JPH07266607A - Formation of developer insertion hole of printing head - Google Patents
Formation of developer insertion hole of printing headInfo
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- JPH07266607A JPH07266607A JP5718894A JP5718894A JPH07266607A JP H07266607 A JPH07266607 A JP H07266607A JP 5718894 A JP5718894 A JP 5718894A JP 5718894 A JP5718894 A JP 5718894A JP H07266607 A JPH07266607 A JP H07266607A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、パウダージェット画
像形成装置の印字ヘッドの現像剤挿通孔形成方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a developer insertion hole in a print head of a powder jet image forming apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術】本出願人は、図3に示すようなパウダー
ジェット画像形成装置を既に開発している。このパウダ
ージェット画像形成装置は、所定の極性、たとえば負極
性に帯電されたトナーの通過を制御する印字ヘッド2
と、トナーを印字ヘッド2に供給するためのトナー供給
ローラ1と、記録紙Pを印字ヘッド2がわに導くための
記録紙搬送ローラ3と、記録紙Pに転写されたトナーを
記録紙Pに定着させるための定着ローラ4とを備えてい
る。2. Description of the Related Art The applicant has already developed a powder jet image forming apparatus as shown in FIG. This powder jet image forming apparatus has a print head 2 that controls passage of toner charged with a predetermined polarity, for example, negative polarity.
A toner supply roller 1 for supplying toner to the print head 2, a recording paper transport roller 3 for guiding the recording paper P to the print head 2, and a toner transferred onto the recording paper P. And a fixing roller 4 for fixing.
【0003】印字ヘッド2は、図3、図4および図5に
示すように、絶縁基板20と、絶縁基板20のトナー供
給ローラ1がわの表面に形成された複数の第1電極21
と、絶縁基板20の記録紙搬送ローラ3がわの表面に形
成された複数の第2電極22とを備えている。複数の第
1電極21および複数の第2電極22によって、マトリ
クス状電極が構成されている。図4は、印字ヘッド2を
記録紙搬送ローラ3がわから見た図を示している。各第
1電極21と各第2電極22との各交点位置には、印字
ヘッド2を貫通するトナー通過孔23が開けられてい
る。As shown in FIGS. 3, 4 and 5, the print head 2 has an insulating substrate 20 and a plurality of first electrodes 21 on which the toner supply roller 1 of the insulating substrate 20 is formed.
And a plurality of second electrodes 22 formed on the surface of the recording paper carrying roller 3 of the insulating substrate 20. The plurality of first electrodes 21 and the plurality of second electrodes 22 form a matrix electrode. FIG. 4 shows a view of the print head 2 as seen from the recording paper carrying roller 3. A toner passage hole 23 penetrating the print head 2 is formed at each intersection of each first electrode 21 and each second electrode 22.
【0004】各第1電極21には、オン電圧(たとえば
−100V)およびオフ電圧(たとえば+300V)と
が選択的に印加される。各第2電極22には、オン電圧
(たとえば0V)およびオフ電圧(たとえば−200
V)とが選択的に印加される。図6は、各第1電極21
の印加電圧V1−0〜V1−7の変化を示している。図
6に示すように、各第1電極21はダイナミックスキャ
ン制御され、所定単位時間間隔で印加電圧が順次オンさ
れる。そして、第1電極21および第2電極22の両方
の印加電圧がオン電圧のときのみ、それらの交点にある
トナー挿通孔23をトナーが通過しドット印字が行われ
る。An on-voltage (for example -100V) and an off-voltage (for example + 300V) are selectively applied to each first electrode 21. Each second electrode 22 has an on-voltage (for example, 0 V) and an off-voltage (for example, -200 V).
V) and are selectively applied. FIG. 6 shows each first electrode 21.
Of the applied voltage V1-0 to V1-7. As shown in FIG. 6, each first electrode 21 is subjected to dynamic scan control, and the applied voltage is sequentially turned on at predetermined unit time intervals. Then, only when the applied voltage to both the first electrode 21 and the second electrode 22 is the on-voltage, the toner passes through the toner insertion hole 23 at the intersection thereof, and the dot printing is performed.
