JPH07268061A - Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured item thereof - Google Patents

Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured item thereof

Info

Publication number
JPH07268061A
JPH07268061A JP8364494A JP8364494A JPH07268061A JP H07268061 A JPH07268061 A JP H07268061A JP 8364494 A JP8364494 A JP 8364494A JP 8364494 A JP8364494 A JP 8364494A JP H07268061 A JPH07268061 A JP H07268061A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
formula
parts
reaction
epoxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8364494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasumasa Akatsuka
泰昌 赤塚
Kenichi Kuboki
健一 窪木
Yoshiro Shimamura
芳郎 嶋村
Masahiro Hamaguchi
昌弘 浜口
Hiroaki Ono
博昭 大野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to JP8364494A priority Critical patent/JPH07268061A/en
Publication of JPH07268061A publication Critical patent/JPH07268061A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an epoxy resin which gives a cured item excellent in heat resistance and toughness by reacting a specific epoxy resin with an epihalohydrin in the presence of dimethyl sulfoxide, etc. CONSTITUTION:The objective epoxy resin of formula II is obtd. by reacting a compd. of formula I with an epihalohydrin in the presence of dimethyl sulfoxide, a quaternary ammonium salt or 1, 3-dimethyl-2-imidazolidinone, and an alkali metal hydroxide. In those formulas (n) is a mean number and positive; R is H, a 1-8C alkyl, etc.; P and Q are each a halogen, etc.; G is glycidyl; and X is H or glycidyl provided 5-95% of all the X's are glycidyl. The epoxy resin of formula I is obtd. by, e.g. reacting phenolic hydroxyl groups of a compd. of formula III with an epihalohydrin and epoxidizing the reaction product.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は耐熱性、耐水性に優れ、
しかも誘電率の低い硬化物を与えるエポキシ樹脂および
エポキシ樹脂組成物およびその硬化物に関するものであ
り、本発明の組成物は積層材料,封止材料,成形材料,
注型材料,複合材料,塗料,接着剤,レジストなどの広
範囲の用途に極めて有用である。
The present invention has excellent heat resistance and water resistance,
Moreover, the present invention relates to an epoxy resin and an epoxy resin composition that give a cured product having a low dielectric constant, and a cured product thereof. The composition of the present invention is a laminate material, a sealing material, a molding material,
It is extremely useful for a wide range of applications such as casting materials, composite materials, paints, adhesives and resists.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂は種々の硬化剤で硬化させ
ることにより、一般的に機械的性質,耐水性,耐薬品
性,耐熱性,電気的性質などに優れた硬化物となり、接
着剤,塗料,積層板,成形材料,注型材料などの幅広い
分野に利用されている。従来、工業的に最も使用されて
いるエポキシ樹脂としてビスフェノ−ルAにエピクロル
ヒドリンを反応させて得られる液状および固形のビスフ
ェノ−ルA型エポキシ樹脂がある。その他液状のビスフ
ェノ−ルA型エポキシ樹脂にテトラブロムビスフェノ−
ルAを反応させて得られる難燃性臭素含有エポキシ樹脂
などが汎用エポキシ樹脂として工業的に使用されてい
る。
2. Description of the Related Art Epoxy resins, when cured with various curing agents, generally become cured products having excellent mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance, electrical properties, etc. It is used in a wide range of fields such as laminates, molding materials, and casting materials. Conventionally, liquid and solid bisphenol A type epoxy resins obtained by reacting bisphenol A with epichlorohydrin have been used as the most industrially used epoxy resins. Other liquid bisphenol A type epoxy resin to tetrabromobisphenol
A flame-retardant bromine-containing epoxy resin obtained by reacting the resin A is industrially used as a general-purpose epoxy resin.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たような汎用エポキシ樹脂は分子量が大きくなるにつれ
て、それを使用して得られる硬化物の耐熱性は低下する
という欠点がある。また、汎用エポキシ樹脂にオルソク
レゾールノボラックエポキシ樹脂等の多官能エポキシ樹
脂を添加した場合、その硬化物の耐熱性は向上するもの
の、耐水性が低下するという欠点がある。又、近年、プ
リント配線基板の多層化にともない、信号速度向上の目
的から樹脂の低誘電性が要求されてきている。この要求
を満たすための手段として低誘電性の熱可塑性樹脂を添
加することは周知であるがこの方法を用いた場合、硬化
物の耐熱性を損なう等の欠点がある。
However, the general-purpose epoxy resin as described above has a drawback that the heat resistance of the cured product obtained by using the general-purpose epoxy resin decreases as the molecular weight increases. Further, when a polyfunctional epoxy resin such as an orthocresol novolac epoxy resin is added to a general-purpose epoxy resin, the heat resistance of the cured product is improved, but the water resistance is deteriorated. Further, in recent years, with the increase in the number of layers of printed wiring boards, low dielectric properties of resins have been required for the purpose of improving the signal speed. It is well known that a thermoplastic resin having a low dielectric constant is added as a means for satisfying this requirement, but when this method is used, there are drawbacks such as deterioration of heat resistance of the cured product.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らはこうした実
状に鑑み、耐熱性及び靭性に優れる硬化物を与えるエポ
キシ樹脂を求めて鋭意研究した結果、下記の特定のエポ
キシ樹脂がその硬化物に対して優れた耐熱性、耐水性及
び低誘電性を付与するものであることを見い出して本発
明を完成させるに到った。
In view of these circumstances, the present inventors have earnestly studied for an epoxy resin that gives a cured product having excellent heat resistance and toughness, and as a result, the following specific epoxy resin was found to be the cured product. On the other hand, they have found that they impart excellent heat resistance, water resistance and low dielectric properties, and have completed the present invention.

【0005】すなわち本発明は(1)式(1)That is, the present invention is based on the equation (1) (1)

【0006】[0006]

【化2】 [Chemical 2]

【0007】(式中、nは平均値を示し正数を表す。R
は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、アリール基の
いずれかを表し個々のRはお互いに同一であっても異な
っていてもよい。P,Qはハロゲン原子、炭素数1〜8
のアルキル基、アリール基のいずれかを表し個々のP,
Qはお互いに同一であっても異なっていてもよい。Gは
グリシジル基を表す。またXは水素原子あるいはグリシ
ジル基を表し、個々のXはお互いに同一であっても異な
っていてもよいが、全てのXの5%以上95%以下はグ
リシジル基である。)で表されるエポキシ樹脂、
(In the formula, n represents an average value and represents a positive number. R
Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group, and each R may be the same or different from each other. P and Q are halogen atoms and have 1 to 8 carbon atoms
Represents an alkyl group or an aryl group of
Q may be the same as or different from each other. G represents a glycidyl group. X represents a hydrogen atom or a glycidyl group, and each X may be the same or different from each other, but 5% or more and 95% or less of all Xs are glycidyl groups. ) Epoxy resin represented by

【0008】(2)エポキシ樹脂および硬化剤、さらに
必要により硬化促進剤を含むエポキシ樹脂組成物におい
て、該エポキシ樹脂成分として式(1)のエポキシ樹脂
を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物、
(3)上記(2)記載のエポキシ樹脂組成物を硬化して
なる硬化物、を提供するものである。
(2) An epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and optionally a curing accelerator, wherein the epoxy resin composition contains the epoxy resin of the formula (1). ,
(3) A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to (2) above.

【0009】式(1)で表されるエポキシ樹脂は例え
ば、式(2)
The epoxy resin represented by the formula (1) is represented by, for example, the formula (2)

【0010】[0010]

【化3】 [Chemical 3]

【0011】(式中、n,R,P,Q,Gは式(1)に
おけるのと同じ意味を表す。)
(In the formula, n, R, P, Q and G have the same meanings as in formula (1).)

