JPH0729219A - Production of optical disk - Google Patents

Production of optical disk

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Publication number
JPH0729219A
JPH0729219A JP16885793A JP16885793A JPH0729219A JP H0729219 A JPH0729219 A JP H0729219A JP 16885793 A JP16885793 A JP 16885793A JP 16885793 A JP16885793 A JP 16885793A JP H0729219 A JPH0729219 A JP H0729219A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
master
stamper
film
information
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP16885793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinkichi Horigome
信吉 堀籠
Yoshinori Miyamura
芳徳 宮村
Yumiko Anzai
由美子 安齋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP16885793A priority Critical patent/JPH0729219A/en
Publication of JPH0729219A publication Critical patent/JPH0729219A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To mass-produce optical disks only for reproduction such as CD-ROM at a low cost in a short time. CONSTITUTION:An information pattern on a master is transferred to a transparent substrate of plastic, etc., by a 2P method using a UV-curing resin to produce a replicated master 8. Many such replicated masters 8 are two-dimensionally arranged on a plate 9 of plastic, etc., fixed and plated with Ni to produce an Ni stamper having many information patterns by a single plating process. This Ni stamper is fed into an injection molding machine and a substrate having many information patterns is molded by a single molding process, or the many information patterns of the Ni stamper are cut into Ni stampers, these stampers are fed into an injection molding machine and optical disk substrates are simultaneously produced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、CD−ROMなどの再
生専用型光ディスクの製法に係り、特に、情報パターン
転写用スタンパの作製法、およびこれを用いた基板成形
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a read-only type optical disk such as a CD-ROM, and more particularly to a method of manufacturing an information pattern transfer stamper and a substrate molding method using the stamper.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスクには再生専用型と読み書き可
能型とがある。前者にはレーザディスク(LD)やコン
パクトディスク(CD)があり、現在大量に生産されて
いる。再生専用型ディスクにはこれら以外に、マルチメ
ディア媒体としてCD−ROM,CD−Iなどがあり、
これらは現在大きく発展しつつある。とくに、電子出版
物としてのCD−ROMに対する期待は大きい。現在、
CD−ROMは、辞書,ナビゲーション用地図,電話
帳,特許明細書,教材,百科辞典,ゲーム用ソフトなど
に使用されている。さらに、将来は新聞や週刊誌のよう
に即時性と大量部数の要求される分野にも展開されるも
のと予想されている。従来の紙に比べれば、情報量あた
りの重量と容積は非常に小さくなり、森林資源上、また
廃棄物の点でも有利となるはずである。また、光ディス
クの材料であるプラスチックは再生利用の可能性も高
い。
2. Description of the Related Art Optical discs include a read-only type and a readable / writable type. The former includes a laser disk (LD) and a compact disk (CD), which are currently mass-produced. In addition to these, there are CD-ROMs, CD-Is, etc. as multimedia media in the read-only disc
These are now undergoing great development. In particular, there are great expectations for CD-ROMs as electronic publications. Current,
CD-ROMs are used in dictionaries, navigation maps, telephone directories, patent specifications, teaching materials, encyclopedias, game software, and the like. Furthermore, it is expected that it will be applied to fields such as newspapers and weekly magazines that require immediacy and a large number of copies. Compared to conventional paper, the weight and volume per information volume will be much smaller, which should be advantageous in terms of forest resources and waste. In addition, the plastic material of the optical disc has a high possibility of being recycled.

【0003】従来技術による再生専用型光ディスクの作
製プロセスはつぎのとおりである。まず、ガラス基板上
にポジ型フォトレジストを塗布する。このフォトレジス
ト膜に情報に対応して変調されたレーザビームを照射す
る。これはカッティング工程と呼ばれている。これを現
像すれば光照射部が溶解除去され、情報が凹状ピットと
してフォトレジスト膜に形成される。これは原盤と呼ば
れている。
The manufacturing process of a read-only optical disc according to the prior art is as follows. First, a positive photoresist is applied on a glass substrate. The photoresist film is irradiated with a laser beam modulated in accordance with information. This is called the cutting process. When this is developed, the light irradiation portion is dissolved and removed, and information is formed in the photoresist film as concave pits. This is called the master.

