JPH07333236A - Magnetic detector - Google Patents

Magnetic detector

Info

Publication number
JPH07333236A
JPH07333236A JP12641194A JP12641194A JPH07333236A JP H07333236 A JPH07333236 A JP H07333236A JP 12641194 A JP12641194 A JP 12641194A JP 12641194 A JP12641194 A JP 12641194A JP H07333236 A JPH07333236 A JP H07333236A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bias
magnet
magnetic
bias magnet
magnetoresistive element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP12641194A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3102268B2 (en
Inventor
Izuru Shoji
出 庄司
Yasuaki Makino
牧野  泰明
Masanori Aoyama
正紀 青山
Ichiro Izawa
一朗 伊澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NipponDenso Co Ltd filed Critical NipponDenso Co Ltd
Priority to JP06126411A priority Critical patent/JP3102268B2/en
Publication of JPH07333236A publication Critical patent/JPH07333236A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3102268B2 publication Critical patent/JP3102268B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To provide a magnetic detector of a hollow magnet structure which enables the minimizing of a drop in the sensitivity of a magnetoresistance element. CONSTITUTION:A bias magnet 3 is prepared to generate a bias magnetic field toward a gear 5 and a through hole 4 is formed hollow in the bias magnet 3. Magnetoresistance elements 7 and 8 are held with a mold material 2 which 2 is arranged to pierce the through hole 4 of the bias magnet 3. The magnetoresistance elements 7 and 8 are so arranged that the surface position of the bias magnet 3 is set at 3a or 3b between the bias magnet 3 and the gear 5 and changes in the condition of the bias magnetic field are detected from a change in resistance values of the magnetoresistance elements 7 and 8.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、磁気抵抗素子の磁界
変化に対して抵抗値が変化することを利用して磁気変化
を検出する装置に関し、例えば磁性を有する被検出対象
の移動等の運動を検出する磁気検出装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for detecting a magnetic change by utilizing a change in resistance value with respect to a change in magnetic field of a magnetoresistive element. The present invention relates to a magnetic detection device for detecting.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、歯車形状のギアの回転を磁気抵抗
素子にて検出する近接型回転センサは、その磁気回路の
構造として、磁石面とセンサ素子とが平行となる構造
(センサ素子裏面に磁石を配置する)がほとんどであ
る。この方式においては、磁気抵抗素子の電流方向に垂
直な方向の磁気ベクトルの振れ角を利用して検出するも
のであるが、これは、振れ角が大きくなってくると、出
力波形に波形割れを生じ誤動作の原因となる。
2. Description of the Related Art Usually, a proximity type rotation sensor for detecting rotation of a gear-shaped gear by a magnetic resistance element has a magnetic circuit structure in which a magnet surface and a sensor element are parallel to each other (on the back surface of the sensor element). Place a magnet) is the most. In this method, the deflection angle of the magnetic vector in the direction perpendicular to the current direction of the magnetoresistive element is used for detection. However, when the deflection angle becomes large, a waveform crack is generated in the output waveform. It may cause malfunction.

【0003】そこで、特開平3−195970号公報に
おいては、センサ素子の配置を磁石面に対し垂直とし、
かつセンサ素子内の磁気抵抗素子を45度配置とするこ
とにより波形割れの対策ができる構造とした。さらに本
願発明者らは、特願平4−329670号にて上記公報
のセンサに対し、バイアス磁石を中空状態とし、その中
空にセンサ素子を挿入しセンサ素子とバイアス磁石との
距離をなるべく近くなるようにしてセンサ素子の感度低
下を防止できるようにしたセンサ構造を提供している。
Therefore, in Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-195970, the sensor element is arranged vertically to the magnet surface.
In addition, the magnetoresistive element in the sensor element is arranged at 45 degrees so that the waveform crack can be prevented. Further, the inventors of the present application make the bias magnet hollow relative to the sensor disclosed in Japanese Patent Application No. 4-329670 and insert a sensor element in the hollow so that the distance between the sensor element and the bias magnet becomes as short as possible. Thus, a sensor structure is provided which can prevent the sensitivity of the sensor element from being lowered.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、図23に示
すように、例えば中空状の磁石3のギア側(図示せず)
に面する極をN極とすると、磁石3の中空構造の表面付
近では、磁気ベクトルが、ギヤとの磁気回路に関係なく
貫通孔4(中空部)方向に引き寄せられ、ギアの回転に
対する正確な感度が得られない領域がある。この磁束の
乱れる領域は、磁石3の表面3Sの磁界強度と中空の形
状に関係してくると考えられる。従って、センサ素子を
中空状の磁石3に挿入するにあたり、配置位置によって
は感度が低下することが本発明者らの実験により明らか
となった。
However, as shown in FIG. 23, for example, the gear side of the hollow magnet 3 (not shown).
If the pole facing to the N pole is an N pole, the magnetic vector is attracted toward the through hole 4 (hollow portion) in the vicinity of the surface of the hollow structure of the magnet 3 regardless of the magnetic circuit with the gear, so that accurate rotation with respect to the gear is prevented. There are areas where sensitivity cannot be obtained. It is considered that the region where the magnetic flux is disturbed is related to the magnetic field strength of the surface 3S of the magnet 3 and the hollow shape. Therefore, when the sensor element was inserted into the hollow magnet 3, it was clarified by the experiments by the present inventors that the sensitivity is lowered depending on the arrangement position.

