JPH0737791A - ステージの案内装置 - Google Patents

ステージの案内装置

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JPH0737791A
JPH0737791A JP5182441A JP18244193A JPH0737791A JP H0737791 A JPH0737791 A JP H0737791A JP 5182441 A JP5182441 A JP 5182441A JP 18244193 A JP18244193 A JP 18244193A JP H0737791 A JPH0737791 A JP H0737791A
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JP
Japan
Prior art keywords
stage
guide
guide device
rolling guide
slide
Prior art date
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Pending
Application number
JP5182441A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Kobayashi
功 小林
Hidehiko Numasato
英彦 沼里
Noriyuki Maekawa
典幸 前川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0737791A publication Critical patent/JPH0737791A/ja
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】固定部1上には、二個の摺動器2を有する第一
のすべり案内装置301,一個の摺動器2を有する第二
のすべり案内装置302、および直動形ころがり案内4
が設けられている。直動形ころがり案内4には、二個の
荷重分配器5が設けられる。ステージ6は、三個の摺動
器2の取付部701、および二個の荷重分配器5の取付
部702の部分で支持される。また、直動形ころがり案
内4とステージ6の間には、二組の支持案内機構8が設
けられる。二個のリニアモータ10が固定部1に設けら
れ、取付部703を介してステージ6をx方向に駆動す
る。 【効果】荷重分配器により、支持力がすべり案内装置と
直動形ころがり案内に分配されるため、すべり案内装置
の摩擦変動の影響を低減でき、また耐久性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、LSIチップ
の製造工程において、ウェハ等の薄板状試料にパターン
を露光する際に、ウェハを高精度に位置決めするステー
ジの案内装置に関する。
【0002】
【従来の技術】LSIチップの露光工程では、前の工程
でウェハに形成されたパターンと、次の工程で用いるマ
スクのパターンを高速,高精度に位置合わせする必要が
ある。例えば、線幅が0.3μm程度である64Mbitダ
イナミックラムのパターンを露光する場合、およそ、
0.4 秒以内に20mmの距離を移動して70nmの精度
でウェハとマスクを位置合わせする必要がある。パター
ンの微細化が進行すれば、一層の高精度化が要求される
ことになる。
【0003】位置合わせの高速,高精度化を図るには、
まず、ウェハの移動,位置決めに用いるステージの位置
決めの高速,高精度化が必要なことは自明である。この
種のステージの場合、位置決めの高速化を図るために、
ステージ機構系の摩擦を利用して、位置決め偏差の収束
を速める場合が多い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来技
術は、ステージの位置決め時の偏差低減を目的とした技
術であり、ステージ移動中の挙動や、摩擦摺動部の摩耗
にはあまり関心が払われていない。すなわち、ステージ
移動中の摺動部のすべり摩擦変動による移動速度の変動
や、摺動部の耐久性が問題となる場合には、従来技術だ
けでは対応できない恐れがあった。
【0005】本発明の目的は、ステージ移動中の摺動部
の摩擦変動と摩耗を低減する装置を提供することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】摺動部の摩擦変動と摩耗
の低減に係る基本的な解決手段は、ステージをすべり案
内装置ところがり案内で支持し、ステージと直動形ころ
がり案内の間に荷重分配器を設けたことに特徴がある。
【0007】また、摺動部の摩擦変動に係る第二の解決
手段は、摩擦力検出部を具備し、荷重分配器の操作量を
制御することに特徴がある。
【0008】
【作用】ころがり摩擦は、すべり摩擦の1/10〜1/
50程度であるから、ステージの質量や外力の一部をこ
ろがり案内で支持し、すべり案内装置が受ける負荷を軽
減すれば、すべり案内装置の摺動部の摩擦変動が低減さ
れる。同様に、すべり案内装置の摺動部の摩耗も低減さ
れる。ころがり案内に分配する支持力の比率は、荷重分
配器により任意に設定できるため、すべり案内装置によ
りステージに与えられる摩擦力を任意に設定できる。
【0009】また、すべり案内装置ところがり案内の組
立て誤差がある場合でも、各案内に分配される支持力の
比率は、荷重分配器により一定に維持される。
【0010】さらに、摩擦力検出部によってステージに
作用する摩擦力を検出し、検出値が一定になるように荷
重分配器の分配比率が制御されるため、高精度な摩擦力
の制御が可能となる。
