JPH07242413A - Production of crystalline siliceous compound - Google Patents

Production of crystalline siliceous compound

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JPH07242413A
JPH07242413A JP6065692A JP6569294A JPH07242413A JP H07242413 A JPH07242413 A JP H07242413A JP 6065692 A JP6065692 A JP 6065692A JP 6569294 A JP6569294 A JP 6569294A JP H07242413 A JPH07242413 A JP H07242413A
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JP
Japan
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silicic acid
acid compound
water content
crystalline
powder
Prior art date
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Application number
JP6065692A
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Japanese (ja)
Inventor
Itsuro Tsukahara
逸朗 塚原
Hitoshi Takatani
仁 高谷
Koji Okuda
宏二 奥田
Mikihiro Yamanaka
幹大 山中
Kaoru Matsushita
芳 松下
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
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Abstract

PURPOSE:To suppress the formation of the deposit layer and agglomerate in a device and improve the productivity by burning a powdery amorphous silica compd. having a specified content of water. CONSTITUTION:A siliceous compd. soln. (e.g. silicate soln.) contg. 28-95wt.% (wet basis) water is dried at 170-400 deg.C by spray drying, etc., to obtain a powdery amorphous siliceous compd. contg. <=1.2wt.% (wet basis) water. The compd. is then burnt at 550-830 deg.C by a rotary kiln, etc., to obtain a crystalline siliceous compd. expressed by the formula (M is Ni and/or K, M' is Ca and/or Mg, y/x=0.5 to 3.5, and z/x=0 to 1.0).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は結晶性珪酸化合物を工業
的に有利に製造する方法に関する。さらに詳しくは、焼
成装置内での付着物層および凝集塊の生成が抑制され
た、生産性の高い結晶性珪酸化合物の製造方法に関す
る。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for industrially producing a crystalline silicic acid compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing a highly productive crystalline silicic acid compound in which the formation of a deposit layer and agglomerates in a firing apparatus is suppressed.

【0002】[0002]

【従来の技術】含水珪酸化合物を焼成することにより結
晶性珪酸化合物を製造する際に、原料となる含水珪酸粉
末に熱負荷を加えると、一般に脱水による発泡現象並び
に軟化現象を起こし、焼成装置内にて付着が生じること
が知られている。従って、安定した連続生産を可能とす
るためには、原料粉末の移動を阻害する付着現象を抑制
する必要がある。
2. Description of the Related Art When a crystalline silicic acid compound is produced by calcining a hydrous silicic acid compound, when a heat load is applied to the hydrous silicic acid powder as a raw material, a foaming phenomenon and a softening phenomenon generally occur due to dehydration, and It is known that adhesion occurs at. Therefore, in order to enable stable continuous production, it is necessary to suppress the adhesion phenomenon that hinders the movement of the raw material powder.

【0003】従来、結晶性珪酸化合物の製造方法として
特公平5−66888号公報、特開平3−164422
号公報、特開平4−214024号公報、特開平4−2
38809号公報等に記載された方法が挙げられる。
As a conventional method for producing a crystalline silicic acid compound, JP-B-5-66888 and JP-A-3-164422.
Japanese Patent Laid-Open No. 4-214024, Japanese Patent Laid-Open No. 4-2024
The method described in Japanese Patent No. 38809 may be used.

【0004】特公平5−66888号公報では、粉末状
の無定形の含水珪酸塩化合物を断熱した内熱式横型回転
管状炉にて加熱結晶化を行い、結晶性珪酸塩化合物を得
ている。この際の炉芯管内壁面への原料粉末の付着や、
炉芯管内の原料粉末の移動を阻害するような粒径の大き
い塊状物の生成を抑制する手段としては、製品となる結
晶性珪酸塩化合物の一部を還流し、原料粉末中に配合す
る方法が提案されている。この場合、粉末状の含水珪酸
塩の含水率は、最大の強熱減量が20wt%であり、1
〜20wt%の含水量を有するものが調製され使用され
ることが記載されている(特公平5−66888号公
報、特許請求の範囲の欄、第4欄第31行〜39行を参
照、第6欄の例5では4.7%の強熱減量、第7欄の例
6では1.4%の強熱減量、第7欄の例7では4.8%
の強熱減量が開示されている)。換言すれば、1〜20
wt%の含水量を有する無定形の含水珪酸塩化合物を用
いる場合、製品となる結晶性珪酸塩化合物の一部を還流
することが炉芯管内壁面への原料粉末の付着や、炉芯管
内での塊状物の生成を抑制するのに必要であるというこ
とである。
In Japanese Patent Publication No. 5-66888, a crystalline silicate compound is obtained by heating and crystallization in an internal heat type horizontal rotary tubular furnace in which a powdery amorphous hydrated silicate compound is thermally insulated. At this time, adhesion of raw material powder to the inner wall surface of the furnace core tube,
As a means for suppressing the formation of agglomerates having a large particle size that hinders the movement of the raw material powder in the furnace core tube, a method of refluxing a part of the crystalline silicate compound to be the product and blending it into the raw material powder Is proposed. In this case, the water content of the powdery hydrous silicate is such that the maximum loss on ignition is 20 wt%,
It is described that one having a water content of -20 wt% is prepared and used (see Japanese Patent Publication No. 5-66888, claims column, column 4, lines 31 to 39, see Loss on ignition of 4.7% in Example 5 of column 6, 1.4% of ignition loss on Example 6 of column 7, 4.8% on Example 7 of column 7
The loss on ignition is disclosed). In other words, 1-20
When using an amorphous hydrous silicate compound having a water content of wt%, it is possible to reflux a part of the crystalline silicate compound that is the product, in which the raw material powder adheres to the inner wall surface of the furnace core tube or inside the furnace core tube. It is necessary to suppress the formation of agglomerates of.