【0005】そこで、この発明の目的は、磁気抵抗素子
の感度低下を極力抑えた中空磁石構造の磁気検出装置を
提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic detection device having a hollow magnet structure in which the sensitivity of the magnetoresistive element is prevented from being lowered as much as possible.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の磁気検
出装置は、磁性材料を有する被検出対象に向けてバイア
ス磁界を発生するバイアス磁石と、前記被検出対象の運
動に応じた前記バイアス磁界により抵抗変化を生じる磁
気抵抗素子とを備え、前記磁気抵抗素子の抵抗値変化に
より前記バイアス磁界の状態変化を検出するようにした
磁気検出装置であって、前記バイアス磁石を中空形状と
し、前記磁気抵抗素子をこの中空部を貫通するように配
置し、かつ、前記磁気抵抗素子の一部または丁度全体が
前記バイアス磁石の中空部から該バイアス磁石の前記被
検出対象に対向する表面へ突出するように配置したこと
を特徴としている。
A magnetic detection device according to claim 1, wherein a bias magnet for generating a bias magnetic field toward a detection target having a magnetic material, and the bias according to the movement of the detection target. A magnetic detection device comprising a magnetoresistive element that causes a change in resistance due to a magnetic field, wherein the bias magnet has a hollow shape, wherein the bias magnetic field is detected by a change in the resistance value of the magnetoresistive element. A magnetoresistive element is arranged so as to penetrate this hollow portion, and a part or just the whole of the magnetoresistive element projects from the hollow portion of the bias magnet to the surface of the bias magnet facing the detection target. It is characterized by being arranged like this.

【0007】請求項2に記載の磁気検出装置は、磁性材
料を有する被検出対象に向けてバイアス磁界を発生する
バイアス磁石と、前記被検出対象の運動に応じた前記バ
イアス磁界により抵抗変化を生じる磁気抵抗素子とを備
え、前記磁気抵抗素子の抵抗値変化により前記バイアス
磁界の状態変化を検出するようにした磁気検出装置であ
って、前記バイアス磁石を中空形状とし、前記磁気抵抗
素子をこの中空部を貫通するように配置し、かつ、前記
磁気抵抗素子全体が前記バイアス磁石の前記被検出対象
に対向する表面から該バイアス磁石の中空部へ没入する
ように配置したことを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a magnetic detection device which produces a bias magnetic field for generating a bias magnetic field toward an object to be detected having a magnetic material and a bias magnetic field corresponding to the movement of the object to be detected to cause a resistance change. A magnetic detection device comprising a magnetoresistive element, wherein the change in the state of the bias magnetic field is detected by a change in the resistance value of the magnetoresistive element, wherein the bias magnet is hollow, and the magnetoresistive element is It is characterized in that it is arranged so as to penetrate through the portion, and that the entire magnetoresistive element is soaked into the hollow portion of the bias magnet from the surface of the bias magnet facing the object to be detected.

【0008】請求項3に記載の磁気検出装置は、前記請
求項1または2に記載の磁気検出装置であって、前記磁
気抵抗素子を、前記バイアス磁石の中空部の中空方向と
でなす角度が略45°となるようにパターニングされた
少なくとも1つのパターンを有するものであることを特
徴としている。請求項4に記載の磁気検出装置は、前記
請求項1乃至3のいずれかに記載の磁気検出装置であっ
て、前記磁気抵抗素子を保護する保護部材を有し、該保
護部材と中空部を有する前記バイアス磁石とは互いに嵌
合される嵌合部を有することを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the magnetic detection device according to the first or second aspect, wherein an angle formed by the magnetoresistive element with a hollow direction of a hollow portion of the bias magnet is an angle. It is characterized in that it has at least one pattern patterned so as to form an angle of about 45 °. The magnetic detection device according to claim 4 is the magnetic detection device according to any one of claims 1 to 3, further comprising a protection member for protecting the magnetoresistive element, wherein the protection member and the hollow portion are provided. It is characterized in that the bias magnet has a fitting portion fitted to each other.

【0009】[0009]

【作用効果】バイアス磁界を発生し、中空構造を有する
バイアス磁石と、この中空構造内に配置される磁気抵抗
素子とを有し、被検出対象である磁性体の運動を前記磁
気抵抗素子に印加されるバイアス磁石のバイアス磁界変
化にて検出するようにした磁気検出装置においては、図
6から図15に示されるように、磁気抵抗素子をバイア
ス磁石の中空部のどの位置に配置するかにより磁気抵抗
変化率が大きく変化することがわかる。そして、その配
置位置により磁気抵抗変化率が最大となる位置が2点あ
ることがわかる。その一つは磁気抵抗素子が中空構造内
に完全に入っている位置であり、もう一つは磁気抵抗素
子の一部かまたは略全体が前記バイアス磁石の中空構造
部からその表面に突出している位置である。
[Advantageous effects] A bias magnetic field is generated, and a bias magnet having a hollow structure and a magnetoresistive element arranged in this hollow structure are provided, and the motion of a magnetic body to be detected is applied to the magnetoresistive element. In the magnetic detection device configured to detect the change in the bias magnetic field of the bias magnet, as shown in FIGS. 6 to 15, the magnetic resistance depends on the position of the hollow portion of the bias magnet. It can be seen that the rate of resistance change greatly changes. It can be seen that there are two positions where the rate of change in magnetic resistance is maximum depending on the arrangement position. One is the position where the magnetoresistive element is completely inside the hollow structure, and the other is a part or substantially the whole of the magnetoresistive element protruding from the hollow structure of the bias magnet to its surface. The position.

【0010】従って、請求項1または2に記載の磁気検
出装置においては、磁気抵抗素子を上記2つの位置に合
わせて配置しているため、大きい磁気抵抗変化を得るこ
とができる。そのため、検出感度が向上するといった優
れた効果を有するものである。また、請求項3に記載の
磁気検出装置においては、前記磁気抵抗素子を、前記バ
イアス磁石の中空部の中空方向とでなす角度が略45°
となるようにパターニングされた少なくとも1つのパタ
ーンを有しているため、上記効果を有するとともに、前
記被検出対象の運動に伴う前記バイアス磁界の振れ角が
大きい場合でも波形割れを防止できるといった効果を有
するものである。
Therefore, in the magnetic detection device according to the first or second aspect, since the magnetoresistive element is arranged so as to match the two positions, a large magnetoresistive change can be obtained. Therefore, it has an excellent effect that the detection sensitivity is improved. Further, in the magnetic detection device according to claim 3, the angle formed by the magnetoresistive element and the hollow direction of the hollow portion of the bias magnet is approximately 45 °.
Since it has at least one pattern that is patterned so as to have the above-mentioned effect, it is possible to prevent waveform cracking even when the deflection angle of the bias magnetic field accompanying the movement of the detection target is large. I have.

