JPH07300560A - Silicon composition - Google Patents

Silicon composition

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JPH07300560A
JPH07300560A JP11599794A JP11599794A JPH07300560A JP H07300560 A JPH07300560 A JP H07300560A JP 11599794 A JP11599794 A JP 11599794A JP 11599794 A JP11599794 A JP 11599794A JP H07300560 A JPH07300560 A JP H07300560A
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composition
parts
solvent
group
component
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JP11599794A
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Japanese (ja)
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Hiroshige Okinoshima
弘茂 沖之島
Tsutomu Kashiwagi
努 柏木
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a silicon composition which has satisfactory infiltrating properties and is safe by adding a low-mol. methylsiloxane as a solvent to a mixture of a specific diorganopolysiloxane, a specific organohydrogenpolysiloxane, and a platinum catalyst. CONSTITUTION:This composition comprises (A) a diorganopolysiloxane having two or more Si-bonded vinyl groups, (B) an organohydrogenpolysiloxane having two or more directly Si-bonded hydrogen atoms, (C) a platinum catalyst, and (D) a low-mol. methylsiloxane represented by formula I or II (wherein L is 0-2 and m is 4-5) as a solvent, the amount of (D) being 200-4,000 pts.wt. per 100 pts.wt. the sum of (A), (B), and (C). The component (A) preferably comprises a polysiloxane backbone and methyl and phenyl groups as side chains. The number of the directly Si-bonded hydrogen atoms of the component (B) is especially preferably 0.5-4 per vinyl group of the component (A) when the composition is for infiltration use. The content of Na and Cl ions in the components (A) and (C) is desirably 2ppm or lower from the standpoint of deterioration of electronic parts. This composition is infiltrated into pores of an electronic part and then cured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、シリコーン組成物に関
し、特に電子部品用の含浸剤、コーティング剤として有
用である硬化性シリコーン組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a silicone composition, and more particularly to a curable silicone composition useful as an impregnating agent and a coating agent for electronic parts.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、トランジスタ、ダイオード、抵
抗、コンデンサー、セラミックを圧粉したコンデンサー
等の電子部品はエポキシ樹脂組成物などで樹脂封止され
るが、この場合、封止樹脂と電子部品との間には通常非
常に小さな隙間や空隙が生じ易い。このような隙間や空
隙があると、この隙間や空隙を通って外部から水、Cl
-、Na+ などの成分が入り込み、電子部品の特性を劣
化させるという問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, electronic parts such as transistors, diodes, resistors, capacitors, and capacitors obtained by compacting ceramic powder are resin-sealed with an epoxy resin composition. In this case, the sealing resin and the electronic parts are Usually, very small gaps and voids are likely to occur between them. If there are such gaps or voids, water, Cl
- enters the components such as Na +, there is a problem that deteriorates the characteristics of the electronic components.

【0003】このため、樹脂封止後の電子部品には、上
述した隙間や空隙を埋める目的でオルガノハイドロジェ
ンポリシロキサン、ビニル基含有オルガノポリシロキサ
ン及び触媒からなる付加反応硬化型シリコーン組成物
(例:特開平4−370151参照)を用いて電子部品
を処理し、該組成物を含浸したり電子部品表面に被膜を
形成することが行われている。通常、このようなシリコ
ーン組成物の含浸性や塗布性を高めるために、フロン系
溶剤、脂肪族炭化水素系溶媒または芳香族炭化水素系溶
媒で組成物を希釈して処理が行われている。しかし、フ
ロン系溶剤はオゾン層を破壊する原因物質としてその使
用制限が強く求められている。脂肪族炭化水素系溶媒ま
たは芳香族炭化水素系溶媒は一般に毒性が強く作業環境
を悪化するという問題がある。
Therefore, in an electronic component after resin encapsulation, an addition reaction curable silicone composition comprising an organohydrogenpolysiloxane, a vinyl group-containing organopolysiloxane and a catalyst for the purpose of filling the above-mentioned gaps and voids (example JP-A-4-370151), electronic parts are treated to impregnate the composition or form a coating film on the surface of the electronic parts. Usually, in order to improve the impregnation property and coatability of such a silicone composition, the composition is diluted with a freon solvent, an aliphatic hydrocarbon solvent or an aromatic hydrocarbon solvent and then treated. However, the use of CFC-based solvents is strongly required to be restricted as a causative substance that destroys the ozone layer. The aliphatic hydrocarbon solvent or aromatic hydrocarbon solvent is generally highly toxic and has a problem of deteriorating the working environment.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、従
来使用されてきたフロン系溶剤や有機溶媒を使用せず、
安全性が高く環境を汚染したり破壊することがない上に
良好な含浸性、塗布性を有するシリコーン組成物を提供
することにある。
Therefore, the present invention does not use a conventionally used CFC solvent or organic solvent,
It is an object of the present invention to provide a silicone composition which is highly safe and does not pollute or destroy the environment and has good impregnation properties and coating properties.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、溶媒とし
て表面張力が小さく、毒性が低い低分子メチルシロキサ
ンを使用することで上記課題解決し得ることを見出し
た。
The present inventors have found that the above problem can be solved by using a low molecular weight methyl siloxane having a small surface tension and a low toxicity as a solvent.

