil repellency or water repellency is thermally decomposed.

【0019】画素の色は通常、赤、青、緑であり、着色
剤によって着色されている。画素に用いられる着色剤と
しては、有機顔料、無機顔料、染料などを好適に用いる
ことができる。有機顔料としては、フタロシアニン系、
アジレーキ系、縮合アゾ系、キナクリドン系、アントラ
キノン系、ペリレン系、ペリノン系などが好適に用いら
れる。
The colors of the pixels are usually red, blue and green, and are colored with a coloring agent. As the colorant used for the pixel, an organic pigment, an inorganic pigment, a dye or the like can be preferably used. As the organic pigment, a phthalocyanine-based pigment,
Azireki series, condensed azo series, quinacridone series, anthraquinone series, perylene series, perinone series and the like are preferably used.

【0020】着色剤もしくは撥油または撥水作用の大な
る材料を分散または溶解させる方法としては、公知の技
術を用いることができ、溶剤中に着色剤、撥油または撥
水作用の大なる材料を混合させ、ボールミル等の分散機
中で分散させたり、撹拌装置によって溶解させる。
As a method of dispersing or dissolving a colorant or a material having a large oil-repellent or water-repellent action, a known technique can be used, and a colorant, a material having a large oil-repellent action or a water-repellent action can be used in a solvent. Are mixed and dispersed in a disperser such as a ball mill, or dissolved by a stirrer.

【0021】着色層の塗布法としては、ディップ塗布、
ロールコータの他にホエラー、スピナーなどの回転塗布
法が好適に用いられる。
The coloring layer can be applied by dip coating,
In addition to the roll coater, spin coating methods such as whalers and spinners are preferably used.

【0022】着色層を画素パターンに加工する方法とし
ては、通常フォトリソグラフィ法を用い、光学マスクを
用いて着色層側から露光した後、現像処理を行ない、所
望のパターン状に画素を形成する。この場合着色層はネ
ガ型、ポジ型いずれの感光性を有する材料を用いること
ができる。
As a method for processing the colored layer into a pixel pattern, usually, a photolithography method is used, and after exposing from the colored layer side using an optical mask, development processing is performed to form pixels in a desired pattern. In this case, for the colored layer, a negative or positive photosensitive material can be used.

【0023】各画素の形状は、ストライプ状、モザイク
状、トライアングル状などにパターニングされるのが一
般的である。また、各画素間には通常10〜100μm
程度のスペースが設けられており、後工程でこの画素間
隙にブラックマトリックスが形成される。
The shape of each pixel is generally patterned in a stripe shape, a mosaic shape, a triangle shape, or the like. Also, between each pixel is usually 10 to 100 μm.
A space of a certain degree is provided, and a black matrix is formed in the pixel gap in a later process.

【0024】感光性樹脂を露光する時に用いられる光源
としては、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、紫外線蛍光
燈、キセノンランプ等が一般的である。露光終了後、現
像を行なう。現像により、未露光部は除去され、露光部
のみが光透過性基板上に残る。現像は、現像液に浸漬、
リンス、超音波洗浄、乾燥など公知の方法によって行な
うことができる。現像液としては、例えばアルカリ現像
可能な樹脂に対しては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等の無機アルカリやエタノールア
ミン等の有機アルカリの水溶液などが好ましく使用され
る。
As a light source used when exposing the photosensitive resin, a high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a xenon lamp and the like are generally used. After completion of exposure, development is performed. By the development, the unexposed portion is removed, and only the exposed portion remains on the light transmissive substrate. For development, dip in a developing solution,
It can be performed by a known method such as rinsing, ultrasonic cleaning, and drying. As the developing solution, for example, for an alkali developable resin, an aqueous solution of an inorganic alkali such as sodium carbonate, sodium hydroxide or potassium hydroxide or an organic alkali such as ethanolamine is preferably used.

【0025】次に、遮光剤を混入し、主として黒色に着
色されたブラックマトリックス形成用溶液を塗布する。
画素は、このブラックマトリックス形成用溶液に対して
撥油または撥水作用の大なる特性を有しており、従って
画素部分ではブラックマトリックス形成用溶液ははじか
れるため塗布されず、画素間隙部分のみにブラックマト
リックス形成用溶液を塗布せしめることができる。
Next, a light-shielding agent is mixed in, and a black matrix forming solution which is mainly colored black is applied.
Pixels have a large oil-repellent or water-repellent property with respect to the black matrix forming solution. Therefore, the black matrix forming solution is repelled in the pixel portion and thus is not applied, and only in the pixel gap portion. A black matrix forming solution can be applied.