【0004】つぎに、この原盤のフォトレジスト膜上
に、Niなどの導電性膜を、スパッタ法,蒸着法、ある
いは無電解めっき法により設ける。この導電性膜を電極
としてめっき法により厚さ約300μmのNi層を形成
する。このめっきには3時間から6時間と長い時間がか
かっている。しかも、できるのは1枚だけである。Ni
層を原盤から剥離する。このとき、フォトレジストがN
i層表面に残留している時には、酸素のプラズマアッシ
ングにより除去する。このNi層の外周などを加工して
Niスタンパができあがる。
Next, a conductive film such as Ni is provided on the photoresist film of the master by a sputtering method, a vapor deposition method or an electroless plating method. Using this conductive film as an electrode, a Ni layer having a thickness of about 300 μm is formed by a plating method. This plating takes a long time of 3 to 6 hours. Moreover, only one can be done. Ni
Peel the layers from the master. At this time, the photoresist is N
When it remains on the surface of the i layer, it is removed by plasma ashing of oxygen. The outer periphery of this Ni layer is processed to form a Ni stamper.

【0005】このようなプロセスでは、原盤1枚から
は、1枚のNiスタンパしか得られない。また、この1
枚目のNiスタンパにもう一度めっきをし、2枚目のN
iスタンパを作ることできる。この2枚目のスタンパ表
面の情報用ピットは凹状になっている。凹ピットスタン
パを用いて、射出成形すると光ディスク基板材料である
プラスチックの溶融物がこの凹ピットの中に入り難い。
そのために、所定の深さの情報ピットを有する基板を成
形することが出来ないという問題がある。しかし、この
2枚目のスタンパからめっき法により3枚目のスタンパ
を作れば、凸状ピットを有するスタンパが得られ、正常
な射出成形が可能となる。
In such a process, only one Ni stamper can be obtained from one master. Also this 1
The second Ni stamper is plated once again and the second N
You can make an i stamper. The information pit on the surface of the second stamper is concave. When injection molding is performed using a concave pit stamper, it is difficult for the melted material of plastic, which is the optical disk substrate material, to enter the concave pits.
Therefore, there is a problem that a substrate having information pits with a predetermined depth cannot be formed. However, if a third stamper is formed from this second stamper by a plating method, a stamper having convex pits can be obtained, and normal injection molding can be performed.

【0006】得られたNiスタンパを用いて基板を成形
するには、二つの方法がある。一つは、前述の射出成形
法であり、二つめは紫外線硬化樹脂を使用する2P法で
ある。現在、CD,CD−ROM,LDは射出成形法で
製造されている。この方法では、Niスタンパを装着し
た金型内に溶融したポリカーボネートを高圧で充填した
あと、冷却し取り出されるものである。約350℃の樹
脂を80℃近くまで冷却させるために、10秒前後の時
間が必要となっている。このようにして成形された基板
の情報ピットのある表面にAlなどの反射膜を設ける。
このAl膜の表面に紫外線硬化樹脂を用いた保護膜を形
成して光ディスクは完成する。
There are two methods for molding a substrate using the obtained Ni stamper. One is the above-mentioned injection molding method, and the second is the 2P method using an ultraviolet curable resin. Currently, CDs, CD-ROMs, and LDs are manufactured by the injection molding method. In this method, molten polycarbonate is filled at high pressure in a mold equipped with a Ni stamper, then cooled and taken out. It takes about 10 seconds to cool the resin at about 350 ° C to about 80 ° C. A reflective film of Al or the like is provided on the surface of the thus formed substrate having the information pits.
An optical disk is completed by forming a protective film using an ultraviolet curable resin on the surface of this Al film.

【0007】一方、CD−ROMを新聞や週刊誌などに
適用するためには、スタンパやレプリカを現在の印刷技
術に匹敵する速度で作製する必要がある。ところが、従
来技術では前述のように製造速度が遅過ぎて、これに応
えることが出来ない。具体的には、ユーザからオリジナ
ル情報を入手次第、まず、原盤を作る。つぎに、めっき
法により1枚目のNiスタンパを作製する。この1枚目
のNiスタンパは凸ピットでありそのまま射出成形に用
いることが出来る。しかし、1枚だけのスタンパでは、
射出成形の速度が低いので、とても大量枚数を作ること
が出来ない。
On the other hand, in order to apply the CD-ROM to newspapers and weekly magazines, it is necessary to manufacture stampers and replicas at a speed comparable to that of the current printing technology. However, in the conventional technique, the manufacturing speed is too slow as described above, and it is not possible to respond to this. Specifically, as soon as the original information is obtained from the user, a master is made. Next, the first Ni stamper is manufactured by the plating method. This first Ni stamper is a convex pit and can be used as it is for injection molding. However, with only one stamper,
Since the injection molding speed is low, it is not possible to make a large number of sheets.

