JPH0749284Y2 - microwave - Google Patents
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- JPH0749284Y2 JPH0749284Y2 JP1989134691U JP13469189U JPH0749284Y2 JP H0749284 Y2 JPH0749284 Y2 JP H0749284Y2 JP 1989134691 U JP1989134691 U JP 1989134691U JP 13469189 U JP13469189 U JP 13469189U JP H0749284 Y2 JPH0749284 Y2 JP H0749284Y2
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、加熱室内のテーブル上に載置された被調理物
を高周波加熱手段から照射される高周波によって加熱調
理する電子レンジに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a microwave oven for heating and cooking an object to be cooked placed on a table in a heating chamber by high-frequency waves emitted from high-frequency heating means. .
一般に電子レンジにおいては、被調理物に焼き焦げを生
じさせることなく加熱調理し得ることが特徴となってい
る。In general, a microwave oven is characterized in that it can be heated and cooked without causing burnt to the object to be cooked.
しかし、例えば魚や肉等のように、若干の焦げを伴った
方が好ましい被調理物もある。However, there are some foods such as fish and meat that are preferably accompanied by some charring.
これらの要望に答えるべく、従来は、金属酸化物等から
なる高周波発熱体の被膜を塗布した専用の調理皿が用い
られている。In order to meet these demands, conventionally, a special cooking dish coated with a coating of a high-frequency heating element made of metal oxide or the like has been used.
即ち、上記専用調理皿を予め電子レンジ内のテーブル上
に載置して予熱し、該専用調理皿の表面温度が200〜300
℃になった時点で被調理物をこの専用調理皿上に載置
し、更に電子レンジにて加熱することにより、マグネト
ロン(高周波加熱手段)からの高周波による加熱に加え
て、上記高周波発熱体により加熱された上記専用調理皿
からの熱で上記被調理物の表面に焼き焦げが付けられ
る。That is, the dedicated cooking dish is placed on a table in a microwave oven in advance and preheated, and the surface temperature of the dedicated cooking dish is 200 to 300.
When the temperature reaches ℃, the food to be cooked is placed on this special cooking dish and further heated in a microwave oven. In addition to heating by the high frequency from the magnetron (high frequency heating means), The surface of the cooking target is burnt by the heat from the heated cooking dish.
ところが、上記従来の電子レンジにおいては、上記のよ
うに被調理物に焦げ目を付けつつ加熱調理しようとする
場合、高周波発熱体を塗布した専用の調理皿を用いなけ
ればならず、コスト的に高価になるという問題点があっ
た。However, in the above-mentioned conventional microwave oven, when trying to cook while browning the object to be cooked as described above, it is necessary to use a special cooking dish coated with a high-frequency heating element, which is expensive in cost. There was a problem that became.
そこで、本考案の目的とするところは、専用の調理皿を
用いることなく、適宜被調理物に焦げ目を付けつつ加熱
調理し得る機能を備えた電子レンジを提供することであ
る。Therefore, an object of the present invention is to provide a microwave oven having a function capable of heating and cooking while appropriately browning an object to be cooked, without using a dedicated cooking dish.
上記目的を達成するために、本考案が採用する主たる手
段は、その要旨とするところが、加熱室内の底部に離接
自在に支持されたテーブル上に載置された被調理物を高
周波加熱手段から照射される高周波によって加熱調理す
る電子レンジにおいて、上記テーブルを金属製材料によ
り形成すると共に、該テーブルの裏面に高周波発熱体の
薄膜を形成し、更に上記テーブルと上記底部との距離を
可変とすることにより上記高周波発熱体の薄膜への上記
高周波の照射度合を制御する制御機構を具備してなる点
に係る電子レンジである。In order to achieve the above-mentioned object, the main means adopted by the present invention is that the cooking target placed on the table which is supported at the bottom of the heating chamber so as to be detachable from the high-frequency heating means. In a microwave oven that heats and cooks by irradiated high frequency, the table is formed of a metal material, a thin film of a high frequency heating element is formed on the back surface of the table, and the distance between the table and the bottom is variable. Accordingly, the microwave oven according to the present invention comprises a control mechanism for controlling the irradiation degree of the high frequency to the thin film of the high frequency heating element.