【0006】すなわち、本発明によれば、(A) 一分子中
に少なくとも2個のCH2 =CH−Si結合を有するビ
ニル基含有ジオルガノポリシロキサン、(B) 一分子中に
少なくとも2個のケイ素原子に直結した水素原子を有す
るオルガノハイドロジェンポリシロキサン、(C) 白金触
媒、及び(D) 溶媒を含有してなるシリコーン組成物にお
いて、前記の溶媒が式(1) :
That is, according to the present invention, (A) a vinyl group-containing diorganopolysiloxane having at least two CH 2 ═CH—Si bonds in one molecule, (B) at least two in one molecule In the silicone composition containing an organohydrogenpolysiloxane having a hydrogen atom directly bonded to a silicon atom, (C) a platinum catalyst, and (D) a solvent, the solvent is represented by the formula (1):

【0007】[0007]

【化3】 で表される低分子直鎖状メチルシロキサン、式(2) :[Chemical 3] A low molecular weight linear methyl siloxane represented by the formula (2):

【0008】[0008]

【化4】 で表される低分子メチルシロキサン又はこれらの混合物
であることを特徴とするシリコーン組成物が提供され
る。
[Chemical 4] There is provided a silicone composition characterized by being a low molecular weight methyl siloxane represented by or a mixture thereof.

【0009】以下、本発明につき更に詳述する。 (A) ビニル基含有オルガノポリシロキサン 成分(A) のビニル基含有ポリシロキサンは、通常直鎖状
であるが、僅かに分枝しているものであっても何ら差し
支えなく使用し得る。
The present invention will be described in more detail below. (A) Vinyl Group-Containing Organopolysiloxane The vinyl group-containing polysiloxane of the component (A) is usually linear, but may be slightly branched and may be used without any problem.

【0010】より具体的には、一般式(3) :More specifically, the general formula (3):

【0011】[0011]

【化5】 (式中、R1 は脂肪族不飽和結合を含有しない置換又は
非置換の一価炭化水素基であり、p及びqは0又は正の
整数であり、好ましくは0<p+q≦10000、より
好ましくは0<p+q≦2000、0<q/(p+q)
≦0.2となる数である)であるものが好ましい例とし
てあげられる。式(3) 中の置換基R1 は脂肪族不飽和結
合を含有しない置換又は非置換の炭素原子数1〜10、
特に炭素原子数1〜6の一価炭化水素基であることが好
ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等の低級アルキル基;フェニル基、トリル基、キシ
リル基、ベンジル基等のアリール基;シクロヘキシル基
等のシクロアルキル基又はこれらの基の水素原子の一部
又は全部をハロゲン原子、シアノ基等で置換したクロロ
メチル基、シアノエチル基、3,3,3−トリフルオロ
プロピル基等が挙げられる。
[Chemical 5] (In the formula, R 1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond, p and q are 0 or a positive integer, preferably 0 <p + q ≦ 10000, more preferably Is 0 <p + q ≦ 2000, 0 <q / (p + q)
It is a preferable example. The substituent R 1 in the formula (3) is a substituted or unsubstituted 1 to 10 carbon atom which does not contain an aliphatic unsaturated bond,
Particularly, it is preferably a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, for example, a lower alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl group, benzyl group and the like. Aryl group; cycloalkyl group such as cyclohexyl group, or chloromethyl group, cyanoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group in which a part or all of hydrogen atoms of these groups are substituted with halogen atom, cyano group, etc. Is mentioned.

【0012】式(3) の好ましい例示にもかかわらず、ビ
ニル基の位置は特に制約は無く、ポリシロキサン主鎖の
末端でもその途中でもよい。中でも主鎖がポリシロキサ
ンからなり、側鎖にその他の基としてメチル基とフェニ
ル基の両方を有するポリシロキサンが好適に用いられ
る。このようなポリシロキサンとして具体的には、メチ
ルフェニルシロキサン単位のみからなる単一重合体、ジ
メチルシロキサン単位とメチルフェニルシロキサン単位
の共重合体、ジメチルシロキサン単位とジフェニルシロ
キサン単位の共重合体等が例示される。
Despite the preferred example of the formula (3), the position of the vinyl group is not particularly limited and may be at the end of the polysiloxane main chain or at the middle thereof. Among them, a polysiloxane whose main chain is composed of polysiloxane and whose side chain has both a methyl group and a phenyl group as other groups is preferably used. Specific examples of such polysiloxanes include a homopolymer consisting only of methylphenylsiloxane units, a copolymer of dimethylsiloxane units and methylphenylsiloxane units, a copolymer of dimethylsiloxane units and diphenylsiloxane units, and the like. It

【0013】また、ビニル基含有ポリシロキサン(A)
は、含浸に用いる場合には25℃における粘度が10〜
400cSt、特に20〜150cStのものが好まし
い。粘度が10cStより小さいと、得られる組成物が
硬化後に揮散し易くなり、400cStを超えると組成
物の含浸性が悪くなる場合がある。また、被膜形成用に
用いる場合には400cStより大で100,000c
St以下であることが好ましい。粘度が低すぎると、得
られる被膜の強度が低下し、100,000cStを越
えると、他の成分との混合等の作業性が低下する。
Further, vinyl group-containing polysiloxane (A)
Has a viscosity of 10 to 25 ° C. when used for impregnation.
It is preferably 400 cSt, especially 20 to 150 cSt. If the viscosity is less than 10 cSt, the resulting composition may easily volatilize after curing, and if it exceeds 400 cSt, the impregnating property of the composition may deteriorate. When it is used for forming a film, it is more than 400 cSt and 100,000 c
It is preferably St or less. If the viscosity is too low, the strength of the coating film obtained will decrease, and if it exceeds 100,000 cSt, workability such as mixing with other components will decrease.

