JPH07334987A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH07334987A
JPH07334987A JP7079030A JP7903095A JPH07334987A JP H07334987 A JPH07334987 A JP H07334987A JP 7079030 A JP7079030 A JP 7079030A JP 7903095 A JP7903095 A JP 7903095A JP H07334987 A JPH07334987 A JP H07334987A
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semiconductor memory
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Hideo Asaka
英雄 浅香
Hiroyuki Yamauchi
寛行 山内
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To suppress the leakage current at the time of a bit line precharging (at the time of a standby) due to the short circuit between a bit line and a word line in a semiconductor storage device. CONSTITUTION:A pull-down transistor TWD121 becomes into on state when a corresponding word line WL11 is not selected and connects the corresponding word line WL11 with a common power source line VSX. An impedance changing means 31 changing the impedance of a path at the time of the standby from the impedance at the time when either of word lines is selected and making the impedance at the time of the standby higher than that at the time of an operation is provided in the path through which the common power source line VSX is grounded. Thus, even in the case where the short circuit between the bit line and the word line is present, although the bit line is precharged to a prescribed potential, the leakage current (a standby current) heading to the ground through the faulty bit line-word line can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、DRAM(ダイナミッ
クランダムアクセスメモリ)に代表される半導体記憶装
置の改良に関し、詳しくは、スタンバイ時におけるビッ
ト線とワード線とのショートによるリーク電流の増大、
即ち、スタンバイ時の消費電力の増大を抑制するように
したものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in a semiconductor memory device represented by a DRAM (Dynamic Random Access Memory), and more specifically, an increase in leak current due to a short circuit between a bit line and a word line during standby,
That is, the present invention relates to a device that suppresses an increase in power consumption during standby.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体記憶装置においては、多
数のビット線対を電源電位と接地電位との間の中間電位
にプリチャージする多数のプリチャージ回路を設けて、
ビット線対のプリチャージ期間であるスタンバイ時に
は、前記プリチャージ回路により各ビット線対を中間電
位にプリチャージすると共に、ワード線を接地する。こ
のスタンバイ時に、ビット線の何れかと前記ワード線と
がショートしている場合には、このショートしたビット
線からワード線を経て接地電位に大きなリーク電流が流
れることになる。このリーク電流は、スタンバイ電流と
呼ばれ、半導体記憶装置の歩留りを大きく下げるだけで
なく、特にバッテリで駆動する半導体記憶装置では、こ
のリーク電流がバッテリの寿命を短くする原因となる。
2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor memory device is provided with a large number of precharge circuits for precharging a large number of bit line pairs to an intermediate potential between a power supply potential and a ground potential.
During standby, which is the precharge period of the bit line pair, the precharge circuit precharges each bit line pair to an intermediate potential and grounds the word line. When any one of the bit lines and the word line are short-circuited during the standby, a large leak current flows from the shorted bit line to the ground potential via the word line. This leakage current is called a standby current, and not only greatly reduces the yield of the semiconductor memory device, but also in a semiconductor memory device driven by a battery, this leakage current causes the battery life to be shortened.

【0003】そこで、スタンバイ電流を低減するべく、
例えば多数のプリチャージ回路に各々ヒューズを配置
し、ワード線とビット線とがショートした場合には、そ
の欠陥ビット線に対応するプリチャージ回路のヒューズ
を溶断して、欠陥ビット線対を中間電位にプリチャージ
しないことが考えられる。しかし、プリチャージ回路
は、1対のビット線を構成する2本のビット線間に配置
され、且つ周囲にセンスアンプ回路等が配置される関係
上、各プリチャージ回路の内部又は周囲に各々ヒューズ
を配置することは空間的に困難である。
Therefore, in order to reduce the standby current,
For example, if a fuse is arranged in each of a number of precharge circuits and the word line and the bit line are short-circuited, the fuse of the precharge circuit corresponding to the defective bit line is blown to set the defective bit line pair to the intermediate potential. It is conceivable not to precharge. However, the precharge circuit is arranged between two bit lines forming a pair of bit lines, and a sense amplifier circuit and the like are arranged around the precharge circuit. Therefore, a fuse is provided inside or around each precharge circuit. Is spatially difficult to place.

【0004】そこで、従来、複数個のプリチャージ回路
毎に1本割当られた合計複数本のプリチャージ電源線を
設け、その各プリチャージ電源線に各々ヒューズを配置
したものがある。このような方式でDRAMにおけるス
タンバイ時のリーク電流を低減する技術として、従来、
アイ・エス・エス・シー・シー・ダイジェスト・オブ・
テクニカル・ペーパーズ93(1993)第48頁から
第49頁(ISSCCDIGEST OF TECHN
ICAL PAPERS 93(1993)P.48−
49)に示されたものがある。
Therefore, there is a conventional one in which a plurality of precharge power supply lines are provided, one for each of the plurality of precharge circuits, and fuses are arranged on the respective precharge power supply lines. As a technique for reducing the leakage current during standby in the DRAM by such a method,
I S S C C Digest Of
Technical Papers 93 (1993) pp. 48-49 (ISSCCDIGEST OF TECHN
ICAL PAPERS 93 (1993) P. 48-
49).

【0005】この従来例は、図11及び図12に示すよ
うに、1つのメモリセルアレイを区画して複数のメモリ
セルブロック500,500 …を設ける(図12では1個のみ
示す)と共に、そのメモリセルブロック500,500 …の側
方に各々センスアンプブロック700,700 …を配置する。
前記各センスアンプブロック700,700 …には、各々、対
応するメモリセルブロック500 内のビット線の対数に等
しい個数のプリチャージ回路をビット線が並ぶ方向に設
け、この各プリチャージ回路により、対応するビット線
対を所定電位にプリチャージする。また、図12に示す
ように、ビット線とワード線とのショートに対する冗長
救済用として、冗長メモリセルブロック600 及びその側
方にセンスアンプブロック800 を設ける(図12では1
個のみ示す)。前記正規用のセンスアンプブロック700
…及び冗長救済用のセンスアンプブロック800 毎に、プ
リチャージ電源線650 a,650 sを設けると共に、この
電源線650 a,650 sに電位を供給するプリチャージ電
位供給線670 を設け、このプリチャージ電源線650 a…
とプリチャージ電位供給線670 との間に、各々パワース
イッチ660 a…,660 s…を設ける。何れかのメモリセ
ルブロック500 の中の1つのビット線がワード線とショ
ートした場合には、この欠陥ビット線を含むメモリセル
ブロック500 に対応するパワースイッチ660 aを切断す
ることにより、その欠陥ビット線を含むメモリセルブロ
ック500 に対するプリチャージを阻止して、リーク電流
が流れることを回避すると共に、冗長メモリセルブロッ
ク600 に対応するパワースイッチ660 sを閉じて、冗長
メモリセルブロック600 に対するプリチャージを可能と
して、前記欠陥ビット線を含むメモリセルブロック500
を冗長メモリセルブロック600 で置換する構成である。
In this conventional example, as shown in FIGS. 11 and 12, one memory cell array is divided into a plurality of memory cell blocks 500, 500 ... (Only one is shown in FIG. 12), and the memory cell block is also shown. Sense amplifier blocks 700, 700 are arranged on the sides of 500, 500.
Each of the sense amplifier blocks 700, 700, ... Is provided with a precharge circuit of a number equal to the number of pairs of bit lines in the corresponding memory cell block 500 in the direction in which the bit lines are arranged. Precharge the line pair to a predetermined potential. Further, as shown in FIG. 12, a redundant memory cell block 600 and a sense amplifier block 800 are provided on the side of the redundant memory cell block 600 (1 in FIG. 12) for redundancy relief for a short circuit between a bit line and a word line.
Only shown). The regular sense amplifier block 700
... and each of the sense amplifier blocks 800 for redundancy relief, precharge power supply lines 650 a and 650 s are provided, and a precharge potential supply line 670 that supplies a potential to these power supply lines 650 a and 650 s is provided. Charge power supply line 650a ...
, 660 s are respectively provided between the precharge potential supply line 670 and the precharge potential supply line 670. When one bit line in any memory cell block 500 is short-circuited with a word line, the defective bit is cut by cutting off the power switch 660a corresponding to the memory cell block 500 including the defective bit line. The precharge to the memory cell block 500 including the line is prevented to prevent the leakage current from flowing, and the power switch 660 s corresponding to the redundant memory cell block 600 is closed to precharge the redundant memory cell block 600. If possible, the memory cell block 500 including the defective bit line
Is replaced with the redundant memory cell block 600.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の技術では次の欠点がある。即ち、1つのメモリセル
ブロック500 内で1本のビット線とワード線とがショー
トした場合には、そのメモリセルブロック500 に対応す
るプリチャージ電源線650 aのパワースイッチ660 aが
開かれる。従って、このプリチャージ電源線650aに対応
するセンスアンプブロック700 にはプリチャージ電位は
供給されず、従って、前記欠陥ビット線を含むメモリセ
ルブロック500 内では、正常な多数のビット線対及びワ
ード線を使用できず、このメモリセルブロック500 の全
体を冗長救済用のメモリセルブロック600 と置換する必
要があり、その結果、冗長救済用メモリセルブロック60
0 は、正規のメモリセルブロック500 と同じ大きさに設
定する必要があって、チップ面積が大きくなる欠点があ
った。
However, the above-mentioned conventional techniques have the following drawbacks. That is, when one bit line and one word line are short-circuited in one memory cell block 500, the power switch 660a of the precharge power supply line 650a corresponding to the memory cell block 500 is opened. Therefore, the precharge potential is not supplied to the sense amplifier block 700 corresponding to the precharge power supply line 650a, and therefore, in the memory cell block 500 including the defective bit line, a large number of normal bit line pairs and word lines are provided. Cannot be used, and the entire memory cell block 500 must be replaced with the memory cell block 600 for redundancy repair, and as a result, the memory cell block 60 for redundancy repair must be replaced.
It is necessary to set 0 to the same size as the regular memory cell block 500, which has a drawback of increasing the chip area.

【0007】また、本発明者等は、前記プリチャージ電
源線650 aをパワースイッチ660 aで開いても、他の電
源線から欠陥ビット線及びワード線を経てスタンバイ電
流が接地線に流れることを発見した。この様子を図13
に示す。
The present inventors have also found that even if the precharge power supply line 650a is opened by the power switch 660a, a standby current flows from another power supply line to the ground line via the defective bit line and word line. discovered. This state is shown in FIG.
Shown in.

【0008】図13において、BL,/BL はビット線対を
構成する2本のビット線、WLはワード線、800 は2本の
ビット線BL,/BL を接続する3個のトランジスタより成
るプリチャージ回路、810 はこのプリチャージ回路 800
に所定電位を供給するプリチャージ電源線、820 は前記
プリチャージ回路800 の3個のトランジスタをONさせる
イコライズ信号線である。850 はセンスアンプであっ
て、ビット線対BL,/BL を接続する2個の直列接続され
たPチャネル型トランジスタTP,TPと、ビット線対BL,
/BL を接続する2個の直列接続されたNチャネル型トラ
ンジスタTN,TNとから成り、前記2個のPチャネル型ト
ランジスタTP,TPの接続点には共通ソース線SPが、前記
2個のNチャネル型トランジスタTN,TNの接続点には他
の共通ソース線SNが接続される。また、860 は前記2本
の共通ソース線SP,SNを接続して1/2 ・Vccの電源の電
位にイコライズする3個のトランジスタより成る共通ソ
ース線イコライズ回路、870 は共通ソース線SPを電源電
位Vccに、他の共通ソース線SNを接地電位Vssにする電
位供給回路である。eqは共通ソース線イコライズ回路86
0 に出力されるイコライズ信号、/eq は電位供給回路87
0 に出力される信号であって、前記イコライズ信号eqを
反転した信号である。
In FIG. 13, BL and / BL are two bit lines that form a bit line pair, WL is a word line, and 800 is a pre-transistor consisting of three transistors that connect the two bit lines BL and / BL. Charge circuit, 810 is this precharge circuit 800
820 is a precharge power supply line for supplying a predetermined potential to the precharge circuit 800 and an equalize signal line 820 for turning on the three transistors of the precharge circuit 800. Reference numeral 850 denotes a sense amplifier, which includes two P-channel type transistors TP and TP connected in series for connecting the bit line pair BL and / BL, and the bit line pair BL and
/ BL is connected in series with two N-channel type transistors TN and TN, and a common source line SP is connected to the two N-channel type transistors TP and TP. Another common source line SN is connected to the connection point of the channel transistors TN, TN. Further, 860 is a common source line equalizing circuit composed of three transistors which connect the two common source lines SP and SN to equalize the potential of the power source of 1 / 2.Vcc, and 870 is a common source line SP power source. This is a potential supply circuit that brings the other common source line SN to the ground potential Vss to the potential Vcc. eq is a common source line equalizer circuit 86
Equalize signal output to 0, / eq is potential supply circuit 87
The signal output to 0 is a signal obtained by inverting the equalize signal eq.

【0009】前記図13の構成の動作を、図14に示す
各信号波形に基いて説明する。
The operation of the configuration shown in FIG. 13 will be described based on the signal waveforms shown in FIG.

【0010】ビット線対のプリチャージ期間では、イコ
ライズ信号線820 の信号EQを立ち上げて、ビット線対B
L,/BL を所定電位(1/2・Vcc) にプリチャージすると
共に、イコライズ信号eqを立ち上げて共通ソース線SP,
SNを所定電位(1/2・Vcc) にイコライズし、センスアン
プ回路850 を待機状態とする。ビット線対BL./BL の増
幅期間では、イコライズ信号線820 の信号EQ及びイコラ
イズ信号eqを立ち下げると共に、イコライズ信号eqの反
転信号/eq を立ち上げると、選択されたワード線WLによ
ってビット線対BL,/BL に生じた微小な電位差がセンス
アンプ回路850 で検知され、増幅される。
In the precharge period of the bit line pair, the signal EQ of the equalize signal line 820 is raised and the bit line pair B
Precharge L and / BL to a predetermined potential (1/2 · Vcc) and raise the equalize signal eq to common source line SP,
SN is equalized to a predetermined potential (1/2 · Vcc), and the sense amplifier circuit 850 is placed in a standby state. Bit line pair BL. During the amplification period of / BL, when the signal EQ and the equalization signal eq of the equalization signal line 820 are lowered and the inverted signal / eq of the equalization signal eq is raised, the bit line pair BL, / BL is selected by the selected word line WL. The minute potential difference generated in the sense amplifier is detected and amplified by the sense amplifier circuit 850.

【0011】しかし、前記図13に示した従来の技術で
は、例えば、1本のビット線BLとワード線WLとのショー
ト(図13中「R」で表示する)があると、ビット線対
のプリチャージ期間において、前記欠陥ビット線BLの電
位はプリチャージ電位1/2 ・Vccよりも低くなる。これ
に伴い、ビット線対BL,/BL に微小な電位差が生じると
共に、センスアンプ回路850 の下側に位置するPチャネ
ルトランジスタTPのゲート電位が前記プリチャージ電位
1/2 ・Vccよりも低くなると、このPチャネルトランジ
スタTPのゲート- ソース間の電圧がしきい値を越える
と、このPチャネルトランジスタTPがオン状態となっ
て、共通ソース線SPから前記オン状態となった下側のト
ランジスタTPを経て他方のビット線/BL に流れ、その
結果、上側NPチャネルトランジスタTNがオン状態とな
って、1/2 ・Vccの電源から共通ソース線イコライズ回
路860 並びに前記オン状態となった上側のトランジスタ
TNを経て前記欠陥ビット線BL及びワード線WLを経て接地
に向うスタンバイ電流が流れることになる。
However, in the conventional technique shown in FIG. 13, for example, when there is a short between one bit line BL and word line WL (indicated by "R" in FIG. 13), the bit line pair During the precharge period, the potential of the defective bit line BL becomes lower than the precharge potential 1 / 2.Vcc. Along with this, a minute potential difference is generated between the bit line pair BL, / BL, and the gate potential of the P channel transistor TP located below the sense amplifier circuit 850 is the precharge potential.
When the voltage becomes lower than 1/2 Vcc and the gate-source voltage of the P-channel transistor TP exceeds a threshold value, the P-channel transistor TP is turned on and the common source line SP is turned on. Flow to the other bit line / BL through the lower transistor TP which has become the result, and as a result, the upper NP channel transistor TN is turned on, from the power source of 1 / 2.Vcc to the common source line equalizing circuit 860 and the above-mentioned. Upper transistor turned on
A standby current flows toward the ground via the defective bit line BL and the word line WL via TN.

