JPH0729626Y2 - Reduced pressure gas phase treatment equipment - Google Patents
Reduced pressure gas phase treatment equipmentInfo
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- JPH0729626Y2 JPH0729626Y2 JP1987121259U JP12125987U JPH0729626Y2 JP H0729626 Y2 JPH0729626 Y2 JP H0729626Y2 JP 1987121259 U JP1987121259 U JP 1987121259U JP 12125987 U JP12125987 U JP 12125987U JP H0729626 Y2 JPH0729626 Y2 JP H0729626Y2
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、減圧気相処理装置に関し、特にターボ分子ポ
ンプなどのポンプを有する例えばLP（低圧）−CVD用ポ
ンプシステムの信頼性を向上させ、コストの低減をも可
能にした減圧気相処理装置に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial field of application] The present invention relates to a reduced pressure gas phase treatment apparatus, and particularly to improve the reliability of a pump system for LP (low pressure) -CVD having a pump such as a turbo molecular pump. The present invention relates to a reduced pressure gas phase treatment apparatus which enables cost reduction.
本考案は、ポンプシステムを備えた減圧気相処理装置に
おいて、該ポンプシステムを、反応炉の排気側に自動圧
力制御装置とトラップとを介して接続された少なくとも
ほぼ大気圧から反応炉内の圧力より低い圧力まで減圧を
行う第１のポンプであるエグゼクタポンプと、その排気
のすべてが導かれるとともに、パージガスを合流させる
第２のポンプと、その排気のすべてが導かれる排気スク
ラバとを直列に接続して構成したことにより、信頼性が
高い減圧気相処理装置を低コストで得られたようにした
ものである。The present invention relates to a reduced pressure gas phase treatment apparatus equipped with a pump system, wherein the pump system is connected to the exhaust side of the reactor through an automatic pressure control device and a trap from at least approximately atmospheric pressure to a pressure in the reactor. The executor pump, which is the first pump that reduces the pressure to a lower pressure, the second exhaust gas that guides all the exhaust gas, and the second pump that merges the purge gas, and the exhaust gas scrubber that guides all the exhaust gas are connected in series. By connecting and configuring, a highly reliable depressurized gas phase treatment apparatus can be obtained at low cost.
第２図は従来の減圧気相処理装置の一例の構成を示す概
略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing the configuration of an example of a conventional reduced pressure gas phase treatment apparatus.
この図において、１は反応ガスで、例えばLP（低圧）−
CVDプロセスに用いられるSiH4ガス等である。２は反応
炉で、この反応炉２内でウエハが加熱され、化学反応が
起こり薄膜が形成される。3aは反応炉用パージガスで、
反応炉２内に予め入れてある。４は圧力ゲージで、反応
炉２内の圧力を計測する。5,6a,6bはバルブである。即
ち、５は各流路間に設置されたサブバルブである。6aは
第１のメインバルブで、反応炉２とその排気側に配置さ
れたポンプシステムとの間の流路を開閉する。6bは第２
のメインバルブで、システム間が長い時に設置され、短
い時は設置されない。７はAPC（自動圧力制御装置）、
８は反応生成物用のトラップで、トラップ８及びAPC7の
配置は逆にしてもよい。９は逆止弁で、ハードでもトラ
ップ８側に圧力スイッチを入れて動作させるものでもよ
い。10aはメカニカルブースタポンプ、11aはロータリポ
ンプ、12はトラップパージで、第１のメインバルプ6aと
APC7間の流路にトラップ用パージガス3bを流す。13はポ
ンプパージで、第２のメインバルブ6bとメカニカルブー
スタポンプ10a間の流路にメカニカルブースタポンプ用
ガス3cを流す。14aはメカニカルブースタポンプ10a用の
インバータ、15は排ガススクラバで、反応ガス１は流れ
ている時は反応ガス１を希釈したパージガスを排気し、
反応ガス１が流れていない時はパージガスを排気する。In this figure, 1 is a reaction gas, for example, LP (low pressure)-
An example is SiH 4 gas used in the CVD process. Reference numeral 2 denotes a reaction furnace, in which the wafer is heated and a chemical reaction occurs to form a thin film. 3a is a purge gas for the reactor,
It is placed in the reaction furnace 2 in advance. A pressure gauge 4 measures the pressure in the reaction furnace 2. 5,6a, 6b are valves. That is, 5 is a sub-valve installed between each flow path. A first main valve 6a opens and closes a flow path between the reaction furnace 2 and a pump system arranged on the exhaust side thereof. 6b is second
