JPH07334874A - Production of optical recording medium - Google Patents

Production of optical recording medium

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Publication number
JPH07334874A
JPH07334874A JP6122341A JP12234194A JPH07334874A JP H07334874 A JPH07334874 A JP H07334874A JP 6122341 A JP6122341 A JP 6122341A JP 12234194 A JP12234194 A JP 12234194A JP H07334874 A JPH07334874 A JP H07334874A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
substrate
optical recording
recording medium
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6122341A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Kobayashi
英夫 小林
Osamu Ueno
修 上野
Hironori Goto
広則 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP6122341A priority Critical patent/JPH07334874A/en
Publication of JPH07334874A publication Critical patent/JPH07334874A/en
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To efficiently and easily produce an optical recording medium by injecting the forming material of a functional layer having different film thickness in an oblique direction to the substrate surface so that a larger amt. of the material is deposited on the area corresponding to the land part than on the area corresponding to the groove part. CONSTITUTION:The production device is set in such a manner that the film deposition direction A of the film forming material by a thin film forming means and the plane of the substrate 1 make a specified angle theta. Then the forming material is gradually deposited in an oblique direction on the area where grooves 2 of the substrate 1 are formed. Thereby, a larger amt. of the material is deposited on the area corresponding to the land part 3 than on the area corresponding to the groove part 2. Therefore, such an optical recording medium can be easily and efficiently produced that has the functional layer 4 in which thickness d3 of the layer in the area corresponding to the land 3 is larger than the thickness d2 of the layer in the area corresponding to the groove 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、基板のグルーブ部と
その間のランド部に対応する領域間においてランド部対
応領域の層厚が相対的に厚い機能層を形成する光記録媒
体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an optical recording medium in which a functional layer having a relatively large layer thickness in a land portion corresponding region is formed between a groove portion of a substrate and a region corresponding to a land portion therebetween. .

【0002】[0002]

【従来の技術】ディスクタイプの光記録媒体は、その記
録(書き込み)や再生(読み出し)に際し、一定サイズ
のレーザービームを所定のトラックに正確に追随させて
走査するためのトラッキング制御や、そのレーザービー
ムの焦点を正確に合わせるためのフォーカシング制御が
必要となる。その他にも、ジッター成分を除去するため
にトラック方向の走査制御を行うこともある。特に、上
記トラッキング制御に関しては、その主な制御方式とし
て3ビーム方式とプッシュプル方式があり、両者は互い
にそれぞれのメリットやデメリットを有しているが、現
在のところ、3ビーム方式が民生用のCD(コンパクト
ディスク)、LD(レーザディスク)等の光ディスク用
ドライブに多く使用されており、一方のプッシュプル方
式がデータ処理用の光ディスク用ドライブに使用される
ことが多い。この3ビーム方式が、部品コストが高くな
るにもかかわらず、CD、LD等の光ディスク用ドライ
ブに多く使用されているのは、第一にトラッキング制御
が容易であること、第二に今までの使用実績が多いこと
によるものとされている。
2. Description of the Related Art A disk type optical recording medium has a tracking control for precisely following a predetermined track with a laser beam of a predetermined size for scanning (writing) and reproducing (reading), and its laser. Focusing control is required to accurately focus the beam. In addition, scanning control in the track direction may be performed in order to remove the jitter component. In particular, regarding the above tracking control, there are a three-beam method and a push-pull method as main control methods, and both have their own advantages and disadvantages. However, at present, the three-beam method is for commercial use. It is often used for optical disc drives such as CDs (compact discs) and LDs (laser discs), and one push-pull method is often used for optical disc drives for data processing. Despite the high cost of parts, this 3-beam method is often used for optical disk drives such as CDs and LDs because of the ease of tracking control It is believed to be due to the large number of usage records.

【0003】ところで、読み出し専用タイプのCD−R
OM関連の光記録媒体は、その仕様について規格で厳密
に規定されている。具体的には、記録モードが光記録に
より記録層の反射率が低下する「High to lo
w」のタイプであり、その記録層の初期反射率を70%
以上に設定しておき、記録によって形成されるマーク部
の反射率を位相構造により下げることにより初期反射率
に対して所定以上のコントラストが得られるように構成
されている。
By the way, a read-only type CD-R
The specifications of OM-related optical recording media are strictly defined by standards. Specifically, the recording mode is “High to lo” in which the reflectance of the recording layer is lowered by optical recording.
w ”type, the initial reflectance of the recording layer is 70%
By setting the above-mentioned setting and lowering the reflectance of the mark portion formed by recording by the phase structure, it is possible to obtain a contrast of a predetermined value or more with respect to the initial reflectance.

【0004】また、書き込みが可能な追記型のCD関連
の光記録媒体は、その仕様がオレンジブックパートII
という規格によって規定されている。その規格によれ
ば、記録モードが「High to low」のタイプ
を前提としており、その記録層の初期反射率を65%以
上に設定しておき、書き込みによってそのマーク部の反
射率を低下させて初期反射率に対して一定以上のコント
ラストを発生させるようになっている。このマーク部の
反射率低下は、Au層/有機色素層/基板という基本的
な媒体構造における色素層をレーザービーム照射により
熱変形させることによって行われる。
Further, the writable write-once type CD-related optical recording medium has the specifications of Orange Book Part II.
It is regulated by the standard. According to the standard, it is premised that the recording mode is "High to low" type, the initial reflectance of the recording layer is set to 65% or more, and the reflectance of the mark portion is lowered by writing. The contrast above a certain level is generated with respect to the initial reflectance. The reduction of the reflectance of the mark portion is performed by thermally deforming the dye layer in the basic medium structure of Au layer / organic dye layer / substrate by laser beam irradiation.