本考案に係る電子レンジにおいては、制御機構によりテ
ーブルと加熱室内の底部との距離を可変とすることによ
って該テーブルの裏面に形成された高周波発熱体の薄膜
への高周波の照射度合を制御することにより、上記薄膜
により該テーブルが加熱され、このテーブル上に載置さ
れた被調理物に焦げ目が付けられる。同時に、高周波加
熱手段から照射される高周波によって上記被調理物は加
熱調理される。In the microwave oven according to the present invention, by controlling the distance between the table and the bottom of the heating chamber by the control mechanism, it is possible to control the irradiation degree of high frequency to the thin film of the high frequency heating element formed on the back surface of the table. As a result, the thin film heats the table, and the food to be cooked placed on the table is browned. At the same time, the food to be cooked is heated and cooked by the high frequency waves emitted from the high frequency heating means.
従って、当該電子レンジにおいては、被調理物の載置用
のテーブルを従来の専用調理皿として兼用することによ
り、該専用調理皿の使用を省略することができる。Therefore, in the microwave oven, by using the table for placing the object to be cooked as the conventional dedicated cooking dish, the use of the dedicated cooking dish can be omitted.
以下添付図面を参照して、本考案を具体化した実施例に
つき説明し、本考案の理解に供する。尚、以下の実施例
は、本考案を具体化した一例であって、本考案の技術的
範囲を限定する性格のものではない。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings to provide an understanding of the present invention. It should be noted that the following embodiments are examples of embodying the present invention and are not of the nature to limit the technical scope of the present invention.
ここに、第1図は本考案の一実施例に係る電子レンジの
テーブルの構造を示すものであって、同図(a)は平面
図,同図(b)は側断面図、第2図は上記テーブルを電
子レンジの内部に載置した状態を示すものであって、同
図(a)は平面図,同図(b)及び同図(c)はそれぞ
れ側断面図、第3図は他の実施例に係る電子レンジのテ
ーブルの構造を示すものであって、同図(a)は平面
図,同図(b)は側断面図、第4図は上記他の実施例に
係るテーブルを電子レンジの内部に載置した状態を示す
ものであって、同図(a)は平面図,同図(b)及び同
図(c)はそれぞれ側断面図、第5図は本考案の更に他
の実施例に係る電子レンジのテーブルの構造を示すもの
であって、同図(a)は平面図,同図(b)は側断面
図、第6図(a),(b)はそれぞれ上記更に他の実施
例に係るテーブルを電子レンジの内部に載置した状態で
の側断面図、第7図(a),(b)はそれぞれ第6図に
示した電子レンジを構成する部品の斜視図、第8図は本
考案の更にまた他の実施例に係る電子レンジのテーブル
の構造を示すものであって、同図(a)は平面図,同図
(b)は側断面図、第9図(a),(b)はそれぞれ上
記更にまた他の実施例に係るテーブルを電子レンジの内
部に載置した状態での側断面図、第10図は第1図に示し
たテーブルの他の支持構造を示すものであって、同図
(a)は平面図,同図(b)は側断面図、第11図は第10
図に示した電子レンジを構成する部品の斜視図である。FIG. 1 shows the structure of a table of a microwave oven according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a plan view, FIG. 1 (b) is a side sectional view, and FIG. Shows a state in which the above table is placed inside a microwave oven. FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B and FIG. 1C are side sectional views, and FIG. The structure of the table of the microwave oven which concerns on another Example is shown, The figure (a) is a top view, the figure (b) is a sectional side view, FIG. 4 is the table which concerns on the said other Example. FIG. 3 shows a state in which the device is placed inside a microwave oven. FIG. 5 (a) is a plan view, FIG. 4 (b) and FIG. 4 (c) are side sectional views, and FIG. [Fig. 6] Fig. 6 shows a structure of a table of a microwave oven according to still another embodiment, in which Fig. (A) is a plan view, Fig. (B) is a side sectional view, and Fig. 6 (a), ( ) Is a side cross-sectional view of the table according to still another embodiment placed inside a microwave oven, and FIGS. 7 (a) and 7 (b) are the microwave ovens shown in FIG. 6, respectively. FIG. 8 is a perspective view of the components of the present invention, and FIG. 8 shows the structure of a table of a microwave oven according to still another embodiment of the present invention, in which (a) is a plan view and (b) is a side view. Sectional views, FIGS. 9 (a) and 9 (b) are side sectional views in a state where the table according to the above still another embodiment is placed inside a microwave oven, and FIG. 10 is shown in FIG. And FIG. 11 is a plan view, FIG. 11B is a side sectional view, and FIG.
It is a perspective view of the components which comprise the microwave oven shown in the figure.