This is the main valve of, installed when the system is long, and not installed when the system is short. 7 is APC (Automatic Pressure Controller),
Reference numeral 8 is a trap for the reaction product, and the arrangements of the trap 8 and the APC 7 may be reversed. Reference numeral 9 is a check valve, which may be hard or operated by putting a pressure switch on the trap 8 side. 10a is a mechanical booster pump, 11a is a rotary pump, 12 is a trap purge, and the first main valve 6a and
The purge gas 3b for trap is flowed in the flow path between the APCs 7. Reference numeral 13 denotes a pump purge, which causes the mechanical booster pump gas 3c to flow in the flow path between the second main valve 6b and the mechanical booster pump 10a. 14a is an inverter for the mechanical booster pump 10a, 15 is an exhaust gas scrubber, and when the reaction gas 1 is flowing, the purge gas diluted with the reaction gas 1 is exhausted,
When the reaction gas 1 is not flowing, the purge gas is exhausted.
ここで、各パージガスには、反応ガス１と反応しない不
活性ガス、例えばN2ガスが用いられる。またポンプシス
テムをメカニカルブースタポンプ10aとロータリポンプ1
1aで構成している。Here, an inert gas that does not react with the reaction gas 1, for example, N 2 gas is used as each purge gas. In addition, the pump system consists of a mechanical booster pump 10a and a rotary pump 1
It consists of 1a.
次に、第３図は従来の減圧気相処理装置の他の一例の構
成を示す概略図である。Next, FIG. 3 is a schematic view showing the configuration of another example of the conventional reduced pressure gas phase treatment apparatus.
この図において、第２図と同一符号は同一部分を示し、
10bはターボ分子ポンプで、一般に中真空（10-1〜10-3T
orr）で用いられる。3dは前記ターボ分子ポンプ10b用バ
ージガス、14bは前記ターボ分子ポンプ10b用のインバー
タである。In this figure, the same symbols as in FIG. 2 indicate the same parts,
10b is a turbo molecular pump, which is generally a medium vacuum (10 -1 to 10 -3 T
orr) is used. 3d is a barge gas for the turbo molecular pump 10b, and 14b is an inverter for the turbo molecular pump 10b.
ここでは、ポンプシステムをターボ分子ポンプ10bとロ
ータリポンプ11aで構成している。Here, the pump system is composed of a turbo molecular pump 10b and a rotary pump 11a.
上記のように、第２図に示した従来の減圧気相処理装置
では、ポンプシステムをメカニカルブースタポンプ10a
とロータリポンプ11aで構成していたが、ポンプオイル
が炉に拡散するという問題や、システムが大型になりや
すく、消費電力等ランニングコストが高くなるという問
題がある。その他、第３図に示したターボ分子ポンプ10
bは、大気圧から使用できるものがなく、一般に中真空
（10-1〜10-3Torr）で用いられ、ターボ分子ポンプ10b
の下段に直列に接続されるロータリポンプ11aが必要に
なるとともに、反応生成物用のトラップ８等も更に必要
となり、設備コストが高くなるという問題点があった。As described above, in the conventional reduced pressure gas phase treatment apparatus shown in FIG. 2, the pump system is the mechanical booster pump 10a.
However, there are problems that pump oil diffuses into the furnace and that the system tends to be large and running costs such as power consumption increase. In addition, the turbo molecular pump 10 shown in FIG.
There is nothing that can be used from atmospheric pressure, b is generally used in medium vacuum (10 -1 to 10 -3 Torr), and turbo molecular pump 10 b
There is a problem in that the rotary pump 11a connected in series to the lower stage becomes necessary, and the trap 8 for the reaction product is further necessary, resulting in an increase in equipment cost.