【0005】記録紙Pは、記録紙搬送ローラ3によっ
て、第1電極21と直角方向にかつ第1電極21のダイ
ナミックスキャンによる制御が進む方向(図4に矢印A
で示す方向)に搬送される。記録紙搬送ローラ3には、
+500Vの電圧が印加されている。トナー供給ローラ
1は接地されており、その表面電位は0Vである。The recording paper P is moved in the direction perpendicular to the first electrode 21 by the recording paper conveying roller 3 and in the direction in which control by dynamic scanning of the first electrode 21 proceeds (arrow A in FIG. 4).
Is conveyed in the direction indicated by. The recording paper transport roller 3 has
A voltage of + 500V is applied. The toner supply roller 1 is grounded and its surface potential is 0V.
【0006】印字ヘッド2には、印字ヘッド2に超音波
振動を与えて、トナー挿通孔23にトナーが目詰まりす
るのを防止するための超音波振動子5が取り付けられて
いる。The print head 2 is provided with an ultrasonic vibrator 5 for applying ultrasonic vibration to the print head 2 to prevent the toner insertion hole 23 from being clogged with toner.
【0007】図7は、印字ヘッド2の製造方法を示して
いる。FIG. 7 shows a method of manufacturing the print head 2.
【0008】まず、たとえばポリイミド高分子材料から
なる絶縁層20の両面に銅箔が形成された両面銅張プリ
ント基板を用意する。そして、絶縁層20の両面の銅箔
の非電極形成部分をエッチング処理によって除去するこ
とにより、絶縁層20の一方の表面に第2電極22を、
絶縁層20の他方の表面に第1電極21を形成する(図
7(a))。First, a double-sided copper-clad printed board having copper foils formed on both sides of an insulating layer 20 made of, for example, a polyimide polymer material is prepared. Then, the second electrode 22 is formed on one surface of the insulating layer 20 by removing the non-electrode forming portions of the copper foil on both surfaces of the insulating layer 20 by etching.
The first electrode 21 is formed on the other surface of the insulating layer 20 (FIG. 7A).
【0009】次に、第2電極22および第1電極21に
おける両電極の交点部分に、エッチング処理により、円
形孔23a、23bをそれぞれ開ける(図7(b))。Next, circular holes 23a and 23b are formed at the intersections of the second electrode 22 and the first electrode 21 by the etching process (FIG. 7B).
【0010】次に、第2電極22または第1電極21に
おける孔23a、23bの周囲部分をマスクとして、第
2電極22または第1電極21のうちの一方がわからレ
ーザ光を絶縁層20に照射し、絶縁層20に孔23aと
23bとを連通させる孔23cを開けて、トナー挿通孔
23を形成する(図7(c)および(d))。Next, the insulating layer 20 is irradiated with laser light from one of the second electrode 22 and the first electrode 21 using the peripheral portion of the holes 23a and 23b in the second electrode 22 or the first electrode 21 as a mask. Then, a hole 23c for communicating the holes 23a and 23b is formed in the insulating layer 20 to form a toner insertion hole 23 (FIGS. 7C and 7D).
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】上記のような印字ヘッ
ド2の製造方法においては、第2電極22に開けられた
孔23aの中心と、それに対応して第1電極21に開け
られた孔23bの中心とが一致する場合には、図8に示
すように、孔23cの径で規定される所定の開口面積
(図8(a)の斜線部分)を有するトナー挿通孔23が
形成される。しかしながら、上記の印字ヘッド2の製造
方法では、図9に示すように、第2電極22に開けられ
た孔23aの中心と、それに対応して第1電極21に開
けられた孔23bの中心とがずれることがあった。そう
すると、トナー挿通孔23の開口面積(図9(a)の斜
線部分)は、孔23cの径で規定される所定の開口面積
より小さくなってしまう。In the method of manufacturing the print head 2 as described above, the center of the hole 23a formed in the second electrode 22 and the hole 23b formed in the first electrode 21 correspondingly. 8A and 8B, the toner insertion hole 23 having a predetermined opening area (hatched portion in FIG. 8A) defined by the diameter of the hole 23c is formed as shown in FIG. However, in the method of manufacturing the print head 2 described above, as shown in FIG. 9, the center of the hole 23a formed in the second electrode 22 and the center of the hole 23b formed in the first electrode 21 correspondingly. Sometimes slipped. Then, the opening area of the toner insertion hole 23 (hatched portion in FIG. 9A) becomes smaller than the predetermined opening area defined by the diameter of the hole 23c.