【0005】特開平3−164422号公報では、低温
かつ滞留時間の短い噴霧乾燥によって高い嵩密度を有す
る粉末状の無定形の含水ケイ酸ナトリウムとし、これを
断熱した内熱式回転管状炉において加熱し、結晶性珪酸
ナトリウムを得ている。この際に、回転管状炉から吸引
しフィルターにて捕収して得た珪酸塩化合物粉末を、原
料となる含水珪酸塩化合物粉末中に配合する方法が提案
されている。
In Japanese Patent Laid-Open No. 3-164422, powdery amorphous sodium silicate having a high bulk density is obtained by spray drying at a low temperature and a short residence time, and this is heated in a heat-insulated internal rotary tube furnace. To obtain crystalline sodium silicate. At this time, a method has been proposed in which a silicate compound powder obtained by suctioning from a rotary tubular furnace and collecting with a filter is mixed with the hydrous silicate compound powder as a raw material.

【0006】特開平4−214024号公報では、12
00〜1400℃の温度において溶融して得た珪酸塩化
合物の溶融物を2mm以下の粒度に粉砕し、これを加熱
結晶化処理して結晶性珪酸塩化合物を得ている。加熱結
晶化処理の際の水ガラスの焼き付きを防止する手段とし
て、製品となる結晶性珪酸塩化合物の一部を粉砕した水
ガラス粒に添加する方法が提案されている。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-214024, a number of 12
The melt of the silicate compound obtained by melting at a temperature of 00 to 1400 ° C. is pulverized to a particle size of 2 mm or less, and heat crystallization treatment is performed to obtain a crystalline silicate compound. As a means for preventing the seizure of water glass during the heat crystallization treatment, a method has been proposed in which a part of the crystalline silicate compound to be the product is added to crushed water glass particles.

【0007】また、特開平4−238809号公報で
は、珪酸ナトリウム溶液を、スクレーパーを付設した横
型回転管炉にて加熱結晶化する方法が提案されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-238809 proposes a method of heating and crystallizing a sodium silicate solution in a horizontal rotary tube furnace equipped with a scraper.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公平
5−66888号公報、特開平4−214024号公報
及び特開平3−164422号公報に記載の方法におい
ては、いずれの方法においても炉芯管内部の粉末もしく
は製品粉末の一部が還流されることにより、熱効率及び
生産性が低下するという欠点を有している。
However, in any of the methods described in JP-B-5-66888, JP-A-4-214024, and JP-A-3-164422, the inside of the furnace core tube is used. Since a part of the powder or the product powder is refluxed, the thermal efficiency and the productivity are reduced.

【0009】さらに、特開平4−214024号公報の
方法では原料粉末中に配合される還流粉末の見かけ比重
が低いために炉芯管の容積が大きくなるといった問題も
発生する。また、工業的な噴霧乾燥で得られる粉末は平
均粒径が500μm以下であり、焼成時の粉同士の接触
面積が大きく、かつ加熱中に軟化するため、管壁への珪
酸化合物の付着及び粉同士が凝集して塊状になることを
防ぐことはできない。また、後者の方法では回転管状炉
から吸引して得られた珪酸ナトリウムをフィルターにて
回収し、再び無定形珪酸ナトリウムに混合して管状炉へ
導入する方法が記載されているが吸引して得られた珪酸
ナトリウムは加熱が充分でないため結晶化の度合いが小
さく、管壁への付着防止効果はほとんど期待できない。
Further, in the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-214024, there is a problem that the volume of the furnace core tube becomes large because the apparent specific gravity of the reflux powder blended in the raw material powder is low. In addition, the powder obtained by industrial spray drying has an average particle size of 500 μm or less, the contact area between powders during firing is large, and the powder softens during heating. It is not possible to prevent them from aggregating into a lump. In the latter method, sodium silicate obtained by suction from a rotary tubular furnace is recovered by a filter, mixed again with amorphous sodium silicate and introduced into a tubular furnace. Since the obtained sodium silicate is not sufficiently heated, the degree of crystallization is small and the effect of preventing adhesion to the tube wall can hardly be expected.