また、反応生成物の附着によるトラブルや、停電時等に
ハード面の安定対策が行えないなどという問題点もあっ
た。In addition, there were problems such as the attachment of reaction products and the inability to take stable measures on the hardware side during power outages.
特開昭62−280366号公報には、ターボ真空排気ポンプに
並列に希釈用パージガスに駆動されるエゼクタを設け、
このエゼクタを介して排気ポンプの潤滑油容器内部分の
ガスを吸引してこれを排気ポンプのポンプ吐出管に排気
する構成の減圧気相処理装置が開示されている。In JP-A-62-280366, an ejector driven by a dilution purge gas is provided in parallel with a turbo vacuum exhaust pump,
There is disclosed a decompression gas phase treatment apparatus configured to suck a gas in a portion of a lubricating oil container of an exhaust pump through the ejector and exhaust the gas to a pump discharge pipe of the exhaust pump.
この従来例は、確かにターボポンプの軸シール部等の潤
滑油のパージは行えるが、結局パージされた排気はエゼ
クタを介してターボポンプの排気口に排出されるので、
ターボポンプの排気口のメインテナンス自体が軽減され
るわけではない。排気ポンプの排気口は直接大気に晒さ
れることになり、排気ポンプの排気系配管には反応生成
物の附着による汚染によるトラブルのおそれがある。This conventional example can certainly purge the lubricating oil such as the shaft seal portion of the turbo pump, but after all the purged exhaust gas is discharged to the exhaust port of the turbo pump through the ejector,
It does not mean that the maintenance of the exhaust port of the turbo pump is reduced. The exhaust port of the exhaust pump is directly exposed to the atmosphere, and the exhaust system piping of the exhaust pump may have a problem due to contamination due to attachment of reaction products.
かつ、この従来例は、パージガス停止時には従来どおり
油等の逆拡散発生のおそれがある。例えば停電時など、
汚れた配管からパージガスが逆流して、汚染をもたらす
こともあり得ると考えられる。Moreover, in this conventional example, when the purge gas is stopped, the reverse diffusion of oil or the like may occur as in the conventional case. For example, during a power outage
It is conceivable that the purge gas may flow back from the dirty pipe, resulting in contamination.
本考案は、かかる問題点を解決するためになされたもの
で、停電時等にハード面の安全対策が行えるとともに、
反応生成物の附着によるトラブルを低減でき、消費電力
及び設備コストの低減化が可能になる減圧気相処理装置
を得ることを目的とする。The present invention has been made in order to solve such a problem, and in addition to being able to take hardware safety measures in the event of a power failure,
An object of the present invention is to obtain a depressurized gas phase treatment apparatus capable of reducing troubles due to attachment of reaction products and reducing power consumption and equipment cost.
本考案は、反応炉と該反応炉の排気側に配置されたポン
プシステムを備えた減圧気相処理装置において、前記ポ
ンプシステムは、自動圧力制御装置及びトラップを順不
同に介して前記反応炉の排気側と接続された第１のポン
プであるターボポンプと、該第１のポンプの排気側に直
列に接続された第２のポンプであるエグゼクタポンプ
と、該第２のポンプの排気側に接続された排ガススクラ
バとを備え、前記第１のポンプは少なくともほぼ大気圧
から反応炉内の圧力より低い圧力まで減圧を行うポンプ
であり、かつこの第１のポンプはその排気のすべてが第
２のポンプに導かれるものであり、前記第２のポンプは
パージガスを合流させるポンプであり、かつ、この第２
のポンプはその排気のすべてが前記排ガススクラバに導
かれるものであり、該排ガススクラバは反応ガスが流れ
ている時は反応ガスを希釈したパージガスを排気し、反
応ガスが流れていない時はパージガスを排気するもので
あることを特徴とする減圧気相処理装置であって、この
構成により上述した目的を達成するものである。The present invention relates to a decompression gas phase treatment apparatus comprising a reaction furnace and a pump system arranged on the exhaust side of the reaction furnace, wherein the pump system comprises an automatic pressure controller and a trap in random order. Side, a turbo pump that is a first pump, a second pump executor pump that is connected in series to the exhaust side of the first pump, and a second pump that is connected to the exhaust side of the second pump. A first exhaust gas scrubber, the first pump is a pump for reducing the pressure from at least approximately atmospheric pressure to a pressure lower than the pressure in the reactor, and the first pump has all of its exhaust gas of the second pressure. The second pump is a pump that joins the purge gas, and the second pump
Of the exhaust gas is guided to the exhaust gas scrubber, the exhaust gas scrubber exhausts the purge gas diluted with the reaction gas when the reaction gas is flowing, and the purge gas when the reaction gas is not flowing. A reduced pressure gas phase treatment apparatus, which is for exhausting gas, wherein the above object is achieved by this configuration.
