JPH0747885Y2 - TEA-CO2 laser oscillator - Google Patents
TEA-CO2 laser oscillatorInfo
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- JPH0747885Y2 JPH0747885Y2 JP1989021506U JP2150689U JPH0747885Y2 JP H0747885 Y2 JPH0747885 Y2 JP H0747885Y2 JP 1989021506 U JP1989021506 U JP 1989021506U JP 2150689 U JP2150689 U JP 2150689U JP H0747885 Y2 JPH0747885 Y2 JP H0747885Y2
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、例えばマーキングに使用されるTEA-CO2レー
ザ発振装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a TEA-CO 2 laser oscillator used for marking, for example.
TEA(Transverersery Excited Atomspheric,以下略。)
−CO2レーザとは、CO2ガスをレーザの発振方向に対して
横方向から放電励起させて、発振させるレーザである。
このTEA-CO2レーザは、10μm付近の赤外線を発振する
レーザであり、放電状態の維持が難しいためパルス発振
にならざるを得ないものの、逆にピークパワーが大きく
また大気圧で動作できるなどの特徴を持っている。用途
としては、従来より電子部品のマーキングや同位体分離
等の処理に使用されてきている。TEA (Transverersery Excited Atomspheric, abbreviated below)
The —CO 2 laser is a laser that oscillates by exciting discharge of CO 2 gas laterally with respect to the oscillation direction of the laser.
This TEA-CO 2 laser is a laser that oscillates infrared rays in the vicinity of 10 μm, and because it is difficult to maintain the discharge state, pulse oscillation is unavoidable, but conversely, it has a large peak power and can operate at atmospheric pressure. It has features. Conventionally, it has been used for processing such as marking of electronic parts and isotope separation.
第2図は、このような従来のTEA-CO2レーザ発振装置の
概略説明図で、同図(イ)は発振方向に直角な方向での
断面図、同図(ロ)は同図(イ)のY−Yにおける発振
方向での断面図、第3図は、TEA-CO2レーザ発振装置の
発振動作を説明するための図である。11は主電極を構成
する陽極、12は主電極を構成する陰極、21は一対の予備
電離用の補助電極を構成する陽極、22は同じく一対の予
備電離用の補助電極を構成する陰極、3はレーザガスを
放電空間4に送るファン、5は高反射ミラー、6は出射
ミラー、10はチャンバ外壁、7は高圧充電器、8は主コ
ンデンサ、9はスパークギャップスイッチを示す。FIG. 2 is a schematic explanatory view of such a conventional TEA-CO 2 laser oscillation device. FIG. 2A is a cross-sectional view in a direction perpendicular to the oscillation direction, and FIG. ) Is a cross-sectional view taken along the line YY in the oscillation direction, and FIG. 3 is a diagram for explaining the oscillation operation of the TEA-CO 2 laser oscillator. Reference numeral 11 is an anode forming a main electrode, 12 is a cathode forming a main electrode, 21 is an anode forming a pair of auxiliary electrodes for preionization, 22 is a cathode forming a pair of auxiliary electrodes for preionization, 3 Is a fan for sending the laser gas to the discharge space 4, 5 is a high reflection mirror, 6 is an emission mirror, 10 is an outer wall of the chamber, 7 is a high voltage charger, 8 is a main condenser, and 9 is a spark gap switch.
第2図に示すように、TEA-CO2レーザ発振装置は、該導
光がレーザ媒質中を通過する距離を長くしてレーザ発振
に必要な誘導放出をより多く起こさせるため、共振器と
しての高反射ミラー5及び出射ミラー6の光軸方向に長
い放電空間4が形成されるように構成される。従って、
レーザガスをレーザの発振方向即ち光軸方向と直角な方
向から放電励起する主電極11,12は、光軸方向に長い板
状のものが使用され、通常主電極11,12の長手方向を水
平方向に配置して放電空間4が水平方向に長くなるよう
に構成される。即ちレーザの発振方向は水平方向とな
る。As shown in FIG. 2, the TEA-CO 2 laser oscillator is designed as a resonator in order to increase the distance that the light guide passes through the laser medium to cause more stimulated emission required for laser oscillation. The high-reflecting mirror 5 and the emitting mirror 6 are configured to form a long discharge space 4 in the optical axis direction. Therefore,
The main electrodes 11 and 12 for discharge-exciting the laser gas from the direction of oscillation of the laser, that is, the direction orthogonal to the optical axis direction, are plate-shaped ones that are long in the optical axis direction. Is arranged so that the discharge space 4 is elongated in the horizontal direction. That is, the laser oscillation direction is horizontal.