【0008】そこで、Niスタンパを多数枚作り、複数
台の射出成形装置でレプリカ基板を作ることになる。そ
のためには二つの方法がある。一つは同じ情報のカッテ
ィングを繰返しおこない、原盤を多数枚作製し、個々の
原盤からNiスタンパを作る方法である。二つめは、1
枚のNiスタンパから多数回メッキすることにより多数
枚スタンパを作る方法である。
Therefore, a large number of Ni stampers are produced and replica substrates are produced by a plurality of injection molding machines. There are two ways to do that. One is a method in which cutting of the same information is repeated to produce a large number of masters and Ni stampers are made from the individual masters. The second is 1.
This is a method of making a large number of stampers by plating a large number of Ni stampers.

【0009】前者では、1回のカッティング工程に30
〜60分と時間がかかり、しかも作製される原盤は、厳
密に検査されるのでその歩留にも限界がある。また、カ
ッティング装置は非常に高価なものであり、一つの情報
だけに長時間を費やすことは効率が悪い。一方、2番目
の方法では、めっきを繰り返せば、得られるスタンパの
数は2倍ずつ増加していくことになる。しかし、この場
合には半数のスタンパが凹ピットとなっており、射出成
形装置にかけることができない。しかもめっきには3〜
6時間かかる。つまり、Niスタンパを多数枚作るには
時間がかかり過ぎて、即時性の要求を満たすことができ
ない。
In the former case, 30 times are required for one cutting process.
It takes as long as -60 minutes and the produced master is strictly inspected, so its yield is limited. Further, the cutting device is very expensive, and it is inefficient to spend a long time on only one piece of information. On the other hand, in the second method, if plating is repeated, the number of stampers obtained will increase by a factor of two. However, in this case, half of the stampers are concave pits and cannot be applied to the injection molding device. Moreover, 3 ~ for plating
It takes 6 hours. That is, it takes too much time to make a large number of Ni stampers, and it is not possible to satisfy the demand for immediacy.

【0010】また、従来の射出成形の速度では、スタン
パが短時間できたとしても、即時性と大量部数の要求を
満足させることはできない。
Further, at the conventional injection molding speed, even if the stamper can be formed for a short time, it is not possible to satisfy the requirements of immediacy and a large number of copies.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の欠点を解決し、再生専用型光ディスクを短時間で大
量に作製する方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned drawbacks of the prior art and provides a method for producing a large number of read-only optical disks in a short time.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】原盤から紫外線硬化樹脂
(UV樹脂)を用いた2P(Photopolymerization)法に
より原盤上の情報パターンをプラスチック、あるいはガ
ラス基板上に転写させる。この転写された基板をレプリ
カ原盤と呼ぶことにする。このプロセスは短時間で転写
でき、しかも1枚の原盤から多数回の転写が可能であ
る。このようにして得られた多数枚のレプリカ原盤をプ
ラスチックなどの板に二次元的に並べ固定する。この上
にNiなどの金属薄膜を設けたあと、Niめっきをおこ
なう。このようにして、1回のめっきプロセスにより多
数の情報パターンを有する1枚のNiスタンパを作製す
る。このNiスタンパを射出成形装置にかけ、一回の成
形プロセスにより多数の情報パターンを有する基板を成
形する。また、多数の情報パターンを1枚ずつのNiス
タンパに切り離し、各々を射出成形装置にかけて、一斉
に光ディスク基板を作製する。
Means for Solving the Problems An information pattern on the master is transferred from a master to a plastic or glass substrate by a 2P (Photopolymerization) method using an ultraviolet curable resin (UV resin). This transferred substrate will be called a replica master. This process can transfer in a short time, and more than one transfer can be performed from one master. A large number of replica masters thus obtained are two-dimensionally arranged and fixed on a plate made of plastic or the like. After providing a metal thin film of Ni or the like on this, Ni plating is performed. Thus, one Ni stamper having many information patterns is manufactured by one plating process. This Ni stamper is applied to an injection molding device to mold a substrate having a large number of information patterns by one molding process. Further, a large number of information patterns are separated into Ni stampers one by one, and each is subjected to an injection molding apparatus to simultaneously manufacture optical disk substrates.

