JPH07244983A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH07244983A
JPH07244983A JP6030657A JP3065794A JPH07244983A JP H07244983 A JPH07244983 A JP H07244983A JP 6030657 A JP6030657 A JP 6030657A JP 3065794 A JP3065794 A JP 3065794A JP H07244983 A JPH07244983 A JP H07244983A
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JP
Japan
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memory cell
cell array
decoder
row selection
row
Prior art date
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Pending
Application number
JP6030657A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Kuhara
茂 久原
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To increase an operating speed without increasing a chip area. CONSTITUTION:Word shunt parts per one word line of memory arrays MA1 to MAk are provided so that the number of shunt parts becomes the minimum in a memory array MA1 arranged at a position nearest to a first decoder 1 and becomes the maximum in a memory array MAk arranged at a position farthest to the decoder 1 and are successively increased as arrays become farther from the decoder 1 in intermediate memory arrays. When the total number of word shunt parts WS are not changed, longest signal transmission times are shortened by increasing the number of shunt parts in farther memory arrays and the signal transmission times are prolonged by decreasing the number of shunt parts in nearer positions and then signal transmission times are uniformized mutually in respective memory arrays.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に行選択線に副行選択線を接続してこれを低抵抗化し
たメモリセルアレイを複数備え大容量で高速動作可能な
半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a semiconductor memory device having a large capacity and capable of operating at high speed, comprising a plurality of memory cell arrays each having a row selection line connected to a sub-row selection line and having a low resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】複数のメモリセルを行,列マトリクス状
に配列したメモリセルアレイを備えた半導体記憶装置に
おいては、一般的には行単位でメモリセルが選択され
る。このメモリセルを行単位で選択するための行選択線
(ワード線)は、製造工程上の容易さから、通常は多結
晶シリコンで形成されることが多い。しかしながら、多
結晶シリコンで形成された行選択線は抵抗値が大きいた
め、信号伝達時間が長くなり、動作の高速化が困難とな
る。
2. Description of the Related Art In a semiconductor memory device having a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix of rows and columns, the memory cells are generally selected in units of rows. A row selection line (word line) for selecting the memory cells row by row is usually formed of polycrystalline silicon because of the ease of manufacturing process. However, since the row selection line formed of polycrystalline silicon has a large resistance value, the signal transmission time becomes long and it is difficult to speed up the operation.

【0003】そこで、行選択線と並行に金属等による低
抵抗材料で形成した副行選択線を添わせて所定の間隔で
行選択線と接続し、行選択線の見かけ上の抵抗値を小さ
くする技術が用いられるようになった(例えば、198
4、アイイーイーイー インターナショナル ソリッド
ステート サーキッツ コンファレンス(IEEEIn
ternational Solidstate Ci
rcuits Conference),アイエスエス
シーシー ダイジェスト オフ テクニカルペーパーズ
(ISSCC Digest of Tecnical
Papers),1984年2月23日号,218〜
219頁,“ア 25ナノセカンド64キロ エスラム
(A 25ns 64K SRAM)”参照)。
Therefore, a sub-row selection line formed of a low resistance material such as metal is added in parallel with the row selection line and connected to the row selection line at a predetermined interval to reduce the apparent resistance value of the row selection line. Technology has been used (eg 198
4. IEE International Solid State Circuits Conference (IEEEIn
international Solidstate Ci
rcuits Conference), ISSC Digest Off Technical Papers (ISSCC Digest of Technical)
Papers), February 23, 1984, 218-.
See page 219, "A 25 ns 64K SRAM".

【0004】また、大容量化が進展すると、1本の行選
択線と接続するメモリセルの数が増大し、上述の副行選
択線による低抵抗化だけでは高速化に限界がみられ、か
つ消費電力も増大するので、大容量の半導体記憶装置で
は、メモリセルアレイを複数個に分割して(又は複数個
のメモリセルアレイを設けて)1本の行選択線と接続す
るメモリセルの数を少なくする場合が多い(例えば、サ
イエンスフォーラム社発行、ULSI DRAM技術、
90〜94頁参照)。
Further, as the capacity is increased, the number of memory cells connected to one row selection line increases, and there is a limit to the increase in speed only by lowering the resistance by the above-described sub-row selection line, and Since power consumption also increases, in a large capacity semiconductor memory device, the number of memory cells connected to one row selection line is reduced by dividing the memory cell array into a plurality of memory cells (or providing a plurality of memory cell arrays). In many cases (for example, published by Science Forum, ULSI DRAM technology,
90-94).