【0011】また、請求項4に記載の磁気検出装置にお
いては、前記磁気抵抗素子を保護する保護部材を有し、
該保護部材と中空部を有する前記バイアス磁石とは互い
に嵌合される嵌合部を有しているため、請求項1または
2に記載の位置に磁気抵抗素子を容易に配置できるとい
う優れた効果を有するものである。
Further, in the magnetic detection device according to the present invention, there is provided a protection member for protecting the magnetoresistive element,
Since the protective member and the bias magnet having the hollow portion have fitting portions that are fitted to each other, an excellent effect that the magnetoresistive element can be easily arranged at the position according to claim 1 or 2. Is to have.

【0012】[0012]

【実施例】【Example】

(第1実施例)以下、この発明を具体化した一実施例を
図面に従って説明する。図1には、本実施例の磁気回転
検出装置(正面図)を示す。又、図2には磁気回転検出
装置の平面図を、図3には図1におけるA矢視図を示
す。
(First Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a magnetic rotation detector (front view) of this embodiment. 2 is a plan view of the magnetic rotation detecting device, and FIG. 3 is a view taken in the direction of arrow A in FIG.

【0013】センサ素子1はモールド材2にてモールド
され、モールド材2は断面が長方形状の棒状に形成され
ている。センサ素子1はモールド材2の先端側に配置さ
れている。又、リードフレーム22がモールド材2にて
モールドされ、図1中、右端部のリードフレーム22が
露出している。本実施例では、モールド材料としてエポ
キシ系樹脂を使用している。
The sensor element 1 is molded with a molding material 2, and the molding material 2 is formed in a rod shape having a rectangular cross section. The sensor element 1 is arranged on the tip side of the molding material 2. Further, the lead frame 22 is molded with the molding material 2, and the lead frame 22 at the right end portion in FIG. 1 is exposed. In this embodiment, epoxy resin is used as the molding material.

【0014】又、永久磁石よりなるバイアス磁石3は円
柱形状をなし、その中央部には長方形状をなす貫通孔4
がバイアス磁石3の長手方向に延びている。このように
バイアス磁石3は中空形状となっている。本実施例で
は、バイアス磁石3は、フェライト系プラスティックマ
グネットが使用されている。尚、バイアス磁石3は特に
円柱形状でなくてもよく、例えば四角柱形状であっても
構わない。
The bias magnet 3 made of a permanent magnet has a cylindrical shape, and a rectangular through hole 4 is formed in the center thereof.
Extend in the longitudinal direction of the bias magnet 3. In this way, the bias magnet 3 has a hollow shape. In this embodiment, the bias magnet 3 is a ferrite plastic magnet. The bias magnet 3 does not have to have a columnar shape, and may have a quadrangular prism shape, for example.

【0015】バイアス磁石3の貫通孔4にはモールド材
2が挿入固定されている。つまり、バイアス磁石3の貫
通孔4にモールド材2を嵌合状態で挿入し、所定の位置
で接着剤により固定されている。ギア5は磁性材料を有
する被検出対象となっており、ギア5には多数の歯6が
形成されている。そして、ギア5の歯6に対向するよう
にセンサ素子1が配置されている。つまり、図4に示す
ように、センサ素子1にはチップ9内に2つの磁気抵抗
素子7,8が備えられており、この磁気抵抗素子7,8
は磁石面に略垂直に、ギア回転方向面に対して略平行に
配置されている。又、磁気抵抗素子7,8は、チップ9
内にてバイアス磁石3の磁界方向と同一平面内に磁界方
向(図4でWで示す)に対しそれぞれプラス・マイナス
45度の角度で一対配置されている。
The molding material 2 is inserted and fixed in the through hole 4 of the bias magnet 3. That is, the molding material 2 is inserted into the through hole 4 of the bias magnet 3 in a fitted state and fixed at a predetermined position with an adhesive. The gear 5 is a detection target having a magnetic material, and the gear 5 has a large number of teeth 6. The sensor element 1 is arranged so as to face the teeth 6 of the gear 5. That is, as shown in FIG. 4, the sensor element 1 is provided with two magnetoresistive elements 7 and 8 in the chip 9.
Are arranged substantially perpendicular to the magnet surface and substantially parallel to the gear rotation direction surface. The magnetoresistive elements 7 and 8 are the chip 9
Inside, a pair of magnets are arranged in the same plane as the magnetic field direction of the bias magnet 3 at an angle of plus / minus 45 degrees with respect to the magnetic field direction (indicated by W in FIG. 4).

【0016】又、図2に示すように、ギア5の中心線上
(図示せず)にモールド材2及びセンサ素子1が配置さ
れている。又、磁気の検出原理については、上記特開平
3−195970号公報あるいは特願平4−32967
0号の公開公報等を参照していただくとして、ここでは
割愛する。
Further, as shown in FIG. 2, the molding material 2 and the sensor element 1 are arranged on the center line (not shown) of the gear 5. Regarding the principle of magnetism detection, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-195970 or Japanese Patent Application No. 4-32967.
I will omit the explanation here as you refer to the publication No. 0.

