JPH07312B2 - Recyclable mold and method for recycling the same - Google Patents

Recyclable mold and method for recycling the same

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、情報記録媒体用基板の成形に用いられる再生
可能な成形用型およびその再生方法に関するものであ
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a reproducible molding die used for molding an information recording medium substrate and a regenerating method thereof.

[従来の技術] 光記録媒体用基板はその情報記録面に案内溝、情報用ピ
ットなどの凹凸が形成されている。このような基板の形
成方法としては、基板が熱可塑性樹脂からなる場合には
インジェクション法や熱プレス法により原盤の案内溝を
転写する方法又は熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂からなる
透明樹脂板上に光硬化性樹脂組成物を塗布した後、原盤
を密着させて透明樹脂板側から輻射線(紫外線,X線等)
を一様に照射して該樹脂組成物を硬化させて型のパター
ンを透明樹脂板に転写する所謂2P法が知られている。し
かし、インジェクション法や熱プレス法によって得られ
る熱可塑性樹脂基板は成形の際の熱履歴による残留応力
や分子の配向により、成形後の基板のそりや光学的異方
性が生じたりするため光記録媒体用基板としては問題が
ある。また、2P法によって得られる基板は光硬化後の樹
脂内に未反応の重合開始剤や単量体が残留しやすく、そ
れらが光記録媒体の光記録層に悪影響を及ぼすことがよ
くある。
[Prior Art] A substrate for an optical recording medium has irregularities such as guide grooves and information pits formed on its information recording surface. As a method of forming such a substrate, when the substrate is made of a thermoplastic resin, a method of transferring the guide groove of the master by an injection method or a hot press method, or a transparent resin plate made of a thermosetting resin or a thermoplastic resin is used. After applying the photo-curable resin composition to the, the master plate is adhered and the radiation (UV, X-ray, etc.) from the transparent resin plate side
A so-called 2P method is known in which a pattern of a mold is transferred to a transparent resin plate by uniformly irradiating the resin composition to cure the resin composition. However, the thermoplastic resin substrate obtained by the injection method or the hot pressing method may cause warpage or optical anisotropy of the substrate after molding due to residual stress due to thermal history during molding and molecular orientation, which causes optical recording. There is a problem as a medium substrate. Further, in the substrate obtained by the 2P method, unreacted polymerization initiators and monomers are likely to remain in the resin after photocuring, which often adversely affects the optical recording layer of the optical recording medium.

これらの問題が生じない光記録媒体用基板の製造方法と
しては注型成形法が知られている。従来の注型成形にお
ける光記録媒体用基板の製造方法はガラス板又は金属板
などの基板の上にあらかじめ決められた案内溝やピット
のプレフォーマットパターンを凹凸状に形成して注型成
形用型とし、スペーサを介して、鏡面型として平滑なガ
ラス板を相対にして位置し注型成形の装置とする。この
装置に樹脂のモノマー又は溶剤を含んだプレポリマー等
を流し込み硬化させて光記録媒体用基板を得る。このよ
うにして得られる光記録媒体用基板はインジェクション
法、熱プレス法又は2P法に比較して成形時に圧力がほと
んど加わらない為、光学的異方性やそりが発生せず、2P
材のように記録層に悪影響を及ぼさないという特徴を有
する。
A cast molding method is known as a method for manufacturing a substrate for an optical recording medium that does not cause these problems. The conventional method for producing a substrate for an optical recording medium in cast molding is a mold for casting by forming a pre-format pattern of a predetermined guide groove or pit on a substrate such as a glass plate or a metal plate in an uneven shape. Then, a mirror-shaped smooth glass plate is positioned relative to the other through a spacer to form a casting molding apparatus. A resin monomer or a prepolymer containing a solvent is poured into this apparatus and cured to obtain an optical recording medium substrate. The substrate for an optical recording medium thus obtained has almost no pressure applied during molding as compared with the injection method, the hot pressing method or the 2P method, so that optical anisotropy or warpage does not occur,
It has a feature that it does not adversely affect the recording layer like a material.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、この注型成形法ではその成形用型の耐久
性が問題となる。即ち、成形用型にいくら離型性が良い
型材を使用していても、始めは優れた離型性を示すが20
〜50回位成形すると、その型汚れは無視できない量とな
り、プレフォーマット信号を損うようになる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, this casting molding method has a problem of durability of the molding die. That is, no matter how much mold releasability is used for the molding die, the mold releasability is excellent at the beginning.
Molding for about 50 times results in a non-negligible amount of mold contamination, which impairs the preformat signal.