【0012】現在、トナー挿通孔23の直径は100〜
150μmである。一方、孔23aとそれに対応する孔
23bを開ける際のエッチング位置合わせ精度は、±3
0μm程度が限界である。したがって、トナー挿通孔2
3の孔径に対して孔23aと孔23bとを開ける際のエ
ッチング位置合わせ誤差が無視できない値になってい
る。たとえば、直径が100μmのトナー挿通孔23に
対して、30μmのエッチング位置合わせ誤差が生じた
場合、トナー挿通孔23の開口面積は規定値の約60%
となる。トナー挿通孔23の開口面積に40%のばらつ
きがあれば、出力画像の濃度むらなどの不具合が生じ
る。At present, the diameter of the toner insertion hole 23 is 100-.
It is 150 μm. On the other hand, the etching alignment accuracy when opening the hole 23a and the corresponding hole 23b is ± 3.
The limit is about 0 μm. Therefore, the toner insertion hole 2
With respect to the hole diameter of 3, the etching alignment error when opening the holes 23a and 23b has a non-negligible value. For example, when an etching alignment error of 30 μm occurs in the toner insertion hole 23 having a diameter of 100 μm, the opening area of the toner insertion hole 23 is about 60% of the specified value.
Becomes If the opening area of the toner insertion hole 23 varies by 40%, a problem such as uneven density of the output image occurs.
【0013】この発明は、印字ヘッドの現像剤挿通孔の
開口面積にばらつきが発生しない印字ヘッドの現像剤挿
通孔形成方法を提供することを目的とする。An object of the present invention is to provide a method for forming a developer insertion hole of a print head in which the opening area of the developer insertion hole of the print head does not vary.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】この発明による印字ヘッ
ドの現像剤挿通孔形成方法は、絶縁層、絶縁層の一方の
表面に形成された第1の電極部材および絶縁層の他方の
表面に形成された第2の電極部材を備えた印字ヘッド部
材に現像剤挿通孔を形成する印字ヘッドの現像剤挿通孔
形成方法であって、上記第1の電極部材および上記第2
の電極部材のうちいずれか一方を金属材料で形成し、上
記第1の電極部材および上記第2の電極部材のうちの他
方を、上記金属材料よりレーザ加工閾値が小さな導電性
高分子材料で形成し、上記絶縁層を上記金属材料よりレ
ーザ加工閾値が小さな絶縁性高分子材料で形成し、上記
金属材料で形成された電極部材における現像剤挿通孔を
形成すべき位置に孔を形成し、上記孔が形成された電極
部材の上から上記印字ヘッド部材にレーザ光を照射する
ことにより、上記絶縁層および上記導電性高分子材料で
形成された電極部材に、上記孔に繋がる連通孔をあける
ことを特徴とする。According to the method for forming a developer insertion hole of a print head according to the present invention, an insulating layer, a first electrode member formed on one surface of the insulating layer and the other surface of the insulating layer are formed. A method for forming a developer insertion hole of a print head, the method comprising forming a developer insertion hole in a print head member including a second electrode member, comprising: the first electrode member;
One of the electrode members is formed of a metal material, and the other of the first electrode member and the second electrode member is formed of a conductive polymer material having a laser processing threshold value smaller than that of the metal material. The insulating layer is formed of an insulating polymer material having a laser processing threshold value smaller than that of the metal material, and a hole is formed at a position where a developer insertion hole in the electrode member formed of the metal material is to be formed. By irradiating the print head member with laser light from above the electrode member in which holes are formed, a communication hole connected to the holes is formed in the electrode member formed of the insulating layer and the conductive polymer material. Is characterized by.