【0012】で表される化合物とエピハロヒドリンとの
反応をジメチルスルホキシド、4級アンモニウム塩また
は1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンとアルカリ
金属水酸化物の共存化に行うことにより得ることが出来
る。本発明者らは式(2)で表されるエポキシ樹脂のア
ルコール性水酸基は一般のアルコール類のそれより反応
性に富んでおり、例えばジメチルスルホキシド、4級ア
ンモニウムまたは1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ノンとアルカリ金属水酸化物を共存させることにより驚
くべきことにアルコール性水酸基と系中に存在するエポ
キシ基との反応において、原料として新たに加えたエピ
ハロヒドリン由来のエポキシ基のみとの反応を選択的に
行え、さらにアルカリ金属水酸化物の量を調節すること
により式(2)で表されるエポキシ樹脂のアルコール性
水酸基を所望の割合にエポキシ化出来ることを見いだし
た。
It can be obtained by reacting the compound represented by ## STR1 ## with epihalohydrin in the coexistence of dimethyl sulfoxide, a quaternary ammonium salt or 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and an alkali metal hydroxide. . The present inventors have found that the alcoholic hydroxyl group of the epoxy resin represented by the formula (2) is more reactive than that of general alcohols, and for example, dimethyl sulfoxide, quaternary ammonium or 1,3-dimethyl-2- Surprisingly, the coexistence of imidazolidinone and alkali metal hydroxide surprisingly causes the reaction between the alcoholic hydroxyl group and the epoxy group existing in the system to react only with the epoxy group derived from epihalohydrin newly added as a raw material. It was found that the alcoholic hydroxyl groups of the epoxy resin represented by the formula (2) can be epoxidized to a desired ratio by selectively performing the above process and adjusting the amount of the alkali metal hydroxide.

【0013】以下、本発明の詳細を説明する。本発明に
おいて原料として使用される式(2)で表されるエポキ
シ樹脂を得る方法としては例えば式(3)
The details of the present invention will be described below. Examples of the method for obtaining the epoxy resin represented by the formula (2) used as a raw material in the present invention include the formula (3)

【0014】[0014]

【化4】 [Chemical 4]

【0015】(式中、R,P,Qは式(1)に於けるの
と同じ意味を表す。)
(In the formula, R, P and Q have the same meanings as in formula (1).)

【0016】で表される化合物のフェノール性水酸基を
エピハロヒドリンと反応させエポキシ化する方法が挙げ
られる。
A method of epoxidizing the phenolic hydroxyl group of the compound represented by the formula (1) with epihalohydrin is mentioned.

【0017】式(3)で表される化合物は、特開昭58
−121230号公報,特開昭58−121231号公
報,特開昭63−303939号公報などに示される方
法の他に、公知のいかなる方法で得られたものでも用い
ることが出来る。即ち式(3)で表される化合物の一般
的な製法としては、ジイソプロペニルベンゼン、ビス
(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン、1−イソプ
ロペニル−2−α−ヒドロキシイソプロピルベンゼン、
1−イソプロペニル−4−α−ヒドロキシイソプロピル
ベンゼン及びそれらの芳香核置換誘導体等のジアルケニ
ルベンゼン類あるいはジヒドロキシベンゼン類と、フェ
ノール類とを、酸触媒下で反応させることが例示される
が、この限りではない。
The compound represented by the formula (3) is described in JP-A-58 / 58.
In addition to the methods described in JP-A-121230, JP-A-58-121231, JP-A-63-303939, etc., those obtained by any known method can be used. That is, as a general method for producing the compound represented by the formula (3), diisopropenylbenzene, bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 1-isopropenyl-2-α-hydroxyisopropylbenzene,
The reaction of dialkenylbenzenes or dihydroxybenzenes such as 1-isopropenyl-4-α-hydroxyisopropylbenzene and aromatic nucleus-substituted derivatives thereof with phenols with an acid catalyst is exemplified. Not as long.

【0018】ここでフェノール類とはフェノール性水酸
基を少なくとも1個有する化合物が該当し、例示すると
フェノール、クレゾール、エチルフェノール、n−プロ
ピルフェノール、イソブチルフェノール、t−ブチルフ
ェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、キ
シレノール、メチルブチルフェノール、ジ−t−ブチル
フェノール等を代表とするアルキルフェノールの各種o
−,m−,p−異性体、またはビニルフェノール、アリ
ルフェノール、プロペニルフェノール、エチニルフェノ
ールの各種o−,m−,p−異性体、または、シクロペ
ンチルフェノール、シクロヘキシルフェノール、シクロ
ヘキシルクレゾール等を代表とするシクロアルキルフェ
ノール、等の置換フェノールが挙げられる。
The term "phenols" as used herein refers to compounds having at least one phenolic hydroxyl group, examples of which include phenol, cresol, ethylphenol, n-propylphenol, isobutylphenol, t-butylphenol, octylphenol, nonylphenol, xylenol and methyl. Various kinds of alkylphenols such as butylphenol and di-t-butylphenol o
Representative examples are-, m-, p-isomers, or various o-, m-, p-isomers of vinylphenol, allylphenol, propenylphenol, ethynylphenol, cyclopentylphenol, cyclohexylphenol, cyclohexylcresol and the like. Included are substituted phenols such as cycloalkylphenols.

【0019】該フェノールの中でも、低誘電率化のため
により好ましいものとして、2,6−キシレノール、2
−ブチル−5−メチルフェノール、2−ブチル−4−メ
チルフェノール、2,4−ジブチルフェノール、2,4
−ジ(t−アミル)フェノール、2−シクロヘキシル−
5−メチルフェノール、2−t−ブチルフェノール、2
−(t−アミル)フェノール、2−シクロヘキシルフェ
ノールなどを例示することが出来る。
Among the phenols, 2,6-xylenol, 2 and 6 are more preferable for lowering the dielectric constant.
-Butyl-5-methylphenol, 2-butyl-4-methylphenol, 2,4-dibutylphenol, 2,4
-Di (t-amyl) phenol, 2-cyclohexyl-
5-methylphenol, 2-t-butylphenol, 2
Examples thereof include-(t-amyl) phenol and 2-cyclohexylphenol.

【0020】上記縮合反応を行う場合フェノール類の使
用量はジアルケニルベンゼン類あるいはジヒドロキシア
ルキルベンゼン類1モルに対して好ましくは2〜20モ
ル、特に好ましくは3〜10モルの範囲である。
When the condensation reaction is carried out, the amount of phenols used is preferably 2 to 20 mol, particularly preferably 3 to 10 mol, per 1 mol of dialkenylbenzenes or dihydroxyalkylbenzenes.

【0021】上記縮合反応においては酸触媒を用いるの
が好ましく、酸触媒としては種々のものが使用できるが
塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、三弗化ホウ素、
無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛などが好ましく、特に
塩酸、p−トルエンスルホン酸などが好ましい。これら
酸触媒の使用量は特に限定されるものではないが使用す
るジアルケニルベンゼン類あるいはジヒドロキシアルキ
ルベンゼン類の使用量に対して0.01〜50倍モルの
範囲で選定することができる。
In the above condensation reaction, it is preferable to use an acid catalyst, and various acid catalysts can be used, but hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, boron trifluoride,
Anhydrous aluminum chloride, zinc chloride and the like are preferable, and hydrochloric acid and p-toluenesulfonic acid are particularly preferable. The amount of these acid catalysts used is not particularly limited, but can be selected within a range of 0.01 to 50 times the molar amount of the dialkenylbenzenes or dihydroxyalkylbenzenes used.