本考案の構成について、後記詳述する本考案の一実施例
を用いて説明すると次のとおりである。本考案は、第１
図に例示するように、反応炉２と該反応炉の排気側に配
置されたポンプシステムを備えた減圧気相処理装置にお
いて、自動圧力制御装置７及びトラップ８を順不同に介
して前記反応炉の排気側と接続された第１のポンプ10で
あるターボポンプ（ターボ分子ポンプ）と、該第１のポ
ンプの排気側に直列に接続された第２のポンプであるエ
グゼクタポンプ11と、該第２のポンプの排気側に接続さ
れた排ガススクラバ15とを備え、前記第１のポンプは少
なくともほぼ大気圧から反応炉内の圧力より低い圧力ま
で減圧を行うポンプ10であり、かつこの第１のポンプは
その排気のすべてが第２のポンプに導かれるものであ
り、前記第２のポンプはパージガス３を合流させるポン
プであり、かつ、この第２のポンプはその排気のすべて
が前記排ガススクラバ15に導かれるものであり、該排ガ
ススクラバ15は反応ガス１が流れている時は反応ガス１
を希釈したパージガス３を排気し、反応ガス１が流れて
いない時はパージガス３を排気するものであることを特
徴とした構成にする。The structure of the present invention will be described below with reference to an embodiment of the present invention which will be described in detail later. The present invention is the first
As illustrated in the figure, in a reduced pressure gas phase treatment apparatus equipped with a reactor 2 and a pump system arranged on the exhaust side of the reactor, an automatic pressure control device 7 and a trap 8 are provided in random order through the reactor. A turbo pump (turbo molecular pump) that is the first pump 10 connected to the exhaust side, an executor pump 11 that is a second pump connected in series to the exhaust side of the first pump, An exhaust gas scrubber 15 connected to the exhaust side of the second pump, wherein the first pump is a pump 10 for reducing the pressure from at least approximately atmospheric pressure to a pressure lower than the pressure in the reactor, and The pump is such that all of its exhaust is guided to a second pump, said second pump is a pump that joins purge gas 3, and this second pump is such that all of its exhaust is said exhaust gas scrubber 15 The exhaust gas scrubber 15 reacts with the reaction gas 1 when the reaction gas 1 is flowing.
Is purged, and the purge gas 3 is exhausted when the reaction gas 1 is not flowing.