【0015】上記第1の電極部材には、第1の電極その
ものの他、第1の電極を形成するための電極材料層も含
まれる。同様に、上記第2の電極部材には、第2の電極
そのものの他、第2の電極を形成するための電極材料層
も含まれる。上記金属材料としては、たとえば、銅、ア
ルミニウム、ステンレス等が用いられる。上記導電性高
分子材料としては、たとえば、ポリアニリンが用いられ
る。上記絶縁性高分子材料としては、たとえば、ポリイ
ミド、ポリエチレン、エポキシ樹脂等が用いられる。The first electrode member includes not only the first electrode itself but also an electrode material layer for forming the first electrode. Similarly, the second electrode member includes not only the second electrode itself but also an electrode material layer for forming the second electrode. As the metal material, for example, copper, aluminum, stainless steel or the like is used. As the conductive polymer material, for example, polyaniline is used. As the insulating polymer material, for example, polyimide, polyethylene, epoxy resin or the like is used.
【0016】[0016]
【作用】第1の電極部材および第2の電極部材のうちい
ずれか一方が金属材料で形成される。また、第1の電極
部材および上記第2の電極部材のうちの他方が、上記金
属材料よりレーザ加工閾値が小さな導電性高分子材料で
形成される。また、絶縁層が上記金属材料よりレーザ加
工閾値が小さな絶縁性高分子材料で形成される。Operation One of the first electrode member and the second electrode member is made of a metal material. Further, the other of the first electrode member and the second electrode member is formed of a conductive polymer material having a laser processing threshold value smaller than that of the metal material. Further, the insulating layer is formed of an insulating polymer material having a laser processing threshold value smaller than that of the metal material.
【0017】金属材料で形成された電極部材の現像剤挿
通孔を形成すべき位置に孔が形成される。そして、孔が
形成された電極部材の上から印字ヘッド部材にレーザ光
が照射されることにより、絶縁層および導電性高分子材
料で形成された電極部材に、上記孔に繋がる連通孔があ
けられる。A hole is formed at a position where the developer insertion hole of the electrode member made of a metal material is to be formed. Then, by irradiating the print head member with laser light from above the electrode member in which the holes are formed, the electrode member formed of the insulating layer and the conductive polymer material is provided with a communication hole connected to the hole. .
【0018】[0018]
【実施例】以下、図1および図2を参照して、この発明
の実施例について、説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0019】図1は、印字ヘッドの製造方法を示してい
る。FIG. 1 shows a method of manufacturing a print head.
【0020】まず、絶縁性高分子材料からなる絶縁層2
0の片面に金属箔30が形成された片面銅張プリント基
板を用意する(図1(a))。金属箔30の材料として
は、銅、アルミ、ステンレス等が用いられる。ここで
は、金属箔30の材料として銅が用いられている。絶縁
層20の絶縁性高分子材料は、金属箔30よりレーザ加
工閾値が小さな材料である。この種の絶縁性高分子材料
としては、たとえば、ポリイミド、ポリエチレン、エポ
キシ樹脂等が用いられる。ここでは、絶縁層20の材料
として、ポリイミドが用いられている。First, the insulating layer 2 made of an insulating polymer material
A single-sided copper-clad printed circuit board having a metal foil 30 formed on one side of No. 0 is prepared (FIG. 1A). As the material of the metal foil 30, copper, aluminum, stainless steel or the like is used. Here, copper is used as the material of the metal foil 30. The insulating polymer material of the insulating layer 20 is a material having a laser processing threshold value smaller than that of the metal foil 30. As this type of insulating polymer material, for example, polyimide, polyethylene, epoxy resin or the like is used. Here, polyimide is used as the material of the insulating layer 20.
【0021】次に、絶縁層20の片面に形成されている
金属箔30の非電極形成部分およびトナー挿通孔形成部
分23aをエッチング処理によって除去することによ
り、絶縁層22の一方の表面に、第1電極21および第
2電極22のうちのいずれか一方の電極パターンおよび
孔23aを形成する(図1(b))。ここでは、第2電
極22のパターンが形成されている。Next, the non-electrode forming portion and the toner insertion hole forming portion 23a of the metal foil 30 formed on one surface of the insulating layer 20 are removed by an etching process, so that one surface of the insulating layer 22 is covered with the first electrode. An electrode pattern of one of the first electrode 21 and the second electrode 22 and a hole 23a are formed (FIG. 1B). Here, the pattern of the second electrode 22 is formed.