【0017】上述したように中空状の磁石の表面付近は
中空状態であるが故に磁束の状態が特定しにくい領域と
なっており、磁気抵抗素子の検出感度の悪い領域が存在
すると考えられる。そこで本発明者らはこの点について
実験を行った。今回の実験では、磁性体であるギアと磁
気抵抗素子パターンとの実質距離となるエアギャップを
パラメータとして、中空状の磁石表面と磁気抵抗素子パ
ターンの距離による磁気抵抗素子の抵抗変化率を調べ
た。また、今回の実験では、中空形状の開口領域の大き
さの違いによる特性変化をも検討するという目的で中空
形状の開口領域の大きさの異なる2種類の磁石を用い
た。今回使用した磁石はフェライト系プラスティックマ
グネットである。
As described above, since the vicinity of the surface of the hollow magnet is in a hollow state, the magnetic flux state is difficult to specify, and it is considered that there is a region where the magnetoresistive element has poor detection sensitivity. Therefore, the present inventors conducted an experiment on this point. In this experiment, the resistance change rate of the magnetoresistive element depending on the distance between the hollow magnet surface and the magnetoresistive element pattern was examined with the air gap, which is the actual distance between the magnetic gear and the magnetoresistive element pattern, as a parameter. . Further, in this experiment, two types of magnets having different sizes of the hollow-shaped opening region were used for the purpose of studying the characteristic change due to the difference in the size of the hollow-shaped opening region. The magnet used this time is a ferrite plastic magnet.

【0018】また、図5に実験に用いたサンプルを示
す。これは、図1に示されるような45°配置の磁気抵
抗素子パターンではあるが、ハの字形状の長さを短くし
たものである。基板SUB上に2つの磁気抵抗素子パタ
ーンMREが形成されており、2つのパターンからなる
矢印方向が磁性体であるギアの方向とする。また、図中
のパターンのギア方向長さL(図中u−d間)は0.7
5mmである。
FIG. 5 shows a sample used in the experiment. This is a magnetoresistive element pattern arranged at 45 ° as shown in FIG. 1, but the length of the V-shape is shortened. Two magnetoresistive element patterns MRE are formed on the substrate SUB, and the arrow direction formed by the two patterns is the direction of the gear that is a magnetic body. The length L of the pattern in the gear direction (between u and d in the drawing) is 0.7.
It is 5 mm.

【0019】中空形状の開口領域の小さい磁石Aによる
実験結果を図6〜図9に、また中空形状の開口領域の大
きい磁石Bによる実験結果を図10〜図13に示す。こ
れらの図において、M−M距離は磁石のギア側に向いて
いる表面(図16中3a)から磁気抵抗素子パターンの
図5中のdの位置までの距離を表している。すなわち、
M−M距離が0〔mm〕のときは磁気抵抗素子パターン
が丁度中空状の磁石表面から突出している状態を表し、
M−M距離が−0.75〔mm〕のときは磁気抵抗素子
パターンが中空状の磁石の空洞内に納まっている状態を
表す。また、エアギャップはギアの歯が磁気抵抗素子パ
ターンに最も近づいている状態における、ギアと磁気抵
抗素子パターンの図5中のuの位置までの距離を表して
いる。またエアギャップは1.1〔mm〕から3.1
〔mm〕までを0.5〔mm〕単位で変化させた。
6 to 9 show the results of experiments with the magnet A having a hollow shape and a small opening area, and FIGS. 10 to 13 show the results of experiments with a magnet B having a large hollow area. In these figures, the MM distance represents the distance from the surface of the magnet facing the gear side (3a in FIG. 16) to the position d of the magnetoresistive element pattern in FIG. That is,
When the MM distance is 0 [mm], the magnetoresistive element pattern just protrudes from the hollow magnet surface.
When the MM distance is -0.75 [mm], it means that the magnetoresistive element pattern is housed in the cavity of the hollow magnet. Further, the air gap represents the distance between the gear and the position of u in FIG. 5 in the state where the gear teeth are closest to the magnetoresistive element pattern. The air gap is 1.1 [mm] to 3.1.
The value up to [mm] was changed in 0.5 [mm] units.

【0020】最小距離を1.1〔mm〕としたのは、図
1を見てもわかるように磁気抵抗素子パターンをモール
ド材2によりモールドするため、その分の厚さ、すなわ
ち1次モールド厚さと、さらに図1に示すようなモール
ド材2とバイアス磁石3とをモールドする場合のモール
ド厚さ、すなわち2次モールド厚さとをとを考慮したた
めであり、また最大距離を3.1〔mm〕としたのは、
センサとして検出可能な磁気抵抗素子の抵抗変化率がお
よそ0.2%であり、エアギャップを3.1〔mm〕以
上離すと抵抗変化率が殆ど0.2%を下回るためであ
る。
The minimum distance is set to 1.1 [mm] because the magnetoresistive element pattern is molded by the molding material 2 as can be seen from FIG. And the mold thickness when the mold material 2 and the bias magnet 3 as shown in FIG. 1 are molded, that is, the secondary mold thickness is taken into consideration, and the maximum distance is 3.1 [mm]. I said
This is because the magnetoresistive element detectable as a sensor has a resistance change rate of about 0.2%, and when the air gap is separated by 3.1 [mm] or more, the resistance change rate falls below 0.2%.

