JPH0747717B2 - Adhesives on polyimide films and methods of making them - Google Patents

Adhesives on polyimide films and methods of making them

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JPH0747717B2
JPH0747717B2 JP3289596A JP28959691A JPH0747717B2 JP H0747717 B2 JPH0747717 B2 JP H0747717B2 JP 3289596 A JP3289596 A JP 3289596A JP 28959691 A JP28959691 A JP 28959691A JP H0747717 B2 JPH0747717 B2 JP H0747717B2
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film
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polyimide
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の分野】本発明は、超小型電子回路パッケージ、
殊に延性で耐引裂性で低い誘電定数の重合体コアを有す
る超小型電子回路パッケージに関する。さらに詳細に
は、本発明は、それらの間に熱硬化性の絶縁接着剤をは
さみ込んだ有機重合体フィルムから形成される回路パッ
ケージに関する。この超小型電子回路パッケージは、熱
硬化性有機接着剤及び有機重合体フィルムの複合物から
形成される複数の(multiple)薄い絶縁層から作られ
る。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates to microelectronic circuit packages,
In particular, it relates to microelectronic circuit packages having a ductile, tear resistant, low dielectric constant polymer core. More particularly, the invention relates to circuit packages formed from organic polymer films sandwiched with a thermosetting insulating adhesive therebetween. This microelectronic circuit package is made from multiple thin insulating layers formed from a composite of thermosetting organic adhesive and organic polymer film.

【0002】本発明のもう一つの面は、熱硬化性有機接
着剤及び有機重合体フィルムから形成される複合物であ
る。これらの熱硬化性の絶縁接着剤は、(1)回路パッ
ケージの個々の絶縁層内部の複数の有機フィルムの間
に、及び(2)絶縁層とその上の回路化物(circuitisa
tion)との間に接着性を与えるために使用される。
Another aspect of the invention is a composite formed from a thermosetting organic adhesive and an organic polymer film. These thermosetting insulating adhesives can be used to (1) between multiple organic films within individual insulating layers of a circuit package, and (2) the insulating layer and its circuitry.
It is used to give adhesiveness between

【0003】これらの接着剤組成物は、低下した温度で
硬化して、(1)低い誘電定数、(2)高い劣化温度、
及び(3)難燃性を特徴とする、接着剤によって結合さ
れた複合物のような生成物を生成させることができる。
These adhesive compositions cure at reduced temperatures resulting in (1) a low dielectric constant, (2) a high degradation temperature,
And (3) products such as composites bonded by adhesive can be produced, which are characterized by flame retardancy.

【0004】[0004]

【発明の背景】電子パッケージに関する一般的構造及び
製造方法は、例えば、Donald P.Seraphim,Ronald Las
ky,及び Che-Yo Li,Principles of Electronic Packa
ging,McGraw-Hill Book Company,New York,New York
(1988)、並びに Rao R.Tummala 及び Eugene J.Ryma
szewski,Microelectronic Packaging Handbook,Van N
ostrand Reinhold,New York,New York (1988)中に述
べられていて、これらの両方とも引用によって本明細書
中に組み込まれる。
BACKGROUND OF THE INVENTION General structures and manufacturing methods for electronic packages are described, for example, in Donald P. Seraphim, Ronald Las
ky, Che-Yo Li, Principles of Electronic Packa
ging , McGraw-Hill Book Company, New York, New York
(1988), and Rao R. Tummala and Eugene J. Ryma
szewski, Microelectronic Packaging Handbook , Van N
ostrand Reinhold, New York, New York (1988), both of which are incorporated herein by reference.

【0005】電子パッケージは、集積回路チップから、
モジュール、カード、及び基板を経て、ゲート及びシス
テムにまで広がっている。集積回路“チップ”は、“零
次(zero order)パッケージ”と呼ばれる。このチップ
またはそのモジュール内部に包まれた零次パッケージ
は、第一レベルのパッケージングと呼ばれる。集積回路
チップは、回路構成要素と回路構成要素との及び回路と
回路との相互連結、熱散逸、並びに機械的一体性を与え
る。
Electronic packages include integrated circuit chips,
Through modules, cards, and boards, it extends to gates and systems. An integrated circuit "chip" is called a "zero order package". The zero-order package enclosed inside this chip or its module is called the first level packaging. Integrated circuit chips provide circuit component to circuit component and circuit to circuit interconnection, heat dissipation, and mechanical integrity.

【0006】少なくとも一つの別のレベルのパッケージ
ングが存在する。第二レベルのパッケージングは回路カ
ードである。回路カードは少なくとも4つの機能を遂行
する。第一に、この回路カードが用いられるのは、所望
の機能を遂行するために必要とされる全回路またはビッ
トカウントが第一レベルのパッケージ、即ち、チップの
ビットカウントを越え、その結果、この機能を遂行する
ために多チップが必要とされるからである。第二に、こ
の回路カードは、他の回路要素との信号相互連結を与え
る。第三に、第二レベルのパッケージ、即ち、この回路
カードは、第一レベルのパッケージ、即ち、チップまた
はモジュール中に容易に集積されない構成要素のための
サイトを与える。これらの構成要素は、例えば、コンデ
ンサー、精密抵抗器、誘導器、電気機械的スイッチ、光
学カプラー等を含む。第四に、この第二レベルのパッケ
ージは、熱的な管理、即ち、熱散逸を可能にする。そし
て今度は数枚のカードを、一枚の基板上に装着すること
ができる。
There is at least one other level of packaging. The second level packaging is the circuit card. The circuit card performs at least four functions. First, this circuit card is used because the total circuit or bit count required to perform the desired function exceeds the bit count of the first level package, i.e. the chip, so that this This is because multiple chips are needed to perform the function. Second, the circuit card provides signal interconnection with other circuit elements. Third, the second level package, i.e. the circuit card, provides sites for components that are not easily integrated in the first level package, i.e. the chip or module. These components include, for example, capacitors, precision resistors, inductors, electromechanical switches, optical couplers, and the like. Fourth, this second level package allows for thermal management, or heat dissipation. And now several cards can be mounted on one board.