本考案においては、ほぼ大気圧より減圧を行える第１の
ポンプであるターボポンプにより従来用いられていたロ
ータリポンプ分の消費電力がなくなり、システムの小型
化が可能になる他、第１のポンプの排気側に直列に接続
されて該第１のポンプのすべての排気が導かれるもので
あるとともに、反応ガスを希釈するパージガスを合流さ
せる第２のポンプにより、反応生成物の附着によるトラ
ブルがほとんどなくなり、メインテナンスの手間が低減
できる。即ち、メインテナンスは、パージガスを合流さ
せた第２のポンプの排出口について行うので、第１のポ
ンプの排出口でメインテナンスを行う場合に比してメイ
ンテナンスは容易で、そのランニングコストも低減す
る。特に、減圧気相処理装置に用いる処理ガスは、その
排出ガスが大気と接触する場所で堆積物が生じて溜り易
いガス系であることが多く、このような場合とりわけメ
インテナンスが軽減される度合いが大きい。その点、本
考案では、第１のポンプの排気はすべてこれと直列の第
２のポンプに導かれるとともにパージガスが合流される
ので、反応生成物の附着によるトラブルは抑えられ、消
費電力やコストの面でも有利であり、安全対策上もすぐ
れている。更に、自動圧力制御装置とトラップとの存在
により、安全性は一層高められ、制御性も良好である。
かつ、第２のポンプの排気のすべては排ガススクラバに
導かれて排気されるので、上述したメインテナンスの容
易性、反応生成物の附着によるトラブルの防止、安全対
策などの諸効果が更に確実ならしめられる。According to the present invention, the turbo pump, which is the first pump capable of reducing the pressure from the atmospheric pressure, eliminates the power consumption of the rotary pump that has been conventionally used, which makes it possible to downsize the system. The exhaust pump side is connected in series to guide all the exhaust gas of the first pump, and the second pump that joins the purge gas for diluting the reaction gas almost eliminates the trouble caused by the attachment of the reaction product. The maintenance effort can be reduced. That is, since the maintenance is performed at the discharge port of the second pump into which the purge gas is merged, the maintenance is easier and the running cost is reduced as compared with the case where the maintenance is performed at the discharge port of the first pump. In particular, the process gas used in the reduced pressure gas phase treatment apparatus is often a gas system in which the exhaust gas is likely to accumulate and accumulate in a place where the exhaust gas comes into contact with the atmosphere. large. On the other hand, in the present invention, since the exhaust gas of the first pump is all guided to the second pump in series with the exhaust gas and the purge gas is merged, troubles due to attachment of reaction products can be suppressed, and power consumption and cost can be reduced. It is also advantageous in terms of safety measures. Further, the existence of the automatic pressure control device and the trap further enhances the safety and the controllability.
Moreover, since all of the exhaust gas from the second pump is guided to the exhaust gas scrubber and exhausted, various effects such as the above-mentioned ease of maintenance, prevention of troubles due to attachment of reaction products, and safety measures are further ensured. To be
以下、第１図を参照して、本考案の一実施例を説明す
る。なお当然のことではあるが、本考案は以下に述べる
実施例により限定されるものではない。An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. Of course, the present invention is not limited to the embodiments described below.
第１図において、第２図及び第３図と同一符号は同一ま
たは相当部分を示す。３はパージガスで、反応ガス１を
希釈するために通常数十ｌ流して用いる。10は本考案に
係る第１のポンプとしてのターボ分子ポンプで、少なく
ともほぼ大気圧から反応炉２内の圧力より低い圧力まで
減圧を行えるポンプである。11は第２のポンプとしての
エグゼクタポンプで、パージガス３を合流させるポンプ
である。16はエグゼクタパージで、エグゼクタポンプ11
にバージガス３を流す。In FIG. 1, the same symbols as those in FIGS. 2 and 3 indicate the same or corresponding portions. 3 is a purge gas, which is usually used by diluting the reaction gas 1 by several tens of liters. Reference numeral 10 denotes a turbo molecular pump as a first pump according to the present invention, which is capable of reducing the pressure from at least approximately atmospheric pressure to a pressure lower than the pressure in the reaction furnace 2. Reference numeral 11 denotes an executor pump serving as a second pump, which is a pump that merges the purge gas 3. 16 is the executor purge, the executor pump 11
Pour the barge gas 3 into.