【0010】また、特公平5−66888号公報では、
焼成炉に供給する粉末状の含水珪酸化合物の含水率が1
〜20wt%のもの、具体的には1.4wt%(湿量基
準)〜4.8wt%(湿量基準)の場合について実施例
として挙げられているが、いずれも含水珪酸塩化合物に
対して10wt%以上の製品粉末を還流させるという煩
雑な工程により炉内の付着を防止している。
In Japanese Patent Publication No. 5-66888,
The water content of the powdery hydrous silicate compound supplied to the firing furnace is 1
˜20 wt%, specifically 1.4 wt% (wet weight basis) to 4.8 wt% (wet weight basis) is given as an example, but both are relative to the hydrous silicate compound. Adhesion in the furnace is prevented by a complicated process of refluxing 10 wt% or more of product powder.

【0011】また、特開平4−238809号公報記載
の方法では、珪酸ナトリウム溶液を直接加熱ゾーンに投
入しているが、この場合には発泡して管壁に付着する現
象が起こる。その付着物を除去するためにスクレーパを
付設することが開示されているが、スクレーパそのもの
にも付着が起こり、スクレーパに付着した付着物を除去
するためのメンテナンス回数が増えるという欠点があ
る。尚、本明細書において加熱炉内の管壁やスクレーパ
等への付着物により形成される層を付着物層という。
Further, in the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-238809, the sodium silicate solution is directly charged into the heating zone, but in this case, the phenomenon of foaming and adhering to the tube wall occurs. Although it is disclosed that a scraper is attached to remove the adhered matter, the scraper itself also adheres, which has a drawback that the number of maintenance operations for removing the adhered matter adhered to the scraper increases. In the present specification, a layer formed by an adhering substance on a pipe wall or a scraper in a heating furnace is referred to as an adhering substance layer.

【0012】従って、焼成装置内部(例えば、加熱炉の
炉芯管内部)に付着物層を生成させず、かつ熱効率及び
生産性を低下させることなく結晶性珪酸化合物を製造す
る方法は、未だかつて提供されていないのが現状であ
る。本発明は、以上の問題点に着目してなされたもので
あり、製品粉末を還流させることなく焼成装置での付着
物層および凝集塊の生成が抑制された、生産性の高い結
晶性珪酸化合物の製造方法を提供することを目的とす
る。
Therefore, a method for producing a crystalline silicic acid compound without forming an adhered substance layer inside a firing apparatus (for example, inside a furnace core tube of a heating furnace) and without lowering thermal efficiency and productivity has never been available. Currently, it is not provided. The present invention has been made in view of the above problems, and is a highly productive crystalline silicic acid compound in which the formation of an adherent layer and an agglomerate in a firing apparatus is suppressed without refluxing the product powder. It aims at providing the manufacturing method of.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明者らは珪酸化合物
を焼成する際に起こる発泡並びに付着物層の形成が、珪
酸化合物中に含まれる水分の蒸発に起因することを見い
だし、さらに研究を進めて本発明を完成した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have found that the foaming and the formation of a deposit layer that occur when a silicic acid compound is fired are caused by the evaporation of water contained in the silicic acid compound, and further research is conducted. Then, the present invention was completed.