【0005】これらの光記録媒体に対する3ビーム方式
のトラッキング制御は、次のようにして行われる。すな
わち、前者の媒体の場合には、そのマーク部における反
射率低下をそのまま濃淡ピットとして検出することによ
り行われ、後者の媒体の場合には、書き込み部位がディ
スク基板に形成されたナローグルーブ部(幅狭の溝部)
に設定されており、書き込み前後共にそのグルーブ部に
沿ってマーク部における反射率低下を濃淡ピットとして
検出することにより行われるようになっている。
The three-beam type tracking control for these optical recording media is performed as follows. That is, in the case of the former medium, the decrease in reflectance at the mark portion is directly detected as the dark and light pits, and in the case of the latter medium, the writing portion is the narrow groove portion () formed on the disc substrate. Narrow groove)
Is set, and before and after writing, a decrease in reflectance at the mark portion along the groove portion is detected as a dark and light pit, which is performed.

【0006】このように通常の3ビーム方式のトラッキ
ング制御は、その制御用メインビームが光記録媒体上に
おける暗部を追従するようにトラッキング極性が設定さ
れている。要するに、読み出し専用タイプの光記録媒体
では、その記録形成されたマーク部(列)が反射率低下
により暗部のトラックとして機能し、追記型の記録媒体
では、グルーブ部がその間のランド部に比較して暗部の
トラックとして機能するため、これらの暗部となるトラ
ックをメインビームが追従して3ビーム方式のトラッキ
ング制御が行われるようになっている。
As described above, in the normal three-beam type tracking control, the tracking polarities are set so that the control main beam follows the dark portion on the optical recording medium. In short, in the read-only type optical recording medium, the recorded mark portion (column) functions as a dark track due to the decrease in reflectance, and in the write-once recording medium, the groove portion is compared to the land portion between them. In this way, the main beam follows these dark tracks to perform tracking control by the three-beam method.

【0007】さて本出願人は、先に、少なくとも1回の
書き込みが可能なCDライトワンス(WO)タイプの光
記録媒体として、相分離型の記録材料を用いて構成した
ものを提案している。この相分離型の記録方式を適用し
たCD−WOタイプの光記録媒体は、その記録モードと
して「High to low」、「Low tohi
gh」(光記録により記録層の反射率が増加する)、
「Middle tolow and high」(初
期反射率を中間レベルにした記録層の反射率が光記録に
より低下及び増加する)という3タイプのモードを採用
することができる。
The present applicant has previously proposed a CD write-once (WO) type optical recording medium which can be written at least once using a phase separation type recording material. . The CD-WO type optical recording medium to which the phase-separated recording method is applied has “High to low” and “Low tohi” recording modes.
gh ”(optical recording increases the reflectance of the recording layer),
It is possible to adopt three types of modes of "Middle toe and high" (the reflectance of the recording layer having an initial reflectance at an intermediate level is lowered and increased by optical recording).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このC
D−WOタイプの光記録媒体は、記録モードが「Hig
h to low」或いは「Middle to lo
w and high」タイプの場合には3ビーム方式
のトラッキング制御が適用可能であるが、記録モードが
「Low to high」タイプの場合にはその適用
が困難である。
However, this C
The recording mode of the D-WO type optical recording medium is "High.
h to low ”or“ Middle to lo ”
In the case of the "w and high" type, the tracking control of the three-beam method can be applied, but in the case of the recording mode of the "Low to high" type, the application thereof is difficult.

【0009】つまり、「Low to high」タイ
プの記録モードの場合には、マーク部の反射率が光記録
により高くなり、そのマーク部列の平均反射率がマーク
部列間よりも高くなるため、トラッキングエラー検出器
には、そのマーク部列が明部のトラックとして、マーク
部列の間が暗部のトラックとして検出されることにな
り、その結果、制御用メインビームはマーク部列に引き
込まれず、マーク部列間に引き込まれて追従してしまう
からである。
That is, in the case of the "Low to high" type recording mode, the reflectance of the mark portion becomes higher due to the optical recording, and the average reflectance of the mark portion row becomes higher than that between the mark portion rows. In the tracking error detector, the mark portion row is detected as a light portion track, and the space between the mark portion rows is detected as a dark portion track, and as a result, the control main beam is not drawn into the mark portion row, This is because they are drawn between the mark portions and follow.

【0010】このように、「Low to high」
タイプの記録モード、即ち反射率増加型の光記録媒体の
場合に限り、今までの構成内容のままでは3ビーム方式
によるトラッキング制御を適用することが難しいのであ
る。そのため、このタイプの光記録媒体は、一般の普及
型CDプレーヤー(再生装置)では正常に再生すること
ができない場合があった。
In this way, "Low to high"
Only in the case of the recording mode of the type, that is, the optical recording medium of the reflectance increasing type, it is difficult to apply the tracking control by the three-beam method with the constitution contents so far. Therefore, this type of optical recording medium may not be normally played back by a general popular CD player (playback device).