この実施例に係る電子レンジでは、第1図(a),
(b)に示す如く、当該電子レンジの内部に載置される
テーブル1が平面視で円形形状の金属製材料により形成
されると共に、該テーブル1の裏面に、マイクロ波吸収
発熱物質2(高周波発熱体)の薄膜が形成されている。In the microwave oven according to this embodiment, as shown in FIG.
As shown in (b), the table 1 placed inside the microwave oven is made of a metallic material having a circular shape in plan view, and the microwave absorbing heat generating material 2 (high frequency wave) is formed on the back surface of the table 1. A thin film of a heating element) is formed.
上記マイクロ波吸収発熱物質2は、フェライト粉、例え
ばキュリー点が200℃以上であって、熱安定性が良く、
酸化しないマンガン,ジンクフェラトの微粒子で且つ透
磁率の大きい粉末を、シリコン樹脂等のバインダー塗料
を用いて塗料化し、60〜80%(重量比)のフェライト含
有率でフェライト塗料とすることにより構成されてい
る。The microwave absorbing exothermic substance 2 is a ferrite powder, for example, having a Curie point of 200 ° C. or higher, good thermal stability,
Manganese and zinc ferato fine particles that do not oxidize and powder with high magnetic permeability are made into a ferrite paint with a ferrite content of 60 to 80% (weight ratio) by using a binder paint such as silicone resin to form a ferrite paint. There is.
そして、上記フェライト塗料が、上記テーブル1の裏面
に200〜300μmの厚み寸法にて被膜形成されている。The ferrite coating material is formed on the back surface of the table 1 in a thickness of 200 to 300 μm.
尚、上記バインダーとして、シリコン樹脂に代えて、水
ガラス,シリカゾル等のセラミックや無機質材料等を使
用することも可能である。As the binder, water glass, ceramics such as silica sol, or an inorganic material may be used instead of the silicon resin.
引き続き、第2図(a),(b),(c)に基づいて、
上記マイクロ波吸収発熱物質2への高周波の照射度合を
制御する制御機構を構成する上記テーブル1の支持構造
について説明する。Continuing, based on FIGS. 2 (a), (b) and (c),
A support structure of the table 1 which constitutes a control mechanism for controlling the irradiation degree of the high frequency to the microwave absorbing heat generating material 2 will be described.
即ち、電子レンジ本体1の底部には円環状に段部3a,3b,
3cが形成されており、その略中央には、モータ4により
回転駆動されるカップリング5が配備されている。上記
カップリング5にはローラステイ6が連結され、該ロー
ラステイ6には、ローラ7が回転自在に設けられてい
る。更に上記ローラ7は、上記ローラステイ6の軸芯方
向へ移動可能であって、上記段部3b,3c上で転接し得
る。That is, the bottom of the microwave oven main body 1 has an annular step portion 3a, 3b,
3c is formed, and a coupling 5 rotatably driven by a motor 4 is arranged in the approximate center thereof. A roller stay 6 is connected to the coupling 5, and a roller 7 is rotatably provided on the roller stay 6. Further, the roller 7 is movable in the axial direction of the roller stay 6 and can roll on the steps 3b and 3c.
上記ローラ7上には、前記テーブル1が載置される。The table 1 is placed on the roller 7.
そして、上記カップリング5がモータ4により回転駆動
されることにより、上記テーブル1が回転されて、マグ
ネトロン(高周波加熱手段、不図示)から照射される高
周波によって該テーブル1上に載置された被調理物が均
一に加熱調理される。When the coupling 5 is driven to rotate by the motor 4, the table 1 is rotated and the object placed on the table 1 is radiated by a high frequency emitted from a magnetron (high frequency heating means, not shown). The food is cooked uniformly.
更に詳述すれば、上記ローラ7が段部3c上を転接し得る
状態にある時該ローラ7上に上記テーブル1を載置する
と、このテーブル1の外周底面と上記段部3aとの間には
僅かな間隙が形成されるのみであることから、マグネト
ロンから照射された高周波が上記テーブル1の裏面側の
マイクロ波吸収発熱物質2により吸収されるのが防止さ
れる。その結果、上記テーブル1を回転させることよ
り、上記テーブル1は発熱することなく上記マグネトロ
ンからの高周波のみによって該テーブル1上に載置され
た被調理物が加熱調理される。More specifically, when the table 1 is placed on the roller 7 when the roller 7 can roll on the step 3c, the table 1 is placed between the outer peripheral bottom surface of the table 1 and the step 3a. Since only a small gap is formed, the high frequency emitted from the magnetron is prevented from being absorbed by the microwave absorbing heat generating material 2 on the back side of the table 1. As a result, when the table 1 is rotated, the table 1 does not generate heat and the cooked object placed on the table 1 is cooked only by the high frequency waves from the magnetron.