【0014】即ち、本発明の要旨は、(1)含水率1.
2wt%(湿量基準)以下の粉末状の無定形珪酸化合物
を焼成することを特徴とする結晶性珪酸化合物の製造方
法、(2)結晶性珪酸化合物を製造する方法において、
含水率28wt%(湿量基準)以上95wt%(湿量基
準)未満の珪酸化合物溶液を乾燥して含水率1.2wt
%(湿量基準)以下の粉末状の無定形珪酸化合物とし、
次いで該無定形珪酸化合物を焼成することを特徴とする
結晶性珪酸化合物の製造方法、(3)含水率が0.05
〜0.9wt%(湿量基準)である前記(1)または
(2)記載の製造方法、(4)生成する結晶性珪酸化合
物が、一般式xM2 O・ySiO2 ・zM’O(但し、
MはNa及び/又はKを示し、M’はCa及び/又はM
gを示し、y/x=0.5〜3.5、z/x=0〜1.
0である。)で表される化合物である前記(1)、
(2)、又は(3)記載の製造方法、に関する。
That is, the gist of the present invention is (1) water content 1.
A method for producing a crystalline silicic acid compound, which comprises firing a powdery amorphous silicic acid compound at 2 wt% (wet amount basis) or less, (2) a method for producing a crystalline silicic acid compound,
Water content of 28 wt% (wet amount basis) or more and less than 95 wt% (wet amount basis) of a silicic acid compound solution is dried to 1.2 wt%
% (Wet weight standard) or less powdery amorphous silicic acid compound,
Next, the method for producing a crystalline silicic acid compound, which comprises firing the amorphous silicic acid compound, (3) having a water content of 0.05
The production method according to the above (1) or (2), wherein the crystalline silicic acid compound produced is from the general formula xM 2 O · ySiO 2 · zM′O (however, ,
M represents Na and / or K, M ′ represents Ca and / or M
g, y / x = 0.5 to 3.5, z / x = 0 to 1.
It is 0. (1) which is a compound represented by
The present invention relates to the manufacturing method according to (2) or (3).

【0015】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
製造方法においては、含水率1.2wt%(湿量基準)
以下の粉末状の無定形珪酸化合物を焼成に供する。含水
率1.2wt%(湿量基準)以下の粉末状の無定形珪酸
化合物を調製する方法は、特に限定されるものではな
い。通常、原料として用いる珪酸化合物溶液は、含水率
28wt%(湿量基準)以上95wt%(湿量基準)未
満の珪酸化合物溶液であり、好ましくは含水率35wt
%(湿量基準)〜75wt%(湿量基準)の珪酸化合物
溶液である。該珪酸化合物溶液としては、工業的に生産
されている珪酸塩溶液をそのまま用いることが可能であ
るが、工業的に生産されている珪酸塩溶液は通常、珪酸
に対するアルカリ金属濃度が低いので、これに水酸化ナ
トリウム溶液及び/又は水酸化カリウム溶液等を添加し
てアルカリ金属濃度を適宜調製したものを用いてもよ
い。さらにCa、Mgの供給源としてこれらの水酸化
物、塩化物又は硝酸塩を添加した珪酸化合物溶液であっ
ても使用することができる。尚、本明細書において含水
率については、以下単にwt%で表示するが、湿量基準
での値である。
The present invention will be described in detail below. In the manufacturing method of the present invention, the water content is 1.2 wt% (based on the amount of moisture).
The following powdery amorphous silicic acid compound is subjected to firing. The method for preparing a powdery amorphous silicic acid compound having a water content of 1.2 wt% (wet amount basis) or less is not particularly limited. Usually, the silicic acid compound solution used as a raw material is a silicic acid compound solution having a water content of 28 wt% (wet amount standard) or more and less than 95 wt% (wet amount standard), and preferably a water content of 35 wt.
% (Wet weight basis) to 75 wt% (wet weight basis) of the silicic acid compound solution. As the silicate compound solution, it is possible to use an industrially produced silicate solution as it is, but since the industrially produced silicate solution usually has a low alkali metal concentration with respect to silicic acid, Sodium hydroxide solution and / or potassium hydroxide solution or the like may be added to the mixture to appropriately adjust the alkali metal concentration to be used. Further, even a silicic acid compound solution containing these hydroxides, chlorides or nitrates as a source of Ca and Mg can be used. In the present specification, the water content is simply expressed as wt% in the following, but it is a value on a wet basis.

【0016】なお、本発明に用いる珪酸化合物溶液とし
ては、前記珪酸塩溶液のほか、固体状のオルト珪酸ナト
リウムやメタ珪酸ナトリウムに、ナトリウム又はカリウ
ムの水酸化物、塩化物及び硝酸塩、可溶性シリカ等の一
種又は混合物の水溶液を添加して組成調製した珪酸化合
物溶液を用いることも可能である。
The silicic acid compound solution used in the present invention includes, in addition to the silicate solution, solid sodium orthosilicate or sodium metasilicate, sodium or potassium hydroxide, chlorides and nitrates, soluble silica, etc. It is also possible to use a silicic acid compound solution whose composition is adjusted by adding an aqueous solution of one or a mixture thereof.