本実施例では、第１図に示すように、反応炉２と該反応
炉の排気側に配置されたポンプシステムを備えた減圧気
相処理装置において、自動圧力制御装置７及びトラップ
８を順不同に介して前記反応炉の排気側と接続された第
１のポンプ10であるターボポンプと、該第１のポンプの
排気側に直列に接続された第２のポンプであるエグゼク
タポンプ11と、該第２のポンプの排気側に接続された排
ガススクラバ15とを備え、前記第１のポンプは少なくと
もほぼ大気圧から反応炉内の圧力より低い圧力まで減圧
を行うポンプ10であり、かつこの第１のポンプはその排
気のすべてが第２のポンプに導かれるものであり、前記
第２のポンプはパージガス３を合流させるポンプであ
り、かつ、この第２のポンプはその排気のすべてが前記
排ガススクラバ15に導かれるものであり、該排ガススク
ラバ15は反応ガス１が流れている時は反応ガス１を希釈
したパージガス３を排気し、反応ガス１が流れていない
時はパージガス３を排気するものであることを特徴とし
た構成をとる。In this embodiment, as shown in FIG. 1, in a reduced pressure gas phase treatment apparatus equipped with a reactor 2 and a pump system arranged on the exhaust side of the reactor, the automatic pressure controller 7 and the trap 8 are arranged in random order. A turbo pump, which is a first pump 10 connected to the exhaust side of the reactor via the exhaust gas, an executor pump 11 that is a second pump connected in series to the exhaust side of the first pump, An exhaust gas scrubber 15 connected to the exhaust side of a second pump, the first pump being a pump 10 for reducing the pressure from at least approximately atmospheric pressure to a pressure lower than the pressure in the reactor, and Of the exhaust gas is guided to the second pump, the second pump joins the purge gas 3, and the second pump has all the exhaust gas of the exhaust gas scrubber. Led to 15 The exhaust gas scrubber 15 discharges the purge gas 3 diluted with the reaction gas 1 when the reaction gas 1 is flowing, and discharges the purge gas 3 when the reaction gas 1 is not flowing. Take a characteristic structure.
本実施例は、ポンプシステムをターボ分子ポンプ10とエ
グゼクタポンプ11を直列に接続して構成しており、従来
用いていたロータリポンプの位置にエグゼクタポンプ11
を設けている。In this embodiment, the pump system is configured by connecting the turbo molecular pump 10 and the executor pump 11 in series, and the executor pump 11 is installed at the position of the rotary pump which has been used conventionally.
Is provided.
即ち、上記実施例では、少なくともほぼ大気圧より減圧
できるターボ分子ポンプ10を設けたので、従来用いてい
たロータリポンプ分の消費電力がなくなり、システムの
小型化が可能になる他、低真空に排気ラインを保てるエ
グゼクタポンプ11の導入により、反応生成物の附着によ
るトラブルを低減できるうえ、メインテナンスの手間が
低減でき、保守管理を容易にできる。That is, in the above embodiment, since the turbo molecular pump 10 capable of reducing the pressure to at least approximately atmospheric pressure is provided, the power consumption of the rotary pump conventionally used is eliminated, the system can be downsized, and the pump is evacuated to a low vacuum. By introducing the executor pump 11 that can keep the line, troubles due to attachment of reaction products can be reduced, maintenance work can be reduced, and maintenance management can be facilitated.
またパージガス３をそのままエグゼクタポンプ11に用い
ることができるため、停電時等にハード面の安全対策を
行うことができる。Further, since the purge gas 3 can be used as it is for the executor pump 11, it is possible to take hardware safety measures in case of a power failure or the like.