【0007】カード及び基板は、ポリマーベースまたは
セラミックベースでよい。ポリマーベースの複合パッケ
ージ製造のための基本的な方法は、前に引用によって本
明細書中に組み込まれた、Seraphim,Lasky,及び Li,
Principles of Electronic Packaging,334〜371
頁における“Polymers and Polymer Based Composites
for Electronic Applications”中で George P.Schmit
t,Bernd K.Appelt及び Jeffrey T.Gotroによって、
そしてこれも前に引用によって本明細書中に組み込まれ
たTummala 及び Rymaszewski,Microelectronics Packa
ging Handbook,853〜922頁における“Printed C
ircuit Board Packaging”中で Donald P.Seraphim、D
onald E.Barr、William T.Chen、George P.Schmitt
及び Rao R.Tummala によって述べられた“プリプレ
グ”法である。
The card and substrate may be polymer-based or ceramic-based. The basic method for polymer-based composite package manufacturing is described by Seraphim, Lasky, and Li, previously incorporated herein by reference.
Principles of Electronic Packaging , 334-371
“Polymers and Polymer Based Composites”
for Electronic Applications ”in George P. Schmit
t, Bernd K. Appelt and Jeffrey T. By Gotro
And Tummala and Rymaszewski, Microelectronics Packa , also previously incorporated herein by reference.
Ging Handbook , pp. 853-922, "Printed C"
Donald P. Seraphim, D in “ircuit Board Packaging”
onald E. Barr, William T. Chen, George P. Schmitt
And Rao R. The "prepreg" method described by Tummala.

【0008】ポリマーの電子回路パッケージ製造のため
の“プリプレグ”法においては、繊維状物体、例えば不
織マットまたは織られたウェブに、積層樹脂、即ち、接
着剤を含浸させる。このステップは、繊維状物体を、例
えば、エポキシ樹脂溶液によってコートし、この樹脂に
伴う溶媒を蒸発させ、そしてこの樹脂を部分的に硬化す
ることからなる。この部分的に硬化された樹脂は、B−
段階樹脂と呼ばれる。繊維状物質の本体及びB段階樹脂
がプリプレグである。容易に取り扱えそして安定である
このプリプレグを、後続の加工のためにシートに切断し
てもよい。
In the "prepreg" process for making polymeric electronic circuit packages, fibrous objects, such as nonwoven mats or woven webs, are impregnated with a laminating resin, or adhesive. This step consists of coating the fibrous body with, for example, an epoxy resin solution, evaporating the solvent associated with the resin, and partially curing the resin. This partially cured resin is B-
Called stage resin. The body of fibrous material and the B-staged resin are prepregs. This prepreg, which is easy to handle and stable, may be cut into sheets for subsequent processing.

【0009】プリプレグを製造するために使用される典
型的な樹脂は、エポキシ樹脂、シアネートエステル樹
脂、ポリイミド、炭化水素ベースの樹脂、及びフルオロ
ポリマーを含む。一つの種類のプリプレグはFR−4プ
リプレグである。FR−4は、エポキシ樹脂が2,2′
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンのジグリシジ
ルエーテルである難燃性エポキシガラスクロス物質であ
る。このエポキシ樹脂はまた、ビスフェノールAのジグ
リシジルエーテル(DGEBA)としても知られてい
る。FR−4プリプレグの難燃性は、樹脂中に約15〜
20重量%の臭素を含有させることによって得られる。
これは、適切な量の樹脂またはその他の臭素化化合物を
混入することによってなされる。
Typical resins used to make prepregs include epoxy resins, cyanate ester resins, polyimides, hydrocarbon-based resins, and fluoropolymers. One type of prepreg is FR-4 prepreg. FR-4 has an epoxy resin of 2,2 '
-A flame-retardant epoxy glass cloth material which is a diglycidyl ether of bis (4-hydroxyphenyl) propane. This epoxy resin is also known as the diglycidyl ether of bisphenol A (DGEBA). The flame retardancy of FR-4 prepreg is about 15-
Obtained by containing 20% by weight of bromine.
This is done by incorporating the appropriate amount of resin or other brominated compound.

【0010】なおその他のビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル樹脂は、堅い回路板を製造するのに使用され
る。回路板のための強化された積層組成物の“プリプレ
グ”を製造するのに使用される樹脂の中には、米国特許
4,782,116によって開示されたような、ある程度
の難燃性を賦与するために臭素置換された樹脂を含む、
比較的低い分子量のビスフェノールAジグリシジルエー
テルエポキシ樹脂がある。このようなエポキシ樹脂は、
例えば非臭素化樹脂を使用して、180〜200の領域
の比較的低い当量を有するものであり、その結果エポキ
シ基含量は比較的高く、即ち、各々の比較的短い繰り返
し単位は二つのエポキシ基を含み、これは結果として硬
化後の組成物の誘電定数の増加をもたらす。
Still other bisphenol A diglycidyl ether resins are used to make rigid circuit boards. Some resins used to make reinforced prepreg "prepregs" for circuit boards impart some degree of flame retardancy as disclosed by US Pat. No. 4,782,116. Including a resin bromine substituted for
There is a relatively low molecular weight bisphenol A diglycidyl ether epoxy resin. Such epoxy resin is
For example, using a non-brominated resin, one having a relatively low equivalent weight in the region of 180-200, so that the epoxy group content is relatively high, ie each relatively short repeating unit comprises two epoxy groups. , Which results in an increase in the dielectric constant of the composition after curing.

【0011】プリプレグを供給する際に有用なその他の
エポキシ樹脂調製物は、高官能性樹脂、例えばエポキシ
化されたクレゾールノボラック、及びトリス(ヒドロキ
シフェニル)メタンのエポキシ化された誘導体を含む。
これらの多官能エポキシ樹脂は、高いガラス転移温度、
高い熱安定性、及び水分の取り込みが少ないことを特徴
とする。
Other epoxy resin formulations useful in providing prepreg include high functionality resins such as epoxidized cresol novolacs, and epoxidized derivatives of tris (hydroxyphenyl) methane.
These multifunctional epoxy resins have a high glass transition temperature,
It is characterized by high thermal stability and low uptake of water.

【0012】フェノール性の硬化されたエポキシ、例え
ばCiba-Giegy RD86−170(TM )、Ciba-Giegy RD
87−211(TM)、Ciba-Giegy RD87−21
(TM)、DowQuatrex(R)5010(TM)、Shell Epon(R)
151(TM)等もまた、プリプレグを製造する際に使用さ
れる。これらのエポキシは、各々のエポキシが少なくと
も二つのの官能基を有するエポキシ、少なくとも二つの
官能基を有するフェノール性硬化剤、及びイミダゾール
触媒の混合物である。
Phenolic cured epoxies such as Ciba-Giegy RD86-170 (TM ) , Ciba-Giegy RD
87-212 (TM) , Ciba-Giegy RD87-21
2 (TM) , DowQuatrex (R) 5010 (TM) , Shell Epon (R) 1
151 (TM) and the like are also used in the production of prepreg. These epoxies are a mixture of epoxies, each epoxy having at least two functional groups, a phenolic hardener having at least two functional groups, and an imidazole catalyst.

