JPH07335810A - Electrolytic surface processing apparatus for lead frame for electronic parts - Google Patents
Electrolytic surface processing apparatus for lead frame for electronic partsInfo
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- JPH07335810A JPH07335810A JP12880194A JP12880194A JPH07335810A JP H07335810 A JPH07335810 A JP H07335810A JP 12880194 A JP12880194 A JP 12880194A JP 12880194 A JP12880194 A JP 12880194A JP H07335810 A JPH07335810 A JP H07335810A
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、IC等の電子部品の製
造に際して使用する薄金属板製のリードフレームにおい
て、当該リードフレームに合成樹脂製のモールド部を成
形するときに発生したバリを電解によって除去すると言
う電解バリ取り処理を施すとか、リードフレームの表面
に付着している油脂等を電解によって除去すると言う電
解脱脂処理を施すとか、或いは、この電解脱脂処理に続
いて銅等の金属の電解メッキ処理を施す等のような電解
表面処理を施すための装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin metal plate lead frame used in the manufacture of electronic parts such as ICs, and electrolyzes burrs generated when molding a synthetic resin mold portion on the lead frame. The electrolytic deburring treatment of removing by means of, or the electrolytic degreasing treatment of removing oils and fats adhered to the surface of the lead frame by electrolysis, or the electrolytic degreasing treatment followed by the removal of metal The present invention relates to an apparatus for performing electrolytic surface treatment such as electrolytic plating treatment.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、リードフレームに対する金属の
電解メッキ処理は、従来から良く知られ、且つ、図5に
示すように、処理液を入れた処理槽1内に、左右一対の
平面板状の電極板2,3を配設し、前記処理液のうち前
記両電極板2,3の間に、リードフレームAを、当該リ
ードフレームAが両電極板2,3に対して略平行になる
ように浸漬したのち、前記両電極板2,3を陽極とし、
リードフレームAを陰極として電解を行うものである。2. Description of the Related Art Generally, a metal electrolytic plating process for a lead frame is well known in the art, and as shown in FIG. 5, a pair of left and right flat plate-like plates are formed in a processing bath 1 containing a processing solution. Electrode plates 2 and 3 are provided, and a lead frame A is placed between the two electrode plates 2 and 3 of the treatment liquid so that the lead frame A is substantially parallel to both electrode plates 2 and 3. After immersing in, the both electrode plates 2 and 3 are used as anodes,
Electrolysis is performed using the lead frame A as a cathode.
【0003】また、電解バリ取り処理又は電解脱脂処理
は、前記リードフレームAを陰極又は陽極とし、両電極
板2,3を陽極又は陰極として電解を行うものである。In the electrolytic deburring process or electrolytic degreasing process, electrolysis is performed using the lead frame A as a cathode or an anode and both electrode plates 2 and 3 as an anode or a cathode.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、これらの電
解に際しては、両電極板2,3と、その間に挿入したリ
ードフレームAとの間における電流密度は、リードフレ
ームAの長手方向については各所略均一であるものの、
リードフレームAの幅方向については、リードフレーム
Aの左右両長手側面縁A′,A″の付近に電流が集中す
ると言う現象があることのために、リードフレームAの
左右両長手側面縁A′,A″の付近において高く、リー
ドフレームAにおける幅方向の中央部の付近において低
くなる傾向を呈することになるから、リードフレームA
のうちその幅方向の中央部の付近に対する電解処理が、
リードフレームAのうち左右両長手側面縁A′,A″の
付近に対する電解処理よりも遅れるものである。By the way, in these electrolysis, the current density between the two electrode plates 2 and 3 and the lead frame A inserted between them is substantially different in the longitudinal direction of the lead frame A. Although uniform,
Regarding the width direction of the lead frame A, there is a phenomenon that current concentrates near the left and right longitudinal side edges A ′, A ″ of the lead frame A. , A ″ in the vicinity of the central portion in the width direction of the lead frame A, and lower in the vicinity of the central portion in the width direction of the lead frame A.