【0011】そこで、本発明者等は、上述したような課
題(特に、反射率増加型光記録媒体の3ビーム方式によ
るトラッキング制御の適用困難性)を解決するため種々
研究を重ねた結果、干渉層、記録層等などの機能層にお
ける層厚を基板のグルーブ部とランド部に対応する領域
間において適宜異ならしめること、例えば、ランド部に
対応する領域の層厚をグルーブ部に対応する領域の層厚
よりも厚くすることにより、上記課題を解決し得ること
を見出した。
Therefore, the inventors of the present invention have conducted various studies in order to solve the above-mentioned problems (particularly, the difficulty of applying the tracking control by the three-beam method to the reflectance increasing optical recording medium), and as a result, interference The layer thickness of the functional layer such as the recording layer and the recording layer may be appropriately made different between the regions corresponding to the groove portion and the land portion of the substrate, for example, the layer thickness of the region corresponding to the land portion may be different from that of the region corresponding to the groove portion. It has been found that the above problems can be solved by making the thickness larger than the layer thickness.

【0012】従って、本発明は、上記の知見に基づいて
なされたもので、その目的とするところは、ランド部に
対応する領域の層厚がグルーブ部に対応する領域の層厚
よりも厚くなる機能層が形成される光記録媒体を簡便に
かつ効率よく製造する方法を提供することにある。
Therefore, the present invention has been made on the basis of the above-mentioned findings, and the purpose thereof is to make the layer thickness of the region corresponding to the land portion thicker than the layer thickness of the region corresponding to the groove portion. An object of the present invention is to provide a method for easily and efficiently manufacturing an optical recording medium on which a functional layer is formed.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の光記
録媒体の製造方法は、グルーブが形成された基板上に積
層する所定の機能層を、そのグルーブ部間となるランド
部に対応する領域の層厚がグルーブ部に対応する領域の
層厚よりも相対的に厚くなるように形成する光記録媒体
の製造方法であって、上記層厚を異ならしめる機能層の
形成材料を、基板面に対して斜め方向から投射して、グ
ルーブ部に対応する領域に比べてランド部に対応する領
域上に多く堆積させることを特徴とするものである。
That is, according to the method of manufacturing an optical recording medium of the present invention, a predetermined functional layer laminated on a substrate on which a groove is formed is provided in an area corresponding to a land portion between the groove portions. Is a method for manufacturing an optical recording medium in which the layer thickness is formed to be relatively thicker than the layer thickness of the region corresponding to the groove portion, and the functional layer forming material that makes the layer thickness different is formed on the substrate surface. On the other hand, it is characterized by projecting from an oblique direction and depositing more on the region corresponding to the land portion than on the region corresponding to the groove portion.

【0014】この技術的手段において、層厚を異ならし
める機能層は、その形成材料を基板面に対して斜め方向
から投射して堆積させる、いわば斜め着膜方法により形
成される。斜め着膜方法は、RFスパッタリング法、イ
オンビームスパタリング法、蒸着法、CVD法等の薄膜
形成手段を利用し、図1に示すように、これら薄膜形成
手段による膜形成材料の投射(着膜)方向Aと基板1の
面とが所定の角度θをなすようにセッティングした後
に、その斜め方向から形成材料を基板1のグルーブ2が
形成された側の面上に徐々に堆積させるものである。こ
れにより、基板1のグルーブ部2とその間のランド部3
に対応する領域間では、ランド部3に対応する領域側に
より多く堆積するため、ランド部3に対応する領域の層
厚d3がグルーブ部2に対応する領域の層厚d2よりも厚
い機能層4が得られる。
In this technical means, the functional layers having different layer thicknesses are formed by a so-called oblique film formation method in which the forming material is obliquely projected and deposited on the substrate surface. The oblique film forming method utilizes thin film forming means such as RF sputtering method, ion beam sputtering method, vapor deposition method, CVD method, etc., and as shown in FIG. ) After setting so that the direction A and the surface of the substrate 1 form a predetermined angle θ, the forming material is gradually deposited on the surface of the substrate 1 on the side where the groove 2 is formed from the oblique direction. . As a result, the groove portion 2 of the substrate 1 and the land portion 3 between them are formed.
Between the regions corresponding to (3), the layer thickness d 3 in the region corresponding to the land part 3 is larger than the layer thickness d 2 in the region corresponding to the groove part 2 because a larger amount is deposited on the region corresponding to the land part 3. Layer 4 is obtained.

【0015】例えば、薄膜形成手段としてスパッタリン
グ法を利用する場合には、図2に示すように、そのター
ゲット10から飛翔して入射してくるスパッタリング粒
子の方向Aに対して基板1を所定の角度θだけ傾けて設
置し、その状態でスパッタリング粒子を基板1上に堆積
させることにより行う。また、この場合、図3に示すよ
うに所定の開口部11を有するスリット12を使用し、
そのスリット12によりターゲット10から飛翔して入
射してくるスパッタリング粒子の方向Aを制御調整しつ
つ、その開口部11を通過する範囲のスパッタリング粒
子のみを基板1上に堆積させることも可能である。
For example, when the sputtering method is used as the thin film forming means, as shown in FIG. 2, the substrate 1 is inclined at a predetermined angle with respect to the direction A of the sputtered particles flying from the target 10. It is installed by inclining by θ and depositing sputtered particles on the substrate 1 in that state. In this case, a slit 12 having a predetermined opening 11 is used as shown in FIG.
It is possible to deposit only the sputtered particles in the range passing through the opening 11 on the substrate 1 while controlling and adjusting the direction A of the sputtered particles flying from the target 10 and entering through the slit 12.

【0016】光記録媒体の形態については特に限定され
るものではなく、光ディスクのような円盤タイプの他、
光カードのようなカードタイプ等であってもよいが、い
ずれの形態のものであっても、前記の斜め着膜はその基
板を回転させながら行うことが好ましい。このようにし
て斜め着膜を行った場合には、基板を固定して行う場合
に比べて極めて効率よく、目的の層厚条件からなる機能
層を形成することができる。
The form of the optical recording medium is not particularly limited, and in addition to a disc type such as an optical disc,
It may be a card type such as an optical card, but in any form, it is preferable that the oblique deposition film is performed while rotating the substrate. When the oblique deposition film is formed in this manner, it is possible to form the functional layer having a desired layer thickness condition, much more efficiently than when the substrate is fixed.