【0013】シアネートエステル樹脂はまた、プリプレ
グを製造する際に使用される。一つの種類のシアネート
エステル樹脂としては、メチレンジアニリンビス−マレ
イミドと反応したジシアネートがある。この生成物をま
た相溶性エポキシドと反応させて、3つの構成要素の積
層物質を生成させることもできる。一つのこのような積
層物質は、50:45:5(重量部)のエポキシ:シア
ネート:マレイミドである。プリプレグを製造する際に
有用なシアネートエステル樹脂の典型例は、積層の間に
重合して橋かけ構造を形成する、ビスフェノールAジシ
アネート及びエポキシの生成物である。
Cyanate ester resins are also used in making prepregs. One type of cyanate ester resin is dicyanate reacted with methylenedianiline bis-maleimide. This product can also be reacted with a compatible epoxide to form a three component laminate material. One such laminated material is 50: 45: 5 (parts by weight) epoxy: cyanate: maleimide. Typical examples of cyanate ester resins useful in making prepregs are the products of bisphenol A dicyanate and epoxy, which polymerize during lamination to form a crosslinked structure.

【0014】フィルム−接着剤系における接着剤を担持
するフィルムに使用される一つのポリイミドは、DIMENS
IONALLY STABLE POLYIMIDE FILM AND PROCESS FOR PREP
ARATION THEREOF に関する Kiyoshi Kumagawa,Kenji K
uniyasu,Toshiyuki Nishino及び Yuji Matsui への米
国特許4,725,484中に述べられたジフェニレン二
無水物をベースにしたポリイミドである。この特許は、
商業的にはUpilex(R)Sとして知られている、3,3′,
4,4′−ビフェニレンテトラカルボン酸二無水物及び
p−フェニレンジアミンのコポリマーを記載している。
One polyimide used in adhesive-bearing films in film-adhesive systems is DIMENS.
IONALLY STABLE POLYIMIDE FILM AND PROCESS FOR PREP
Kiyoshi Kumagawa, Kenji K on ARATION THEREOF
Polyimides based on diphenylene dianhydride described in U.S. Pat. No. 4,725,484 to uniyasu, Toshiyuki Nishino and Yuji Matsui. This patent
3,3 ', commercially known as Upilex (R) S
Copolymers of 4,4'-biphenylenetetracarboxylic dianhydride and p-phenylenediamine are described.

【0015】提案されたある接着剤混合物は、さらに一
層高い誘電定数を与える、ジシアネートポリマーに対し
てかなりの量のエポキシ樹脂を含む。このような組成物
においてもまた、ガラス転移温度及び加工または硬化温
度は、一般的には、硬化したプリプレグまたは積層物の
熱安定性が高温加工の応用のためには不充分な程に減少
する。
One proposed adhesive mixture contains a significant amount of epoxy resin relative to the dicyanate polymer, which provides an even higher dielectric constant. Also in such compositions, the glass transition temperature and processing or curing temperature are generally reduced such that the thermal stability of the cured prepreg or laminate is insufficient for high temperature processing applications. .

【0016】しかしながら、現在知られているフィルム
−接着剤系及び繊維−接着剤系は欠点を有する。例え
ば、エポキシ−ガラス系は比較的高い誘電定数を有しそ
して比較的熱安定性に乏しく、一方ポリイミド−ガラス
系は乏しい銅剥離強さを有する。ガラス繊維の代わりに
重合体繊維またはフィルムで置き換える試みは、微小亀
裂及び乏しい機械的性質という問題をもたらした。
However, the currently known film-adhesive systems and fiber-adhesive systems have drawbacks. For example, epoxy-glass systems have relatively high dielectric constants and relatively poor thermal stability, while polyimide-glass systems have poor copper peel strength. Attempts to replace polymer fibers or films instead of glass fibers have led to problems of microcracking and poor mechanical properties.

【0017】[0017]

【発明の目的】かくして、本発明の一つの目的は、比較
的良好な熱安定性及び機械的性質を持ちながら低い誘電
定数を有する超小型電子回路パッケージのための有機重
合体フィルム−接着剤複合物を提供することである。
OBJECTS OF THE INVENTION Thus, one object of the present invention is to provide an organic polymer film-adhesive composite for microelectronic circuit packages having a relatively low thermal constant while having relatively good thermal stability and mechanical properties. It is to provide things.

【0018】本発明のもう一つ目的は、超小型電子回路
パッケージのためのジシアネート−ジエポキシ接着剤と
ポリイミドの低い誘電定数を有する熱的に安定な複合物
を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a thermally stable composite of dicyanate-diepoxy adhesive and polyimide having a low dielectric constant for microelectronic circuit packages.

【0019】[0019]

【発明の要約】本発明の組成物及び方法によって、先行
技術の欠陥が緩和されそして本発明の目的が達成され
る。本発明によれば、薄いフィルム接着剤樹脂を担持す
る重合体フィルムが供給され、ここでこの樹脂とこの重
合体フィルムが相乗的に相互作用して、低い誘電定数、
高い熱安定性、及び高い機械的強さを与える。
SUMMARY OF THE INVENTION The compositions and methods of the present invention alleviate the deficiencies of the prior art and achieve the objects of the invention. According to the present invention, a polymer film carrying a thin film adhesive resin is provided, wherein the resin and the polymer film interact synergistically to produce a low dielectric constant,
It provides high thermal stability and high mechanical strength.

【0020】この樹脂は、(a)ジグリシジルビスフェ
ノールp−ジアルキルベンゼン、及び(b)ジシアネー
トジフェニルヘキサフルオロイソプロパンの重合体生成
物である。好ましくは、この樹脂は、約5〜40重量%
のジグリシジルビスフェノールp−ジアルキルベンゼ
ン、及び約60〜95重量%のジシアネートジフェニル
ヘキサフルオロイソプロパンを含有する。
This resin is a polymer product of (a) diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene and (b) dicyanate diphenylhexafluoroisopropane. Preferably, the resin is about 5-40% by weight.
Diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene, and about 60-95% by weight dicyanate diphenylhexafluoroisopropane.

【0021】この樹脂は、重合体の薄いフィルムの上に
薄いフィルムとして存在して、有機重合体絶縁複合物を
形成する。この複合物は、有機重合体ポリイミドの薄い
フィルム、並びに(1)ジグリシジルビスフェノールp
−ジアルキルベンゼン及び(2)ジシアネートジフェニ
ルヘキサフルオロイソプロパンの有機重合体接着性反応
物から形成される。この有機重合体の薄いフィルムは、
支持層として作用し、接着剤の薄いフィルムを担持しそ
して強化する。
The resin is present as a thin film on top of the thin film of polymer to form an organic polymer insulating composite. The composite is a thin film of organic polymer polyimide, as well as (1) diglycidyl bisphenol p.
-Formed from an organic polymer adhesive reactant of dialkylbenzene and (2) dicyanate diphenylhexafluoroisopropane. This thin film of organic polymer
Acts as a backing layer, carries and reinforces a thin film of adhesive.