【0022】上記縮合反応の後、有機溶剤に溶解して中
和あるいは水洗により酸触媒を除去する。この場合用い
うる有機溶剤の具体例としてはトルエン、キシレン、メ
チルイソブチルケトンなどが挙げられるが、トルエンが
好ましい。有機溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に
対して50〜300重量%が好ましく特に100〜25
0重量%が好ましい。
After the condensation reaction, the acid catalyst is removed by dissolving in an organic solvent and neutralizing or washing with water. Specific examples of the organic solvent that can be used in this case include toluene, xylene, and methyl isobutyl ketone, with toluene being preferred. The amount of the organic solvent used is preferably 50 to 300% by weight with respect to the total weight of the raw materials charged, and particularly 100 to 25
0% by weight is preferred.

【0023】次に加熱減圧下で油層を濃縮し、未反応の
フェノール類及び有機溶剤を除去することによりガラス
状固体を得る。得られたガラス状固体をトルエン、キシ
レン、メチルイソブチルケトンなどの有機溶剤に溶解
し、n−ヘキサン、n−ヘプタンなどの貧溶媒を加え
て、再結晶させることにより式(3)で表される化合物
を得ることができる。
Next, the oil layer is concentrated under heating and reduced pressure, and unreacted phenols and organic solvent are removed to obtain a glassy solid. The obtained glassy solid is dissolved in an organic solvent such as toluene, xylene, or methyl isobutyl ketone, a poor solvent such as n-hexane or n-heptane is added, and the mixture is recrystallized to be represented by the formula (3). The compound can be obtained.

【0024】式(2)で表されるエポキシ樹脂を得る方
法としては公知の方法が採用できる。例えば式(3)で
表される化合物と過剰のエピハロヒドリンの溶解混合物
にアルカリ金属水酸化物を添加し、または添加しながら
20〜120℃の温度で反応させることにより式(4)
As a method for obtaining the epoxy resin represented by the formula (2), a known method can be adopted. For example, by adding an alkali metal hydroxide to a dissolved mixture of a compound represented by the formula (3) and excess epihalohydrin, or by reacting at a temperature of 20 to 120 ° C. while adding the alkali metal hydroxide, the formula (4)

【0025】[0025]

【化5】 [Chemical 5]

【0026】(式中、R,P,Q,Gは式(1)におけ
るのと同じ意味を表す。)
(In the formula, R, P, Q and G have the same meanings as in formula (1).)

【0027】で表される低分子量のエポキシ樹脂を得た
後、更に塩基性触媒の存在下、溶融状態または溶剤中
で、式(3)で表される化合物と70〜200℃の間の
温度で反応させることにより得ることができる。
After obtaining the low molecular weight epoxy resin represented by the formula (3), the compound represented by the formula (3) and the temperature between 70 and 200 ° C. are further melted or in a solvent in the presence of a basic catalyst. It can be obtained by reacting with.

【0028】式(4)で表されるエポキシ樹脂を得る反
応において、アルカリ金属水酸化物はその水溶液を使用
してもよく、その場合は該アルカリ金属水酸化物の水溶
液を連続的に反応系内に添加すると共に減圧下、または
常圧下、連続的に水及びエピハロヒドリンを留出させ、
更に分液し水は除去しエピハロヒドリンは反応系内に連
続的に戻す方法でもよい。
In the reaction for obtaining the epoxy resin represented by the formula (4), an aqueous solution of the alkali metal hydroxide may be used. In that case, an aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system. Water and epihalohydrin are continuously distilled off under reduced pressure or normal pressure while being added to
Further, a method may be adopted in which liquid separation is carried out, water is removed, and epihalohydrin is continuously returned to the reaction system.

【0029】又、式(3)で表される化合物とエピハロ
ヒドリンの溶解混合物にテトラメチルアンモニウムクロ
ライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメ
チルベンジルアンモニウムクロライドなどの第4級アン
モニウム塩を触媒として添加し50〜150℃で反応さ
せて得られるハロヒドリンエーテル化物にアルカリ金属
水酸化物の固体または水溶液を加え、再び20〜120
℃の温度で反応させ脱ハロゲン化水素(閉環)させる方
法でもよい。
Further, a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride is added as a catalyst to a dissolved mixture of the compound represented by the formula (3) and epihalohydrin, and the mixture is added at 50 to 150 ° C. The solid or aqueous solution of an alkali metal hydroxide is added to the halohydrin ether compound obtained by the reaction in step 1, and the mixture is added again to 20 to 120.
A method in which the reaction is carried out at a temperature of ° C. and dehydrohalogenation (ring closure) is also possible.

【0030】通常これらの反応において使用されるエピ
ハロヒドリンの量は式(3)で表される化合物の水酸基
1当量に対し、通常1〜20モル、好ましくは1.5〜
10モルである。アルカリ金属水酸化物の使用量は式
(3)で表される化合物の水酸基1当量に対し0.8〜
1.5モル、好ましくは0.9〜1.1モルである。更
に反応を円滑に進行させるためにメタノール、エタノー
ル等のアルコール類の他、ジメチルスルホン、ジメチル
スルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒などを添加し
て反応を行うことが好ましい。
Usually, the amount of epihalohydrin used in these reactions is usually 1 to 20 mol, preferably 1.5 to 10 mol, based on 1 equivalent of the hydroxyl group of the compound represented by the formula (3).
It is 10 mol. The amount of the alkali metal hydroxide used is 0.8 to 1 equivalent of the hydroxyl group of the compound represented by the formula (3).
It is 1.5 mol, preferably 0.9 to 1.1 mol. In order to allow the reaction to proceed smoothly, it is preferable to carry out the reaction by adding alcohols such as methanol and ethanol, as well as an aprotic polar solvent such as dimethyl sulfone and dimethyl sulfoxide.

【0031】これらのエポキシ化反応の反応物を水洗
後、または水洗無しに加熱減圧下、エピハロヒドリン
や、他の添加溶媒などを除去することにより式(4)で
表されるエポキシ樹脂を得ることができる。
The epoxy resin represented by the formula (4) can be obtained by washing the reaction products of these epoxidation reactions with or without washing with water under reduced pressure with heating to remove epihalohydrin and other added solvents. it can.

【0032】式(4)で表される低分子量のエポキシ樹
脂と式(3)で表される化合物とを反応させて式(2)
で表されるエポキシ樹脂を得る反応において、各成分の
仕込比は、式(4)で表されるエポキシ樹脂1当量に対
し式(3)で表される化合物0.05〜0.9当量が好
ましく、特に0.1〜0.85当量が好ましい。
The low molecular weight epoxy resin represented by the formula (4) is reacted with the compound represented by the formula (3) to obtain the compound represented by the formula (2).
In the reaction for obtaining the epoxy resin represented by, the charging ratio of each component is 0.05 to 0.9 equivalent of the compound represented by the formula (3) with respect to 1 equivalent of the epoxy resin represented by the formula (4). It is particularly preferably 0.1 to 0.85 equivalent.

【0033】塩基性触媒としては、例えば、トリフェニ
ルホスフィン、水酸化ナトリウム、4級アンモニウム
塩、イミダゾール類などが挙げられ、その使用量は式
(4)で表されるエポキシ樹脂1当量に対して0.00
1〜1.0重量%が好ましく、特に0.005〜0.5
重量%が好ましい。また溶剤を用いる場合は、メチルイ
ソブチルケトン、トルエンなどが挙げられる。
The basic catalyst includes, for example, triphenylphosphine, sodium hydroxide, quaternary ammonium salt, imidazoles, etc., and the amount thereof is used with respect to 1 equivalent of the epoxy resin represented by the formula (4). 0.00
1 to 1.0% by weight is preferable, and particularly 0.005 to 0.5
Weight percent is preferred. When a solvent is used, methyl isobutyl ketone, toluene, etc. may be mentioned.