【0014】更に、ビニル基含有ポリシロキサン(A) の
Na及びClイオン含有量は、いずれも10ppm以
下、特に2ppm以下であることが好ましい。Na又は
Clイオン含有量が10ppmより多いと、このシリコ
ーン組成物で処理した電子部品の特性が劣化する場合が
ある。 (B) オルガノハイドロジェンポリシロキサン このオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、
例えば、平均組成式(4) : Ha ( R2 ) b SiO(4-a-b)/2 (4) (式中、R2 は脂肪族不飽和結合を含有しない同種又は
異種の置換又は非置換の一価炭化水素基であり、a及び
bは0<a<2、1≦b≦2かつ2≦a+b≦3を満た
す数てある)で表され、一分子中にけい素に結合した水
素原子を少なくとも二個有するものがあげられる。
Furthermore, the Na and Cl ion contents of the vinyl group-containing polysiloxane (A) are both preferably 10 ppm or less, more preferably 2 ppm or less. When the Na or Cl ion content is more than 10 ppm, the characteristics of electronic parts treated with this silicone composition may deteriorate. (B) Organohydrogenpolysiloxane As this organohydrogenpolysiloxane,
For example, the average composition formula (4): H a (R 2) b SiO (4-ab) / 2 (4) ( wherein, R 2 is a substituted or unsubstituted same or different free of aliphatic unsaturation Is a monovalent hydrocarbon group, a and b are represented by 0 <a <2, 1 ≦ b ≦ 2 and 2 ≦ a + b ≦ 3), and hydrogen bonded to silicon in one molecule. One having at least two atoms can be mentioned.

【0015】ここで、上記式(4) 中のR2 は脂肪族不飽
和結合を含有しない置換又は非置換の炭素原子数1〜1
0、特に炭素原子数1〜7の一価炭化水素基であること
が好ましく、例えばメチル基等の低級アルキル基、フェ
ニル基等のアリール基等、R1 について説明したものと
同様のものが挙げられる。また、a、bは0<a<2、
1≦b≦2かつ2≦a+b≦3となる数であり、好まし
くは0.3≦a≦1かつ2≦a+b≦2.7となる数で
ある。
Here, R 2 in the above formula (4) is a substituted or unsubstituted C 1 -C 1 containing no aliphatic unsaturated bond.
It is preferably 0, particularly a monovalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms. Examples thereof include lower alkyl groups such as methyl group, aryl groups such as phenyl group, and the like as those described for R 1. To be Also, a and b are 0 <a <2,
It is a number satisfying 1 ≦ b ≦ 2 and 2 ≦ a + b ≦ 3, preferably 0.3 ≦ a ≦ 1 and 2 ≦ a + b ≦ 2.7.

【0016】けい素に結合した水素原子の位置は、特に
制約はなく、分子の末端でも途中でもよい。具体的に
は、例えば両末端トリメチルシリル基封鎖のメチルハイ
ドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシリル基
封鎖のジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンポリ
シロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシ
リル基封鎖のメチルハイドロジェンポリシロキサン、両
末端ジメチルハイドロジェンシリル基封鎖のジメチルシ
ロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、
テトラメチルテトラハイドロジェンシクロテトラシロキ
サン、ペンタメチルトリハイドロジェンシクロテトラシ
ロキサン、トリ(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メ
チルシラン等が挙げられる。なお、本成分は、分子構造
上直鎖状、分枝鎖状、環状、網状のいずれであってもよ
い。
The position of the hydrogen atom bonded to silicon is not particularly limited, and it may be at the end of the molecule or in the middle thereof. Specifically, for example, methylhydrogenpolysiloxane having both ends trimethylsilyl group blocked, dimethylsiloxane / methylhydrogenpolysiloxane copolymer having both ends trimethylsilyl group blocked, methylhydrogenpolysiloxane having both ends dimethylhydrogensilyl group blocked. , A dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer having both ends dimethylhydrogensilyl group blocked,
Examples thereof include tetramethyltetrahydrogencyclotetrasiloxane, pentamethyltrihydrogencyclotetrasiloxane, tri (dimethylhydrogensiloxy) methylsilane and the like. In addition, this component may be linear, branched, cyclic, or network in terms of molecular structure.

【0017】また、オルガノハイドロジェンポリシロキ
サンは、25℃における粘度が1〜500cSt、特に
1〜200cStであるものが好ましい。粘度が1cS
t未満のものを使用すると、得られる組成物が硬化後に
揮散し易くなり、500cStを超えると組成物の含浸
性が悪くなる場合がある。
The organohydrogenpolysiloxane preferably has a viscosity at 25 ° C. of 1 to 500 cSt, particularly 1 to 200 cSt. Viscosity is 1 cS
If less than t is used, the resulting composition is likely to volatilize after curing, and if more than 500 cSt, impregnation of the composition may deteriorate.