【0022】本発明の好ましい例示においては、この有
機重合体フィルムはポリイミドである。特に好ましいポ
リイミドの薄いフィルムは、3,3′,4,4′−ビフェ
ニレンテトラカルボン酸二無水物並びにジアミン、例え
ばp−フェニレンジアミン、4,4′−ジアミノフェニ
ルオキシド及びそれらの混合物のコポリマーである。
In the preferred illustration of the invention, the organic polymer film is a polyimide. Particularly preferred polyimide thin films are copolymers of 3,3 ', 4,4'-biphenylenetetracarboxylic dianhydride and diamines such as p-phenylenediamine, 4,4'-diaminophenyl oxide and mixtures thereof. .

【0023】この複合物は、電子回路パッケージ、例え
ば多層印刷回路カードまたは基板における層として特に
有用である。例えば、この電子回路パッケージは、少な
くとも一つの超小型電子集積回路チップを収容すること
ができ、またそのようにしてある。このICチップは、
回路パッケージ中の対応する回路要素と通じる信号リー
ド線、電力リード線、及びアースリード線を有する。こ
の回路パッケージは、個々のコアの積層物であり、そし
て少なくとも一つの層またはコアは、上で述べた有機重
合体絶縁複合物の基体を構成する。
The composite is particularly useful as a layer in electronic circuit packages, such as multilayer printed circuit cards or substrates. For example, the electronic circuit package can and does contain at least one microelectronic integrated circuit chip. This IC chip is
It has signal leads, power leads, and ground leads that communicate with corresponding circuit elements in the circuit package. The circuit package is a stack of individual cores, and at least one layer or core constitutes the substrate of the organic polymer insulating composite described above.

【0024】本発明のなお別の例示によれば、回路板層
を製造する方法が提供される。この方法は、ポリイミド
の薄いフィルムを用意し、そして接触させて、このポリ
イミドの薄いフィルムを本発明の接着剤組成物によって
コート及び/または含浸する工程からなる。引き続い
て、このようにして処理された、即ち、コート及び/ま
たは含浸されたポリイミドの薄いフィルムを部分的に硬
化して、フィルムベースのプリプレグを生成させる。こ
の工程、及び後続の工程は、従来のプリプレグを生成さ
せるために使用される装置中で実施してよい。後続の工
程は、接着剤−ポリイミドの薄いフィルム−接着剤の数
枚のプライの層を形成して回路板層を形成し、この回路
板層を回路化し、そしてこの回路板層をもう一つ回路板
層に積層することからなる。勿論、回路化及び積層を種
々の順序で実施して、電力コア、内部回路化物、外部回
路化物、及び接点、リード線、及びハウジングを形成さ
せることが理解されねばならない。
According to yet another illustration of the invention, there is provided a method of making a circuit board layer. The method comprises the steps of providing a thin film of polyimide, contacting and coating and / or impregnating the thin film of polyimide with the adhesive composition of the present invention. The thin film of polyimide thus treated, i.e. coated and / or impregnated, is subsequently partially cured to produce a film-based prepreg. This step, and subsequent steps, may be carried out in equipment used to produce conventional prepregs. Subsequent steps form a layer of adhesive-a thin film of polyimide-a few plies of adhesive to form a circuit board layer, circuitize this circuit board layer, and another circuit board layer. Laminating to a circuit board layer. Of course, it should be understood that the circuitization and stacking can be performed in various orders to form the power core, internal circuitization, external circuitization, and contacts, leads, and housing.

【0025】[0025]

【詳細な説明】本発明により、重合体フィルム補強樹脂
であって、この樹脂及びこれらの重合体フィルムが相乗
的に相互作用して、低い誘電定数、高い熱安定性、及び
高い機械的強さを有する樹脂が提供される。
DETAILED DESCRIPTION According to the present invention, a polymer film reinforcing resin, which resin and these polymer films interact synergistically to have a low dielectric constant, a high thermal stability, and a high mechanical strength. A resin having is provided.

【0026】この樹脂は、(a)This resin is (a)

【化1】 によって表される式を有するジグリシジルビスフェノー
ルp−ジアルキルベンゼン及び(b)
[Chemical 1] Diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene having the formula represented by and (b)

【化2】 によって表される構造式を有するジシアネートジフェニ
ルヘキサフルオロイソプロパンのポリマー生成物であ
る。
[Chemical 2] Is a polymer product of dicyanate diphenylhexafluoroisopropane having a structural formula represented by:

【0027】好ましくは、この樹脂は、約5〜40重量
%のジグリシジルビスフェノールp−ジアルキルベンゼ
ン、及び約60〜95重量%のジシアネートジフェニル
ヘキサフルオロイソプロパンを含む。
Preferably, the resin comprises about 5-40% by weight diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene and about 60-95% by weight dicyanate diphenylhexafluoroisopropane.

【0028】この樹脂は、有機重合体絶縁複合物中の重
合体ポリイミドの薄いフィルムによって担持されそして
強化される。この複合物は、本明細書中で以下にさらに
詳細に説明されるような有機ポリマーフィルム、並びに
(1)ジグリシジルビスフェノールp−ジアルキルベン
ゼン及び(2)ジシアネートジフェニルヘキサフルオロ
イソプロパンの有機重合体接着性反応物から形成され
る。この有機重合体の薄いフィルムは、接着剤のための
支持及び強化層として作用する。
The resin is supported and reinforced by a thin film of polymeric polyimide in an organic polymeric insulating composite. The composite comprises an organic polymer film as described in more detail herein below, and an organic polymer of (1) diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene and (2) dicyanate diphenylhexafluoroisopropane. Formed from an adhesive reactant. This thin film of organic polymer acts as a supporting and reinforcing layer for the adhesive.

【0029】本発明の好ましい例示においては、この有
機重合体の薄いフィルムは、ポリイミドから成る。特に
好ましいポリイミドフィルムは、3,3′,4,4′−ビ
フェニレンテトラカルボン酸二無水物及び4,4′−ジ
アミノフェニルオキシドまたはp−フェニレンジアミン
のどちらかのコポリマーである。このコポリマーは
In a preferred illustration of the invention, the thin film of organic polymer comprises polyimide. A particularly preferred polyimide film is a copolymer of 3,3 ', 4,4'-biphenylenetetracarboxylic dianhydride and 4,4'-diaminophenyl oxide or p-phenylenediamine. This copolymer

【化3】 [式中、Rは[Chemical 3] [Where R is

【化4】 または[Chemical 4] Or

【化5】 である]によって表される構造式を有する。[Chemical 5] And has a structural formula represented by