従って、型の洗浄、クリーニングが必須となるが、その
洗浄によっても型を完全に元の状態に戻ることは非常に
難しく、どうしても取りきれないカス等が残ったり、シ
ミ状の汚点が残る。
Therefore, cleaning and cleaning of the mold are indispensable, but it is very difficult to completely return the mold to its original state even by the cleaning, and dusts and the like that cannot be completely removed remain or stain spots remain.

この様な型の汚れは、キャスティング(転写)基板にも
欠陥として転写され、結果的にはプレフォーマット信号
を損い、情報記録媒体の信頼性を低下させる問題があっ
た。
Such mold stains are also transferred to the casting (transfer) substrate as defects, and as a result, there is a problem that the preformat signal is lost and the reliability of the information recording medium is lowered.

本発明は、この様な従来の問題を解決するためになされ
たものであり、成形用型の汚れを容易に取り除き、型を
再生して使用することができる再生可能な成形用型およ
びその再生方法を提供することを目的とするものであ
る。
The present invention has been made to solve such conventional problems, and a recyclable molding die capable of easily removing stains from the molding die and reusing the die, and a reusable molding die thereof. It is intended to provide a method.

[問題点を解決するための手段] 即ち、本発明の第一の発明は、表面に凹凸プリフォーマ
ットパターンを有する成形用型の型表面に剥離可能なク
リーニング層を設けてなることを特徴とする再生可能な
成形用型である。
[Means for Solving the Problems] That is, the first invention of the present invention is characterized in that a peelable cleaning layer is provided on the mold surface of a molding mold having an uneven preformat pattern on the surface. Recyclable mold.

また、第二の発明は、表面に凹凸プリフォーマットパタ
ーンを有する成形用型の型表面に剥離可能なクリーニン
グ層を設け、該成形用型を用いて凹凸プリフォーマット
を有する情報記録媒体用基板を成形する方法において、
成形工程で成形用型の型表面に設けられたクリーニング
層に付着した残留物をクリーニング層と共に除去するこ
とを特徴とする成形用型の再生方法である。
The second invention provides a removable cleaning layer on the mold surface of a molding die having an uneven preformat pattern on the surface, and molds a substrate for an information recording medium having the uneven preformat using the molding die. In the way
A method for remanufacturing a molding die is characterized in that a residue attached to a cleaning layer provided on a surface of a molding die in a molding step is removed together with the cleaning layer.

以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明は、凹凸状に形成されたプリフォーマットパター
ンを有する成形用型の型表面の上に剥離可能なクリーニ
ング層を設けることにより、成形工程で生成した残留物
が付着して型が汚れた時、このクリーニング層と共に残
留物を除去する事により、容易に型表面の再生ができ、
型の耐久性を保持することを可能とするものである。
The present invention provides a releasable cleaning layer on the mold surface of a molding die having a pre-format pattern formed in a concavo-convex pattern so that the residue generated in the molding process adheres to the mold. By removing the residue with this cleaning layer, the mold surface can be easily regenerated,
It is possible to maintain the durability of the mold.

第1図および第2図は各々本発明の再生可能な成形用型
の実施態様を示す説明図である。第1図は型材を直接エ
ッチングして凹凸パターンを形成した成形用型1の上に
クリーニング層4が設けられた例を示す。
1 and 2 are explanatory views showing an embodiment of the reproducible molding die of the present invention. FIG. 1 shows an example in which a cleaning layer 4 is provided on a molding die 1 in which a mold material is directly etched to form an uneven pattern.