【0017】例えば、スパッタリング法を利用して円盤
状の基板1を回転させながら斜め着膜を行う場合、図4
に示すように、矢印B方向に回転する基板1を挟んだ両
側位置に相対向するように2つのターゲット10a、1
0bを設置し、各ターゲットによる2方向A1、A2から
のスパッタリング粒子の投射を行うことにより着膜する
ことができる。この際、各ターゲットからのスパッタリ
ング粒子の投射方向A 1、A2と基板1面となす角度は互
いにほぼ同等であることが好ましい。かかる両角度が大
幅に異なる場合には、成膜が回転方向に対して左右非対
称となり、トラッキング制御やトラックカウントに際し
て支障になるおそれがある。
For example, a disk using the sputtering method
When the oblique film formation is carried out while rotating the substrate 1 in the shape of FIG.
As shown in FIG.
Two targets 10a, 1 facing each other in the lateral position
0b is installed and 2 directions A by each target1, A2From
By depositing sputtered particles of
be able to. At this time, the spatter from each target
Projection direction A 1, A2The angle formed by the
It is preferable that they are almost equal. Both angles are large
If the widths are different, the film formation is
It becomes a name when tracking control and track counting
May hinder the operation.

【0018】この場合、その着膜は、大別すると2つの
状態で行われる。即ち、図4に示すように回転する基板
1がターゲット10に近接している際(P−P部分)に
は、図5に示すように、スパッタリング粒子は主に基板
1のランド部3上に堆積し、一方、図4に示すように回
転する基板1がターゲット10から離れている際(Q−
Q部分)には、スパッタリング粒子はグルーブ部2とラ
ンド部3のいずれにもほぼ同量堆積する。これにより、
結果的にはスパッタリング粒子はグルーブ部2に比べて
ランド部3に対応する領域上により多く堆積する。
In this case, the film deposition is roughly performed in two states. That is, when the rotating substrate 1 is close to the target 10 (PP portion) as shown in FIG. 4, the sputtered particles are mainly deposited on the land portion 3 of the substrate 1 as shown in FIG. On the other hand, when the substrate 1 that has been deposited and is rotating as shown in FIG.
In the portion (Q portion), the sputtered particles are deposited in substantially the same amount on both the groove portion 2 and the land portion 3. This allows
As a result, the sputtered particles are deposited more on the region corresponding to the land portion 3 than on the groove portion 2.

【0019】また、この場合、必要に応じて、ターゲッ
ト10から離れる領域となる基板1とターゲット10の
間にマスク部材13を設置し、これにより、回転する基
板1がターゲット10から離れている際の着膜、特にグ
ルーブ2上への着膜を阻止(抑制)して着膜度合いを調
整することができる。更に、必要に応じて、ターゲット
10a、10bに加えてさらに2つのターゲットを設置
し、4方向からのスパッタリング粒子の投射を行うよう
にしてもよい。この場合においても、必要に応じて、各
ターゲット間にマスク部材を適宜設置して着膜度合いの
調整を行ってもよい。
In this case, if necessary, a mask member 13 is provided between the substrate 1 and the target 10, which is a region away from the target 10, so that the rotating substrate 1 is separated from the target 10. It is possible to adjust the degree of film formation by preventing (suppressing) the film formation of (2), particularly the film formation on the groove 2. Furthermore, if necessary, two targets may be installed in addition to the targets 10a and 10b, and the sputtering particles may be projected from four directions. Also in this case, a mask member may be appropriately provided between the targets to adjust the film deposition degree, if necessary.

【0020】斜め着膜における膜形成材料の投射方向A
と基板1面とがなす角度θは、凹部であるグルーブ部2
に向けて投射される材料がランド部3により遮断(或い
は低減)されて該グルーブ部3に到達しない(或いは抑
制される)ような角度に設定することが望ましい。好ま
しくは、角度θを、ランド部3により遮蔽されて投射方
向Aのグルーブ部3底面への非到達面積が半分以上とな
るような角度に設定する。この角度θを上記角度よりも
大きくした場合には、グルーブ部とランド部との間で着
膜度合いに差をもたせることが困難となるため、目的の
機能層を形成することが難しくなる。反対に、角度θが
小さ過ぎると、膜形成速度が遅くなるため、生産効率が
低下する。
Projection direction A of the film-forming material on the oblique film formation
The angle θ between the surface of the substrate 1 and the surface of the substrate 1 is defined by the groove 2
It is desirable to set the angle such that the material projected toward the direction is blocked (or reduced) by the land portion 3 and does not reach (or is suppressed) the groove portion 3. Preferably, the angle θ is set to such an angle that the non-reaching area of the projection direction A to the bottom surface of the groove portion 3 is half or more because it is shielded by the land portion 3. When this angle θ is set to be larger than the above angle, it becomes difficult to make a difference in film deposition degree between the groove portion and the land portion, and thus it becomes difficult to form a target functional layer. On the other hand, if the angle θ is too small, the film forming speed becomes slow, and the production efficiency decreases.