また、レーザガスの予備電離のため用いられる補助電極
21,22は、放電空間に均一に紫外線を転写するよう、第
2図のように主電極11,12の側端に沿って複数均一に配
置される。Also, an auxiliary electrode used for preionization of laser gas
A plurality of 21, 22 are evenly arranged along the side edges of the main electrodes 11, 12 as shown in FIG. 2 so that ultraviolet rays are uniformly transferred to the discharge space.
第2図及び第3図において、高圧充電器7により主コン
デンサが充電され、トリガ信号によりスパークギャップ
スイッチ9がONすると、ピーキング用コンデンサ21で充
放電しながら予備電離用の補助電極21,22間をアーク放
電させる。アーク放電により発生した紫外線は、放電空
間4にあるレーザガスを均一に電離させる。この状態
で、電化が主電極に至り陽極11及び陰極12間に高圧が印
加され、グロー放電が開始される。予め電離されイオン
化したレーザガスは、このグロー放電により励起され光
を放出し、共振器を構成する高反射ミラー5及び出射ミ
ラー6により誘導増幅されて、出射ミラー6よりレーザ
発振がされる。尚、レーザガスは、一般的にCO2:N2:C
O:He=8:8:2:82の分圧比で混合されたものが使用され
る。2 and 3, when the main capacitor is charged by the high voltage charger 7 and the spark gap switch 9 is turned on by the trigger signal, the peaking capacitor 21 is charged and discharged while the auxiliary electrodes 21 and 22 for preionization are charged. Arc discharge. The ultraviolet rays generated by the arc discharge uniformly ionize the laser gas in the discharge space 4. In this state, electrification reaches the main electrode, high voltage is applied between the anode 11 and the cathode 12, and glow discharge is started. The laser gas that has been ionized and ionized in advance emits light when excited by this glow discharge, is induction-amplified by the high reflection mirror 5 and the emission mirror 6 that form a resonator, and is oscillated by the emission mirror 6. The laser gas is generally CO 2 : N 2 : C.
A mixture of O: He and a partial pressure ratio of 8: 8: 2: 82 is used.
放電により加熱されたレーザガスを除去し新鮮なレーザ
ガスと交換するため、背後にラジエータRを備えたファ
ン3が放電空間4を臨む位置に設けられており、主電極
11,12による放電の方向と直角な方向にレーザガスを送
る。In order to remove the laser gas heated by the discharge and replace it with fresh laser gas, a fan 3 having a radiator R behind it is provided at a position facing the discharge space 4, and the main electrode
Laser gas is sent in a direction perpendicular to the direction of discharge by 11,12.
また、スパークギャップスイッチ9の代わりにサイラト
ロンを用いることもある。A thyratron may be used instead of the spark gap switch 9.
前述の通り、TEA-CO2レーザ発振装置はマーキング等の
処理に使用されるが、処理装置に組み込まれる場合に
は、装置の小型化,省スペース化が必要になってくる。
ここで、従来のTEA-CO2レーザ発振装置は、水平方向に
長い放電空間が形成されるように、長尺な主電極が長手
方向を水平方向に向けて配置されるため、TEA-CO2レー
ザ発振装置の占める底面積がどうしても大きくなってし
まう。As described above, the TEA-CO 2 laser oscillating device is used for processing such as marking, but when it is incorporated in a processing device, it is necessary to downsize the device and save space.
Here, the conventional TEA-CO 2 laser oscillator, because as long discharge space in the horizontal direction is formed, the elongated main electrodes are arranged toward the longitudinal direction in the horizontal direction, TEA-CO 2 The bottom area occupied by the laser oscillator is inevitably large.
この場合、主電極の長手方向を鉛直方向に向けて配置
し、鉛直方向に長い放電空間が形成されるようにすれ
ば、占有面積の小さいTEA-CO2レーザ発振装置が可能と
なる。In this case, by arranging the main electrodes so that the longitudinal direction thereof is oriented in the vertical direction so that a long discharge space is formed in the vertical direction, a TEA-CO 2 laser oscillator with a small occupied area becomes possible.