【0013】[0013]

【作用】1枚の原盤から、短時間のうちに多数枚のNi
スタンパが得られ、しかも一回の射出成形プロセスで一
挙に多数枚の基板を作ることができるので、CD−ROM
を高速で、安価に製造することができる。
[Function] A large number of Ni sheets can be produced from one master in a short time.
Since a stamper can be obtained and a large number of substrates can be made at once by one injection molding process, CD-ROM
Can be manufactured at high speed and at low cost.

【0014】[0014]

【実施例】図1(a)に示すように、ガラス基板1上に
ネガ型フォトレジスト2を0.1〜0.2μm の厚さに
塗布する。これをカッティング装置にかけて情報に応じ
て変調されたレーザビーム3を照射する。これを現像す
ると図1(b)に示すように光の照射したところが凸状
のマーク4が得られる。
EXAMPLE As shown in FIG. 1A, a negative photoresist 2 is applied on a glass substrate 1 to a thickness of 0.1 to 0.2 μm. This is applied to a cutting device to irradiate the laser beam 3 modulated according to information. When this is developed, as shown in FIG. 1 (b), a convex mark 4 is obtained where the light is irradiated.

【0015】ネガ型レジストは、ポジ型画像反転レジス
トを使用することができる。これは元々はポジ型である
が、露光後熱処理(リバーサルベーク)してから現像す
ると、ネガ型となるレジストである。
As the negative type resist, a positive type image reversal resist can be used. This is a positive resist from the beginning, but it is a negative resist when it is subjected to a heat treatment after exposure (reversal bake) and then developed.

【0016】この上に離型膜として、Ti,Al,Al
−Ti合金などの膜をスパッタリング法などで形成す
る。その上に液状のUV樹脂5を置き、上方からUV光
を透過させるプラスチック、あるいはガラスの板7を押
しつけUV樹脂を拡げる。つぎに、透明板7側からUV
光を照射し樹脂を硬化させたあと、離型膜と硬化したU
V樹脂層との間で剥離させると、図1(c)に示すよう
に情報マークの転写されたレプりカ原盤が得られる。こ
の場合、情報マーク6は凹状となっている。このような
UV樹脂による転写を繰り返すことにより、一つの原盤
から数十枚のレプリカ原盤を作ることが出来る。
On top of this, as a release film, Ti, Al, Al
-A film of Ti alloy or the like is formed by a sputtering method or the like. A liquid UV resin 5 is placed thereon, and a plastic or glass plate 7 that transmits UV light is pressed from above to spread the UV resin. Next, UV from the transparent plate 7 side
After irradiating light to cure the resin, the release film and the cured U
When peeled from the V resin layer, a replica master having information marks transferred thereon is obtained as shown in FIG. In this case, the information mark 6 is concave. By repeating such transfer with the UV resin, it is possible to make several tens of replica masters from one master.

【0017】つぎに、図1(d)に示すように、これら
のレプリカ原盤8をプラスチック,ガラスなどの板9に
貼付る。板9には、予めレプリカ原盤が丁度入るような
凹みが形成されている。レプリカ基板と凹みとの間に隙
間がある場合には、接着剤などで埋め平坦にする。この
上に、Niなどの薄膜を設ける。これには、無電解めっ
き法,スパッタリング法,蒸着法を利用することができ
る。つぎに、これをスルファミン酸ニッケル水溶液中に
浸しNi層の厚さが約300μmとなるまで、めっきを
おこなう。
Next, as shown in FIG. 1D, these replica masters 8 are attached to a plate 9 made of plastic, glass or the like. The plate 9 is preliminarily formed with a recess into which the replica master is exactly inserted. If there is a gap between the replica substrate and the recess, it is filled with an adhesive or the like to be flat. A thin film of Ni or the like is provided on this. For this, an electroless plating method, a sputtering method, or a vapor deposition method can be used. Next, this is immersed in a nickel sulfamate aqueous solution and plating is performed until the thickness of the Ni layer becomes approximately 300 μm.

