JPH07307222A - Laminated inductance component and manufacturing method - Google Patents

Laminated inductance component and manufacturing method

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JPH07307222A
JPH07307222A JP9853594A JP9853594A JPH07307222A JP H07307222 A JPH07307222 A JP H07307222A JP 9853594 A JP9853594 A JP 9853594A JP 9853594 A JP9853594 A JP 9853594A JP H07307222 A JPH07307222 A JP H07307222A
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JP
Japan
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layer
insulating layer
conductor
laminated
ceramic substrate
Prior art date
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Application number
JP9853594A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Ibata
昭彦 井端
Ryo Kimura
涼 木村
Akira Hashimoto
晃 橋本
Keigo Kodaira
恵吾 小平
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a thin laminated inductance component with good characteristics in inductance. CONSTITUTION:An insulating layer 4 is formed all over a ceramic board 1, and a base insulating layer 12 is deposited on the insulating layer 4. A lower- layer conductive layer 8 including a lower coil part 2 and a lower terminal part 3 is deposited on the base insulating layer 12. An intercoil insulating layer 6 having an opening part 5 is formed on the lower conductive layer 8. An upper- layer conductive layer 10 including an upper-layer coil part 7 and an upper-layer terminal part 9 is deposited on the intercoil insulating layer 6. A surface insulating layer 11 having an opening part 5 is deposited on the upper-layer conductive layer 10. The opening parts 5 in the intercoil insulating layer 6 and the surface insulating layer 11 are formed zigzag respectively. At the same time, the lower- layer terminal part 3 is connected to the upper-layer terminal part 3 through the opening part 5.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、セラミック基板を有す
る薄型の積層インダクタンス部品およびそのの製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin laminated inductance component having a ceramic substrate and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下、従来の積層インダクタンス部品に
ついて説明する。
2. Description of the Related Art A conventional laminated inductance component will be described below.

【0003】従来の積層インダクタンス部品は、特開昭
55−91103号公報に記載されているように、磁性
体薄板表面に電気絶縁体層を形成した上で、導電パター
ンを形成することにより、磁性体として任意の焼成フェ
ライトの使用を可能にし、アルミニウム等の平坦な表面
にマイラー等の支持体を張り、その上にフェライト粉末
から構成される磁性体を印刷し、この磁性体の全面にガ
ラス粉末から構成される絶縁体を印刷し、この絶縁層を
有する磁性体の表面に導電パターンを印刷した構成であ
り、回路基板上に直接インダクタを形成するものであ
る。
As described in Japanese Patent Laid-Open No. 55-91103, a conventional laminated inductance component is formed by forming an electrically insulating layer on the surface of a magnetic thin plate and then forming a conductive pattern to make it magnetic. Allows the use of any calcined ferrite as a body, puts a support such as Mylar on a flat surface of aluminum, etc., prints a magnetic substance composed of ferrite powder on it, and glass powder on the entire surface of this magnetic substance This is a structure in which an insulating material composed of is printed and a conductive pattern is printed on the surface of a magnetic material having this insulating layer, and an inductor is directly formed on a circuit board.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、磁性体と導体層とを同時焼成するので、十
分な磁気特性を確保するには、非常に高抵抗の磁性体を
用いる必要があり、また回路基板上に直接インダクタを
形成すると、回路基板とインダクタとの接合が不十分あ
るいはインダクタの特性が劣化するという問題点を有し
ていた。
However, in the above-mentioned conventional structure, since the magnetic material and the conductor layer are simultaneously fired, it is necessary to use a magnetic material having a very high resistance in order to secure sufficient magnetic characteristics. Further, when the inductor is directly formed on the circuit board, there is a problem that the connection between the circuit board and the inductor is insufficient or the characteristics of the inductor are deteriorated.