【0012】本発明は、前記問題に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、第1に、冗長救済用メモリセルブ
ロックを小面積に制限しながらスタンバイ電流を軽減す
ることにあり、第2に、ビット線対のプリチャージ期間
でのセンスアンプ回路の誤動作に起因するスタンバイ電
流を無くすことにあり、第3に、ワード線がビット線と
ショートする点から、ワード線にて対策を施して、スタ
ンバイ電流を低減ないし無くすことにある。
The present invention has been made in view of the above problems. An object of the present invention is to reduce the standby current while limiting the redundancy relief memory cell block to a small area. In order to eliminate the standby current caused by the malfunction of the sense amplifier circuit during the precharge period of the bit line pair, thirdly, from the point that the word line is short-circuited with the bit line, measures are taken in the word line. , To reduce or eliminate the standby current.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明では、1個のメモリセルブロック内の多数の
ビット線対のうち、一部のビット線対を単位として冗長
置換できる構成を採用して、1個のメモリセルブロック
内では1つの欠陥ビット線対を除いた他の正常なビット
線対をそのまま使用して、チップ面積を増大を抑制する
ことにある。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a part of a large number of bit line pairs in one memory cell block can be redundantly replaced in units of some bit line pairs. By adopting the above, other normal bit line pairs except for one defective bit line pair are used as they are in one memory cell block to suppress the increase of the chip area.

【0014】また、本発明では、センスアンプ回路を構
成する複数個のトランジスタを、ビット線対のプリチャ
ージ期間には、よりオフ作動させて、このセンスアンプ
回路を経て流れるスタンバイ電流を無くす。
Further, according to the present invention, the plurality of transistors forming the sense amplifier circuit are further turned off during the precharge period of the bit line pair to eliminate the standby current flowing through the sense amplifier circuit.

【0015】更に、本発明では、ビット線対のプリチャ
ージ期間に、ワード線と接地線との間のインピーダンス
を高く調整して、スタンバイ電流の値を小さくする。
Further, according to the present invention, the impedance between the word line and the ground line is adjusted to be high during the precharge period of the bit line pair to reduce the value of the standby current.

【0016】すなわち、請求項1記載の発明の半導体記
憶装置では、多数のワード線及びこれと交差する多数対
のビット線から成るセルアレーを、前記ワード線が並ぶ
方向に複数に区画して成る複数のメモリセルブロック
と、前記複数のメモリセルブロックと同数設けられ、且
つ対応するメモリセルブロックの側方でワード線が並ぶ
側に配置された複数のセンスアンプブロックと、前記各
メモリセルブロック間で共用される複数本の列選択信号
線と、前記列選択信号線と同数設けられたプリチャージ
電源線と、前記各プリチャージ電源線に配置された切断
手段とを備え、前記各センスアンプブロックは、対応す
るメモリセルブロック内の多数対のビット線を各々所定
電位にプリチャージする複数個のプリチャージ回路を有
し、前記各列選択信号線は、各メモリセルブロックの複
数対のビット線を単位として1本設けられ、且つ各メモ
リセルブロック毎に1対のビット線を同時に選択するも
のであり、前記各プリチャージ電源線は、対応する列選
択信号線により選択可能な複数対のビット線のプリチャ
ージ回路に所定電位を供給するものであり、前記1本の
列選択信号線、この列選択信号線に対応する各メモリセ
ルブロック内の複数対のビット線及び各センスアンプブ
ロックの複数個のプリチャージ回路、並びに1本のプリ
チャージ電源線を1単位として、ワード線- ビット線シ
ョート時の冗長置換単位が構成されていることを特徴と
する。
That is, in the semiconductor memory device according to the first aspect of the present invention, a plurality of cell arrays composed of a plurality of word lines and a plurality of pairs of bit lines intersecting with the word lines are divided into a plurality in the direction in which the word lines are arranged. Memory cell blocks, a plurality of sense amplifier blocks arranged in the same number as the plurality of memory cell blocks, and arranged on the side of the corresponding memory cell blocks on which the word lines are arranged, and between the memory cell blocks. Each of the sense amplifier blocks includes a plurality of shared column selection signal lines, precharge power supply lines provided in the same number as the column selection signal lines, and disconnecting means arranged in each of the precharge power supply lines. , A plurality of precharge circuits for precharging a plurality of pairs of bit lines in a corresponding memory cell block to a predetermined potential, respectively, One line is provided for a plurality of pairs of bit lines of each memory cell block as a unit, and one pair of bit lines is simultaneously selected for each memory cell block. A predetermined potential is supplied to the precharge circuits of a plurality of pairs of bit lines selectable by the column selection signal line, and the one column selection signal line and each memory cell block corresponding to this column selection signal line A plurality of pairs of bit lines, a plurality of precharge circuits of each sense amplifier block, and one precharge power supply line as one unit, and a redundant replacement unit at the time of shorting the word line-bit line is configured. Characterize.

【0017】また、請求項2記載の発明では、前記請求
項1記載の半導体記憶装置において、各プリチャージ電
源線にプリチャージ電位を供給するプリチャージ電位供
給回路を有し、各切断手段は、前記プリチャージ電位供
給回路と各プリチャージ電源線との接続点近傍に配置さ
れることを特徴とする。
According to a second aspect of the invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, there is provided a precharge potential supply circuit for supplying a precharge potential to each precharge power supply line, and each disconnecting means includes: It is characterized in that it is arranged in the vicinity of a connection point between the precharge potential supply circuit and each precharge power supply line.

【0018】更に、請求項3記載の発明では、前記請求
項1又は請求項2記載の半導体記憶装置において、切断
手段はヒューズ素子からなることを特徴とする。
Further, the invention according to claim 3 is characterized in that, in the semiconductor memory device according to claim 1 or 2, the cutting means comprises a fuse element.

【0019】加えて、請求項4記載の発明の半導体記憶
装置では、キャパシタ及びトランジスタより成るメモリ
セルと、前記メモリセルから信号が読み出される1対の
ビット線と、前記メモリセルのトランジスタの導電型と
反対の導電型の第1のトランジスタ及び同一の導電型の
第2のトランジスタより成り、前記1対のビット線に読
み出された信号を増幅するフリップフロップ型のセンス
アンプと、前記センスアンプの第1のトランジスタ及び
第2のトランジスタに各々接続され、対応するトランジ
スタに所定電位を供給する共通ソース線とを備えた半導
体記憶装置であって、前記複数の共通ソース線のうち、
前記メモリセルのトランジスタの導電型とは反対の導電
型の第1のトランジスタに接続された共通ソース線に、
前記センスアンプが非活性状態の期間で、半導体記憶装
置の電源の電位の1/2値の電位よりも前記第1のトラ
ンジスタがカットオフする側の電位を供給する電位供給
手段を備えたことを特徴とする。
In addition, in the semiconductor memory device of the present invention as defined in claim 4, a memory cell including a capacitor and a transistor, a pair of bit lines from which a signal is read from the memory cell, and a conductivity type of the transistor of the memory cell. A flip-flop type sense amplifier for amplifying the signal read to the pair of bit lines, and a first transistor of the opposite conductivity type and a second transistor of the same conductivity type. What is claimed is: 1. A semiconductor memory device, comprising: a common source line connected to a first transistor and a second transistor and supplying a predetermined potential to a corresponding transistor, wherein:
A common source line connected to a first transistor of a conductivity type opposite to that of the transistor of the memory cell,
A potential supply means is provided for supplying a potential on a side at which the first transistor is cut off from a potential half the potential of the power supply of the semiconductor memory device during a period in which the sense amplifier is inactive. Characterize.

【0020】更に加えて、請求項5記載の発明では、前
記請求項4記載の半導体記憶装置において、複数の共通
ソース線のうち、メモリセルのトランジスタの導電型と
は同一の導電型の第2のトランジスタに接続された共通
ソース線に、センスアンプが非活性状態の期間で、半導
体記憶装置の電源の電位の1/2値の電位よりも前記第
2のトランジスタがカットオフする側の電位を供給する
他の電位供給手段を備えたことを特徴とする。
Further, in the invention according to claim 5, in the semiconductor memory device according to claim 4, a second conductivity type of a plurality of common source lines is the same as a conductivity type of a transistor of a memory cell. To the common source line connected to the transistor, the potential on the side where the second transistor is cut off from the potential which is ½ of the potential of the power supply of the semiconductor memory device is cut off during the period when the sense amplifier is inactive. It is characterized in that it is provided with another potential supply means for supplying.

【0021】請求項6記載の発明の半導体記憶装置で
は、各々がキャパシタ及びトランジスタより成る複数個
のメモリセルと、前記複数個のメモリセルのトランジス
タを各々制御する複数個のワード線と、前記複数個のメ
モリセルのキャパシタに蓄積された情報が各々読み出さ
れる複数対のビット線と、前記複数対のビット線に読み
出された情報を各々増幅する複数個のセンスアンプと、
前記複数個のワード線と同数設けられ、対応するワード
線の非選択時に、この対応するワード線を接地するプル
ダウントランジスタと、前記全てのワード線が選択され
ないスタンバイ時に、前記複数対のビット線を所定電位
にプリチャージするプリチャージ回路とを備えると共
に、前記スタンバイ時に、各ワード線からプルダウント
ランジスタを経て接地に流れる電流を制限する電流制限
手段を備えたことを特徴とする。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, a plurality of memory cells each of which includes a capacitor and a transistor, a plurality of word lines each controlling a transistor of the plurality of memory cells, and a plurality of the plurality of word lines. A plurality of pairs of bit lines from which the information stored in the capacitors of the individual memory cells are respectively read; and a plurality of sense amplifiers that amplify the information read to the plurality of pairs of bit lines, respectively.
A pull-down transistor, which is provided in the same number as the plurality of word lines and which grounds the corresponding word line when the corresponding word line is not selected, and the plurality of pairs of bit lines, are connected to the plurality of pairs of bit lines during standby when all the word lines are not selected. A precharge circuit for precharging to a predetermined potential is provided, and a current limiting unit for limiting a current flowing from each word line to the ground via the pull-down transistor in the standby mode is provided.

【0022】また、請求項7記載の発明では、前記請求
項6記載の半導体記憶装置において、電流制限手段は、
各プルダウントランジスタのソースが接続された共通電
源線と、前記共通電源線を接地する経路に配置され、こ
の経路のインピーダンスをスタンバイ時と何れかのワー
ド線が選択される動作時とで変更し、スタンバイ時には
動作時よりもインピーダンスを高くするインピーダンス
変更手段とから成ることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the invention, in the semiconductor memory device according to the sixth aspect, the current limiting means is:
A common power supply line to which the source of each pull-down transistor is connected and a path for grounding the common power supply line are arranged, and the impedance of this path is changed at the time of standby and the operation when any word line is selected, It is characterized by comprising impedance changing means for making the impedance higher during standby than during operation.

【0023】更に、請求項8記載の発明では、前記請求
項7記載の半導体記憶装置において、インピーダンス変
更手段は、共通電源線を接地する経路に配置されたトラ
ンジスタを備え、前記トランジスタは、プリチャージ回
路の活性化信号に基いて制御され、前記プリチャージ回
路の活性化信号は、スタンバイ時と動作時とで電位が異
なり、前記トランジスタはスタンバイ時には動作時より
も高インピーダンスな状態となること特徴とする。
Further, in the invention according to claim 8, in the semiconductor memory device according to claim 7, the impedance changing means includes a transistor arranged in a path for grounding the common power supply line, and the transistor is precharged. The precharge circuit activation signal is controlled based on a circuit activation signal, and the potential of the activation signal of the precharge circuit is different between standby and operation, and the transistor is in a higher impedance state in standby than in operation. To do.

【0024】加えて、請求項9記載の発明では、前記請
求項7記載の半導体記憶装置において、インピーダンス
変更手段は、共通電源線を接地する経路に配置されたト
ランジスタを備え、前記トランジスタは、センスアンプ
の活性化信号により制御され、前記センスアンプの活性
化信号は、スタンバイ時と動作時とで電位が異なり、前
記トランジスタはスタンバイ時には動作時よりも高イン
ピーダンスな状態になること特徴とする。
In addition, in the invention according to claim 9, in the semiconductor memory device according to claim 7, the impedance changing means includes a transistor arranged in a path for grounding the common power supply line, and the transistor is a sense circuit. The sense amplifier activation signal is controlled by an amplifier activation signal, and the potential of the sense amplifier activation signal is different between the standby state and the operating state, and the transistor has a higher impedance state in the standby state than in the operating state.

【0025】更に加えて、請求項10記載の発明では、
前記請求項9記載の半導体記憶装置において、トランジ
スタはN型トランジスタであり、センスアンプの活性化
信号は、センスアンプを構成するP型トランジスタの共
通ソース線の電位であり、前記P型トランジスタの共通
ソース線は、スタンバイ時には半導体記憶回路の電源の
電位の1/2値の電位となり、動作時には前記電源の電
位になることを特徴とする。
Further, in the invention according to claim 10,
10. The semiconductor memory device according to claim 9, wherein the transistor is an N-type transistor, the activation signal of the sense amplifier is a potential of a common source line of P-type transistors forming the sense amplifier, and the common of the P-type transistors. The source line has a potential half the potential of the power supply of the semiconductor memory circuit during standby, and has the potential of the power supply during operation.

【0026】請求項11記載の発明では、前記請求項6
記載の半導体記憶装置において、電流制限手段は、各プ
ルダウントランジスタのソースが接続された共通電源線
と、前記共通電源線の電位をスタンバイ時と何れかのワ
ード線が選択される動作時とで変更し、スタンバイ時に
は動作時よりも電位を高くする電位変更手段とから成る
ことを特徴とする。
According to the invention of claim 11, the invention according to claim 6
In the semiconductor memory device described above, the current limiting means changes the common power supply line to which the source of each pull-down transistor is connected and the potential of the common power supply line during standby and during operation when any one of the word lines is selected. However, it is characterized in that it comprises a potential changing means for making the potential higher during standby than during operation.

【0027】また、請求項12記載の発明では、前記請
求項11記載の半導体記憶装置において、電位変更手段
は、スタンバイ時には、共通電源線の電位を、ビット線
のプリチャージ電位に等しい電位にすることを特徴とす
る。
According to the twelfth aspect of the invention, in the semiconductor memory device according to the eleventh aspect, the potential changing means sets the potential of the common power supply line to a potential equal to the precharge potential of the bit line during standby. It is characterized by

【0028】更に、請求項13記載の発明では、前記請
求項12記載の半導体記憶装置において、電位変更手段
は、センスアンプを構成するN型トランジスタを駆動す
る共通ソース線であって、前記共通ソース線は、共通電
源線に接続され、且つ、スタンバイ時にはビット線のプ
リチャージ電位に制御され、動作時には接地電位に制御
されることを特徴とする。
Further, in the invention according to claim 13, in the semiconductor memory device according to claim 12, the potential changing means is a common source line for driving an N-type transistor which constitutes a sense amplifier, and the common source. The line is connected to the common power supply line, and is controlled to the precharge potential of the bit line during standby and to the ground potential during operation.

【0029】加えて、請求項14記載の発明では、前記
請求項11記載の半導体記憶装置において、電位変更手
段は、共通電源線の電位を、スタンバイ時には動作時よ
りも高くクランプするクランプ回路より成ることを特徴
とする。
In addition, in the fourteenth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the eleventh aspect, the potential changing means comprises a clamp circuit that clamps the potential of the common power supply line to a higher level during standby than during operation. It is characterized by

【0030】更に加えて、請求項15記載の発明では、
前記請求項14記載の半導体記憶装置において、クラン
プ回路は、共通電源線と接地との間に配置され、所定の
閾値電圧を有するN型トランジスタと、前記トランジス
タのゲート電極に、スタンバイ時には前記共通電源線の
電位を供給し、動作時に半導体記憶回路の電源の電位を
供給する制御回路とから成ることを特徴とする。
In addition, according to the invention of claim 15,
15. The semiconductor memory device according to claim 14, wherein the clamp circuit is arranged between a common power supply line and ground and has an N-type transistor having a predetermined threshold voltage and a gate electrode of the transistor, and the common power supply is in standby. And a control circuit which supplies the potential of the line and supplies the potential of the power source of the semiconductor memory circuit during operation.