第2図は基板2の上にクロム等の金属膜をパターンエッ
チングしてパターン3を形成した成形用型1′の上にク
リーニング層4が設けられた例を示す。
FIG. 2 shows an example in which the cleaning layer 4 is provided on the molding die 1 ′ on which the pattern 3 is formed by pattern-etching a metal film such as chromium on the substrate 2.

クリーニング層としては、成形用型の型表面に密着性が
良く、型の形状によく適合して被覆するもので、かつ型
の再生時に容易に除去できるものが好ましい。その例を
示すと、クロム,アルミニウム,チタン,コバルト等の
金属膜、SiO,SiO2,Al2O3,ZrO3等の誘電体膜、アクリ
ル系,オレフィン系,エポキシ系等の有機薄膜等が好ま
しいが、必ずしもこれ等に限定されるものではない。
The cleaning layer is preferably one that has good adhesion to the mold surface of the molding mold and covers the mold in conformity with the shape of the mold and that can be easily removed when the mold is regenerated. Examples include metal films of chromium, aluminum, titanium, cobalt, etc., dielectric films of SiO, SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 3 , etc., organic thin films of acrylic, olefin, epoxy, etc. Although preferable, it is not necessarily limited to these.

これ等のクリーニング層は酸化、塩基、溶剤などのエッ
チャントによって容易に除去すうことができる。勿論、
この時、成形用型材とクリーニング層とを適宜選択して
使用することが望ましい。また、クリーニング層の膜厚
は材質により異なるが、通常10μm以下、好ましくは0.
3〜5μmが望ましい。
These cleaning layers can be easily removed by an etchant such as oxidation, base or solvent. Of course,
At this time, it is desirable to appropriately select and use the molding die material and the cleaning layer. Although the thickness of the cleaning layer varies depending on the material, it is usually 10 μm or less, preferably 0.
3 to 5 μm is desirable.

成形用型の型表面にクリーニング層を設ける方法は、蒸
着、スパッタ、プラズマ重合等の低圧での成膜法、ディ
ッピング、ロールコート等の塗付方法等により行なうこ
とができる。
The cleaning layer may be provided on the mold surface by a low-pressure film forming method such as vapor deposition, sputtering, plasma polymerization, or a coating method such as dipping or roll coating.

成形用型としては、ガラスやクロム等のバルク表面を直
接エッチングして凹凸を設けたものや、基板の上にクロ
ム、TiN等の薄膜を設け、これに凹凸パターンを形成す
る等の方法により作成したものを用いることができる。
As a molding die, it is created by directly etching the bulk surface of glass, chromium, etc. to provide unevenness, or by forming a thin film of chromium, TiN, etc. on the substrate and forming an uneven pattern on it. What was done can be used.

本発明においては、成形用型の型表面とクリーニング層
の間に保護層を設けることができる。第3図は、第2図
と同様な成形用型1′の上に保護層5を介してクリーニ
ング層4を設けた例を示す。保護層5を設けることによ
り、クリーニング層を除去する時のエッチヤントから型
材を保護することができる。
In the present invention, a protective layer may be provided between the mold surface of the molding die and the cleaning layer. FIG. 3 shows an example in which the cleaning layer 4 is provided on the molding die 1 ′ similar to that shown in FIG. 2 with the protective layer 5 interposed therebetween. By providing the protective layer 5, the mold material can be protected from the etchant when the cleaning layer is removed.

保護層としては、SiO,SiO2,Al2O3等の酸化物、Si3N4,T
iN,AlN等の窒化物、ZrC,SiC,TiC等の炭化物等を用いる
ことができる。
As the protective layer, oxides of SiO, SiO 2 , Al 2 O 3, etc., Si 3 N 4 , T
Nitride such as iN and AlN, and carbide such as ZrC, SiC and TiC can be used.