【0005】本発明は上記問題点を解決するもので、イ
ンダクタの特性が優れ、薄型の積層インダクタンス部品
を提供することを目的とする。
The present invention solves the above problems, and an object of the present invention is to provide a thin laminated inductance component having excellent inductor characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、少なくとも1ターン以上のコイル部と端子
部とを備えた導体層と、結晶化ガラスと低融点ガラスか
らなる絶縁層とをセラミック基板上において積層すると
ともに、前記導体層の端子部は、上下の絶縁層に千鳥状
に設けた開口部を介して接続したものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a conductor layer having at least one turn of a coil portion and a terminal portion, and an insulating layer made of crystallized glass and low melting point glass. Are laminated on a ceramic substrate, and the terminal portions of the conductor layer are connected to the upper and lower insulating layers through openings formed in a zigzag pattern.

【0007】[0007]

【作用】上記構成により、絶縁層が結晶化ガラスと低融
点ガラスからなるので、熱的に非常に安定であり、セラ
ミック基板と熱的な整合性が非常に優れるとともに、温
度変化に対しても導体の熱膨張の差を緩衝することがで
きる。また、導体層がコイル部と端子部とからなるの
で、インダクタンスはコイル部で得られ、磁気的な相互
干渉が少なく、優れた特性を得ることができる。さら
に、絶縁層の開口部を、上下で千鳥状にしているので、
導体の体積を必要最低限にでき、導体材料の使用を極力
低減できるとともに、導体層の端子部近傍において絶縁
層と導体層との熱膨張の差を吸収し、マイクロクラック
発生防止を行うことができる。
With the above structure, since the insulating layer is made of crystallized glass and low melting point glass, it is very stable thermally, has excellent thermal compatibility with the ceramic substrate, and is resistant to temperature changes. The difference in thermal expansion of the conductor can be buffered. Further, since the conductor layer is composed of the coil portion and the terminal portion, the inductance is obtained in the coil portion, magnetic mutual interference is small, and excellent characteristics can be obtained. Furthermore, because the openings of the insulating layer are staggered at the top and bottom,
The volume of the conductor can be minimized, the use of the conductor material can be reduced as much as possible, and the difference in thermal expansion between the insulating layer and the conductor layer near the terminal of the conductor layer can be absorbed to prevent the occurrence of microcracks. it can.

【0008】[0008]

【実施例】【Example】

(実施例1)以下、本発明の第1の実施例について図面
を参照しながら説明する。
(Embodiment 1) Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0009】図1、図3に示すように、本実施例におけ
る積層インダクタンス部品は、セラミック基板1上に全
面絶縁層4を積層し、この全面絶縁層4上に基板絶縁層
12を積層し、この基板絶縁層12上に下層コイル部2
と下層端子部3とを備えた下層導体層8を積層し、この
下層導体層8上に開口部5を備えたコイル間絶縁層6を
積層し、このコイル間絶縁層6上に上層コイル部7と上
層端子部9とを備えた上層導体層10を積層し、この上
層導体層10上に開口部5を備えた表面絶縁層11を積
層しており、コイル間絶縁層6と表面絶縁層11とにお
いて上、下の開口部5を千鳥状に有するとともに、下層
端子部3と上層端子部9を開口部5から引き出すように
した構成である。
As shown in FIGS. 1 and 3, in the laminated inductance component of this embodiment, the whole surface insulating layer 4 is laminated on the ceramic substrate 1, and the board insulating layer 12 is laminated on the whole surface insulating layer 4. The lower coil portion 2 is formed on the substrate insulating layer 12.
And a lower-layer terminal portion 3 are laminated on the lower-layer conductor layer 8, an inter-coil insulating layer 6 having an opening 5 is laminated on the lower-layer conductor layer 8, and an upper-layer coil portion is formed on the inter-coil insulating layer 6. 7 and the upper conductor layer 10 including the upper terminal portion 9 are laminated, and the surface insulating layer 11 including the opening 5 is laminated on the upper conductor layer 10, and the inter-coil insulating layer 6 and the surface insulating layer are laminated. 11, the upper and lower openings 5 are arranged in a staggered manner, and the lower layer terminal portion 3 and the upper layer terminal portion 9 are drawn out from the opening 5.