【0026】遮光剤としては、無機および有機の顔料、
染料、金属粉、金属酸化物などが好的に用いられるが、
特にカーボンブラック、チタンブラックや赤、青、緑の
顔料の混合物が好ましい。
As the light-shielding agent, inorganic and organic pigments,
Dye, metal powder, metal oxide, etc. are preferably used,
A mixture of carbon black, titanium black and pigments of red, blue and green is particularly preferable.

【0027】ブラックマトリックス形成用溶液は、少な
くとも遮光剤と遮光剤を溶解または分散させる溶媒が必
要であるが、これ以外にもバインダーとなる樹脂、画素
との撥油または撥水作用をさらに高めるためやレベリン
グ性向上などを目的に種々の添加剤を加えることができ
る。撥油または撥水作用を高めるためには、遮光剤を混
入した溶液の表面張力は、高い方が好ましく、そのため
には表面張力の高い水などの極性溶媒を用いるのが好ま
しい。また、遮光剤を混入した溶液の流動性は高い方が
撥油または撥水作用が有効に作用する。溶液の粘度とし
ては、好ましくは500CP以下、より好ましくは10
0CP以下、さらに好ましくは50CP以下である。
The black matrix forming solution needs at least a light-shielding agent and a solvent for dissolving or dispersing the light-shielding agent. In addition to this, in order to further enhance the oil-repellent or water-repellent action with the resin serving as a binder and the pixel. Various additives can be added for the purpose of improving the leveling property. In order to enhance the oil repellency or water repellency, the surface tension of the solution containing the light shielding agent is preferably high, and for that purpose, it is preferable to use a polar solvent such as water having a high surface tension. Further, the higher the fluidity of the solution in which the light-shielding agent is mixed, the more effectively the oil repellency or water repellency acts. The viscosity of the solution is preferably 500 CP or less, more preferably 10 CP.
It is 0 CP or less, more preferably 50 CP or less.

【0028】遮光剤を分散または溶解させる方法として
は、公知の技術を用いることができ、溶剤中に遮光剤を
混合させ、ボールミル等の分散機中で分散させたり、撹
拌装置によって溶解させる。塗布方法は、ディップ塗
布、ロールコータ、ホエラー、スピナーなどの回転塗布
法が好的に用いられる。この中でもディップ塗布、ホエ
ラー、スピナーなどの回転塗布法は塗布中にブラックマ
トリックス形成用溶液の塗布量が基板上で均一化される
ため、ブラックマトリックスの膜厚均一性に優れ、特に
好ましい。
As a method of dispersing or dissolving the light-shielding agent, a known technique can be used. The light-shielding agent is mixed with a solvent and dispersed in a dispersing machine such as a ball mill or dissolved by a stirring device. As a coating method, a dip coating, a roll coater, a whaler, a spinner, or the like is preferably used. Of these, spin coating methods such as dip coating, whaler, and spinner are particularly preferable because the coating amount of the black matrix forming solution is made uniform on the substrate during coating, and thus the black matrix has excellent film thickness uniformity.

【0029】この後、熱風オーブン、ホットプレート等
により乾燥することよって所望のブラックマトリックス
を製造する。本発明の製造方法は、遮光剤を所定量だけ
混入した溶液を所定の量だけ塗布することによって、ブ
ラックマトリックス部の膜厚を画素部の膜厚に近づけこ
とが可能であり、容易に表面平坦性に優れたカラーフィ
ルタを製造することができる。また、画素の膜厚は、比
較的厚いため、ブラックマトリックスの遮光性も十分に
高いものとすることができる。
After that, the desired black matrix is manufactured by drying in a hot air oven, a hot plate or the like. According to the manufacturing method of the present invention, the film thickness of the black matrix portion can be made close to the film thickness of the pixel portion by applying a predetermined amount of a solution in which a predetermined amount of the light shielding agent is mixed, and the surface can be easily flattened. A color filter having excellent properties can be manufactured. Moreover, since the film thickness of the pixel is relatively large, the light-shielding property of the black matrix can be made sufficiently high.