【0021】本発明の方法によれば、ランド部とグルー
ブ部に対応する領域の各膜厚の比が1.2:1〜10:
1である範囲の機能層を容易に形成することが可能であ
る。特に、その比が1.5:1〜3:1の範囲のもので
あれば、より簡単にかつ効率よく形成することができ
る。なお、ランド部に対応する領域の機能層における層
厚は1000nm以下であることが好ましい。これ以上
の層厚にする場合には、斜め着膜方法におけるデポレー
ト(堆積速度)が通常の薄膜形成方法に比べて劣るた
め、生産性がわるくなる。
According to the method of the present invention, the ratio of the film thicknesses of the regions corresponding to the land portions and the groove portions is 1.2: 1 to 10 :.
It is possible to easily form the functional layer in the range of 1. In particular, if the ratio is in the range of 1.5: 1 to 3: 1, it can be formed more easily and efficiently. The layer thickness of the functional layer in the region corresponding to the land is preferably 1000 nm or less. If the layer thickness is made thicker than this, the deposition rate in the oblique film formation method is inferior to that in a normal thin film forming method, and the productivity becomes poor.

【0022】層厚を異ならしめる機能層は、主に干渉層
や記録層であるが、その他にも冷却層や保護層であって
もよい。機能層として干渉層を形成する場合、その干渉
層の形成材料としてはSiO2、ZnS−SiO2をはじ
め、SiN、SiC、TiO 2、ZnS、Al23、A
lN、Ta25、DLC(Diamond LikeC
arbon)等の誘電体材料を主成分とする材料を使用
することができる。また、記録層として反射率が光記録
により増加する反射率増加タイプのものを形成する場
合、その記録層材料としては、例えば、相分離型のスピ
ノーダル分解を利用する記録材料を使用することができ
る。
The functional layers having different layer thicknesses are mainly interference layers.
And a recording layer, but also a cooling layer and a protective layer.
Good. When forming an interference layer as a functional layer, the interference
SiO as a layer forming material2, ZnS-SiO2Repelled
Therefore, SiN, SiC, TiO 2, ZnS, Al2O3, A
1N, Ta2OFive, DLC (Diamond Like C
Arbon) and other materials mainly composed of dielectric materials are used.
can do. Moreover, the reflectance is optical recording as a recording layer.
To form a reflectance-increasing type that increases with
In this case, the recording layer material is, for example, a phase separation type spin layer.
Recording material that utilizes nodal decomposition can be used
It

【0023】なお、本発明の方法では、投射される形成
材料がグルーブ部とランド部の段差部分3aにも着膜す
るため、この部分3aへの着膜ができる限り少なくなる
ように基板のグルーブ部及びランド部の幅設計や、各条
件設定などを行う必要がある。この段差部分の着膜は、
ランド部に対応する領域の層厚が薄い場合にはさほど問
題はないものの、その層厚が厚い場合には何らかの支障
を誘発するおそれがある。
In the method of the present invention, the material to be projected is also deposited on the step portion 3a between the groove portion and the land portion, so that the film on the portion 3a is deposited as little as possible. It is necessary to design the width of the parts and lands and set each condition. The film on this step is
When the layer thickness of the region corresponding to the land portion is small, there is no problem, but when the layer thickness is large, some trouble may be caused.

【0024】また、本発明では、層厚を異ならしめる機
能層の厚さの違いにより、グルーブ部とランド部に対応
する領域間で反射率特性に差をもたせることができる。
そのため、その反射率が低くなるグルーブ部若しくはラ
ンド部の対応領域をトラックとして使用するように光記
録媒体を設計すれば、そのトラック部が暗部として機能
するため、3ビーム方式のトラッキング制御法に適用可
能なものにすることができる。これに加え、さらに上記
機能層の厚さの違いにより、グルーブ部とランド部に対
応する領域間で反射光の位相に差をもたせることができ
る。そのため、反射光に対する位相が進むグルーブ部又
はランド部の対応領域をトラックとして使用するように
光記録媒体を設計すれば、3ビーム方式と同時にプッシ
ュプル方式のトラッキング制御法にも適用可能な媒体に
することができる。
Further, according to the present invention, the reflectance characteristics can be made different between the regions corresponding to the groove portion and the land portion due to the difference in the thickness of the functional layer having the different layer thickness.
Therefore, if the optical recording medium is designed so that the corresponding region of the groove portion or the land portion where the reflectance becomes low is used as a track, the track portion functions as a dark portion, so that the tracking control method of the three-beam method is applied. It can be possible. In addition to this, due to the difference in the thickness of the functional layer, the phase of the reflected light can be made different between the regions corresponding to the groove portion and the land portion. Therefore, if the optical recording medium is designed so that the corresponding region of the groove portion or the land portion where the phase with respect to the reflected light advances is used as a track, it becomes a medium applicable to the tracking control method of the push-pull method as well as the 3-beam method. can do.

【0025】[0025]

【作用】このような製造方法によれば、層厚を異ならし
める機能層の形成材料を基板面に対して斜め方向から投
射するため、その投射される材料の一部はランド部によ
り遮断されてグルーブ部への到達が阻止又は低減される
(図1中の鎖線S参照)。これにより、その形成材料が
グルーブ部に対応する領域に比べてランド部に対応する
領域上に多く堆積するため、ランド部に対応する領域の
層厚がグルーブ部に対応する領域の層厚よりも厚い機能
層が形成された光記録媒体を容易に得ることができる。
According to such a manufacturing method, since the material for forming the functional layers having different layer thicknesses is projected obliquely to the substrate surface, a part of the projected material is blocked by the land portion. The arrival at the groove portion is prevented or reduced (see the chain line S in FIG. 1). As a result, the forming material is deposited more on the region corresponding to the land portion than on the region corresponding to the groove portion, so that the layer thickness of the region corresponding to the land portion is larger than that of the region corresponding to the groove portion. An optical recording medium having a thick functional layer can be easily obtained.