本考案によれば、ほぼ大気圧より減圧を行える第１のポ
ンプであるターボポンプ10により従来用いられていたロ
ータリポンプ分の消費電力がなくなり、システムの小型
化が可能になる他、第１のポンプ10の排気側に直列に接
続されて該第１のポンプ10のすべての排気が導かれるも
のであるとともに、反応ガスを希釈するパージガスを合
流させる第２のポンプ11により、反応生成物の附着によ
るトラブルがほとんどなくなり、メインテナンスの手間
が低減できる。メインテナンスは、パージガスを合流さ
せた第２のポンプの排出口について行うので、第１のポ
ンプの排出口でメインテナンスを行う場合に比してメイ
ンテナンスは容易だからである。そのランニングコスト
も低減する。特に、減圧気相処理装置に用いる処理ガス
は、その排出ガスが大気と接触する場所で堆積物が生じ
て溜り易いガス系であることが多く、このような場合と
りわけメインテナンスが軽減される度合いが大きい。そ
の点、本実施例では、第１のポンプ10の排気はすべてこ
れと直列の第２のポンプ11に導かれるとともに、パージ
ガス３が合流されるので、反応生成物の附着によるトラ
ブルは抑えられ、消費電力やコストの面でも有利であ
り、安全対策上もすぐれている。更に、自動圧力制御装
置７とトラップ８との存在により、安全性は一層高めら
れ、制御性も良好である。かつ、第２のポンプ11の排気
のすべては排ガススクラバ15に導かれて排気されるの
で、上述したメインテナンスの容易性、反応生成物の附
着によるトラブルの防止、安全対策などの諸効果が更に
確実ならしめられる。According to the present invention, the turbo pump 10, which is the first pump capable of reducing the pressure from the atmospheric pressure, eliminates the power consumption of the rotary pump conventionally used, which makes it possible to downsize the system. The second pump 11 is connected in series to the exhaust side of the pump 10 so as to guide all the exhaust of the first pump 10, and the reaction product is attached by a second pump 11 which joins a purge gas for diluting the reaction gas. Almost no trouble caused by, and maintenance labor can be reduced. This is because the maintenance is performed on the discharge port of the second pump into which the purge gas is merged, and therefore the maintenance is easier than when the maintenance is performed on the discharge port of the first pump. The running cost is also reduced. In particular, the process gas used in the reduced pressure gas phase treatment apparatus is often a gas system in which the exhaust gas is likely to accumulate and accumulate in a place where the exhaust gas comes into contact with the atmosphere, and in such a case, the degree of reduction in maintenance is particularly high. large. In this respect, in the present embodiment, all the exhaust gas of the first pump 10 is guided to the second pump 11 in series therewith, and the purge gas 3 is merged, so that the trouble due to the attachment of the reaction product is suppressed, It is also advantageous in terms of power consumption and cost, and has excellent safety measures. Further, the existence of the automatic pressure control device 7 and the trap 8 further enhances the safety and the controllability. Moreover, since all the exhaust gas of the second pump 11 is guided to the exhaust gas scrubber 15 and exhausted, various effects such as the above-mentioned ease of maintenance, prevention of troubles due to attachment of reaction products, and safety measures are further ensured. Can be trained.
なお、上記実施例では、Hot−Wall横型の減圧気相処理
装置について説明したが、本考案はこれに限定されるも
のでなく、例えばHot−Wall縦型の装置は勿論、その他
の減圧気相処理装置にも適用できる。In the above embodiment, the hot-wall horizontal type reduced pressure gas phase treatment apparatus has been described, but the present invention is not limited to this, and for example, a hot-wall vertical type apparatus as well as other reduced pressure gas phase treatment apparatus. It can also be applied to processing equipment.
また、上記実施例では、反応ガス１を希釈して流炉内を
浄化するためにパージガス３をエグゼクタポンプ11へ流
す場合を述べたが、反応ガス１を流していない時でもバ
ージガス３を流すことができ、この場合も流炉内の浄化
を行うことが可能である。Further, in the above embodiment, the case where the purge gas 3 is flown to the executor pump 11 in order to dilute the reaction gas 1 and purify the inside of the flow furnace has been described, but the purge gas 3 is flown even when the reaction gas 1 is not flown. It is possible to clean the inside of the flow furnace in this case as well.
上述の如く本考案によれば、反応生成物の附着によるト
ラブルがほとんどなくなり、ハード面の安全対策が行え
るうえ、メインテナンス、ランニングコスト及び設備コ
ストの低減を行えるという効果がある。As described above, according to the present invention, there is almost no trouble due to attachment of reaction products, safety measures can be taken on the hardware side, and maintenance, running cost, and equipment cost can be reduced.
