JPH07263488A - Semiconductor chip, tab tape, inner lead bonder and manufacture of semiconductor device - Google Patents

Semiconductor chip, tab tape, inner lead bonder and manufacture of semiconductor device

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JPH07263488A
JPH07263488A JP5343694A JP5343694A JPH07263488A JP H07263488 A JPH07263488 A JP H07263488A JP 5343694 A JP5343694 A JP 5343694A JP 5343694 A JP5343694 A JP 5343694A JP H07263488 A JPH07263488 A JP H07263488A
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tab tape
manufacturing
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Abstract

PURPOSE:To improve an aligning accuracy in an inner lead bonding step in the case of manufacturing TABLSI as compared with aligning using conventional pattern recognition technique. CONSTITUTION:Dummy bumps 21 for alignment are provided on sides of a chip 20. A bonding stage 4 which places the chip 20 is horizontally moved rightward to a TAB tape, the bumps of right side are brought into contact with inner leads of a leftmost end, and a position of the stage 4 at that time is stored. Then, the chip 20 is horizontally moved leftward, the bumps of right side is brought into contact with inner leads of a rightmost end, and a position of the stage 4 at that time is stored. Data of intermediate position is calculated from data of the two positions, and the stage 4 is moved to its intermediate position. A series of operations are conducted for a Y-axis direction. Contact of the bumps with the inner leads is electrically detected.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップ、TAB
テープ及びインナーリードボンダー並びに半導体装置の
製造方法に関し、特に、TAB方式の半導体装置を製造
する方法と、その製造方法の実施に用いる半導体チッ
プ、TABテープ及びインナーリードボンダーに関する
ものである。
The present invention relates to a semiconductor chip, TAB
The present invention relates to a tape, an inner lead bonder, and a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a method for manufacturing a TAB semiconductor device, and a semiconductor chip, a TAB tape, and an inner lead bonder used for implementing the manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】LSIのチップからリードを取り出すた
めの接続技術の一つであるTAB方式は、薄型・小型の
高密度実装を可能にするのみならず、例えば100ピン
程度以上の多ピン一括ボンデンィングが可能であること
から、生産性の向上に適しているなど、いくつかの大き
な特徴を有している。ところで、TAB方式の接続技術
は上記のように、多ピンで小型・高密度実装のLSIに
適用することを目的とした技術であるので、必然的に、
インナーリードボンディング工程(LSIチップ上のバ
ンプとTABテープのインナーリードとを、全組一括ボ
ンディングする工程)での、バンプとインナーリードと
の位置合せ精度は高精度であることが要求される。本発
明は、上記のような要求に鑑みてなされたものであっ
て、TAB方式によるLSI(以後、TABLSIと記
す)の製造工程におけるインナーリードボンディング時
の位置合せ精度向上技術に関するものである。
2. Description of the Related Art The TAB method, which is one of the connection technologies for taking out leads from an LSI chip, not only enables thin and compact high-density mounting, but also, for example, a multi-pin batch bonder of about 100 pins or more. It has several major features, such as suitability for improving productivity, because it is possible to sing. By the way, as described above, the TAB connection technology is intended to be applied to a large number of pins, small-sized, and high-density mounting LSIs.
In the inner lead bonding step (the step of collectively bonding all the bumps on the LSI chip and the inner leads of the TAB tape), it is required that the bumps and the inner leads be accurately aligned. The present invention has been made in view of the above requirements, and relates to a technique for improving alignment accuracy at the time of inner lead bonding in a manufacturing process of a TAB method LSI (hereinafter, referred to as TABLSI).

【0003】LSIは様々な位置合せの集積によって完
成するといっても過言でないほど、その製造工程には位
置合せを必要とする工程が多い。そのため、LSI製造
のための各種の位置合せ技術が研究・開発されている
が、例えば、リソグラフィ工程におけるマスクとウエー
ハとの位置合せのように、ミクロンオーダー或いはそれ
以上の高精度の位置合せが必要なときは、光を用いたパ
ターン認識技術を利用することが多い。TABLSIを
製造する際のインナーリードボンディングでの位置合せ
にも、従来、光を用いたパターン認識技術が応用されて
いる。すなわち、パターンマッチング法による位置合せ
である。以下に、パターンマッチングを用いた従来の位
置合せ方法について説明する。
It is no exaggeration to say that an LSI is completed by integrating various alignments, and there are many steps in its manufacturing process that require alignment. Therefore, various alignment techniques for LSI manufacturing have been researched and developed, but high precision alignment of micron order or higher is required, for example, alignment of a mask and a wafer in a lithography process. In such cases, pattern recognition technology using light is often used. The pattern recognition technology using light has been conventionally applied to the alignment by inner lead bonding when manufacturing a TABLSI. That is, the alignment is performed by the pattern matching method. Hereinafter, a conventional alignment method using pattern matching will be described.

【0004】図7(a)は、従来の位置合せ方法を用い
て製造されるTABLSIの、チップの模式的平面図で
ある。同図を参照すると、正方形のチップ10の四つの
辺に沿って、バンプ1が多数形成されている。これらバ
ンプ1は、それらにボンディングされるTABテープの
インナーリード(後述)を介して、このLSIでの信号
処理に必要な電源、信号などを外部とやり取りするため
のものである。このチップ10の対角に位置する二つの
隅には、位置合せ用の特徴的な形状(この場合は、十字
型のクロスパターン)をした合せマーク11が形成され
ている。この合せマーク11は、通常、チップ上に形成
された金属層をエッチングするなどして形成されるもの
であって、例えば、ウエーハプロスセ中のアルミニウム
配線形成工程で、他のアルミニウム配線と同時に形成さ
れる。合せマーク11の数は二つ以上であっても、勿論
良い。又、チップの形状は、正方形ではなく長方形であ
ってもよい。
FIG. 7A is a schematic plan view of a chip of a TABLSI manufactured using a conventional alignment method. Referring to the figure, a large number of bumps 1 are formed along the four sides of a square chip 10. These bumps 1 are for exchanging power and signals necessary for signal processing in this LSI with the outside through inner leads (described later) of a TAB tape bonded to them. Alignment marks 11 having a characteristic shape for alignment (in this case, a cross-shaped cross pattern) are formed at two corners of the chip 10 which are diagonally located. The alignment mark 11 is usually formed by etching a metal layer formed on the chip, and is formed at the same time as other aluminum wirings in the aluminum wiring forming step in the wafer process, for example. To be done. Of course, the number of alignment marks 11 may be two or more. Also, the shape of the chip may be rectangular rather than square.