【0030】前述の塗布方法でブラックマトリックスを
形成すると、画素および画素間隙に形成されるブラック
マトリックス部の外側にも、ブラックマトリックス部と
同様の遮光部が形成されてしまう。一般には、画素およ
び画素間隙に形成されるブラックマトリックスの周縁側
に隣接して額縁状の遮光部が形成され、さらにその外側
には、遮光部の形成を必要としない部分がある。額縁状
の遮光部はセル組みした時の画面端部からの光の漏れを
防ぎ、鮮明な画像を提供するために設けられたもので、
ブラックマトリックス形成用溶液の塗布によって作製で
きる。さらにその外側の遮光部の形成を必要としない部
分については、同様な手法により、撥油または撥水作用
の高い層を設けて付着させないようにする方法、後工程
でフォトリソエッチング法などで除去する方法を用いて
実現できる。
When the black matrix is formed by the above-mentioned coating method, a light shielding part similar to the black matrix part is formed outside the black matrix part formed in the pixel and the pixel gap. Generally, a frame-shaped light-shielding portion is formed adjacent to the peripheral side of the black matrix formed in the pixel and the pixel gap, and further, there is a portion outside of which a light-shielding portion is not required to be formed. The frame-shaped light-shielding part is provided to prevent light from leaking from the edge of the screen when cells are assembled and to provide a clear image.
It can be prepared by coating a solution for forming a black matrix. Further, for the portion which does not require the formation of the light-shielding portion on the outer side thereof, a method of providing a layer having a high oil-repellent or water-repellent action so as to prevent the adhesion by a similar method, and removing by a photolithographic etching method or the like in a later step It can be realized using the method.

【0031】以上、各色の画素形成後、ブラックマトリ
ックスを形成する方法について説明した。もちろん、所
望のブラックマトリックスを形成後、画素の反発性を除
去してもよい。反発性の除去方法としては、高温で熱処
理して、撥油または撥水作用を付与させる成分を変質、
分解などさせて撥油または撥水作用を低下せしめる方
法、撥油または撥水作用を付与させる成分を溶媒で抽出
する方法、画素上に撥油または撥水作用を持たない樹脂
層を積層する方法などが利用できる。
The method of forming the black matrix after forming the pixels of each color has been described above. Of course, after forming a desired black matrix, the resilience of the pixels may be removed. As a method of removing the repulsion, heat treatment at a high temperature is performed to alter the component that imparts oil repellency or water repellency,
A method of degrading the oil-repellent or water-repellent effect by decomposition or the like, a method of extracting a component imparting the oil-repellent or water-repellent effect with a solvent, a method of laminating a resin layer having no oil-repellent or water-repellent effect on a pixel Etc. can be used.

【0032】この後、必要に応じてトップコート層、I
TO透明電極および配向膜等を公知の方法により積層す
る。しかし、本発明の製造方法によれば、ブラックマト
リックス形成用溶液の固形分濃度と塗布量を調整するこ
とによって、画素部とブラックマトリックス部の段差を
容易に小さくできるので、トップコート層を省略するこ
とができ、製造収率の向上、コスト低減に特に有効であ
る。
Thereafter, if necessary, a top coat layer, I
The TO transparent electrode, the alignment film and the like are laminated by a known method. However, according to the manufacturing method of the present invention, the step difference between the pixel portion and the black matrix portion can be easily reduced by adjusting the solid content concentration and the coating amount of the black matrix forming solution, so that the top coat layer is omitted. This is particularly effective for improving the production yield and reducing the cost.

【0033】以下、実施例によって本発明を具体的に説
明する。
The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0034】[0034]

【実施例】【Example】

実施例1 赤、緑、青色顔料として各々Color Index No.73905 Pig
ment Red 209で示されるキナクリドン系顔料、Color In
dex No.74265 Pigment Green 36 で示されるフタロシア
ニングリーン系顔料Color Index No.74160 Pigment Blu
e 15-4で示されるフタロシアニンブルー系顔料を用意し
た。下記に示す、透明な感光性組成物96.2部に対し
て赤、緑、青色顔料をそれぞれ、5.4、5.4、4.
8部混合分散させて、赤、緑、青色の3種類の画素形成
用溶液を得た。
Example 1 Color Index No.73905 Pig as red, green and blue pigments, respectively
quinacridone pigment shown in ment Red 209, Color In
dex No.74265 Pigment Green 36 Phthalocyanine green pigment represented by Color Index No.74160 Pigment Blu
A phthalocyanine blue pigment represented by e 15-4 was prepared. Red, green, and blue pigments of 5.4, 5.4, and 4.
8 parts were mixed and dispersed to obtain three kinds of pixel forming solutions of red, green and blue.