【0030】この複合物は、電子パッケージングにおい
て使用される印刷回路カードまたは基板中の層として特
に有用である。例えば、図1中に示され、そしてまた電
子回路パッケージとも呼ばれる印刷回路板またはカード
1は、少なくとも一つの超小型電子集積回路チップ5を
収容することができ、またそのようにしてある。このI
Cチップ5は、チップキャリアー9を通して回路パッケ
ージ1中の対応する回路要素と通じ、リード線7、例え
ば、信号リード線7a、電力リード線7b、及びアース
リード線7cを有する。回路パッケージ1は、個々のコ
ア11の積層物であり、そして少なくとも一つの層また
はコア11は、上で述べた有機重合体絶縁複合物の基体
を構成する。パッケージ1の個々の層11は、電力コ
ア、埋め込み信号回路化物、または外部信号回路化物1
7を担持することができる。
The composite is particularly useful as a layer in printed circuit cards or substrates used in electronic packaging. For example, a printed circuit board or card 1 shown in FIG. 1 and also referred to as an electronic circuit package, can and will contain at least one microelectronic integrated circuit chip 5. This I
The C-chip 5 communicates with the corresponding circuit elements in the circuit package 1 through the chip carrier 9 and has leads 7, for example signal leads 7a, power leads 7b, and ground leads 7c. The circuit package 1 is a stack of individual cores 11, and at least one layer or core 11 constitutes the substrate of the organic polymer insulating composite mentioned above. The individual layers 11 of the package 1 may be power cores, embedded signal circuitry or external signal circuitry 1.
7 can be carried.

【0031】図2のフローチャート中に示された、本発
明のさらに別の例示によれば、回路板層、そしてさらに
完全な回路板またはカードを製造する方法が提供され
る。この方法は、有機重合体の薄いフィルム、即ち、コ
ートされたポリイミドフィルムを供給する工程を含む。
この薄いフィルムは、接着剤前駆体のディップタンクま
たは浴を通して供給される。本発明の場合には、これ
は、5〜40重量%の Shell Chemical Company RSL
−1107(TM)のジグリシジルビスフェノールp−ジア
ルキルベンゼン、60〜95重量%のHi-Tek Polymer
s,Inc.のジシアネートジフェニルヘキサフルオロイソ
プロパン、及び触媒として樹脂100重量部あたり0.
05部の亜鉛オクトエート(鉱油スピリット中の8重量
%の亜鉛)の浴である。
In accordance with yet another example of the present invention, illustrated in the flow chart of FIG. 2, there is provided a method of making a circuit board layer, and a more complete circuit board or card. The method comprises the steps of providing a thin film of an organic polymer, i.e. a coated polyimide film.
This thin film is fed through a dip tank or bath of adhesive precursor. In the case of the present invention, this is 5-40% by weight of Shell Chemical Company RSL.
-1107 (TM) diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene, 60-95 wt% Hi-Tek Polymer
s, Inc. Dicyanate diphenylhexafluoroisopropane, and 0.1 parts by weight of resin as a catalyst.
A bath of 05 parts zinc octoate (8% by weight zinc in mineral oil spirits).

【0032】含浸工程の次の部分は、湿ったフィルムを
加熱して溶媒を追い出し、次いで接着剤を重合させる。
重合は、接着剤のモノマー成分を反応させそしてプレポ
リマー、またはB−段階樹脂を生成させるように、この
湿ったフィルムを十分に熱く加熱することによって実施
してよい。これは、約140℃で約5分間である。
The next part of the impregnation process heats the wet film to drive off the solvent and then polymerize the adhesive.
Polymerization may be carried out by heating the moist film sufficiently hot to react the monomer components of the adhesive and produce a prepolymer, or B-staged resin. This is about 140 ° C. for about 5 minutes.

【0033】あるいはまた、プレス加工または積層でさ
え、重合と組み合わせることができる。かくして、この
プレポリマーを、1平方インチあたり約150ポンド〜
1平方インチあたり約300ポンドの適用圧力で積層プ
レス中で、約200℃またはそれより高い温度で約30
分間重合させることができる。積層及び硬化は、多段階
で、例えば、200℃で30分、続いて250〜300
℃で30分のような2段階法で、交互に実施することが
できる。
Alternatively, even pressing or lamination can be combined with polymerization. Thus, the prepolymer can be used to produce about 150 pounds per square inch
About 30 at a temperature of about 200 ° C. or higher in a laminating press with an applied pressure of about 300 pounds per square inch.
Allow to polymerize for minutes. Lamination and curing are in multiple stages, eg, 200 ° C. for 30 minutes, followed by 250-300.
Alternating can be carried out in a two-step process such as 30 minutes at ° C.

【0034】後続の工程は、コア積層、電力コア回路
化、埋め込み信号回路化、パネル積層、外部回路化、及
び接点の付与を含む。回路化及び積層は、電力コア、内
部回路化、外部回路化、及び接点、リード線、及びハウ
ジングを形成するために種々の順序で実施されること
が、勿論、理解されるべきである。
Subsequent steps include core stacking, power core circuitization, embedded signal circuitization, panel stacking, external circuitization, and contact application. It should, of course, be understood that the circuitization and lamination may be performed in various orders to form the power core, internal circuitization, external circuitization, and contacts, leads, and housing.

【0035】本発明は、約185〜約260のエポキシ
ド当量を有するある種の高分子量エポキシ樹脂前駆体を
ジシアネートジフェニルヘキサフルオロイソプロパンモ
ノマーまたはプレポリマーと反応させると低い誘電定数
の接着剤反応生成物を製造することができ、そしてこの
反応生成物は、低い誘電定数の重合体フィルムと相乗的
に相互作用して、(1)超小型電子回路パッケージ製造
条件下での熱安定性、並びに(2)脆くなくそして微小
亀裂もない熱的、接着性及び弾性特性を与える低い誘電
定数複合物を製造することができるという発見を基にし
ている。
The present invention provides for the low dielectric constant adhesive reaction formation of certain high molecular weight epoxy resin precursors having epoxide equivalent weights of about 185 to about 260 with dicyanate diphenylhexafluoroisopropane monomer or prepolymer. And the reaction product synergistically interacts with the low dielectric constant polymer film to provide (1) thermal stability under microelectronic circuit package manufacturing conditions, as well as ( 2) Based on the discovery that low dielectric constant composites can be produced that provide thermal, adhesive and elastic properties that are neither brittle nor microcracked.

【0036】本発明の好ましい例示においては、本発明
の新規なジシアネート−エポキシブレンド組成物を、重
合体フィルム、例えばポリイミドフィルムの存在下で硬
化させて、低い誘電定数を有する有機の重合体回路板を
製造するけれども、この新規なジシアネート−エポキシ
ブレンド組成物はまた回路板層に接着性を供給するため
にも使用することができることが理解されるべきであ
る。
In a preferred illustration of the present invention, the novel dicyanate-epoxy blend composition of the present invention is cured in the presence of a polymeric film, such as a polyimide film, to give an organic polymeric circuit board having a low dielectric constant. However, it should be understood that the novel dicyanate-epoxy blend composition can also be used to provide adhesion to circuit board layers.