Electrolytic treatment of the vicinity of the center of the width direction of the
This is later than the electrolytic treatment for the vicinity of the left and right longitudinal side edges A ′, A ″ of the lead frame A.
【0005】しかし、前記リードフレームAは、一般的
に言って、図1に示すように、幅方向の中央部の付近に
各種のリード端子A2等の主要部を設けるものであっ
て、前記した各種の表面処理は、主として、これら各リ
ード端子A2等の主要部に対して施すことが必要であ
る。従って、前記した従来における表面処理装置では、
リードフレームAにおける幅方向の中央部の付近に対す
る表面処理が遅れることにより、リードフレームAのう
ち必要な箇所である各リード端子A2等に対して所定の
表面処理を施すことに長い時間を必要とすることになる
から、処理能力が低くて、処理に要するコストが可成り
アップするばかりか、リードフレームAにおける幅方向
の左右両側面縁の付近と、リードフレームにおける幅方
向の中央部の付近との間に処理むらが発生すると言う問
題があった。However, in general, the lead frame A is provided with main parts such as various lead terminals A2 in the vicinity of the central portion in the width direction as shown in FIG. It is necessary to perform various surface treatments mainly on the main parts such as the lead terminals A2. Therefore, in the above-mentioned conventional surface treatment apparatus,
Due to the delay of the surface treatment for the vicinity of the center portion in the width direction of the lead frame A, it takes a long time to perform a predetermined surface treatment on each lead terminal A2 or the like which is a necessary portion of the lead frame A. Therefore, not only the processing capacity is low and the cost required for the processing is considerably increased, but also in the vicinity of the left and right side surface edges in the width direction of the lead frame A and in the vicinity of the center portion of the lead frame in the width direction. There was a problem that uneven processing occurred during the process.
【0006】本発明は、リードフレームに対する電解に
よる表面処理に際しての電流密度は、リードフレームと
極板との間に距離に略比例することに着目し、このこと
を利用して、前記の問題を解消した電解式表面処理装置
を提供することを技術的課題とするものである。The present invention focuses on the fact that the current density during surface treatment of a lead frame by electrolysis is substantially proportional to the distance between the lead frame and the electrode plate. It is a technical object to provide an electrolytic surface treatment apparatus that has been resolved.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、「処理槽内における処理液に浸漬した
リードフレームの左右両側の各々に、電極板を、当該電
極板がリードフレームの長手方向に沿って延びるように
配設して成る電解式表面処理装置において、前記両電極
板のうち前記リードフレームに対向する表面を、前記リ
ードフレームにおける幅方向の中央部の付近において高
く、リードフレームにおける幅方向の左右両長手側縁に
向かって次第に低く傾斜した中高面に形成する。」と言
う構成にした。In order to achieve this technical object, the present invention provides "an electrode plate is provided on each of the left and right sides of the lead frame immersed in the treatment liquid in the treatment tank, and the electrode plate is the lead frame. In the electrolytic surface treatment device arranged to extend along the longitudinal direction of the electrode plate, the surface of the electrode plates facing the lead frame is high near the center portion in the width direction of the lead frame, It is formed on the middle-high surface which is gradually lowered toward the left and right long side edges in the width direction of the lead frame. "
【0008】[0008]
【作 用】このように、両電極板のうちその間に位置
するリードフレームに対向する表面を、前記リードフレ
ームにおける幅方向の中央部の付近において高く、リー
ドフレームにおける幅方向の左右両長手側縁に向かって
次第に低く傾斜した中高面に形成したことにより、両電
極板とリードフレームとの間の距離は、リードフレーム
における幅方向の中央部の付近において小さく、リード
フレームにおける幅方向の左右両長手側面縁に向かって
次第に大きくなる。[Operation] As described above, the surface of the two electrode plates facing the lead frame located between them is high near the widthwise central portion of the leadframe, and the left and right long side edges of the leadframe in the width direction are provided. The height between the electrode plates and the lead frame is small in the vicinity of the center of the lead frame in the width direction. It gradually increases toward the side edges.