【0005】図5は、上述の副行選択線による低抵抗化
技術と、メモリセルアレイの分割(複数メモリセルアレ
イ)技術とを使用した最も一般的な半導体記憶装置の一
例を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of the most common semiconductor memory device using the above-described technique of reducing resistance by the sub row selection line and the technique of dividing a memory cell array (a plurality of memory cell arrays).

【0006】この半導体記憶装置は、行,列マトリクス
状に配列された複数のメモリセルQ11〜Qmm、選択
レベルのときこれら複数のメモリセルを行単位で選択状
態とする複数のワード線(行選択線)WL1〜WLm、
これら複数のワード線WL1〜WLmそれぞれと対応し
かつ近接,並行して金属材料等の低抵抗材料で形成され
た複数の副ワード線(副行選択線)SWL1〜SWL
m、及び複数のワード線WL1〜WLmそれぞれと対応
する副ワード線(SWL1〜SWLm)とを所定の間隔
で接続する複数のワードシャント部(選択線接続部)W
Sをそれぞれ備えて順次配置され、選択状態のメモリセ
ルの記憶データを読出す複数のメモリセルアレイMA1
x,MA2x,〜,MAkxと、所定の位置に配置され
アドレス信号(図示省略)を受けてデコードし第1のデ
コード信号DA1として出力する第1のデコーダ1と、
メモリセルアレイMA1x〜MAkxそれぞれと対応し
かつ近接して設けられ、第1のデコード信号DA1に従
って対応メモリセルアレイ(MA1x〜MAkx)の所
定のワード線を選択レベルとする複数の第2のデコーダ
21〜2kとを有する構成となっている。また、この半
導体記憶装置において、メモリセルアレイMA1x〜M
Akxの各ワード線WL1〜WLmそれぞれのワードシ
ャント部WSの数は全て同一数となっている。
This semiconductor memory device includes a plurality of memory cells Q11 to Qmm arranged in a matrix of rows and columns, and a plurality of word lines (row selection for selecting a plurality of memory cells in a row unit at a selection level). Line) WL1 to WLm,
A plurality of sub-word lines (sub-row selection lines) SWL1 to SWL corresponding to the plurality of word lines WL1 to WLm and formed in close proximity and in parallel with each other with a low resistance material such as a metal material.
m and a plurality of word shunt portions (selection line connecting portions) W for connecting the plurality of word lines WL1 to WLm and the corresponding sub word lines (SWL1 to SWLm) at predetermined intervals.
A plurality of memory cell arrays MA1 each provided with S and sequentially arranged to read the stored data of the selected memory cells.
x, MA2x, ..., MAkx, and a first decoder 1 arranged at predetermined positions to receive an address signal (not shown), decode it, and output it as a first decode signal DA1.
A plurality of second decoders 21 to 2k which are provided corresponding to and close to the memory cell arrays MA1x to MAkx, respectively, and which have a predetermined word line of the corresponding memory cell array (MA1x to MAkx) as a selection level in accordance with the first decode signal DA1. It is configured to have and. In this semiconductor memory device, the memory cell arrays MA1x to MA1x to M
The number of word shunt portions WS of each word line WL1 to WLm of Akx is the same.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体記憶
装置では、順次配置された第2のデコーダ21〜2kに
対し1つの第1のデコーダからデコード信号DA1が供
給され、第2のデコーダ21〜2kはこのデコード信号
AD1に従って対応するメモリセルアレイ(MA1x〜
MAkx)の所定のワード線(WL1〜WLm)を選択
レベルとする構成となっており、かつ各ワード線WL1
〜WLmには、その抵抗値を低減するための副ワード線
SWL1〜SWLmが複数のワードシャント部WSで接
続された構成となっているものの、各ワード線WL1〜
WLmそれぞれのワードシャント部WSの数はメモリセ
ルアレイMA1x〜MAkxすべてに対して同一数とな
っているため、メモリセルアレイMA1x〜MAkxの
内部の最大信号伝達時間は等しく、従って第1のデコー
ダ1から出力された第1のデコード信号DA1によって
所定のメモリセルが選択状態となるまでの動作時間は、
第1のデコーダ1から最も遠い位置に配置されたメモリ
セルアレイ(例えばMAkx)が最も長くなり、このメ
モリセルアレイ(MAkx)の動作時間によって半導体
記憶装置全体の動作時間が左右されるため、その動作時
間が長くなるという問題点がある。
In this conventional semiconductor memory device, the decode signal DA1 is supplied from one first decoder to the sequentially arranged second decoders 21 to 2k, and the second decoders 21 to 21k are supplied. 2k is a memory cell array (MA1x ...
A predetermined word line (WL1 to WLm) of (MAkx) is set to the selection level, and each word line WL1
To WLm, sub word lines SWL1 to SWLm for reducing the resistance value are connected by a plurality of word shunt sections WS, but each word line WL1 to
Since the number of word shunt sections WS of each WLm is the same for all the memory cell arrays MA1x to MAkx, the maximum signal transmission times inside the memory cell arrays MA1x to MAkx are equal, and therefore the first decoder 1 outputs the same. The operation time until a predetermined memory cell is brought into a selected state by the generated first decode signal DA1 is
The memory cell array (eg, MAkx) arranged farthest from the first decoder 1 has the longest length, and the operating time of the memory cell array (MAkx) influences the operating time of the entire semiconductor memory device. Has the problem of becoming longer.