【0034】式(2)で表されるエポキシ樹脂のアルコ
ール性水酸基とエピハロヒドリンとの反応はジメチルス
ルホキシドまたは4級アンモニウム塩または1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノンとアルカリ金属水酸化物
の共存下、アルカリ金属水酸化物の量を調節することに
より行うことができる。その際溶剤としてメタノールや
エタノール等のアルコール類、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチル
エチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン等の
環状及びエーテル化合物などを併用しても構わない。
The reaction between the alcoholic hydroxyl group of the epoxy resin represented by the formula (2) and epihalohydrin is carried out by the coexistence of dimethyl sulfoxide or a quaternary ammonium salt or 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and an alkali metal hydroxide. It can be carried out by adjusting the amount of the alkali metal hydroxide below. At that time, alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ketones such as methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone, and cyclic and ether compounds such as tetrahydrofuran may be used together as a solvent.

【0035】ジメチルスルホキシドあるいは1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノンの使用量は式(2)で表
される化合物に対して5〜300重量%が好ましい。式
(2)で表される化合物に対して300重量%を超える
と増量した効果は殆どなくなる一方容積効率も悪くなり
好ましくない。
The amount of dimethyl sulfoxide or 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone used is preferably 5 to 300% by weight based on the compound represented by the formula (2). When it exceeds 300% by weight with respect to the compound represented by the formula (2), the effect of increasing the amount is almost lost and the volume efficiency is deteriorated, which is not preferable.

【0036】4級アンモニウム塩としてはテトラメチル
アンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブ
ロマイド、トリメチルアンモニウムクロライドなどが挙
げられ、その使用量は式(2)で表される化合物のエポ
キシ化させたい水酸基1当量に対して0.3〜50gが
好ましい。エポキシ化させたい水酸基1当量に対して
0.3g未満であると式(2)で表される化合物の水酸
基とエピハロヒドリンとの反応が遅くなり長時間の反応
が必要となり好ましくない。エポキシ化させたい水酸基
1当量に対して50gを超えると増量した効果は殆どな
くなる一方コストが高くなり好ましくない。
Examples of the quaternary ammonium salt include tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, trimethylammonium chloride and the like. The amount used is 1 equivalent of the hydroxyl group to be epoxidized of the compound represented by the formula (2). 0.3 to 50 g is preferable. If the amount of the hydroxyl group to be epoxidized is less than 0.3 g based on 1 equivalent, the reaction between the hydroxyl group of the compound represented by the formula (2) and epihalohydrin is delayed and a long-time reaction is required, which is not preferable. If the amount of the hydroxyl group to be epoxidized is more than 50 g per 1 equivalent, the effect of increasing the amount is almost lost, but the cost becomes high, which is not preferable.

【0037】エピハロヒドリンの使用量は式(2)で表
される化合物のエポキシ化させたい水酸基1当量に対し
て当量以上使用すればよい。しかしながらエポキシ化さ
せたい水酸基1当量に対して20倍当量を超えると増量
した効果は殆どなくなる一方容積効率も悪くなり好まし
くない。
The amount of epihalohydrin used may be equal to or more than 1 equivalent of the hydroxyl group to be epoxidized in the compound represented by the formula (2). However, if it exceeds 20 equivalents with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group to be epoxidized, the effect of increasing the amount is almost lost and the volume efficiency is deteriorated, which is not preferable.

【0038】アルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カ
ルシウムなどが使用できるが水酸化ナトリウムが好まし
い。アルカリ金属水酸化物の使用量は式(2)で表され
る化合物のエポキシ化させたい水酸基1当量に対して1
〜2倍当量使用すればよい。アルカリ金属水酸化物は固
形でも水溶液でも構わない。また水溶液を使用する場合
は反応中、反応系内の水は常圧下、または減圧下におい
て反応系外に留去しながら反応を行うこともできる。
As the alkali metal hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, calcium hydroxide and the like can be used, but sodium hydroxide is preferred. The amount of the alkali metal hydroxide used is 1 with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group to be epoxidized in the compound represented by the formula (2).
It suffices to use ~ 2 equivalents. The alkali metal hydroxide may be solid or aqueous solution. When an aqueous solution is used, the reaction can be carried out during the reaction while distilling the water in the reaction system out of the reaction system under normal pressure or reduced pressure.

【0039】反応温度は20〜100℃が好ましい。反
応温度が20℃未満であると反応が遅くなり長時間の反
応が必要となる。反応温度が100℃を超えると副反応
が多く起こり好ましくない。
The reaction temperature is preferably 20 to 100 ° C. If the reaction temperature is lower than 20 ° C, the reaction becomes slow and a long-time reaction is required. When the reaction temperature exceeds 100 ° C., many side reactions occur, which is not preferable.

【0040】本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明の
エポキシ樹脂を単独でまたは他のエポキシ樹脂と混合
し、硬化剤、さらに必要により硬化促進剤等を添加する
ことにより得ることができる。本発明で用いうる硬化剤
はアミン系化合物,酸無水物系化合物,アミド系化合
物,フェノ−ル系化合物などである。具体例としては、
ジアミノジフェニルメタン,ジエチレントリアミン,ト
リエチレンテトラミン,ジアミノジフェニルスルホン,
イソホロンジアミン,ジシアンジアミド,リノレン酸の
2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド
樹脂,無水フタル酸,無水トリメリット酸,無水ピロメ
リット酸,無水マレイン酸,テトラヒドロ無水フタル
酸,メチルテトラヒドロ無水フタル酸,無水メチルナジ
ック酸,ヘキサヒドロ無水フタル酸,メチルヘキサヒド
ロ無水フタル酸,フェノ−ルノボラック,及びこれらの
変性物,イミダゾ−ル,BF3 −アミン錯体,グアニジ
ン誘導体などが挙げられる。これらの硬化剤はそれぞれ
単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いても
よい。
The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by adding the curing agent and, if necessary, a curing accelerator and the like to the epoxy resin of the present invention alone or in combination with another epoxy resin. The curing agent that can be used in the present invention is an amine compound, an acid anhydride compound, an amide compound, a phenol compound or the like. As a specific example,
Diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone,
Polyamide resin synthesized from isophoronediamine, dicyandiamide, dimer of linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, Examples thereof include methyl nadic acid anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, phenol novolac, and modified products thereof, imidazole, BF 3 -amine complex, guanidine derivative and the like. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

【0041】これらの硬化剤の使用量は、エポキシ基に
対して0.7〜1.2当量が好ましい。エポキシ基に対
して、0.7当量に満たない場合、あるいは1.2当量
を超える場合、いずれも硬化が不完全となり良好な硬化
物性は得られない恐れがある。
The amount of these curing agents used is preferably 0.7 to 1.2 equivalents based on the epoxy group. If the amount is less than 0.7 equivalents or more than 1.2 equivalents with respect to the epoxy groups, curing may be incomplete and good cured physical properties may not be obtained.

【0042】また上記硬化剤を用いる際に硬化促進剤を
併用しても差し支えない。硬化促進剤としては例えばイ
ミダゾ−ル類,第3級アミン類,フェノ−ル類,金属化
合物等が挙げられる。さらに、必要に応じて無機または
有機の充填剤等の種々の配合剤を添加することができ
る。これらの硬化促進剤の使用量はエポキシ樹脂100
重量部に対して0.1〜5.0重量部が好ましい。
When using the above-mentioned curing agent, a curing accelerator may be used in combination. Examples of the curing accelerator include imidazoles, tertiary amines, phenols, metal compounds and the like. Furthermore, various compounding agents such as inorganic or organic fillers can be added as required. The amount of these curing accelerators used is 100% epoxy resin.
0.1 to 5.0 parts by weight is preferable with respect to parts by weight.