【0018】このあと、このNiめっき層を板9から剥
離する。このようにして得られるスタンパの情報ピット
は射出成形に適した凸状となっている。また、1枚のニ
ッケル板には、同じ情報を持つ多数のCD−ROMパタ
ーンが形成されている。これをそのまま射出成形装置に
セットすれば、一回の成形で多数枚のパターン転写がで
きる。成形されたプラスチックの板の表面にスパッタリ
ング法などでAlなどの反射膜を設ける。さらにその上
に保護膜として薄いプラスチックフィルムを接着させ
る。つぎに、同心円状、あるいは螺旋状パターンの中心
を検出し、機械的に内周と外周とを打ち抜いてCD−R
OMディスクが完成する。また、射出成形された板の段
階で打ち抜いてから、反射膜,保護膜を形成してディス
クとすることもできる。
Then, the Ni plating layer is peeled off from the plate 9. The information pit of the stamper thus obtained has a convex shape suitable for injection molding. A large number of CD-ROM patterns having the same information are formed on one nickel plate. If this is set as it is in the injection molding device, a large number of patterns can be transferred by one molding. A reflective film of Al or the like is provided on the surface of the molded plastic plate by a sputtering method or the like. Further, a thin plastic film is adhered on it as a protective film. Next, the center of the concentric or spiral pattern is detected, and the inner and outer peripheries are mechanically punched to make the CD-R.
The OM disc is completed. Alternatively, the disc may be formed by punching at the stage of the injection-molded plate and then forming the reflection film and the protective film.

【0019】原盤を作る際に、図2に示すように、ネガ
型フォトレジストの代わりにポジ型フォトレジスト10
を使用することもできる。この場合には、図2(c)に
示すように、まず原盤から1枚目のレプリカ原盤をつく
る。これの記録マーク11は凸状となっており、このま
まNiめっきをすると、凹状のスタンパとなり射出成形
に適さないものとなる。そこで、図2(d)のように2
枚目のレプリカ原盤を取り、つぎのめっきプロセスへ回
す。あとは前述と同じ方法で光ディスクを作製すること
ができる。
In making a master, as shown in FIG. 2, a positive type photoresist 10 is used instead of the negative type photoresist.
Can also be used. In this case, as shown in FIG. 2C, first, a first replica master is made from the master. The recording mark 11 has a convex shape, and if Ni plating is performed as it is, it becomes a concave stamper and is not suitable for injection molding. Therefore, as shown in FIG.
Take the first replica master and send it to the next plating process. After that, the optical disc can be manufactured by the same method as described above.

【0020】一方、図3に示す方法でもレプリカ原盤を
作ることができる。最初に、ガラス、あるいは透明なプ
ラスチックの円形基板12の上に、レーザビームによっ
て、膜の透過率が低下する記録膜13を設ける。この記
録膜としては、例えば、レーザビームによって微細な穴
が形成されるカルコゲナイド膜や色素膜を使うことが出
来る。また、基板12と記録膜13との間にレーザビー
ムのトラッキングのための案内溝が形成してあると、高
価なカッティング装置を必要とせず、市販されている安
価な光ディスク装置で情報を記録することができる。案
内溝は、ガラス基板の場合にはUV樹脂を使用する2P
法で、またプラスチック基板の場合には射出成形法で作
製することができる。
On the other hand, a replica master can also be produced by the method shown in FIG. First, a recording film 13 whose transmittance is reduced by a laser beam is provided on a circular substrate 12 made of glass or transparent plastic. As this recording film, for example, a chalcogenide film or a dye film in which fine holes are formed by a laser beam can be used. Further, if a guide groove for tracking the laser beam is formed between the substrate 12 and the recording film 13, an expensive cutting device is not required, and information is recorded by a commercially available inexpensive optical disk device. be able to. The guide groove is 2P using UV resin in case of glass substrate
Method, or in the case of a plastic substrate, an injection molding method.

【0021】この記録膜付き基板に、情報の記録マーク
として穴14を形成し、これをフォトマスクとして使用
する。図3(c)に示すように、ガラス基板1の上に塗
布されたネガ型フォトレジスト2に前記フォトマスクを
密着させてUV光を露光する。これを現像すれば、図2
(d)のように記録マーク4は凸状となる。これから2
P法により、レプリカ原盤(e)が得られる。これから
Niスタンパを作るのは前述のとおりである。ネガ型の
代わりに、ポジ型フォトレジストを使用する際には、図
2に示すようにレプリカ原盤を2回取ることにより凸型
のスタンパを得ることができる。
A hole 14 is formed as a recording mark of information on this substrate with a recording film, and this is used as a photomask. As shown in FIG. 3C, the photomask is brought into close contact with the negative photoresist 2 coated on the glass substrate 1 and exposed to UV light. If this is developed,
As shown in (d), the recording mark 4 has a convex shape. From now on 2
A replica master (e) is obtained by the P method. The Ni stamper is made from this as described above. When a positive photoresist is used instead of the negative photoresist, a convex stamper can be obtained by taking the replica master twice as shown in FIG.