【0031】請求項16記載の発明では、前記請求項1
5記載の半導体記憶装置において、制御回路は、直列接
続されたN型トランジスタ及びP型トランジスタを備
え、前記N型トランジスタのソースは共通電源線に、前
記P型トランジスタのソースは半導体記憶回路の電源に
各々接続され、前記両トランジスタのドレインは共通し
て、所定の閾値電圧を有するN型トランジスタのゲート
に接続され、前記両トランジスタのゲートには、共通し
て、プリチャージ回路の活性化信号が供給され、前記活
性化信号は、スタンバイ時には半導体記憶回路の電源の
電位になり、動作時には接地電位になり、共通電源線の
電位をスタンバイ時には前記制御回路に並列接続された
N型トランジスタの所定の閾値電圧にクランプすること
を特徴とする。
According to a sixteenth aspect of the present invention, the first aspect
5. The semiconductor memory device according to 5, wherein the control circuit includes an N-type transistor and a P-type transistor connected in series, the source of the N-type transistor is a common power supply line, and the source of the P-type transistor is a power supply of the semiconductor memory circuit. The drains of the both transistors are commonly connected to the gates of N-type transistors having a predetermined threshold voltage, and the gates of the both transistors are commonly provided with the activation signal of the precharge circuit. The supplied activation signal has the potential of the power supply of the semiconductor memory circuit in the standby mode, the ground potential in the operation mode, and the potential of the common power supply line in the standby mode of the N-type transistor connected in parallel to the control circuit. It is characterized by being clamped to a threshold voltage.

【0032】また、請求項17記載の発明では、前記請
求項7記載の半導体記憶装置において、インピーダンス
変更手段は、プルダウントランジスタと、前記プルダウ
ントランジスタを制御する制御回路とから成り、前記制
御回路は、前記プルダウントランジスタを、対応するワ
ード線の選択要求時にはカットオフし、他のワード線の
選択要求時には低インピーダンスな状態に制御し、スタ
ンバイ時には高インピーダンスな状態に制御するもので
あることを特徴とする。
According to a seventeenth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the seventh aspect, the impedance changing means includes a pull-down transistor and a control circuit for controlling the pull-down transistor, and the control circuit includes: The pull-down transistor is cut off when a corresponding word line is requested to be selected, is controlled to a low impedance state when another word line is requested to be selected, and is controlled to a high impedance state when it is on standby. .

【0033】更に、請求項18記載の発明では、前記請
求項17記載の半導体記憶装置において、プルダウント
ランジスタはN型トランジスタより成り、制御回路は論
理回路より成り、前記論理回路には、対応するワード線
の選択を要求するワード線選択信号が入力されると共
に、電源として、センスアンプを構成するP型トランジ
スタの共通ソース線が接続され、前記センスアンプの共
通ソース線は、何れかのワード線が選択される動作時に
は高電位に、スタンバイ時には低電位に制御され、前記
論理回路は、前記プルダウントランジスタのゲート電極
に、前記ワード線選択信号の入力時には接地電位を、前
記ワード線選択信号の非入力時には前記センスアンプの
共通ソース線の電位を各々供給するものであることを特
徴とする。
Further, in the invention according to claim 18, in the semiconductor memory device according to claim 17, the pull-down transistor comprises an N-type transistor, the control circuit comprises a logic circuit, and the logic circuit has a corresponding word. A word line selection signal for requesting line selection is input, and a common source line of a P-type transistor forming a sense amplifier is connected as a power source. Any one of the word lines is a common source line of the sense amplifier. The logic circuit is controlled to have a high potential in a selected operation and a low potential in a standby state. The logic circuit inputs a ground potential to the gate electrode of the pull-down transistor when the word line selection signal is input, and does not input the word line selection signal. At times, the potential of the common source line of the sense amplifier is supplied respectively.

【0034】加えて、請求項19記載の発明では、前記
請求項18記載の半導体記憶装置において、論理回路は
インバータ回路より成り、前記インバータ回路は、直列
接続されたP型トランジスタ及びN型トランジスタより
成り、前記P型トランジスタのソース電極にはセンスア
ンプの共通ソース線が接続され、前記N型トランジスタ
のソース電極には半導体記憶回路の電源が接続され、前
記両トランジスタのゲート電極にはワード線選択信号が
入力され、前記両トランジスタのドレインが共通してプ
ルダウントランジスタのゲート電極に接続されることを
特徴とする。
In addition, in the invention according to claim 19, in the semiconductor memory device according to claim 18, the logic circuit includes an inverter circuit, and the inverter circuit includes a P-type transistor and an N-type transistor connected in series. The common source line of the sense amplifier is connected to the source electrodes of the P-type transistors, the power source of the semiconductor memory circuit is connected to the source electrodes of the N-type transistors, and the word line selection is performed to the gate electrodes of the both transistors. A signal is input, and the drains of the both transistors are commonly connected to the gate electrode of the pull-down transistor.

【0035】[0035]

【作用】以上の構成により、請求項1ないし請求項3記
載の発明の半導体記憶装置では、何れかのメモリセルブ
ロックに属する1本のビット線がワード線とショートし
て欠陥が生じた場合には、その欠陥ビット線を選択する
列選択信号線と、この列選択信号線に対応する複数のビ
ット線(欠陥ビット線を含む)と、前記列選択信号線に
対応する複数個のプリチャージ回路と、1本のプリチャ
ージ電源線とを1単位として、冗長置換される。
With the above structure, in the semiconductor memory device according to the present invention as claimed in any one of claims 1 to 3, when one bit line belonging to any of the memory cell blocks is short-circuited with the word line to cause a defect. Is a column selection signal line for selecting the defective bit line, a plurality of bit lines (including defective bit lines) corresponding to the column selection signal line, and a plurality of precharge circuits corresponding to the column selection signal line. And one precharge power supply line as a unit for redundant replacement.

【0036】ここに、前記冗長置換単位は、1本の列選
択信号線が選択可能な複数対のビット線を単位としてい
るので、ビット不良(メモリセル、ビット線及びワード
線間の接続不良)があった場合の置換単位と一致し、従
来のように1つのメモリセルブロックの全体を冗長置換
する場合に比して、冗長置換の単位を小面積に制限でき
る。
Here, since the redundant replacement unit uses a plurality of pairs of bit lines that can select one column selection signal line as a unit, bit failure (connection failure between memory cell, bit line and word line). The unit of the redundant replacement can be limited to a small area as compared with the case where the entire one memory cell block is redundantly replaced as in the conventional case.

【0037】特に、請求項2記載の発明の半導体記憶装
置では、各切断手段を、配置空間的に余裕のあるセルア
レーの側方の周辺回路に配置できるので、その配置が容
易である。
In particular, in the semiconductor memory device according to the second aspect of the invention, each cutting means can be arranged in the peripheral circuit on the side of the cell array having a sufficient arrangement space, so that the arrangement is easy.

【0038】更に、請求項3記載の発明の半導体記憶装
置では、切断手段がヒューズ素子で構成され、このヒュ
ーズ素子は大きさの小さいものが採用可能であるので、
半導体記憶装置の小型化に有利である。
Further, in the semiconductor memory device according to the third aspect of the invention, the cutting means is composed of a fuse element, and this fuse element having a small size can be adopted.
This is advantageous for downsizing the semiconductor memory device.

【0039】加えて、請求項4及び請求項5記載の発明
の半導体記憶装置では、ビット線-ワード線のショート
があった場合には、センスアンプを構成する複数個のト
ランジスタのうち、メモリセルのトランジスタの導電型
と反対の導電型のトランジスタが誤動作し易くなるが、
このトランジスタの誤動作が電位供給手段により確実に
防止されるので、センスアンプの共通ソース線を電源と
してスタンバイ電流がセンスアンプから欠陥ビット線及
びワード線を経て接地に流れることが確実に防止され
る。
In addition, in the semiconductor memory device according to the present invention as defined in claims 4 and 5, when there is a short circuit between the bit line and the word line, the memory cell among the plurality of transistors forming the sense amplifier is selected. The transistor of the conductivity type opposite to the conductivity type of the transistor is prone to malfunction,
Since the malfunction of the transistor is reliably prevented by the potential supply means, it is possible to reliably prevent the standby current from flowing from the sense amplifier to the ground via the defective bit line and the word line by using the common source line of the sense amplifier as a power source.

【0040】特に、請求項5記載の発明では、センスア
ンプを構成する複数個のトランジスタのうち、メモリセ
ルのトランジスタの導電型と反対の導電型のトランジス
タが万が一誤動作した場合であっても、メモリセルのト
ランジスタの導電型と同一の導電型のトランジスタの誤
動作が電位供給手段により確実に防止されるので、スタ
ンバイ電流が流れることが一層確実に防止される。
Particularly, in the fifth aspect of the invention, among the plurality of transistors forming the sense amplifier, even if the transistor of the conductivity type opposite to the conductivity type of the transistor of the memory cell malfunctions, the memory Since the malfunction of the transistor of the same conductivity type as the transistor of the cell is reliably prevented by the potential supply means, the standby current is further reliably prevented from flowing.

【0041】また、請求項6ないし請求項10及び請求
項17ないし請求項19記載の発明の半導体記憶装置で
は、ワード線と接地との間のインピーダンスがインピー
ダンス変更手段により可変に調整されて、スタンバイ時
(ビット線対のプリチャージ動作期間中)は、ワード線
- 接地間のインピーダンスが高い値に調整されるので、
欠陥ビット線からワード線を経て接地に流れるスタンバ
イ電流が低減される。
Further, in the semiconductor memory device according to any one of claims 6 to 10 and 17 to 19, the impedance between the word line and the ground is variably adjusted by the impedance changing means, and the standby state is achieved. When (during the precharge operation of the bit line pair), the word line
-Since the impedance between the ground is adjusted to a high value,
The standby current flowing from the defective bit line to the ground via the word line is reduced.

【0042】更に、請求項6、請求項11ないし請求項
16記載の発明の半導体記憶装置では、スタンバイ時
(ビット線のプリチャージ動作期間中)は、ビット線が
所定電位にプリチャージされるものの、ワード線の電位
が動作時よりも高められて、前記ビット線とワード線と
の電位差が小さくなるので、ビット線からワード線を経
て接地に流れるスタンバイ電流が有効に低減される。
Further, in the semiconductor memory device according to the sixth aspect, the eleventh aspect to the sixteenth aspect of the invention, the bit line is precharged to a predetermined potential during standby (during the bit line precharge operation period). Since the potential of the word line is higher than that during operation and the potential difference between the bit line and the word line is reduced, the standby current flowing from the bit line to the ground via the word line is effectively reduced.

【0043】[0043]

【実施例】以下、本発明の半導体記憶装置の実施例につ
いて、図面を参照にしながら説明する。
Embodiments of the semiconductor memory device of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0044】(実施例1)図1ないし図3は、本発明の
第1の実施例の半導体記憶装置を16Mbit DRAMに
適用した回路図を示す。
(Embodiment 1) FIGS. 1 to 3 are circuit diagrams in which a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention is applied to a 16 Mbit DRAM.

【0045】図1ないし図3は、16Mbit のセルアレ
ーを行方向及び列方向に各々2分割して合計4分割とし
た場合のその1区画分の回路図を示す。この1区画分の
回路は、更に列方向に16分割される。この16分割さ
れた場合の1区画分の回路は、行方向に512対の正規
ビット線とビット不良に対する冗長救済用の複数対のビ
ット線を有し、列方向に256本の正規ワード線とビッ
ト不良に対する複数本の冗長救済用ワード線を有する。
FIGS. 1 to 3 are circuit diagrams of one section when a 16 Mbit cell array is divided into two in the row direction and the column direction to make a total of four divisions. The circuit for one partition is further divided into 16 in the column direction. The circuit for one partition when divided into 16 has 512 pairs of normal bit lines in the row direction and a plurality of pairs of bit lines for redundancy relief for bit defects, and 256 normal word lines in the column direction. It has a plurality of redundant relief word lines for bit defects.

【0046】図1ないし図3において、1はセルアレー
であって、このセルアレー1は、多数対のビット線BL
1,/BL1…と、これ等と直交する多数本のワード線
WL1…を有する。
In FIGS. 1 to 3, reference numeral 1 is a cell array, and the cell array 1 includes a plurality of pairs of bit lines BL.
, / BL1 ... And a large number of word lines WL1 ...

【0047】MB1…MB16は、前記セルアレー1を
前記ワード線WL1…が並ぶ方向に16分割して成る複
数のメモリセルブロック、SA1…SA16は、複数の
メモリセルブロックと同数設けられたセンスアンプブロ
ックであって、対応するメモリセルブロックの,ワード
線が並ぶ側の側方に配置されている。
MB1 to MB16 are a plurality of memory cell blocks formed by dividing the cell array 1 into 16 in the direction in which the word lines WL1 are arranged. SA1 to SA16 are the same number of sense amplifier blocks as the plurality of memory cell blocks. That is, it is arranged laterally on the side where the word lines are lined up in the corresponding memory cell block.

【0048】更に、B1、Bn…は、前記各メモリセル
ブロックMB1…のビット線対2組毎に区画した列置換
単位、BS1は前記各列置換単位B1…と同じ大きさに
区画された冗長置換単位である。前記各列置換単位B1
…及び冗長置換単位BS1は同一構成である。以下、列
置換単位B1について説明すると、列置換単位B1にお
いて、MC11、MC21…はメモリセルであって、各
々、キャパシタCとN型トランジスターTより成る。
Further, B1, Bn ... Are column replacement units partitioned for every two pairs of bit line pairs of each memory cell block MB1 .. BS1 is a redundancy partitioned into the same size as each column replacement unit B1. It is a substitution unit. Each column replacement unit B1
... and the redundant replacement unit BS1 have the same configuration. The column replacement unit B1 will be described below. In the column replacement unit B1, MC11, MC21 ... Are memory cells, each of which includes a capacitor C and an N-type transistor T.

【0049】Y1…Yn…及びYsは、前記各メモリセ
ルブロックMB1…間で共用される複数本の列選択信号
線であって、この列選択信号線Y1…は、各ビット線対
BL1./BL1…の延びる方向に配置され、且つ各列
置換単位B1、Bn…及び冗長置換単位BS1毎に1本
配置される。
Y1 ... Yn ... And Ys are a plurality of column selection signal lines shared between the memory cell blocks MB1 .. The column selection signal lines Y1. Are arranged in the extending direction of / BL1 ... And one for each column replacement unit B1, Bn ... and redundant replacement unit BS1.

【0050】また、前記各センスアンプブロックSA1
…は、列方向に延びる4本のビット線BL1, /BL
1、BL2, /BL2を基準電位(例えば、1/2・V
CC)にプリチャージする複数のプリチャージ回路41
a…と、イコライズ信号線51と、複数個のセンスアン
プ101aと、この各センスアンプに接続される2本の
共通ソース線SN11、SP11と、対応する列選択信
号線Y1…に接続された2つの列選択回路Ysa,Ys
aとから構成されている。
Further, each of the sense amplifier blocks SA1
... are four bit lines BL1, / BL extending in the column direction
1, BL2, / BL2 is a reference potential (for example, 1 / 2.V
CC) to precharge a plurality of precharge circuits 41
a, an equalize signal line 51, a plurality of sense amplifiers 101a, two common source lines SN11 and SP11 connected to each sense amplifier, and a corresponding column selection signal line Y1 ... Column selection circuits Ysa, Ys
and a.

【0051】従って、図2に破線で囲むように、前記各
列置換単位B1…及び冗長置換単位BS1は、列方向に
連続する4本のビット線を行単位として列方向の延びる
複数組(32組)のメモリセルブロックをビット線ショ
ート時の置換単位となる。
Therefore, as surrounded by a broken line in FIG. 2, each of the column replacement units B1 ... And the redundant replacement unit BS1 has a plurality of sets (32) extending in the column direction with four bit lines continuous in the column direction as row units. The memory cell block of (set) serves as a replacement unit when the bit line is short-circuited.