【0022】次に、絶縁層20の金属箔30が形成され
ていない方の面に、第1電極21および第2電極22の
うち、すでに形成されている電極とは異なる電極のパタ
ーンを、導電性高分子材料で印刷する(図1(c))。
ここでは、第1電極21のパターンが印刷されている。
導電性高分子材料は、金属箔30よりレーザ加工閾値が
小さな材料である。この種の導電性高分子材料として
は、たとえば、ポリアニリン(日東電工株式会社製の商
品名「アリニード」)が用いられる。このような導電性
高分子材料は、溶液状態で印刷製膜することが可能であ
り、製膜後に乾燥させることによって、耐溶剤性および
耐熱性の高い電極パターンが得られる。Next, on the surface of the insulating layer 20 on which the metal foil 30 is not formed, an electrode pattern different from the already formed electrode of the first electrode 21 and the second electrode 22 is electrically conductive. Printing is performed with a hydrophilic polymer material (FIG. 1C).
Here, the pattern of the first electrode 21 is printed.
The conductive polymer material is a material having a laser processing threshold value smaller than that of the metal foil 30. As the conductive polymer material of this type, for example, polyaniline (trade name “Alinide” manufactured by Nitto Denko Corporation) is used. Such a conductive polymer material can be formed into a film by printing in a solution state, and by drying after forming the film, an electrode pattern having high solvent resistance and high heat resistance can be obtained.
【0023】次に、金属製の第2電極22をマスクとし
て利用し、第2電極22の上からレーザ光を照射して
(図1(d))、高分子材料製の絶縁層20および第1
電極21のトナー挿通孔形成部分23bおよび23cを
除去する(図1(e))。これにより、トナー挿通孔2
3が形成される。レーザとしては、たとえば、KrFエ
キシマレーザが用いられる。Next, using the second electrode 22 made of metal as a mask, laser light is irradiated from above the second electrode 22 (FIG. 1D), and the insulating layer 20 made of polymer material and the second 1
The toner insertion hole forming portions 23b and 23c of the electrode 21 are removed (FIG. 1E). As a result, the toner insertion hole 2
3 is formed. As the laser, for example, a KrF excimer laser is used.
【0024】絶縁層20の材料であるポリイミドおよび
第1電極21の材料であるポリアニリンにおける主な分
子結合エネルギーは、C−Cで80kcal/mol、
C−Nで78kcal/mol、C−Oで88kcal
/mol、C−Hで98kcal/molであり、いず
れもKrFエキシマレーザの光子エネルギーの115k
cal/molより小さく、アブレーション加工が可能
である。The main molecular binding energy in polyimide, which is the material of the insulating layer 20, and polyaniline, which is the material of the first electrode 21, is 80 kcal / mol in C--C,
78kcal / mol for C-N and 88kcal for C-O
/ Mol, C-H is 98 kcal / mol, and both are 115 k of the photon energy of the KrF excimer laser.
It is smaller than cal / mol and can be ablated.
【0025】以上のようにして形成されたトナー挿通孔
23は、第1電極21がわおよび第2電極22がわにお
いて位置ずれが生じないため、トナー挿通孔23の開口
面積にばらつきが発生しなくなる。Since the toner insertion hole 23 formed as described above is not displaced in position between the first electrode 21 and the second electrode 22, the opening area of the toner insertion hole 23 varies. Disappear.
【0026】上記の例では、金属箔30をエッチングす
ることにより、電極パターン(上記の例では第2電極2
2のパターン)と、孔23aとを同時に形成している
が、次のようにしてもよい。In the above example, the metal foil 30 is etched to form an electrode pattern (in the above example, the second electrode 2).
The pattern 2) and the holes 23a are formed at the same time, but they may be formed as follows.
【0027】すなわち、まず、金属箔30のトナー挿通
孔形成部分23aのみをエッチングで除去して、孔23
aを金属箔30に形成する。次に、絶縁層20の他面に
導電性高分子材料で電極パターン(上記の例では第1電
極21のパターン)を印刷する。そして、金属箔30を
マスクとして、金属箔30の上からレーザ光を照射し
て、高分子材料製の絶縁層20および第1電極21のト
ナー挿通孔形成部分を除去する。この後、金属箔30の
非電極部分をエッチングにより除去して第2電極22の
パターンを形成する。That is, first, only the toner insertion hole forming portion 23a of the metal foil 30 is removed by etching to remove the hole 23.