【0005】次に、TABテープの模式的平面図を示す
図7(b)を参照すると、TABテープ12のデバイス
ホール2の四隅には、位置合せ用の特徴的な形状の合せ
マーク13が設けられている。この合せマーク13は、
例えば、TABテープ12の銅箔をエッチングしてイン
ナーリード3を形成する時に同時に形成される。図7
(b)に示す例では、個々の合せマーク13の平面形状
は、デバイスホール2の直交する二つの辺のそれぞれか
らデバイスホール内に突出する二つのビームが、先端ど
うしでクロスした形状となっている。尚、図7(b)に
は、TABテープ12と共に、デバイスホール2内に配
置されたチップ10も示されている。
Next, referring to FIG. 7B showing a schematic plan view of the TAB tape, alignment marks 13 having a characteristic shape for alignment are provided at four corners of the device hole 2 of the TAB tape 12. Has been. This alignment mark 13 is
For example, it is formed at the same time when the copper foil of the TAB tape 12 is etched to form the inner leads 3. Figure 7
In the example shown in (b), the planar shape of each alignment mark 13 is a shape in which two beams protruding into the device hole from each of two orthogonal sides of the device hole 2 cross at their tips. There is. Incidentally, FIG. 7B also shows the chip 10 arranged in the device hole 2 together with the TAB tape 12.

【0006】ここで、図7(b)にはデバイスホール2
を一つだけ描いてあるが、通常のTABテープでは、長
尺テープの長手方向(紙面、左右方向)に、同図に示す
ようなデバイスホール2が所定の間隔を保って多数配置
されており、そのようなTABテープがリール(図示せ
ず)に巻取られている。実際のインナーリードボンディ
ングの際には、リール・ツー・リール(Reel to
Reel)搬送によって、TABテープ12を1デバ
イスホール分だけ長手方向に送り、インナーリードボン
ダーのテープクランパー(図示せず)に固定し、一方、
チップ10を別途、デバイスホール2の下に位置するボ
ンディングステージ(図示せず)上に供給し、そのチッ
プ10上のバンプ1とデバイスホール2周辺のインナー
リード3とを位置合せしたのち両者をボンディングする
という動作を、各デバイスホールごとに順次繰返すこと
になる。
Here, the device hole 2 is shown in FIG.
Although only one is drawn, in a normal TAB tape, a large number of device holes 2 as shown in the figure are arranged at predetermined intervals in the longitudinal direction (paper surface, left-right direction) of the long tape. Such a TAB tape is wound on a reel (not shown). At the time of actual inner lead bonding, reel to reel (Reel to
Reel) transports the TAB tape 12 in the longitudinal direction by one device hole and fixes it to the tape clamper (not shown) of the inner lead bonder.
The chip 10 is separately supplied onto a bonding stage (not shown) located below the device hole 2, the bump 1 on the chip 10 and the inner lead 3 around the device hole 2 are aligned, and then both are bonded. This operation is repeated for each device hole.

【0007】上記のようなチップ10とTABテープ1
2とを用いて、従来のインナーリードボンディング工程
での位置合せは下記のようにして行われる。先ず、イン
ナーリードボンダーに、パターンマッチングを行うとき
の比較の基準を覚え込ませる(ティーチングする)。こ
のティーチングでは、TABテープの合せマーク13
及びチップの合せマーク11の、それぞれの基準イメー
ジと、インナーリードボンディングされるTABテー
プが、テープクランパー上のどの位置にあるかを検出す
るときの基準位置と、ボンディングされるチップが、
ボンディングステージ上のどの位置にあるかを検出する
ための基準位置と、バンプ1とインナーリード3とが
完全に位置合せされたときに、チップの合せマーク11
とTABテープの合せマーク13とがとるべき相対位置
のそれぞれに関する四種類のデータをボンダーに記憶さ
せることが必要であり、通常、以下のようにしてティー
チングする。
Chip 10 and TAB tape 1 as described above
Positioning in the conventional inner lead bonding process is performed as follows by using No. 2 and. First, the inner lead bonder is made to remember (teaching) the reference for comparison when performing pattern matching. In this teaching, the alignment mark 13 on the TAB tape
And the reference image of the alignment mark 11 of the chip, the reference position when detecting the position of the TAB tape to be inner lead bonded on the tape clamper, and the chip to be bonded,
When the bump 1 and the inner lead 3 are completely aligned with the reference position for detecting the position on the bonding stage, the alignment mark 11 of the chip is formed.
It is necessary to store in the bonder four types of data relating to the relative positions of the TAB tape and the alignment mark 13 of the TAB tape. Normally, teaching is performed as follows.

【0008】始めに、TABテープ12の最初のデバイ
スホールをテープクランパーに送って固定する。ボンダ
ーは、その最初のデバイスホールに形成されている合せ
マーク13を二値化画像データとしてボンダーに取込ん
で基準イメージとすると同時に、そのときの合せマーク
13のテープクランパー上の位置データを読込み、その
位置をテープクランパー上のTABテープの基準位置と
する。合せマーク13の二値データ化は、ボンダーの認
識カメラ(図示せず)が合せマーク13とその周辺部に
光を照射し、受光した反射光の強度を所定のスライスレ
ベルで二値化することによって行われる。通常、合せマ
ークの部分を明とし、それ以外の部分を暗とする。
First, the first device hole of the TAB tape 12 is sent to the tape clamper and fixed. The bonder takes the alignment mark 13 formed in the first device hole as binary image data into the bonder and uses it as a reference image, and at the same time, reads the position data of the alignment mark 13 on the tape clamper, The position is set as the reference position of the TAB tape on the tape clamper. The binary data of the alignment mark 13 is obtained by irradiating the alignment mark 13 and its peripheral portion with light by a bonder recognition camera (not shown) and binarizing the intensity of the received reflected light at a predetermined slice level. Done by Usually, the part of the alignment mark is bright and the other parts are dark.

【0009】次いで、上記の最初のデバイスホールに対
して、ボンディングステージに最初のチップを供給す
る。ボンダーは、TABテープにおけると同様に、その
最初のチップに設けられた合せマーク11を二値化画像
データとして取込んで基準イメージとすると同時に、そ
のときの合せマーク11のボンディングステージ上の位
置データを読込み、その位置をボンディングステージ上
のチップの基準位置とする。
Next, the first chip is supplied to the bonding stage for the above-mentioned first device hole. As with the TAB tape, the bonder takes in the alignment mark 11 provided on the first chip as binarized image data and uses it as a reference image, and at the same time the position data of the alignment mark 11 on the bonding stage. Is read, and the position is set as the reference position of the chip on the bonding stage.

【0010】以上の操作の後、上記最初のデバイスホー
ルと最初のチップとを用いて、チップのバンプ1とTA
Bテープのインナーリード3とを位置合せする。このと
きの位置合せは、作業者がボンダーのモニタースクリー
ン(図示せず)を見ながら、バンプ1とインナーリード
3とを直接位置合せする。ボンダーは、この作業者によ
る位置合せ終了後、最初のデバイスホールの合せマーク
(換言すれば、基準イメージ)1の位置のデータと、こ
れに位置合せされた最初のチップの合せマーク(同、基
準イメージ)3の位置データとから、位置合せが完全に
行われたときに二つの合せマークどうしがとるべき相対
位置を算出し、記憶する。
After the above operation, using the first device hole and the first chip, the bumps 1 and TA of the chip are formed.
Align the inner lead 3 of the B tape. At this time, the operator directly positions the bumps 1 and the inner leads 3 while looking at the monitor screen (not shown) of the bonder. After the alignment by the operator is completed, the bonder is the alignment data of the first alignment mark of the device hole (in other words, reference image) 1 and the alignment mark of the first chip aligned with this (the same reference mark). The relative position of the two alignment marks when the alignment is completed is calculated from the position data of the image 3) and stored.