【0035】 感光性組成物 スチレン/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合比 3/3/4)にグリシジルメタクリレートを付加させたポリマ 8.4重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート 3.0重量部 エポキシアクリレート 2.0重量部 “イルガキュア”369(チバガイギ社製) 0.6重量部 “イルガキュア”907(チバガイギ社製) 0.6重量部 トリチオホスフィット 0.4重量部 フッ素系界面活性剤(トーケムプロダクツ社製、 “EFTOP”EF−123A−1) 0.7重量部 フッ素系界面活性剤(大日本インキ化学工業社製、 “MEGAFAC”F−179) 3.5重量部 2-ブトキシエタノール 77.0重量部 まず最初に、光透過性のガラス基板上に、上記の組成を
有する緑色画素形成用溶液をスピナーで回転塗布した
後、80℃熱風中で10分間乾燥し、着色層を得た。こ
の後、この上からマスクを用いて高圧水銀灯でパターン
露光し、2-アミノエタノールのアルカリ現像液で現像
し、幅60μmでピッチ300μmのストライプ状の緑
色画素を形成し、140℃30分間キュアした。緑色画
素の厚さは1.5μmとした。同様にして、ストライプ
状の赤、青色の画素を、3色の画素間隔が40μmにな
るように形成した。さらに、150℃30分間熱処理
し、下記に示すブラックマトリックス形成用溶液に対し
て撥油作用を有する画素を得た。 ブラックマトリックス形成用溶液 スチレン/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合比 3/3/4)にグリシジルメタクリレートを付加させたポリマ 8.4重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート 3.0重量部 エポキシアクリレート 2.0重量部 “イルガキュア”369(チバガイギ社製) 0.6重量部 “イルガキュア”907(チバガイギ社製) 0.6重量部 トリチオホスフィット 0.4重量部 カーボンブラック(三菱化成社製、MA−100) 5.8重量部 2-ブトキシエタノール 77.0重量部 次に、画素形成面側にブラックマトリック形成用溶液を
スピナーで回転塗布し、80℃で10分間熱風乾燥後、
続けて250℃熱風中でキュアし、厚み約1.5μmの
ブラックマトリックスを画素間隙に設けた。なお、この
ブラックマトリック形成用溶液の画素に対する後退接触
角は、25゜であった。ブラックマトリックスのODは
3.5以上と遮光性に優れ、かつブラックマトリックス
と画素との表面段差は0.3μm以下の表面平滑性に優
れたカラーフィルタが得られた。 実施例2 実施例1と同様にして、赤、緑、青の3種類のペースト
を得た。光透過性のガラス基板上に緑ペーストを塗布
し、乾燥後、フォトリソグラフィ法によって、縦125
μmで横145μmの形状で、横方向ピッチ456μ
m、縦方向ピッチ172μmに並んだトライアングル配
列の緑色画素を形成し、キュアした。該有機着色層の厚
さは1.5μmとした。同様にして、赤、青の画素を、
赤青緑の画素間隔が27μmになるように形成した。さ
らに、150℃30分間熱処理し、下記に示すブラック
マトリックス形成用溶液に対して撥水作用を有する画素
を得た。
Photosensitive composition Polymer containing styrene / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio 3/3/4) to which glycidyl methacrylate is added 8.4 parts by weight Trimethylolpropane triacrylate 3.0 parts by weight Epoxy acrylate 2.0 parts by weight "Irgacure" 369 (manufactured by Ciba-Gaigi) 0.6 parts by weight "Irgacure" 907 (manufactured by Ciba-Gaigi) 0.6 parts by weight Trithiophosphite 0.4 parts by weight Fluorosurfactant (To Chem Products Co., Ltd., "EFTOP" EF-123A-1) 0.7 parts by weight Fluorine-based surfactant (Dainippon Ink and Chemicals, Inc., "MEGAFAC" F-179) 3.5 parts by weight 2-Butoxyethanol 77 0.0 parts by weight First, a green pixel having the above composition is formed on a light-transmissive glass substrate. The coating solution was spin-coated with a spinner and dried in hot air at 80 ° C. for 10 minutes to obtain a colored layer. Thereafter, pattern exposure was performed from above with a high pressure mercury lamp using a mask, and development was performed with an alkaline developer of 2-aminoethanol to form stripe-shaped green pixels with a width of 60 μm and a pitch of 300 μm, and cured at 140 ° C. for 30 minutes. . The thickness of the green pixel was 1.5 μm. In the same manner, stripe-shaped red and blue pixels were formed so that the pixel intervals of the three colors were 40 μm. Further, it was heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a pixel having an oil repellency against the following black matrix forming solution. Black matrix forming solution Styrene / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio 3/3/4) polymer with glycidyl methacrylate added 8.4 parts by weight trimethylolpropane triacrylate 3.0 parts by weight epoxy acrylate 2.0 parts by weight "Irgacure" 369 (manufactured by Ciba-Gaigi) 0.6 parts by weight "Irgacure" 907 (manufactured by Ciba-Gaigi) 0.6 parts by weight Trithiophosphite 0.4 parts by weight Carbon Black (Mitsubishi Chemical Co., MA -100) 5.8 parts by weight 2-butoxyethanol 77.0 parts by weight Next, a solution for forming a black matrix is spin-coated on the pixel forming surface side with a spinner, and dried with hot air at 80 ° C. for 10 minutes.
Subsequently, curing was performed in hot air at 250 ° C., and a black matrix having a thickness of about 1.5 μm was provided in the pixel gap. The receding contact angle of the black matrix forming solution with respect to the pixel was 25 °. A color filter having an OD of the black matrix of 3.5 or more and excellent in light-shielding property, and having a surface step difference of 0.3 μm or less between the black matrix and pixels and having excellent surface smoothness was obtained. Example 2 In the same manner as in Example 1, three types of pastes of red, green and blue were obtained. The green paste is applied on a light-transmissive glass substrate, dried, and then subjected to a photolithography method to form a vertical 125
The width is 145 μm and the lateral pitch is 456 μm.
m, and green pixels in a triangle array arranged at a vertical pitch of 172 μm were formed and cured. The thickness of the organic colored layer was 1.5 μm. Similarly, the red and blue pixels are
It was formed so that the pixel spacing of red, blue and green was 27 μm. Further, it was heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a pixel having a water-repellent action with respect to the following black matrix forming solution.