しかし、放電空間を鉛直方向に長くするということは、
鉛直方向にレーザが発振されるということであり、必然
的に高反射ミラー及び出射ミラーは、放電空間を挟んで
上下に配置されることになる。この場合、放電空間の下
方に配置された高反射ミラー又は出射ミラーへのゴミの
落下付着の問題が発生する。即ち、電極スパッタリング
等の放電によって生成された異物がゴミとなって、高反
射ミラー又は出射ミラーに落下付着する問題がある。ミ
ラーにゴムが付着すると、レーザを熱吸収して反射せ
ず、レーザの出力の低下や出力されるレーザの照射パタ
ーンの欠陥になってしまう。この結果、例えばマーキン
グの場合には、マーキングされるパターンの欠陥につな
がることになる。However, lengthening the discharge space in the vertical direction means
This means that the laser is oscillated in the vertical direction, and the high reflection mirror and the emission mirror are inevitably arranged above and below the discharge space. In this case, there arises a problem that dust adheres to the high reflection mirror or the emission mirror arranged below the discharge space. That is, there is a problem that foreign matter generated by discharge such as electrode sputtering becomes dust and drops and adheres to the high reflection mirror or the emission mirror. If rubber adheres to the mirror, the laser absorbs heat and is not reflected, resulting in a decrease in laser output or a defect in the output laser irradiation pattern. As a result, in the case of marking, for example, this leads to defects in the marked pattern.
この考案は、上記課題を考慮してなされたものであり、
鉛直方向に長い放電空間が形成されるようにして占有面
積の小さいTEA-CO2レーザ発振装置にするとともに、そ
の際、放電空間の下方に配置される高反射ミラー又は出
射ミラーへのゴミの落下付着を防止して、レーザの出力
の低下や出力されるレーザの照射パターンの欠陥のない
TEA-CO2レーザ発振装置の提供を目的とする。This invention was made in consideration of the above problems,
A TEA-CO 2 laser oscillator that occupies a small area is created by forming a long discharge space in the vertical direction, and at that time, dust falls on the high-reflection mirror or emission mirror located below the discharge space. Prevents adhesion and reduces the laser output and eliminates defects in the output laser irradiation pattern.
The purpose is to provide a TEA-CO 2 laser oscillator.
かかる目的を達成するため、本考案のTEA-CO2レーザ発
振装置は、放電空間を臨んで対向して配置された鉛直方
向に長い一対の板状の主電極と、該主電極の鉛直方向の
側端に沿って複数配置された一対の予備電離用の補助電
極と、主電極及び補助電極を収納したチャンバ外壁と、
該チャンバ外壁内部に収納され放電の方向と略垂直方向
から該主電極と該チャンバ外壁底部との間の空間および
前記放電空間にレーザガスを循環供給するファンと、放
電空間を挟んで上下に配置された高反射ミラー及び出射
ミラーとを具備し、高反射ミラー又は出射ミラーはチャ
ンバ外壁の底部に設けられたレーザ通過用穴の下方に配
置され、該レーザ通過用穴を囲んでチャンバ側に延び、
その先端がナイフエッジ状であるゴミ落下防止部材が設
けられたことを特徴とする。In order to achieve such an object, the TEA-CO 2 laser oscillator of the present invention includes a pair of vertically long plate-shaped main electrodes arranged facing each other facing a discharge space and extending in the vertical direction of the main electrodes. A pair of auxiliary electrodes for preionization arranged along the side edge, and a chamber outer wall accommodating the main electrode and the auxiliary electrode,
A fan that is housed inside the chamber outer wall and circulates a laser gas in a space between the main electrode and the bottom of the chamber outer wall from a direction substantially perpendicular to the discharge direction and a fan that circulates the laser gas, and is disposed vertically above and below the discharge space. A high reflection mirror and an emission mirror, wherein the high reflection mirror or the emission mirror is arranged below a laser passage hole provided at the bottom of the chamber outer wall, and extends toward the chamber side surrounding the laser passage hole.
A dust fall prevention member having a knife edge at its tip is provided.