【0021】図6〜図15から、M−M距離を変化させ
ると抵抗変化率が2つの極大値を示すことがわかる。す
なわち、磁気抵抗素子が完全に中空状の磁石内に納まる
位置(以下第1のピークとする)と、磁気抵抗素子の一
部あるいは全部が中空状の磁石の表面からギア側へ突出
する位置(以下第2のピークとする)との2箇所であ
る。しかもどちらの磁石においてもエアギャップが2.
6〔mm〕までは第2のピーク付近よりも第1のピーク
付近に磁気抵抗素子を配置した場合の方が抵抗変化率が
大きいことがわかる。エアギャップが3.1〔mm〕と
なると、それよりもエアギャップが小さいときに比べ特
性図が多少異なるが、この領域では抵抗変化率が非常に
小さく、測定が難しかったためこのようなデータとなっ
たが、実際には他のエアギャップの場合と同様な結果に
なるものと思われる。また上記極大値はエアギャップが
大きくなるとともに右側へシフトすることがわかる。ま
た、図6、7および図11に示されるようにエアギャッ
プが1.1〔mm〕あるいは磁石が円柱形状の場合の
1.6〔mm〕のときの斜線で示す丸は不安定な磁気抵
抗変化を示す領域であり、センサとして信頼のおけない
領域である。
From FIGS. 6 to 15, it can be seen that the resistance change rate exhibits two maximum values when the MM distance is changed. That is, the position where the magnetoresistive element is completely housed in the hollow magnet (hereinafter referred to as the first peak) and the position where part or all of the magnetoresistive element protrudes from the surface of the hollow magnet to the gear side ( Hereinafter, it is referred to as a second peak). Moreover, the air gap is 2.
It can be seen that up to 6 mm, the resistance change rate is larger when the magnetoresistive element is arranged near the first peak than around the second peak. When the air gap is 3.1 [mm], the characteristic diagram is slightly different compared to when the air gap is smaller than that, but the resistance change rate is very small in this region, so it was difficult to measure, and such data was obtained. However, it seems that the actual results will be similar to those of other air gaps. Also, it can be seen that the maximum value shifts to the right as the air gap increases. Further, as shown in FIGS. 6, 7 and 11, when the air gap is 1.1 [mm] or when the magnet has a cylindrical shape of 1.6 [mm], the shaded circles represent unstable magnetic resistance. It is a region that shows changes and is a region that cannot be trusted as a sensor.

【0022】従って、検出感度を上げるためには、この
2つのピーク位置に合うように磁気抵抗素子を中空状の
磁石に配置すると良い。図1あるいは図2におけるバイ
アス磁石3の3a、3bはこれらのピーク位置に合うよ
うに磁気抵抗素子を配置した場合を示すものである。実
際にはエアギャップによりピークがシフトするのでエア
ギャップに合わせた磁気抵抗素子の配置、すなわち図6
〜図15に示すように、ピーク位置は磁石により多少異
なるため、使用する磁石により調整する必要がある。ま
た、合わすピーク位置を第1のピークにした場合には、
感度を最も良くすることができるとともに、磁気抵抗素
子を磁石内に配置できるため、センサ自体を小型化する
こともできるという優れた効果を有する。
Therefore, in order to improve the detection sensitivity, it is preferable to dispose the magnetoresistive element in the hollow magnet so as to match the two peak positions. Bias magnets 3a and 3b in FIG. 1 or 2 show the case where the magnetoresistive elements are arranged so as to match these peak positions. Actually, since the peak is shifted by the air gap, the arrangement of the magnetoresistive elements according to the air gap, that is, FIG.
As shown in FIG. 15, since the peak position is slightly different depending on the magnet, it is necessary to adjust the peak position depending on the magnet used. When the peak position to be combined is set to the first peak,
Since the sensitivity can be maximized and the magnetoresistive element can be arranged in the magnet, the sensor itself can be downsized.

【0023】また、中空形状の開口領域の大きさの違い
は抵抗変化率の大きさの違いとなって表れた。すなわ
ち、図6〜図15により中空形状の開口領域の小さいほ
うが大きい抵抗変化率を得られることがわかる。図16
(a),(b)には抵抗変化率が0.2%以上であって
かつ波形割れも起こさない領域をエアギャップAGの違
いにて示した。この図の(a)は図6〜図10のデー
タ、(b)は図11〜図15のデータから得たものであ
る。図中斜線で示される領域は全てのエアギャップに対
して感度が0.2%以上得られる領域であり、これは
(a),(b)両図において言えることである。すなわ
ち、M−M距離が0〔mm〕から+0.3〔mm〕付近
となるようにすればエアギャップが1.1〔mm〕〜
3.1〔mm〕の範囲であれば確実に検出することがで
きる領域となる。磁気抵抗素子をこの領域に設定するこ
とは、エアギャップ管理の難しい場合には非常に有効な
手段となる。すなわち、上記説明したように最大抵抗変
化率領域に磁気抵抗素子を配置するためには、第1のピ
ークに合わせるように配置する必要がある。またピーク
位置に磁気抵抗素子を配置するためには、エアギャップ
も管理する必要があり、そうした場合には図6、図7あ
るいは図11に示されるようにエアギャップが小さい場
合には磁気抵抗素子の取り付け位置によっては不安定な
出力となる領域に入ってしまい、抵抗変化を安定して検
出できない場合がでてくる。従って、磁気抵抗素子を上
記第2のピークの領域に合わせ、かつ上記範囲に配置す
れば、確実に安定した出力を得ることができるようにな
る。
Further, the difference in the size of the hollow-shaped opening region appears as the difference in the rate of change in resistance. That is, it can be seen from FIGS. 6 to 15 that the smaller the hollow opening area, the larger the rate of resistance change. FIG.
In (a) and (b), the region where the resistance change rate is 0.2% or more and no waveform crack occurs is shown by the difference in the air gap AG. (A) of this figure is obtained from the data of FIGS. 6 to 10, and (b) is obtained from the data of FIGS. 11 to 15. The shaded area in the figure is the area in which the sensitivity is 0.2% or more for all air gaps, and this can be said in both figures (a) and (b). That is, if the MM distance is set from 0 [mm] to around +0.3 [mm], the air gap is 1.1 [mm] to
A range of 3.1 [mm] is a region that can be reliably detected. Setting the magnetoresistive element in this region is a very effective means when air gap management is difficult. That is, as described above, in order to arrange the magnetoresistive element in the maximum resistance change rate region, it is necessary to arrange it so as to match the first peak. In addition, in order to arrange the magnetoresistive element at the peak position, it is necessary to manage the air gap as well. In such a case, as shown in FIG. 6, FIG. 7 or FIG. Depending on the mounting position of, the output may enter an unstable output area and the resistance change may not be detected stably. Therefore, if the magnetoresistive element is aligned with the area of the second peak and arranged in the above range, it is possible to surely obtain a stable output.