【0011】次に、二番目以降のデバイスホールとチッ
プとの位置合せは、上記のようにしてティーチングされ
た基準イメージ及び位置データに基づいて、自動的に行
われる。すなわち、ボンディング位置に移送されテープ
クランパーに固定されたTABテープ12に対して、認
識カメラは、デバイスホール2のコーナーに配置された
合せマーク13の少なくとも対角に位置する二個以上を
二値化画像データとして捉える。そして、いま捉えた二
値化合せマーク13と既にティーチングされている第一
番目のデバイスホールの二値化合せマーク(基準イメー
ジ)とがマッチングするように、テープクランパーとカ
メラとを相対移動させ(通常は、テープクランパーを固
定しておきカメラを移動させる)、そのときの移動量か
ら、テープクランパー上のTABテープ12の位置を検
出する。同様にして、これから位置合せしようとするチ
ップの二値化合せマーク11と既にティーチングされて
いる最初のチップの合せマークの二値化合せマーク(基
準イメージ)とをマッチングさせるのに必要なカメラの
移動量から、ボンディングステージ上のチップ10の位
置を検出する。
Next, the second and subsequent device holes are aligned with the chip automatically based on the reference image and position data taught as described above. That is, with respect to the TAB tape 12 that has been transferred to the bonding position and fixed to the tape clamper, the recognition camera binarizes two or more of the alignment marks 13 located at the corners of the device hole 2 at least diagonally. Capture as image data. Then, the tape clamper and the camera are moved relative to each other so that the binarized alignment mark 13 just captured matches the binarized alignment mark (reference image) of the first device hole that has already been taught ( Normally, the tape clamper is fixed and the camera is moved), and the position of the TAB tape 12 on the tape clamper is detected from the amount of movement at that time. Similarly, the camera necessary for matching the binarization mark 11 of the chip to be aligned with the binarization mark (reference image) of the alignment mark of the first chip that has already been taught. The position of the chip 10 on the bonding stage is detected from the amount of movement.

【0012】そして、上述のようにして検出したテープ
クランパー上のTABテープ12の位置のデータと、ボ
ンディングステージ上のチップ10の位置のデータとか
ら、予めティーチングしてあるTABテープとチップの
相対的な位置データになるように、ボンディングステー
ジのX軸方向、Y軸方向の距離及び回転角を補正する
と、位置合せが完了し、チップのバンプ1上にそれに対
応するTABテープのインナーリード3が位置すること
になる。
Then, based on the data of the position of the TAB tape 12 on the tape clamper detected as described above and the data of the position of the chip 10 on the bonding stage, the relative teaching of the TAB tape and the chip which has been previously taught. When the distances and the rotation angles in the X-axis direction and the Y-axis direction of the bonding stage are corrected so that the position data becomes uniform, the alignment is completed, and the inner leads 3 of the TAB tape corresponding to the bumps 1 of the chip are positioned. Will be done.

【0013】ここで、一般に、二つの物体を位置合せす
る方法には、始めにそれら二つの物体を、予め決めてお
いた相対位置になるように強制的に配置した後、その当
初の位置から、予め求めておいた量だけ移動させて位置
合せする方法や、二つの物体の当初の配置は特には強制
せず、二つの物体が配置されたままの状態で当初の相対
位置を測定し、その測定結果に応じて移動量を定める方
法などがあるが、これまでの説明から分るように、イン
ナーリードボンディング工程における従来の位置合せ方
法は、後者の方法である。そして、TABテープとチッ
プとの当初の相対位置を測定する際には、TABテープ
に対してはテープクランパー上の基準位置からのずれを
測定し、チップに対してはボンディングステージ上の基
準位置からのずれを測定するというように、両者の相対
位置を、直接的にではなく、間接的に求めていることに
なる。
Here, generally, in the method of aligning two objects, the two objects are first forcibly arranged so as to have a predetermined relative position, and then the two objects are moved from their initial positions. , The method of moving and aligning by a predetermined amount, or the initial placement of the two objects is not particularly forced, and the initial relative position is measured in a state where the two objects are placed, There is a method of determining the movement amount according to the measurement result, but as can be seen from the above description, the conventional alignment method in the inner lead bonding step is the latter method. When measuring the initial relative position between the TAB tape and the chip, the deviation from the reference position on the tape clamper is measured for the TAB tape and the reference position on the bonding stage is measured for the chip. It means that the relative position between the two is indirectly obtained, not directly, as in the case of measuring the deviation.

【0014】このことから、本発明との関連において、
従来の位置合せ方法での位置合せ精度について考察する
と、その位置合せ精度には、テープクランパー上のT
ABテープの位置を検出するときの精度、ボンディン
グステージ上のチップの位置を検出するときの精度が大
きく影響することが分る。
From this, in the context of the present invention,
Considering the alignment accuracy in the conventional alignment method, the alignment accuracy is determined by the T on the tape clamper.
It can be seen that the accuracy in detecting the position of the AB tape and the accuracy in detecting the position of the chip on the bonding stage have a great influence.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】これまで述べたよう
に、従来の位置合せ方法で、テープクランパー上のTA
Bテープの位置検出及びボンディングステージ上のチッ
プ位置の検出に用いられるパターンマッチングでは、ボ
ンダーは、チップ或いはTABテープの合せマークとそ
の周辺に光を照射し反射光の強度を強弱に二値化するこ
とにより、合せマークを二値化画像データとして取込
む。ところがその場合、ティーチングに用いた合せマー
クとこれにマッチングされる実際の合せマークとの間
に、合せマークの位置精度、線幅や断面形状などの加工
精度、或いは、色あいや光沢などの仕上り状態に違いが
生じるのは避けられず、二つの合せマーク(基準マーク
と位置合せされる実際の合せマーク)のイメージが完全
にマッチングすることは、実際には有りえない。そし
て、このことに起因して、テープクランパー上のTAB
テープの位置検出の精度及びボンディングステージ上の
チップ位置検出の精度には限界が生じる。つまり、従来
の位置合せ方法には、TABテープとチップとの初期の
相対位置検出の精度に、上記の原因に基づく限界がある
ことになる。
As described above, the TA on the tape clamper is formed by the conventional alignment method.
In the pattern matching used to detect the position of the B tape and the position of the chip on the bonding stage, the bonder radiates light to the alignment mark of the chip or the TAB tape and its periphery to binarize the intensity of the reflected light strongly. By doing so, the alignment mark is captured as binarized image data. However, in that case, the alignment accuracy between the alignment marks used for teaching and the actual alignment marks that match the alignment marks, the processing precision such as line width and cross-sectional shape, and the finished state such as color tone and gloss. It is unavoidable that there will be a difference between the two, and the images of the two alignment marks (actual alignment marks aligned with the reference mark) cannot be perfectly matched in practice. And because of this, the TAB on the tape clamper
There is a limit to the accuracy of tape position detection and the accuracy of chip position detection on the bonding stage. That is, the conventional alignment method has a limit in the accuracy of the initial relative position detection between the TAB tape and the chip based on the above cause.