他方、上記ローラ7が上記段部3b上を転接し得る状態で
該ローラ7上にテーブル1を載置した場合、該テーブル
1の外周底面と上記段部3aとの間に大きな開口が形成さ
れ、マグネトロンからの高周波はこの開口を通って上記
マイクロ波吸収発熱物質2に直接照射される。On the other hand, when the table 1 is placed on the roller 7 in a state in which the roller 7 can roll on the step 3b, a large opening is formed between the outer peripheral bottom surface of the table 1 and the step 3a. The high frequency waves from the magnetron directly irradiate the microwave absorbing heat generating material 2 through this opening.
その結果、上記テーブル1自体が発熱し、該テーブル1
上に載置された被調理物には焦げ目が付けられると同時
に、この被調理物は、上記マグネトロンから直接照射さ
れる高周波によっても加熱調理される。As a result, the table 1 itself generates heat, and the table 1
At the same time that the food to be cooked placed thereon is browned, the food to be cooked is also heated and cooked by the high frequency wave directly radiated from the magnetron.
上記のような構造にてテーブル1の支持高さを変更し、
高周波のマイクロ波吸収発熱物質2への照射度合を制御
することにより、従来装置の場合のような専用の調理皿
を用いることなく、被調理物に焦げ目を付けつつ加熱調
理する場合と、単に高周波のみによって加熱調理する場
合とで適宜選択的に使い分けることができる。By changing the support height of the table 1 with the above structure,
By controlling the degree of irradiation of the microwave absorbing heat-generating substance 2 of high frequency, there is no need to use a special cooking dish as in the case of the conventional device, and cooking is performed with browning of the object to be cooked. It can be selectively used depending on whether it is cooked only by heating.
第3図に示す他の実施例に係るテーブル8は、同図に示
す如く、平面視で方形形状の金属製材料により形成され
ており、その裏面側に、マイクロ波吸収発熱物質9の薄
膜が形成されている。As shown in FIG. 3, a table 8 according to another embodiment shown in FIG. 3 is formed of a metal material having a rectangular shape in a plan view, and a thin film of the microwave absorbing heat generating substance 9 is formed on the back surface side thereof. Has been formed.
上記テーブル8は、電子レンジ内部において回転させる
ことなく静止した状態で用いられるものであって、その
支持構造の一例を第4図(a),(b),(c)に基づ
いて説明する。The table 8 is used in a stationary state in the microwave oven without being rotated, and an example of the supporting structure thereof will be described with reference to FIGS. 4 (a), (b) and (c).
即ち、電子レンジの調理室内の底面に、例えば略円環上
の段部10a,10bが形成されている。That is, for example, step portions 10a and 10b in a substantially ring shape are formed on the bottom surface of the cooking chamber of the microwave oven.
そして、上記テーブル8の外周底面を上記段部10a上に
載置することにより、上記マグネトロンからの高周波の
上記マイクロ波吸収発熱物質9への照射が阻止され、当
該テーブル8上に載置された被調理物は、上記マグネト
ロンからの高周波のみによって加熱調理される。Then, by placing the outer peripheral bottom surface of the table 8 on the step portion 10a, irradiation of the microwave absorption heat generating substance 9 from the magnetron is blocked, and the table 8 is placed on the table 8. The food to be cooked is cooked only by the high frequency waves from the magnetron.
他方、上記テーブル8の外周底面と上記段部10aとの間
に支持台11を介在させることにより、上記テーブル8の
外周底面と段部10aとの間には大きな開口が形成され、
上記マグネトロンからの高周波は、この開口を通って上
記マイクロ波吸収発熱物質9に直接照射される。On the other hand, by interposing the support base 11 between the outer peripheral bottom surface of the table 8 and the step portion 10a, a large opening is formed between the outer peripheral bottom surface of the table 8 and the step portion 10a,
The high frequency wave from the magnetron is directly applied to the microwave absorbing heat generating material 9 through this opening.
その結果、上記テーブル8上に載置された被調理物は、
該テーブル8が発熱することにより焦げ目が付けられる
と共に、上記マグネトロンからの高周波を直接照射され
ることによっても加熱調理される。As a result, the food to be cooked placed on the table 8 is
When the table 8 generates heat, the table 8 is browned, and the table 8 is cooked by being directly irradiated with the high frequency wave from the magnetron.