【0008】また、この動作時間を短縮する方法とし
て、ワード線1本当りのワードシャント部の数を増やす
方法があるが、ワードシャント部を増した分だけチップ
面積が増大するという問題点がある。
Further, as a method of shortening this operation time, there is a method of increasing the number of word shunt portions per word line, but there is a problem that the chip area is increased by the increase of the word shunt portions. .

【0009】本発明の目的は、チップ面積を増大させる
ことなく動作時間を短縮することができる半導体記憶装
置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of shortening the operation time without increasing the chip area.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、行,列マトリクス状に配列された複数のメモリセ
ル、選択レベルのときこれら複数のメモリセルを行単位
で選択状態とする複数の行選択線、これら複数の行選択
線それぞれと対応しかつ近接,並行して低抵抗材料で形
成された複数の副行選択線、及び前記複数の行選択線そ
れぞれと対応副行選択線とを所定の間隔で接続する複数
の選択線接続部をそれぞれ備えて順次配置され選択状態
のメモリセルの記憶データを読出す複数のメモリセルア
レイと、所定の位置に配置されて第1のデコード信号を
出力する第1のデコーダと、前記複数のメモリセルアレ
イそれぞれと対応しかつ近接して設けられ前記第1のデ
コード信号に従って対応メモリセルアレイの所定の行選
択線を選択レベルとする複数の第2のデコーダとを有す
る半導体記憶装置において、前記複数のメモリセルアレ
イの各行選択線それぞれの選択線接続部を、その数が、
前記第1のデコーダに対し最も近い位置に配置されたメ
モリセルアレイでは最小、最も遠い位置に配置されたメ
モリセルアレイでは最大で、その中間の位置に配置され
たメモリセルアレイでは遠ざかるに従って順次多くなる
ように設けた構成を有している。また、第1のデコーダ
の出力端から各メモリセルまでの信号伝達時間のうちの
各メモリセルアレイそれぞれの最長時間が均一化される
ように、前記各メモリセルアレイの行選択線1本当りの
選択線接続部の数を定めて構成される。
A semiconductor memory device according to the present invention comprises a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, and a plurality of memory cells which are in a selected state row by row at the selection level. A row select line, a plurality of sub-row select lines corresponding to each of the plurality of row select lines, formed in parallel and in parallel with each other, and formed of a low resistance material; and a plurality of the row select lines and corresponding sub-row select lines. A plurality of memory cell arrays, each of which is provided with a plurality of selection line connecting portions connected at a predetermined interval and is sequentially arranged to read the stored data of the memory cells in a selected state, and arranged at a predetermined position to output a first decode signal. Corresponding to the first decoder and each of the plurality of memory cell arrays and provided in proximity to each other, and a predetermined row selection line of the corresponding memory cell array is set to a selection level according to the first decode signal. That in a semiconductor memory device having a plurality of second decoders, said plurality of memory cell arrays each row selection line of each selection line connector, in number,
The memory cell array arranged closest to the first decoder has a minimum value, the memory cell array arranged at the farthest position has a maximum value, and the memory cell array arranged at an intermediate position has a larger value as the distance increases. It has the configuration provided. Further, in order to equalize the longest time of each memory cell array in the signal transmission time from the output terminal of the first decoder to each memory cell, the selection line per row selection line of each memory cell array is equalized. It is configured by defining the number of connection parts.