【0016】又、TABテープとチップとの相対位置を
ティーチングするときには、作業者がインナーリードと
バンプとを位置合せした後、そのときのTABテープの
合せマークとチップの合せマークとを認識カメラでパタ
ーン認識して、それぞれの位置データからTABテープ
とチップとのあるべき相対位置データを算出してボンダ
ーに記憶させるが、このときのティーチングの時にも、
上記のような誤差発生が避けられない。
When teaching the relative position between the TAB tape and the chip, the operator aligns the inner lead and the bump, and then the recognition mark of the alignment mark of the TAB tape and the alignment mark of the chip at that time is recognized by the recognition camera. Pattern recognition is performed and relative position data of the TAB tape and the chip should be calculated from each position data and stored in the bonder, but at the time of teaching at this time,
Occurrence of the above error cannot be avoided.

【0017】以上のようなことから、光を用いたパター
ン認識によりパターンマッチング法で位置合せを行う従
来の位置合せでは、TABテープとチップとの初期の
相対位置の検出精度の限界及び、位置合せ後の両者の
あるべき相対位置をティーチングするときの精度の限界
から、位置合せ精度の向上が困難である。例えば、現
在、リードピッチが60μm程度以下になると、インナ
ーリードとバンプとの位置ずれに起因する障碍発生が顕
著になり、インナーリードボンディング工程での良品率
が急激に低下するという問題が生じている。勿論、合せ
マークの加工精度を向上させ、仕上り状態のロットごと
の管理を厳重にするなどして、例えば、リソグラフィー
工程におけるマスクとウェーハとの位置合せのように、
位置合せ精度をサプミクロン程度にまで高めることは可
能であろう。しかしそのためには、合せマーク形成の際
の、金属膜被着、パターニング、エッチングなどに用い
る全装置の性能を、要求される位置合せ精度に見合った
高度なものに揃えなければならない。又、工程管理も複
雑となる。このようなことから、従来の位置合せ方法
で、その位置合せ精度を向上させることは容易なことで
はない。
From the above, in the conventional alignment in which the pattern matching method is used to perform the alignment by the pattern recognition using light, the limit of the detection accuracy of the initial relative position between the TAB tape and the chip and the alignment are performed. It is difficult to improve the alignment accuracy because of the limit of accuracy when teaching the relative positions of the two that should be later. For example, at present, when the lead pitch is about 60 μm or less, the occurrence of defects due to the positional deviation between the inner leads and the bumps becomes remarkable, and the non-defective rate in the inner lead bonding process sharply decreases. . Of course, by improving the processing accuracy of the alignment mark and tightening the management of the finished state lot by lot, for example, in the alignment of the mask and the wafer in the lithography process,
It would be possible to increase the alignment accuracy to sub-micron level. However, in order to do so, the performance of all the devices used for depositing the metal film, patterning, etching, etc. when forming the alignment mark must be adjusted to a high level that matches the required alignment accuracy. In addition, process control becomes complicated. For this reason, it is not easy to improve the alignment accuracy by the conventional alignment method.

【0018】従って、本発明は、光を用いた従来の位置
合せ方法によるインナーリードボンディングより高精度
なボンディングが容易に可能な、TABLSIの製造方
法を提供することを目的とするものである。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a TABLSI capable of easily performing bonding with higher precision than inner lead bonding by a conventional alignment method using light.

【0019】本発明の他の目的は、上記のようなTAB
LSIの製造方法を実施する際に必要な半導体チップ、
TABテープ及びインナーリードボンダーを提供するこ
とである。
Another object of the present invention is TAB as described above.
A semiconductor chip necessary for implementing the LSI manufacturing method,
It is to provide a TAB tape and an inner lead bonder.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の製
造方法は、TAB方式の半導体装置を製造する方法であ
って、半導体チップとTABテープとを相対移動させて
前記半導体チップ上のバンプと前記TABテープのイン
ナーリードとを位置合せする工程と、前記バンプと前記
インナーリードとを電気的に固着接続するボンディング
工程とを含む半導体装置の製造方法において、前記位置
合せ工程では、前記半導体チップ上に設けた位置決め用
部材と前記TABテープに設けた位置決め用部材とを接
触させることによって直接的に定まる半導体チップとT
ABテープとの初期相対位置を移動量決定の基準位置と
した後、前記半導体チップと前記TABテープとをボン
ディング時の位置へ相対移動させることを特徴とする。
A method of manufacturing a semiconductor device of the present invention is a method of manufacturing a TAB type semiconductor device, in which a semiconductor chip and a TAB tape are moved relative to each other to form bumps on the semiconductor chip. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of aligning inner leads of the TAB tape with each other; and a bonding step of electrically fixing and connecting the bumps and the inner leads to each other. Of the semiconductor chip directly determined by bringing the positioning member provided on the TAB tape into contact with the positioning member provided on the TAB tape.
After the initial relative position with respect to the AB tape is set as a reference position for determining the movement amount, the semiconductor chip and the TAB tape are relatively moved to a position at the time of bonding.

【0021】又、本発明の半導体装置の製造方法は、前
記半導体チップ上に設ける位置決め用部材として、チッ
プの面上に設けた位置合せ専用の導電性のダミーバンプ
を用い、前記TABテープに設ける位置決め用部材とし
て、前記インナーリードを用い、前記ダミーバンプと前
記インナーリードとが接触したことを、前記ダミーダン
プと前記インナーリードとの間の電気的導通の有無によ
って、電気的に検出することを特徴とする。
Further, in the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, as the positioning member provided on the semiconductor chip, conductive dummy bumps dedicated to alignment provided on the surface of the chip are used, and the positioning provided on the TAB tape is performed. The inner lead is used as a member, and the contact between the dummy bump and the inner lead is electrically detected by the presence or absence of electrical conduction between the dummy dump and the inner lead. To do.

【0022】更に、本発明の半導体装置の御製造方法
は、前記TABテープに設ける位置決め用部材として前
記インナーリードを用いるのに代えて、TABテープの
デバイスホールに突出するように設けた、位置合せ専用
の導電性のダミーインナーリードを用いることを特徴と
する。
Further, in the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, instead of using the inner lead as the positioning member provided on the TAB tape, the alignment is provided so as to project into the device hole of the TAB tape. It is characterized by using a dedicated conductive dummy inner lead.