第5図(a),(b)に示す更に他の実施例に係るテー
ブル12は、平面視で円形形状の金属製材料により形成さ
れており、その裏面には、マイクロ波吸収発熱物質13の
薄膜が形成されている。A table 12 according to still another embodiment shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b) is made of a metallic material having a circular shape in a plan view, and has a microwave absorbing heat generating substance 13 on its back surface. A thin film is formed.
更に、上記テーブル12の裏面側には、円環状に支持脚12
aが突設されている。Further, on the back surface side of the table 12, an annular support leg 12 is formed.
a is projected.
引き続き、第6図(a),(b)に基づいて、上記テー
ブル12の支持構造について説明する。Subsequently, the support structure of the table 12 will be described with reference to FIGS. 6 (a) and 6 (b).
即ち、電子レンジの調理室内の底面の中央にはモータ4
が配備されており、該モータ4の出力軸4aには、上下方
向へスライド自在にプレート14(第7図(a)参照)が
嵌挿されている。上記プレート14の内部にはキー溝が刻
設されており、上記出力軸4aとはキー材(不図示)を介
して接続されている。更に、上記プレート14の上面には
上記テーブル12が載置されることから、該テーブル12の
底面側のマイクロ波吸収発熱物質13へ高周波が照射され
得るように、適宜複数の開口14aが穿設されている。That is, at the center of the bottom of the cooking chamber of the microwave oven, the motor 4
A plate 14 (see FIG. 7A) is slidably fitted in the output shaft 4a of the motor 4 in the vertical direction. A key groove is formed in the plate 14 and is connected to the output shaft 4a through a key material (not shown). Further, since the table 12 is placed on the upper surface of the plate 14, a plurality of openings 14a are appropriately formed so that the microwave absorbing heat generating substance 13 on the bottom surface side of the table 12 can be irradiated with high frequency. Has been done.
更に、上記出力軸4aの基部側には、上下方向へ摺動自在
にストッパ15(第7図(b)参照)が遊嵌されており、
上記ストッパ15の上面は、上記プレート14の下端部に当
接されている。更に上記ストッパ15の下面側には、図外
のモータにより回転駆動される偏心カム16の外周面が当
接されている。Further, a stopper 15 (see FIG. 7 (b)) is loosely fitted on the base side of the output shaft 4a so as to be slidable in the vertical direction.
The upper surface of the stopper 15 is in contact with the lower end of the plate 14. Furthermore, the outer peripheral surface of an eccentric cam 16 which is rotationally driven by a motor (not shown) is in contact with the lower surface side of the stopper 15.
従って、上記構成に係る支持構造においては、上記モー
タ4が回転駆動されることにより、上記テーブル12が回
転されて、該テーブル12上に載置された被調理物に対し
て加熱調理が行われる。Therefore, in the support structure according to the above configuration, the table 4 is rotated by rotationally driving the motor 4, and the cooking target placed on the table 12 is heated and cooked. .
この場合、上記偏心カム16が第6図(a)の状態にある
とき、上記テーブル12は下降移動され、上記テーブル12
の支持脚12aにより上記マイクロ波吸収発熱物質13への
高周波の照射が阻止される。In this case, when the eccentric cam 16 is in the state shown in FIG. 6 (a), the table 12 is moved down and the table 12 is moved.
The supporting legs 12a of the above block the irradiation of the microwave absorbing heat generating material 13 with a high frequency.
その結果、上記テーブル12上に載置された被調理物は、
マグネトロンからの高周波のみによって加熱調理され
る。As a result, the food to be cooked placed on the table 12 is
It is cooked only by the high frequency waves from the magnetron.
他方、上記偏心カム16が第6図(b)に示す状態となっ
た時、上記テーブル12は上方へ移動され、上記支持脚12
aの下方からの上記マイクロ波吸収発熱物質13への高周
波の照射を許容し得る状態となる。On the other hand, when the eccentric cam 16 is in the state shown in FIG. 6 (b), the table 12 is moved upward and the support leg 12 is moved.
The microwave absorbing heat generating material 13 is allowed to be irradiated with a high frequency from below a.
その結果、上記テーブル12上に載置された被調理物は、
テーブル12自体が発熱することにより焦げ目が付けられ
ると同時に、マグネトロンから直接照射される高周波に
よっても加熱調理される。As a result, the food to be cooked placed on the table 12 is
When the table 12 itself generates heat, it is browned, and at the same time, it is cooked by the high frequency waves directly emitted from the magnetron.