【0026】[0026]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples.

【0027】実施例1 この実施例では、図7に示すような媒体構造からなる光
記録媒体を製造した。即ち、この実施例の光記録媒体
は、グルーブ部2(深さ200nm、幅600nm)が
形成された円盤状のポリカーボネート製基板1上に(ラ
ンド部3の幅は1000nm)と、この基板2上に順次
積層される、SiO2からなる厚さ80nmの保護層
5、Sb−Oからなる厚さ40nmの記録層6、SiO
2からなる厚さ60nmの干渉層7及びAlTiからな
る60nmの反射層8と、紫外線硬化性樹脂からなる表
面平滑な表面保護層9とで構成されたものである。ま
た、この光記録媒体は反射率増加型タイプのものであ
り、しかも、ランド部3に対応する領域を光記録を行う
トラックとして使用するものである。
Example 1 In this example, an optical recording medium having a medium structure as shown in FIG. 7 was manufactured. That is, in the optical recording medium of this example, a disc-shaped polycarbonate substrate 1 (land portion 3 having a width of 1000 nm) having a groove portion 2 (depth 200 nm, width 600 nm) was formed on the substrate 2. The protective layer 5 made of SiO 2 and having a thickness of 80 nm, the recording layer 6 made of Sb-O and having a thickness of 40 nm, and SiO
The interference layer 7 is made of 2 and has a thickness of 60 nm, the reflection layer 8 is made of AlTi and has a thickness of 60 nm, and the surface protective layer 9 is made of an ultraviolet curable resin and has a smooth surface. Further, this optical recording medium is of the reflectance increasing type, and the area corresponding to the land portion 3 is used as a track for optical recording.

【0028】ここで、層厚を異ならしめる機能層として
の干渉層7は、下記のような斜めスパッタリング法によ
り形成した。なお、保護層5と反射層8については通常
のRFスパッタリング法により、記録層6についてはイ
オンプレーティング法により、表面保護層9については
スピンコーティング法により形成した。
Here, the interference layer 7 as a functional layer having a different layer thickness was formed by the following oblique sputtering method. The protective layer 5 and the reflective layer 8 were formed by a normal RF sputtering method, the recording layer 6 was formed by an ion plating method, and the surface protective layer 9 was formed by a spin coating method.

【0029】すなわち、干渉層7は、以下のごとき構成
からなるスパッタリング装置を用いて形成した。図8
は、そのスパッタリング装置の構成を概略的に示すもの
である。図中20はチャンバー、21は基板1を回転可
能に保持しつつ矢印S方向にチャンバー20内を搬送さ
せる基板搬送用ホルダ、22はチャンバー20内の搬送
路に沿って配設されたマスク、10はターゲット、12
は複数枚のスリット板を所定の角度で傾斜させ且つ所定
間隔をあけて配設してなるスリット12を示す。また、
このスパッタリング装置はインライン型のものである。
そして、基板搬送用ホルダ21により搬送する基板1上
には、このスパッタリング装置の手前側に連続的に接続
されている別のチャンバールームにおいて干渉層の下層
となる記録層や保護膜が積層されるようになっている。
That is, the interference layer 7 was formed by using a sputtering device having the following structure. Figure 8
Shows schematically the configuration of the sputtering apparatus. In the figure, 20 is a chamber, 21 is a substrate transfer holder for transferring the inside of the chamber 20 in the direction of the arrow S while rotatably holding the substrate 1, and 22 is a mask arranged along the transfer path in the chamber 20. Is the target, 12
Shows a slit 12 formed by inclining a plurality of slit plates at a predetermined angle and arranging the slit plates at predetermined intervals. Also,
This sputtering device is an in-line type.
Then, on the substrate 1 transported by the substrate transport holder 21, a recording layer or a protective film which is a lower layer of the interference layer is laminated in another chamber room which is continuously connected to the front side of the sputtering apparatus. It is like this.

【0030】まず、記録層等がすでに積層された状態の
基板1は、基板搬送用ホルダ21により自転しながら、
チャンバー20内の中央を矢印S方向に搬送され、その
搬送路の両側に設置されたターゲット10にて斜め方向
からのスパッタリングが行われる。この斜めスパッタリ
ングは、スパッタ粒子の発散などを抑制するためスリッ
ト12を介して行われる。このときのスパッタ粒子であ
るSiO2が基板1に入射する角度はほぼ10°となる
ように設定した。なお、着膜する層厚は、基板の搬送速
度、スパッタパワー等を適宜設定することで調整され
る。
First, the substrate 1 on which the recording layers and the like have already been laminated is rotated by the substrate carrying holder 21,
The center of the chamber 20 is transported in the direction of arrow S, and the targets 10 installed on both sides of the transport path perform sputtering from an oblique direction. This oblique sputtering is performed through the slit 12 in order to suppress divergence of sputtered particles. At this time, the incident angle of SiO2, which is the sputtered particle, on the substrate 1 was set to be about 10 °. The layer thickness to be deposited is adjusted by appropriately setting the substrate transport speed, sputtering power, and the like.

【0031】この際、基板1におけるランド部とグルー
ブ部の膜厚の比は、マスク22により調節した。すなわ
ち、マスク22により基板1のグルーブ部における着膜
(堆積)速度を抑制した。このマスク22は着膜条件等
の設計内容によっては設置しなくてもよい。
At this time, the ratio of the film thickness of the land portion to the groove portion of the substrate 1 was adjusted by the mask 22. That is, the film deposition (deposition) rate in the groove portion of the substrate 1 was suppressed by the mask 22. The mask 22 may not be installed depending on the design content such as film deposition conditions.