【0011】[0011]

【作用】本発明においては、複数のメモリセルアレイそ
れぞれの行選択線1本当りの行選択線接続部の数を、第
1のデコーダに対し遠い位置に配置されたメモリセルア
レイ程多くし、メモリセルを選択状態とするための第1
のデコーダから各メモリセルまでの信号の伝達時間を均
一化する構成としたので、半導体記憶装置全体の行選択
線接続部の数を従来例と同一数としてチップ面積を不変
とした場合、第1のデコーダに対し最も遠い位置に配置
されたメモリセルアレイにおいては、行選択線1本当り
の行選択線接続部の数が、その平均値(従来例は全て平
均値となっている)より多くなっており、従ってその
分、第1のデコーダまでの距離が短かくなって第1のデ
コーダからこのメモリセルアレイまでの信号伝達時間が
短かくなり、かつメモリセルアレイ内部のメモリセル選
択のための信号線の抵抗値が小さくなってその信号伝達
時間が短かくなる。すなわち、第1のデコーダからこの
メモリセルアレイのメモリセルまでの最長の信号伝達時
間を短縮することができる。また他のメモリセルアレイ
についても、第1のデコーダからメモリセルまでの最長
の信号伝達時間は均一化されているので、上述の最も遠
い位置に配置されたメモリセルと同程度の信号伝達時間
となっている。
According to the present invention, the number of row selection line connection portions per row selection line of each of the plurality of memory cell arrays is increased as the memory cell array arranged farther from the first decoder is used. First to make the selected state
Since the signal transmission time from the decoder to each memory cell is made uniform, when the number of row selection line connecting portions of the entire semiconductor memory device is the same as the conventional example and the chip area is unchanged, In the memory cell array arranged at the farthest position from the decoder, the number of row selection line connection portions per row selection line is larger than the average value (all of the conventional examples are average values). Therefore, the distance to the first decoder is shortened accordingly, the signal transmission time from the first decoder to this memory cell array is shortened, and the signal line for selecting a memory cell in the memory cell array is shortened. And the signal transmission time becomes short. That is, the longest signal transmission time from the first decoder to the memory cell of this memory cell array can be shortened. Also in other memory cell arrays, the longest signal transmission time from the first decoder to the memory cell is equalized, so that the signal transmission time is similar to that of the memory cell arranged at the farthest position. ing.

【0012】従って、最も遠い位置に配置されたメモリ
セルアレイの最長の信号伝達時間の短縮分がそのままこ
の半導体記憶装置の動作時間の短縮につながる。
Therefore, the reduction in the longest signal transmission time of the memory cell array arranged at the farthest position directly leads to the reduction in the operation time of this semiconductor memory device.

【0013】[0013]

【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0014】図1は本発明の一実施例を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

【0015】この実施例が図5に示された従来の半導体
装置と相違する点は、複数のメモリセルアレイMA1x
〜MAkxそれぞれと対応するメモリセルアレイMA1
〜MAkの各ワード線WL1〜WLmそれぞれのワード
シャント部WSを、その数が、第1のデコーダ1に対し
最も近い位置に配置されたメモリセルアレイ(例えばM
A1)では最小、最も遠い位置に配置されたメモリセル
アレイ(例えばMAk)では最大でその中間メモリセル
アレイでは遠ざかるに従って順次多くなるように設け、
かつ第1のデコーダ1の出力端から各メモリセルまでの
信号伝達時間のうちの各メモリセルアレイMA1〜MA
kそれぞれの最長時間が均一化されるように、各メモリ
セルアレイMA1〜MAkそれぞれのワード線1本当り
のワードシャント部WSの数を定めた点にある。
This embodiment is different from the conventional semiconductor device shown in FIG. 5 in that it has a plurality of memory cell arrays MA1x.
To the memory cell array MA1 corresponding to each MAkx
.About.MAk word lines WL1 to WLm, the number of word shunt portions WS arranged in the memory cell array (eg, M
A1) is the smallest, the largest is the memory cell array (eg, MAk) arranged at the farthest position, and the intermediate memory cell array is so arranged that the intermediate memory cell array increases in number as it goes away.
In addition, each of the memory cell arrays MA1 to MA in the signal transmission time from the output terminal of the first decoder 1 to each memory cell.
The point is that the number of word shunt sections WS for each word line of each of the memory cell arrays MA1 to MAk is determined so that the maximum time of each k is equalized.

【0016】次に、この実施例の第1のデコーダ1から
出力された第1のデコード信号DA1によってメモリセ
ルアレイMA1〜MAkの所定のメモリセルが選択状態
となるまでの時間、すなわち、第1のデコーダから所定
のメモリセルまでの信号伝達時間が、図5に示された従
来例に対し、どのように変化したかについて説明する。
Next, the time until a predetermined memory cell of the memory cell arrays MA1 to MAk is brought into a selected state by the first decode signal DA1 output from the first decoder 1 of this embodiment, that is, the first How the signal transmission time from the decoder to a predetermined memory cell changes with respect to the conventional example shown in FIG. 5 will be described.