【0052】加えて、11a…11n…、及び11s
は、前記列選択信号線Y1…と同数設けられたプリチャ
ージ電源線であって、各プリチャージ電源線11a…
は、前記列選択信号線Y1…に沿ってこれと平行に延び
る。
In addition, 11a ... 11n ... And 11s
Are precharge power supply lines provided in the same number as the column selection signal lines Y1 ...
Extend in parallel with the column selection signal lines Y1 ...

【0053】また、図1及び図2において、3はビット
線対のプリチャージ電位を発生するプリチャージ電位発
生回路(プリチャージ電位供給回路)、2は前記プリチ
ャージ電位発生回路3に接続されたプリチャージ電位供
給線であって、このプリチャージ電位供給線2には、前
記各プリチャージ電源線11a…11n…、11sが接
続されている。前記各プリチャージ電源線11a…11
n…、11sには、そのプリチャージ電位供給線2との
接続点近傍にヒューズ素子(切断手段)50a…50n
…、50sが配置される。この各ヒューズ素子50a…
50n…、50sは1μm〜20μmの大きさのものが
採用される。
In FIGS. 1 and 2, 3 is a precharge potential generation circuit (precharge potential supply circuit) for generating the precharge potential of the bit line pair, and 2 is connected to the precharge potential generation circuit 3. The precharge potential supply line 2 is connected to the precharge power supply lines 11a ... 11n ..., 11s. Each of the precharge power supply lines 11a ... 11
, 11s, fuse elements (cutting means) 50a ... 50n near the connection point with the precharge potential supply line 2.
..., 50s are arranged. Each fuse element 50a ...
The size of 50n ..., 50s is 1 μm to 20 μm.

【0054】更に、図3において、70は受けた列アド
レスに対応する列選択信号線Y1…Yn、Ym…、Ys
を選択する列デコーダ、71は欠陥置換単位B1…を冗
長置換単位BS1に置換した後に、受けた列アドレスに
対応する置換単位が前記冗長置換された欠陥列である場
合に、その受けた列アドレスを冗長列のアドレスに変換
する冗長判定回路である。
Further, in FIG. 3, reference numeral 70 designates column selection signal lines Y1 ... Yn, Ym ..., Ys corresponding to the received column address.
After replacing the defective replacement unit B1 ... With the redundant replacement unit BS1, if the replacement unit corresponding to the received column address is the redundantly replaced defective column, the received column address is selected. Is a redundancy judgment circuit for converting the address into a redundant column address.

【0055】したがって、本実施例においては、図3に
示すように、例えばビット線BL1とワード線WL11
とのショート(抵抗成分Rで示す)が生じた場合には、
プリチャージ電源線11aに接続されたヒューズ素子5
0aが切断されるので、プリチャージ回路41aにはプ
リチャージ電位がプリチャージ電位発生回路3から供給
されることはない。従って、欠陥ビット線対[BL1,
/BL1]をプリチャージすることがないので、ビット
線対のプリチャージ期間(スタンバイ時)には、スタン
バイ電流が欠陥ビット線- ワード線を経て接地に流れる
ことはない。
Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 3, for example, the bit line BL1 and the word line WL11.
When a short circuit with (indicated by the resistance component R) occurs,
Fuse element 5 connected to precharge power supply line 11a
Since 0a is cut off, the precharge potential is not supplied from the precharge potential generation circuit 3 to the precharge circuit 41a. Therefore, the defective bit line pair [BL1,
/ BL1] is not precharged, the standby current does not flow to the ground via the defective bit line-word line during the precharge period of the bit line pair (during standby).

【0056】この場合、列レコーダ70は、冗長判定回
路71からの冗長列アドレスを受けて、列選択信号線Y
1を選択する代わりに冗長先の列選択信号線Ysを選択
するので、冗長置換単位BS1の冗長ビット線SBL
1,/SBL1又はSBL2,/SBL2を通じて冗長
メモリセルにデータが読み書きされる。
In this case, the column recorder 70 receives the redundant column address from the redundancy judgment circuit 71 and receives the column selection signal line Y.
Since the column selection signal line Ys of the redundancy destination is selected instead of selecting 1, the redundancy bit line SBL of the redundancy replacement unit BS1 is selected.
Data is read from and written to the redundant memory cell through 1, / SBL1 or SBL2, / SBL2.

【0057】ここで、冗長置換単位BS1は、ビット線
が延びる方向に16個、ワード線が延びる方向に2個の
合計32個のセンスアンプ101aを有する。従って、
4Mbit 部分の回路(図2の回路)においてワード線が
延びる方向に512個のセンスアンプを備えた回路部分
を置換単位とする場合に比して、本実施例では冗長置換
単位の面積をほぼ1/16に縮小することができる。
Here, redundant replacement unit BS1 has a total of 32 sense amplifiers 101a, 16 in the extending direction of the bit lines and 2 in the extending direction of the word lines. Therefore,
In this embodiment, the area of the redundant replacement unit is approximately 1 in comparison with the case where the replacement unit is a circuit unit having 512 sense amplifiers in the direction in which the word lines extend in the circuit of the 4 Mbit portion (circuit of FIG. 2). It can be reduced to / 16.

【0058】しかも、ヒューズ素子50a…の大きさ
は、1μm〜20μmであるので、ヒューズ素子50a
…をメモリセルアレイの外の周辺回路に設けても、一辺
が1.5cmの長さを持つDRAMのチップでは、無視
できる寸法であり、チップの小型化を良好に確保でき
る。更に、ヒューズ素子50a…を配置空間的に余裕の
あるセルアレーの側方に配置したので、そのヒューズ素
子50a…の配置が容易である。
Moreover, since the size of the fuse elements 50a ... Is 1 μm to 20 μm, the fuse elements 50a
.. is provided in the peripheral circuit outside the memory cell array, the size of the DRAM chip having a side length of 1.5 cm is negligible, and the miniaturization of the chip can be favorably ensured. Further, since the fuse elements 50a ... Are arranged on the side of the cell array which has a sufficient space for arrangement, the fuse elements 50a ... Can be easily arranged.

【0059】尚、本実施例では、冗長列を1列のみ設け
たが、複数設けてもよいのは勿論である。
Although only one redundant column is provided in the present embodiment, it goes without saying that a plurality of redundant columns may be provided.

【0060】また、本実施例では、切断手段としてヒュ
ーズ素子50aを使用したが、開閉回路を用いてもよ
い。この場合には、未だ冗長救済に供されない冗長ビッ
ト線対をプリチャージしないようにプリチャージ電源線
11sをプリチャージ電位発生回路3から切り離せば、
更に低消費電力化を図ることができる。
Although the fuse element 50a is used as the cutting means in this embodiment, a switching circuit may be used. In this case, if the precharge power supply line 11s is disconnected from the precharge potential generation circuit 3 so as not to precharge the redundant bit line pair that is not yet subjected to the redundant relief,
Furthermore, low power consumption can be achieved.

【0061】前記実施例では、ビット線- ワード線ショ
ート時に冗長置換単位BS1で置換したが、その他の不
良モードでも冗長置換単位BS1で置換すれば、冗長置
換単位の面積縮小化により、小チップ化を図ることが可
能である。
In the above embodiment, the redundant replacement unit BS1 is replaced when the bit line-word line is short-circuited. However, if the redundant replacement unit BS1 is replaced even in other defective modes, the area of the redundant replacement unit is reduced and the chip is made smaller. Is possible.

【0062】(実施例2)図4は本発明の第2の実施例
の半導体記憶装置の要部構成を示す。本実施例は、セン
スアンプの不良動作を防止して、欠陥ビット線- ワード
線に起因するスタンバイ電流を低減する実施例である。
尚、メモリセル等の基本構成については前記図2及び図
3と同一であるので、その図示及び説明を省略する。
(Embodiment 2) FIG. 4 shows the essential structure of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. The present embodiment is an embodiment in which the defective operation of the sense amplifier is prevented and the standby current caused by the defective bit line-word line is reduced.
The basic structure of the memory cell and the like is the same as that shown in FIGS. 2 and 3, and therefore the illustration and description thereof will be omitted.

【0063】図4において、101aはフリップフロッ
プ型センスアンプであって、前記センスアンプ101a
は、1対のビット線BL,/ BL相互間を接続する2個
のPチャンネルトランジスタ(第1のトランジスタ)T
P,TP、及び2個のNチャンネルトランジスタ(第2
のトランジスタ)TN,TNを備えている。
In FIG. 4, 101a is a flip-flop type sense amplifier, which is the sense amplifier 101a.
Is a pair of P-channel transistors (first transistors) T that connect a pair of bit lines BL and / BL to each other.
P, TP, and two N-channel transistors (second
Transistor) TN, TN.

【0064】また、SPは前記2個のPチャンネルトラ
ンジスタTPに対する共通ソース線、SNは前記2個の
NチャンネルトランジスタTNに対する共通ソース線、
28は前記2本の共通ソース線SP,SNの電位を制御
する制御回路である。
Further, SP is a common source line for the two P-channel transistors TP, SN is a common source line for the two N-channel transistors TN,
28 is a control circuit for controlling the potentials of the two common source lines SP and SN.

【0065】前記制御回路28は、図5に示すビット線
対のプリチャージ動作波形図から判るように、ビット線
対[BL,/ BL]のプリチャージ動作期間中(換言す
れば、センスアンプが非活性状態の期間、即ち、全ての
ワード線が選択されていないスタンバイ時)には、メモ
リセルトランジスタ(図2のトランジスターT)の導電
型(N型)とは反対の導電型(P型)の第1のトランジ
スタTP用の共通ソース線SPの電位VSPを、ビット
線のプリチャージ電位(1/2・VCC)よりも第1の
トランジスタTPがカットオフする側の電位(即ち、1
/2・VCCよりも低い電位)、例えば“L”レベル
(接地電位VSS)とする。この制御回路28により電
位供給手段29を構成する。
As can be seen from the precharge operation waveform diagram of the bit line pair shown in FIG. 5, the control circuit 28 is in the precharge operation period of the bit line pair [BL, / BL] (in other words, the sense amplifier is In the inactive state, that is, in the standby state in which all word lines are not selected, the conductivity type (P type) opposite to the conductivity type (N type) of the memory cell transistor (transistor T in FIG. 2). Of the potential VSP of the common source line SP for the first transistor TP of the first transistor TP on the side where the first transistor TP is cut off from the precharge potential (1/2 · VCC) of the bit line (that is, 1).
Potential lower than / 2 · VCC), for example, “L” level (ground potential VSS). The control circuit 28 constitutes a potential supply means 29.

【0066】また、前記制御回路28は、第1のトラン
ジスタTP用の共通ソース線SPの電位VSPを“L”
レベル(接地電位VSS)とする期間で、これと同時
に、他方の共通ソース線SNの電位VSNを、ビット線
のプリチャージ電位(1/2・VCC)よりも第2のト
ランジスタTNがカットオフする側の電位(即ち、1/
2・VCCよりも高い電位)、例えば“H”レベル(電
源電位VCC)となるよう制御する。この制御回路28
により、他の電位供給手段30を構成する。
Further, the control circuit 28 sets the potential VSP of the common source line SP for the first transistor TP to "L".
At the same time as the level (ground potential VSS), the second transistor TN cuts off the potential VSN of the other common source line SN from the precharge potential (1/2 · VCC) of the bit line. Side potential (ie 1 /
The potential is higher than 2 · VCC), for example, “H” level (power supply potential VCC). This control circuit 28
Thus, another potential supply means 30 is configured.

【0067】したがって、本実施例では、次の作用,効
果を奏する。
Therefore, this embodiment has the following functions and effects.

【0068】即ち、本実施例では、ビット線対のプリチ
ャージ動作期間中(スタンバイ時)は、センスアンプ共
通ソース線SNの電位VSNを“H”レベル(VCC)
とすると同時に、センスアンプ共通ソース線SPの電位
VSPを“L”レベル(VSS)として、図5に示す動
作波形に従ってビット線対のプリチャージ動作を行うの
で、このスタンバイ時には、センスアンプ101aのP
チャンネルトランジスタTP,TP及びNチャンネルト
ランジスタTN,TNは共に完全にカットオフする。従
って、センスアンプ動作を完全に停止させることがで
き、スタンバイ電流を無くすことができる。
That is, in this embodiment, the potential VSN of the sense amplifier common source line SN is set to "H" level (VCC) during the precharge operation of the bit line pair (during standby).
At the same time, the potential VSP of the sense amplifier common source line SP is set to "L" level (VSS) to perform the precharge operation of the bit line pair according to the operation waveform shown in FIG.
Both the channel transistors TP and TP and the N channel transistors TN and TN are completely cut off. Therefore, the sense amplifier operation can be completely stopped and the standby current can be eliminated.

【0069】尚、ワード線が選択される動作時には、セ
ンスアンプ101aの共通ソース線SN,SPの電位
は、各々、プリチャージ動作期間中の電位を反転した電
位になるが、動作電流を大幅に大きくするようなことは
ない。
In the operation for selecting the word line, the potentials of the common source lines SN and SP of the sense amplifier 101a are the potentials obtained by inverting the potentials during the precharge operation period, but the operating current is greatly increased. There is no need to increase it.

【0070】(実施例3)本発明の第3の実施例を説明
する。前記第2の実施例ではビット線側でスタンバイ電
流の低減対策を施したのに代え、本実施例ではワード線
側で対策を施したものである。
(Embodiment 3) A third embodiment of the present invention will be described. In the second embodiment, the countermeasure for reducing the standby current is taken on the bit line side, but in the present embodiment, the countermeasure is taken on the word line side.

【0071】図6(a)は、本発明の第3の実施例の半
導体記憶装置を示し、1つのメモリセルブロック内のみ
を示した回路図である。尚、本実施例では、ワード線を
駆動する構成のみを示し、分割されたメモリセルブロッ
ク、多数のメモリセル、多数対のビット線、複数個のセ
ンスアンプ、及び複数個のプリチャージ回路について
は、前記図1ないし図3に示した構成と同一であるの
で、その図示及び説明を省略する。
FIG. 6A is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention and showing only one memory cell block. In this embodiment, only the configuration for driving the word line is shown, and the divided memory cell block, the plurality of memory cells, the plurality of pairs of bit lines, the plurality of sense amplifiers, and the plurality of precharge circuits are not shown. Since the configuration is the same as that shown in FIGS. 1 to 3, its illustration and description will be omitted.

【0072】各メモリセルブロック(同図には図示しな
いが、図2のメモリセルブロックMB1…に相当する)
内の各ワード線WL11、WL12…は、各々、ワード
線駆動回路WD11、WD12…に接続されている。前
記各ワード線駆動回路WD11、WD12…には、各
々、ワード線選択信号線WS11、WS12…と、ワー
ド線信号線W11、W12…が入力される。
Each memory cell block (not shown in the figure, but corresponds to the memory cell block MB1 ... In FIG. 2)
.. are connected to word line drive circuits WD11, WD12, .. Word line selection signal lines WS11, WS12 ... And word line signal lines W11, W12 ... Are inputted to the word line drive circuits WD11, WD12.

【0073】各ワード線駆動回路WD11、WD12…
は相互に同一構成であるので、以下、ワード線駆動回路
WD11についてのみ説明する。ワード線駆動回路WD
11は、直列接続されたN型のトランジスタTWD11
1及びN型のプルダウントランジスタTWD121と、
信号反転用のインバータIWD11とを備える。トラン
ジスタTWD111にはワード線信号線W11が接続さ
れ、プルダウントランジスタTWD121のソースには
共通電源線(擬似グランド線)VSXに接続され、前記
両トランジスタTWD111、TWD121の接続点に
ワード線WL11が接続される。ワード線選択信号線W
S11は、直接にトランジスタTWD111のゲートに
接続されると共に、インバータIWD11を介してプル
ダウントランジスタTWD121のゲートに接続され
る。前記ワード線信号線W11の電位は、電源電位VC
Cとは異なる第2の電位VPPである。
Each word line drive circuit WD11, WD12 ...
Have the same configuration as each other, only the word line drive circuit WD11 will be described below. Word line drive circuit WD
11 is an N-type transistor TWD11 connected in series
1 and N-type pull-down transistor TWD121,
An inverter IWD11 for signal inversion is provided. The word line signal line W11 is connected to the transistor TWD111, the source of the pull-down transistor TWD121 is connected to the common power supply line (pseudo ground line) VSX, and the word line WL11 is connected to the connection point of the both transistors TWD111 and TWD121. . Word line selection signal line W
S11 is directly connected to the gate of the transistor TWD111, and is also connected to the gate of the pull-down transistor TWD121 via the inverter IWD11. The potential of the word line signal line W11 is the power supply potential VC.
It is a second potential VPP different from C.