【0032】このような斜めスパッタリングが行われる
チャンバー20内を搬送させることにより、その基板1
のランド部3に対応する部分の層厚が110nmで、グ
ルーブ部2に対応する部分の層厚が40nmである干渉
層7が形成された(図7)。
The substrate 1 is transported by transporting it in the chamber 20 in which such oblique sputtering is performed.
The interference layer 7 having a layer thickness of 110 nm in the portion corresponding to the land portion 3 and a layer thickness of 40 nm in the portion corresponding to the groove portion 2 was formed (FIG. 7).

【0033】得られた光記録媒体の反射率を測定したと
ころ、そのトラック部の反射率は30%以下、トラック
部間の反射率は50%以上であった。また、この光記録
媒体はトラック部における反射光の位相がトラック部間
における反射光の位相より進むものであることが確認さ
れた。そして、この光記録媒体を用いて、プッシュプル
式トラッキング制御法のCD書き込み装置による記録と
3ビーム式トラッキング制御法のCDプレーヤーによる
再生を試みたところ、いずれも正常な記録と再生が可能
であった。
When the reflectance of the obtained optical recording medium was measured, the reflectance of the track portion was 30% or less and the reflectance between the track portions was 50% or more. In addition, it was confirmed that the phase of the reflected light at the track portions of this optical recording medium leads the phase of the reflected light between the track portions. Then, using this optical recording medium, an attempt was made to perform recording by a CD writing device of the push-pull type tracking control method and reproduction by a CD player of the three-beam type tracking control method. In both cases, normal recording and reproduction were possible. It was

【0034】実施例2 基板1としてグルーブ部2(深さ210nm、幅100
0nm)とランド部3(幅600nm)が形成されたポ
リカーボネート製のものを使用し、また、斜めRFスパ
ッタリングによりランド部の層厚が340nmでグルー
ブ部の層厚が240nmであるSiO2製の保護層8を
形成し、更に干渉層7を下記のように形成した以外は実
施例1と同様にして、光記録媒体を作製した。この光記
録媒体はグルーブ部に対応する領域をトラックとして使
用するものである。
Example 2 As a substrate 1, a groove portion 2 (depth 210 nm, width 100)
0 nm) and a land part 3 (width 600 nm) are made of polycarbonate, and SiO 2 protection in which the land part has a layer thickness of 340 nm and the groove part has a layer thickness of 240 nm by oblique RF sputtering. An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the layer 8 was formed and the interference layer 7 was formed as follows. This optical recording medium uses an area corresponding to the groove portion as a track.

【0035】すなわち、この干渉層7は、以下のごとき
構成からなるスパッタリング装置を用いて形成した。図
9は、このときのスパッタリング装置の構成を概略的に
示すものであり、この装置はマスク22として別の構成
のものを使用した以外は実施例1における装置(図8)
と同様の構成からなるものである。そのマスク22は、
図9に示すように所定形状の開口部11a、11bを穿
設したものである。
That is, the interference layer 7 was formed by using a sputtering device having the following structure. FIG. 9 schematically shows the configuration of the sputtering apparatus at this time, and this apparatus is the apparatus in Example 1 (FIG. 8) except that the mask 22 has a different configuration.
It has the same configuration as. The mask 22 is
As shown in FIG. 9, openings 11a and 11b having a predetermined shape are formed.

【0036】まず、実施例1の装置の場合と同様に、記
録層等がすでに積層された状態の基板1は、基板搬送用
ホルダ21により自転しながら、チャンバー20内の中
央を矢印S方向に搬送され、その搬送路の両側に設置さ
れたターゲット10にて斜め方向からのスパッタリング
が行われる。このときのスパッタ粒子であるSiO2が
基板1に入射する角度はほぼ10°となるように設定し
た。そして、この際、基板1におけるランド部とグルー
ブ部の膜厚の比は、マスク22により調節した。すなわ
ち、マスク22の開口部により基板1のグルーブ部にお
ける着膜(堆積)速度を抑制した。
First, as in the case of the apparatus of the first embodiment, the substrate 1 on which the recording layers and the like are already laminated is rotated by the substrate carrying holder 21 while the center of the chamber 20 is moved in the direction of arrow S. The target 10 is transported, and sputtering is performed in an oblique direction with the targets 10 installed on both sides of the transport path. At this time, the incident angle of SiO2, which is the sputtered particle, on the substrate 1 was set to be about 10 °. Then, at this time, the ratio of the film thickness of the land portion to the groove portion of the substrate 1 was adjusted by the mask 22. That is, the film deposition (deposition) speed in the groove portion of the substrate 1 was suppressed by the opening portion of the mask 22.

【0037】このような斜めスパッタリングが行われる
チャンバー20内を搬送させることにより、その基板1
のランド部3に対応する部分の層厚が340nmで、グ
ルーブ部2に対応する部分の層厚が240nmである干
渉層7が形成された(図7)。
The substrate 1 is transported by being transported through the chamber 20 in which such oblique sputtering is performed.
The interference layer 7 having a layer thickness of 340 nm in the portion corresponding to the land portion 3 and a layer thickness of 240 nm in the portion corresponding to the groove portion 2 was formed (FIG. 7).