【0010】以下、その形成方法について説明する。酸
化マグネシウム−酸化ホウ素−酸化珪素系の結晶化ガラ
スを80gと低融点ガラス(ほう珪酸鉛系ガラス)を2
0gとを混合して絶縁材料を作製した。この絶縁材料を
100gに対して、α−テルピネオールおよびエチルセ
ルロースを質量比で100:6で混合したもの(以下ビ
ヒクルと略す)を26g加えて混合した後、3本ロール
を用いて混練して絶縁ペーストを作製した。結晶化ガラ
スの結晶化温度は780℃であり、低融点ガラスの軟化
点は600℃である。さらに銀の粉末を30gとビヒク
ルを8gとを用いて同様に銀ペーストを作製した。これ
らのペーストを用い、スクリーン印刷法で縦および横が
100mmで厚みが1mmのニッケル亜鉛系のフェライトか
らなるセラミック基板1上に図3(a)に示した全面絶
縁層4を絶縁ペーストを用いて印刷した。この全面絶縁
層4上に図3(b)に示した基板絶縁層12を絶縁ペー
ストを用いて印刷した。次に図3(c)に示した下層導
体層8の下層コイル部2を銀ペーストを用いて、図3
(d)に示した開口部5を備えたコイル間絶縁層6を絶
縁ペーストを用いて印刷した。さらに図3(e)に示し
た上層導体層10の上層コイル部7を銀ペーストで、図
3(f)に示した開口部5を備えた表面絶縁層11を絶
縁ペーストを用いて、順次印刷してコイルを形成した。
印刷後の乾燥温度は150℃である。各絶縁層は3回の
印刷で、各導体層は1回の印刷で形成した。なお印刷に
用いた版はステンレス製で200メッシュである。この
フェライトからなるセラミック基板1を大気中におい
て、850℃で10分間保持した後、冷却する条件で焼
成した。前述した操作を5回繰り返してコイル層を積層
した。
The method of forming the same will be described below. 80 g of magnesium oxide-boron oxide-silicon oxide type crystallized glass and 2 g of low melting point glass (lead borosilicate type glass)
0 g was mixed to prepare an insulating material. To 100 g of this insulating material, 26 g of a mixture of α-terpineol and ethyl cellulose at a mass ratio of 100: 6 (hereinafter abbreviated as vehicle) was added and mixed, and then kneaded with a three-roll to produce an insulating paste. Was produced. The crystallization temperature of the crystallized glass is 780 ° C., and the softening point of the low melting point glass is 600 ° C. Furthermore, a silver paste was similarly prepared using 30 g of silver powder and 8 g of vehicle. Using these pastes, the whole surface insulating layer 4 shown in FIG. 3 (a) was formed on the ceramic substrate 1 made of nickel-zinc ferrite having a length and width of 100 mm and a thickness of 1 mm by screen printing. Printed. The substrate insulating layer 12 shown in FIG. 3B was printed on the entire surface insulating layer 4 using an insulating paste. Next, the lower coil portion 2 of the lower conductor layer 8 shown in FIG.
The inter-coil insulating layer 6 having the openings 5 shown in (d) was printed using an insulating paste. Further, the upper coil portion 7 of the upper conductor layer 10 shown in FIG. 3E is printed with silver paste, and the surface insulating layer 11 having the openings 5 shown in FIG. 3F is printed with insulating paste. To form a coil.
The drying temperature after printing is 150 ° C. Each insulating layer was formed by printing three times, and each conductor layer was formed by printing once. The plate used for printing is made of stainless steel and has 200 mesh. The ceramic substrate 1 made of this ferrite was held in the atmosphere at 850 ° C. for 10 minutes and then fired under the cooling condition. The above operation was repeated 5 times to laminate the coil layers.

【0011】さらに、図示していないが、このコイル層
上と裏面のフェライトからなるセラミック基板1上に導
体2層の配線層を形成した。まず、導体層を印刷し、さ
らに絶縁層を印刷した後、大気中において850℃で1
0分間保持する条件で焼成した。次に、その上に導体層
を印刷し、大気中において850℃で10分間保持する
条件で焼成した。最後に550℃焼成の絶縁ペーストを
用いて絶縁層を印刷し、大気中において550℃で10
分間保持する条件で焼成した。以上の操作で表面と裏面
に配線層を形成した。
Although not shown, two conductor wiring layers were formed on the coil layer and on the ceramic substrate 1 made of ferrite on the back surface. First, the conductor layer is printed, and then the insulating layer is printed.
It was fired under the condition of holding for 0 minutes. Next, a conductor layer was printed thereon and fired under the condition of holding at 850 ° C. for 10 minutes in the atmosphere. Finally, an insulating layer was printed using an insulating paste baked at 550 ° C.
Firing was performed under the condition of holding for a minute. Wiring layers were formed on the front and back surfaces by the above operation.