【0024】以上詳述したように、本実施例による磁気
検出装置では、磁気抵抗素子7,8とバイアス磁石3と
の距離を適切な位置に配置することにより、磁気抵抗素
子の感度低下を極力抑えることができる。また、バイア
ス磁界とでなす角度が略45度となるように磁気抵抗素
子7,8を設置すると、出力波形の波形割れをも確実に
なくすことができる。
As described above in detail, in the magnetic detection device according to the present embodiment, the sensitivity of the magnetoresistive element is reduced as much as possible by disposing the distance between the magnetoresistive elements 7 and 8 and the bias magnet 3 at an appropriate position. Can be suppressed. Further, when the magnetoresistive elements 7 and 8 are installed so that the angle formed by the bias magnetic field is approximately 45 degrees, it is possible to surely eliminate the waveform crack of the output waveform.

【0025】尚、上記磁気抵抗素子は略45度となるよ
うに配置されなくてもよく、また抵抗変化を示す磁気抵
抗素子が1つであってもよい。 (第2実施例)次に、図6〜図15に示されるようなピ
ーク位置に磁気抵抗素子を容易に配置できる一例を以下
に示す。
The magnetoresistive element does not have to be arranged at an angle of about 45 degrees, and only one magnetoresistive element may exhibit resistance change. (Second Embodiment) Next, an example in which the magnetoresistive element can be easily arranged at the peak position as shown in FIGS. 6 to 15 is shown below.

【0026】図17には本実施例の磁気回転検出装置の
概略図を示すとともに、図18に図17のC矢視図を示
す。又、図19に図17のD矢視図を示す。本実施例で
は、バイアス磁石16に貫通孔17を設け、モールド材
18をこの貫通孔17に挿入するとともに、モールド材
18を貫通孔17に挿入する際に、磁気抵抗素子19が
バイアス磁石16の着磁面から突出する位置にて停止す
るように貫通孔17及びモールド材18にテーパ状の段
差を付けたものである。つまり、第1実施例ではモール
ド材2を貫通孔4に挿入し、所定の位置でモールド材2
と磁石3とを接着していたが、本実施例では貫通孔17
及びモールド材18の段差により位置決めを行ってい
る。
FIG. 17 shows a schematic view of the magnetic rotation detecting apparatus of this embodiment, and FIG. 18 shows a view taken in the direction of arrow C in FIG. Further, FIG. 19 shows a view taken in the direction of arrow D in FIG. In this embodiment, a through hole 17 is provided in the bias magnet 16, a molding material 18 is inserted into the through hole 17, and at the time of inserting the molding material 18 into the through hole 17, the magnetoresistive element 19 serves as the bias magnet 16. The through hole 17 and the molding material 18 are provided with a tapered step so as to stop at a position protruding from the magnetized surface. That is, in the first embodiment, the molding material 2 is inserted into the through hole 4 and is placed at a predetermined position.
Although the magnet 3 and the magnet 3 are adhered to each other, the through hole 17 is used in this embodiment.
Positioning is performed by the steps of the molding material 18.

【0027】図20にはバイアス磁石16の断面図を示
し、図21にはモールド材18の平面図を示し、図22
にはモールド材18の側面図を示す。図20に示すよう
に、バイアス磁石16には貫通孔17が形成され、この
貫通孔17は先端部が細く後端部が太く形成されてい
る。すなわち、貫通孔17に嵌合部となる段差17a,
17bを設けている。又、図22,23に示すように、
モールド材18は先端部が細く後端部が太く形成されて
いる。すなわち、モールド材18に嵌合部となる段差1
8a,18bを設けている。そして、バイアス磁石16
の貫通孔17にモールド材18を差し込んで挿入してい
き、貫通孔17の段差部とモールド材18のそれぞれの
段差部17a,bおよび18a,bが当接する箇所で位
置決めが行われる。
FIG. 20 shows a sectional view of the bias magnet 16, FIG. 21 shows a plan view of the molding material 18, and FIG.
A side view of the molding material 18 is shown in FIG. As shown in FIG. 20, a through hole 17 is formed in the bias magnet 16, and the through hole 17 has a thin leading end and a thick rear end. That is, the step 17a serving as a fitting portion in the through hole 17,
17b is provided. Also, as shown in FIGS.
The molding material 18 has a thin front end and a thick rear end. That is, the step 1 that becomes the fitting portion on the molding material 18
8a and 18b are provided. And the bias magnet 16
The molding material 18 is inserted into the through hole 17 and inserted, and the positioning is performed at the position where the stepped portion of the through hole 17 and the stepped portion 17a, b and 18a, b of the molding material 18 abut.

【0028】このように、モールド材18を貫通孔17
に挿入する際に、磁気抵抗素子19がバイアス磁石16
の着磁面から突出する位置にて停止するように貫通孔1
7及びモールド材18に段差を付けた。よって、モール
ド材18を貫通孔17に挿入するだけでセンサ素子(磁
気抵抗素子19)とバイアス磁石16の位置関係を容易
に管理することができる。又、モールド材18、磁石1
6は共に型成形で製造できるため、量産時にセンサ素子
(磁気抵抗素子19)とバイアス磁石16の位置が管理
しやすく、又、安定してセンサ素子(磁気抵抗素子1
9)とバイアス磁石16の位置関係を得ることができ
る。
In this way, the molding material 18 is inserted into the through hole 17
When the magnetic resistance element 19 is inserted into the bias magnet 16
Through hole 1 so that it stops at the position protruding from the magnetized surface of
7 and the molding material 18 were stepped. Therefore, the positional relationship between the sensor element (magnetoresistive element 19) and the bias magnet 16 can be easily managed only by inserting the molding material 18 into the through hole 17. Also, the molding material 18 and the magnet 1
Since both 6 can be manufactured by molding, the positions of the sensor element (magnetoresistive element 19) and the bias magnet 16 can be easily controlled during mass production, and the sensor element (magnetoresistive element 1 can be stably operated.
The positional relationship between 9) and the bias magnet 16 can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例の磁気回転検出装置の概略構成図で
ある。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a magnetic rotation detection device according to a first embodiment.