【0036】ブラックマトリック形成用溶液は、カーボ
ンブラックを5重量部に対して、界面活性剤“ニューコ
ラル”710F(日本乳化剤社製)5重量部、水、79
重量部、ガラスビーズを加え、ホモジナイザー(日本精
機社製、AM−11)を用いて10時間分散した後、メ
ラミン樹脂(住友化学社製、“スミレジン”M−3)を
10重量部、硬化剤(住友化学社製、“スミテックスア
クセレレータ”ACX)1重量部を混合して調製した。
ブラックマトリックス形成溶液を画素形成面側にスピナ
ーで塗布し、80℃10分間熱風中で乾燥し、続けて1
50℃熱風中で30分間キュアし、厚み約1.5μmの
ブラックマトリックスを画素間隙に設けた。なお、この
ブラックマトリック形成用溶液の画素に対する後退接触
角は、35゜であった。ブラックマトリックスのODは
3.5以上と遮光性に優れ、かつブラックマトリックス
と画素との表面段差は0.3μm以下の表面平滑性に優
れたカラーフィルタが得られた。
The solution for forming a black matrix is 5 parts by weight of carbon black, 5 parts by weight of a surfactant "New Coral" 710F (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.), water and 79 parts by weight.
10 parts by weight of a melamine resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd., "Sumiresin M-3"), a curing agent, after adding 10 parts by weight of glass beads and dispersing for 10 hours using a homogenizer (AM-11 by Nippon Seiki Co., Ltd.) It was prepared by mixing 1 part by weight (“Sumitex Accelerator” ACX manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.).
The black matrix forming solution is applied to the pixel forming surface with a spinner, dried in hot air at 80 ° C. for 10 minutes, and then 1
After curing in hot air at 50 ° C. for 30 minutes, a black matrix having a thickness of about 1.5 μm was provided in the pixel gap. The receding contact angle of the black matrix forming solution with respect to the pixel was 35 °. A color filter having an OD of the black matrix of 3.5 or more and excellent in light-shielding property, and having a surface step difference of 0.3 μm or less between the black matrix and pixels and having excellent surface smoothness was obtained.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明は、上述のようにカラーフィルタ
を製造するため、画素の間隙にブラックマトリックを簡
便に形成でき、しかも表面平滑性に優れたカラーフィル
タが得られる。さらに、本発明は、画素の厚みと同程度
にブラックマトリックの厚みも厚くでき、遮光性の高い
ブラックマトリッスを得ることができる。
According to the present invention, since the color filter is manufactured as described above, it is possible to easily form the black matrix in the gap between the pixels and to obtain the color filter having excellent surface smoothness. Further, according to the present invention, the thickness of the black matrix can be made as thick as the thickness of the pixel, and a black matrix having a high light shielding property can be obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光透過性基板上にブラックマトリックス用
間隙を有し、かつブラックマトリックス形成用溶液に対
して撥油または撥水作用を有する画素を形成した後、該
ブラックマトリックス形成用溶液を塗布することにより
該画素間隙にブラックマトリックスを形成することを特
徴とするカラーフィルタの製造方法。
1. A pixel having a black matrix gap and having an oil-repellent or water-repellent action on a black matrix forming solution is formed on a light transmissive substrate, and then the black matrix forming solution is applied. By forming a black matrix in the pixel gap by performing the above, a method for manufacturing a color filter.
JP19462893A 1993-08-05 1993-08-05 Manufacture of color filter Pending JPH0749415A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19462893A JPH0749415A (en) 1993-08-05 1993-08-05 Manufacture of color filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19462893A JPH0749415A (en) 1993-08-05 1993-08-05 Manufacture of color filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0749415A true JPH0749415A (en) 1995-02-21