【0018】このようなオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンは、通常R2 SiHCl2、(R2 3 SiC
l、(R2 2 SiCl2 、(R2 2 SiHCl(こ
こで、R2 は前記のとおりである)のようなクロルシラ
ンを加水分解するか、もしくはこのように加水分解して
得られたシロキサンを平衡化することにより得ることが
でき、具体的には下記式で示される化合物を挙げること
ができる。
Such organohydrogenpolysiloxanes are usually R 2 SiHCl 2 , (R 2 ) 3 SiC.
l, (R 2) 2 SiCl 2, (R 2) 2 SiHCl ( wherein, R 2 is as defined above) or hydrolyzing chlorosilanes such as, or obtained in this way by hydrolysis It can be obtained by equilibrating siloxane, and specific examples thereof include compounds represented by the following formula.

【0019】[0019]

【化6】 更に、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B) のN
a及びClイオン含有量はいずれも10ppm以下、特
に2ppm以下であることが好ましく。含有量が10p
pmより多いと、このシリコーン組成物で含浸した電子
部品の特性が劣化し易い。
[Chemical 6] Furthermore, N of organohydrogenpolysiloxane (B)
The a and Cl ion contents are both preferably 10 ppm or less, and particularly preferably 2 ppm or less. Content is 10p
If it is more than pm, the characteristics of the electronic component impregnated with this silicone composition are likely to deteriorate.

【0020】オルガノハイドロジェンポリシロキサン
(B) の配合量は、(A) 成分のビニル基含有ポリシロキサ
ン中のビニル基1個に対して(B) 成分の中のけい素に結
合した水素原子が一般に0.5〜4個となる範囲が好ま
しい。特に、組成物を含浸に用いる場合には0.5〜
1.5個、特に0.7〜1.3個となるような割合とす
ることが好ましい。また、被膜形成用に用いる場合に
は、0.5〜4、さらに1〜4となる範囲が好ましい。 (C) 白金系触媒 これは、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A) 中の
ケイ素に結合したビニル基とオルガノハイドロジェンポ
リシロキサン(B) 中のケイ素結合水素原子との付加反応
を行わせるための触媒であり、この種のシリコーンゴム
組成物に通常用いられるものを使用することができる。
Organohydrogenpolysiloxane
The blending amount of (B) is generally 0.5 to 4 hydrogen atoms bonded to silicon in the component (B) with respect to one vinyl group in the vinyl group-containing polysiloxane of the component (A). The following range is preferable. Particularly, when the composition is used for impregnation, 0.5 to
The ratio is preferably 1.5, particularly 0.7 to 1.3. When used for forming a film, a range of 0.5 to 4, more preferably 1 to 4 is preferable. (C) Platinum-based catalyst This is for carrying out an addition reaction between the silicon-bonded vinyl group in the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the silicon-bonded hydrogen atom in the organohydrogenpolysiloxane (B). A catalyst, which is usually used in this type of silicone rubber composition, can be used.

【0021】該白金触媒としては、白金及び白金化合物
があげられ、具体的には、例えば、単体の白金、並びに
2 PtCl6 ・nH2 O,NaHPtCl6 ・nH2
O,KHPtCl6 ・nH2 O,Na2 PtCl6 ・n
2 O,K2 PtCl6 ・nH2 O,PtCl4 ・nH
2 O,PtCl2 ,Na2 PtCl4 ・nH2 Oおよび
2 PtCl4 ・nH2 O等の白金化合物、さらにこれ
ら白金化合物と炭化水素、アルコール又はビニル基含有
環状シロキサンとの錯体があげられる。
Examples of the platinum catalyst include platinum and a platinum compound. Specific examples include platinum alone, H 2 PtCl 6 .nH 2 O, NaHPtCl 6 .nH 2
O, KHPtCl 6 · nH 2 O, Na 2 PtCl 6 · n
H 2 O, K 2 PtCl 6 · nH 2 O, PtCl 4 · nH
Examples thereof include platinum compounds such as 2 O, PtCl 2 , Na 2 PtCl 4 .nH 2 O and H 2 PtCl 4 .nH 2 O, and complexes of these platinum compounds with hydrocarbon, alcohol or vinyl group-containing cyclic siloxane.

【0022】白金触媒(C) の量は、上記の(A) 成分及び
(B) 成分の合計量に対して、通常、白金として0.01
〜500ppm、好ましくは0.1〜100ppmであ
る。 (D) 低分子メチルシロキサン この低分子メチルシロキサンとしては、前記の一般式
(1) 、(2) で表されるものが使用される。これらは一種
単独でも、2種以上を組み合わせても使用することがで
きる。
The amount of platinum catalyst (C) is the same as that of component (A) above.
Usually, 0.01% of platinum is added to the total amount of the component (B)
Is about 500 ppm, preferably 0.1 to 100 ppm. (D) Low-molecular-weight methyl siloxane This low-molecular-weight methyl siloxane has the general formula
The ones represented by (1) and (2) are used. These can be used alone or in combination of two or more.

【0023】該低分子メチルシロキサン中のNa及びC
lイオン含有量はいずれも10ppm以下、特に2pp
m以下とすることが好ましい。Na及びClイオン含有
量が10ppmより多いと、このシリコーン組成物で処
理した電子部品の特性が劣化する場合がある。
Na and C in the low molecular weight methyl siloxane
l-ion content is 10 ppm or less, especially 2 pp
It is preferably m or less. When the Na and Cl ion contents are higher than 10 ppm, the characteristics of electronic parts treated with this silicone composition may deteriorate.