【図2】磁気回転検出装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a magnetic rotation detection device.

【図3】図1のA矢視図である。FIG. 3 is a view on arrow A in FIG.

【図4】センサ素子の正面図である。FIG. 4 is a front view of a sensor element.

【図5】実験サンプルの磁気抵抗素子を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a magnetoresistive element of an experimental sample.

【図6】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図で
ある。
FIG. 6 is a relationship diagram between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図7】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図で
ある。
FIG. 7 is a relationship diagram between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of change in resistance.

【図8】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図で
ある。
FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図9】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図で
ある。
FIG. 9 is a relationship diagram between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図10】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図
である。
FIG. 10 is a relationship diagram between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図11】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図
である。
FIG. 11 is a relationship diagram between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図12】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図
である。
FIG. 12 is a relationship diagram between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図13】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図
である。
FIG. 13 is a relationship diagram between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図14】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図
である。
FIG. 14 is a diagram showing the relationship between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図15】磁気抵抗素子の配置と抵抗変化率との関係図
である。
FIG. 15 is a relationship diagram between the arrangement of magnetoresistive elements and the rate of resistance change.

【図16】(a)中空形状の開口領域の小さいエアギャ
ップと磁気抵抗素子の配置との関係図である。 (b)中空形状の開口領域の大きいエアギャップと磁気
抵抗素子の配置との関係図である。
FIG. 16 (a) is a diagram showing the relationship between the air gap having a small hollow opening area and the arrangement of magnetoresistive elements. (B) It is a relational diagram of the air gap with a large hollow-shaped opening area, and arrangement | positioning of a magnetoresistive element.

【図17】第2実施例の磁気回転検出装置の概略構成図
である。
FIG. 17 is a schematic configuration diagram of a magnetic rotation detection device according to a second embodiment.

【図18】図20のC矢視図である。FIG. 18 is a view on arrow C in FIG. 20.

【図19】図20のD矢視図である。FIG. 19 is a view on arrow D in FIG. 20.

【図20】バイアス磁石の断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view of a bias magnet.

【図21】モールド材の平面図である。FIG. 21 is a plan view of a molding material.

【図22】モールド材の正面図である。FIG. 22 is a front view of a molding material.

【図23】バイアス磁石の斜視図である。FIG. 23 is a perspective view of a bias magnet.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 モールド材 3 バイアス磁石 5 磁性材料を有する被検出対象としてのギア 7,8 磁気抵抗素子 3a,3b バイアス磁石3の磁気抵抗素子7,8に対
する表面位置
2 mold material 3 bias magnet 5 gear to be detected 7 having magnetic material 7, 8 magnetoresistive elements 3a, 3b surface position of bias magnet 3 with respect to magnetoresistive elements 7, 8

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊澤 一朗 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 日本電 装株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Ichiro Izawa 1-1-1, Showa-cho, Kariya city, Aichi prefecture Nihon Denso Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁性材料を有する被検出対象に向けてバ
イアス磁界を発生するバイアス磁石と、 前記被検出対象の運動に応じた前記バイアス磁界により
抵抗変化を生じる磁気抵抗素子とを備え、 前記磁気抵抗素子の抵抗値変化により前記バイアス磁界
の状態変化を検出するようにした磁気検出装置であっ
て、 前記バイアス磁石を中空形状とし、前記磁気抵抗素子を
この中空部を貫通するように配置し、かつ、前記磁気抵
抗素子の一部または丁度全体が前記バイアス磁石の中空
部から該バイアス磁石の前記被検出対象に対向する表面
へ突出するように配置したことを特徴とする磁気検出装
置。
1. A bias magnet that generates a bias magnetic field toward a detection target having a magnetic material; and a magnetoresistive element that causes a resistance change by the bias magnetic field according to the motion of the detection target. A magnetic detection device configured to detect a change in the state of the bias magnetic field by a change in the resistance value of a resistance element, wherein the bias magnet has a hollow shape, and the magnetic resistance element is arranged so as to penetrate the hollow portion, Further, the magnetic detection device is arranged such that a part or just the whole of the magnetoresistive element is projected from a hollow portion of the bias magnet to a surface of the bias magnet facing the object to be detected.
【請求項2】 磁性材料を有する被検出対象に向けてバ
イアス磁界を発生するバイアス磁石と、 前記被検出対象の運動に応じた前記バイアス磁界により
抵抗変化を生じる磁気抵抗素子とを備え、 前記磁気抵抗素子の抵抗値変化により前記バイアス磁界
の状態変化を検出するようにした磁気検出装置であっ
て、 前記バイアス磁石を中空形状とし、前記磁気抵抗素子を
この中空部を貫通するように配置し、かつ、前記磁気抵
抗素子全体が前記バイアス磁石の前記被検出対象に対向
する表面から該バイアス磁石の中空部へ没入するように
配置したことを特徴とする磁気検出装置。
2. A bias magnet that generates a bias magnetic field toward a detection target having a magnetic material, and a magnetoresistive element that causes a resistance change by the bias magnetic field according to the motion of the detection target. A magnetic detection device configured to detect a change in the state of the bias magnetic field by a change in the resistance value of a resistance element, wherein the bias magnet has a hollow shape, and the magnetic resistance element is arranged so as to penetrate the hollow portion, Moreover, the magnetic detection device is arranged so that the entire magnetoresistive element is immersed in the hollow portion of the bias magnet from the surface of the bias magnet facing the detection target.
【請求項3】 前記磁気抵抗素子は、前記バイアス磁石
の中空部の中空方向とでなす角度が略45°となるよう
にパターニングされた少なくとも1つのパターンを有す
るものであることを特徴とする請求項1または2に記載
の磁気検出装置。
3. The magnetoresistive element has at least one pattern that is patterned so that an angle formed by the hollow portion of the bias magnet and the hollow direction is approximately 45 °. Item 1. The magnetic detection device according to Item 1 or 2.
【請求項4】 前記磁気抵抗素子を保護する保護部材を
有し、該保護部材と中空部を有する前記バイアス磁石と
は互いに嵌合される嵌合部を有することを特徴とする請
求項1乃至3のいずれかに記載の磁気検出装置。
4. A protective member for protecting the magnetoresistive element, and the protective member and the bias magnet having a hollow portion have fitting portions that are fitted to each other. 3. The magnetic detection device according to any one of 3.
JP06126411A 1994-06-08 1994-06-08 Magnetic detector Expired - Lifetime JP3102268B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06126411A JP3102268B2 (en) 1994-06-08 1994-06-08 Magnetic detector