Family

ID=16327682

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19462893A Pending JPH0749415A (en) 1993-08-05 1993-08-05 Manufacture of color filter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0749415A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7601470B2 (en) * 2003-11-18 2009-10-13 Lg Display Co., Ltd. Color filter substrate including processing key and method for fabricating the substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7601470B2 (en) * 2003-11-18 2009-10-13 Lg Display Co., Ltd. Color filter substrate including processing key and method for fabricating the substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3470352B2 (en) Color filter
TW484022B (en) Color filter and the manufacturing method thereof
JP4290483B2 (en) Photosensitive resin composition for black resist and light-shielding film formed using the same
KR101787651B1 (en) Akali-developable photosensitive resin composition, and barrier for display element formed by using the same, and display element
EP0481827A2 (en) Color filters
JPH0921910A (en) Color filter, production of color filter, color liquid crystal display element and color image sensor
JP3228139B2 (en) Color filter for liquid crystal display element and method of manufacturing the same
JPH07248413A (en) Production of color filter
JPH10123500A (en) Manufacturing method for liquid crystal color filter, liquid crystal color filter manufactured by the method and liquid crystal panel having the filter
JPH0735917A (en) Production of color filter
EP0647871A1 (en) Method for manufacturing a substrate having window-shaped coating films and frame-shaped coating film on the surface thereof
JPH0749416A (en) Manufacture of color filter
JP5228594B2 (en) Color filter forming substrate and color filter manufacturing method
JP2003177228A (en) Black photosensitive composition for color filter, color filter and method for manufacturing color filter
JP2002341128A (en) Method for manufacturing color filter and liquid crystal display element
JPH0749415A (en) Manufacture of color filter
JPH0749413A (en) Manufacture of color filter
JP2008165092A (en) Color filter and method of manufacturing the same
JPH0784122A (en) Production of color filter
JP2008107779A (en) Photosensitive transfer material, rib and method for forming the same, color filter and method for manufacturing the same, and display device
JP2003177227A (en) Method for manufacturing color filter, black photosensitive resin composition used for the same and color filter
EP0636931A1 (en) Method for manufacture of a substrate having window-shaped and frame-shaped coating films on the surface thereof
JPH0749414A (en) Manufacture of color filter
JP2002243931A (en) Black matrix substrate, color filter and method for manufacturing the color filter, and liquid crystal device
JPH10221522A (en) Forming method for black matrix