【0038】得られた光記録媒体の反射率を測定したと
ころ、そのトラック部の反射率は30%以下、トラック
部間の反射率は50%以上であった。また、この光記録
媒体はトラック部における反射光の位相がトラック部間
における反射光の位相より進むものであることが確認さ
れた。そして、この光記録媒体を用いて、実施例1と同
様にプッシュプル式トラッキング制御法のCD書き込み
装置による記録と3ビーム式トラッキング制御法のCD
プレーヤーによる再生を試みたところ、いずれも正常な
記録と再生が可能であった。
When the reflectance of the obtained optical recording medium was measured, the reflectance of the track portion was 30% or less and the reflectance between the track portions was 50% or more. In addition, it was confirmed that the phase of the reflected light at the track portions of this optical recording medium leads the phase of the reflected light between the track portions. Then, using this optical recording medium, recording by a CD writing device of the push-pull type tracking control method and CD of the three-beam type tracking control method as in the first embodiment.
When I tried to play back by the player, it was possible to record and play back normally.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の製造方法
によれば、基板におけるランド部に対応する領域の層厚
がグルーブ部に対応する領域の層厚よりも厚い機能層が
形成された光記録媒体を簡便にかつ効率よく製造するこ
とができる。
As described above, according to the manufacturing method of the present invention, the functional layer in which the layer thickness of the region corresponding to the land portion of the substrate is thicker than the layer thickness of the region corresponding to the groove portion is formed. The optical recording medium can be manufactured easily and efficiently.

【0040】従って、本発明は、このような層厚構造の
機能層を設ける必要のある光記録媒体を製造する場合に
極めて有効である。例えば、本発明方法を利用して、ラ
ンド部とグルーブ部に対応する領域間における各層厚を
適宜設定した機能層、即ち、干渉層や記録層などを形成
した光記録媒体を製造することにより、3ビーム方式に
よるトラッキング制御法に適用可能であり、また、3ビ
ーム方式と同時にプッシュプル方式によるトラッキング
制御法にも適用可能な、反射率増加型の光記録媒体を容
易に生産することが可能になる。
Therefore, the present invention is extremely effective when manufacturing an optical recording medium in which it is necessary to provide a functional layer having such a layer thickness structure. For example, by using the method of the present invention, by producing an optical recording medium having a functional layer in which the layer thickness between regions corresponding to the land portion and the groove portion is appropriately set, that is, an interference layer or a recording layer is formed, Applicable to the tracking control method by the 3-beam method, and it is possible to easily produce an optical recording medium of increased reflectance, which is applicable to the tracking control method by the push-pull method at the same time as the 3-beam method. Become.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の製造方法の原理を説明するための概
念図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram for explaining the principle of the manufacturing method of the present invention.

【図2】 本発明の製造方法の一例を示す概念図であ
る。
FIG. 2 is a conceptual diagram showing an example of a manufacturing method of the present invention.

【図3】 本発明の製造方法の他例を示す概念図であ
る。
FIG. 3 is a conceptual diagram showing another example of the manufacturing method of the present invention.

【図4】 斜めスパッタリング法の一例を示す概念上面
図である。
FIG. 4 is a conceptual top view showing an example of an oblique sputtering method.

【図5】 図4のP−P線に沿う断面図である。5 is a cross-sectional view taken along the line P-P of FIG.

【図6】 図4のQ−Q線に沿う断面図である。6 is a cross-sectional view taken along the line QQ of FIG.

【図7】 本発明の製造方法により得られる光記録媒体
の一例を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of an optical recording medium obtained by the manufacturing method of the present invention.

【図8】 実施例1のスパッタリング装置の構成を概略
的に示すもので、(a)はターゲット側から見た平面
図、(b)は(a)のB−B線に沿う断面図である。
8A and 8B schematically show the configuration of a sputtering apparatus of Example 1, where FIG. 8A is a plan view seen from the target side, and FIG. 8B is a sectional view taken along line BB in FIG. 8A. .

【図9】 実施例2のスパッタリング装置の構成を概略
的に示すもので、(a)はターゲット側から見た平面
図、(b)は(a)のB−B線に沿う断面図である。
9A and 9B schematically show the configuration of a sputtering apparatus of Example 2, where FIG. 9A is a plan view seen from the target side, and FIG. 9B is a sectional view taken along the line BB of FIG. 9A. .

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板、2…グルーブ部、3…ランド部、4…層厚を
異ならしめる機能層、d2…グルーブ部に対応する領域
の層厚、d3…ランド部に対応する領域の層厚、A…形
成材料の投射方向、θ…投射方向と基板面とのなす角
度。
1 ... substrate, 2 ... groove portion, 3 ... land portion 4 ... functional layer made different thickness, the thickness of the region corresponding to d 2 ... groove portion, the layer thickness of the region corresponding to d 3 ... land portion, A ... Projection direction of forming material, θ ... Angle formed by projection direction and substrate surface.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 グルーブが形成された基板上に積層する
所定の機能層を、そのグルーブ部間となるランド部に対
応する領域の層厚がグルーブ部に対応する領域の層厚よ
りも相対的に厚くなるように形成する光記録媒体の製造
方法であって、上記層厚を異ならしめる機能層の形成材
料を、基板面に対して斜め方向から投射して、グルーブ
部に対応する領域に比べてランド部に対応する領域上に
多く堆積させることを特徴とする光記録媒体の製造方
法。
1. A predetermined functional layer laminated on a substrate in which a groove is formed, wherein a layer thickness of a region corresponding to a land portion between the groove portions is relatively greater than a layer thickness of a region corresponding to the groove portion. A method of manufacturing an optical recording medium in which the layer thickness is made thicker, the material for forming the functional layer having different layer thicknesses is projected obliquely to the substrate surface, and compared with a region corresponding to the groove portion. And a large amount of it is deposited on a region corresponding to the land portion.
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