【0024】低分子メチルシロキサンは、希釈溶媒とし
て用いられるものであるので、配合量は目的によって変
わるが、通常、(A) 、 (B)及び (C)成分の合計量と同量
以上であることが好ましい。さらには、(A) 〜(C) 成分
の合計100重量部当り200〜4000重量部程度が
好ましい。
Since the low molecular weight methyl siloxane is used as a diluting solvent, the compounding amount varies depending on the purpose, but it is usually the same as or more than the total amount of the components (A), (B) and (C). It is preferable. Further, about 200 to 4000 parts by weight is preferable per 100 parts by weight of the total of the components (A) to (C).

【0025】該低分子メチルシロキサンは表面張力が小
さいので、組成物に良好な含浸性、塗布性を付与する。
なお、この低分子メチルシロキサンは大量に生産されて
おり価格的にも工業用有機溶剤と大差なく入手すること
ができるという利点もある。 その他の成分 組成物には、必要に応じて、他の任意的な成分を配合す
ることができる。
The low molecular weight methyl siloxane has a low surface tension.
Therefore, the composition is provided with good impregnating property and coatability.
In addition, this low molecular weight methyl siloxane was produced in large quantities.
In terms of price, it should be similar to an industrial organic solvent.
There is also an advantage that you can. Other ingredients The composition may optionally contain other optional ingredients.
You can

【0026】本発明の組成物は、一液型にも二液型にも
調製することができるが、一液型にする場合には、通
常、硬化反応抑制剤を配合することが好ましい。硬化反
応抑制剤としては、例えばCH2 =CHRSiO単位
(式中Rは脂肪族不飽和二重結合を含まない一価炭化水
素基を示す)を含むポリシロキサン(特公昭48−10
947号公報参照)、アセチレンアルコール(例えば、
3−メチル−1−ブチン−3−オール)等のアセチレン
化合物(米国特許第3445420号明細書参照)など
が好適に使用される。硬化反応抑制剤の配合量は白金触
媒(C) の白金分に対して50〜10000倍(重量比)
であることが好ましい。少なすぎると、組成物の保存安
定性が悪く、長期保存中に硬化する場合があり、多すぎ
ると硬化速度が極端に遅くなる場合がある。
The composition of the present invention can be prepared as a one-pack type or a two-pack type, but in the case of the one-pack type, it is usually preferable to add a curing reaction inhibitor. As the curing reaction inhibitor, for example, a polysiloxane containing a CH 2 ═CHRSiO unit (wherein R represents a monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated double bond) (Japanese Patent Publication No. 48-10).
947), acetylene alcohol (for example,
An acetylene compound such as 3-methyl-1-butyn-3-ol) (see US Pat. No. 3,445,420) and the like are preferably used. The amount of the curing reaction inhibitor blended is 50 to 10,000 times (weight ratio) the platinum content of the platinum catalyst (C).
Is preferred. If it is too small, the composition may have poor storage stability and may be cured during long-term storage. If it is too large, the curing rate may be extremely slow.

【0027】その他の任意的に添加される成分として
は、例えば、硬化物の強度を補強するために添加するS
iO2 単位、CH2 =CH(R′2 )SiO0.5 単位、
R′3SiO0.5 単位(式中、R′は脂肪族不飽和二重
結合を含まない一価炭化水素基を示す)からなるレジン
構造のオルガノポリシロキサン(特公昭38−2677
1号、同45−9476号公報参照)、重金属のイオン
性化合物(米国特許第3,532,649号明細書参
照)などがある。なお、これらの添加剤は本発明の硬化
を妨げない範囲の量で添加することができる。
As other optional components, for example, S added to reinforce the strength of the cured product.
iO 2 unit, CH 2 ═CH (R ′ 2 ) SiO 0.5 unit,
R '3 SiO 0.5 units (wherein, R' represents a monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated double bond) organopolysiloxane resin structure consisting of (Kokoku 38-2677
No. 1, 45-9476), heavy metal ionic compounds (see US Pat. No. 3,532,649), and the like. In addition, these additives can be added in an amount within a range that does not hinder the curing of the present invention.

【0028】本発明の組成物を含浸用に使用する場合に
は、粒度5μm以上の固形不純物含有量が1mg/ 以下
となるように調製することが好ましい。固形不純物の含
有量が多いと、含浸に用いた場合に電子部品の細かい隙
間に組成物が入り難くなることがある。この固形不純物
は通常原料として用いられる(A) 〜(C) 成分から混入す
るものであるが、このような固形不純物が混入したら種
々の方法を用いて除去することが望ましい。例えば、組
成物を8〜0.1μmの隙間を有するミリポアフィルタ
ーに通すと、効果的に除去することができる。
When the composition of the present invention is used for impregnation, it is preferably prepared so that the content of solid impurities having a particle size of 5 μm or more is 1 mg / or less. When the content of solid impurities is large, it may be difficult for the composition to enter the fine gaps of the electronic component when used for impregnation. The solid impurities are mixed from the components (A) to (C) which are usually used as raw materials, but if such solid impurities are mixed, it is desirable to remove them by various methods. For example, the composition can be effectively removed by passing it through a Millipore filter having a gap of 8 to 0.1 μm.