引き続き、第8図(a),(b)に基づいて、更にまた
他の実施例に係るテーブル17について説明する。Next, the table 17 according to still another embodiment will be described with reference to FIGS. 8 (a) and 8 (b).
この実施例に係るテーブル17は、第5図に示したテーブ
ル12と基本的構造を略同様とし、このテーブル12との相
違点は、当該テーブル17の裏面中央部に、モータ4(第
9図参照)の出力軸4aを嵌挿させる軸受17aが例えばス
ポット溶接にて固着されていることである。The table 17 according to this embodiment has substantially the same basic structure as the table 12 shown in FIG. 5, and the difference from the table 12 is that the motor 4 (see FIG. The bearing 17a into which the output shaft 4a is inserted is fixed by, for example, spot welding.
上記のようなテーブル17では、第9図(a),(b)に
示すように、調理室内の底面中央から突出される上記出
力軸4aの上端部に、上記軸受17aが嵌挿されて回転自在
に支持されている。更に、上記モータ4は、ガイドアン
グル18により上下方向へスライド自在に支持されたモー
タ取り付けアングル19に取り付けられている。そして、
上記モータ取り付けアングル19は、第6図に示した構造
と同様、図外のモータにより回転駆動される偏心カム16
により支持されている。In the table 17 as described above, as shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b), the bearing 17a is fitted into the upper end of the output shaft 4a protruding from the center of the bottom surface of the cooking chamber to rotate. It is supported freely. Further, the motor 4 is mounted on a motor mounting angle 19 which is slidably supported by a guide angle 18 in the vertical direction. And
Similar to the structure shown in FIG. 6, the motor mounting angle 19 is an eccentric cam 16 rotatably driven by a motor (not shown).
It is supported by.
従って、上記構造に係る支持構造においては、偏心カム
16が第9図(a)の状態にある時、上記テーブル17の支
持脚12aによりマイクロ波吸収発熱物質13への高周波の
照射が阻止され、該テーブル17上に載置された被調理物
は、マグネトロンから照射される高周波のみによって加
熱調理される。Therefore, in the support structure according to the above structure, the eccentric cam
When 16 is in the state of FIG. 9 (a), the support leg 12a of the table 17 prevents the microwave absorbing heat generating material 13 from being irradiated with high frequency, and the food to be cooked placed on the table 17 is , Cooked only by the high frequency emitted from the magnetron.
他方、上記偏心カム16が第9図(b)に示すように90度
回転駆動された状態にあるとき、上記支持脚12aの下方
に形成された開口を通して上記マグネトロンからの高周
波の侵入が許容され、上記テーブル17上に載置された被
調理物は、該テーブル17自体が発熱することにより焦げ
目が付けられると共に、マグネトロンから直接照射され
る高周波によっても加熱調理される。On the other hand, when the eccentric cam 16 is in a state of being rotated by 90 degrees as shown in FIG. 9 (b), the intrusion of high frequency waves from the magnetron is allowed through the opening formed below the support leg 12a. The food to be cooked placed on the table 17 is browned due to the heat generated in the table 17 itself, and is also cooked by the high frequency wave directly emitted from the magnetron.
更に、第10図(a),(b)では、前記テーブル1(第
1図(a),(b)参照)の他の支持構造例を示す。10 (a) and 10 (b) show another example of the supporting structure of the table 1 (see FIGS. 1 (a) and 1 (b)).
即ち、同図に示す如く、この支持構造では、ローラ7は
同一高さの底面上においてのみ回転駆動される。That is, as shown in the figure, in this support structure, the roller 7 is rotationally driven only on the bottom surface having the same height.
そして、上記ローラ7がローラステイ6,カップリング5
を介してモータ4により回転駆動されることにより、該
テーブル1上に載置された被調理物が加熱調理される。The roller 7 is the roller stay 6 and the coupling 5.
The object to be cooked placed on the table 1 is cooked by being rotationally driven by the motor 4 via the.
この場合、上記テーブル1の外周面の下面側に円筒状の
リング20(第11図参照)を載置することにより、上記マ
グネトロンから照射される高周波のマイクロ波吸収発熱
物質2への侵入が阻止され、上記テーブル1上に載置さ
れた被調理物は、上記マグネトロンから照射される高周
波のみによって加熱調理される。In this case, by placing a cylindrical ring 20 (see FIG. 11) on the lower surface side of the outer peripheral surface of the table 1, it is possible to prevent the high frequency microwave radiated from the magnetron from entering the microwave absorbing heat generating material 2. The food to be cooked placed on the table 1 is heated and cooked only by the high frequency waves emitted from the magnetron.