A is formed on the metal foil 30. Next, an electrode pattern (the pattern of the first electrode 21 in the above example) is printed on the other surface of the insulating layer 20 with a conductive polymer material. Then, using the metal foil 30 as a mask, laser light is applied from above the metal foil 30 to remove the insulating layer 20 made of a polymer material and the toner insertion hole forming portion of the first electrode 21. After that, the non-electrode portion of the metal foil 30 is removed by etching to form the pattern of the second electrode 22.
【0028】図2は、印字ヘッドの他の製造方法を示し
ている。FIG. 2 shows another method of manufacturing the print head.
【0029】まず、絶縁性高分子材料からなる絶縁層2
0の片面に金属箔30が形成された片面銅張プリント基
板を用意する(図2(a))。金属箔30の材料として
は、銅、アルミ、ステンレス等が用いられる。ここで
は、金属箔30の材料として銅が用いられている。絶縁
性高分子材料としては、たとえば、ポリイミド、ポリエ
チレン、エポキシ樹脂等が用いられる。ここでは、絶縁
層20の材料として、ポリイミドが用いられている。First, the insulating layer 2 made of an insulating polymer material
A single-sided copper-clad printed circuit board having a metal foil 30 formed on one side of No. 0 is prepared (FIG. 2A). As the material of the metal foil 30, copper, aluminum, stainless steel or the like is used. Here, copper is used as the material of the metal foil 30. As the insulating polymer material, for example, polyimide, polyethylene, epoxy resin or the like is used. Here, polyimide is used as the material of the insulating layer 20.
【0030】次に、絶縁層20の片面に形成されている
金属箔30の非電極形成部分およびトナー挿通孔形成部
分23aをエッチング処理によって除去することによ
り、絶縁層22の一方の表面に、第1電極21および第
2電極22のうちのいずれか一方の電極パータンおよび
孔23aを形成する(図2(b))。ここでは、第2電
極22のパターンが形成されている。Next, the non-electrode forming portion and the toner insertion hole forming portion 23a of the metal foil 30 formed on one surface of the insulating layer 20 are removed by an etching process, so that one surface of the insulating layer 22 is covered with the first electrode. An electrode pattern and a hole 23a of either one of the first electrode 21 and the second electrode 22 are formed (FIG. 2B). Here, the pattern of the second electrode 22 is formed.
【0031】次に、絶縁層20の金属箔30が形成され
ていない方の面に、厚さ18〜35μmの導電性高分子
膜40を形成して乾燥させる(図2(c))。導電性高
分子材料としては、たとえば、ポリアニリン(日東電工
株式会社製の商品名「アニリード」)が用いられる。Next, a conductive polymer film 40 having a thickness of 18 to 35 μm is formed on the surface of the insulating layer 20 on which the metal foil 30 is not formed and dried (FIG. 2C). As the conductive polymer material, for example, polyaniline (trade name “anilead” manufactured by Nitto Denko Corporation) is used.
【0032】次に、第1電極21および第2電極22の
うち、既に形成されている電極とは異なる電極のパター
ン形状を有するマスク50を導電性高分子膜40上に載
せ、その上からエキシマレーザを照射して、導電性高分
子膜40の非電極形成部分を除去する(図2(d))。
これにより、図2(e)に示すように、第1電極21の
パターンが形成される。マスク50の材料としては、エ
キシマレーザ加工閾値が導電性高分子膜40に比べて高
い材料、たとえばステンレスシートが用いられる。Next, of the first electrode 21 and the second electrode 22, a mask 50 having a pattern shape of an electrode different from the already formed electrode is placed on the conductive polymer film 40, and the excimer is placed on the mask 50. Irradiation with a laser removes the non-electrode formation part of the electroconductive polymer film 40 (FIG.2 (d)).
As a result, the pattern of the first electrode 21 is formed as shown in FIG. As the material of the mask 50, a material having a higher excimer laser processing threshold value than the conductive polymer film 40, for example, a stainless sheet is used.
【0033】エキシマレーザのエッチ深さ精度は、たと
えば1パルスで0.2μmというように非常に高いの
で、絶縁層20を浸食することなく導電性高分子膜40
の非電極形成部分を完全に除去することができる。Since the excimer laser has a very high etching depth accuracy of 0.2 μm per pulse, for example, the conductive polymer film 40 does not corrode the insulating layer 20.