【0043】本発明のエポキシ樹脂組成物は従来知られ
ている方法と同様の方法で容易に硬化物とすることがで
きる。例えば本発明のエポキシ樹脂と硬化剤,充填剤及
びその他の添加剤とを必要に応じて押出機,ニ−ダ,ロ
−ル等を用いて均一になるまで充分に混合してエポキシ
樹脂組成物を得、そのエポキシ樹脂組成物を溶融後注型
あるいはトランスファ−成形機などを用いて成形し、さ
らに80〜200℃に加熱することにより硬化物を得る
ことができる。
The epoxy resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by the same method as a conventionally known method. For example, the epoxy resin composition of the present invention and a curing agent, a filler, and other additives are sufficiently mixed with an extruder, a kneader, a roll, etc., if necessary, until a uniform mixture is obtained. Then, the epoxy resin composition is melted, molded using a casting or transfer molding machine, and then heated to 80 to 200 ° C. to obtain a cured product.

【0044】また本発明の樹脂組成物を溶剤に希釈溶解
させ、ガラス繊維,カ−ボン繊維,ポリエステル繊維,
ポリアミド繊維,アルミナ繊維,紙などの基材に含浸さ
せ加熱乾燥して得たプリプレグを熱プレス成形して硬化
物を得ることなどもできる。
Further, the resin composition of the present invention is diluted and dissolved in a solvent to prepare glass fiber, carbon fiber, polyester fiber,
It is also possible to obtain a cured product by hot pressing a prepreg obtained by impregnating a base material such as polyamide fiber, alumina fiber or paper and heating and drying.

【0045】この際用いうる希釈溶剤の具体例としては
メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケト
ン等が好ましく、その使用量は本発明のエポキシ樹脂組
成物と該希釈溶剤の合計重量に対し通常10〜70重量
%、好ましくは15〜65重量%である。
Specific examples of the diluting solvent that can be used at this time are methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone and the like. The amount of the diluting solvent used is usually 10 to 70% by weight based on the total weight of the epoxy resin composition of the present invention and the diluting solvent. %, Preferably 15 to 65% by weight.

【0046】こうして得られる硬化物は耐熱性、耐水性
に優れしかも低誘電性という特性を兼ね備えているため
耐熱性、耐水性、低誘電性の要求される広範な分野で用
いることができる。具体的には積層板、封止材料、絶縁
材料などのあらゆる電気・電子材料として有用である。
又、成型材料や複合材料の分野にも用いることができ
る。
The cured product thus obtained is excellent in heat resistance and water resistance and has a property of low dielectric property, so that it can be used in a wide range of fields where heat resistance, water resistance and low dielectric property are required. Specifically, it is useful as any electric / electronic material such as a laminated plate, a sealing material, and an insulating material.
It can also be used in the field of molding materials and composite materials.

【0047】[0047]

【実施例】次に本発明を実施例、比較例により具体的に
説明するが、以下において部は特に断わりのない限りす
べて重量部であるものとする。尚、ガラス転移温度、吸
水率の測定条件は次の通りである。 ガラス転移温度 熱機械測定装置(TMA):真空理工 TM−7000 昇温速度:2℃/min 吸水率 試験片(硬化物):直径 50mm 厚さ 3mm 円盤 100℃の水中で20時間煮沸した後の重量増加量(重
量%) 誘電率 試験片(硬化物):直径 50mm 厚さ 3mm 円盤 JIS K−6911誘電率の測定に準じ誘電体損測定
装置TR−10C(安藤電気(株)製)周波数1KHz
で測定
EXAMPLES The present invention will now be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. In the following, all parts are parts by weight unless otherwise specified. The conditions for measuring the glass transition temperature and the water absorption are as follows. Glass transition temperature Thermomechanical measuring device (TMA): Vacuum Riko TM-7000 Temperature rising rate: 2 ° C / min Water absorption rate Test piece (cured product): Diameter 50 mm Thickness 3 mm Disc 100 ° C After boiling in water for 20 hours Weight increase (% by weight) Dielectric constant test piece (cured product): Diameter 50 mm Thickness 3 mm Disc JIS K-6911 Dielectric loss measuring device TR-10C (manufactured by Ando Electric Co., Ltd.) Frequency 1 KHz
Measured by

【0048】実施例1 温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌器を取り付けたフラ
スコに2−t−ブチル−5−メチルフェノール820部
(5モル)、ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)ベン
ゼン58.2部(0.3モル)、濃塩酸1000部を仕
込み60℃で1時間反応させた。ビス(α−ヒドロキシ
イソプロピル)ベンゼン58.2部を更に仕込み、1時
間60℃で保持した後、再度ビス(α−ヒドロキシイソ
プロピル)ベンゼン77.6部を仕込み60℃で7時間
保持して反応を完結させた。反応後、トルエン2000
部を加え濃塩酸層を除去した後10%水酸化ナトリウム
水溶液で中和し、更に水洗を行った。その後油層からロ
ータリエバポレーターを使用し180℃、5mmHgの
加熱減圧下で溶剤及び未反応成分を除去し、ガラス状固
体を得た。次いでトルエン/n−ヘプタン中で再結晶を
行った後結晶を冷トルエンで洗浄し、減圧乾燥すること
により下記式(5)で表される化合物247部を得た。
Example 1 820 parts (5 mol) of 2-t-butyl-5-methylphenol and bis (α-hydroxyisopropyl) benzene 58.2 were placed in a flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a condenser and a stirrer. (0.3 mol) and 1000 parts of concentrated hydrochloric acid were charged and reacted at 60 ° C. for 1 hour. After further charging 58.2 parts of bis (α-hydroxyisopropyl) benzene and holding at 60 ° C. for 1 hour, 77.6 parts of bis (α-hydroxyisopropyl) benzene was charged again and kept at 60 ° C. for 7 hours to carry out the reaction. It was completed. After the reaction, toluene 2000
After adding a portion to remove the concentrated hydrochloric acid layer, the mixture was neutralized with a 10% aqueous sodium hydroxide solution and further washed with water. After that, the solvent and unreacted components were removed from the oil layer using a rotary evaporator under heating and reduced pressure of 180 ° C. and 5 mmHg to obtain a glassy solid. Then, after recrystallizing in toluene / n-heptane, the crystals were washed with cold toluene and dried under reduced pressure to obtain 247 parts of a compound represented by the following formula (5).

【0049】[0049]

【化6】 [Chemical 6]

【0050】次いで、温度計、冷却管、撹拌器を取り付
けたフラスコに窒素ガスパージを施しながら上記反応で
得られた化合物122部(0.25モル)、エピクロル
ヒドリン231部、ジメチルスルホキシド116部を仕
込み溶解させた。更に70℃に加熱しフレーク状水酸化
ナトリウム20部を100分かけて分割添加し、その後
更に70℃で3時間反応させた。反応終了後ロータリエ
バポレーターを使用し130℃、5mmHgの加熱減圧
下で、過剰のエピクロルヒドリン及びジメチルスルホキ
シドを留去し、残留物に300部のメチルイソブチルケ
トンを加え、溶解した。
Next, 122 parts (0.25 mol) of the compound obtained in the above reaction, 231 parts of epichlorohydrin and 116 parts of dimethyl sulfoxide were charged and dissolved in a flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer while purging with nitrogen gas. Let The mixture was further heated to 70 ° C., 20 parts of flaky sodium hydroxide was added portionwise over 100 minutes, and then the mixture was further reacted at 70 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin and dimethylsulfoxide were distilled off under reduced pressure with heating at 130 ° C. and 5 mmHg using a rotary evaporator, and 300 parts of methyl isobutyl ketone was added to the residue and dissolved.