【0011】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。
【0012】図1は、本発明のステージの案内装置の一
実施例である。固定部1上には、二個の摺動器2を有す
る第一のすべり案内装置301,一個の摺動器2を有す
る第二のすべり案内装置302、および直動形ころがり
案内4が設けられている。直動形ころがり案内4には、
二個の荷重分配器5が設けられる。ステージ6は、三個
の摺動器2の取付部701、および二個の荷重分配器5
の取付部702の部分で支持される。また、直動形ころ
がり案内4とステージ6の間には、二組の支持案内機構
8が設けられる。ステージ6上と試料台9は、取付部7
01の部分で結合される。二個のリニアモータ10が固
定部1に設けられ、取付部703を介してステージ6を
x方向に駆動する。なお、重力はz方向に働くものとす
る。
【0013】三個の摺動器2を頂点とする略正三角形の
重心は、主要な可動部であるステージ6と試料台9の重
心のほぼ直下に配置され、また、直動形ころがり案内4
は、主要な可動部であるステージ6と試料台9の重心の
ほぼ直下に配置される。このため、ステージ6がx方向
に駆動される際に、すべり案内装置および直動形ころが
り案内から受ける摩擦モーメントは釣合う。さらに、二
個のリニアモータ10の推力の合力は、主要な可動部で
あるステージ6と試料台9の重心は略一致している。こ
のような構成により、ステージ6が駆動時に受けるz軸
まわりのモーメントは最小となるので、ヨーイングの発
生を防止することができる。
【0014】次に、図2を用いて本発明のステージの案
内装置の効果を説明する。ステージ6が、同図紙面に垂
直方向に駆動されるとき、二組のすべり案内装置の摩擦
係数μ1は、ころがり案内4の摩擦μ2より大きく、通
常、μ1はμ2の十ないし五十倍にも達する。ここで、
ステージの質量をm,重力加速度をg,摩擦係数のばら
つきをσとし、まず、すべり案内装置301および30
2だけでステージ6が支持されたと仮定して摩擦変動E
1を求めると、数1のようになる。
【0015】
【数1】 E1=m×g×μ1×σ …(数1) 次に、荷重分配器5により、αの比率で支持力をころが
り案内4に分配すると、摩擦変動E2は数2のようにな
る。
【0016】
【数2】 E2=(m×g×(1−α)×μ1×σ)+(m×g×α×μ2×σ) =m×g×(μ1−μ1×α+μ2×α)×σ …(数2) 従って、E2/E1は、
【0017】
【数3】 E2/E1=1−(1−(μ2/μ1))×α …(数3) となる。ここで、前述のようにμ1はμ2の十ないし五
十倍にも達するのが通例であるから、μ2/μ1は1に
比べて十分に小さいと考えると、
【0018】
【数4】 E2/E1≒1−α …(数4) となる。すなわち、荷重分配器5によりころがり案内4
に分配される支持力の比率αに比例して、摩擦変動が低
減される。
【0019】以上の説明は、すべり案内装置ところがり
案内を組み合わせたステージの案内装置について述べた
ものであるが、ころがり案内の代わりに、静圧案内や磁
気浮上案内を用いても同様な効果が得られるのは自明で
ある。なお、摩擦係数のばらつきσは、案内の種類によ
らず一定として説明を行ったが、静圧案内や磁気浮上案
内では、すべり案内装置よりもσがはるかに小さいた
め、摩擦変動の低減効果は一層大きくなる。
【0020】また、荷重分配器5によりころがり案内4
に分配される支持力の比率αに比例して、摺動器2とす
べり案内装置の間の面圧が減少するため、すべり案内装
置の摩耗が低減される。
【0021】図3は、本発明のステージの案内装置に用
いる荷重分配器5と支持案内機構8の一実施例を示した
ものである。荷重分配器5は、ころがり案内4に設けら
れたコイルばね501、およびコイルばね501とステ
ージ6の間に設けられた調整ねじ502により構成さ
れ、支持案内機構8は、ステージに取り付けられた支柱
801、および支柱801ところがり案内4の間に設け
られた板ばね802により構成される。コイルばね50
1および板ばね801のz方向のばね定数は、すべり案
内装置(図1参照)やころがり案内4のz方向の剛性よ
りもはるかに小さいため、仮にすべり案内装置ところが
り案内4の間にz方向の組立て誤差がある場合でも、す
べり案内装置ところがり案内4に分配される支持力の割
合はほぼ一定となる。また、調整ねじ502により、コ
イルばね501の圧縮量は任意に設定できるため、すべ
り案内装置ところがり案内4に分配される支持力の割合
を任意に設定することができる。
【0022】また、図1の構成では、ころがり案内4に
はy方向の拘束力があるが、第一のすべり案内装置30
1および第二のすべり案内装置302にはy方向の拘束
力がない。ここで、ステージ6は図3に示すように板ば
ね802を介してころがり案内4に結合されているた
め、ステージ6のy方向の案内はころがり案内4によっ
て行われ、仮にすべり案内装置ところがり案内4の間に
y方向の組立て誤差がある場合でも、ステージ6には不
用な外力が作用しない。すべり案内装置にy方向の拘束
力があって、ころがり案内にy方向の拘束力がない場合
でも、同様な効果が得られることは自明であり、また、
板ばねの枚数が図3の実施例と異なる場合でも同様な効
果が得られることは自明である。さらに、荷重分配器5
と支持案内機構8は図3の実施例に限定されるものでは
なく、荷重分配器5はz方向のばね定数が小さい物であ
れば良く、支持案内機構8はy方向の剛性が高くてz方
向の剛性が低い物ならば良い。
【0023】図4は摺動器2の一実施例である。ステー
ジ6に設けられた凸部201は、すべり案内装置の案内