【0017】ここで、上述の最長の信号伝達時間は、第
1のデコード信号DA1の第1のデコーダ1から第2の
デコーダ21〜2kまでの信号伝達時間と、第2のデコ
ーダ21〜2kによるデコード動作の時間と、この第2
のデコーダ21〜2kから所定のメモリセルまでのメモ
リセルアレイ内部の信号伝達時間の3つの部分に分ける
ことができる。そして、第2のデコーダ21〜2kによ
るデコード動作の時間は、本発明も従来例も変らないの
で、第1のデコード信号DA1の信号伝達時間と、メモ
リセルアレイ内の信号伝達時間とについて比較する。
The above-mentioned longest signal transmission time depends on the signal transmission time of the first decoded signal DA1 from the first decoder 1 to the second decoders 21 to 2k and the second decoders 21 to 2k. Decoding operation time and this second
The signal transmission time inside the memory cell array from the decoders 21 to 2k to the predetermined memory cell can be divided into three parts. Since the decoding operation time by the second decoders 21 to 2k is the same in both the present invention and the conventional example, the signal transmission time of the first decode signal DA1 is compared with the signal transmission time in the memory cell array.

【0018】比較の条件として、本発明及び従来例の各
部の配置は図1,図5のとおりとし、チップ面積を同一
とするため、メモリセルアレイの数(k)、ワード線1
本当りのメモリセルの数(n)、ワードシャント部WS
の総数は等しいものとする。また、ワードシャント部W
S1個につき、第1のデコード信号DA1の信号線(以
下第1のデコード信号線という)及びワード線それぞれ
がΔLだけ長くなり、それぞれの抵抗値がΔR,Δrだ
け増加するものとし、ワードシャント部WS対応部分を
除く第1のデコード信号線の1メモリセルアレイ当りの
抵抗をR、ワード線の1メモリセル当りの抵抗をrsと
する。更に、ワードシャント部の数を、従来例では、各
メモリセルアレイMA1x〜MAkx共Nとし、本発明
ではメモリセルアレイMA1,MA2,〜,MAkそれ
ぞれに対しN1,N2,〜,Nkとし、かつN1<N2
<…Ni<N<N(i+1)<…Nkとする。
As a condition for comparison, the arrangement of each part of the present invention and the conventional example is as shown in FIGS. 1 and 5, and since the chip areas are the same, the number of memory cell arrays (k) and word line 1 are set.
Number of memory cells per book (n), word shunt section WS
Are equal in number. Also, the word shunt section W
For each S1, the signal line of the first decode signal DA1 (hereinafter referred to as the first decode signal line) and the word line are lengthened by ΔL, and the resistance values thereof are increased by ΔR and Δr, respectively. The resistance per memory cell array of the first decode signal line excluding the portion corresponding to WS is R, and the resistance per memory cell of the word line is rs. Further, in the conventional example, the number of word shunt sections is N for each of the memory cell arrays MA1x to MAkx, and in the present invention, N1, N2, ..., Nk for each of the memory cell arrays MA1, MA2 ,. N2
<... Ni <N <N (i + 1) <... Nk.

【0019】まず、第1のデコード信号線における信号
の伝達時間について図2を参照して説明する。
First, the signal transmission time of the first decode signal line will be described with reference to FIG.

【0020】デコーダ21の第1のデコード信号DA1
入力端を基準(0)とすると、デコーダ22〜2j〜2
kの第1のデコード信号DA1入力端までの第1のデコ
ード信号線の抵抗値は、本発明(Rj)では Rj=(j−1)R+(N1+…+N(j−1))・ΔR ……(1) となり、従来例(Rjx)では Rjx=(j−1)R+(j−1)N・ΔR ……(2) となる。
The first decode signal DA1 of the decoder 21
When the input terminal is the reference (0), the decoders 22-2j-2
In the present invention (Rj), the resistance value of the first decode signal line up to the input terminal of the first decode signal DA1 of k is Rj = (j-1) R + (N1 + ... + N (j-1)). ΔR ... (1), and in the conventional example (Rjx), Rjx = (j-1) R + (j-1) N.ΔR (2).