【0051】更に、この反応生成物のメチルイソブチル
ケトン溶液を70℃に加熱し30重量%の水酸化ナトリ
ウム水溶液6.7部を添加し1時間反応させた後、水洗
を繰り返しpHを中性とした。更に水層は分離除去し、
ロータリーエバポレーターを使用して油層から加熱減圧
下メチルイソブチルケトンを留去し下記式(6)で表さ
れるエポキシ樹脂139部を得た。得られたエポキシ樹
脂の軟化点は62.3℃、エポキシ当量は321g/e
qであった。
Further, a solution of this reaction product in methyl isobutyl ketone was heated to 70 ° C., 6.7 parts of a 30 wt% sodium hydroxide aqueous solution was added, and the reaction was carried out for 1 hour. did. Furthermore, the water layer is separated and removed
Methyl isobutyl ketone was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure using a rotary evaporator to obtain 139 parts of an epoxy resin represented by the following formula (6). The obtained epoxy resin has a softening point of 62.3 ° C. and an epoxy equivalent of 321 g / e.
It was q.

【0052】[0052]

【化7】 [Chemical 7]

【0053】(式中Gはグリシジル基を表す。) 以上の工程で得られた式(6)で表されるエポキシ樹脂
128部と式(5)で表される化合物33.6部、及び
メチルイソブチルケトン80部をフラスコに仕込み、撹
拌溶解した後、トリフェニルホスフィン0.1部を添加
し、撹拌下120℃でメチルイソブチルケトンを減圧留
去し、更に150℃で2時間反応を行い下記式(7)で
表されるエポキシ当量621g/eq、軟化点75.8
℃のエポキシ樹脂161部を得た。
(In the formula, G represents a glycidyl group.) 128 parts of the epoxy resin represented by the formula (6) obtained in the above steps, 33.6 parts of the compound represented by the formula (5), and methyl 80 parts of isobutyl ketone was charged into a flask and dissolved by stirring, 0.1 part of triphenylphosphine was added, methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure at 120 ° C. under stirring, and the reaction was further carried out at 150 ° C. for 2 hours to obtain the following formula. Epoxy equivalent represented by (7) 621 g / eq, softening point 75.8
161 parts of epoxy resin having a temperature of 0 ° C. was obtained.

【0054】[0054]

【化8】 [Chemical 8]

【0055】(式中nは1.19(平均値)であり、G
はグリシジル基を表す。) 更に反応系中にエピクロルヒドリン285部を加え撹拌
溶解させた後、撹拌下40℃でテトラメチルアンモニウ
ムクロライド1部を添加した。その後フレーク状水酸化
ナトリウム8.0部を添加し、更に3時間反応を行っ
た。反応終了後水150部を加え水洗を行った。湯水分
離後、油層より未反応のエピクロルヒドリンを減圧下に
蒸留回収し、下記式(8)で表されるエポキシ樹脂
(A)160部を得た。
(In the formula, n is 1.19 (average value), and G
Represents a glycidyl group. ) Further, 285 parts of epichlorohydrin was added to the reaction system and dissolved by stirring, and then 1 part of tetramethylammonium chloride was added at 40 ° C under stirring. Thereafter, 8.0 parts of flaky sodium hydroxide was added, and the reaction was further performed for 3 hours. After the reaction was completed, 150 parts of water was added and the mixture was washed with water. After hot-water separation, unreacted epichlorohydrin was distilled and recovered from the oil layer under reduced pressure to obtain 160 parts of an epoxy resin (A) represented by the following formula (8).

【0056】[0056]

【化9】 [Chemical 9]

【0057】(式中nは1.19(平均値)であり、G
及びXは前記式(1)におけるのと同じ意味を表す。) 得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は388g/e
q、軟化点は68.5℃であった。得られたエポキシ樹
脂はエポキシ当量から計算すると式(8)におけるXの
うち70%がエポキシ基であった。
(In the formula, n is 1.19 (average value), and G
And X have the same meanings as in the above formula (1). ) The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin is 388 g / e.
q and the softening point were 68.5 degreeC. In the obtained epoxy resin, 70% of X in the formula (8) was an epoxy group calculated from the epoxy equivalent.

【0058】実施例2 フレーク状水酸化ナトリウムの使用量を5.5部に変え
たほかは実施例1と同様にしてエポキシ当量496g/
eq、軟化点71.2℃のエポキシ樹脂(B)160部
を得た。得られたエポキシ樹脂はエポキシ当量から計算
すると式(8)におけるXのうち48%がエポキシ基で
あった。
Example 2 Epoxy equivalent of 496 g / same as in Example 1 except that the amount of flaky sodium hydroxide used was changed to 5.5 parts.
Thus, 160 parts of an epoxy resin (B) having an eq and a softening point of 71.2 ° C. was obtained. In the obtained epoxy resin, when calculated from the epoxy equivalent, 48% of X in the formula (8) was an epoxy group.

【0059】実施例3〜4、比較例1 実施例1〜2で得られたエポキシ樹脂(A)〜(B)、
比較としてビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポミッ
クR−301,エポキシ当量468g/eq,軟化点
℃,三井石油化学(株)製)硬化剤としてジアミノジフ
ェニルメタン(DDM)を用い、表1に示す組成及び重
量部で配合して、70℃で15分ロールで混練し、15
0℃、180秒でトランスファー成形して、その後16
0℃で2時間、更に180℃で8時間硬化せしめて試験
片を作成し、ガラス転移温度、吸水率及び誘電率を測定
した。結果を表1に示す。
Examples 3 to 4, Comparative Example 1 Epoxy resins (A) to (B) obtained in Examples 1 and 2,
For comparison, bisphenol A type epoxy resin (Epomic R-301, epoxy equivalent 468 g / eq, softening point ° C, manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.) was used diaminodiphenylmethane (DDM) as a curing agent, and the composition and parts by weight shown in Table 1 were used. And knead with a roll for 15 minutes at 70 ° C.
Transfer molding at 0 ℃ for 180 seconds, then 16
A test piece was prepared by curing at 0 ° C. for 2 hours and further at 180 ° C. for 8 hours, and the glass transition temperature, water absorption rate and dielectric constant were measured. The results are shown in Table 1.