上記構成によるTEA-CO2レーザ発振装置によれば、鉛直
方向に長い放電空間が形成されるため装置の占有面積が
小さくでき、放電空間の下方に配置される高反射ミラー
又は出射ミラーへのゴミの落下付着はなく、レーザの出
力の低下や出力されるレーザの照射パターンの欠陥は発
生しない。According to the TEA-CO 2 laser oscillating device having the above-mentioned configuration, since a discharge space long in the vertical direction is formed, the area occupied by the device can be reduced, and dust on the high reflection mirror or the emission mirror arranged below the discharge space can be reduced. There is no drop adhesion and no decrease in laser output or defects in the laser irradiation pattern that is output.
以下、本考案の実施例を説明する。 Embodiments of the present invention will be described below.
第1図は、本考案の実施例のTEA-CO2レーザ発振装置の
概略説明図で、同図(イ)は水平方向での断面図、同図
(ロ)は同図(イ)のX−Xにおける鉛直方向での断面
図である。30はファン、40は放電空間、100はチャンバ
外壁、101はチャンバ外壁の底部、102はレーザ透通過
穴、103はゴミ落下防止部材、51はベローズ、52はガス
ホース、53はジョイント、54はホルダー、5は高反射ミ
ラー、その他、第2図に同一符号は同一又は相当部分を
示す。FIG. 1 is a schematic explanatory view of a TEA-CO 2 laser oscillating device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a cross-sectional view in the horizontal direction, and FIG. It is sectional drawing in the vertical direction in -X. 30 is a fan, 40 is a discharge space, 100 is an outer wall of the chamber, 101 is a bottom of the outer wall of the chamber, 102 is a laser transparent passage hole, 103 is a dust fall prevention member, 51 is a bellows, 52 is a gas hose, 53 is a joint, 54 is a holder. Reference numeral 5 denotes a high reflection mirror, and the same reference numerals in FIG. 2 denote the same or corresponding portions.
第1図(ロ)から明らかなように、本実施例のTEA-CO2
レーザ発振装置においては、一対の主電極11,12は長手
方向が鉛直方向に配置され、高反射ミラー5及び出射ミ
ラー6は鉛直方向に長い放電空間40を挟んで上下に配置
され、レーザが鉛直方向に発振されるように構成されて
いる。これにより、チャンバ外壁の底部101の占有面積
が小さくできその結果装置全体の占有面積も小さくでき
る。As is clear from FIG. 1 (b), TEA-CO 2 of this example.
In the laser oscillating device, the pair of main electrodes 11 and 12 are arranged in the vertical direction in the longitudinal direction, and the high-reflecting mirror 5 and the emitting mirror 6 are arranged above and below the discharge space 40 which is long in the vertical direction, and the laser is vertically arranged. It is configured to oscillate in the direction. As a result, the area occupied by the bottom portion 101 of the chamber outer wall can be reduced, and as a result, the area occupied by the entire apparatus can be reduced.
第1図(ロ)において、チャンバ外壁の底部101にはレ
ーザ透過用の穴102が設けられ、下方に設けられた高反
射ミラー5と出射ミラー6によるレーザの共振に支障が
ないようにしている。ファン30は、一対の主電極11,12
に平行に、陽極11側部および陽極11とチャンバ外壁の底
部101との間の空間に設置されていて、放電の方向と略
垂直方向から一対の主電極11,12とチャンバ外壁の底部1
01との間の空間および放電空間40にレーザガスを循環供
給する。周知の通り、放電空間40におけるガスが放電の
方向と略垂直の方向に流れるので、ガスが放電の方向と
平行の方向に流れる場合に比べて、高いレーザパルス繰
り返しを実現することが可能となる。In FIG. 1B, a hole 102 for laser transmission is provided in the bottom portion 101 of the outer wall of the chamber so that the resonance of the laser by the high reflection mirror 5 and the emission mirror 6 provided below is not hindered. . The fan 30 includes a pair of main electrodes 11 and 12.
Parallel to the anode 11 side and in the space between the anode 11 and the bottom portion 101 of the chamber outer wall, a pair of main electrodes 11, 12 and the bottom portion 1 of the chamber outer wall from the direction substantially perpendicular to the direction of discharge.