【0023】[0023]

【実施例】次に、本発明の好適な実施例について、図面
を参照して説明する。図1(a)は、本発明の第1の実
施例に用いた半導体チップとインナーリードとを重ねて
示す模式的平面図である。又、図1(b)は、その断面
図である。尚、図1は、バンプとインナーリードとの位
置合せがまだ完了していない、工程初期の状態を示して
いる。図1と図7とを比較すると、本実施例に用いるチ
ップ20には、従来の位置合せ方法に必要であった合せ
マーク11は形成されていない。替りに、チップ20の
四辺のそれぞれに、信号処理のために電源や信号を外部
とやり取りするための通常の(接続)バンプ1に加え
て、二つのダミーバンプ21を備えている。ダミーダン
プ21は、接続バンプ1の両側に一つずつ配置されてお
り、図1(b)に示すように、高さが接続バンプ1より
も高くされている。又、本実施例に用いるTABテープ
には、従来必要であった合せマーク13は設けられてお
らず、デバイスホール内には、信号処理に用いられる通
常の(接続)インナーリード3が突出しているだけであ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a schematic plan view showing the semiconductor chip and the inner leads used in the first embodiment of the present invention in an overlapping manner. Further, FIG. 1B is a sectional view thereof. Incidentally, FIG. 1 shows a state in the initial stage of the process in which the alignment between the bump and the inner lead has not been completed yet. Comparing FIG. 1 and FIG. 7, the chip 20 used in this embodiment does not have the alignment mark 11 required for the conventional alignment method. Instead, each of the four sides of the chip 20 is provided with two dummy bumps 21 in addition to the normal (connection) bump 1 for exchanging a power source and a signal with the outside for signal processing. One dummy dump 21 is disposed on each side of the connection bump 1, and the height thereof is higher than that of the connection bump 1, as shown in FIG. Further, the TAB tape used in this embodiment is not provided with the alignment mark 13 which is conventionally required, and the normal (connection) inner lead 3 used for signal processing is projected in the device hole. Only.

【0024】本実施例では、上記のようなチップとTA
Bテープとを用いて、以下に述べる手順で位置合せがな
される。先ず、図1(a)に示すように、チップ20の
各辺の両側にあるダミーバンプ21の間に、デバイスホ
ール周辺のインナーリード3が配置されるように、粗く
位置合せする。この粗調整のときには、従来の光を利用
したパターン認識技術を用いることができる。このと
き、接続バンプ1とインナーリード3とがずれていても
構わない。
In this embodiment, the chip and TA as described above are used.
Using the B tape, alignment is performed by the procedure described below. First, as shown in FIG. 1A, rough alignment is performed so that the inner leads 3 around the device hole are arranged between the dummy bumps 21 on both sides of each side of the chip 20. At the time of this rough adjustment, a conventional pattern recognition technique using light can be used. At this time, the connection bump 1 and the inner lead 3 may be displaced.

【0025】次に、チップ20を吸着保持しているボン
ディングステージ4を1パルスずつ右方向へ移動させて
行くと、図2(a)の平面図に示すように、チップ上辺
では最左端のインナーリード3ALと左側のダミーバンプ
21ALとが接触し、チップ下辺では最左端のインナーリ
ード3CLと左側のダミーバンプ21CLとが接触する。こ
こで、チップ20には、ダミーバンプ21ALと21CL
を電気的短絡する配線(図示せず)が設けてある。した
がって上記二組のインナーリードとダミーバンプとの接
触により、インナーリード3AL→ダミーバンプ21AL
チップ内配線→ダミーバンプ21CL→インナーリード3
CLという電気経路が形成される。
Next, when the bonding stage 4 which holds the chip 20 by suction is moved right by one pulse, as shown in the plan view of FIG. The lead 3 AL comes into contact with the left dummy bump 21 AL, and the leftmost inner lead 3 CL comes into contact with the left dummy bump 21 CL on the lower side of the chip. Here, the chip 20 is provided with wiring (not shown) that electrically short-circuits the dummy bumps 21 AL and 21 CL . Therefore, the inner lead 3 AL → the dummy bump 21 AL
In-chip wiring → dummy bump 21 CL → inner lead 3
An electric path called CL is formed.

【0026】ここで、通常、TABテープには図3の斜
視図に示すように、各インナーリード3の延長部分に
は、それぞれのインナーリードに対応したテストパッド
5が設けられている。このテストパッド5は、インナー
リードボンディング終了後に、これらテストバッド5に
外部からポゴピン6を当ててLSIの電気的試験を行う
ためのものである。本実施例ではこのテストパッド5を
利用して、上記の電気経路が形成されたか否か、言い換
えれば、チップの上辺と下辺とで同時にインナーリード
とダミーバンプとが接触したかどうかを検出できるよう
にしている。すなわち、本実施例では図4の模式的切欠
き斜視図に示すように、デバイスホールの各辺ごとに、
最外端に位置する二つのインナーリードに接触するポゴ
ピン6を、テープクランプパー23に内蔵させるてい
る。このポゴピン6から接続ケーブル(図示せず)を取
り出すことによって、上記の接触の電気的検出が可能で
ある。ボンダーは、以上のようにして、チップ20とT
ABテープとが図2(a)に示すような配置になったこ
とを検出し、そのときのボンディングステージの位置の
データを記憶する。
Here, in the TAB tape, as shown in the perspective view of FIG. 3, a test pad 5 corresponding to each inner lead is usually provided at an extension of each inner lead 3. The test pad 5 is used to electrically test the LSI by applying pogo pins 6 to the test pads 5 from the outside after the inner lead bonding is completed. In this embodiment, the test pad 5 is used to detect whether or not the above-mentioned electrical path is formed, in other words, whether or not the inner lead and the dummy bump are in contact with each other at the upper side and the lower side of the chip at the same time. ing. That is, in this embodiment, as shown in the schematic cutaway perspective view of FIG. 4, for each side of the device hole,
The pogo pin 6 that comes into contact with the two inner leads located at the outermost ends is built in the tape clamp par 23. By taking out a connection cable (not shown) from the pogo pin 6, the above-mentioned contact can be electrically detected. The bonder is the tip 20 and the T as described above.
It is detected that the AB tape and the tape are arranged as shown in FIG. 2A, and the data of the position of the bonding stage at that time is stored.

【0027】同様に、ボンディングステージ4を左方向
に移動させ、図2(b)の平面図に示すように、上辺右
側のダミーバンプ21ARと最右端のインナーリード3AR
とを接触させ、同時に下辺右側のダミーバンプ21CR
最右端のインナーリード3CRとを接触させてそれらの接
触を電気的に検出し、そのときのボンディングステージ
4の位置のデータを記憶する。
Similarly, the bonding stage 4 is moved leftward, and as shown in the plan view of FIG. 2B, the dummy bump 21 AR on the right side of the upper side and the inner lead 3 AR on the rightmost side.
, And at the same time, the dummy bump 21 CR on the lower right side and the inner lead 3 CR on the rightmost side are brought into contact with each other to electrically detect the contact, and the data of the position of the bonding stage 4 at that time is stored.