【0060】[0060]

【表1】 表1 実 施 例 比較例 3 4 1 エポキシ樹脂(A) 100 エポキシ樹脂(B) 100 エポミックR−301 100 エポキシ当量(g/eq) 388 496 468 DDM 12.8 10.0 10.6 ガラス転移温度(℃) 156 148 138 吸水率(%) 1.42 1.54 1.85 誘電率(ε) 3.15 3.08 3.89[Table 1] Table 1 Examples Comparative Examples 3 4 1 Epoxy resin (A) 100 Epoxy resin (B) 100 Epomic R-301 100 Epoxy equivalent (g / eq) 388 496 468 DDM 12.8 10.0 10.6 Glass transition temperature (° C ) 156 148 138 Water absorption (%) 1.42 1.54 1.85 Dielectric constant (ε) 3.15 3.08 3.89

【0061】実施例5 温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌器を取り付けたフラ
スコに2,6−キシレノール部(5モル)、ビス(α−
ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン58.2部(0.3
モル)、濃塩酸1000部を仕込み60℃で1時間反応
させた。ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン
58.2部を更に仕込み、1時間60℃で保持した後、
再度ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン7
7.6部を仕込み60℃で7時間保持して反応を完結さ
せた。反応後、トルエン2000部を加え濃塩酸層を除
去した後10%水酸化ナトリウム水溶液で中和し、更に
水洗を行った。その後油層からロータリエバポレーター
を使用し180℃、5mmHgの加熱減圧下で溶剤及び
未反応成分を除去し、ガラス状固体を得た。次いでトル
エン/n−ヘプタン中で再結晶を行った後結晶を冷トル
エンで洗浄し、減圧乾燥することにより下記式(9)で
表される化合物306部を得た。
Example 5 A flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a condenser and a stirrer was charged with 2,6-xylenol (5 mol) and bis (α-).
Hydroxyisopropyl) benzene 58.2 parts (0.3
Mol) and 1000 parts of concentrated hydrochloric acid were charged and reacted at 60 ° C. for 1 hour. After further charging 58.2 parts of bis (α-hydroxyisopropyl) benzene and holding at 60 ° C. for 1 hour,
Again bis (α-hydroxyisopropyl) benzene 7
7.6 parts was charged and the reaction was completed by holding at 60 ° C. for 7 hours. After the reaction, 2000 parts of toluene was added to remove the concentrated hydrochloric acid layer, and the mixture was neutralized with a 10% sodium hydroxide aqueous solution and further washed with water. After that, the solvent and unreacted components were removed from the oil layer using a rotary evaporator under heating and reduced pressure of 180 ° C. and 5 mmHg to obtain a glassy solid. Then, the crystals were recrystallized in toluene / n-heptane, washed with cold toluene, and dried under reduced pressure to obtain 306 parts of a compound represented by the following formula (9).

【0062】[0062]

【化10】 [Chemical 10]

【0063】次いで、温度計、冷却管、撹拌器を取り付
けたフラスコに窒素ガスパージを施しながら上記反応で
得られた化合物201部(0.5モル)、エピクロルヒ
ドリン463部、ジメチルスルホキシド231部を仕込
み溶解させた。更に70℃に加熱しフレーク状水酸化ナ
トリウム20部を100分かけて分割添加し、その後更
に70℃で3時間反応させた。反応終了後ロータリエバ
ポレーターを使用し130℃、5mmHgの加熱減圧下
で、過剰のエピクロルヒドリン及びジメチルスルホキシ
ドを留去し、残留物に514部のメチルイソブチルケト
ンを加え、溶解した。
Next, 201 parts (0.5 mol) of the compound obtained in the above reaction, 463 parts of epichlorohydrin and 231 parts of dimethyl sulfoxide were charged into a flask equipped with a thermometer, a condenser and a stirrer while purging with nitrogen gas. Let The mixture was further heated to 70 ° C., 20 parts of flaky sodium hydroxide was added portionwise over 100 minutes, and then the mixture was further reacted at 70 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin and dimethyl sulfoxide were distilled off at 130 ° C. under heating and reduced pressure of 5 mmHg using a rotary evaporator, and 514 parts of methyl isobutyl ketone was added and dissolved.

【0064】更に、このメチルイソブチルケトンの溶液
を70℃に加熱し30重量%の水酸化ナトリウム水溶液
13.3部を添加し1時間反応させた後、水洗を繰り返
しpHを中性とした。更に水層は分離除去し、ロータリ
ーエバポレーターを使用して油層から加熱減圧下メチル
イソブチルケトンを留去し下記式(10)で表されるエ
ポキシ樹脂242部を得た。得られたエポキシ樹脂の軟
化点は53.2℃、エポキシ当量は274g/eqであ
った。
Further, this methyl isobutyl ketone solution was heated to 70 ° C., 13.3 parts of a 30 wt% sodium hydroxide aqueous solution was added, and the mixture was reacted for 1 hour, and then washed with water repeatedly to make the pH neutral. Further, the aqueous layer was separated and removed, and methyl isobutyl ketone was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure using a rotary evaporator to obtain 242 parts of an epoxy resin represented by the following formula (10). The obtained epoxy resin had a softening point of 53.2 ° C and an epoxy equivalent of 274 g / eq.

【0065】[0065]

【化11】 [Chemical 11]

【0066】(式中Gはグリシジル基を表す。) 以上の工程で得られた式(10)で表されるエポキシ樹
脂110部と式(9)で表される化合物32.2部、及
びメチルイソブチルケトン71.1部をフラスコに仕込
み、撹拌溶解した後、トリフェニルホスフィン0.1部
を添加し、撹拌下120℃でメチルイソブチルケトンを
減圧留去し、更に150℃で2時間反応を行い下記式
(11)で表されるエポキシ当量591g/eq、軟化
点69.2℃のエポキシ樹脂142部を得た。
(In the formula, G represents a glycidyl group.) 110 parts of the epoxy resin represented by the formula (10) obtained in the above steps, 32.2 parts of the compound represented by the formula (9), and methyl 71.1 parts of isobutyl ketone was charged into a flask and dissolved by stirring, then 0.1 part of triphenylphosphine was added, methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure at 120 ° C. under stirring, and further reacted at 150 ° C. for 2 hours. 142 parts of an epoxy resin represented by the following formula (11) having an epoxy equivalent of 591 g / eq and a softening point of 69.2 ° C. was obtained.

【0067】[0067]

【化12】 [Chemical 12]

【0068】(式中nは1.46(平均値)であり、G
はグリシジル基を表す。) 更に反応系中にエピクロルヒドリン324部を加え撹拌
溶解させた後、撹拌下40℃でテトラメチルアンモニウ
ムクロライド1部を添加した。その後フレーク状水酸化
ナトリウム8.4部を添加し、更に3時間反応を行っ
た。反応終了後水150部を加え水洗を行った。湯水分
離後、油層より未反応のエピクロルヒドリンを減圧下に
蒸留回収し、下記式(12)で表されるエポキシ樹脂
(C)144部を得た。
(Where n is 1.46 (average value), and G
Represents a glycidyl group. ) Further, 324 parts of epichlorohydrin was added to the reaction system and dissolved by stirring, and then 1 part of tetramethylammonium chloride was added at 40 ° C. under stirring. After that, 8.4 parts of flaky sodium hydroxide was added, and the reaction was further performed for 3 hours. After the reaction was completed, 150 parts of water was added and the mixture was washed with water. After hot-water separation, unreacted epichlorohydrin was distilled and recovered from the oil layer under reduced pressure to obtain 144 parts of an epoxy resin (C) represented by the following formula (12).

【0069】[0069]

【化13】 [Chemical 13]

【0070】(式中nは1.46(平均値)であり、G
及びXは前記式(1)におけるのと同じ意味を表す。) 得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は419g/e
q、軟化点は59.3℃であった。得られたエポキシ樹
脂はエポキシ当量から計算すると式(12)におけるX
のうち65%がエポキシ基であった。
(Where n is 1.46 (average value), and G
And X have the same meanings as in the above formula (1). ) The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin is 419 g / e.
q and the softening point were 59.3 degreeC. The obtained epoxy resin has X in the formula (12) when calculated from the epoxy equivalent.
Of these, 65% were epoxy groups.

【0071】実施例6 フレーク状水酸化ナトリウムの使用量を5.6部に変え
たほかは実施例1と同様にしてエポキシ当量463g/
eq、軟化点63.2℃のエポキシ樹脂(D)139部
を得た。得られたエポキシ樹脂はエポキシ当量から計算
すると式(12)におけるXのうち43%がエポキシ基
であった。
Example 6 Epoxy equivalent of 463 g / same as in Example 1 except that the amount of flaky sodium hydroxide used was changed to 5.6 parts.
139 parts of an epoxy resin (D) having an eq and a softening point of 63.2 ° C. were obtained. In the obtained epoxy resin, 43% of X in the formula (12) was an epoxy group when calculated from the epoxy equivalent.