The laser gas is circulated and supplied to the space between 01 and the discharge space 40. As is well known, since the gas in the discharge space 40 flows in a direction substantially perpendicular to the discharge direction, it is possible to achieve higher laser pulse repetition than in the case where the gas flows in a direction parallel to the discharge direction. .
主電極11,12や補助電極21,22の放電によって生成された
スパッタリング等の異物は、重力によって落下するが、
特にファン30の最下部のファンによってレーザ通過用穴
102上部に形成されるガス流によりゴミが運搬されるの
で、レーザ透過用穴102から落下して高反射ミラー6に
付着することがない。また、運搬された異物はチャンバ
外壁の側面(電極に平行な面)に衝突して、結果的にゴ
ミとなってチャンバ外壁の底部101に溜まる。チャンバ
外壁の底部101に溜まったゴミは、ファン30によるガス
流によりチャンバ外壁の底部101を這うように移動す
る。しかし、本実施例では、第1図(ハ)に示すよう
に、レーザ透過用穴102を囲んでチャンバ側に延びるゴ
ミ落下防止部材103が設けられているので、レーザ透過
用穴102から落下して高反射ミラー6に付着することが
ない。ゴミ落下防止部材103の高さhとしては、レーザ
ガスの流速にもよるが、10mm程度もあれば足りる。尚、
端部104をナイフエッジ状に形成しているので、さらに
以下の結果が得られる。すなわち、このナイフエッジ状
の端部104によって、チャンバ外壁の底部101を這うよう
に移動してきたゴミを、再びレーザ透過用穴102から離
れるように移動させることができる。また、レーザ透過
用穴102の上部に形成されるガス流の流れが乱されにく
くなる。仮に、ゴミ落下防止部材103の先端が円筒状で
あった場合、その端部において渦が発生する。従ってゴ
ミがゴミ落下防止部材103内部にも進入して、放電空間
下方に配置される高反射ミラー6へゴミが落下付着して
しまう。Foreign matter such as sputtering generated by the discharge of the main electrodes 11 and 12 and the auxiliary electrodes 21 and 22 falls due to gravity,
Especially the bottom hole of the fan 30 for the laser passage hole
Since the dust is carried by the gas flow formed on the upper part of the 102, it does not fall from the laser transmission hole 102 and adhere to the high reflection mirror 6. Further, the conveyed foreign matter collides with the side surface of the chamber outer wall (the surface parallel to the electrode), and as a result, becomes dust and collects on the bottom portion 101 of the chamber outer wall. The dust collected on the bottom portion 101 of the chamber outer wall moves so as to crawl on the bottom portion 101 of the chamber outer wall due to the gas flow by the fan 30. However, in this embodiment, as shown in FIG. 1C, since the dust drop prevention member 103 surrounding the laser transmission hole 102 and extending toward the chamber is provided, the dust is prevented from falling from the laser transmission hole 102. Therefore, it does not adhere to the high reflection mirror 6. The height h of the dust drop prevention member 103 may be about 10 mm, depending on the flow rate of the laser gas. still,
Since the end portion 104 is formed into a knife edge shape, the following results are further obtained. That is, the knife-edge-shaped end portion 104 can move the dust that has moved along the bottom portion 101 of the outer wall of the chamber so as to move away from the laser transmission hole 102 again. Further, the flow of the gas flow formed above the laser transmission hole 102 is less likely to be disturbed. If the tip of the dust drop prevention member 103 is cylindrical, a vortex is generated at the end. Therefore, the dust also enters the dust fall prevention member 103 and falls and adheres to the high reflection mirror 6 arranged below the discharge space.
また、本実施例のTEA-CO2レーザ発振装置には、通常高
反射ミラー5と出射ミラー6との距離が、発振波長に対
して最適な共振距離となるようにする不図示の調節手段
が設けられている。ベローズ51はこの共振距離の調節手
段による調節を可能にするためのものである。In addition, the TEA-CO 2 laser oscillator of the present embodiment has an adjusting means (not shown) for adjusting the distance between the high reflection mirror 5 and the emission mirror 6 to an optimum resonance distance for the oscillation wavelength. It is provided. The bellows 51 is for enabling the resonance distance to be adjusted by the adjusting means.