【0012】最終的には表面には導体12層、裏面には
導体2層からなる配線層を形成し、このコイル層と配線
層の厚みは0.9mmであった。
Finally, a wiring layer consisting of 12 conductor layers on the front surface and 2 conductor layers on the back surface was formed, and the thickness of the coil layer and the wiring layer was 0.9 mm.

【0013】このように第1の実施例によれば、絶縁層
6が結晶化ガラスと低融点ガラスからなるので、熱的に
非常に安定であり、セラミック基板1と熱的な整合性が
非常に優れるとともに、温度変化に対しても導体の熱膨
張の差を緩衝することができる。また、導体層8,10
がコイル部2,7と端子部3,9とからなるので、イン
ダクタンスはコイル部で得られ、磁気的な相互干渉が少
なく、優れた特性を得ることができる。さらに、絶縁層
の開口部5を上、下で千鳥状にしているので、導体の体
積を必要最低限にでき、導体材料の使用を極力低減でき
るとともに、導体層8,10の端子部3,9近傍におい
て絶縁層6と導体層8,10との熱膨張の差を吸収し、
マイクロクラック発生防止を行うことができる。
As described above, according to the first embodiment, since the insulating layer 6 is made of crystallized glass and low melting point glass, it is very stable thermally and has a very good thermal matching with the ceramic substrate 1. In addition to being excellent, it is possible to buffer the difference in thermal expansion of the conductor even when the temperature changes. In addition, the conductor layers 8 and 10
Is composed of the coil portions 2 and 7 and the terminal portions 3 and 9, the inductance can be obtained in the coil portion, the magnetic mutual interference is small, and excellent characteristics can be obtained. Furthermore, since the openings 5 of the insulating layer are staggered above and below, the volume of the conductor can be minimized, the use of the conductor material can be reduced as much as possible, and the terminal portions 3 of the conductor layers 8 and 10 can be reduced. Absorbing the difference in thermal expansion between the insulating layer 6 and the conductor layers 8 and 10 in the vicinity of 9,
It is possible to prevent the generation of microcracks.

【0014】なお、セラミック基板1の材料としてフェ
ライトを用いることにより、基板が磁気回路の一部を構
成するので、磁気シールドを構成するとともに、インダ
クタンス部品をより薄型化することができる。
By using ferrite as the material of the ceramic substrate 1, the substrate forms a part of the magnetic circuit, so that the magnetic shield can be formed and the inductance component can be made thinner.

【0015】(実施例2)以下、本発明の第2の実施例
について図面を参照しながら説明する。
(Second Embodiment) A second embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】図2、図4に示すように、本実施例におけ
る積層インダクタンス部品は、実施例1の構成と大略は
同等であり、コイル間絶縁層6、表面絶縁層11、基板
絶縁層12と下層導体層8、上層導体層10との同一箇
所に開口部13を設け、セラミック基板1を露出させる
開口窓13を有した構成であり、この開口窓13にはE
型コアを挿入することができる。
As shown in FIGS. 2 and 4, the laminated inductance component in this embodiment has substantially the same structure as that of the first embodiment, and includes the inter-coil insulating layer 6, the surface insulating layer 11, and the substrate insulating layer 12. The lower conductor layer 8 and the upper conductor layer 10 are provided with an opening 13 at the same position, and an opening window 13 for exposing the ceramic substrate 1 is provided.
A mold core can be inserted.