【0072】実施例7〜8、比較例2 実施例5〜6で得られたエポキシ樹脂(C)〜(D)、
比較としてビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポミッ
クR−301,エポキシ当量468g/eq,軟化点
℃,三井石油化学(株)製)硬化剤としてフェノールノ
ボラック(PN:日本化薬(株)製)を用い、表2に示
す組成及び重量部で配合して、70℃で15分ロールで
混練し、150℃、180秒でトランスファー成形し
て、その後160℃で2時間、更に180℃で8時間硬
化せしめて試験片を作成し、ガラス転移温度、吸水率及
び誘電率を測定した。
Examples 7-8, Comparative Example 2 Epoxy resins (C)-(D) obtained in Examples 5-6,
For comparison, bisphenol A type epoxy resin (Epomic R-301, epoxy equivalent 468 g / eq, softening point ° C, manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.) was used as a curing agent, and phenol novolac (PN: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used. The composition and parts by weight shown in Table 2 were blended, kneaded with a roll at 70 ° C. for 15 minutes, transfer molded at 150 ° C. for 180 seconds, and then cured at 160 ° C. for 2 hours and further at 180 ° C. for 8 hours. A test piece was prepared and the glass transition temperature, water absorption and dielectric constant were measured.

【0073】その結果を表2に示す。尚、トランスファ
ー成形条件及びポストキュアの条件は実施例3〜4、比
較例1と同様である。
The results are shown in Table 2. The transfer molding conditions and post-cure conditions are the same as in Examples 3 to 4 and Comparative Example 1.

【0074】[0074]

【表2】 表2 実施例 実施例 比較例 7 8 2 エポキシ樹脂(C) 100 エポキシ樹脂(D) 100 エポミックR−301 100 エポキシ当量(g/eq) 419 463 468 硬化剤(PN) 25.3 22.9 22.6 硬化促進剤(2E4MZ) 1 1 1 ガラス転移温度(℃) 135 130 110 吸水率(%) 0.58 0.63 0.81 誘電率(ε) 2.9 3.0 3.5 Table 2 Examples Examples Examples Comparative Examples 7 8 2 Epoxy resin (C) 100 Epoxy resin (D) 100 Epomic R-301 100 Epoxy equivalent (g / eq) 419 463 468 Curing agent (PN) 25.3 22.9 22.6 Curing accelerator (2E4MZ) 1 1 1 Glass transition temperature (℃) 135 130 110 Water absorption rate (%) 0.58 0.63 0.81 Dielectric constant (ε) 2.9 3.0 3.5

【0075】[0075]

【発明の効果】表1〜2より明かなように、本発明のエ
ポキシ樹脂は、従来使用されてきた汎用エポキシ樹脂と
比較して、それらを使用して得られる硬化物は、耐熱
性、耐水性に優れしかも低誘電率という特性を兼ね備え
ている。すなわち本発明のエポキシ樹脂は耐熱性、耐水
性に優れたしかも低誘電率である硬化物を与えることが
でき、成形材料,注型材料,積層材料,塗料,接着剤,
レジストなどの広範囲の用途に極めて有用である。
As is clear from Tables 1 and 2, the epoxy resin of the present invention has a heat resistance and a water resistance which are higher than those of conventional general-purpose epoxy resins. It has excellent properties and also has the characteristics of low dielectric constant. That is, the epoxy resin of the present invention can provide a cured product having excellent heat resistance and water resistance and a low dielectric constant, and can be used as a molding material, a casting material, a laminating material, a paint, an adhesive,
It is extremely useful for a wide range of applications such as resists.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】式(1) 【化1】 (式中、nは平均値を示し正数を表す。Rは水素原子、
炭素数1〜8のアルキル基、アリール基のいずれかを表
し個々のRはお互いに同一であっても異なっていてもよ
い。P,Qはハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル
基、アリール基のいずれかを表し個々のP,Qはお互い
に同一であっても異なっていてもよい。Gはグリシジル
基を表す。またXは水素原子あるいはグリシジル基を表
し、個々のXはお互いに同一であっても異なっていても
よいが、全てのXの5%以上95%以下はグリシジル基
である。)で表されるエポキシ樹脂。
1. A formula (1): (In the formula, n represents an average value and represents a positive number. R is a hydrogen atom,
Each R represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group, and each R may be the same or different. P and Q represent any one of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and an aryl group, and each P and Q may be the same or different from each other. G represents a glycidyl group. X represents a hydrogen atom or a glycidyl group, and each X may be the same as or different from each other, but 5% or more and 95% or less of all Xs are glycidyl groups. ) Epoxy resin represented by.
【請求項2】エポキシ樹脂および硬化剤、さらに必要に
より硬化促進剤を含むエポキシ樹脂組成物において、該
エポキシ樹脂成分として請求項1記載のエポキシ樹脂を
含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
2. An epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and optionally a curing accelerator, wherein the epoxy resin composition according to claim 1 is contained as the epoxy resin component.
【請求項3】請求項2記載のエポキシ樹脂組成物を硬化
してなる硬化物。
3. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 2.
JP8364494A 1994-03-31 1994-03-31 Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured item thereof Pending JPH07268061A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8364494A JPH07268061A (en) 1994-03-31 1994-03-31 Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured item thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8364494A JPH07268061A (en) 1994-03-31 1994-03-31 Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured item thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07268061A true JPH07268061A (en) 1995-10-17

Family

ID=13808165

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8364494A Pending JPH07268061A (en) 1994-03-31 1994-03-31 Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured item thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07268061A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023195504A1 (en) * 2022-04-07 2023-10-12 三菱瓦斯化学株式会社 Thermoplastic resin and optical lens including same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023195504A1 (en) * 2022-04-07 2023-10-12 三菱瓦斯化学株式会社 Thermoplastic resin and optical lens including same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3476027B2 (en) Manufacturing method of epoxy resin
JP3573530B2 (en) Epoxy resin mixture, epoxy resin composition and cured product thereof
JPH08239454A (en) Novolac resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JPH09183829A (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and its hardened article
JP3476584B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JPH09268219A (en) Novolak type resin, epoxy resin, epoxy resin composition and its cured material
JP3852789B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JPH08193110A (en) Novolak resin, epoxy resin, epoxy resin composition, and cured article obtained therefrom
JPH07268061A (en) Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured item thereof
JP3377241B2 (en) Method for producing epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP3441020B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP3939000B2 (en) Novolac resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP3646942B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JPH09169834A (en) Novolak resin, epoxy resin, epoxy resin composition, and cured item thereof
JPH07330645A (en) Compound of polyphenols, epoxy resin, epoxy resin composition and cured material thereof
JP3651702B2 (en) Modified phenolic novolak resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP3989458B2 (en) Method for producing phenolic compound and epoxy resin
JPH07109334A (en) Epoxy rein, epoxy resin composition and cured product thereof
JPH0920819A (en) Modified phenol novlak resin, epoxy resin, epoxy resin composition and its cured product
JP3938592B2 (en) Phenolic compounds
JP3886060B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JPH08310985A (en) Polyphenolic compound, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JPH09132623A (en) Novolac resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP3736700B2 (en) Polyphenols, epoxy resins, epoxy resin compositions and cured products thereof
JP4158137B2 (en) Epoxy resin composition and cured product thereof.