【0022】本技術は、上記のような再生専用型光ディ
スクだけでなく、追記型や可逆型光ディスク用基板の作
製にも適用することができる。
The present technique can be applied not only to the read-only type optical disc as described above, but also to the production of a write-once type or reversible type optical disc substrate.

【0023】(実施例1)厚さ10mmのガラス基板1の
上にネガ型レジスト2として、ポジ型画像反転フォトレ
ジストAZ−5200Eを0.11μm の厚さに回転塗
布し,80℃で一時間ベーキングした。これをArイオ
ンレーザビームを備えたカッティング装置にかけ、図1
(a)に示すように情報に応じて変調されたレーザ光ビ
ーム3を照射する。記録マークは螺旋状に記録し、その
トラックピッチ1.6μm とした。つぎに、これを12
0℃で5分間熱処理(リバーサルベーク)を行い、さら
に全面均一露光を行ったあと、現像処理をした。この場
合、あたかもネガ型のように光の照射された記録マーク
4は凸状として形成される。
(Example 1) As a negative resist 2, a positive image reversal photoresist AZ-5200E was spin-coated to a thickness of 0.11 μm on a glass substrate 1 having a thickness of 10 mm, and then at 80 ° C. for 1 hour. I baked. This was applied to a cutting device equipped with an Ar ion laser beam, and
As shown in (a), the laser light beam 3 modulated according to information is irradiated. The recording marks were recorded spirally and the track pitch was set to 1.6 μm. Next, this is 12
After heat treatment (reversal bake) at 0 ° C. for 5 minutes, uniform exposure over the entire surface was performed, and then development processing was performed. In this case, the recording mark 4 irradiated with light is formed in a convex shape as if it were a negative type.

【0024】これをポストベークしたあと、スパッタリ
ング装置によりTiの離型層を50nmの厚さに形成し
た。このTi膜の表面にアクリル系の液状のUV樹脂5
を置き、その上から厚さ2mmの円板状PMMA(アクリ
ル)基板7を押しつけてUV樹脂を拡げる。アクリル基
板側からUV光を照射しUV樹脂を硬化させた。つぎ
に、Ti膜とUV樹脂層との間で剥離し、図1(c)に
示すようなレプリカ原盤ができあがる。このUV樹脂の
プロセスを繰り返すことにより7枚のレプリカ原盤を作
製した。
After this was post-baked, a Ti release layer was formed to a thickness of 50 nm by a sputtering device. Acrylic liquid UV resin 5 on the surface of this Ti film
Then, a disk-shaped PMMA (acrylic) substrate 7 having a thickness of 2 mm is pressed from above to spread the UV resin. UV light was irradiated from the acrylic substrate side to cure the UV resin. Next, the Ti film and the UV resin layer are separated from each other, and a replica master as shown in FIG. 1C is completed. By repeating this UV resin process, seven replica masters were produced.

【0025】つぎに、図1(d)に示すように、厚さ5
mmのPMMA板9にレプリカ原盤8が入る窪みをつく
り、その中にレプリカ原盤を接着させた。また、隙間に
も接着剤を詰めて平坦にした。これにスパッタリング法
により厚さ60nmのNi膜を設けた。
Next, as shown in FIG. 1 (d), a thickness of 5
A recess for accommodating the replica master 8 was made in the PMMA plate 9 of mm, and the replica master was adhered therein. The gap was also filled with an adhesive to make it flat. A Ni film having a thickness of 60 nm was provided on this by a sputtering method.

【0026】つぎに、これをスルファミン酸ニッケル浴
に浸し、厚さ約300μmのNi層をめっきした。UV
樹脂層とNi層との間で剥離することにより、7枚の情
報パターンを持つNiスタンパを得ることができた。こ
のスタンパの情報マークは、射出成形に適した凸状とな
っている。このスタンパを射出成形装置にセットし、ポ
リカーボネートを用いて基板を成形した。
Next, this was immersed in a nickel sulfamate bath and a Ni layer having a thickness of about 300 μm was plated. UV
By peeling between the resin layer and the Ni layer, a Ni stamper having seven information patterns could be obtained. The information mark of this stamper has a convex shape suitable for injection molding. This stamper was set in an injection molding device, and a substrate was molded using polycarbonate.