【0021】このRjとRjxとを比較すると、j≦i
のときには、N1〜N(j−1)はすべてNより小さい
ので、 Rj<Rjx ……(3) となり、また、j>iのときには、 N1+…+N(j−1)=N1+…+Nk−(Nj+…+Nk) =k・N−(Nj+…+Nk) ……(4) (j−1)N=k・N−(k−j+1)・N ……(5) と変形するとNj〜Nkは全てNより大きいので、同様
に Rj<Rjx となる。すなわち、デコーダ21を基準としたとき、デ
コーダ22〜2kの入力端までの第1のデコード信号線
の抵抗値を全て、従来例より小さくすることができ、第
1のデコード信号DA1の伝達時間を短縮することがで
きる。
Comparing Rj and Rjx, j≤i
Since N1 to N (j-1) are all smaller than N, Rj <Rjx (3), and when j> i, N1 + ... + N (j-1) = N1 + ... + Nk- ( Nj + ... + Nk) = k.N- (Nj + ... + Nk) ... (4) (j-1) N = k.N- (k-j + 1) .N ... (5) Since it is larger than N, Rj <Rjx similarly holds. That is, when the decoder 21 is used as a reference, all the resistance values of the first decode signal lines up to the input ends of the decoders 22 to 2k can be made smaller than in the conventional example, and the transmission time of the first decode signal DA1 can be reduced. It can be shortened.

【0022】次に、各メモリセルアレイMA1〜MAk
(MA1x〜MAkx)内の最長の信号伝達時間につい
て比較する。副ワード線SWLの抵抗値はワード線WL
に比べ極めて小さいのでこれを無視すると、各メモリセ
ルアレイの第2のデコーダからメモリセルQまでのワー
ド線WLの抵抗値が最大となる点は、隣接する2つのワ
ードシャント部WSの中間点(C)となる。隣接する2
つのワードシャント部WS周辺の等価回路図を図3に示
す。
Next, each memory cell array MA1 to MAk
The longest signaling time in (MA1x to MAkx) is compared. The resistance value of the sub word line SWL is the word line WL.
Since it is extremely smaller than that of the above, if this is ignored, the point where the resistance value of the word line WL from the second decoder of each memory cell array to the memory cell Q becomes maximum is the middle point (C ). Adjacent 2
An equivalent circuit diagram around one word shunt section WS is shown in FIG.

【0023】隣接する2つのワードシャント部WS間の
ワード線WSと接続するメモリセルQの数はn/(Nj
−1)(従来例ではn/(N−1))であり、この数が
奇数の場合には中間点Cの位置にメモリセルQが存在し
偶数の場合には中間点Cをはさんで2つのメモリセルQ
が存在することになるが、通常、このメモリセルQの数
n/(Nj−1),n/(N−1)は“1”より十分大
きい値があるため近似計算すると、中間点C部分に存在
するメモリセルQまでの抵抗値rj(従来例r)は、ワ
ードシャント部WSの抵抗をrwとして、次のとおりと
なる。
The number of memory cells Q connected to the word line WS between two adjacent word shunt sections WS is n / (Nj
-1) (n / (N-1) in the conventional example). If this number is odd, the memory cell Q exists at the position of the intermediate point C, and if it is even, the intermediate point C is sandwiched. Two memory cells Q
However, since the numbers n / (Nj−1) and n / (N−1) of the memory cells Q have values sufficiently larger than “1”, the intermediate point C part is usually calculated. The resistance value rj up to the memory cell Q (conventional example r) existing in 1 is as follows, where rw is the resistance of the word shunt section WS.

【0024】 rj=rw/4+rs・n/4(Nj−1) ……(6) r=rw/4+rs・n/4(N−1) ……(7) この(6)式,(7)式から、従来例ではどのメモリセ
ルアレイMA1x〜MAkxにおいても同一の抵抗値、
すなわち同一の信号伝達時間となっているが、本発明で
は、第1のデコーダ1に対し遠方に配置されたメモリセ
ルアレイ程抵抗値が小さく、信号伝達時間が短かくなっ
ている。
Rj = rw / 4 + rs · n / 4 (Nj−1) (6) r = rw / 4 + rs · n / 4 (N−1) (7) Equation (6), (7) From the equation, in the conventional example, the same resistance value is obtained in any memory cell array MA1x to MAkx
That is, although the signal transmission time is the same, in the present invention, the resistance value is smaller and the signal transmission time is shorter in the memory cell array arranged farther from the first decoder 1.