【0009】一方、両電極板とリードフレームとの間に
おける電流密度は、その間の距離に略比例するものであ
るから、両電極板とリードフレームとの間における電流
密度が、リードフレームにおける幅方向の左右両長手側
面縁の付近において高くリードフレームにおける幅方向
の中央部の付近で低くなると言う傾向を、前記両電極板
の表面を前記したように中高面に形成したことによって
是正することができ、リードフレームにおける幅方向に
沿っての電流密度を均一化できるのであり、また、場合
によっては、リードフレームにおける幅方向の中央部の
付近における電流密度を、リードフレームにおける幅方
向の左右両長手側面縁の付近における電流密度よりも高
くすることができるのである。On the other hand, since the current density between both electrode plates and the lead frame is substantially proportional to the distance between them, the current density between both electrode plates and the lead frame is the width direction of the lead frame. The tendency of being higher in the vicinity of the left and right longitudinal side edges and becoming lower in the vicinity of the widthwise central portion of the lead frame can be corrected by forming the surfaces of the both electrode plates in the middle-high surface as described above. , The current density in the width direction of the lead frame can be made uniform, and in some cases, the current density in the vicinity of the widthwise central portion of the lead frame can be calculated by changing the width direction of the lead frame to the left and right long side surfaces. It can be higher than the current density near the edges.
【0010】[0010]
【発明の効果】従って、本発明によると、リードフレー
ムに対する電解式の表面処理に際して、リードフレーム
における幅方向の中央部の付近に対する表面処理が遅れ
ることを防止できて、リードフレームの表面処理に要す
る時間を短縮できるから、処理能力を向上できて、処理
に要するコストを大幅に低減できるのであり、しかも、
リードフレームAにおける幅方向の左右両側面縁の付近
と、リードフレームにおける幅方向の中央部の付近との
間の処理むら低減できる効果を有する。Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent the surface treatment of the lead frame near the central portion in the width direction from being delayed during the electrolytic surface treatment of the lead frame, which is necessary for the surface treatment of the lead frame. Since the time can be shortened, the processing capacity can be improved, and the cost required for processing can be greatly reduced.
This has the effect of reducing the processing unevenness between the vicinity of the left and right side edges of the lead frame A in the width direction and the vicinity of the center portion of the lead frame in the width direction.
【0011】[0011]
【実施例】以下、本発明の実施例を、図2〜図4の図面
について説明する。この図において符号11は、処理液
を入れた処理槽を示し、この処理槽11内における処理
液中に、長尺フープ状のリードフレームAを、当該リー
ドフレームAが処理槽11の一端部における側面板1
1′に穿設したスリット孔11aから入ったのち処理槽
11の他端部における側面板11″に穿設したスリット
孔11bが出て行くように浸漬し、この状態で、その長
手方向に適宜速度で移送するように構成する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings of FIGS. In the figure, reference numeral 11 indicates a processing bath containing a processing liquid. A long hoop-shaped lead frame A is placed in the processing liquid in the processing bath 11 at the one end of the processing bath 11. Side plate 1
After entering through the slit hole 11a formed in 1 ', the slit hole 11b formed in the side plate 11 "at the other end of the processing tank 11 is soaked as to go out, and in this state, the slit hole 11b is appropriately lengthened. It is configured to transfer at a speed.
【0012】なお、前記処理槽11内における処理液
は、前記両スリット孔11a,11bから流出するが、
この流出した処理液は、図示しない受け槽で受けたのち
前記処理槽11内に戻すように構成されている。また、
前記処理槽11内には、前記リードフレームAの左右両
側に、電極板12,13が、当該両電極板12,13が
リードフレームAの長手方向に沿って略平行に延びるよ
うに配設されている。The treatment liquid in the treatment tank 11 flows out from the slit holes 11a and 11b.