面303上を摺動するパッド202の凹部に挿入され
る。凸部201とパッド202の凹部の間に形成される
間隙には流体203が満たされ、粘性減衰器として動作
する。パッド202の摺動面には、摺動材204が設け
られる。また、凸部201とパッド202とは、弾性変
形部205により結合されている。弾性変形部には、例
えば、板ばね等が好適である。さらに、凸部201とパッ
ド202の間には、ばね定数の小さいコイルばねを用い
た負荷支持部206が設けられる。負荷支持部206は、
弾性変形部205に常に引張応力を与え、ステージ6の
荷重負荷による弾性変形部205の座屈を防止する。
【0024】本実施例に示した摺動器を用いれば、ステ
ージ6の微動時に、ステージ6が弾性支持された状態と
なり、さらに案内面との間に粘性減衰力が作用するた
め、位置決め制御性が向上するという効果がある。な
お、摺動器の構成はこれに限定されるものではなく、例
えばステージ6に直接に摺動材205が設けられる構造
であっても良い。
【0025】図5は、本発明のステージの案内装置に用
いる荷重分配器5の第二の実施例を示したものである。
本実施例では、ころがり案内4に補助コイルばね503
が設けられ、補助コイルばね503とステージ6の間に
調整ねじ502が設けられる。また、ステージ6に設け
られたセンタヨーク504は、ころがり案内4の凹部に
挿入される。センタヨーク504ところがり案内4の凹
部に形成される間隙には流体505が満たされる。さら
に、センタヨーク504の外側には、磁石506とアウタ
ヨーク507が設けられ、アウタヨーク507とセンタ
ヨーク504の間隙の磁束を横切るように、コイル50
8が設けられる。コイル508はころがり案内4に固定
されている。コイルばね501は、ころがり案内4とセ
ンタヨーク504の間に設けられる。
【0026】本実施例では、コイル508に流す電流を
操作量として、ころがり案内4に分配される支持力の割
合を制御することができる。また、センタヨーク504
ところがり案内4の凹部に形成される間隙に満たされた
流体505は、ステージ6ところがり案内4の間のダン
パとして作用する。さらに、調整ねじ502により補助
ばね503の圧縮量は任意に設定できるため、すべり案
内装置ところがり案内4に分配される支持力の初期値を
任意に設定することができる。
【0027】図6は、図5に示した荷重分配器の駆動方
法を示す一実施例である。荷重分配器5のコイル508
には、補償器11の出力信号に基づいてドライバ12か
ら電流iが供給される。一方、摺動器2には摩擦力検出
部13が設けられ、摩擦力検出部13の出力δが負帰還
される。すなわち、摺動器2の摩擦力が一定となるよう
に、荷重分配器5の支持力の分配率が制御され、摩擦変
動が低減される。なお、図1において、リニアモータ1
0に加えられる操作量uとステージ6の加速度aを監視
し、数5によりステージ6に加わる摩擦力Fを演算し、
図6のδをFで代用しても同様な効果が得られる。
【0028】
【数5】 F=u−m×a …(数5)
【0029】
【発明の効果】本発明によれば、ステージ移動中の摩擦
変動や摩耗が低減されるため、ステージ移動中の速度変
動が低減し、ステージの耐久性が向上する。また、本発
明を例えば半導体の露光装置に適用すれば、精度と寿命
が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のステージの案内装置の一実施例を示す
分解斜視図。
【図2】本発明のステージの案内装置の原理を示すため
の側面図。
【図3】本発明のステージの案内装置に用いる荷重分配
器と支持案内機構の一実施例を示す側面図。
【図4】本発明のステージの案内装置に用いる摺動器の
一実施例を示す断面図。
【図5】本発明のステージの案内装置に用いる荷重分配
器の第二の実施例を示す断面図。
【図6】本発明のステージの案内装置に用いる荷重分配
器の制御方法の一実施例を示すブロック図。
【符号の説明】
1…固定部、2…摺動器、4…ころがり案内、5…荷重
分配器、6…ステージ、8…支持案内機構、9…試料
台、10…リニアモータ、301…第一のすべり案内装
置、302…第二のすべり案内装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】二個の摺動器を有する第一のすべり案内装
    置と、一個の摺動器を有する第二のすべり案内装置と、
    直動形ころがり案内に案内されるステージと、 前記ステージと前記直動形ころがり案内の間に設けられ
    た荷重分配器と、 前記ステージと前記直動形ころがり案内の間に設けられ
    た支持案内機構とを含み、前記直動形ころがり案内は前
    記ステージの重心の直下に位置し、 前記合計三個の摺動器を頂点とする三角形の重心が、前
    記ステージの重心の直下に位置することを特徴とするス
    テージの案内装置。
JP5182441A 1993-07-23 1993-07-23 ステージの案内装置 Pending JPH0737791A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011009171A (ja) * 2009-06-29 2011-01-13 Hitachi High-Technologies Corp 試料ステージおよび電子顕微鏡装置
JP2013251486A (ja) * 2012-06-04 2013-12-12 Micronics Japan Co Ltd 吸着テーブル

Cited By (3)

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