【0074】前記ワード線駆動回路WD11において、
ワード線WL11の選択の要求時(ワード線選択信号W
S11がHレベルのとき)には、トランジスタTWD1
11がONして、ワード線信号線W11の電位がワード
線WL11に供給される。一方、ワード線WL11の非
選択時(ワード線選択信号WS11がLレベルのとき)
には、プルダウントランジスタTWD121がONし
て、ワード線WL11が共通電源線(擬似グランド線)
VSXに接続される。
In the word line drive circuit WD11,
At the time of requesting selection of the word line WL11 (word line selection signal W
When S11 is at H level), the transistor TWD1
11 is turned on, and the potential of the word line signal line W11 is supplied to the word line WL11. On the other hand, when the word line WL11 is not selected (when the word line selection signal WS11 is at L level)
The pull-down transistor TWD121 is turned on, and the word line WL11 is the common power line (pseudo ground line).
Connected to VSX.

【0075】次に、本発明の特徴点を説明する。前記共
通電源線VSXは、各メモリセルブロックで共通して使
用される。また、前記共通電源線VSXと接地VSSと
の間には、2個のN型トランジスタT1、T2が並列に
配置される。前記一方のトランジスタT1のゲートには
電源電位VCCに接続される。他方のトランジスタT2
のゲートには、プリチャージ回路のイコライズ信号(活
性化信号)EQをインバータI1で反転された反転信号
XEQが入力される。
Next, the features of the present invention will be described. The common power supply line VSX is commonly used in each memory cell block. Two N-type transistors T1 and T2 are arranged in parallel between the common power supply line VSX and the ground VSS. The gate of the one transistor T1 is connected to the power supply potential VCC. The other transistor T2
An inverted signal XEQ obtained by inverting the equalize signal (activation signal) EQ of the precharge circuit by the inverter I1 is input to the gate of the.

【0076】前記プリチャージ回路のイコライズ信号E
Qは、図6(b)の信号波形に示すように、ビット線対
のプリチャージ動作期間中(即ち、スタンバイ時)には
“H”レベル(電源の電位VCC)となり、それ以外の
動作時は“L”レベル(接地電位VSS)となる。ここ
で、「動作時」及び「スタンバイ時」は1つのメモリセ
ルブロックについての表現であり、自己のメモリセルブ
ロック内の何れかのワード線が選択されている時をい
い、スタンバイ時とは自己のメモリセルブロックにおい
て全てのワード線が選択されていない時をいう。
Equalize signal E of the precharge circuit
As shown in the signal waveform of FIG. 6B, Q is at the “H” level (power supply potential VCC) during the precharge operation period of the bit line pair (that is, during standby), and during other operations. Becomes "L" level (ground potential VSS). Here, "operation time" and "standby time" are expressions for one memory cell block, which means a time when any word line in its own memory cell block is selected. In this case, all the word lines in the memory cell block are not selected.

【0077】以上の構成から、トランジスタT1は常時
オン状態にあり、一方、トランジスタT2は、イコライ
ズ信号EQが“L”レベルのとき、即ち動作時にだけオ
ン状態となる。
With the above structure, the transistor T1 is always in the ON state, while the transistor T2 is in the ON state only when the equalizing signal EQ is at the "L" level, that is, during the operation.

【0078】以上の構成により、スタンバイ時には、ト
ランジスタT2のOFFにより、共通電源線VSXと接
地との間のインピーダンスを高く変更するインピーダン
ス変更手段31を構成している。また、この変更手段3
1により、共通電源線VSXと接地との間流れるスタン
バイ電流を制限するようにした電流制限手段32を構成
している。
With the above configuration, the impedance changing means 31 for changing the impedance between the common power supply line VSX and the ground to a high value is constituted by turning off the transistor T2 during standby. Also, this changing means 3
1 constitutes a current limiting means 32 for limiting the standby current flowing between the common power supply line VSX and the ground.

【0079】したがって、本実施例では以下の作用,効
果を奏する。即ち、従来では、各ワード線(図2のワー
ド線WL11…、以下、本実施例で説明を省略した構成
については図2及び図3に付した符号を用いて説明す
る)は、プルダウントランジスタTWD121を介して
直接接地電位VSSに接続されているため、ビット線B
L1とワード線WL11とのショートがある場合には、
ビット線対のプリチャージ動作期間中(スタンバイ時)
にリーク電流が接地VSSへと流れ、スタンバイ不良の
原因となっていた。
Therefore, this embodiment has the following actions and effects. That is, conventionally, each word line (word line WL11 ... In FIG. 2, hereinafter, the configuration omitted in the description of this embodiment will be described using the reference numerals in FIGS. 2 and 3) is connected to the pull-down transistor TWD121. Since it is directly connected to the ground potential VSS via
If there is a short between L1 and word line WL11,
During precharge operation of bit line pair (during standby)
A leak current flows to the ground VSS and causes a standby failure.

【0080】これに対し、本実施例では、ビット線対の
プリチャージ動作期間中(スタンバイ時)は、トランジ
スタT2がオフ状態となって、トランジスタT1のみが
オン状態となり、その結果、共通電源線VSXと接地V
SS間のインピーダンスが高くなるので、ビット線- ワ
ード線のショートによるスタンバイ電流を抑えることが
できる。
On the other hand, in the present embodiment, during the precharge operation period of the bit line pair (during standby), the transistor T2 is turned off and only the transistor T1 is turned on. As a result, the common power supply line is turned on. VSX and ground V
Since the impedance between SS becomes high, it is possible to suppress the standby current due to the short circuit between the bit line and the word line.

【0081】尚、前記スタンバイ時において、共通電源
線VSXと接地VSS間のインピーダンスが高くなるの
で、その分、ワード線WL11…の電位は高くなるが、
このワード線WL11…の電位は、0〜ビット線のプリ
チャージ電位(1/2・VCC)Vの範囲にあれば、メ
モリセルトランジスタはオフしており、従ってメモリセ
ルからの情報のリークは無い。
In the standby mode, since the impedance between the common power supply line VSX and the ground VSS becomes high, the potential of the word lines WL11 ...
If the potential of the word lines WL11 ... Is in the range of 0 to the bit line precharge potential (1/2 · VCC) V, the memory cell transistor is off, and therefore no information leaks from the memory cell. .

【0082】一方、何れかのワード線(例えばWL1
1)が選択されて、対応するビット線対がセンスアンプ
によって増幅されている期間(動作時)は、前記トラン
ジスタT2もオン状態になるので、共通電源線VSXと
接地VSS間のインピーダンスが低値となって、選択さ
れていないワード線(非選択ワード線)がほぼ接地電位
となり、対応するメモリセルのトランジスタが確実にオ
フ状態となる。
On the other hand, one of the word lines (for example, WL1
1) is selected and the transistor T2 is also in the ON state during the period when the corresponding bit line pair is being amplified by the sense amplifier (in operation), so that the impedance between the common power supply line VSX and the ground VSS is low. As a result, the unselected word line (non-selected word line) becomes almost at the ground potential, and the transistor of the corresponding memory cell is surely turned off.

【0083】更に、本実施例では、各センスアンプブロ
ック内のプリチャージ回路のイコライズ信号EQと信号
反転用のインバータI1とにより、トランジスタT2の
制御を行うので、新たに制御信号用の回路を追加する必
要がなく、DRAMのチップ面積の増大を防止できる。
Further, in this embodiment, since the transistor T2 is controlled by the equalizing signal EQ of the precharge circuit in each sense amplifier block and the inverter I1 for signal inversion, a circuit for control signal is newly added. Therefore, it is possible to prevent the DRAM chip area from increasing.

【0084】(実施例3の変形例)前記第3の実施例で
は、プリチャージ回路のイコライズ信号EQを用い、こ
の信号EQを反転した信号XEQでトランジスタT2を
制御したが、本変形例では、この反転信号EQの代わり
に、図6(c)示すセンスアンプの共通ソース線SPの
電位VSPをそのまま前記図6(a)のトランジスタT
2のゲートに入力して、このトランジスタT2を制御す
る。その構成は前記トランジスタT2を制御する信号が
異なるのみであり、それ以外は図6(a)の構成と同一
である。
(Modification of Embodiment 3) In the third embodiment, the equalizing signal EQ of the precharge circuit is used and the transistor T2 is controlled by the signal XEQ which is the inverted signal EQ. However, in the modification, Instead of the inversion signal EQ, the potential VSP of the common source line SP of the sense amplifier shown in FIG. 6C is used as it is for the transistor T of FIG.
Input to the gate of 2 to control this transistor T2. The configuration is the same as that of FIG. 6A except for the signal that controls the transistor T2.

【0085】本変形例では、前記第3の実施例と同様の
効果を有することは勿論のこと、これに加えて、次のよ
うな効果が新たに生まれる。
This modification has the same effects as those of the third embodiment, and in addition to this, the following effects are newly produced.

【0086】センスアンプの共通ソース線SPの電位V
SPは、前記図14に示すように、プリチャージ回路の
イコライズ信号EQの立ち上がりを受けて“H”レベル
(例えば電源電位VCC)から基準電位VSA(例えば
ビット線のプリチャージ基準電位1/2・VCC)に変
化して、各センスアンプ回路は非活性な状態となり、そ
の後、前記プリチャージ回路のイコライズ信号EQの立
ち下がりを受けて前記基準電位VSAから前記“H”レ
ベル(VCC)に変化して、各センスアンプ回路が活性
な状態となる。(以下、この信号をセンスアンプ活性化
信号SPAと記す。) ここで、非選択ワード線を低インピーダンスで接地電位
に接続し始めるタイミングは、厳密に見ると、ビット線
が振幅変化シ始めるタイミング、つまりセンスアンプが
動作を開始するタイミングであって、それまでは非選択
ワード線を低インピーダンスで接地電位に接続する必要
がない。従って、前記第3の実施例では、プリチャージ
回路のイコライズ信号EQの反転信号XEQでインピー
ダンスの制御を行っていたものと比較して、本変形例で
は、前記イコライズ信号EQから10ns程度経過後に
変化するセンスアンプ活性化信号SPAを用いるので、
前記非選択ワード線が低インピーダンスになっている期
間が短くて済み、ビット線とワード線との間に流れる電
流が大きく流れる期間を更に短くすることが可能であ
る。
Potential V of the common source line SP of the sense amplifier
As shown in FIG. 14, the SP receives the rising edge of the equalize signal EQ of the precharge circuit and changes from the “H” level (eg, the power supply potential VCC) to the reference potential VSA (eg, the precharge reference potential 1/2 of the bit line. VCC) and each sense amplifier circuit becomes inactive, and then the reference potential VSA changes to the “H” level (VCC) in response to the fall of the equalize signal EQ of the precharge circuit. As a result, each sense amplifier circuit becomes active. (Hereinafter, this signal will be referred to as a sense amplifier activation signal SPA.) Here, strictly speaking, the timing at which the non-selected word line starts to be connected to the ground potential at a low impedance is the timing at which the bit line begins to change in amplitude, In other words, it is the timing when the sense amplifier starts its operation, and it is not necessary to connect the non-selected word line to the ground potential with low impedance until then. Therefore, in comparison with the third embodiment in which the impedance is controlled by the inversion signal XEQ of the equalize signal EQ of the precharge circuit, in the present modification, it changes after about 10 ns from the equalize signal EQ. Since the sense amplifier activation signal SPA for
The period in which the non-selected word line has the low impedance is short, and the period during which a large amount of current flows between the bit line and the word line can be further shortened.

【0087】(実施例4)以下、本発明の第4の実施例
を説明する。
(Fourth Embodiment) A fourth embodiment of the present invention will be described below.

【0088】図7(a)は本発明の第4の実施例の半導
体記憶装置を示す回路図である。
FIG. 7A is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention.

【0089】各ワード線駆動回路WD11、WD12…
のプルダウントランジスタTWD121…の各ソースS
1、S2…を共に共通電源線VSXに接続した点は、図
6(a)に示した第3の実施例と同じである。
Each word line drive circuit WD11, WD12 ...
Each source S of the pull-down transistor TWD121 ...
.. are connected to the common power supply line VSX, which is the same as the third embodiment shown in FIG. 6A.

【0090】図7(a)の第4の実施例の半導体記憶装
置が図6(a)の第3の実施例と相異する点は、接地V
SSと共通電源線VSXとの間に、Nチャンネルトラン
ジスタT3を設け、前記トランジスタT3のゲートに、
センスアンプのPチャンネルトランジスタの共通ソース
線SPの電位VSP(以下、この信号をPセンスアンプ
制御信号と記す)を入力した点である。
The semiconductor memory device of the fourth embodiment shown in FIG. 7A differs from the semiconductor memory device of the third embodiment shown in FIG.
An N-channel transistor T3 is provided between the SS and the common power supply line VSX, and the gate of the transistor T3 is
The point is that the potential VSP of the common source line SP of the P-channel transistor of the sense amplifier (hereinafter, this signal is referred to as a P-sense amplifier control signal) is input.

【0091】前記Pセンスアンプ制御信号VSPは、図
7(b)に示すように、各ビット線対のプリチャージ動
作期間中(スタンバイ時)は基準電位VSA(例えば、
各ビット線対のプリチャージ基準電位1/2・VCC)
となり、ビット線対が前記センスアンプによって増幅さ
れている期間は“H”レベル(例えば、電源の電位VC
C)となるものである。以上の構成により、インピーダ
ンス変更手段31´を構成している。
As shown in FIG. 7B, the P sense amplifier control signal VSP has a reference potential VSA (for example, during the precharge operation period of each bit line pair (during standby)).
(Precharge reference potential of each bit line pair 1/2 VCC)
Therefore, while the bit line pair is being amplified by the sense amplifier, it is at "H" level (for example, the potential VC of the power supply).
C). The impedance changing means 31 'is configured by the above configuration.

【0092】したがって、本実施例によれば、各ビット
線対のプリチャージ動作期間中(スタンバイ時)は、ト
ランジスタT3は、そのゲート電位が前記基準電位VS
A(1/2・VCC)であるので、高インピーダンスな
状態となって、共通電源線VSXと接地VSSとの間の
インピーダンスが高インピーダンスとなり、ビット線-
ワード線間のショートによるスタンバイ電流を少なく抑
えることができると共に、ビット線対が前記センスアン
プによって増幅されている期間(動作時)は、トランジ
スタT3のゲート電位が“H”レベル(VCC)となる
ので、前記トランジスタT3は低インピーダンスな状態
となって、共通電源線VSXと接地VSSとの間のイン
ピーダンスが低値となり、非選択ワード線を接地VSS
に低インピーダンスで接地できる。
Therefore, according to the present embodiment, during the precharge operation period of each bit line pair (during standby), the gate potential of the transistor T3 is the reference potential VS.
Since it is A (1/2 · VCC), it is in a high impedance state, the impedance between the common power supply line VSX and the ground VSS is high impedance, and the bit line −
The standby current due to the short circuit between the word lines can be suppressed to a small level, and the gate potential of the transistor T3 becomes "H" level (VCC) while the bit line pair is being amplified by the sense amplifier (in operation). Therefore, the transistor T3 is in a low impedance state, the impedance between the common power supply line VSX and the ground VSS has a low value, and the non-selected word line is grounded to the VSS.
Can be grounded with low impedance.

【0093】更に、本実施例でも、センスアンプのPチ
ャンンネルトランジスタの共通ソース線SPの電位VS
Pにより、トランジスタT3の制御を行うので、新たに
制御信号用の回路を追加する必要がなく、DRAMのチ
ップ面積の増大を防止することができる。
Further, also in this embodiment, the potential VS of the common source line SP of the P channel transistor of the sense amplifier is used.
Since the transistor T3 is controlled by P, it is not necessary to newly add a circuit for a control signal, and it is possible to prevent the chip area of the DRAM from increasing.

【0094】(実施例5)以下、本発明の第5の実施例
を説明する。
(Fifth Embodiment) The fifth embodiment of the present invention will be described below.

【0095】図8(a)は本発明の第5の実施例の半導
体記憶装置を示す回路図である。
FIG. 8A is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to the fifth embodiment of the present invention.