【0017】本発明に用いるこれらの珪酸化合物溶液の
組成としては、特に制限されるものではないが、焼成に
より生成する結晶性珪酸化合物が、一般式xM2 O・y
SiO2 ・zM’O(但し、MはNa及び/又はKを示
し、M’はCa及び/又はMgを示し、y/x=0.5
〜3.5、z/x=0〜1.0である。)で表されるも
のとなるよう適宜、目的の組成に調製される。
The composition of these silicic acid compound solutions used in the present invention is not particularly limited, but the crystalline silicic acid compound formed by firing is represented by the general formula xM 2 O.y.
SiO 2 · zM′O (provided that M represents Na and / or K, M ′ represents Ca and / or Mg, and y / x = 0.5.
.About.3.5 and z / x = 0 to 1.0. ) Is appropriately prepared to have a desired composition.

【0018】目的組成に調製された珪酸化合物溶液は、
次に乾燥処理を行って含水率の上限を1.2wt%まで
減少させることにより、本発明で用いる粉末状の無定形
珪酸化合物として調製することができる。ここで、粉末
状の無定形珪酸化合物の含水率の上限は1.2wt%で
あるが、好ましくは0.05〜0.9wt%以下、更に
好ましくは0.1〜0.7wt%まで減少させることが
望ましい。含水率が上限値を越えると焼成時の発泡及び
付着物層の形成を有効に防ぐことが困難となる。該乾燥
処理を行い、無定形硅酸化合物の含水率を減少させる理
由を以下に述べる。
The silicic acid compound solution prepared to have the desired composition is
Next, by performing a drying treatment to reduce the upper limit of the water content to 1.2 wt%, it is possible to prepare the powdery amorphous silicic acid compound used in the present invention. Here, the upper limit of the water content of the powdery amorphous silicic acid compound is 1.2 wt%, but it is preferably reduced to 0.05 to 0.9 wt% or less, more preferably 0.1 to 0.7 wt%. Is desirable. When the water content exceeds the upper limit, it becomes difficult to effectively prevent foaming and the formation of a deposit layer during firing. The reason why the water content of the amorphous silicate compound is reduced by performing the drying treatment will be described below.

【0019】無定形珪酸化合物を焼成する際に発泡及び
付着物層の形成が起こる主な原因は、無定形珪酸化合物
中に含まれる水分により無定形珪酸化合物が軟化しやす
くなること及び蒸発した水分の体積膨張にある。従って
焼成工程に入る前に無定形珪酸化合物の含水率を十分に
下げることが、焼成中の発泡及び付着物層の形成を防ぐ
上で大切なことであり、該乾燥処理の工程は本発明にお
いて重要である。
The main causes of foaming and formation of a deposit layer when firing the amorphous silicic acid compound are that the moisture contained in the amorphous silicic acid compound facilitates the softening of the amorphous silicic acid compound and the evaporated moisture. The volume expansion of. Therefore, it is important to sufficiently reduce the water content of the amorphous silicic acid compound before starting the firing step in order to prevent foaming and the formation of a deposit layer during firing. is important.

【0020】前記のように、特公平5−66888号公
報では、1〜20wt%の含水量を有する無定形の含水
珪酸塩化合物を用いる場合、製品となる結晶性珪酸塩化
合物の一部を還流することが炉芯管内壁面への原料粉末
の付着や、炉芯管内での塊状物の生成を抑制するのに必
要であることが開示されている。しかし、本発明者らは
1wt%を越えると粒子の体積がやや膨張する傾向がみ
られるものの、1.2wt%以下であれば製品となる結
晶性珪酸塩化合物の一部を還流しなくても炉芯管内壁面
への原料粉末の付着はなく、また炉芯管内での塊状物は
生成することなく、焼成工程を行うことができることを
見出した。従って、本発明の方法によれば工業的に有利
に簡易に結晶性珪酸化合物の製造することができる。
As described above, in Japanese Patent Publication No. 5-66888, when an amorphous hydrous silicate compound having a water content of 1 to 20 wt% is used, a part of the crystalline silicate compound to be a product is refluxed. It is disclosed that this is necessary to suppress the adhesion of the raw material powder to the inner wall surface of the furnace core tube and the generation of lumps in the furnace core tube. However, although the present inventors tend to expand the volume of the particles to a certain extent when the content exceeds 1 wt%, if the content is 1.2 wt% or less, a part of the crystalline silicate compound to be a product may be refluxed. It has been found that the raw material powder does not adhere to the inner wall surface of the furnace core tube, and the firing step can be performed without forming a lump in the furnace core tube. Therefore, according to the method of the present invention, the crystalline silicic acid compound can be industrially advantageously produced easily.