【0017】以下、その形成方法について説明する。酸
化マグネシウム−酸化ホウ素−酸化珪素系の結晶化ガラ
スを80gとジルコン粉末を10gと低融点ガラスを1
0gとを混合し絶縁材料を作製した。この絶縁材料を実
施例1と同様の方法で絶縁ペーストにした。結晶化ガラ
スの結晶化温度は750℃であり、低融点ガラスの軟化
点は530℃である。この絶縁ペーストと実施例1で作
製した銀ペーストを用い、図4に示した各種パターンを
用いて実施例1と同様にスクリーン印刷法でフェライト
からなるセラミック基板1上にコイル層を形成した。こ
のフェライトからなるセラミック基板1を大気中におい
て、850℃で10分間保持した後、冷却する条件で焼
成した。前述した操作を5回繰り返してコイル層を積層
した。
The method for forming the same will be described below. 80 g of magnesium oxide-boron oxide-silicon oxide based crystallized glass, 10 g of zircon powder and 1 low melting point glass.
0 g was mixed to prepare an insulating material. This insulating material was made into an insulating paste in the same manner as in Example 1. The crystallization temperature of the crystallized glass is 750 ° C, and the softening point of the low melting point glass is 530 ° C. Using this insulating paste and the silver paste produced in Example 1, a coil layer was formed on the ceramic substrate 1 made of ferrite by screen printing in the same manner as in Example 1 using the various patterns shown in FIG. The ceramic substrate 1 made of this ferrite was held in the atmosphere at 850 ° C. for 10 minutes and then fired under the cooling condition. The above operation was repeated 5 times to laminate the coil layers.

【0018】さらに、実施例1と同様にコイル層上と裏
面のフェライト基板上に導体2層の配線層を形成した。
Further, as in Example 1, two wiring layers of conductors were formed on the coil layer and the ferrite substrate on the back surface.

【0019】最終的には実施例1と同様に表面に導体1
2層、裏面に導体2層の配線層を形成し、コイル層と配
線層の厚みは0.9mmであった。さらに、配線層を全く
印刷しない窓も印刷時の形状を維持しており、フェライ
トからなるセラミック基板1の一部が露出した形状に配
線層を形成することができた。
Finally, the conductor 1 is formed on the surface in the same manner as in the first embodiment.
Two conductor layers were formed on the back and two conductor layers, and the coil layer and the wiring layer had a thickness of 0.9 mm. Further, the window in which no wiring layer is printed at all maintained the shape at the time of printing, and the wiring layer could be formed in a shape in which part of the ceramic substrate 1 made of ferrite was exposed.

【0020】このように第2の実施例によれば、第1の
実施例の効果に加え、絶縁層の開口窓13にフェライト
焼結体のE型コアを挿入することにより、インダクタン
ス部品をより薄型で優れた特性とすることができる。
As described above, according to the second embodiment, in addition to the effect of the first embodiment, by inserting the E-shaped core of the ferrite sintered body into the opening window 13 of the insulating layer, the inductance component can be further improved. It can be thin and have excellent characteristics.

【0021】(実施例3)以下、本発明の第3の実施例
について説明する。
(Embodiment 3) A third embodiment of the present invention will be described below.

【0022】本実施例における積層インダクタンス部品
は、実施例2の構成と大略は同等であり、セラミック基
板1を露出させる開口窓13にE型コアを挿入し、I型
コアを張り合わせた構成である。
The laminated inductance component in this embodiment is almost the same as the constitution of the embodiment 2 and has a constitution in which an E type core is inserted into an opening window 13 exposing the ceramic substrate 1 and an I type core is bonded. .

【0023】以下、その形成方法について説明する。酸
化マグネシウム−酸化ホウ素−酸化珪素系の結晶化ガラ
ス30gとアルミナ粉末を30gと珪酸ガラスを10g
と低融点ガラスを30gとを混合した絶縁材料を用いて
実施例1と同様に絶縁ペーストを作製し、スクリーン印
刷法でアルミナからなるセラミック基板1上に図4に示
したパターンを用いてコイル層を形成した。
The method for forming the same will be described below. Magnesium oxide-boron oxide-silicon oxide based crystallized glass 30 g, alumina powder 30 g, and silicate glass 10 g
An insulating paste was prepared in the same manner as in Example 1 by using an insulating material in which a low melting point glass was mixed with 30 g, and a coil layer was formed on the ceramic substrate 1 made of alumina by screen printing using the pattern shown in FIG. Was formed.