他方、上記リング20を除去することにより、上記高周波
が上記マイクロ波吸収発熱物質2へ照射され得る状態と
なり、上記テーブル1上に載置された被調理物は、当該
テーブル1により加熱されて焦げ目が付けられると共
に、上記マグネトロンから直接照射される高周波によっ
ても加熱調理される。On the other hand, by removing the ring 20, the microwave absorbing heat-generating substance 2 can be irradiated with the high-frequency wave, and the food to be cooked placed on the table 1 is heated by the table 1 and is burnt. While being cooked, it is cooked by the high frequency wave directly radiated from the magnetron.
従って、上記各実施例において詳述した如く、テーブル
の裏面側にマイクロ波吸収発熱物質を塗布すると共に、
このマイクロ波吸収発熱物質への高周波の照射度合を制
御することにより、従来の場合のような専用の調理皿を
用いることなく、被調理物に焦げ目を付ける加熱調理や
単に高周波のみによる加熱調理を適宜選択的に行うこと
ができる。Therefore, as described in detail in each of the above-mentioned embodiments, while applying the microwave absorbing heat generating material to the back surface side of the table,
By controlling the degree of high-frequency irradiation of this microwave absorbing heat-generating substance, it is possible to perform cooking with browning or simply high-frequency heating without using a special cooking dish as in the conventional case. It can be selectively performed as appropriate.
尚、本実施例においては、高周波のマイクロ波吸収発熱
物質への照射度合を遮断し得る状態と許容し得る状態と
の間で適宜段階的に変更し、テーブルの加熱度合を制御
するようにしても良い。In the present embodiment, the degree of irradiation of the high-frequency microwave absorbing heat-generating substance is appropriately changed stepwise between the state in which it can be blocked and the state in which it can be permitted, and the heating degree of the table is controlled. Is also good.
本考案は、上記したように、加熱室内の底部に離接自在
に支持されたテーブル上に載置された被調理物を高周波
加熱手段から照射される高周波によって加熱調理する電
子レンジにおいて、上記テーブルを金属製材料により形
成すると共に、該テーブルの裏面に高周波発熱体の薄膜
を形成し、更に上記テーブルと上記底部との距離を可変
とすることにより上記高周波発熱体の薄膜への上記高周
波の照射度合を制御する制御機構を具備してなることを
特徴とする電子レンジであるから、従来装置の場合のよ
うな専用の調理皿を用いることなく、同一のテーブル上
で適宜被調理物に焦げ目を付けつつ加熱調理し得る電子
レンジを安価に提供することができる。As described above, the present invention provides a microwave oven for heating and cooking an object to be cooked, which is placed on a table that is detachably attached to the bottom of the heating chamber, by the high frequency emitted from the high frequency heating means. Is formed of a metal material, a thin film of a high frequency heating element is formed on the back surface of the table, and the distance between the table and the bottom is made variable to irradiate the thin film of the high frequency heating element with the high frequency. Since the microwave oven is characterized by having a control mechanism for controlling the degree, it is possible to appropriately brown the food to be cooked on the same table without using a special cooking dish unlike the conventional device. A microwave oven that can be cooked while being attached can be provided at low cost.
第1図は本考案の一実施例に係る電子レンジのテーブル
の構造を示すものであって、同図(a)は平面図,同図
(b)は側断面図、第2図は上記テーブルを電子レンジ
の内部に載置した状態を示すものであって、同図(a)
は平面図,同図(b)及び同図(c)はそれぞれ側断面
図、第3図は他の実施例に係る電子レンジのテーブルの
構造を示すものであって、同図(a)は平面図,同図
(b)は側断面図、第4図は上記他の実施例に係るテー
ブルを電子レンジの内部に載置した状態を示すものであ
って、同図(a)は平面図,同図(b)及び同図(c)
はそれぞれ側断面図、第5図は本考案の更に他の実施例
に係る電子レンジのテーブルの構造を示すものであっ
て、同図(a)は平面図,同図(b)は側断面図、第6
図(a),(b)はそれぞれ上記更に他の実施例に係る
テーブルを電子レンジの内部に載置した状態での側断面
図、第7図(a),(b)はそれぞれ第6図に示した電
子レンジを構成する部品の斜視図、第8図は本考案の更
にまた他の実施例に係る電子レンジのテーブルの構造を
示すものであって、同図(a)は平面図,同図(b)は
側断面図、第9図(a),(b)はそれぞれ上記更にま
た他の実施例に係るテーブルを電子レンジの内部に載置
した状態での側断面図、第10図は第1図に示したテーブ
ルの他の支持構造を示すものであって、同図(a)は平
面図,同図(b)は側断面図、第11図は第10図に示した
電子レンジを構成する部品の斜視図である。 〔符号の説明〕 1,8,12,17……テーブル 2,9,13……マイクロ波吸収発熱物質(高周波発熱体) 3a,3b,3c……段部 4,……モータ、4a……出力軸 5……カップリング、6……ローラステイ 7……ローラ、10a,10b……段部 11……支持台、12a……支持脚 14……プレート、14a……開口 15……ストッパ、16……偏心カム 17a……軸受、18……ガイドアングル 19……モータ取り付けアングル 20……リングFIG. 1 shows a structure of a table of a microwave oven according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a plan view, FIG. 1 (b) is a side sectional view, and FIG. 2 is the table. FIG. 2A shows a state in which is placed inside a microwave oven, and FIG.