【0027】7枚の情報パターンを持つこのポリカーボ
ネート基板を、連続的にスパッタリング装置内を通過さ
せて、約60nm厚さのAl反射膜を形成した。つぎ
に、Al膜の上に、粘着剤のついた厚さ100μmのプ
ラスチックフィルムを密着させた。最後に、各情報パタ
ーンの中心を光学的手段で検出しながら、3.5 インチ
のCD−ROMとして打ち抜いた。この際、中心検出
は、1個のパターンで行い、打ち抜きは7枚を同時に打
ち抜いた。
This polycarbonate substrate having seven information patterns was continuously passed through a sputtering apparatus to form an Al reflection film having a thickness of about 60 nm. Next, on the Al film, a 100 μm-thick plastic film with an adhesive was adhered. Finally, the center of each information pattern was detected by optical means, and punched out as a 3.5-inch CD-ROM. At this time, center detection was performed with one pattern, and punching was performed on seven sheets at the same time.

【0028】得られたCD−ROMの電気信号特性は、
従来技術によるCD−ROMと同等であった。また、追
記型や可逆型光ディスク用基板もこのプロセスで作製し
た。この場合には、Alの反射膜の代わりに、各々Te
系穴形成型記録膜,GeSbTe相変化記録膜,TbF
eCo光磁気記録膜などを積層し評価したところ、良質
の基板であることが確認できた。
The electrical signal characteristics of the obtained CD-ROM are as follows:
It was equivalent to a conventional CD-ROM. In addition, write-once and reversible optical disk substrates were also manufactured by this process. In this case, instead of the reflective film of Al, each Te
System hole forming type recording film, GeSbTe phase change recording film, TbF
When an eCo magneto-optical recording film or the like was laminated and evaluated, it was confirmed that the substrate was a good quality.

【0029】(実施例2)図3を用いて説明する。ま
ず、直径3.5インチ、厚さ1.2mmのポリカーボネート
基板12を準備した。この基板には、トラックピッチ
1.6μm,幅0.5μm,深さ0.08μm の案内溝が
螺旋状に形成されている。この基板上に下地膜として、
厚さ約40nmのF系ポリマー膜をスパッタリング法で
形成した(図には示していない)。
(Embodiment 2) This will be described with reference to FIG. First, a polycarbonate substrate 12 having a diameter of 3.5 inches and a thickness of 1.2 mm was prepared. On this substrate, a guide groove having a track pitch of 1.6 μm, a width of 0.5 μm and a depth of 0.08 μm is spirally formed. As a base film on this substrate,
An F-based polymer film having a thickness of about 40 nm was formed by the sputtering method (not shown in the figure).

【0030】つぎに、下地膜表面に記録膜13として、
厚さ約25nmのTeSePbを同じくスパッタリング
により積層した。これを市販されている追記型光ディス
ク装置にかけて、情報を記録した。図3(b)に示すよ
うに、微細な穴14として記録され、穴のところの反射
率が低下する。この記録された基板をフォトマスクとし
て使用する。一方、厚さ2mmのガラス基板1の上にネガ
型レジスト2として、ポジ型画像反転フォトレジストを
0.11μm の厚さに塗布した。つぎに、図3(c)に
示すように、このレジスト膜にフォトマスクの記録膜側
を密着させて、UV光15を露光した。これをリバーサ
ルベークしたあと現像すると、図3(d)のように記録マ
ーク4は凸状になっている。ただし、この際案内溝は転
写されない。溝部は記録膜に覆われておりUV光を透過
させないからである。これは、実施例1における図1
(b)に示した原盤に相当している。このあとは、実施
例1と全く同じプロセスでCD−ROMを作製した。
Next, as the recording film 13 on the surface of the base film,
TeSePb having a thickness of about 25 nm was also laminated by sputtering. Information was recorded by applying this to a commercially available write-once optical disc device. As shown in FIG. 3B, it is recorded as a fine hole 14, and the reflectance at the hole is reduced. This recorded substrate is used as a photomask. On the other hand, as a negative resist 2, a positive image reversal photoresist was applied to a thickness of 0.11 μm on a glass substrate 1 having a thickness of 2 mm. Next, as shown in FIG. 3C, the resist film was brought into close contact with the recording film side of the photomask, and UV light 15 was exposed. When this is reversal baked and then developed, the recording marks 4 are convex as shown in FIG. However, in this case, the guide groove is not transferred. This is because the groove is covered with the recording film and does not transmit UV light. This is shown in FIG.
This corresponds to the master shown in (b). After that, a CD-ROM was manufactured by the same process as in Example 1.