【0024】このアルミナ基板を大気中において、85
0℃で10分間保持した後、冷却する条件で焼成した。
この操作を5回繰り返してコイル層を積層した。
This alumina substrate was exposed to 85% air.
After holding at 0 ° C. for 10 minutes, firing was performed under cooling conditions.
This operation was repeated 5 times to laminate the coil layers.

【0025】さらに、実施例2と同様にコイル層上と裏
面のアルミナ基板からなるセラミック基板1上に導体2
層の配線層を形成した。なお、本実施例に用いた結晶化
ガラスの結晶化温度は750℃であり、低融点ガラスの
軟化点は530℃である。実施例1あるいは実施例2と
同様のコイル層および配線層をアルミナからなるセラミ
ック基板1上に形成することができた。
Further, similarly to the second embodiment, the conductor 2 is formed on the ceramic substrate 1 made of an alumina substrate on the coil layer and the back surface.
The wiring layer of the layer was formed. The crystallization temperature of the crystallized glass used in this example is 750 ° C., and the softening point of the low melting point glass is 530 ° C. The same coil layer and wiring layer as in Example 1 or Example 2 could be formed on the ceramic substrate 1 made of alumina.

【0026】このように第3の実施例によれば、第1、
第2の実施例の効果に加え、アルミナからなるセラミッ
ク基板1の露出した、コイル層および絶縁層を形成して
いない部分に開口窓13を設けて、フェライト焼結体の
E型コアを挿入し、かつI型コアを張り合わせてあるの
で、電気的特性を向上させることができる。
As described above, according to the third embodiment, the first,
In addition to the effects of the second embodiment, an opening window 13 is provided in the exposed portion of the ceramic substrate 1 made of alumina, where the coil layer and the insulating layer are not formed, and the E-shaped core of the ferrite sintered body is inserted. In addition, since the I-shaped core is attached, the electrical characteristics can be improved.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、以下の効
果を奏する積層インダクタンス部品を提供できるもので
ある。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a laminated inductance component having the following effects.

【0028】すなわち、絶縁層が結晶化ガラスと低融点
ガラスからなるので、熱的に非常に安定であり、セラミ
ック基板と熱的な整合性が非常に優れるとともに、温度
変化に対しても導体の熱膨張の差を緩衝することができ
る。
That is, since the insulating layer is made of crystallized glass and low-melting glass, it is very stable thermally, has excellent thermal compatibility with the ceramic substrate, and has a conductor that is resistant to temperature changes. The difference in thermal expansion can be buffered.

【0029】また、導体層がコイル部と端子部とからな
るので、インダクタンスはコイル部で得られ、磁気的な
相互干渉が少なく、優れた特性を得ることができる。
Further, since the conductor layer is composed of the coil portion and the terminal portion, the inductance can be obtained in the coil portion, the magnetic mutual interference is small, and excellent characteristics can be obtained.

【0030】さらに、絶縁層の開口部を上、下で千鳥状
にしているので、導体の体積を必要最低限にでき、導体
材料の使用が極力低減できるとともに、導体層の端子部
近傍において絶縁層と導体層との熱膨張の差を吸収し、
マイクロクラック発生防止を行うことができる。
Furthermore, since the openings of the insulating layer are staggered above and below, the volume of the conductor can be minimized, the use of the conductor material can be reduced as much as possible, and the insulation near the terminals of the conductor layer can be achieved. Absorbs the difference in thermal expansion between layers and conductor layers,
It is possible to prevent the generation of microcracks.

【0031】なお、セラミック基板の材料としてフェラ
イトを用いることにより、基板が磁気回路の一部を構成
するので、磁気シールドを構成するとともに、インダク
タンス部品をより薄型化することができる。
By using ferrite as the material of the ceramic substrate, the substrate forms a part of the magnetic circuit, so that the magnetic shield can be formed and the inductance component can be made thinner.

