JPH07276508A - 高分子樹脂材への細孔加工方法 - Google Patents

高分子樹脂材への細孔加工方法

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JPH07276508A
JPH07276508A JP6090558A JP9055894A JPH07276508A JP H07276508 A JPH07276508 A JP H07276508A JP 6090558 A JP6090558 A JP 6090558A JP 9055894 A JP9055894 A JP 9055894A JP H07276508 A JPH07276508 A JP H07276508A
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JP
Japan
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hole
resin material
polymer resin
excimer laser
thin
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Withdrawn
Application number
JP6090558A
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English (en)
Inventor
Masaru Kuroda
勝 黒田
Tadahiko Inohara
忠彦 井ノ原
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NIPPON DENKI SHINKU GLASS KK
SHINOZAKI SEISAKUSHO KK
Original Assignee
NIPPON DENKI SHINKU GLASS KK
SHINOZAKI SEISAKUSHO KK
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/0053Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor combined with a final operation, e.g. shaping
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高分子樹脂材に、寸法精度が高い細孔を、低
コストで形成する方法を提供する。 【構成】 高分子樹脂材を射出成形して、開口部に薄バ
リ13aが残った孔14を形成し、この薄バリ13aを
エキシマレーザー光10によりアブレーションして、連
通する孔14aを形成する。この場合、薄バリ13aの
厚みは5〜20μm、孔14の直径は20μm以上、孔
14の深さは0.2〜2mmであることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エキシマレーザー光を
利用した、高分子樹脂材への細孔加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、薄膜状の高分子樹脂材に連通
する孔加工を施すのに、エキシマレーザー光を用いるこ
とは一般的に行われている。
【0003】また、高分子樹脂材を射出成形する際に、
孔を形成することも行われている。この場合、孔の開口
部に薄バリが形成されることがあるが、成形後にバリ取
りすることにより除去している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、厚みを
有する高分子樹脂材、例えば厚みが1mmの高分子樹脂
材をレーザー光により孔加工すると、数千回の照射数を
要するため、作業時間がかかり、コスト高になるという
問題点があった。
【0005】また、厚みを有する高分子樹脂材に、レー
ザー光で連通する孔を形成すると、レーザー光の入射口
から出射口にかけてテーパーとなり、出射口の径が小さ
くなる傾向があるため、寸法精度が十分に得られないと
いう問題点があった。
【0006】一方、高分子樹脂材の射出成形時に形成で
きる孔は、比較的大きな径の孔に限られ、細孔を形成す
ることは一般に困難であった。
【0007】したがって、本発明の目的は、高分子樹脂
材に、寸法精度が高い細孔を、低コストで形成する方法
を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による高分子樹脂材への細孔加工方法は、高
分子樹脂材を射出成形して、開口部に薄バリが残った孔
を形成し、この薄バリをエキシマレーザー光によりアブ
レーション(侵食)して、連通する孔を形成することを
特徴とする。
【0009】本発明の好ましい態様によれば、前記薄バ
リの厚みは5〜20μm、前記孔の直径は20μm以
上、かつ、前記孔の深さは0.2〜2mmとされる。
【0010】上記において、薄バリの厚みが5μm未満
では、薄バリを再現性よく形成することが困難であり、
20μmを超えると、エキシマレーザー光により短時間
で孔を形成することが困難となる。また、孔の直径が2
0μm未満では、射出成形により孔を形成することが困
難となる。更に、孔の深さが0.2mm未満では、本発
明の方法を採用する利点が乏しくなり、2mmを超える
と、射出成形ピンが樹脂圧により揺動し、再現性のある
細孔を形成することは困難であるという問題がある。
【0011】
【作用】本発明の方法によれば、射出成形法により孔の
大部分を形成した後、連通されずに残る薄バリをエキシ
マレーザー光によりアブレーションして細孔を形成する
ため、レーザー照射数を低減でき、低コストの孔加工が
可能となる。
【0012】また、薄バリをエキシマレーザー光で孔加
工するため、レーザー光の入射口と出射口の径の差がそ
れほど生じず、目的とする寸法及び形状の孔に高精度に
加工することができる。
【0013】なお、本発明において、エキシマレーザー
光を用いるのは、高強度で短パルスの発振ができ、集光
レンズを用いることでエネルギー密度を高められる等の
利点があるからである。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は、本発明を実施するための射出成形
型の一例を示す部分断面図、図2、3は、同射出成形型
によって形成された成形品の部分断面図である。
【0015】この金型は、固定側型板1と、ピン5が組
み込まれた可動側型板2と、それらの間に形成された圧
力室3とで構成されている。固定側型板1には、ゲート
6が設けられ、可動側型板2には、イジェクターピン4
が取付けられている。なお、ピン5の先端5aは、縮径
されている。
【0016】この射出成形型を用いて、ゲート6から高
分子樹脂材を注入し、成形品13を形成すると、可動側
型板2のピン5によって成形品13に孔14が形成され
る。この場合、ピン5の先端5aは、固定側型板面1a
に当接しているが、射出成形の条件によって、孔14の
開口部に、図2又は図3に示すような薄バリ13aが形
成される。
【0017】図4は、上記工程で形成された成形品13
の孔14の薄バリ13aに、エキシマレーザー光を用い
て細孔を形成する方法を示す説明図である。
【0018】図4において、7はエキシマレーザー発振
器、8はレーザー光の照射範囲を規制するためのマス
ク、9はレーザー光を集束させる集光レンズ、10はエ
キシマレーザー光である。
【0019】すなわち、エキシマレーザー発振器7から
出力されたエキシマレーザー光10は、ピン5の先端5
aと同形状をなすマスク8を通過し、集光レンズ9によ
って集束されて薄バリ13aに照射され、連通した孔1
4aを形成する。
【0020】なお、レーザー発振器7から出力されるエ
キシマレーザー光としては、例えば193nmのArF
レーザー、248nmのKrFレーザー、308nmの
XeClレーザー、350nmのXeFレーザーが用い
られる。
【0021】実験例 図1に示した射出成形型を用い、高分子樹脂材としてポ
リサルフォンを注入し、成形品13に厚み20μmの薄
バリ13aを有する孔14を形成した。
【0022】次に、図4のエキシマレーザー発振器7か
ら出力されたレーザー光10を、エネルギー密度2.5
J/cm2 、パルス繰り返し周波数150Hzで、約7
0回照射することにより、孔14の薄バリ13aをアブ
レーションして、連通する孔14aを形成することがで
きた。
【0023】この場合、エキシマレーザー光10の入射
口の径より、出射口の径の方が小さくなる傾向がある
が、薄バリ13aが薄いため、入射口と出射口の径の差
は1μm以下であった。
【0024】なお、高分子樹脂材としてポリエーテルサ
ルフォンを用いて同様な実験を行ったところ、上記と同
様な結果が得られた。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
射出成形法により孔の大部分を形成した後、連通されず
に残る薄バリをエキシマレーザー光によりアブレーショ
ンして細孔を形成するため、レーザー照射数を低減で
き、低コストの孔加工が可能となる。また、レーザー光
の入射口と出射口の径の差がそれほど生じず、目的とす
る寸法及び形状の孔に高精度に加工することができる
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施するための射出成形型の一例を示
す部分断面図である。
【図2】同射出成形型によって形成された成形品の一例
を示す部分断面図である。
【図3】同射出成形型によって形成された成形品の他の
例を示す部分断面図である。
【図4】射出成形品の孔の薄バリに、エキシマレーザー
光を用いて細孔を形成する方法を示す説明図である。
【符号の説明】
1 固定側型板 2 可動側型板 3 圧力室 4 イジェクタービン 5 ピン 6 ゲート 7 エキシマレーザー発振器 8 マスク 9 集光レンズ 10 エキシマレーザー光 13 成形品 13a 薄バリ 14 孔 14a 連通する孔