The non-electrode forming part of can be completely removed.
【0034】次に、金属製の第2電極22をマスクとし
て利用し、第2電極22の上からレーザ光を照射して
(図2(e))、高分子材料製の絶縁層20および第1
電極21のトナー挿通孔形成部分23bおよび23cを
除去する(図2(f))。これにより、トナー挿通孔2
3が形成される。レーザとしては、たとえば、KrFエ
キシマレーザが用いられる。Next, using the metal second electrode 22 as a mask, laser light is irradiated from above the second electrode 22 (FIG. 2 (e)), and the insulating layer 20 made of a polymer material and 1
The toner insertion hole forming portions 23b and 23c of the electrode 21 are removed (FIG. 2 (f)). As a result, the toner insertion hole 2
3 is formed. As the laser, for example, a KrF excimer laser is used.
【0035】以上のようにして形成されたトナー挿通孔
23は、第1電極21がわおよび第2電極22がわにお
いて位置ずれが生じないため、トナー挿通孔23の開口
面積にばらつきが発生しなくなる。The toner insertion hole 23 formed as described above does not cause a positional deviation between the first electrode 21 and the second electrode 22, so that the opening area of the toner insertion hole 23 varies. Disappear.
【0036】上記の例では、金属箔30をエッチングす
ることにより、電極パターン(上記の例では第2電極2
2のパターン)と、トナー挿通孔形成部分23aとを同
時に形成しているが、次のようにしてもよい。In the above example, by etching the metal foil 30, the electrode pattern (in the above example, the second electrode 2
2) and the toner insertion hole forming portion 23a are formed at the same time, but they may be formed as follows.
【0037】すなわち、まず、金属箔30のトナー挿通
孔部分23aのみをエッチングで除去する。次に、絶縁
層20の他面に導電性高分子膜40を形成する。次に、
導電性高分子膜40上にマスク50を載せ、その上から
エキシマレーザを照射して、導電性高分子膜40の非電
極形成部分を除去して、電極パターン(上記の例では第
1電極21のパターン)を形成する。そして、金属箔3
0をマスクとして、金属箔30の上からレーザ光を照射
して、高分子材料製の絶縁層20および第1電極21の
トナー挿通孔形成部分を除去する。この後、金属箔30
の非電極部分をエッチングにより除去して第2電極22
のパターンを形成する。That is, first, only the toner insertion hole portion 23a of the metal foil 30 is removed by etching. Next, the conductive polymer film 40 is formed on the other surface of the insulating layer 20. next,
A mask 50 is placed on the conductive polymer film 40, and an excimer laser is radiated on the mask 50 to remove the non-electrode forming portion of the conductive polymer film 40, and the electrode pattern (the first electrode 21 in the above example) is removed. Pattern) is formed. And metal foil 3
Laser light is radiated from above the metal foil 30 using 0 as a mask to remove the insulating layer 20 made of a polymer material and the toner insertion hole forming portion of the first electrode 21. After this, the metal foil 30
The non-electrode part of the second electrode 22 is removed by etching.
Pattern is formed.
【0038】[0038]
【発明の効果】この発明によれば、印字ヘッドの現像剤
挿通孔の開口面積にばらつきが発生しない印字ヘッドの
現像剤挿通孔形成方法が実現する。According to the present invention, there is realized a method for forming a developer insertion hole of a print head in which the opening area of the developer insertion hole of the print head does not vary.
【図1】印字ヘッドの製造方法を示す工程図である。FIG. 1 is a process chart showing a method of manufacturing a print head.
【図2】印字ヘッドの他の製造方法を示す工程図であ
る。FIG. 2 is a process drawing showing another method of manufacturing the print head.
【図3】パウダージェット画像形成装置の概略構成を示
す構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a powder jet image forming apparatus.
【図4】従来の印字ヘッドにおける第1電極と第2電極
の配置を示す一部拡大平面図である。FIG. 4 is a partially enlarged plan view showing an arrangement of first electrodes and second electrodes in a conventional print head.
【図5】従来の印字ヘッドの部分拡大斜視図である。FIG. 5 is a partially enlarged perspective view of a conventional print head.