【0031】得られたCD−ROMの電気信号特性は、
従来技術によるCD−ROMと同等であった。
The electric signal characteristics of the obtained CD-ROM are as follows:
It was equivalent to a conventional CD-ROM.

【0032】[0032]

【発明の効果】複数枚のレプリカ原盤上にNiめっきを
行い、情報パターンを複数有するNiスタンパを作製
し、射出成形することにより、一回のプロセスで複数枚
の光ディスク基板を作ることができる。この結果、CD
−ROMを即時性と大量生産とが要求される新聞,週刊
誌,雑誌などへ適用することが可能となる。
[Effects of the Invention] By performing Ni plating on a plurality of replica masters, producing a Ni stamper having a plurality of information patterns, and performing injection molding, a plurality of optical disk substrates can be produced in a single process. As a result, the CD
-The ROM can be applied to newspapers, weekly magazines, magazines, etc. that require immediacy and mass production.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるレプリカ原盤とスタンパの作製プ
ロセスの説明図。
FIG. 1 is an explanatory view of a replica master and stamper manufacturing process according to the present invention.

【図2】本発明によるレプリカ原盤の第二の作製プロセ
スの説明図。
FIG. 2 is an explanatory view of a second manufacturing process of a replica master according to the present invention.

【図3】本発明によるレプリカ原盤の第三の作製プロセ
スの説明図。
FIG. 3 is an explanatory view of a third manufacturing process of a replica master according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラス基板、2…ネガ型フォトレジスト、3…レー
ザ光ビーム、4…凸状記録マーク、5…紫外線硬化樹
脂、6…凹状記録マーク、7…ガラスあるいはプラスチ
ック基板、8…レプリカ原盤、9…プラスチック板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate, 2 ... Negative photoresist, 3 ... Laser light beam, 4 ... Convex recording mark, 5 ... UV curable resin, 6 ... Recessed recording mark, 7 ... Glass or plastic substrate, 8 ... Replica master, 9 ... a plastic plate.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ガラス基板上にフォトレジストを塗布し、
情報に応じて変調されたレーザ光ビームの照射と現像と
により得られる原盤から、紫外線硬化樹脂を用いて情報
パターンの転写された透明基板の複数枚を樹脂板の上に
並べ、この上にNiめっきをすることにより得られるス
タンパを用いて射出成形することを特徴とする光ディス
クの製造方法。
1. A photoresist is coated on a glass substrate,
A plurality of transparent substrates on which information patterns have been transferred by using an ultraviolet curable resin are arranged on a resin plate from a master obtained by irradiation with a laser light beam modulated according to information and development, and Ni is formed on the transparent substrate. A method for manufacturing an optical disk, characterized by performing injection molding using a stamper obtained by plating.
【請求項2】請求項1において、案内溝が螺旋状、ある
いは同心円状に形成されている前記透明基板上に、光照
射により光透過率の変化する記録膜を形成したあと、光
ビームにより前記記録膜に情報を書き込んだものを転写
用フォトマスクとし、これをガラス基板上に塗布された
フォトレジスト膜に密着させ、露光して得られる原盤を
用いる光ディスクの製造方法。
2. A recording film, the light transmittance of which is changed by light irradiation, is formed on the transparent substrate having guide grooves formed in a spiral shape or a concentric shape, and then the light beam is used to form the recording film. A method for manufacturing an optical disc, which uses a master mask obtained by exposing a recording film on which information is written to a photo mask for transfer, and bringing this into close contact with a photoresist film coated on a glass substrate.
【請求項3】請求項1において、前記原盤の表面に離型
層を設けた光ディスクの製造方法。
3. The method for manufacturing an optical disc according to claim 1, wherein a release layer is provided on the surface of the master.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001063015A1 (en) * 2000-02-22 2001-08-30 Nikon Corporation Methods of manufacturing stamper and formed substrate
JP2007194550A (en) * 2006-01-23 2007-08-02 Toppan Printing Co Ltd Mold for imprinting, and manufacturing method thereof

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