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06126411A JP3102268B2 (en) 1994-06-08 1994-06-08 Magnetic detector

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07333236A true JPH07333236A (en) 1995-12-22
JP3102268B2 JP3102268B2 (en) 2000-10-23

Family

ID=14934501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP06126411A Expired - Lifetime JP3102268B2 (en) 1994-06-08 1994-06-08 Magnetic detector

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3102268B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7141966B2 (en) 2004-07-01 2006-11-28 Denso Corporation Rotation detecting apparatus
JP2006329882A (en) * 2005-05-27 2006-12-07 Denso Corp Method for regulating magnetic characteristic of magnet apparatus
CN100343674C (en) * 2004-07-01 2007-10-17 株式会社电装 Rotation detecting apparatus
JP2007303891A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Denso Corp Magnetometric sensor
US7355388B2 (en) 2005-04-21 2008-04-08 Denso Corporation Rotation detecting device using magnetic sensor
US7408344B2 (en) 2005-11-28 2008-08-05 Denso Corporation Magnetic sensor
JP2019120542A (en) * 2017-12-28 2019-07-22 株式会社東海理化電機製作所 Magnetic sensor device and magnetic substance
JP2020122721A (en) * 2019-01-31 2020-08-13 株式会社デンソー Position sensor
US10838022B2 (en) 2017-09-01 2020-11-17 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Rotational manipulation detector and lens barrel

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4539521B2 (en) * 2005-10-11 2010-09-08 株式会社デンソー Rotation detector

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7141966B2 (en) 2004-07-01 2006-11-28 Denso Corporation Rotation detecting apparatus
CN100343674C (en) * 2004-07-01 2007-10-17 株式会社电装 Rotation detecting apparatus
DE102005030856B4 (en) * 2004-07-01 2013-09-19 Denso Corporation Rotation detecting device
US7355388B2 (en) 2005-04-21 2008-04-08 Denso Corporation Rotation detecting device using magnetic sensor
JP2006329882A (en) * 2005-05-27 2006-12-07 Denso Corp Method for regulating magnetic characteristic of magnet apparatus
JP4677828B2 (en) * 2005-05-27 2011-04-27 株式会社デンソー Method for adjusting magnetic characteristics of magnet apparatus
US7408344B2 (en) 2005-11-28 2008-08-05 Denso Corporation Magnetic sensor
JP2007303891A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Denso Corp Magnetometric sensor
JP4577263B2 (en) * 2006-05-09 2010-11-10 株式会社デンソー Magnetic sensor
US10838022B2 (en) 2017-09-01 2020-11-17 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Rotational manipulation detector and lens barrel
JP2019120542A (en) * 2017-12-28 2019-07-22 株式会社東海理化電機製作所 Magnetic sensor device and magnetic substance
JP2020122721A (en) * 2019-01-31 2020-08-13 株式会社デンソー Position sensor

Also Published As

Publication number Publication date
JP3102268B2 (en) 2000-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5781005A (en) Hall-effect ferromagnetic-article-proximity sensor
US5814985A (en) Incremental sensor of speed and/or position for detecting low and null speeds
EP2525193B1 (en) Magnetic proximity sensor
US5596272A (en) Magnetic sensor with a beveled permanent magnet
US7229746B2 (en) Printed high strength permanent magnet targets for magnetic sensors
EP1907797B1 (en) Asymmetrical amr wheatstone bridge layout for position sensor
JP2898687B2 (en) Iron object proximity sensor
JP3065129B2 (en) Movable ferromagnetic element detection device
JPH0441921B2 (en)
US20030107366A1 (en) Sensor with off-axis magnet calibration
JPH07333236A (en) Magnetic detector
JP3170916B2 (en) Magnetic detector
JP3279241B2 (en) Rotation detection device
JP3233129B2 (en) Magnetic detector
JP3427489B2 (en) Position detection device
JP3341518B2 (en) Magnetic detector
JP3460424B2 (en) Magnetic sensor
JP3279240B2 (en) Rotation detection device
JPH06174490A (en) Magnetic detecting device
JP2831375B2 (en) Position detection device
RU2083992C1 (en) Device monitoring position of object made from magnetoconductive material
JP2513851Y2 (en) Rotation sensor
JP4415829B2 (en) Rotation detector
JP2018036140A (en) Magnetic sensor device
JP3559733B2 (en) Rotation detection device

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20000725

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090825

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100825

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100825

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110825

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120825

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130825

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term