Is a plan view, FIG. 3B and FIG. 3C are side sectional views, and FIG. 3 shows the structure of a microwave oven table according to another embodiment. A plan view, FIG. 4B is a side sectional view, and FIG. 4 shows a state in which a table according to another embodiment is placed inside a microwave oven. FIG. , The same figure (b) and the same figure (c)
FIG. 5 is a side sectional view, FIG. 5 shows a structure of a table of a microwave oven according to still another embodiment of the present invention, where FIG. 5A is a plan view and FIG. Figure, 6th
FIGS. 7 (a) and 7 (b) are side cross-sectional views of the table according to still another embodiment placed inside a microwave oven, and FIGS. 7 (a) and 7 (b) are respectively FIG. FIG. 8 is a perspective view of components constituting the microwave oven shown in FIG. 8, FIG. 8 shows a structure of a microwave oven table according to still another embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 9B is a side sectional view, and FIGS. 9A and 9B are side sectional views in a state where the table according to the above still another embodiment is placed inside a microwave oven. The figure shows another supporting structure for the table shown in FIG. 1, in which FIG. 11 (a) is a plan view, FIG. 11 (b) is a side sectional view, and FIG. 11 is shown in FIG. It is a perspective view of the components which comprise a microwave oven. [Explanation of symbols] 1,8,12,17 …… Table 2,9,13 …… Microwave absorption heating material (high frequency heating element) 3a, 3b, 3c …… Step 4, …… Motor, 4a …… Output shaft 5 ... Coupling, 6 ... Roller stay 7 ... Roller, 10a, 10b ... Step 11 ... Support base, 12a ... Support leg 14 ... Plate, 14a ... Opening 15 ... Stopper, 16 …… Eccentric cam 17a …… Bearing, 18 …… Guide angle 19 …… Motor mounting angle 20 …… Ring
Claims (1)
ーブル上に載置された被調理物を高周波加熱手段から照
射される高周波によって加熱調理する電子レンジにおい
て、 上記テーブルを金属製材料により形成すると共に、該テ
ーブルの裏面に高周波発熱体の薄膜を形成し、更に上記
テーブルと上記底部との距離を可変とすることにより上
記高周波発熱体の薄膜への上記高周波の照射度合を制御
する制御機構を具備してなることを特徴とする電子レン
ジ。1. A microwave oven for heating and cooking an object to be cooked, which is placed on a table which is detachably attached to the bottom of a heating chamber, by a high frequency emitted from a high frequency heating means, wherein the table is made of a metal material. And forming a thin film of the high-frequency heating element on the back surface of the table, and by varying the distance between the table and the bottom, the irradiation degree of the high-frequency to the thin film of the high-frequency heating element is controlled. A microwave oven comprising a control mechanism.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1989134691U JPH0749284Y2 (en) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | microwave |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1989134691U JPH0749284Y2 (en) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | microwave |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0373812U JPH0373812U (en) | 1991-07-25 |
JPH0749284Y2 true JPH0749284Y2 (en) | 1995-11-13 |
Family
ID=31682011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1989134691U Expired - Lifetime JPH0749284Y2 (en) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | microwave |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0749284Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004146102A (en) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | West Electric Co Ltd | Coating device of fluorescent liquid |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5517044Y2 (en) * | 1974-11-20 | 1980-04-21 |
-
1989
- 1989-11-20 JP JP1989134691U patent/JPH0749284Y2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0373812U (en) | 1991-07-25 |
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