【0037】芳香族フッ化ジシアネートは、一般に、環
状三量化によって重合して、高い温度安定性、低い誘電
定数、高いガラス転移温度及びUL94 V−0の評価
の難燃性を有する高度に橋かけされたヘテロ鎖ポリマー
を生成する。
Aromatic fluorinated dicyanates are generally polymerized by cyclic trimerization to give a highly cross-linked, highly temperature stable, low dielectric constant, high glass transition temperature and flame retardant UL94 V-0 rating. To produce a heteropolymer.

【0038】ジエポキシド化合物及びプレポリマーは、
一般に、エポキシド基の開環によって重合して、ヒドロ
キシル末端停止されたポリエーテル鎖を生成する。
The diepoxide compound and the prepolymer are
Generally, the epoxide groups are polymerized by ring opening to produce hydroxyl terminated polyether chains.

【0039】本発明の芳香族ジシアネートと、式:An aromatic dicyanate of the present invention and the formula:

【化6】 [式中、RはHまたは低級アルキル、好ましくはメチル
である]を有する芳香族エポキシプレポリマー類の混合
物の小量、約5重量%ないし約40重量%までとのブレ
ンドは、エポキシド基がこの混合物中の過剰の芳香族シ
アネート基と反応して、橋かけまたは硬化の間に5員環
のオキサゾリン基を生成させると考えられる。これらの
5員環の生成は、生成されるヒドロキシ基の数を無くす
かまたは、エポキシ樹脂の硬化の間に通常生成される数
から実質的に減少させる。
[Chemical 6] Blends of a small amount of a mixture of aromatic epoxy prepolymers having R, wherein H is H or lower alkyl, preferably methyl, with from about 5% to about 40% by weight of epoxide groups It is believed to react with excess aromatic cyanate groups in the mixture to form a 5-membered ring oxazoline group during crosslinking or curing. The formation of these 5-membered rings either eliminates the number of hydroxy groups formed or substantially reduces it from the number normally formed during curing of the epoxy resin.

【0040】好ましいエポキシ樹脂前駆体は、本明細書
中で上で与えられた式[式中、各々のRはメチルであ
る]を有するジグリシジル−α,α′−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼンまたはそ
れのオリゴマーである。
A preferred epoxy resin precursor is diglycidyl-α, α'-bis (4-hydroxyphenyl)-, having the formula given above herein, wherein each R is methyl. p-diisopropylbenzene or an oligomer thereof.

【0041】芳香族ジシアネート官能基よりも多いエポ
キシ官能基の存在、または約200よりも小さいエポキ
シド当量を有するエポキシド樹脂の使用は、結果として
硬化した樹脂中のもっと大きな数の極性基の生成及び誘
電定数におけるかなりのそして望ましくない増加をもた
らす。約40重量%より多いエポキシ成分を含むポリマ
ーは、低い誘電定数及び高い熱安定特性またはUL94
V−0若しくはV−1の難燃性評価を必要とするポリ
イミドフィルム含有プリプレグ及び回路板のためには満
足なものではない。
The presence of more epoxy functional groups than aromatic dicyanate functional groups, or the use of epoxide resins having an epoxide equivalent weight of less than about 200, results in the formation of a greater number of polar groups in the cured resin and dielectric. It results in a considerable and undesired increase in the constant. Polymers containing greater than about 40 wt% epoxy component have low dielectric constant and high thermal stability properties or UL94.
It is not satisfactory for polyimide film-containing prepregs and circuit boards that require V-0 or V-1 flame retardancy evaluation.

【0042】本発明に従って使用される好ましい芳香族
ジシアネートは、米国特許4,745,215中に開示さ
れたフッ化ジシアネート、最も特別には6−Fビスフェ
ノールAジシアネートである。このような物質は、単独
で即ち、エポキシド官能基無しで使用され、そして慣用
のE−ガラス強化織物中に含浸されそして250℃で硬
化される時には、約240℃〜260℃のガラス転移温
度、約3.3の誘電定数、室温で0.45%の水分吸収並
びに350℃で1.0%及び400℃で7.8%の重量損
失(等温、1時間)によって表される熱安定性並びに約
450℃の熱劣化温度を有する。さらにまた、このよう
な物質は、難燃性でありそしてUL94 V−0の燃焼
性評価を有する。
The preferred aromatic dicyanates used according to the invention are the fluorinated dicyanates disclosed in US Pat. No. 4,745,215, most particularly 6-F bisphenol A dicyanate. Such materials, when used alone, i.e. without epoxide functional groups, and when impregnated into conventional E-glass reinforced fabrics and cured at 250 ° C, have a glass transition temperature of about 240 ° C to 260 ° C, A thermal stability represented by a dielectric constant of about 3.3, a water absorption of 0.45% at room temperature and a weight loss (isothermal, 1 hour) of 1.0% at 350 ° C and 7.8% at 400 ° C; It has a heat degradation temperature of about 450 ° C. Furthermore, such materials are flame retardant and have a flammability rating of UL94 V-0.

【0043】対照のために、0〜40重量%のジグリシ
ジルビスフェノールp−ジアルキルベンゼンを、ジシア
ネートジフェニルヘキサフルオロイソプロパンとブレン
ドし、そして3,3′,4,4′−ビフェニレンテトラカ
ルボン酸二無水物及びp−フェニレンジアミンの Ube I
ndustries Ltd.Upilex(R)Rポリイミドコポリマーの薄
いフィルムの上にコートし及び/またはそれの中に含浸
させて本発明の複合物を製造する時には、生成する接着
剤及び複合物は表1中の性質を有する。
For control, 0-40% by weight of diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene was blended with dicyanate diphenylhexafluoroisopropane and 3,3 ', 4,4'-biphenylene tetracarboxylic acid dicarboxylic acid. Ube I of anhydride and p-phenylenediamine
ndustries Ltd. When Upilex (R) impregnated coated on a thin film of R polyimide copolymers and / or within it to produce a composite of the present invention, the adhesive and the composite produced has properties in Table 1 .

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】類似の非フッ化芳香族ジシアネートは、そ
れらが、難燃性質を賦与するために、慣用の難燃物質例
えば臭素化ポリビニルベンジルエーテルまたは臭素化ジ
フェニルの添加を必要とし、そしてこのような添加剤は
実質的に誘電定数に影響するので、本発明に従って使用
することはできない。しかしながら、これは、フッ化ジ
シアネートと混合しての非フッ化芳香族ジシアネート例
えばビスフェノールAジシアネートの使用を排除するも
のではない。
Similar non-fluorinated aromatic dicyanates require the addition of conventional flame retardants such as brominated polyvinyl benzyl ether or brominated diphenyl, in order that they impart flame retardant properties, and such The additive substantially affects the dielectric constant and therefore cannot be used in accordance with the present invention. However, this does not preclude the use of non-fluorinated aromatic dicyanates such as bisphenol A dicyanate in admixture with fluorinated dicyanates.