【0025】従って、第1のデコーダ1からメモリセル
アレイMA1〜MAkそれぞれのメモリセルまでの信号
の最長の伝達時間が均一化され、その最大値が従来例よ
り大幅に小さくなる。第1のデコード信号DA1の伝達
時間とメモリセルアレイ内の最長の信号伝達時間とを合
せた配線信号伝達時間の本発明と従来例との比較結果を
図4に示す。
Therefore, the longest transmission time of the signal from the first decoder 1 to each memory cell of the memory cell arrays MA1 to MAk is made uniform, and the maximum value is significantly smaller than that of the conventional example. FIG. 4 shows a comparison result between the present invention and the conventional example of the wiring signal transmission time, which is the sum of the transmission time of the first decode signal DA1 and the longest signal transmission time in the memory cell array.

【0026】なお、信号線を伝達する信号の伝達時間
は、信号線の抵抗値と信号線に付加される容量とにより
決定される。上記実施例及び従来例の比較では、信号線
の付加容量を考慮しないで抵抗値のみで比較したが、信
号線が短かくなればわずかではあるがその分、信号線自
身の容量は低減し、また、ワード線においては、ワード
シャント部の数が増すほど隣接する2つのワードシャン
ト部間のワード線と接続するメモリセルの数も少なくな
るので、その分更に付加容量も低減する。従って、信号
伝達時間は更に短縮方向となる。
The transmission time of the signal transmitted through the signal line is determined by the resistance value of the signal line and the capacitance added to the signal line. In the comparison of the above-mentioned example and the conventional example, the resistance value was compared without considering the additional capacitance of the signal line, but if the signal line becomes short, it is slightly, but the capacitance of the signal line itself is reduced, Further, in the word line, as the number of word shunt portions increases, the number of memory cells connected to the word line between two adjacent word shunt portions also decreases, so that the additional capacitance is reduced accordingly. Therefore, the signal transmission time is further shortened.

【0027】上記実施例においては、第1のデコード信
号DA1によってメモリセルアレイMA1〜MAkの所
定のワード線が選択される場合について説明したが、本
発明は、メモリセルアレイMA1〜MAkそれぞれの互
いに対応する複数本ずつのワード線に対し1本ずつの共
通ワード線を設け、これこれら共通ワード線のうちの1
本を第1のデコーダで、対応する複数のワード線のうち
の1本を第2のデコーダで選択する二重ワード線構造の
半導体記憶装置に対しても適用でき、同様の効果が得ら
れる。
In the above embodiment, the case where a predetermined word line of the memory cell arrays MA1 to MAk is selected by the first decode signal DA1 has been described, but the present invention corresponds to each of the memory cell arrays MA1 to MAk. One common word line is provided for each of the plurality of word lines, and one of these common word lines is used.
The present invention can be applied to a semiconductor memory device having a double word line structure in which a book is selected by a first decoder and one of a plurality of corresponding word lines is selected by a second decoder, and similar effects can be obtained.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、複数のメ
モリセルアレイの行選択線1本当りの副行選択線との接
続部(選択線接続部)をその数が、第1のデコーダに対
し最も近い位置に配置されたメモリセルアレイでは最
小、最も遠い位置に配置されたメモリセルアレイでは最
大で、その中間の位置に配置されたメモリセルアレイで
は遠ざかるに従って順次多くなるように設けた構成とす
ることにより、選択線接続部の総数を変えないようにし
たとき、各メモリセルアレイに対し同数づつの選択線接
続部を有する従来例に比べ、第1のデコーダに対し遠方
のメモリセルアレイの最長の信号伝達時間を短縮し近い
位置のメモリセルアレイのそれを引き伸ばして各メモリ
セルアレイ相互で均一化することができるので、最長の
信号伝達時間で左右される全体の動作時間を、チップ面
積を増大させることなく短縮することができる効果があ
る。
As described above, according to the present invention, the number of connection portions (selection line connection portions) with the sub-row selection lines per row selection line of a plurality of memory cell arrays is the first decoder. On the other hand, the memory cell array located closest to the memory cell array must have a minimum size, the memory cell array located at the farthest position must have a maximum size, and the memory cell array located at an intermediate position must increase in number as the distance increases. As a result, when the total number of select line connecting portions is not changed, the longest signal transmission of the memory cell array farther from the first decoder is performed as compared with the conventional example having the same number of select line connecting portions for each memory cell array. Since the time can be shortened and the memory cell array in a close position can be stretched and made uniform in each memory cell array, the longest signal transmission time is left and right. The entire operation time, there is an effect that can be shortened without increasing the chip area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示された実施例の第1及び第2のデコー
ダ間の信号線抵抗(信号伝達時間)を求めるための配置
図である。
FIG. 2 is a layout diagram for obtaining a signal line resistance (signal transmission time) between the first and second decoders of the embodiment shown in FIG.