【0028】次に、以上のようにして得たX軸方向(紙
面左右方向)に関する二つのボンディングステージの位
置データから、それら二つの位置の中間位置のデータを
算出し、ボンディングステージ4をその中間位置に移動
させると、図5の平面図に示すように、チップ上下辺の
各接続バンプ1の真上にインナーリード3がそれぞれ配
置されて、X軸方向の位置合せが完了する。
Next, from the position data of the two bonding stages in the X-axis direction (left and right direction of the paper) obtained as described above, the data of the intermediate position between these two positions is calculated, and the bonding stage 4 is moved to the intermediate position. When it is moved to the position, as shown in the plan view of FIG. 5, the inner leads 3 are arranged right above the connection bumps 1 on the upper and lower sides of the chip respectively, and the alignment in the X-axis direction is completed.

【0029】次いで、Y軸方向(紙面上下方向)につい
ても、上述のX軸方向における位置合せと同様な操作を
行って、四辺についての位置合せを完了する。
Then, also in the Y-axis direction (vertical direction in the plane of the drawing), the same operation as the above-mentioned alignment in the X-axis direction is performed to complete the alignment on the four sides.

【0030】これまでの説明から分るように、本発明に
おいて、チップとTABテープとの初期の相対位置は、
チップ上のダミーバンプ21とTABテープのインナー
リード3とが最初に接触したときのそれぞれの配置によ
り、チップとTABテープとだけで直接的に決まる。従
って、チップとTABテープとの初期の相対位置を、光
を使ったパターンマッチングにより、認識カメラを介し
て間接的に決める従来の位置合せとは異って、本発明に
よる位置合せには、チップとTABテープとの初期の相
対位置の検出誤差に起因する位置合せ精度の低下はな
い。又、従来の位置合せ方法では、バンプとインナーリ
ードとが完全に位置合せされたときのそれぞれの合せマ
ークの相対位置をボンダーにティーチングするときにも
誤差が生じるが、本発明による位置合せには、そのよう
な原因による位置合せ精度の低下はなく、この点でも位
置合せ精度が向上する。本実施例により、従来、±7μ
mにしかすぎなかった位置合せ精度を、±3μmにまで
向上させることができた。
As can be seen from the above description, in the present invention, the initial relative position between the chip and the TAB tape is
The placement of the dummy bumps 21 on the chip and the inner leads 3 of the TAB tape when they first contact each other is directly determined only by the chip and the TAB tape. Therefore, unlike the conventional alignment in which the initial relative position between the chip and the TAB tape is indirectly determined through the recognition camera by pattern matching using light, the alignment according to the present invention requires the chip. There is no decrease in the alignment accuracy due to the initial detection error of the relative position between the tape and the TAB tape. Further, in the conventional alignment method, an error occurs when teaching the relative position of each alignment mark to the bonder when the bump and the inner lead are completely aligned. The alignment accuracy does not decrease due to such a cause, and the alignment accuracy also improves in this respect. According to this embodiment, the conventional value is ± 7μ.
The alignment accuracy, which was only m, could be improved to ± 3 μm.

【0031】尚、これまでの説明は、チップの各辺ごと
に、通常の接続バンプを挟むように両側にダミーバンプ
を二つ(例えば、X軸方向に平行な上辺におけるダミー
バンプ21AL,21AR)設けた例について行ったが、ダ
ミーバンプの数は二つに限られることなく、各辺当り一
つであってもよい。本発明における位置合せ精度向上効
果は、チップとTABテープとの初期の相対位置が直接
的に決まることによってもたらされるものであるので、
ダミーバンプ数の多寡は、本発明の作用効果に何ら影響
を与えるものではない。但し、ダミーバンプが二つであ
れば、接続バンプのピッチとインナーリードのピッチの
ずれを、ダミーバンプが一つの場合よりもきめ細かく補
正できるので、より精度の高い位置合せができる。
In the above description, two dummy bumps are provided on both sides of each side of the chip so as to sandwich a normal connection bump (for example, dummy bumps 21 AL , 21 AR on the upper side parallel to the X-axis direction). Although the example is provided, the number of dummy bumps is not limited to two and may be one for each side. The effect of improving the alignment accuracy in the present invention is brought about by directly determining the initial relative position between the chip and the TAB tape.
The number of dummy bumps does not affect the operation and effect of the present invention. However, if there are two dummy bumps, the deviation between the pitch of the connecting bumps and the pitch of the inner leads can be corrected more finely than in the case where there is only one dummy bump, so that more accurate alignment can be performed.

【0032】これまで述べた第1の実施例では、チップ
とTABテープとが所定の初期相対位置に配置されたこ
とを検出するために、TABテープのインナーリードを
用いていた。すなわち、LSIとしての信号処理に用い
られる(接続)インナーリード3を、位置合せにも兼用
していたが、次に述べる第2の実施例のように、位置合
せ専用のダミーインナーリードを設けることによって、
位置合せ精度を更に高めることができる。
In the first embodiment described so far, the inner lead of the TAB tape is used to detect that the chip and the TAB tape are arranged at a predetermined initial relative position. That is, although the (connecting) inner lead 3 used for signal processing as the LSI was also used for alignment, a dummy inner lead dedicated for alignment should be provided as in the second embodiment described below. By
The positioning accuracy can be further improved.

【0033】図6は、本発明の第2の実施例における、
半導体チップのダミーバンプの配置及び、TABテープ
のインナーリードの配置を示す模式的な平面図であり、
X軸方向、Y軸方向の位置合せが共に完了した状態を示
す。同図を参照して、本実施例では、チップ20の各辺
にダミーバンプ21を二つ並べて設けている。一方、T
ABテープには、それら二つのダミーバンプ21に対応
するダミーインナーリード24を一本設ける。本実施例
では、図6に示すように、ダミーインナーリード24が
それに対応する二つのダミーバンプ21の中央にあると
きに、接続インナーリード3がそれぞれに対応する接続
バンプ1の真上にくるように設計されている。
FIG. 6 shows the second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic plan view showing a layout of dummy bumps of a semiconductor chip and a layout of inner leads of a TAB tape,
It shows a state in which the alignment in both the X-axis direction and the Y-axis direction is completed. Referring to the figure, in the present embodiment, two dummy bumps 21 are arranged side by side on each side of the chip 20. On the other hand, T
The AB tape is provided with one dummy inner lead 24 corresponding to the two dummy bumps 21. In the present embodiment, as shown in FIG. 6, when the dummy inner lead 24 is at the center of the two corresponding dummy bumps 21, the connecting inner leads 3 are located directly above the corresponding connecting bumps 1. Is designed.

【0034】本実施例では、先ず、光を用いたパターン
認識技術によって、各ダミーインナーリード24がそれ
に対応する二つのダミーバンプ21の間に入るように、
粗調整する。この場合、インナーリード24は二つのダ
ミーバンプ21の真中に位置しなくても構わない。次
に、ダミーバンプとダミーインナーリードとの接触を利
用して、第1の実施例におけると同様にX軸方向及びY
軸方向の位置決めを行って、図6に示すように全体の位
置決めを完了する。
In the present embodiment, first, by the pattern recognition technique using light, each dummy inner lead 24 is inserted between the two corresponding dummy bumps 21.
Adjust roughly. In this case, the inner lead 24 does not have to be located in the middle of the two dummy bumps 21. Next, using the contact between the dummy bump and the dummy inner lead, as in the first embodiment, the X-axis direction and Y
Axial positioning is performed to complete the overall positioning as shown in FIG.