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高分子樹脂材を射出成形して、開口部に
    薄バリが残った孔を形成し、この薄バリをエキシマレー
    ザー光によりアブレーションして、連通する孔を形成す
    ることを特徴とする高分子樹脂材への細孔加工方法。
  2. 【請求項2】 前記薄バリの厚みが5〜20μm、前記
    孔の直径が20μm以上、かつ、前記孔の深さが0.2
    〜2mmである請求項1記載の高分子樹脂材への細孔加
    工方法。
JP6090558A 1994-04-05 1994-04-05 高分子樹脂材への細孔加工方法 Withdrawn JPH07276508A (ja)

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JP6090558A JPH07276508A (ja) 1994-04-05 1994-04-05 高分子樹脂材への細孔加工方法

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JP6090558A JPH07276508A (ja) 1994-04-05 1994-04-05 高分子樹脂材への細孔加工方法

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997049537A1 (de) * 1996-06-27 1997-12-31 Krauss-Maffei Ag Verfahren zum abtrennen des angusses von einem spritzgiessteil
JP2009508321A (ja) * 2005-06-01 2009-02-26 プラスティック ロジック リミテッド 層選択レーザーアブレーションパターニング
JP2009234081A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Key Tranding Co Ltd 穴付射出成形体の製法およびそれによって得られる穴付射出成形体
JP2013014088A (ja) * 2011-07-05 2013-01-24 Denso Corp バリ除去方法およびレーザ加工方法

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