【0096】各ワード線駆動回路WD11、WD12…
のソースS1、S2…を各メモリセルブロックで共通に
共通電源線VSXに接続している点は前記図6(a)の
第3の実施例と同じである。
Each word line drive circuit WD11, WD12 ...
Are connected to the common power supply line VSX in common in each memory cell block as in the third embodiment of FIG. 6A.

【0097】本実施例の半導体記憶装置が図6の第3の
実施例と相違する点は、共通電源線VSXをセンスアン
プの共通ソース線SNの電位VSN(以下、Nセンスア
ンプ制御信号と記す)に接続した点である。
The semiconductor memory device of this embodiment is different from the third embodiment of FIG. 6 in that the common power supply line VSX is the potential VSN of the common source line SN of the sense amplifier (hereinafter referred to as N sense amplifier control signal). ) Is the point connected to.

【0098】前記Nセンスアンプ制御信号VSNは、図
8(b)に示すように、各ビット線対のプリチャージ動
作期間中(スタンバイ時)は、基準電位VSA(例え
ば、各ビット線対のプリチャージ基準電位1/2・VC
C)となり、ビット線対がセンスアンプによって増幅さ
れている期間(動作時)は“L”レベル(例えば、電源
電位VSS)となるものである。
As shown in FIG. 8B, the N sense amplifier control signal VSN has a reference potential VSA (for example, a precharge voltage for each bit line pair during the precharge operation period (standby)). Charge reference potential 1/2 ・ VC
C), which is at the “L” level (for example, power supply potential VSS) during the period (during operation) during which the bit line pair is being amplified by the sense amplifier.

【0099】以上の構成により、各ビット線対のプリチ
ャージ動作期間中(スタンバイ時)、即ちワード線WL
11、WL12…が、オン状態のプルダウントランジス
タTWD121…を介して共通電源線VSXに接続され
る際には、共通電源線VSXの電位を基準電位VSA
(1/2・VCC)として、ビット線対のプリチャージ
電位(1/2・VCC)と同電位にする電位変更手段5
1を構成している。この電位変更手段により、ショート
したビット線- ワード線間の電位差を小さく、好しくは
零値にしてスタンバイ電流を制限するようにした電流制
限手段32´を構成している。
With the above configuration, during the precharge operation period of each bit line pair (during standby), that is, the word line WL.
When the WLs 11, WL12 ... Are connected to the common power supply line VSX via the pull-down transistors TWD121 ... In the ON state, the potential of the common power supply line VSX is changed to the reference potential VSA.
(1/2 · VCC), the potential changing means 5 is set to the same potential as the precharge potential (1/2 · VCC) of the bit line pair.
Make up one. This potential changing means constitutes a current limiting means 32 'for reducing the potential difference between the shorted bit line-word line and preferably setting it to zero to limit the standby current.

【0100】したがって、本実施例では、ビット線対の
プリチャージ動作期間中(スタンバイ時)には、各ワー
ド線選択信号線WS11、WS12…がLレベルに変化
して各ワード線駆動回路のプルダウントランジスタTW
D121…がオン状態となるので、各ワード線WL1
1、WL12…は共通電源線VSXに接続される。この
とき、共通電源線VSXの電位は、基準電位VSA(1
/2・VCC)にあって、ワード線にショートしている
ビット線と同電位であるので、ビット線- ワード線間の
ショートによるスタンバイ電流を抑えることができる。
Therefore, in the present embodiment, during the precharge operation period of the bit line pair (during standby), each word line selection signal line WS11, WS12 ... Transistor TW
Since D121 ... is turned on, each word line WL1
1, WL12 ... Are connected to the common power supply line VSX. At this time, the potential of the common power supply line VSX is equal to the reference potential VSA (1
/ 2 · VCC) and has the same potential as the bit line short-circuited to the word line, it is possible to suppress the standby current due to the short circuit between the bit line and the word line.

【0101】一方、センスアンプ動作期間中(動作時)
では、共通電源線VSXは接地電位VSSとなるので、
非選択ワード線を低インピーダンスで接地電位VSSに
プルダウンすることができる。
On the other hand, during the operation period of the sense amplifier (during operation)
Then, since the common power supply line VSX becomes the ground potential VSS,
An unselected word line can be pulled down to the ground potential VSS with low impedance.

【0102】更に、本発明では、各センスアンプブロッ
クのセンスアンプの共通ソース線をそのまま共通電源線
VSXに接続するので、新たに制御信号用の回路を追加
する必要がなく、DRAMのチップ面積の増大を防止で
きる。
Further, in the present invention, since the common source line of the sense amplifier of each sense amplifier block is directly connected to the common power supply line VSX, it is not necessary to newly add a circuit for control signal, and the chip area of the DRAM can be reduced. The increase can be prevented.

【0103】(実施例6)以下、本発明の第6の実施例
を説明する。
(Sixth Embodiment) The sixth embodiment of the present invention will be described below.

【0104】図9(a)は本発明の第6の実施例の半導
体記憶装置を示す回路図である。
FIG. 9A is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to the sixth embodiment of the present invention.

【0105】各ワード線駆動回路WD11、WD12…
のソースS1、S2…を各メモリセルブロックで共通し
て共通電源線VSXに接続した点は、前記図6(a)の
第3の実施例と同じである。
Each word line drive circuit WD11, WD12 ...
The sources S1, S2, ... Of are connected to the common power supply line VSX in common in each memory cell block, which is the same as the third embodiment of FIG. 6A.

【0106】本実施例の半導体記憶装置が、図6の第3
の実施例と相違する点は、図9(a)に示すように、共
通電源線VSXと接地VSSとの間に、N型MOSトラ
ンジスタT4を配置すると共に、直列接続されたN型M
OSトランジスタT5及びP型MOSトランジスタT6
より成る制御回路61を設ける。この直列接続されたn
型MOSトランジスタT5及びP型MOSトランジスタ
T6を前記トランジスタT4と並列に接続する。前記ト
ランジスタT5、T6のドレインは前記トランジスタT
4のゲートに接続されると共に、トランジスタT5のソ
ースは共通電源線VSXに接続され、トランジスタT6
のソースは電源VCCに接続される。更に、直列接続さ
れた両トランジスタT5、T6は、同図(b)に示すプ
リチャージ回路の活性化信号(イコライズ信号)EQで
制御される。従って、制御回路61では、ビット線のプ
リチャージd動作期間中(スタンバイ時)には、トラン
ジスタT5がオン状態となって共通電源線VSXの電位
をトランジスタT4のゲートに供給し、動作時には、ト
ランジスタT6がオン状態となって電源電位VCCをト
ランジスタT4のゲートに供給する。トランジスタT4
は所定のしきい値電圧VT4を有している。
The semiconductor memory device of this embodiment is the same as the semiconductor memory device shown in FIG.
9A, the N-type MOS transistor T4 is arranged between the common power supply line VSX and the ground VSS and the N-type M-type transistors connected in series are provided as shown in FIG. 9A.
OS transistor T5 and P-type MOS transistor T6
A control circuit 61 is provided. N connected in series
The type MOS transistor T5 and the P type MOS transistor T6 are connected in parallel with the transistor T4. The drains of the transistors T5 and T6 are the transistors T
4 and the source of the transistor T5 is connected to the common power supply line VSX and the transistor T6.
Source is connected to the power supply VCC. Further, both transistors T5 and T6 connected in series are controlled by the activation signal (equalization signal) EQ of the precharge circuit shown in FIG. Therefore, in the control circuit 61, during the bit line precharge d operation period (during standby), the transistor T5 is turned on to supply the potential of the common power supply line VSX to the gate of the transistor T4, and during operation, the transistor T5 is turned on. T6 is turned on to supply the power supply potential VCC to the gate of the transistor T4. Transistor T4
Has a predetermined threshold voltage VT4.

【0107】前記の構成により、イコライズ信号EQが
“H”レベル(電源電位VCC)のとき(スタンバイ
時)に、共通電源線VSXがトランジスタT4のしきい
値電圧VT4よりも大きくなれば、トランジスタT4が
オン状態となって、共通電源線VSXからトランジスタ
T4を経て接地VSSに電流が流れることにより、共通
電源線VSXの電位をトランジスタT4のしきい値電圧
VT4に制限するようにしたクランプ回路60を構成し
ている。このクランプ回路60により、共通電源線VS
Xの電位を変更する電位変更手段51´を構成してい
る。
With the above structure, if the common power supply line VSX becomes higher than the threshold voltage VT4 of the transistor T4 when the equalize signal EQ is at the "H" level (power supply potential VCC) (during standby), the transistor T4 is activated. Is turned on and a current flows from the common power supply line VSX to the ground VSS via the transistor T4, thereby limiting the potential of the common power supply line VSX to the threshold voltage VT4 of the transistor T4. I am configuring. With this clamp circuit 60, the common power supply line VS
A potential changing unit 51 ′ that changes the potential of X is configured.

【0108】いま、ビット線のプリチャージ動作期間中
(スタンバイ時)では、各ワード線駆動回路WD11、
WD12…のプルダウントランジスタTWD121、…
がオン状態となって、各ワード線WL11、WL12…
は共通電源線VSXに接続される。この際、制御回路6
1のトランジスタT5がオン状態となって、トランジス
タT4のゲートに共通電源線VSXの電位が加わるの
で、共通電源線VSXの電位はトランジスタT4のしき
い値電圧VT4にクランプされる。その結果、ビット線
とワード線とのショートがあっても、このショートした
ビット線- ワード線を経て接地に流れるスタンバイ電流
を抑えることができる。
Now, during the bit line precharge operation period (during standby), each word line drive circuit WD11,
Pull-down transistor TWD121 of WD12 ...
Is turned on and each word line WL11, WL12 ...
Are connected to the common power supply line VSX. At this time, the control circuit 6
Since the first transistor T5 is turned on and the potential of the common power supply line VSX is applied to the gate of the transistor T4, the potential of the common power supply line VSX is clamped to the threshold voltage VT4 of the transistor T4. As a result, even if there is a short circuit between the bit line and the word line, it is possible to suppress the standby current flowing to the ground via the shorted bit line-word line.

【0109】一方、動作時であるワード線選択動作時に
は、各非選択ワード線駆動回路のプルダウントランジス
タはオン状態であり、各非選択ワード線は共通の電源線
VSXに接続される。このとき、制御回路61では、N
型MOSトランジスタT5がオフし、P型MOSトラン
ジスタT6がオンするので、N型MOSトランジスタT
4のゲートは、トランジスタT6を介して電源電位VC
Cに繋がれる。その結果、N型MOSトランジスタT4
は常時ON状態となって、低インピーダダンスな状態と
なるので、共通電源線VSXと接地VSSとの間のイン
ピーダダンスが低値となって、非選択ワード線を低イン
ピーダンスで接地できる。
On the other hand, during the word line selection operation which is the operation time, the pull-down transistor of each non-selected word line drive circuit is in the ON state, and each non-selected word line is connected to the common power supply line VSX. At this time, in the control circuit 61, N
Since the N-type MOS transistor T5 is turned off and the P-type MOS transistor T6 is turned on, the N-type MOS transistor T5
4 has a gate connected to the power supply potential VC via the transistor T6.
Connected to C. As a result, the N-type MOS transistor T4
Is always on and is in a low impedance state, so that the impedance between the common power supply line VSX and the ground VSS has a low value, and the non-selected word line can be grounded with low impedance.

【0110】(実施例7)以下、本発明の第7の実施例
を説明する。
(Embodiment 7) Hereinafter, a seventh embodiment of the present invention will be described.

【0111】図10は本発明の第7の実施例の半導体記
憶装置を示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to the seventh embodiment of the present invention.

【0112】同図において、WL11、WL12は各々
ワード線、WD11、WD12は各々ワード線駆動回
路、IWD11、IWD12は各々インバータ回路(論
理回路)である。前記各ワード線駆動回路及びインバー
タ回路は同一構成であるので、以下、ワード線駆動回路
WD11及びインバータ回路IWD11について内部構
成を説明する。
In the figure, WL11 and WL12 are word lines, WD11 and WD12 are word line drive circuits, and IWD11 and IWD12 are inverter circuits (logic circuits). Since each word line drive circuit and the inverter circuit have the same configuration, the internal configuration of the word line drive circuit WD11 and the inverter circuit IWD11 will be described below.

【0113】ワード線WL11は、ワード線駆動回路W
D11のN型トランジスタTWD111を介してワード
線信号W11に接続されると共に、ワード線駆動回路W
D11のN型プルダウントランジスタTWD121を介
して接地VSSに接続される。トランジスタTWD11
1のゲート電極には、ワード線選択信号WS11がその
まま入力される。このワード線選択信号WS11は、自
己のワード線の選択要求時には“H”レベルとなり、自
己のワード線の選択が要求されない時には“L”レベル
となる。
The word line WL11 is a word line drive circuit W.
The word line drive circuit W is connected to the word line signal W11 via the N-type transistor TWD111 of D11.
It is connected to the ground VSS via the N-type pull-down transistor TWD121 of D11. Transistor TWD11
The word line selection signal WS11 is directly input to the first gate electrode. The word line selection signal WS11 becomes "H" level when the selection of its own word line is requested, and becomes "L" level when the selection of its own word line is not requested.

【0114】前記インバータ回路IWD11は、プルダ
ウントランジスタTWD121を制御する制御回路であ
って、直列接続されたP型トランジスタITp及びN型
トランジスタITnとから成る。前記インバータ回路I
WD11の電源は、センスアンプのPチャンネルトラン
ジスタ用の共通ソース線SPの電位VSPであって、こ
の共通ソース線SPがP型トランジスタITpのソース
に接続される。前記センスアンプ路の共通ソース線SP
の電位VSPは、図7(b)に示すように、プリチャー
ジ動作期間中(全てのワード線が選択されない状態にあ
るスタンバイ時)には中間電位VSA(例えば1/2・
VCC)になり、何れかのワード線の選択動作時には電
源電位VCCとなる。N型トランジスタITnのソース
は接地VSSに接続される。両トランジスタITp、I
Tnは、そのドレインにプルダウントランジスタTWD
121のゲートが接続され、そのゲートにワード線選択
信号WS11が入力される。
The inverter circuit IWD11 is a control circuit for controlling the pull-down transistor TWD121 and comprises a P-type transistor ITp and an N-type transistor ITn connected in series. The inverter circuit I
The power source of the WD 11 is the potential VSP of the common source line SP for the P-channel transistor of the sense amplifier, and this common source line SP is connected to the source of the P-type transistor ITp. Common source line SP of the sense amplifier path
As shown in FIG. 7B, the potential VSP of the intermediate potential VSP of the intermediate potential VSA (for example, 1/2.
VCC), which is the power supply potential VCC during the selection operation of any word line. The source of the N-type transistor ITn is connected to the ground VSS. Both transistors ITp, I
Tn has a pull-down transistor TWD at its drain
The gate of 121 is connected, and the word line selection signal WS11 is input to the gate.

【0115】従って、インバータ回路IWD11は、自
己のワード線が選択された動作時,即ち自己のワード線
選択信号WS11が“H”レベルの場合には、N型トラ
ンジスタITnがオン状態となって、接地電位VSSを
N型プルダウントランジスタTWD121のゲートに出
力する一方、自己のワード線の非選択状態,即ちワード
線選択信号WS11が“L”レベルの場合には、P型ト
ランジスタITpがオン状態となって、センスアンプの
共通ソース線SPの電位VSPをプルダウントランジス
タTWD121のゲートに出力する。
Therefore, in the inverter circuit IWD11, during the operation in which its own word line is selected, that is, when its own word line selection signal WS11 is at "H" level, the N-type transistor ITn is turned on, The ground potential VSS is output to the gate of the N-type pull-down transistor TWD121, while the P-type transistor ITp is turned on in the non-selected state of its own word line, that is, when the word line selection signal WS11 is at "L" level. Then, the potential VSP of the common source line SP of the sense amplifier is output to the gate of the pull-down transistor TWD121.

【0116】したがって、自己のワード線が選択された
動作時には、プルダウントランジスタTWD121が完
全オフして、ワード線WL11と接地VSS間が完全に
カットオフされると共に、トランジスタTWD111が
オンして、ワード線信号W11がワード線WL11に出
力される。
Therefore, in the operation in which the self word line is selected, the pull-down transistor TWD121 is completely turned off, the word line WL11 and the ground VSS are completely cut off, and the transistor TWD111 is turned on, and the word line WL11 is turned on. The signal W11 is output to the word line WL11.