【0035】先に述べた第1の実施例では、LSIとし
ての信号処理に用いる接続インナーリード3とダミーバ
ンプ21とを接触させて、チップとTABテープとの初
期の相対位置設定を行っている。ところが、多ピン対応
のピッチの狭いインナーリードでは、リード幅、リード
厚も共に小さくなるので、剛性が低下している。そのた
め、ダミーバンプとの接触での変形や、TABテープが
最初から持っている微妙なリード変形などにより、初期
の相対位置設定の際に誤差が生じ、全体としての位置合
せ精度が低下する可能性がある。これに対して、本実施
例におけるダミーインナーリード24には、接続インナ
ーリード3とは異って、ピッチ、幅、厚さに対する制限
は特にはないので、ダミーバンプとの接触による変形防
止に必要な剛性を与えることができる。これにより、本
実施例では位置合せ精度を第1の実施例より更に高める
ことができる。
In the first embodiment described above, the connection inner lead 3 used for signal processing as the LSI and the dummy bump 21 are brought into contact with each other to set the initial relative position between the chip and the TAB tape. However, in an inner lead with a narrow pitch that accommodates a large number of pins, both the lead width and the lead thickness are reduced, so that the rigidity is reduced. Therefore, an error may occur in the initial relative position setting due to the deformation caused by the contact with the dummy bump or the subtle lead deformation of the TAB tape from the beginning, and the alignment accuracy as a whole may deteriorate. is there. On the other hand, unlike the connecting inner leads 3, the dummy inner leads 24 in this embodiment have no particular restrictions on the pitch, width, and thickness, and are therefore necessary for preventing deformation due to contact with dummy bumps. It can give rigidity. As a result, in this embodiment, the alignment accuracy can be further improved as compared with the first embodiment.

【0036】これまでの第1及び第2の実施例では、ダ
ミーバンプ21の高さを接続バンプ1より高くしてい
た。このことによってバンプの形成工程が従来より複雑
になるものの、ダミーバンプとインナーリード(又は、
ダミーインナーリード)とを接触させるためのボンディ
ングステージの運動としては水平運動のみで良いので、
従来のボンディングステージの機構をそのまま用いるこ
とができるという利点がある。これに対して、ダミーバ
ンプの高さと接続バンプの高さとを同じくすることもで
きる。その場合には、ボンディングステージの水平移動
に加えて、昇降動作を加える。すなわち、ボンディング
ステージをバンプ(ダミーバンプ)とインナーリード
(ダミーインナーリード)とが接触しない高さにまで下
げてから、X軸(Y軸)方向の水平移動を行い、再度、
ボンディングステージを、バンプとインナーリードとが
接触する高さにまで上げる。この水平移動、昇降を繰返
すことによって、ダミーバンプと接続バンプとの高さが
等しく場合でも、インナーリードの変形なしに高精度な
位置合せが可能である。
In the first and second embodiments so far, the height of the dummy bump 21 is higher than that of the connection bump 1. Although this makes the bump forming process more complicated than in the past, the dummy bump and the inner lead (or,
Since only the horizontal movement is required as the movement of the bonding stage for contacting with the dummy inner lead),
There is an advantage that the conventional bonding stage mechanism can be used as it is. On the other hand, the height of the dummy bump and the height of the connection bump may be the same. In that case, in addition to the horizontal movement of the bonding stage, an elevating operation is added. That is, the bonding stage is lowered to a height at which the bumps (dummy bumps) and the inner leads (dummy inner leads) do not come into contact with each other, and then horizontally moved in the X-axis (Y-axis) direction, and again.
Raise the bonding stage to a height where the bumps come into contact with the inner leads. By repeating this horizontal movement and elevation, even if the dummy bumps and the connection bumps have the same height, highly accurate alignment is possible without deformation of the inner leads.

【0037】尚、これまでの説明から、本発明が正方形
のチップにも長方形のチップにも適用可能なことは明ら
かであろう。
It should be apparent from the above description that the present invention is applicable to square chips and rectangular chips.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、TAB
LSI製造におけるインナーリードボンディング工程で
の位置合せの際に、先ず始めに、チップとTABテープ
の配置が予め決めておいた相対位置となるように、しか
も、そのときのそれぞれの配置がチップとTABテープ
とだけで直接的にきまるようにしている。その初期の相
対位置の設定に当っては、チップに設けた位置合せ専用
のダミーバンプとTABテープの(ダミー)インナーリ
ードとが接触したことを、電気的に検出することによっ
て、チップとTABテープとが所定の相対位置に配置さ
れたことを検出している。
As described above, the present invention is based on the TAB
At the time of alignment in the inner lead bonding process in the LSI manufacturing, first, the arrangement of the chip and the TAB tape is set to a predetermined relative position, and the respective arrangement at that time is the chip and the TAB. I try to go directly with the tape. When setting the initial relative position, the chip and the TAB tape are electrically detected by detecting that the dummy bump for alignment provided on the chip and the (dummy) inner lead of the TAB tape are in contact with each other. Is detected at a predetermined relative position.

【0039】これにより、本発明によれば、チップ及び
TABテープの当初の位置を検出するときの誤差に起因
する位置合せ精度の低下を防止することができる。しか
も、光によるパターン認識技術を用いる従来の位置合せ
方法とは異って、インナーリードボンダーへのティーチ
ング時の誤差による位置合せ精度の低下がない。パター
ン認識技術を用いた従来の位置合せ方法で、その位置合
せ精度を高めるには、製造設備の性能向上や工程管理の
高度化など、非常に多大の投資が必要とされるが、本発
明によれば、位置合せ精度を容易に高めることができ
る。
As a result, according to the present invention, it is possible to prevent the alignment accuracy from degrading due to an error in detecting the initial positions of the chip and the TAB tape. Moreover, unlike the conventional alignment method using the pattern recognition technique using light, the alignment accuracy does not decrease due to an error during teaching to the inner lead bonder. In the conventional alignment method using pattern recognition technology, in order to improve the alignment accuracy, a very large investment such as performance improvement of manufacturing equipment and sophistication of process control is required. According to this, the alignment accuracy can be easily increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例において、チップをTA
Bテープのデバイスホール内に配置し、粗く位置合せし
たときの状態を示す模式的平面図及び模式的断面図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view of a chip according to a first embodiment of the present invention.
It is a schematic plan view and a schematic cross-sectional view showing a state in which the tape is arranged in a device hole of the B tape and roughly aligned.

【図2】本発明の第1の実施例の製造方法を工程順に説
明するための模式的平面図であって、図1に示す工程以
降の工程に関する図である。
FIG. 2 is a schematic plan view for explaining the manufacturing method of the first embodiment of the present invention in the order of steps, and is a diagram relating to steps after the step shown in FIG.