本発明においては、クリーニング層に付着した残留物を
成形用型からクリーニング層と共に除去した後、成形用
型の型表面に新しいクリーニング層を再び形成すること
ができる。
In the present invention, after removing the residue attached to the cleaning layer from the molding die together with the cleaning layer, a new cleaning layer can be formed again on the surface of the molding die.

[作用] 本発明の再生可能な成形用型は、表面に凹凸プリフォー
マットパターンを有する成形用型の型表面に剥離可能な
クリーニング層を設けてなるので、情報記録媒体用基板
の成形方法における成形工程で成形用型の型表面に付着
した残留物をクリーニング層を除去することにより、該
クリーニング層と共に残留物を除去することができる。
[Operation] Since the reproducible molding die of the present invention is provided with a releasable cleaning layer on the surface of the molding die having an uneven preformatted pattern on the surface, molding in the method for molding a substrate for information recording medium is performed. By removing the cleaning layer from the residue attached to the mold surface of the molding die in the step, the residue can be removed together with the cleaning layer.

[実施例] 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。[Examples] Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples.

実施例1 超硬金属基板上にTiNを厚さ1μmにてスパッターし、
これをドライエッチングしてコンプレッション用型を成
型した。この上にクロムを500Å厚に蒸着しクリーニン
グ層を形成した。
Example 1 TiN was sputtered on a cemented carbide substrate to a thickness of 1 μm,
This was dry-etched to mold a compression mold. Chromium was vapor-deposited on this to a thickness of 500 Å to form a cleaning layer.

この型を使ってアクリル基板のコンプレッション成形を
行い、型に汚れが見え始めた180回で成形を止め型の再
生を行った。
Using this mold, compression molding of an acrylic substrate was performed, and the molding was stopped 180 times when dirt began to appear on the mold, and the mold was regenerated.

再生はクロムのエッチング液(硝酸セリウム第二アンモ
ニウム:過塩素酸:水=17:5:20)を使用し、クリーニ
ング層のクロムを除去することにより、クリーニング層
上の汚れも一緒に取り除くことができた。
Regeneration uses a chromium etchant (cerium diammonium nitrate: perchloric acid: water = 17: 5: 20), and by removing chromium in the cleaning layer, dirt on the cleaning layer can also be removed. did it.

比較例1 実施例1と同様の型でクリーニング層を設けない型を用
いた場合に付着した汚れについてその洗浄法を検討し
た。
Comparative Example 1 A cleaning method was examined for stains attached when a mold similar to that of Example 1 was used without a cleaning layer.

実施例1と同様にコンプレッション成形を行ない、型に
生じた汚れを除去した。型の洗浄としては、プラズマ
アッシャー法、カーボン除去剤の浸漬等の方法を行な
ったが、どうしても取れない粒状の汚れが残り、またシ
ミの様な汚れはどうしても取れず、成形の回数を増すこ
とによりその汚れが核となり型の汚れの周期が短くな
り、結果的に型寿命は2000回弱となってしまった。
Compression molding was performed in the same manner as in Example 1 to remove stains generated on the mold. As the mold cleaning, a plasma asher method, a method of dipping a carbon removing agent, etc. was performed, but granular stains that could not be removed remained, and stains such as stains could not be removed by any means. The dirt becomes the nucleus, shortening the cycle of mold fouling, and as a result, the mold life was reduced to less than 2000 times.

これに対し、実施例1の場合、型の再生の後、再びクリ
ーニング層を設けることにより、(成形→再生→クリー
ニング層の設置)のサイクルで5000回以上の型寿命を得
ることができた。
On the other hand, in the case of Example 1, by providing the cleaning layer again after the mold was regenerated, it was possible to obtain a mold life of 5000 times or more in the cycle of (molding → regeneration → installing the cleaning layer).