上記実施例においては、高反射ミラー5を放電空間40の
下方に出射ミラー6を上方に配置したが、出射ミラー6
を下方に高反射ミラー5を上方に配置することも、発振
の向きが逆になるだけで技術的には等価である。In the above embodiment, the high-reflection mirror 5 is arranged below the discharge space 40 and the emission mirror 6 is arranged above.
It is also technically equivalent to dispose the high-reflecting mirror 5 on the lower side and the high-reflecting mirror 5 on the upper side only by reversing the direction of oscillation.
また、レーザ発振の動作は第3図に示す従来のTEA-CO2
レーザ発振装置の場合と同様なので、説明は省略する。Further, operation of the laser oscillation of the conventional shown in FIG. 3 TEA-CO 2
Since it is the same as the case of the laser oscillator, the description thereof is omitted.
以上説明した通り、本考案のTEA-CO2レーザ発振装置
は、放電空間を臨んで対向して配置された鉛直方向に長
い一対の板状の主電極と、該主電極の鉛直方向の側端に
沿って複数配置された一対の予備電離用の補助電極と、
主電極及び補助電極を収納したチャンバ外壁と、該チャ
ンバ外壁内部に収納され放電の方向と略垂直方向から該
主電極と該チャンバ外壁底部との間の空間および前記放
電空間にレーザガスを循環供給するファンと、放電空間
を挟んで上下に配置された高反射ミラー及び出射ミラー
とよりなるため、鉛直方向に長い放電空間が形成され、
装置の占有面積が小さくできる。従って、マーキング等
の処理装置に組み込まれると、省スペース化の要請に沿
うので好適である。また、高反射ミラー又は出射ミラー
はチャンバ外壁の底部に設けられたレーザ通過用穴の下
方に配置され、ファンにより該レーザ通過用穴上部にガ
ス流が形成され、また該レーザ通過用穴を囲んでチャン
バ側に延び、その先端がナイフエッジ状であるゴミ落下
防止部材が設けられたので、渦を作ることのないガス流
によりゴミが放電空間の下方に配置される高反射ミラー
又は出射ミラー上から除去され、チャンバ外壁の底部を
這うように移動してきたゴミは再びレーザ透過用穴から
離れるように移動して、高反射ミラー又は出射ミラーへ
のゴミの落下付着はなく、レーザの出力の低下や出力さ
れるレーザの照射パターンの欠陥は発生しない。従っ
て、例えばマーキングに用いた場合には、マーキングさ
れるパターンの欠陥を生じないので好適である。As described above, the TEA-CO 2 laser oscillator of the present invention comprises a pair of vertically long plate-shaped main electrodes arranged facing each other facing the discharge space and the side edges of the main electrodes in the vertical direction. A pair of auxiliary electrodes for pre-ionization arranged along the line,
A chamber outer wall accommodating the main electrode and the auxiliary electrode, and a laser gas is circulated and supplied to the space between the main electrode and the chamber outer wall bottom and the discharge space from a direction housed inside the chamber outer wall and substantially perpendicular to the discharge direction. Since it is composed of a fan and a high reflection mirror and an emission mirror which are arranged above and below with the discharge space interposed therebetween, a discharge space long in the vertical direction is formed,
The area occupied by the device can be reduced. Therefore, when it is incorporated in a processing device for marking or the like, it is suitable because it meets the demand for space saving. Further, the high reflection mirror or the emission mirror is arranged below the laser passage hole provided at the bottom of the outer wall of the chamber, a gas flow is formed above the laser passage hole by the fan, and the laser passage hole is surrounded. Since it is equipped with a dust drop prevention member that extends to the chamber side and has a knife edge-shaped tip, dust is placed below the discharge space by a gas flow that does not create a vortex. The dust that has been removed from the chamber and moved to crawl on the bottom of the outer wall of the chamber moves again away from the laser transmission hole, and there is no drop of dust on the high-reflecting mirror or the emission mirror. There is no defect in the irradiation pattern of the output laser. Therefore, for example, when it is used for marking, it does not cause defects in the pattern to be marked, which is preferable.