【0021】なお、本発明における乾燥処理の工程にお
ける乾燥方法には特に制限はなく、一段階で乾燥処理を
行うことも可能であるが、熱効率の面から考えて2段に
分けて乾燥することが望ましい。即ち、まず1段目の乾
燥では含水率28wt%以上95wt%未満の珪酸化合
物溶液を含水率28wt%未満〜1.2wt%を越える
含水率となるまで乾燥して粉末化する。このとき使用す
る乾燥機の例としては棚乾燥、ドラムドライヤー、噴霧
乾燥等が挙げられるが、大量に乾燥する場合、連続操作
が可能で粉砕工程がいらないという理由から噴霧乾燥が
好適に用いられる。
The drying method in the drying step of the present invention is not particularly limited, and it is possible to carry out the drying treatment in one step, but in view of thermal efficiency, the drying is divided into two steps. Is desirable. That is, first, in the first-stage drying, a silicic acid compound solution having a water content of 28 wt% or more and less than 95 wt% is dried to a water content of less than 28 wt% to over 1.2 wt% to be powdered. Examples of the dryer used at this time include shelf drying, drum dryer, spray drying, and the like. When drying a large amount, spray drying is preferably used because continuous operation is possible and a crushing step is not required.

【0022】次に2段目の乾燥においては更に含水率を
低減すべく、流動層、棚乾燥等を用いて含水率1.2w
t%以下の粉末状の無定形珪酸化合物を得る。このとき
の乾燥温度は品温で170℃〜400℃、好ましくは1
90℃〜350℃、より好ましくは220〜320℃で
ある。170℃よりも低い温度では含水率を1.2wt
%以下にするのに時間がかかり、400℃を越える温度
では珪酸化合物粉末が軟化して凝集物を形成する恐れが
生ずる。また乾燥機の種類に関しては、大量に乾燥する
場合には連続操作が可能であるという理由から流動層乾
燥が好ましいが、特にここに挙げた乾燥機に限定する必
要はない。
Next, in the second-stage drying, in order to further reduce the water content, a water content of 1.2 w was obtained by using a fluidized bed, shelf drying or the like.
A powdery amorphous silicic acid compound of t% or less is obtained. The drying temperature at this time is 170 ° C to 400 ° C, preferably 1 at the product temperature.
90 to 350 ° C, more preferably 220 to 320 ° C. At a temperature lower than 170 ° C, the water content is 1.2 wt.
%, It takes time, and at temperatures above 400 ° C., the silicate compound powder may soften and form agglomerates. With respect to the type of dryer, fluidized bed drying is preferable because a continuous operation is possible when drying a large amount, but it is not particularly limited to the dryer described here.

【0023】ここで得られた粉末状の珪酸化合物は無定
形であり、X線回折で分析してもはっきりとしたピーク
は観察されない。しかしながら、この無定形の珪酸化合
物を下記の焼成により結晶化した結晶性珪酸化合物は、
その結晶相に応じて特定のピークが観察される。
The powdery silicic acid compound obtained here is amorphous, and no clear peak is observed even when analyzed by X-ray diffraction. However, the crystalline silicic acid compound obtained by crystallizing this amorphous silicic acid compound by the following firing is
Specific peaks are observed depending on the crystalline phase.

【0024】次に、本発明における無定形珪酸化合物を
焼成することにより本発明の結晶性珪酸化合物が生成さ
れる。本発明において焼成の方法、条件および焼成に用
いる装置には特に制限はないが、結晶性珪酸化合物を得
るためには、結晶相が生成される温度に設定された加熱
ゾーンに保持される必要がある。即ち、焼成の温度範囲
としては通常500℃〜ガラス化開始温度、好ましくは
結晶性珪酸化合物を収率良く製造する点から550〜8
30℃である。尚、ガラス化開始温度を越える場合、珪
酸化合物がガラス化するため結晶化された珪酸化合物を
得ることができないので不適である。また500℃未満
では無定形珪酸化合物の結晶化が不十分であり好ましく
ない。
Next, the crystalline silicic acid compound of the present invention is produced by firing the amorphous silicic acid compound of the present invention. In the present invention, there is no particular limitation on the firing method, the conditions and the apparatus used for firing, but in order to obtain the crystalline silicic acid compound, it is necessary to maintain the heating zone set to the temperature at which the crystalline phase is generated. is there. That is, the firing temperature range is usually 500 ° C. to the vitrification start temperature, preferably 550 to 8 from the viewpoint of producing a crystalline silicic acid compound in good yield.
It is 30 ° C. If the temperature exceeds the vitrification start temperature, the silicic acid compound vitrifies and a crystallized silicic acid compound cannot be obtained, which is not suitable. Further, if the temperature is lower than 500 ° C., the crystallization of the amorphous silicic acid compound is insufficient, which is not preferable.