【0029】組成物を薄膜コーティングの形成に使用す
る場合には、硬化時における熱収縮の減少、硬化して得
られる硬化物の熱膨張率の低下、熱安定性、耐候性、耐
薬品性、難燃性あるいは機械的強度を向上させたりガス
透過率を下げる目的で、充填剤を添加してもよく、これ
にはたとえばフュームドシリカ、石英粉末、酸化チタ
ン、カーボンブラック等がある。
When the composition is used for forming a thin film coating, the heat shrinkage at the time of curing is decreased, the thermal expansion coefficient of the cured product obtained by curing is decreased, the thermal stability, the weather resistance, the chemical resistance, A filler may be added for the purpose of improving flame retardancy or mechanical strength or reducing gas permeability, and examples thereof include fumed silica, quartz powder, titanium oxide and carbon black.

【0030】これにまた必要に応じて基体との接着性を
向上させる目的で公知のアルコキシシロキサン、エポキ
シ基含有オルガノポリシロキサン、アクリル基含有オル
ガノポリシロキサン等を加えることができる。用途 本発明のシリコーン組成物はトランジスタ、ダイオー
ド、IC、ハイブリッドIC、抵抗、コンデンサー等の
プラスチックパッケージ(エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、PPS樹脂等)で成形もしくは封止された電子部品
や、チップコンデンサー、チップインダクタ、LC複合
チップ部品等のセラミックス、電気絶縁性磁性体(フェ
ライト等)等で焼結等により形成された電子部品の表面
部分の細孔へ含浸させる、あるいは表面にコーティング
を形成させることにより電子部品の電気的特性が大幅に
改善される。
In addition, known alkoxysiloxanes, epoxy group-containing organopolysiloxanes, acryl group-containing organopolysiloxanes, etc. may be added to the base material for the purpose of improving the adhesion to the substrate. Uses The silicone composition of the present invention is an electronic component molded or sealed with a plastic package (epoxy resin, phenol resin, PPS resin, etc.) such as a transistor, a diode, an IC, a hybrid IC, a resistor, a capacitor, a chip capacitor, or a chip. Inductors, ceramics such as LC composite chip parts, electronic parts formed by sintering with an electrically insulating magnetic material (such as ferrite) are impregnated into the pores of the surface part of the electronic part, or by forming a coating on the surface. The electrical characteristics of the part are significantly improved.

【0031】このシリコーン組成物を電子部品に使用す
る場合は適宜な方法で含浸処理し得る。含浸方法として
は、加圧含浸法、真空含浸法、常圧含浸法、表面コーテ
ィング法等がある。コーティング方法としては、スプレ
ーコーティング、ディスペンサーコーティングその他の
通常用いられる方法が挙げられる。
When this silicone composition is used in electronic parts, it can be impregnated by an appropriate method. Examples of the impregnation method include a pressure impregnation method, a vacuum impregnation method, an atmospheric pressure impregnation method, and a surface coating method. Examples of the coating method include spray coating, dispenser coating and other commonly used methods.

【0032】なお、本発明のシリコーン組成物は電子部
品に含浸又は塗布させた後、これを硬化するが、硬化条
件としては、通常、80〜150℃で0.5〜3時間硬
化させるといった条件を採用し得る。
The silicone composition of the present invention is cured after it is impregnated or applied to an electronic component, and the curing condition is usually such that it is cured at 80 to 150 ° C. for 0.5 to 3 hours. Can be adopted.

【0033】[0033]

【実施例】本発明を実施例により説明する。以下の記載
において、部は重量部を示し、粘度は25℃における測
定値である。 実施例1 一分子中にメチルビニルシロキサン単位2個を含有する
ジメチルポリシロキサン(100cSt)100部、S
iH結合を0.5モル/100g含有するメチルハイド
ロジェンポリシロキサン8.9部、塩化白金酸のオクチ
ルアルコール変性溶液(白金含有量2重量%)0.02
部、組成物の硬化速度を制御する目的でアセチレンアル
コール(3−メチル−1−ブチン−3−オール)0.1
部、ヘキサメチルジシロキサン254.4部を配合して
よく攪拌した後、0.8μmの濾過目のミリポアフィル
ターで濾過しシリコーン組成物Aを得た。 比較例1 ヘキサメチルジシロキサン254.4部の代わりに、ジ
メチルポリシロキサン(粘度:10cSt)を254.
4部配合した以外は実施例1と同様にしてシリコーン組
成物Bを得た。 比較例2 ヘキサメチルジシロキサン254.4部の代わりに、工
業用試薬1級トルエン254.4部配合した以外は実施
例1と同様にしてシリコーン組成物Cを得た。 比較例3 ヘキサメチルジシロキサン254.4部を配合しなかっ
た以外は実施例1と同様にしてシリコーン組成物Dを得
た。
EXAMPLES The present invention will be described with reference to examples. In the following description, parts indicate parts by weight, and the viscosity is a value measured at 25 ° C. Example 1 100 parts of dimethylpolysiloxane (100 cSt) containing 2 methylvinylsiloxane units in one molecule, S
Methylhydrogenpolysiloxane containing 0.5 mol / 100 g of iH bond 8.9 parts, octyl alcohol modified solution of chloroplatinic acid (platinum content 2% by weight) 0.02
Parts, acetylene alcohol (3-methyl-1-butyn-3-ol) 0.1 for the purpose of controlling the curing rate of the composition.
And 254.4 parts of hexamethyldisiloxane were mixed and stirred well, and then filtered through a Millipore filter having a 0.8 μm filter to obtain a silicone composition A. Comparative Example 1 Instead of 254.4 parts of hexamethyldisiloxane, dimethylpolysiloxane (viscosity: 10 cSt) was added at 254.
A silicone composition B was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4 parts were compounded. Comparative Example 2 A silicone composition C was obtained in the same manner as in Example 1 except that 254.4 parts of an industrial reagent, primary toluene, was added instead of 254.4 parts of hexamethyldisiloxane. Comparative Example 3 A silicone composition D was obtained in the same manner as in Example 1 except that 254.4 parts of hexamethyldisiloxane was not added.