【0046】フッ化ジシアネート及びエポキシ樹脂前駆
体に加えて、本組成物はまた、好ましくは、適当な慣用
の重合触媒例えば、亜鉛、コバルト、銅、またはマンガ
ンオクトエートまたはナフテネートの溶液によって、そ
してノニルフェノール中に溶解されたもっと潜在的なア
セチルアセトネートによって例示されるオクトエート及
びナフテネートを含む。
In addition to the fluorinated dicyanate and epoxy resin precursors, the composition is also preferably by solution of a suitable conventional polymerization catalyst such as zinc, cobalt, copper, or manganese octoate or naphthenate, and nonylphenol. Includes octoates and naphthenates exemplified by the more latent acetylacetonates dissolved therein.

【0047】[0047]

【実施例】本発明の基本概念を述べてきたので、ここ
で、本発明の実際の限定のためではなく例示のために提
供される以下の実施例に言及する。すべての部及び%
は、特記しない限り、重量による。
Having described the basic concept of the invention, reference will now be made to the following example, which is provided by way of illustration and not by way of actual limitation of the invention. All parts and%
Is by weight unless otherwise noted.

【0048】実施例1 40重量部の Shell Chemical Company RSL−110
(TM)のジグリシジルビスフェノールp−ジアルキルベ
ンゼン、80重量部の Hi-Tek Polymers,Inc.Aro
cy−40S(TM)のジシアネートジフェニルヘキサフル
オロイソプロパン、及び90重量部のメチルエチルケト
ン中の0.03重量部の亜鉛オクトエート(鉱油スピリ
ット中の8重量%の亜鉛)を含む樹脂組成物を製造す
る。この樹脂組成物を、Ube Industries,Ltd.Upi
lex SGA(TM)の2ミルの厚さのフィルムに塗布す
る。
Example 1 40 parts by weight of Shell Chemical Company RSL-110
7 (TM) diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene, 80 parts by weight of Hi-Tek Polymers, Inc. Aro
CY-40S (TM) dicyanate diphenylhexafluoroisopropane and a resin composition comprising 0.03 parts by weight zinc octoate (8% by weight zinc in mineral oil spirits) in 90 parts by weight methyl ethyl ketone are prepared. . This resin composition was manufactured by Ube Industries, Ltd. Upi
Apply to a 2 mil thick film of lex SGA (TM) .

【0049】この湿ったフィルムを140℃に2〜3分
間加熱してB−段階樹脂にする。この方法で、薄いポリ
イミドフィルムの上にエポキシド−シアネートの薄いフ
ィルムのB−段階樹脂の接着性フィルムを有する複合物
が得られる。次にこの複合構造物を1オンスの銅ホイル
の複数のシートの間に層状にして置き、加熱されたプレ
ス中に入れ、そして1平方インチあたり150〜300
ポンドの圧力を維持しながら、200℃に30分間そし
てその後で250〜300℃に30分間加熱する。
The moist film is heated to 140 ° C. for 2-3 minutes to form the B-stage resin. In this way, a composite is obtained having an adhesive film of a thin film of epoxide-cyanate B-stage resin on a thin polyimide film. The composite structure is then placed in layers between sheets of 1 ounce copper foil, placed in a heated press, and 150-300 per square inch.
Heat to 200 ° C. for 30 minutes and then 250-300 ° C. for 30 minutes while maintaining pound pressure.

【0050】薄いポリイミドフィルムの上に接着性エポ
キシド−シアネートフィルムを有する硬化した積層品が
得られる。
A cured laminate having an adhesive epoxide-cyanate film on a thin polyimide film is obtained.

【0051】実施例2 20重量部の Shell Chemical Company RSL−110
(TM)のジグリシジルビスフェノールp−ジアルキルベ
ンゼン、106.4重量部の Hi-Tek Polymers,Inc.A
rocy−40S(TM)のジシアネートジフェニルヘキサ
フルオロイソプロパン、及び90重量部のメチルエチル
ケトン中の0.05重量部の亜鉛オクトエート(鉱油ス
ピリット中の8重量%の亜鉛)を含む樹脂組成物を製造
する。この樹脂組成物を、Ube Industries,Ltd.Up
ilex SGA(TM)の2ミルの厚さのフィルムに塗布
する。
Example 2 20 parts by weight of Shell Chemical Company RSL-110
7 (TM) diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene, 106.4 parts by weight of Hi-Tek Polymers, Inc. A
Produce a resin composition comprising rocy-40S (TM) dicyanate diphenylhexafluoroisopropane and 0.05 parts by weight zinc octoate (8% by weight zinc in mineral oil spirits) in 90 parts by weight methyl ethyl ketone. . This resin composition was manufactured by Ube Industries, Ltd. Up
Apply to ilex SGA (TM) 2 mil thick film.

【0052】この湿ったフィルムを140℃に2〜3分
間加熱してB−段階樹脂にする。この方法で、薄いポリ
イミドフィルムの上にエポキシド−シアネートの薄いフ
ィルムのB−段階樹脂の接着性フィルムを有する複合物
が得られる。次にこの複合構造物を1オンスの銅ホイル
の複数のシートの間に層として置く。次にこの複合構造
物を、加熱されたプレス中に入れ、そして1平方インチ
あたり150〜300ポンドの圧力を維持しながら、2
00℃に30分間そしてその後で250〜300℃に3
0分間加熱する。
The wet film is heated to 140 ° C. for 2-3 minutes to form the B-staged resin. In this way, a composite is obtained having an adhesive film of a thin film of epoxide-cyanate B-stage resin on a thin polyimide film. The composite structure is then placed as a layer between multiple sheets of 1 ounce copper foil. The composite structure is then placed in a heated press and, while maintaining a pressure of 150-300 pounds per square inch, 2
3 minutes at 00 ° C for 30 minutes and then 250-300 ° C
Heat for 0 minutes.

【0053】薄いポリイミドフィルムの上に接着性エポ
キシド−シアネートフィルムを有する硬化した積層物が
得られる。
A cured laminate having an adhesive epoxide-cyanate film on a thin polyimide film is obtained.

【0054】本発明を好ましい実施態様及び例示に関し
て述べてきたが、それらによって本発明の範囲を限定す
ることを意図するものではなく、本発明は本明細書に添
付した特許請求の範囲によってのみ限定される。
Although the present invention has been described in terms of preferred embodiments and illustrations, it is not intended to limit the scope of the invention thereto, but the invention is limited only by the claims appended hereto. To be done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の有機重合体絶縁層を含む超小型電子回
路パッケージの、一部切り欠き斜視図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a microelectronic circuit package including an organic polymer insulating layer of the present invention.