【0025】また、焼成をおこなう時間としては通常3
0秒以上、好ましくは3分〜3時間の範囲、更に好まし
くは5分〜1時間の範囲である。焼成時間が30秒未満
では加熱時間の不足のため、無定形珪酸化合物の温度が
上がらず、均一に熱処理することができない。また、3
時間を越えて長時間の焼成を行うと、生産性が低下する
ので好ましくない。
The firing time is usually 3
It is 0 second or more, preferably in the range of 3 minutes to 3 hours, and more preferably in the range of 5 minutes to 1 hour. If the firing time is less than 30 seconds, the heating time is insufficient, so that the temperature of the amorphous silicate compound does not rise and uniform heat treatment cannot be performed. Also, 3
If the firing is performed for a long time exceeding the time, the productivity is lowered, which is not preferable.

【0026】本発明において焼成装置の形態としては特
に制限はなく、例えば横型または縦型のロータリーキル
ン、流動層、堅型焼成炉、箱型炉、ベルト炉などが挙げ
られる。とりわけロータリーキルンおよび流動層は、珪
酸化合物が流動しながら焼成されるので均一な結晶化が
進行するといった理由から工業的な生産において有利で
ある。尚、ロータリーキルンおよび流動層の操作方法は
回分操作、連続操作のいずれであってもかまわない。
In the present invention, the form of the firing apparatus is not particularly limited, and examples thereof include a horizontal or vertical rotary kiln, a fluidized bed, a rigid firing furnace, a box furnace, and a belt furnace. In particular, the rotary kiln and the fluidized bed are advantageous in industrial production because the silicic acid compound is calcined while flowing and uniform crystallization proceeds. The rotary kiln and the fluidized bed may be operated either batchwise or continuously.

【0027】本発明の製造方法により生成される結晶性
珪酸化合物の組成としては、例えば下記の一般式(1) xM2 O・ySiO2 ・zM’O (1) (但し、MはNa及び/又はKを示し、M’はCa及び
/又はMgを示す。)のものが挙げられる。ここで一般
式(1)において、y/x=0.5〜3.5、z/x=
0〜1.0であることが好ましく、さらに好ましくはy
/x=0.5〜2.0、z/x=0.005〜1.0で
ある。これらの結晶性珪酸化合物は、種々の用途に用い
ることが可能であるが、例えば水軟水化剤として好適に
用いられる。
The composition of the crystalline silicic acid compound produced by the production method of the present invention includes, for example, the following general formula (1) xM 2 O.ySiO 2 .zM'O (1) (where M is Na and // Or K, and M ′ represents Ca and / or Mg.). Here, in the general formula (1), y / x = 0.5 to 3.5, z / x =
It is preferably 0 to 1.0, and more preferably y.
/X=0.5 to 2.0 and z / x = 0.005 to 1.0. These crystalline silicic acid compounds can be used for various purposes, but are preferably used as, for example, a water softening agent.

【0028】[0028]

【実施例】以下、実施例および比較例により本発明をさ
らに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例等によ
りなんら限定されるものではない。なお、各実施例にお
いて、含水率は700℃、1時間の強熱による重量減少
値から求め、湿量基準で表した。平均粒径は篩いによる
重量分率の累積50%の値で示した。また、嵩比重は1
リットルのメスシリンダーを用いてタッピングせずに求
めた。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In each example, the water content was calculated from the weight loss value due to strong heat at 700 ° C. for 1 hour, and expressed on the basis of the moisture content. The average particle size is shown as a value of cumulative 50% by weight of the sieve. The bulk specific gravity is 1
It was determined using a liter graduated cylinder without tapping.

【0029】実施例1 3号水ガラス(大阪珪曹社製、K3号)213kgを3
00リットル攪拌槽に仕込み、常温にて攪拌下、48%
NaOH(東ソー社製)61kg及びCa(OH)
2 (土佐石灰社製)26.2kgを投入した。このとき
槽内温度は48%NaOHの溶解熱により58℃まで上
昇した。3時間攪拌した後、含水率55wt%の白濁ス
ラリーを得た。
Example 1 Three 213 kg of No. 3 water glass (K3, made by Osaka Silica Co., Ltd.)
Charge in a 00 liter stirring tank and stir at room temperature for 48%
61 kg of NaOH (manufactured by Tosoh Corporation) and Ca (OH)
2 (made by Tosa Lime Company) 26.2 kg was added. At this time, the temperature in the tank rose to 58 ° C. due to the heat of dissolution of 48% NaOH. After stirring for 3 hours, a cloudy slurry having a water content of 55 wt% was obtained.