【図6】各第1電極への印加電圧の変化を示すタイムチ
ャートである。FIG. 6 is a time chart showing changes in applied voltage to each first electrode.
【図7】従来の印字ヘッドの製造方法を示す工程図であ
る。FIG. 7 is a process diagram showing a conventional method for manufacturing a print head.
【図8】従来の印字ヘッドの製造過程において、第2電
極に形成された孔の中心と、第1電極に形成された孔の
中心とが一致した場合のトナー挿通孔を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a toner insertion hole when the center of the hole formed in the second electrode and the center of the hole formed in the first electrode coincide with each other in the conventional manufacturing process of the print head.
【図9】従来の印字ヘッドの製造過程において、第2電
極に形成された孔の中心と、第1電極に形成された孔の
中心とがずれた場合のトナー挿通孔を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a toner insertion hole when the center of the hole formed in the second electrode is deviated from the center of the hole formed in the first electrode in the conventional manufacturing process of the print head.
2 印字ヘッド 20 絶縁層 21 第1電極 22 第2電極 23 トナー挿通孔 23a 第2電極に開けられた孔 23b 絶縁層に開けられた孔 23c 第1電極に開けられた孔 2 print head 20 insulating layer 21 first electrode 22 second electrode 23 toner insertion hole 23a hole formed in second electrode 23b hole formed in insulating layer 23c hole formed in first electrode
Claims (2)
た第1の電極部材および絶縁層の他方の表面に形成され
た第2の電極部材を備えた印字ヘッド部材に現像剤挿通
孔を形成する印字ヘッドの現像剤挿通孔形成方法であっ
て、 上記第1の電極部材および上記第2の電極部材のうちい
ずれか一方を金属材料で形成し、 上記第1の電極部材および上記第2の電極部材のうちの
他方を、上記金属材料よりレーザ加工閾値が小さな導電
性高分子材料で形成し、 上記絶縁層を上記金属材料よりレーザ加工閾値が小さな
絶縁性高分子材料で形成し、 上記金属材料で形成された電極部材における現像剤挿通
孔を形成すべき位置に孔を形成し、 上記孔が形成された電極部材の上から上記印字ヘッド部
材にレーザ光を照射することにより、上記絶縁層および
上記導電性高分子材料で形成された電極部材に、上記孔
に繋がる連通孔をあけることを特徴とする印字ヘッドの
現像剤挿通孔形成方法。1. A developer insertion hole in a print head member including an insulating layer, a first electrode member formed on one surface of the insulating layer, and a second electrode member formed on the other surface of the insulating layer. A method of forming a developer insertion hole of a print head, wherein any one of the first electrode member and the second electrode member is formed of a metal material, and the first electrode member and the second electrode member are formed. The other of the two electrode members is formed of a conductive polymer material having a laser processing threshold value lower than that of the metal material, and the insulating layer is formed of an insulating polymer material having a laser processing threshold value lower than that of the metal material, A hole is formed at a position where a developer insertion hole is to be formed in the electrode member formed of the metal material, and the print head member is irradiated with laser light from above the electrode member in which the hole is formed. Insulation layer and The electrode members formed by Kishirube conductive polymer material, the developer through hole forming method of the print head is characterized in that opening the communication hole leading to the hole.
分子材料がポアニリンであり、上記絶縁性高分子材料が
ポリイミドである請求項1記載の印字ヘッドの現像剤挿
通孔形成方法。2. The method for forming a developer insertion hole of a print head according to claim 1, wherein the metal material is copper, the conductive polymer material is poaniline, and the insulating polymer material is polyimide.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5718894A JPH07266607A (en) | 1994-03-28 | 1994-03-28 | Formation of developer insertion hole of printing head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5718894A JPH07266607A (en) | 1994-03-28 | 1994-03-28 | Formation of developer insertion hole of printing head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07266607A true JPH07266607A (en) | 1995-10-17 |
Family
ID=13048523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5718894A Pending JPH07266607A (en) | 1994-03-28 | 1994-03-28 | Formation of developer insertion hole of printing head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07266607A (en) |
-
1994
- 1994-03-28 JP JP5718894A patent/JPH07266607A/en active Pending
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