【0034】上記実施例及び比較例1〜2のシリコーン
組成物に使用された希釈剤はそれぞれ次表に示す特性を
有するものである。
The diluents used in the silicone compositions of the above Examples and Comparative Examples 1 and 2 have the properties shown in the following table.

【0035】[0035]

【表1】 次に、上記の組成物の耐湿性を下記方法で評価した。[Table 1] Next, the moisture resistance of the above composition was evaluated by the following method.

【0036】アルミニウム配線(膜厚1μm、線幅5μ
m)を施したシリコンチップを14ピンDipのフレー
ムにマウントした後に熱硬化性エポキシ樹脂組成物で封
止した電子部品に対し、シリコーン組成物を用いてそれ
ぞれ常圧含浸法と減圧真空含浸法で含浸処理を行い15
0℃で1hr硬化させPCT(プレッシャークッカーテ
スト,121℃,2気圧)にて所定時間放置し、アルミ
ニウム配線のオープン不良率を測定した。
Aluminum wiring (film thickness 1 μm, line width 5 μ
m) is mounted on a 14-pin Dip frame and then sealed with a thermosetting epoxy resin composition, the electronic component is sealed with a silicone composition by a normal pressure impregnation method and a reduced pressure vacuum impregnation method, respectively. Impregnated 15
It was cured at 0 ° C. for 1 hour and left in PCT (pressure cooker test, 121 ° C., 2 atm) for a predetermined time, and the open defect rate of aluminum wiring was measured.

【0037】常圧含浸及び減圧真空含浸の方法は下記の
とおりである。
The methods of normal pressure impregnation and reduced pressure vacuum impregnation are as follows.

【0038】常圧含浸:容器に電子部品を入れ、次に部
品が完全に浸るように含浸剤を加え30分放置後電子部
品を含浸液から取り出し余滴を切った後表面に付着した
含浸剤を取り除き150℃/1hrで硬化させる。
Normal pressure impregnation: An electronic component is put in a container, and then an impregnating agent is added so that the component is completely immersed. After leaving for 30 minutes, the electronic component is taken out of the impregnating solution and excess drops are cut off. Remove and cure at 150 ° C / 1 hr.

【0039】真空含浸:容器に電子部品を入れ、次に部
品が完全に浸るように含浸剤を加えこの容器をデシケー
タ内に封じ、メタノールドライアイストラップを介して
真空ポンプで吸引する。30分後に真空ポンプを停止、
常圧にもどし電子部品を取り出し余滴を切った後、表面
に付着した含浸剤を取り除き150℃/1hrで硬化さ
せる。
Vacuum Impregnation: Electronic components are placed in a container, then an impregnating agent is added so that the components are completely immersed, the container is sealed in a desiccator, and suctioned by a vacuum pump through a methanol dry ice strap. Stop the vacuum pump after 30 minutes,
After returning to normal pressure to take out the electronic component and cut off the excess droplets, the impregnating agent adhering to the surface is removed and cured at 150 ° C./1 hr.

【0040】結果は表1,2に示した。The results are shown in Tables 1 and 2.

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】[0042]