実施例2 ガラス板(厚さ2.3/m)の上にクロムを厚さ3000Åに蒸
着し、これをフォトリソ工程によってパターニングしキ
ャステング型を作製した。この型に保護層として厚さ20
00〜3000ÅのSiO膜を蒸着し、この上にクリーニング層
としてクロムを500Åの厚さに蒸着した。この型でPMMA
のキャステング成形を行い、汚れの目立つ40回ごとに再
生を行った。再生は実施例1と同じクロムのエッチング
液で行った。
Example 2 Chromium was vapor-deposited to a thickness of 3000Å on a glass plate (thickness: 2.3 / m), and this was patterned by a photolithography process to produce a casting mold. This mold has a thickness of 20 as a protective layer
A SiO film of 00 to 3000 Å was vapor-deposited, and chromium was vapor-deposited on this as a cleaning layer to a thickness of 500 Å. PMMA with this type
Was casted and regenerated every 40 times when dirt was noticeable. Regeneration was performed using the same chromium etching solution as in Example 1.

(クリーニング層の設置→成形→再生)のサイクルを繰
りかえすことにより型寿命は1000回以上を得ることがで
きた。
By repeating the cycle (installation of cleaning layer → molding → regeneration), the mold life could be 1000 times or more.

比較例2 クリーニング層を設けない以外は実施例2と同じ型を使
用し、実施例2と同様の方法でキャステング成形を行な
ったところ、型寿命は〜500回位であった。
Comparative Example 2 Casting molding was performed in the same manner as in Example 2 using the same mold as in Example 2 except that the cleaning layer was not provided, and the mold life was about 500 times.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、コンプレッショ
ンやキャステング成形時に使用する成形用型の上に、剥
離可能なクリーニング層を設け、成形用型が汚染した際
にクリーニング層ごと剥離して型を再生することによ
り、 型の再生が容易である 型の維持が容易で耐久性を上げることができる 型がいつも同じ状態で維持できるので信頼性の高い基
板を提供できる 等の効果がある。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a releasable cleaning layer is provided on a molding die used for compression or casting, and each cleaning layer is provided when the molding die is contaminated. By peeling and regenerating the mold, it is easy to regenerate the mold. The mold can be maintained easily and the durability can be improved. Since the mold can always be maintained in the same state, it is possible to provide a highly reliable substrate. There is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第3図は各々本発明の再生可能な成形用型の実
施態様を示す説明図である。 1,1′……成形用型、2……基板 3……パターン、4……クリーニング層 5……保護層
1 to 3 are explanatory views showing an embodiment of a reproducible molding die of the present invention. 1,1 ′ …… Molding mold, 2 …… Substrate 3 …… Pattern, 4 …… Cleaning layer 5 …… Protective layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面に凹凸プリフォーマットパターンを有
する成形用型の型表面に剥離可能なクリーニング層を設
けてなることを特徴とする再生可能な成形用型。
1. A reproducible mold for molding, comprising a moldable mold having a concavo-convex preformat pattern on the surface of which a removable cleaning layer is provided.
【請求項2】表面に凹凸プリフォーマットパターンを有
する成形用型の型表面に剥離可能なクリーニング層を設
け、該成形用型を用いて凹凸プリフォーマットを有する
情報記録媒体用基板を成形する方法において、成形工程
で成形用型の型表面に設けられたクリーニング層に付着
した残留物をクリーニング層と共に除去することを特徴
とする成形用型の再生方法。
2. A method for forming a releasable cleaning layer on the surface of a molding die having an uneven preformat pattern on the surface and molding a substrate for an information recording medium having the uneven preformat using the molding die. A method for remanufacturing a molding die, characterized in that a residue attached to a cleaning layer provided on the mold surface of the molding die in the molding step is removed together with the cleaning layer.
【請求項3】クリーニング層を除去した後、再びクリー
ニング層を型表面に形成する特許請求の範囲第2項記載
の成形用型の再生方法。
3. The method for remanufacturing a molding die according to claim 2, wherein after the cleaning layer is removed, the cleaning layer is formed again on the surface of the die.
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