The processing liquid that has flowed out is received by a receiving tank (not shown) and then returned to the processing tank 11. Also,
Electrode plates 12 and 13 are arranged on the left and right sides of the lead frame A in the processing tank 11 so that the electrode plates 12 and 13 extend substantially parallel to the longitudinal direction of the lead frame A. ing.
【0013】そして、前記両電極板12,13のうちリ
ードフレームAに対向する表面を、前記リードフレーム
における幅方向の中央部の付近において高い平面12
a,13aと、高い平面12a,13aからリードフレ
ームAにおける幅方向の左右両長手側縁A′,A″に向
かって次第に低くなる傾斜面12b′,12b″、13
b′,13b″とから成る中高面12c,13cに形成
するのである。The surface of the two electrode plates 12 and 13 facing the lead frame A has a flat surface 12 near the center of the lead frame in the width direction.
a, 13a and inclined surfaces 12b ', 12b ", 13 which gradually decrease from the high planes 12a, 13a toward the left and right longitudinal side edges A', A" in the width direction of the lead frame A.
It is formed on the middle-high surfaces 12c and 13c composed of b'and 13b ".
【0014】この構成において、リードフレームAのそ
の長手方向に移送しながら、当該リードフレームAと両
電極板12,13とに対して通電することにより、前記
フープ状リードフレームAの表面を、電解によって連続
的に表面処理することができるのである。この場合にお
いて、両電極板12,13のうちその間に位置するリー
ドフレームAに対向する表面を、前記のように、中高面
12c,13cに形成したことにより、両電極板12,
13とリードフレームAとの間の距離は、リードフレー
ムAにおける幅方向の中央部の付近において小さく、リ
ードフレームAにおける幅方向の左右両長手側面縁
A′,A″に向かって次第に大きくなる。In this structure, the surface of the hoop-shaped lead frame A is electrolyzed by energizing the lead frame A and both electrode plates 12 and 13 while transferring the lead frame A in its longitudinal direction. The surface treatment can be carried out continuously by. In this case, the surface of the two electrode plates 12, 13 facing the lead frame A located between them is formed as the middle-high surfaces 12c, 13c as described above.
The distance between the lead frame A and the lead frame A is small in the vicinity of the center portion in the width direction of the lead frame A, and gradually increases toward the left and right longitudinal side edges A ′, A ″ in the width direction of the lead frame A.
【0015】一方、両電極板12,13とリードフレー
ムAとの間における電流密度は、その間の距離に略比例
するものであるから、両電極板12,13とリードフレ
ームAとの間における電流密度が、リードフレームAに
おける幅方向の左右両長手側面縁A′,A″の付近にお
いて高くリードフレームAにおける幅方向の中央部の付
近で低くなると言う傾向を、前記両電極板12,13の
表面を前記したように中高面12c,13cに形成した
ことによって是正することができ、リードフレームAに
おける幅方向に沿っての電流密度を均一化できるのであ
り、また、場合によっては、リードフレームAにおける
幅方向の中央部の付近における電流密度を、リードフレ
ームAにおける幅方向の左右両長手側面縁A′,A″の
付近における電流密度よりも高くすることができるので
ある。On the other hand, since the current density between the electrode plates 12 and 13 and the lead frame A is approximately proportional to the distance between them, the current density between the electrode plates 12 and 13 and the lead frame A is large. The density tends to be high near the left and right longitudinal side edges A ′, A ″ in the width direction of the lead frame A and low near the center of the lead frame A in the width direction. This can be corrected by forming the surfaces on the middle-high surfaces 12c and 13c as described above, and the current density in the width direction of the lead frame A can be made uniform, and in some cases, the lead frame A Of the current density in the vicinity of the center portion in the width direction of the lead frame A in the vicinity of the left and right longitudinal side edges A ′, A ″ in the width direction. It is possible to be higher than the degree.