【図2】本発明の有機重合体絶縁層を含む超小型電子回
路パッケージを製造するための方法のフローチャートで
ある。
FIG. 2 is a flow chart of a method for making a microelectronic circuit package including an organic polymer insulating layer of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電子回路パッケージ 5 超小型電子集積回路チップ 7 リード線 9 チップキャリアー 11 コア 17 外部信号回路化物 1 electronic circuit package 5 ultra-small electronic integrated circuit chip 7 lead wire 9 chip carrier 11 core 17 external signal circuit

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 7/02 JLE H01L 23/12 23/14 H05K 3/38 E 7011−4E 3/46 Q 6921−4E // C09J 163/02 JFL 179/04 JGC (72)発明者 コンスタンテイノス・パパトマス アメリカ合衆国ニユーヨーク州13760.エ ンデイコツト.コベントリーロード75 (72)発明者 リー・ポール・スプリンガー アメリカ合衆国ニユーヨーク州13760.エ ンデイコツト.グランドビユープレイス 2606 (72)発明者 ウイリアム・ジヨゼフ・スマ アメリカ合衆国ニユーヨーク州13760.エ ンドウエル.エルムウツドドライブ1022 (72)発明者 デイビツド・ウエイ・ワン アメリカ合衆国ニユーヨーク州13850.ベ スタル.オーバーブルツクドライブ800Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C09J 7/02 JLE H01L 23/12 23/14 H05K 3/38 E 7011-4E 3/46 Q 6921-4E / / C09J 163/02 JFL 179/04 JGC (72) Inventor Constantinos Papatomas New York, USA 13760. End cot. Coventry Road 75 (72) Inventor Lee Paul Springer New York, USA 13760. End cot. Grand View Place 2606 (72) Inventor William J. Joseph Suma 13760, New York, USA. Endwell. Elm Wood Drive 1022 (72) Inventor David Way One New York, USA 13850. Vestal. Oberbrutsk Drive 800

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a) 有機重合体フィルム及び (b)(1) ジグリシジルビスフェノールp−ジアル
キルベンゼン並びに (2) ジシアネートジフェニルヘキサフルオロイソプ
ロパン の有機重合体接着性反応物から成り、該有機フィルムが
該接着性反応物を担持しそして強化している有機重合体
絶縁複合物。
1. An organic polymer film comprising (a) an organic polymer film and (b) (1) diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene and (2) dicyanate diphenylhexafluoroisopropane. An organic polymer insulating composite in which a film carries and reinforces the adhesive reactant.
【請求項2】 該有機重合体接着性反応物が、約5〜4
0重量%のジグリシジルビスフェノールp−ジアルキル
ベンゼン及び約60〜95重量%のジシアネートジフェ
ニルヘキサフルオロイソプロパンから成る請求項1記載
の有機重合体絶縁複合物。
2. The organic polymer adhesive reactant is about 5-4.
An organic polymer insulating composite according to claim 1 which comprises 0% by weight of diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene and about 60 to 95% by weight of dicyanate diphenylhexafluoroisopropane.
【請求項3】 該有機重合体フィルムがポリイミドから
成る請求項2記載の有機重合体絶縁複合物。
3. The organic polymer insulating composite according to claim 2, wherein the organic polymer film is made of polyimide.
【請求項4】 該有機重合体フィルムが、(1)3,
3′,4,4′−ビフェニレンテトラカルボン酸二無水
物及び(2)p−フェニレンジアミン、4,4′−ジア
ミノフェニルオキシド並びにこれらの混合物から成る群
から選ばれたジアミンの部分を有するポリイミドから成
る請求項3記載の有機重合体絶縁複合物。
4. The organic polymer film is (1) 3,
From a polyimide having a moiety of a diamine selected from the group consisting of 3 ', 4,4'-biphenylene tetracarboxylic dianhydride and (2) p-phenylenediamine, 4,4'-diaminophenyl oxide and mixtures thereof. The organic polymer insulating composite according to claim 3, which comprises:
【請求項5】 信号リード線、電力リード線、及びアー
スリード線を有する少なくとも一つの超小型電子回路チ
ップを収容するようにした電子回路パッケージであっ
て、 該回路パッケージが個々のコアの積層物から成り、 少なくとも一つのコアが、 (a) 有機重合体フィルム及び (b)(1) ジグリシジルビスフェノールp−ジアル
キルベンゼン並びに (2) ジシアネートジフェニルヘキサフルオロイソプ
ロパン の有機重合体接着性反応物から成り、該有機フィルムが
該接着性反応物を担持しそして強化している有機重合体
絶縁複合物の基体から成り、そして 前記積層物の内部のコアが、それの少なくとも一つの表
面上の少なくとも一つの該リード線と協同作用するよう
にするCu回路化物を有するパッケージ。
5. An electronic circuit package adapted to accommodate at least one microelectronic circuit chip having a signal lead, a power lead, and a ground lead, the circuit package being a stack of individual cores. At least one core comprises (a) an organic polymer film and (b) (1) diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene and (2) an organic polymer adhesive reaction product of dicyanate diphenylhexafluoroisopropane. The organic film comprises a substrate of an organic polymer insulating composite carrying and reinforcing the adhesive reactant, and the inner core of the laminate has at least one surface on at least one surface thereof. A package with a Cu circuitization that allows it to cooperate with one of the leads.
【請求項6】 該有機重合体接着性反応物が、約5〜4
0重量%のジグリシジルビスフェノールp−ジアルキル
ベンゼン、及び約60〜95重量%のジシアネートジフ
ェニルヘキサフルオロイソプロパンから成る、請求項5
記載の電子回路パッケージ。
6. The organic polymer adhesive reactant is about 5-4.
6. A composition comprising 0% by weight diglycidyl bisphenol p-dialkylbenzene and about 60-95% by weight dicyanate diphenylhexafluoroisopropane.
Electronic circuit package as described.
【請求項7】 該有機重合体フィルムがポリイミドから
成る、請求項6記載の電子回路パッケージ。
7. The electronic circuit package of claim 6, wherein the organic polymer film comprises polyimide.
【請求項8】 該フィルムが、(1)3,3′,4,
4′−ビフェニレンテトラカルボン酸二無水物並びに
(2)p−フェニレンジアミン、4,4′−ジアミノフ
ェニルオキシド、及びこれらの混合物から成る群から選
ばれたジアミンの部分を有するポリイミドから成る、請
求項7記載の電子回路パッケージ。
8. The film comprises (1) 3, 3 ', 4,
4. A polyimide having a diamine moiety selected from the group consisting of 4'-biphenylene tetracarboxylic dianhydride and (2) p-phenylenediamine, 4,4'-diaminophenyl oxide, and mixtures thereof. 7. The electronic circuit package described in 7.
JP3289596A 1991-02-20 1991-11-06 Adhesives on polyimide films and methods of making them Expired - Fee Related JPH0747717B2 (en)

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