第１図は、本考案の減圧気相処理装置の一実施例の構成
を示す概略図、第２図は、従来の減圧気相処理装置の一
例の構成を示す概略図、第３図は、従来の減圧気相処理
装置の他の一例の構成を示す概略図である。 ２…反応炉、３…パージガス、７…自動圧力制御装置、
８…トラップ、10…ターボ分子ポンプ（第１のポン
プ）、11…エグゼクタポンプ（第２のポンプ）、15…排
ガススクラバ。FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of an embodiment of the reduced pressure gas phase treatment apparatus of the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram showing the configuration of an example of a conventional reduced pressure gas phase treatment apparatus, and FIG. It is the schematic which shows the structure of another example of the conventional pressure reduction vapor phase processing apparatus. 2 ... Reactor, 3 ... Purge gas, 7 ... Automatic pressure control device,
8 ... Trap, 10 ... Turbo molecular pump (first pump), 11 ... Executor pump (second pump), 15 ... Exhaust gas scrubber.
Claims (1)
ンプシステムを備えた減圧気相処理装置において、 前記ポンプシステムは、 自動圧力制御装置及びトラップを順不同に介して前記反
応炉の排気側と接続された第１のポンプであるターボポ
ンプと、 該第１のポンプの排気側に直列に接続された第２のポン
プであるエグゼクタポンプと、 該第２のポンプの排気側に接続された排ガススクラバと
を備え、 前記第１のポンプは少なくともほぼ大気圧から反応炉内
の圧力より低い圧力まで減圧を行うポンプであり、かつ
この第１のポンプはその排気のすべてが第２のポンプに
導かれるものであり、 前記第２のポンプはパージガスを合流させるポンプであ
り、かつ、この第２のポンプはその排気のすべてが前記
排ガススクラバに導かれるものであり、 該排ガススクラバは反応ガスが流れている時は反応ガス
を希釈したパージガスを排気し、反応ガスが流れていな
い時はパージガスを排気するものである ことを特徴とする減圧気相処理装置。1. A reduced pressure gas phase treatment apparatus comprising a reaction furnace and a pump system arranged on the exhaust side of the reaction furnace, wherein the pump system comprises an automatic pressure control device and a trap in random order. A turbo pump, which is a first pump connected to the exhaust side, an executor pump, which is a second pump connected in series to the exhaust side of the first pump, and an exhaust side of the second pump, An exhaust gas scrubber connected to the first pump, wherein the first pump is a pump for reducing the pressure from at least approximately atmospheric pressure to a pressure lower than the pressure in the reactor, and the first pump has all the exhaust gas of the second pressure. The second pump is a pump for combining purge gas, and the second pump is such that all of its exhaust gas is guided to the exhaust gas scrubber. Ri, exhaust gas scrubber when the reaction gas is flowing to the exhaust purge gas obtained by diluting the reaction gases, vacuum vapor processing apparatus, characterized in that when the reaction gas is not flowing is to exhaust the purge gas.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987121259U JPH0729626Y2 (en) | 1987-08-07 | 1987-08-07 | Reduced pressure gas phase treatment equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987121259U JPH0729626Y2 (en) | 1987-08-07 | 1987-08-07 | Reduced pressure gas phase treatment equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6426832U JPS6426832U (en) | 1989-02-15 |
| JPH0729626Y2 true JPH0729626Y2 (en) | 1995-07-05 |
Family
ID=31368104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987121259U Expired - Lifetime JPH0729626Y2 (en) | 1987-08-07 | 1987-08-07 | Reduced pressure gas phase treatment equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729626Y2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0730568B2 (en) * | 1990-11-28 | 1995-04-05 | 富士見園芸資材株式会社 | Greening method for concrete retaining wall |
| JP2662139B2 (en) * | 1992-04-28 | 1997-10-08 | 有限会社北勝建設 | Wall construction equipment |
| JP3801286B2 (en) * | 1997-02-03 | 2006-07-26 | 三菱重工業株式会社 | Safety device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62280366A (en) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Hitachi Ltd | Decompression chemical vapor phase deposition device |
-
1987
- 1987-08-07 JP JP1987121259U patent/JPH0729626Y2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62280366A (en) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Hitachi Ltd | Decompression chemical vapor phase deposition device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6426832U (en) | 1989-02-15 |
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