【0016】なお、前記実施例は、長尺フープ状リード
フレームに対する電解式の表面処理に適用した場合を示
したが、本発明はこれに限らず、適宜長さにした短冊状
のリードフレームに対しても同様に適用できること言う
までもない。また、前記中高面12c,13cは、前記
実施例のように、平面12a,13aと傾斜面12
b′,12b″、13b′,13b″とによって構成す
ることに限らず、円弧状の湾曲面に構成しても良いので
ある。Although the above-mentioned embodiment shows the case of applying the electrolytic surface treatment to the long hoop-shaped lead frame, the present invention is not limited to this, and a strip-shaped lead frame having an appropriate length can be used. It goes without saying that the same applies to the case. Further, the middle-high surfaces 12c and 13c are the flat surfaces 12a and 13a and the inclined surface 12 as in the above embodiment.
The structure is not limited to b ', 12b ", 13b', 13b", but may be an arcuate curved surface.
【図1】リードフレームの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a lead frame.
【図2】本発明の実施例による表面処理装置を示す一部
切欠斜視図である。FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing a surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施例による表面処理装置を示す平面
図である。FIG. 3 is a plan view showing a surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図4】図3のIV−IV視断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.
【図5】従来における表面処理装置の縦断正面図であ
る。FIG. 5 is a vertical sectional front view of a conventional surface treatment apparatus.
A リードフレーム A′,A″ リードフレームの長手側面縁 11 処理槽 12,13 電極板 12c,13c 中高面 A Lead frame A ′, A ″ Lead frame longitudinal side edges 11 Processing tank 12, 13 Electrode plate 12c, 13c Middle-high surface
Claims (1)
フレームの左右両側の各々に、電極板を、当該電極板が
リードフレームの長手方向に沿って延びるように配設し
て成る電解式表面処理装置において、前記両電極板のう
ち前記リードフレームに対向する表面を、前記リードフ
レームにおける幅方向の中央部の付近において高く、リ
ードフレームにおける幅方向の左右両長手側縁に向かっ
て次第に低く傾斜した中高面に形成したことを特徴とす
る電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置。1. An electrolytic surface comprising an electrode plate disposed on each of the left and right sides of a lead frame immersed in a treatment liquid in a treatment tank so that the electrode plate extends along the longitudinal direction of the lead frame. In the processing device, a surface of the both electrode plates facing the lead frame is inclined near the center in the width direction of the lead frame and is gradually inclined toward both left and right long side edges in the width direction of the lead frame. An electrolytic surface treatment apparatus for a lead frame for electronic parts, which is formed on the above-mentioned middle-high surface.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12880194A JPH07335810A (en) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | Electrolytic surface processing apparatus for lead frame for electronic parts |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12880194A JPH07335810A (en) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | Electrolytic surface processing apparatus for lead frame for electronic parts |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07335810A true JPH07335810A (en) | 1995-12-22 |
Family
ID=14993774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12880194A Pending JPH07335810A (en) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | Electrolytic surface processing apparatus for lead frame for electronic parts |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07335810A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106757293A (en) * | 2016-12-13 | 2017-05-31 | 淳铭散热科技股份有限公司 | A kind of structural type infiltrates the preparation facilities of gradient surface |
CN109881231A (en) * | 2019-03-12 | 2019-06-14 | 河南平高电气股份有限公司 | Cylindrical workpiece is surface-treated auxiliary electrode and air cylinder anodic oxidation device |
-
1994
- 1994-06-10 JP JP12880194A patent/JPH07335810A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106757293A (en) * | 2016-12-13 | 2017-05-31 | 淳铭散热科技股份有限公司 | A kind of structural type infiltrates the preparation facilities of gradient surface |
CN109881231A (en) * | 2019-03-12 | 2019-06-14 | 河南平高电气股份有限公司 | Cylindrical workpiece is surface-treated auxiliary electrode and air cylinder anodic oxidation device |
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