【図3】図1に示された実施例の各メモリセルアレイ内
の信号線抵抗(信号伝達時間)を求めるための等価回路
図である。
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram for obtaining a signal line resistance (signal transmission time) in each memory cell array of the embodiment shown in FIG.

【図4】図1に示された実施例の効果を説明するための
各メモリセルアレイに対する配線信号伝達時間を示す図
である。
FIG. 4 is a diagram showing a wiring signal transmission time for each memory cell array for explaining the effect of the embodiment shown in FIG. 1;

【図5】従来の半導体記憶装置の一例を示す回路図であ
る。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,21〜2k デコーダ MA1〜MAk,MA1x〜MAkx メモリセルア
レイ Q,Q11〜Qmn メモリセル SWL,SWL1〜SWLm 副ワード線 WL,WL1〜WLm ワード線 WS ワードシャント部
1, 21 to 2k Decoders MA1 to MAk, MA1x to MAkx Memory cell arrays Q, Q11 to Qmn Memory cells SWL, SWL1 to SWLm Sub word lines WL, WL1 to WLm Word lines WS Word shunt section

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行,列マトリクス状に配列された複数の
メモリセル、選択レベルのときこれら複数のメモリセル
を行単位で選択状態とする複数の行選択線、これら複数
の行選択線それぞれと対応しかつ近接,並行して低抵抗
材料で形成された複数の副行選択線、及び前記複数の行
選択線それぞれと対応副行選択線とを所定の間隔で接続
する複数の選択線接続部をそれぞれ備えて順次配置され
選択状態のメモリセルの記憶データを読出す複数のメモ
リセルアレイと、所定の位置に配置されて第1のデコー
ド信号を出力する第1のデコーダと、前記複数のメモリ
セルアレイそれぞれと対応しかつ近接して設けられ前記
第1のデコード信号に従って対応メモリセルアレイの所
定の行選択線を選択レベルとする複数の第2のデコーダ
とを有する半導体記憶装置において、前記複数のメモリ
セルアレイの各行選択線それぞれの選択線接続部を、そ
の数が、前記第1のデコーダに対し最も近い位置に配置
されたメモリセルアレイでは最小、最も遠い位置に配置
されたメモリセルアレイでは最大で、その中間の位置に
配置されたメモリセルアレイでは遠ざかるに従って順次
多くなるように設けたことを特徴とする半導体記憶装
置。
1. A plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, a plurality of row selection lines which bring the plurality of memory cells into a selected state in a row unit at a selection level, and each of the plurality of row selection lines. A plurality of sub-row selection lines corresponding to, adjacent to, and formed in parallel with each other, and a plurality of selection line connecting portions for connecting the plurality of row selection lines and the corresponding sub-row selection lines at predetermined intervals. A plurality of memory cell arrays sequentially arranged to read data stored in memory cells in a selected state, a first decoder arranged at a predetermined position to output a first decode signal, and the plurality of memory cell arrays. A semiconductor memory having a plurality of second decoders corresponding to the respective ones and having a predetermined row selection line of the corresponding memory cell array as a selection level according to the first decode signal. In the memory device, the selection line connecting portions of the respective row selection lines of the plurality of memory cell arrays are arranged at the smallest and farthest positions in the memory cell array arranged in the closest position to the first decoder. In the semiconductor memory device, the maximum number is provided in the memory cell array, and the memory cell array arranged at an intermediate position is provided so as to increase in number with increasing distance.
【請求項2】 行選択線が多結晶シリコンで形成され、
副行選択線が金属材料で形成された請求項1記載の半導
体記憶装置。
2. The row select line is formed of polycrystalline silicon,
The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the sub row selection line is formed of a metal material.
【請求項3】 第1のデコーダの出力端から各メモリセ
ルまでの信号伝達時間のうちの各メモリセルアレイそれ
ぞれの最長時間が均一化されるように、前記各メモリセ
ルアレイの行選択線1本当りの選択線接続部の数を定め
た請求項1記載の半導体記憶装置。
3. A row select line for each memory cell array so that the maximum time of each memory cell array in the signal transmission time from the output terminal of the first decoder to each memory cell is equalized. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the number of selection line connecting portions of the above is determined.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60206164A (en) * 1984-03-30 1985-10-17 Toshiba Corp Semiconductor memory device
JPH02158995A (en) * 1988-12-09 1990-06-19 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory device

Patent Citations (2)

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Effective date: 19980721