第1図は本考案の実施例のTEA-CO2レーザ発振装置の概
略説明図で、同図(イ)は水平方向での断面図、同図
(ロ)は同図(イ)のX−Xにおける鉛直方向での断面
図で、第2図は、従来のTEA-CO2レーザ発振装置の概略
説明図で、同図(イ)は発振方向に直角な方向での断面
図、同図(ロ)は同図(イ)のY−Yにおける発振方向
での断面図、第3図はTEA-CO2レーザ発振装置の発振動
作を説明するための図である。 図中、 11……主電極を構成する陽極 12……主電極を構成する陰極 21……補助電極を構成する陽極 22……補助電極を構成する陰極 3,30……ファン 4,40……放電空間 5……高反射ミラー 6……出射ミラー 10,100……チャンバ外壁 101……チャンバ外壁の底部 102……レーザ透過用穴 103……ゴミ落下防止部材 を示す。FIG. 1 is a schematic explanatory view of a TEA-CO 2 laser oscillating device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a cross-sectional view in the horizontal direction, and FIG. 1 (b) is X- of FIG. 2 is a vertical sectional view taken along line X, FIG. 2 is a schematic explanatory view of a conventional TEA-CO 2 laser oscillator, and FIG. 2 (a) is a sectional view taken in a direction perpendicular to the oscillation direction. (B) is a cross-sectional view taken along the line YY in the same figure as (a), and FIG. 3 is a diagram for explaining the oscillation operation of the TEA-CO 2 laser oscillator. In the figure, 11 …… Anode forming the main electrode 12 …… Cathode forming the main electrode 21 …… Anode forming the auxiliary electrode 22 …… Cathode forming the auxiliary electrode 3,30 …… Fan 4,40 …… Discharge space 5 ... High-reflection mirror 6 ... Emitting mirror 10,100 ... Chamber outer wall 101 ... Chamber outer wall bottom 102 ... Laser transmission hole 103 ... Dust drop prevention member.
Claims (1)
方向に長い一対の板状の主電極と、該主電極の鉛直方向
の側端に沿って複数配置された一対の予備電離用の補助
電極と、主電極及び補助電極を収納したチャンバ外壁
と、該チャンバ外壁内部に収納され放電の方向と略垂直
方向から該主電極と該チャンバ外壁底部との間の空間お
よび前記放電空間にレーザガスを循環供給するファン
と、放電空間を挟んで上下に配置された高反射ミラー及
び出射ミラーとを具備し、高反射ミラー又は出射ミラー
はチャンバ外壁の底部に設けられたレーザ通過用穴の下
方に配置され、該レーザ通過用穴を囲んでチャンバ側に
延び、その先端がナイフエッジ状であるゴミ落下防止部
材が設けられたことを特徴とするTEA-CO2レーザ発振装
置。1. A pair of vertically long plate-shaped main electrodes arranged facing each other facing a discharge space, and a plurality of preionization electrodes arranged along a vertical side edge of the main electrodes. The auxiliary electrode, the chamber outer wall accommodating the main electrode and the auxiliary electrode, and the space between the main electrode and the chamber outer wall bottom from the direction substantially perpendicular to the direction of discharge housed inside the chamber outer wall and the discharge space. It is equipped with a fan that circulates a laser gas, and a high-reflection mirror and an emission mirror that are arranged above and below with a discharge space in between, and the high-reflection mirror or the emission mirror is below the laser passage hole provided on the bottom of the outer wall of the chamber. A TEA-CO 2 laser oscillating device, characterized in that it is provided with a dust drop prevention member that is disposed in a space surrounding the laser passage hole, extends toward the chamber, and has a knife edge-shaped tip.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1989021506U JPH0747885Y2 (en) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | TEA-CO2 laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1989021506U JPH0747885Y2 (en) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | TEA-CO2 laser oscillator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH02113351U JPH02113351U (en) | 1990-09-11 |
JPH0747885Y2 true JPH0747885Y2 (en) | 1995-11-01 |
Family
ID=31238805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1989021506U Expired - Fee Related JPH0747885Y2 (en) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | TEA-CO2 laser oscillator |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0747885Y2 (en) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60187073A (en) * | 1984-03-07 | 1985-09-24 | Toshiba Corp | Gas laser oscillator |
-
1989
- 1989-02-28 JP JP1989021506U patent/JPH0747885Y2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02113351U (en) | 1990-09-11 |
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