【0032】また、絶縁層の開口部にフェライト焼結体
のE型コアを挿入し、かつI型コアを張り合わせること
により、インダクタンス部品をより薄型で優れた特性と
することができる。
Further, by inserting the E-shaped core of the ferrite sintered body into the opening of the insulating layer and adhering the I-shaped core together, the inductance component can be made thinner and have excellent characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は本発明の第1の実施例における積層イ
ンダクタンス部品の斜視図 (b)はその断面図
1A is a perspective view of a laminated inductance component according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a sectional view thereof.

【図2】(a)は本発明の第2の実施例における積層イ
ンダクタンス部品の斜視図 (b)はその断面図
2A is a perspective view of a laminated inductance component according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a sectional view thereof.

【図3】本発明の第1の実施例における積層インダクタ
ンス部品の分解平面図
FIG. 3 is an exploded plan view of the laminated inductance component according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施例における積層インダクタ
ンス部品の分解平面図
FIG. 4 is an exploded plan view of a laminated inductance component according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セラミック基板 2 下層コイル部 3 下層端子部 4 全面絶縁層 5 開口部 6 コイル間絶縁層 7 上層コイル部 8 下層導体層 9 上層端子部 10 上層導体層 11 表面絶縁層 12 基板絶縁層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic substrate 2 Lower layer coil part 3 Lower layer terminal part 4 Whole surface insulating layer 5 Opening part 6 Inter-coil insulating layer 7 Upper layer coil part 8 Lower layer conductor layer 9 Upper layer terminal part 10 Upper layer conductor layer 11 Surface insulating layer 12 Substrate insulating layer

フロントページの続き (72)発明者 小平 恵吾 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内Front page continuation (72) Inventor Keigo Kodaira 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも1ターン以上のコイル部と端
子部とを備えた導体層と、結晶化ガラスと低融点ガラス
からなる絶縁層とを交互に積層するとともに、前記導体
層の上下に位置する前記絶縁層には、開口部を千鳥状に
形成し、この開口部を介して上下の導体層の端子部を電
気的に接続した積層インダクタンス部品。
1. A conductor layer having at least one turn of a coil portion and a terminal portion, and an insulating layer made of crystallized glass and low-melting glass are alternately laminated and located above and below the conductor layer. A laminated inductance component in which openings are formed in a zigzag pattern in the insulating layer, and the terminals of upper and lower conductor layers are electrically connected through the openings.
【請求項2】 導体層と絶縁層との積層体を、セラミッ
ク基板上に設けるとともに、前記積層体には、下方のセ
ラミック基板を露出させる開口窓を設けた請求項1記載
の積層インダクタンス部品。
2. The laminated inductance component according to claim 1, wherein a laminated body of a conductor layer and an insulating layer is provided on a ceramic substrate, and the laminated body is provided with an opening window for exposing a lower ceramic substrate.
【請求項3】 少なくとも1ターン以上のコイル部と端
子部とを備えた導体層と、結晶化ガラスと低融点ガラス
からなるとともに、前記端子部に対応する部分に開口部
を有した絶縁層とをセラミック基板上に交互に設け、前
記導体層の端子部は、上下の前記絶縁層に千鳥状に設け
た開口部内に流入する端子部構成成分により接続した積
層インダクタンス部品の製造方法。
3. A conductor layer having a coil portion having at least one turn or more and a terminal portion, and an insulating layer made of crystallized glass and low melting point glass and having an opening portion at a portion corresponding to the terminal portion. Are alternately provided on the ceramic substrate, and the terminal portions of the conductor layers are connected by the constituent elements of the terminal portions which flow into the openings formed in the upper and lower insulating layers in a staggered manner.
【請求項4】 セラミック基板上に、同一箇所に開口部
を有した導体層と絶縁層とを積層した請求項3記載の積
層インダクタンス部品の製造方法。
4. The method for manufacturing a laminated inductance component according to claim 3, wherein a conductor layer having an opening at the same location and an insulating layer are laminated on a ceramic substrate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105927519A (en) * 2016-06-22 2016-09-07 吉林大学 Vibration-excitation-vibration-absorption traveling wave guide microfluid delivery device

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