【0117】一方、自己のワード線が選択されない状態
では、トランジスタTWD111がオフすると共に、セ
ンスアンプの共通ソース線SPの電位VSPがプルダウ
ントランジスタTWD121のゲートに出力される。こ
こに、他のワード線が選択されている動作時では、前記
センスアンプの共通ソース線SPの電位VSPは、電源
電位VCCとなるので、N型プルダウントランジスタT
WD121が完全オンして、自己のワード線WL11が
確実に接地電位VSSになる一方、他のワード線も選択
されていないスタンバイ時には、前記センスアンプの共
通ソース線SPの電位VSPは、中間電位VSA(1/
2・VCC)となって、N型プルダウントランジスタT
WD121は高インピーダンスな状態となるので、この
プルダウントランジスタTWD121から接地VSSに
流れるスタンバイ電流を制限できる。
On the other hand, when the self word line is not selected, the transistor TWD111 is turned off and the potential VSP of the common source line SP of the sense amplifier is output to the gate of the pull-down transistor TWD121. Here, during the operation in which another word line is selected, the potential VSP of the common source line SP of the sense amplifier becomes the power supply potential VCC, so the N-type pull-down transistor T
While the WD 121 is completely turned on and its word line WL11 is surely set to the ground potential VSS, while the other word lines are not selected, the potential VSP of the common source line SP of the sense amplifier is set to the intermediate potential VSA during standby. (1 /
2 ・ VCC) and N-type pull-down transistor T
Since the WD 121 is in a high impedance state, the standby current flowing from the pull-down transistor TWD 121 to the ground VSS can be limited.

【0118】よって、スタンバイ時と、自己以外の他の
ワード線が選択された動作時とで、ワード線と接地電位
VSSとの間のインピーダンスをセンスアンプの共通ソ
ース線SPの電位VSPにより変化させることができ
て、プリチャージ動作期間中(スタンバイ時)は、ワー
ド線を高インピーダンスで接地して、スタンバイ電流を
少なく制限できると共に、他のワード線が選択された動
作時には、自己のワード線を低インピーダンスで接地す
ることができるので、本発明の前記第3の実施例と同じ
効果が得られる。
Therefore, the impedance between the word line and the ground potential VSS is changed by the potential VSP of the common source line SP of the sense amplifier between the standby state and the operation in which a word line other than itself is selected. Therefore, during the precharge operation period (during standby), the word line can be grounded with high impedance to limit the standby current to a small level, and at the time of operation when another word line is selected, its own word line is Since it can be grounded with low impedance, the same effect as the third embodiment of the present invention can be obtained.

【0119】尚、本発明の第7の実施例は、信号反転用
のインバータ回路IWD11だけでなく、その他、NA
ND回路やNOR回路等の論理回路を備える場合には、
これ等にも同様に適用できるのは勿論である。
In the seventh embodiment of the present invention, not only the inverter circuit IWD11 for signal inversion but also NA
When a logic circuit such as an ND circuit or NOR circuit is provided,
Needless to say, the same can be applied to these.

【0120】[0120]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1ないし請
求項3記載の発明の半導体記憶装置によれば、プリチャ
ージ電源線を列選択信号線と同数設けて、ワード線- ビ
ット線間のショートによる冗長置換単位を、1本の列選
択信号線に対応する複数対のビット線を単位としたの
で、ビット不良があった場合の置換単位と一致して、従
来のように1つのメモリセルブロックの全体を冗長置換
する場合に比して、冗長置換の単位を小面積に制限し
て、チップ面積の拡大を招かずにスタンバイ電流を低減
でき、従って、バッテリ駆動可能な半導体記憶装置には
極めて有効である。
As described above, according to the semiconductor memory device of the first to third aspects of the present invention, the same number of precharge power supply lines as the column selection signal lines are provided, and the precharge power supply lines are provided between the word line and the bit line. Since the redundant replacement unit due to the short circuit is a unit of a plurality of pairs of bit lines corresponding to one column selection signal line, it corresponds to the replacement unit when there is a bit defect, and one memory cell Compared to the case where the entire block is redundantly replaced, the unit of redundant replacement is limited to a small area, and the standby current can be reduced without increasing the chip area. Therefore, in a battery-operable semiconductor memory device, It is extremely effective.

【0121】特に、請求項2記載の発明の半導体記憶装
置では、各切断手段を、配置空間的に余裕のあるセルア
レーの側方の周辺回路に配置したので、その配置が容易
である。
Particularly, in the semiconductor memory device according to the second aspect of the present invention, each cutting means is arranged in the peripheral circuit on the side of the cell array having a sufficient arrangement space, so that the arrangement is easy.

【0122】更に、請求項3記載の発明の半導体記憶装
置では、小さいヒューズ素子で切断手段を構成したの
で、半導体記憶装置の小型化に有利である。
Furthermore, in the semiconductor memory device according to the third aspect of the present invention, the cutting means is constituted by the small fuse element, which is advantageous for downsizing the semiconductor memory device.

【0123】加えて、請求項4及び請求項5記載の発明
の半導体記憶装置では、ビット線-ワード線のショート
があった場合には、センスアンプを構成する複数個のト
ランジスタのうち、メモリセルのトランジスタの導電型
と反対の導電型のトランジスタの誤動作を確実に防止し
たので、センスアンプの共通ソース線を電源としてスタ
ンバイ電流がセンスアンプから欠陥ビット線及びワード
線を経て接地に流れることを確実に防止できる。
In addition, in the semiconductor memory device according to the fourth and fifth aspects of the present invention, when there is a short circuit between the bit line and the word line, the memory cell among the plurality of transistors forming the sense amplifier is selected. Since the malfunction of the transistor of the conductivity type opposite to that of the transistor is reliably prevented, it is ensured that the standby current flows from the sense amplifier to the ground via the defective bit line and word line using the common source line of the sense amplifier as the power source. Can be prevented.

【0124】特に、請求項5記載の発明では、センスア
ンプを構成する複数個のトランジスタのうち、メモリセ
ルのトランジスタの導電型と反対の導電型のトランジス
タが万が一誤動作した場合であっても、メモリセルのト
ランジスタの導電型と同一の導電型のトランジスタの誤
動作を確実に防止したので、スタンバイ電流が流れるこ
とを一層確実に防止できる。
Particularly, in the fifth aspect of the invention, among the plurality of transistors forming the sense amplifier, even if the transistor of the conductivity type opposite to the conductivity type of the transistor of the memory cell malfunctions, the memory Since the malfunction of the transistor of the same conductivity type as that of the cell transistor is reliably prevented, the standby current can be more reliably prevented from flowing.

【0125】また、請求項6ないし請求項10及び請求
項17ないし請求項19記載の発明の半導体記憶装置で
は、ワード線と接地との間のインピーダンスを、スタン
バイ時(ビット線対のプリチャージ動作期間中)には高
い値に調整したので、欠陥ビット線からワード線を経て
接地に流れるスタンバイ電流を低減できる。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention of claim 6 to claim 10 and claim 17 to claim 19, the impedance between the word line and ground is set to the standby state (precharge operation of the bit line pair). Since it is adjusted to a high value during the period, the standby current flowing from the defective bit line to the ground via the word line can be reduced.

【0126】特に、請求項8ないし請求項10並びに請
求項18及び請求項19記載の発明では、既存の信号を
使用してワード線と接地との間のインピーダンスをスタ
ンバイ時と動作時とで変更するので、新たに制御信号用
の回路を付加する必要がなく、回路構成を簡易にしつつ
スタンバイ電流を低減できる。
Particularly, in the inventions according to claims 8 to 10 and claims 18 and 19, the existing signal is used to change the impedance between the word line and the ground during standby and during operation. Therefore, it is not necessary to newly add a circuit for the control signal, and the standby current can be reduced while simplifying the circuit configuration.

【0127】更に、請求項6、請求項11ないし請求項
16記載の発明の半導体記憶装置では、スタンバイ時
(ビット線のプリチャージ動作期間中)には、ワード線
の電位を動作時よりも高めて、ビット線とワード線との
電位差を小さくしたので、ビット線からワード線を経て
接地に流れるスタンバイ電流を有効に低減できる。
Further, in the semiconductor memory device according to the sixth aspect, the eleventh aspect to the sixteenth aspect of the invention, the potential of the word line is made higher during standby (during the precharge operation of the bit line) than during operation. Since the potential difference between the bit line and the word line is reduced, the standby current flowing from the bit line to the ground via the word line can be effectively reduced.

【0128】特に、請求項13及び請求項16記載の発
明では、既存の信号を使用してワード線とビット線との
電位差をスタンバイ時に小さくするので、新たに制御信
号用の回路を付加する必要がなく、回路構成を簡易にし
つつスタンバイ電流を低減できる。
In particular, according to the thirteenth and sixteenth aspects of the present invention, since the existing signal is used to reduce the potential difference between the word line and the bit line during standby, it is necessary to newly add a circuit for the control signal. Therefore, the standby current can be reduced while simplifying the circuit configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の半導体記憶装置の全体
構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例の半導体記憶装置の要部
の具体的構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a specific configuration of a main part of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施例のメモリセルアレイの概
略的構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a memory cell array according to a first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施例の半導体記憶装置の構成
を示す図である。。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. .

【図5】本発明の第2の実施例の半導体記憶装置のプリ
チャージ動作を示す信号波形図である。
FIG. 5 is a signal waveform diagram showing a precharge operation of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施例の半導体記憶装置におけ
るワード線駆動回路及びその制御信号を示す回路図であ
る。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a word line drive circuit and its control signal in a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第4の実施例の半導体記憶装置におけ
るワード線駆動回路及びその制御信号を示す回路図であ
る。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a word line drive circuit and its control signal in a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第5の実施例の半導体記憶装置におけ
るワード線駆動回路及びその制御信号を示す回路図であ
る。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a word line drive circuit and its control signal in a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第6の実施例の半導体記憶装置におけ
るワード線駆動回路及びその制御信号を示す回路図であ
る。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a word line drive circuit and its control signal in a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第7の実施例の半導体記憶装置にお
けるワード線駆動回路を示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a word line drive circuit in a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図11】従来の半導体記憶装置の全体構成を示す図で
ある。
FIG. 11 is a diagram showing an overall configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図12】従来の半導体記憶装置の要部構成を示す図で
ある。
FIG. 12 is a diagram showing a main configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図13】従来の半導体記憶装置の他の要部構成を示す
図である。
FIG. 13 is a diagram showing another main configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図14】従来例のプリチャージ動作を示す信号波形図
である。
FIG. 14 is a signal waveform diagram showing a precharge operation of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MB1、MB16 メモリセルブロック SA1、SA16 センスアンプブロック Y1、Yn、Ys 列選択信号線 11a、11n、11s プリチャージ電源線 50a、50n、50s ヒューズ素子(切断手段) 41a プリチャージ回路 BS1 冗長置換単位 MC11 メモリセル BL1、/BL1 ビット線 SP 共通ソース線 SN 共通ソース線 TWD121 プルダウントランジスタ VSX 共通電源線 T2、T3 T4、T5、T6 トランジスタ ITp P型トランジスタ ITn N型トランジスタ IWD11 インバータ回路(論理回
路)(制御回路) 1 セルアレー 2 プリチャージ電位発生回路
(プリチャージ電位供給回路) 28 制御回路 29 電位供給手段 30 他の電位供給手段 31、31´ インピーダンス変更手段 32、32´ 電流制限手段 51、51´ 電位変更手段 60 クランプ回路 61 制御回路 101a センスアンプ
MB1, MB16 Memory cell block SA1, SA16 Sense amplifier block Y1, Yn, Ys Column selection signal line 11a, 11n, 11s Precharge power supply line 50a, 50n, 50s Fuse element (cutting means) 41a Precharge circuit BS1 Redundant replacement unit MC11 Memory cell BL1, / BL1 bit line SP common source line SN common source line TWD121 pull-down transistor VSX common power supply line T2, T3 T4, T5, T6 transistor ITp P-type transistor ITn N-type transistor IWD11 inverter circuit (logic circuit) (control circuit) ) 1 cell array 2 precharge potential generation circuit (precharge potential supply circuit) 28 control circuit 29 potential supply means 30 other potential supply means 31, 31 'impedance changing means 32, 32 ′ Current limiting means 51, 51 ′ Potential changing means 60 Clamp circuit 61 Control circuit 101a Sense amplifier