【表3】 以上結果から、実施例1の組成物は、含浸性が優れ、工
程の短縮及び耐湿性の向上に有効であることがわかる。 実施例2 一分子中にメチルビニルシロキサン単位2個を含有する
ジメチルポリシロキサン(1000cSt)100部、
≡SiH結合を1.0モル/100g含有するメチルハ
イドロジェンポリシロキサン1.4部、塩化白金酸のオ
クチルアルコール変性溶液(白金含有量2重量%)0.
05部、ヘキサメチルジシロキサン3280部をよく攪
拌して組成物を調製した。これを直径4インチのシリコ
ンウエハー上に室温で0.02g塗布し、10分間風乾
後、150℃で1hrで加熱し硬化させた。得られたコ
ーティングの形状、広がり、膜厚を測定、評価した。形
状は表面粗計によりコーティング縦断面形状を測定し
た。 実施例3 ヘキサメチルジシロキサンの使用量を1348部に変え
た以外は実施例2と同様にして組成物の調製、コーティ
ングの形成及びその評価を行った。 実施例4 ヘキサメチルジシロキサンの使用量を405.8部に変
えた以外は実施例2と同様にして組成物の調製、コーテ
ィングの形成及びその評価を行った。 実施例5 ヘキサメチルジシロキサン3280部の代わりにオクタ
メチルシクロテトラシロキサン1348部を使用した以
外は、実施例2と同様にして組成物の調製、コーティン
グの形成及びその評価を行った。 比較例4 ヘキサメチルジシロキサン3280部の代わりに工業用
試薬1級ノルマルヘプタン1348部を使用した以外
は、実施例2と同様にして組成物の調製、コーティング
の形成及びその評価を行った。 比較例5 ヘキサメチルジシロキサン3280部の代わりに工業用
試薬1級トルエン1348部を使用した以外は、実施例
2と同様にして組成物の調製、コーティングの形成及び
その評価を行った。
[Table 3] From the above results, it can be seen that the composition of Example 1 is excellent in impregnation property and is effective in shortening the process and improving the moisture resistance. Example 2 100 parts of dimethylpolysiloxane (1000 cSt) containing two methylvinylsiloxane units in one molecule,
1.4 parts of methylhydrogenpolysiloxane containing 1.0 mol / 100 g of ≡SiH bond, octyl alcohol modified solution of chloroplatinic acid (platinum content 2% by weight).
A composition was prepared by thoroughly stirring 05 parts and 3280 parts of hexamethyldisiloxane. 0.02 g of this was coated on a silicon wafer having a diameter of 4 inches at room temperature, air-dried for 10 minutes, and then heated at 150 ° C. for 1 hr to be cured. The shape, spread, and film thickness of the obtained coating were measured and evaluated. As for the shape, the coating vertical cross-sectional shape was measured by a surface roughness meter. Example 3 A composition was prepared, a coating was formed, and its evaluation was performed in the same manner as in Example 2 except that the amount of hexamethyldisiloxane used was changed to 1348 parts. Example 4 A composition was prepared, a coating was formed, and its evaluation was performed in the same manner as in Example 2 except that the amount of hexamethyldisiloxane used was changed to 405.8 parts. Example 5 A composition was prepared, a coating was formed, and its evaluation was performed in the same manner as in Example 2 except that 1348 parts of octamethylcyclotetrasiloxane was used instead of 3280 parts of hexamethyldisiloxane. Comparative Example 4 A composition was prepared, a coating was formed, and its evaluation was performed in the same manner as in Example 2 except that 1348 parts of the industrial reagent first-order normal heptane was used instead of 3280 parts of hexamethyldisiloxane. Comparative Example 5 A composition was prepared, a coating was formed and its evaluation was performed in the same manner as in Example 2 except that 1348 parts of the industrial reagent primary toluene was used instead of 3280 parts of hexamethyldisiloxane.

【0043】結果を表4並びに図1及び図2に示す。The results are shown in Table 4 and FIGS. 1 and 2.

【0044】[0044]

【表4】 以上の結果より本発明の組成物は、薄膜コーティング組
成物として、従来の物に比らべ表面の均一性に優れると
ともに硬化時発生する揮発成分の安全性に優れる。
[Table 4] From the above results, the composition of the present invention as a thin film coating composition is superior in surface uniformity as compared with the conventional ones and is excellent in safety of volatile components generated during curing.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明のシリコーン組成物は、従来使用
されてきたフロン系溶剤や有機溶媒を使用せず、安全性
が高く環境を汚染したり破壊することがない上に良好な
含浸性、薄膜コーティング形成性を有する。電子部品の
含浸剤又はコーティング剤として含浸性、塗布性に優れ
る為、含浸方法の簡略化及び含浸時間の短縮が可能であ
り、生産性が向上する。
EFFECTS OF THE INVENTION The silicone composition of the present invention does not use a conventionally used CFC-based solvent or organic solvent, is highly safe and does not pollute or destroy the environment, and has good impregnability. It has a thin film coating formability. As an impregnating agent or coating agent for electronic parts, the impregnating property and coating property are excellent, so that the impregnating method can be simplified and the impregnating time can be shortened, and the productivity is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例2〜5で得られた被膜の縦図面形状を表
す。
FIG. 1 shows the vertical drawing shapes of the coating films obtained in Examples 2-5.

【図2】比較例4及び5で得られた被膜の縦図面形状を
表す。
FIG. 2 shows the vertical drawing shapes of the coating films obtained in Comparative Examples 4 and 5.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A) 一分子中に少なくとも2個のCH2
=CH−Si結合を有するビニル基含有ジオルガノポリ
シロキサン、(B) 一分子中に少なくとも2個のケイ素原
子に直結した水素原子を有するオルガノハイドロジェン
ポリシロキサン、(C) 白金触媒、及び(D) 溶媒を含有し
てなるシリコーン組成物において、前記の溶媒が式(1)
: 【化1】 で表される低分子直鎖状メチルシロキサン、式(2) : 【化2】 で表される低分子メチルシロキサン又はこれらの混合物
であることを特徴とするシリコーン組成物。
1. (A) At least two CH 2 s in one molecule.
A vinyl group-containing diorganopolysiloxane having a ═CH—Si bond, (B) an organohydrogenpolysiloxane having a hydrogen atom directly bonded to at least two silicon atoms in one molecule, (C) a platinum catalyst, and (D) ) In the silicone composition containing a solvent, the solvent has the formula (1)
: [Chemical 1] A low-molecular-weight linear methyl siloxane represented by the formula (2): A silicone composition characterized by being a low molecular weight methyl siloxane represented by or a mixture thereof.
【請求項2】 請求項1の組成物であって、前記溶媒の
量が(A) 、(B) 及び(C) 成分の合計100重量部当たり
200〜4000重量部である組成物。
2. The composition according to claim 1, wherein the amount of the solvent is 200 to 4000 parts by weight per 100 parts by weight of the total of the components (A), (B) and (C).
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998018850A1 (en) * 1996-10-29 1998-05-07 Alliedsignal Inc. Stable solutions of a silsesquioxane or siloxane resin and a silicone solvent
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JP2014034679A (en) * 2012-08-10 2014-02-24 Dow Corning Toray Co Ltd Curable silicone composition and cured material of the same

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