【図3】TABテープのインナーリードに設けられたテ
ストパッドを示す模式的斜視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing a test pad provided on an inner lead of a TAB tape.

【図4】本発明の第1の実施例に用いたボンダーにおけ
るテープクランパーの構造を示す模式的切欠き斜視図で
ある。
FIG. 4 is a schematic cutaway perspective view showing the structure of the tape clamper in the bonder used in the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施例において、X軸方向の位
置合せが完了したときの状態を示す模式的平面図であ
る。
FIG. 5 is a schematic plan view showing a state when the alignment in the X-axis direction is completed in the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施例において、X軸方向及び
Y軸方向の位置合せが完了した状態を示す模式的平面図
である。
FIG. 6 is a schematic plan view showing a state in which the alignment in the X-axis direction and the Y-axis direction is completed in the second embodiment of the present invention.

【図7】従来のTABLSIの製造に用いられるチップ
の平面図及び、チップをTABテープのデバイスホール
内に配置したときの状態を示す模式的平面図である。
FIG. 7 is a plan view of a chip used for manufacturing a conventional TAB LSI and a schematic plan view showing a state when the chip is arranged in a device hole of a TAB tape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 接続バンプ 2 デバイスホール 3,3AL,3AR,3CL,3CR インナーリード 4 ボンディングステージ 5 テストパッド 6 ポゴピン 10,20 チップ 11,13 合せマーク 12,22 TABテープ 21,21AL,21AR,21CL,21CR ダミーバン
プ 23 テープクランパー 24 ダミーインナーリード
1 Connection Bump 2 Device Hole 3,3 AL , 3 AR , 3 CL , 3 CR Inner Lead 4 Bonding Stage 5 Test Pad 6 Pogo Pin 10, 20 Chip 11, 13, Alignment Mark 12, 22 TAB Tape 21, 21 AL , 21 AR , 21 CL , 21 CR Dummy bump 23 Tape clamper 24 Dummy inner lead

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 TAB方式の半導体装置を製造する方法
であって、半導体チップとTABテープとを相対移動さ
せて前記半導体チップ上のバンプと前記TABテープの
インナーリードとを位置合せする工程と、前記バンプと
前記インナーリードとを電気的に固着接続するボンディ
ング工程とを含む半導体装置の製造方法において、前記
位置合せ工程では、 前記半導体チップ上に設けた位置決め用部材と前記TA
Bテープに設けた位置決め用部材とを接触させることに
よって直接的に定まる半導体チップとTABテープとの
初期相対位置を移動量決定の基準位置とした後、前記半
導体チップと前記TABテープとをボンディング時の位
置へ相対移動させることを特徴とする半導体装置の製造
方法。
1. A method of manufacturing a TAB type semiconductor device, which comprises relatively moving a semiconductor chip and a TAB tape to align a bump on the semiconductor chip with an inner lead of the TAB tape. In a method of manufacturing a semiconductor device, which includes a bonding step of electrically fixing and connecting the bump and the inner lead, in the aligning step, the positioning member provided on the semiconductor chip and the TA
When the semiconductor chip and the TAB tape are bonded after the initial relative position between the semiconductor chip and the TAB tape, which is directly determined by contacting the positioning member provided on the B tape, is set as the reference position for determining the movement amount. A method for manufacturing a semiconductor device, characterized in that the semiconductor device is relatively moved to the position.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 半導体チップの形状が直角平行四辺形であるとき、その
半導体チップの縦方向及び横方向のそれぞれについて、
前記初期相対位置の設定と前記ボンディング時の位置へ
の相対移動とを実行することを特徴とする半導体装置の
製造方法。
2. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein when the shape of the semiconductor chip is a right-angled parallelogram, each of the vertical direction and the horizontal direction of the semiconductor chip,
A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the setting of the initial relative position and the relative movement to the position at the time of bonding are executed.
【請求項3】 請求項2記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 前記半導体チップ上に設ける位置決め用部材として、チ
ップの面上に設けた位置合せ専用の導電性のダミーバン
プを用い、前記TABテープに設ける位置決め用部材と
して、前記インナーリードを用い、 前記ダミーバンプと前記インナーリードとが接触したこ
とを、前記ダミーダンプと前記インナーリードとの間の
電気的導通の有無によって、電気的に検出することを特
徴とする半導体装置の製造方法。
3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 2, wherein the positioning dummy member provided on the semiconductor chip is a conductive dummy bump dedicated to alignment provided on the surface of the chip, and is used for the TAB tape. As the positioning member to be provided, the inner lead is used, and the contact between the dummy bump and the inner lead is electrically detected by the presence or absence of electrical conduction between the dummy dump and the inner lead. A method for manufacturing a characteristic semiconductor device.
【請求項4】 請求項3記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 前記TABテープに設ける位置決め用部材として前記イ
ンナーリードを用いるのに代えて、 TABテープのデバイスホールに突出するように設け
た、位置合せ専用の導電性のダミーインナーリードを用
いることを特徴とする半導体装置の製造方法。
4. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein instead of using the inner lead as a positioning member provided on the TAB tape, a position provided so as to project into a device hole of the TAB tape. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising using a conductive dummy inner lead exclusively for alignment.
【請求項5】 請求項3又は請求項4記載の半導体装置
の製造方法に用いる半導体チップであって、チップの四
辺のそれぞれに少くとも一つ以上の前記ダミーバンプを
備えると共に、 それぞれのダミーバンプは、前記チップの互いに対向す
る辺に配置されたダミーバンプどうしが一つずつ対を成
すように組合され、少なくともそれら対を成すダミーバ
ンプどうしがチップ上に設けられた配線により電気的に
短絡された構造であることを特徴とする半導体チップ。
5. A semiconductor chip used in the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein at least one dummy bump is provided on each of the four sides of the chip, and each dummy bump comprises: The dummy bumps arranged on the opposite sides of the chip are combined so as to form a pair, and at least the dummy bumps forming the pair are electrically short-circuited by the wiring provided on the chip. A semiconductor chip characterized by the above.
【請求項6】 請求項4記載の半導体装置の製造方法に
用いるTABテープであって、デバイスホールの四辺の
それぞれに少くとも一つ以上の前記ダミーインナーリー
ドを設けたことを特徴とするTABテープ。
6. The TAB tape used in the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 4, wherein at least one dummy inner lead is provided on each of four sides of the device hole. .
【請求項7】 請求項3又は請求項4記載の半導体装置
の製造方法に用いるインナーリードボンダーであって、
前記TABテープを固定するテープクランパーが、前記
ダミーチップに接触するインナーリードのテストパッド
部又は前記ダミーインナーリードのテストパッド部に当
接するポゴピンを内蔵することを特徴とするインナーリ
ードボンダー。
7. An inner lead bonder used in the method for manufacturing a semiconductor device according to claim 3 or 4,
An inner lead bonder, wherein a tape clamper for fixing the TAB tape includes a test pad portion of an inner lead that contacts the dummy chip or a pogo pin that abuts on a test pad portion of the dummy inner lead.
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