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数のワード線及びこれと交差する多数
対のビット線から成るセルアレーを、前記ワード線が並
ぶ方向に複数に区画して成る複数のメモリセルブロック
と、 前記複数のメモリセルブロックと同数設けられ、且つ対
応するメモリセルブロックの側方でワード線が並ぶ側に
配置された複数のセンスアンプブロックと、 前記各メモリセルブロック間で共用される複数本の列選
択信号線と、 前記列選択信号線と同数設けられたプリチャージ電源線
と、 前記各プリチャージ電源線に配置された切断手段とを備
え、 前記各センスアンプブロックは、対応するメモリセルブ
ロック内の多数対のビット線を各々所定電位にプリチャ
ージする複数個のプリチャージ回路を有し、 前記各列選択信号線は、各メモリセルブロックの複数対
のビット線を単位として1本設けられ、且つ各メモリセ
ルブロック毎に1対のビット線を同時に選択するもので
あり、 前記各プリチャージ電源線は、対応する列選択信号線に
より選択可能な複数対のビット線のプリチャージ回路に
所定電位を供給するものであり、 前記1本の列選択信号線、この列選択信号線に対応する
各メモリセルブロック内の複数対のビット線及び各セン
スアンプブロックの複数個のプリチャージ回路、並びに
1本のプリチャージ電源線を1単位として、ワード線-
ビット線ショート時の冗長置換単位が構成されているこ
とを特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cell blocks, each of which is formed by partitioning a cell array including a plurality of word lines and a plurality of pairs of bit lines intersecting the word lines into a plurality of memory cell blocks in the direction in which the word lines are arranged, and the plurality of memory cell blocks. A plurality of sense amplifier blocks, which are provided in the same number as and on the side where the word lines are arranged on the side of the corresponding memory cell block, and a plurality of column selection signal lines shared between the memory cell blocks, The precharge power supply lines are provided in the same number as the column selection signal lines, and the disconnection unit is arranged in each of the precharge power supply lines. Each sense amplifier block includes a plurality of pairs of bits in a corresponding memory cell block. Each column select signal line includes a plurality of pairs of bit lines of each memory cell block. For each memory cell block, a pair of bit lines are simultaneously selected, and each of the precharge power supply lines has a plurality of pairs of bits selectable by a corresponding column selection signal line. A predetermined potential is supplied to a line precharge circuit, and one column selection signal line, a plurality of pairs of bit lines in each memory cell block corresponding to the column selection signal line, and a plurality of sense amplifier blocks are provided. One precharge circuit and one precharge power supply line as one unit
A semiconductor memory device comprising a redundant replacement unit at the time of bit line short circuit.
【請求項2】 各プリチャージ電源線にプリチャージ電
位を供給するプリチャージ電位供給回路を有し、 各切断手段は、前記プリチャージ電位供給回路と各プリ
チャージ電源線との接続点近傍に配置されることを特徴
とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. A precharge potential supply circuit for supplying a precharge potential to each precharge power supply line, wherein each disconnecting means is arranged near a connection point between the precharge potential supply circuit and each precharge power supply line. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein
【請求項3】 切断手段はヒューズ素子からなることを
特徴とする請求項1又は請求項2記載の半導体記憶装
置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the cutting means is a fuse element.
【請求項4】 キャパシタ及びトランジスタより成るメ
モリセルと、 前記メモリセルから信号が読み出される1対のビット線
と、 前記メモリセルのトランジスタの導電型と反対の導電型
の第1のトランジスタ及び同一の導電型の第2のトラン
ジスタより成り、前記1対のビット線に読み出された信
号を増幅するフリップフロップ型のセンスアンプと、 前記センスアンプの第1のトランジスタ及び第2のトラ
ンジスタに各々接続され、対応するトランジスタに所定
電位を供給する共通ソース線とを備えた半導体記憶装置
であって、 前記複数の共通ソース線のうち、前記メモリセルのトラ
ンジスタの導電型とは反対の導電型の第1のトランジス
タに接続された共通ソース線に、前記センスアンプが非
活性状態の期間で、半導体記憶装置の電源の電位の1/
2値の電位よりも前記第1のトランジスタがカットオフ
する側の電位を供給する電位供給手段を備えたことを特
徴とする半導体記憶装置。
4. A memory cell including a capacitor and a transistor, a pair of bit lines from which a signal is read from the memory cell, a first transistor having a conductivity type opposite to that of the transistor of the memory cell, and the same transistor. A flip-flop type sense amplifier, which comprises a conductive second transistor and amplifies the signal read to the pair of bit lines, and is connected to the first transistor and the second transistor of the sense amplifier, respectively. A semiconductor memory device having a common source line for supplying a predetermined potential to a corresponding transistor, the first source having a conductivity type opposite to a conductivity type of the transistor of the memory cell among the plurality of common source lines. The common source line connected to the transistor is connected to the power supply of the semiconductor memory device while the sense amplifier is inactive. Position of the 1 /
A semiconductor memory device, comprising: a potential supply means for supplying a potential on a side where the first transistor is cut off rather than a binary potential.
【請求項5】 複数の共通ソース線のうち、メモリセル
のトランジスタの導電型とは同一の導電型の第2のトラ
ンジスタに接続された共通ソース線に、センスアンプが
非活性状態の期間で、半導体記憶装置の電源の電位の1
/2値の電位よりも前記第2のトランジスタがカットオ
フする側の電位を供給する他の電位供給手段を備えたこ
とを特徴とする請求項4記載の半導体記憶装置。
5. A common source line connected to a second transistor of the same conductivity type as the conductivity type of the transistor of the memory cell among the plurality of common source lines, in a period in which the sense amplifier is inactive, 1 of the potential of the power supply of the semiconductor memory device
5. The semiconductor memory device according to claim 4, further comprising another potential supply unit that supplies a potential on the side where the second transistor cuts off with respect to a binary potential.
【請求項6】 各々がキャパシタ及びトランジスタより
成る複数個のメモリセルと、 前記複数個のメモリセルのトランジスタを各々制御する
複数個のワード線と、 前記複数個のメモリセルのキャパシタに蓄積された情報
が各々読み出される複数対のビット線と、 前記複数対のビット線に読み出された情報を各々増幅す
る複数個のセンスアンプと、 前記複数個のワード線と同数設けられ、対応するワード
線の非選択時に、この対応するワード線を接地するプル
ダウントランジスタと、 前記全てのワード線が選択されないスタンバイ時に、前
記複数対のビット線を所定電位にプリチャージするプリ
チャージ回路とを備えると共に、 前記スタンバイ時に、各ワード線からプルダウントラン
ジスタを経て接地に流れる電流を制限する電流制限手段
を備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
6. A plurality of memory cells each comprising a capacitor and a transistor, a plurality of word lines each controlling a transistor of the plurality of memory cells, and a plurality of memory cells stored in the capacitors of the plurality of memory cells. A plurality of pairs of bit lines from which information is read, a plurality of sense amplifiers that respectively amplify the information read to the plurality of pairs of bit lines, and the same number of word lines as the plurality of word lines are provided. And a precharge circuit that precharges the plurality of pairs of bit lines to a predetermined potential during standby when all the word lines are not selected, and In standby mode, current limiting means is provided to limit the current that flows from each word line to the ground via the pull-down transistor. A semiconductor memory device provided with.
【請求項7】 電流制限手段は、 各プルダウントランジスタのソースが接続された共通電
源線と、 前記共通電源線を接地する経路に配置され、この経路の
インピーダンスをスタンバイ時と何れかのワード線が選
択される動作時とで変更し、スタンバイ時には動作時よ
りもインピーダンスを高くするインピーダンス変更手段
とから成ることを特徴とする請求項6記載の半導体記憶
装置。
7. The current limiting means is arranged in a common power supply line to which the source of each pull-down transistor is connected, and a path for grounding the common power supply line. 7. The semiconductor memory device according to claim 6, further comprising impedance changing means for changing the selected operation time and the standby time to make the impedance higher than that during the operation.
【請求項8】 インピーダンス変更手段は、 共通電源線を接地する経路に配置されたトランジスタを
備え、 前記トランジスタは、プリチャージ回路の活性化信号に
基いて制御され、 前記プリチャージ回路の活性化信号は、スタンバイ時と
動作時とで電位が異なり、 前記トランジスタはスタンバイ時には動作時よりも高イ
ンピーダンスな状態となること特徴とする請求項7記載
の半導体記憶装置。
8. The impedance changing means includes a transistor arranged in a path for grounding the common power supply line, the transistor being controlled based on an activation signal of a precharge circuit, and an activation signal of the precharge circuit. 8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the transistor has a different potential between a standby state and an operating state, and the transistor has a higher impedance state in the standby state than in the operating state.
【請求項9】 インピーダンス変更手段は、 共通電源線を接地する経路に配置されたトランジスタを
備え、 前記トランジスタは、センスアンプの活性化信号により
制御され、 前記センスアンプの活性化信号は、スタンバイ時と動作
時とで電位が異なり、 前記トランジスタはスタンバイ時には動作時よりも高イ
ンピーダンスな状態になること特徴とする請求項7記載
の半導体記憶装置。
9. The impedance changing means includes a transistor arranged in a path for grounding the common power supply line, the transistor being controlled by an activation signal of a sense amplifier, and the activation signal of the sense amplifier is in a standby state. 8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the electric potential is different between when operating and when operating, and the transistor has a higher impedance state during standby than when operating.
【請求項10】 トランジスタはN型トランジスタであ
り、センスアンプの活性化信号は、センスアンプを構成
するP型トランジスタの共通ソース線の電位であり、 前記P型トランジスタの共通ソース線は、スタンバイ時
には半導体記憶回路の電源の電位の1/2値の電位とな
り、動作時には前記電源の電位になることを特徴とする
請求項9記載の半導体記憶装置。
10. The transistor is an N-type transistor, the activation signal of the sense amplifier is a potential of a common source line of a P-type transistor forming the sense amplifier, and the common source line of the P-type transistor is in a standby state. 10. The semiconductor memory device according to claim 9, wherein the potential of the semiconductor memory circuit is half the potential of the power source, and the potential of the power source is in operation.
【請求項11】 電流制限手段は、 各プルダウントランジスタのソースが接続された共通電
源線と、 前記共通電源線の電位をスタンバイ時と何れかのワード
線が選択される動作時とで変更し、スタンバイ時には動
作時よりも電位を高くする電位変更手段とから成ること
を特徴とする請求項6記載の半導体記憶装置。
11. The current limiting means changes a common power supply line to which a source of each pull-down transistor is connected and a potential of the common power supply line in a standby state and an operation in which one of the word lines is selected, 7. The semiconductor memory device according to claim 6, further comprising potential changing means for increasing the potential in the standby state as compared with that in the operating state.
【請求項12】 電位変更手段は、スタンバイ時には、
共通電源線の電位を、ビット線のプリチャージ電位に等
しい電位にすることを特徴とする請求項11記載の半導
体記憶装置。
12. The potential changing means, when in standby,
The semiconductor memory device according to claim 11, wherein the potential of the common power supply line is set to a potential equal to the precharge potential of the bit line.
【請求項13】 電位変更手段は、 センスアンプを構成するN型トランジスタを駆動する共
通ソース線であって、 前記共通ソース線は、共通電源線に接続され、且つ、ス
タンバイ時にはビット線のプリチャージ電位に制御さ
れ、動作時には接地電位に制御されることを特徴とする
請求項12記載の半導体記憶装置。
13. The potential changing means is a common source line for driving an N-type transistor forming a sense amplifier, the common source line being connected to a common power supply line, and precharging the bit line in standby. 13. The semiconductor memory device according to claim 12, wherein the semiconductor memory device is controlled to a potential and is controlled to a ground potential during operation.
【請求項14】 電位変更手段は、 共通電源線の電位を、スタンバイ時には動作時よりも高
くクランプするクランプ回路より成ることを特徴とする
請求項11記載の半導体記憶装置。
14. The semiconductor memory device according to claim 11, wherein the potential changing means is composed of a clamp circuit that clamps the potential of the common power supply line to a higher level during standby than during operation.
【請求項15】 クランプ回路は、 共通電源線と接地との間に配置され、所定の閾値電圧を
有するN型トランジスタと、 前記トランジスタのゲート電極に、スタンバイ時には前
記共通電源線の電位を供給し、動作時に半導体記憶回路
の電源の電位を供給する制御回路とから成ることを特徴
とする請求項14記載の半導体記憶装置。
15. The clamp circuit supplies an electric potential of the common power supply line to an N-type transistor having a predetermined threshold voltage, which is arranged between the common power supply line and the ground, and a gate electrode of the transistor during standby. 15. The semiconductor memory device according to claim 14, further comprising a control circuit that supplies a potential of a power source of the semiconductor memory circuit during operation.
【請求項16】 制御回路は、 直列接続されたN型トランジスタ及びP型トランジスタ
を備え、 前記N型トランジスタのソースは共通電源線に、前記P
型トランジスタのソースは半導体記憶回路の電源に各々
接続され、 前記両トランジスタのドレインは共通して、所定の閾値
電圧を有するN型トランジスタのゲートに接続され、 前記両トランジスタのゲートには、共通して、プリチャ
ージ回路の活性化信号が供給され、 前記活性化信号は、スタンバイ時には半導体記憶回路の
電源の電位になり、動作時には接地電位になり、 共通電源線の電位をスタンバイ時には前記制御回路に並
列接続されたN型トランジスタの所定の閾値電圧にクラ
ンプすることを特徴とする請求項15記載の半導体記憶
装置。
16. The control circuit comprises an N-type transistor and a P-type transistor connected in series, the source of the N-type transistor being a common power supply line, and the P-type transistor being the P-type transistor.
The sources of the N-type transistors are connected to the power supplies of the semiconductor memory circuits, the drains of the two transistors are commonly connected to the gates of N-type transistors having a predetermined threshold voltage, and the gates of the two transistors are commonly connected. Then, the activation signal of the precharge circuit is supplied, and the activation signal becomes the potential of the power supply of the semiconductor memory circuit in the standby mode, the ground potential in the operation mode, and the potential of the common power line to the control circuit in the standby mode. 16. The semiconductor memory device according to claim 15, wherein the N-type transistors connected in parallel are clamped to a predetermined threshold voltage.
【請求項17】 インピーダンス変更手段は、 プルダウントランジスタと、 前記プルダウントランジスタを制御する制御回路とから
成り、 前記制御回路は、前記プルダウントランジスタを、対応
するワード線の選択要求時にはカットオフし、他のワー
ド線の選択要求時には低インピーダンスな状態に制御
し、スタンバイ時には高インピーダンスな状態に制御す
るものであることを特徴とする請求項7記載の半導体記
憶装置。
17. The impedance changing means comprises a pull-down transistor and a control circuit for controlling the pull-down transistor, the control circuit cuts off the pull-down transistor when a request for selecting a corresponding word line is made, and another 8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein a low impedance state is controlled when a word line is selected, and a high impedance state is controlled during standby.
【請求項18】 プルダウントランジスタはN型トラン
ジスタより成り、 制御回路は論理回路より成り、 前記論理回路には、対応するワード線の選択を要求する
ワード線選択信号が入力されると共に、電源として、セ
ンスアンプを構成するP型トランジスタの共通ソース線
が接続され、 前記センスアンプの共通ソース線は、何れかのワード線
が選択される動作時には高電位に、スタンバイ時には低
電位に制御され、 前記論理回路は、前記プルダウントランジスタのゲート
電極に、前記ワード線選択信号の入力時には接地電位
を、前記ワード線選択信号の非入力時には前記センスア
ンプの共通ソース線の電位を各々供給するものであるこ
とを特徴とする請求項17記載の半導体記憶装置。
18. The pull-down transistor is composed of an N-type transistor, the control circuit is composed of a logic circuit, and a word line selection signal for requesting selection of a corresponding word line is inputted to the logic circuit, and a power supply is provided. A common source line of a P-type transistor that constitutes a sense amplifier is connected, and the common source line of the sense amplifier is controlled to a high potential during an operation in which any word line is selected, and is controlled to a low potential during standby. The circuit supplies to the gate electrode of the pull-down transistor a ground potential when the word line selection signal is input and a common source line potential of the sense amplifier when the word line selection signal is not input. 18. The semiconductor memory device according to claim 17, which is characterized in that.
【請求項19】 論理回路はインバータ回路より成り、 前記インバータ回路は、 直列接続されたP型トランジスタ及びN型トランジスタ
より成り、 前記P型トランジスタのソース電極にはセンスアンプの
共通ソース線が接続され、 前記N型トランジスタのソース電極には半導体記憶回路
の電源が接続され、 前記両トランジスタのゲート電極にはワード線選択信号
が入力され、 前記両トランジスタのドレインが共通してプルダウント
ランジスタのゲート電極に接続されることを特徴とする
請求項18記載の半導体記憶装置。
19. The logic circuit comprises an inverter circuit, the inverter circuit comprises a P-type transistor and an N-type transistor connected in series, and a common source line of a sense amplifier is connected to a source electrode of the P-type transistor. A source of the semiconductor memory circuit is connected to the source electrode of the N-type transistor, a word line selection signal is input to the gate electrodes of both transistors, and the drains of both transistors are commonly connected to the gate electrode of the pull-down transistor. 19. The semiconductor memory device according to claim 18, wherein the semiconductor memory device is connected.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100319134B1 (en) * 1998-03-26 2002-01-04 칼 하인쯔 호르닝어 Circuit device and method for automatically recognizing and removing word line-bit line-short circuit
WO2004077444A1 (en) * 2003-02-27 2004-09-10 Fujitsu Limited Semiconductor storage device and refreshing method therefor
JP2006065938A (en) * 2004-08-25 2006-03-09 Micron Technology Inc Word line driver circuit and method to use the same
US7106641B2 (en) 2004-02-27 2006-09-12 Elpida Memory, Inc. Dynamic semiconductor memory device
KR100636914B1 (en) * 1999-06-30 2006-10-19 주식회사 하이닉스반도체 Circuit for generating bit line precharge voltage
KR100649834B1 (en) * 2004-10-22 2006-11-28 주식회사 하이닉스반도체 Leakage current control device of semiconductor memory device
JP2008269785A (en) * 2008-07-04 2008-11-06 Renesas Technology Corp Semiconductor memory device
JP2009238353A (en) * 2008-03-28 2009-10-15 Fujitsu Microelectronics Ltd Semiconductor memory device, method for manufacturing semiconductor memory device, and system

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100319134B1 (en) * 1998-03-26 2002-01-04 칼 하인쯔 호르닝어 Circuit device and method for automatically recognizing and removing word line-bit line-short circuit
KR100636914B1 (en) * 1999-06-30 2006-10-19 주식회사 하이닉스반도체 Circuit for generating bit line precharge voltage
WO2004077444A1 (en) * 2003-02-27 2004-09-10 Fujitsu Limited Semiconductor storage device and refreshing method therefor
US7248525B2 (en) 2003-02-27 2007-07-24 Fujitsu Limited Semiconductor memory device and refresh method for the same
US7580308B2 (en) 2003-02-27 2009-08-25 Fujitsu Microelectronics Limited Semiconductor memory device and refresh method for the same
US7675801B2 (en) 2003-02-27 2010-03-09 Fujitsu Microelectronics Limited Semiconductor memory device and refresh method for the same
US7764560B2 (en) 2003-02-27 2010-07-27 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor memory device and refresh method for the same
US7106641B2 (en) 2004-02-27 2006-09-12 Elpida Memory, Inc. Dynamic semiconductor memory device
JP2006065938A (en) * 2004-08-25 2006-03-09 Micron Technology Inc Word line driver circuit and method to use the same
KR100649834B1 (en) * 2004-10-22 2006-11-28 주식회사 하이닉스반도체 Leakage current control device of semiconductor memory device
JP2009238353A (en) * 2008-03-28 2009-10-15 Fujitsu Microelectronics Ltd Semiconductor memory device, method for manufacturing semiconductor memory device, and system
JP2008269785A (en) * 2008-07-04 2008-11-06 Renesas Technology Corp Semiconductor memory device

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