【0030】含水率55wt%の白濁スラリーのうち、
240kgをそのまま噴霧乾燥塔(大川原化工機社製、
2.2mφ×5.4mH)に投入し、送風温度260
℃、排風温度115℃の条件で噴霧乾燥を行ったとこ
ろ、含水率20wt%、平均粒子径297μm、嵩比重
0.5kg/リットルの乾燥粉108kgを得た。この
うちの5kgをバッチ式流動層(栗本鐵工所製、250
mmφ)に投入し、流動層入口の熱風温度を2時間で2
00℃まで上げた後、200℃で3時間保持し、その後
さらに1時間で350℃に上げて350℃で5時間保持
し、自然冷却してから粉末を取り出したところ、含水率
0.6wt%、平均粒子径350μm、嵩比重0.4k
g/リットルの無定形珪酸化合物の粉末3.1kgを得
た。
Of the white turbid slurry having a water content of 55 wt%,
240 kg as it is spray drying tower (Okawara Kakoki Co.,
2.2 mφ x 5.4 mH), and the blowing temperature is 260
When spray drying was performed under the conditions of ℃ and exhaust air temperature of 115 ° C., 108 kg of dry powder having a water content of 20 wt%, an average particle diameter of 297 μm and a bulk specific gravity of 0.5 kg / liter was obtained. 5 kg of this was batch type fluidized bed (Kurimoto Iron Works, 250
mmφ), and the hot air temperature at the fluidized bed inlet is 2 in 2 hours.
After raising the temperature to 00 ° C, holding at 200 ° C for 3 hours, then raising to 350 ° C for 1 hour and holding at 350 ° C for 5 hours, allowing to cool naturally, and taking out the powder, the water content was 0.6 wt%. , Average particle diameter 350 μm, bulk specific gravity 0.4 k
3.1 kg of g / l of amorphous silicic acid compound powder was obtained.

【0031】これを134mmφ×800Lのロータリ
ーキルン(サンアイ化熱社製)に1kg/時間で投入
し、3rpm、800℃で焼成したところ、内壁への付
着、レトルトの閉塞及び凝集塊の生成はみられず、安定
した操作ができ、焼成物2.9kgが得られた。得られ
た焼成物の含水率は0wt%で、嵩比重は0.26kg
/リットルであった。また得られた焼成物をX線回折装
置にて分析したところ十分に結晶化した珪酸化合物Na
2 O・1.5SiO2 ・0.5CaOであった。
This was put into a 134 mmφ × 800 L rotary kiln (manufactured by San-Ika Heat Co., Ltd.) at 1 kg / hour and fired at 800 rpm at 3 rpm. Adhesion to the inner wall, clogging of the retort and formation of agglomerates were observed. No, stable operation was possible, and 2.9 kg of a baked product was obtained. The water content of the obtained fired product is 0 wt% and the bulk specific gravity is 0.26 kg.
/ Liter. When the obtained calcined product was analyzed by an X-ray diffractometer, the fully crystallized silicate compound Na
It was 2 O · 1.5 SiO 2 · 0.5 CaO.

【0032】実施例2 3号水ガラス(大阪珪曹社製、K3号)100kgを、
実施例1と同じ噴霧乾燥塔において送風温度260℃、
排風温度132℃の条件で乾燥し、含水率10wt%、
平均粒子径297μm、嵩比重0.3kg/リットルの
乾燥粉41kgを得た。このうちの2.0kgをバッチ
式流動層(栗本鐵工所製、250mmφ)に投入し、流
動層入口の熱風温度を5時間で320℃まで上げた後、
320℃で2時間保持し、サンプリングしたところ、含
水率0.9wt%、平均粒子径350μm、嵩比重0.
4kg/リットルの無定形珪酸化合物の粉末であった。
そこでこのまま流動層の温度を1時間で700℃まで上
げ、700℃、3時間で焼成したところ、内壁への付
着、凝集塊の生成はなく、安定した流動状態で焼成で
き、1.6kgの焼成物が得られた。得られた焼成物の
含水率は0wt%で、嵩比重は0.21kg/リットル
であった。また得られた焼成物をX線回折装置にて分析
したところ、十分に結晶化した珪酸化合物Na2 O・
3.1SiO2 であった。
Example 2 100 kg of No. 3 water glass (K3, made by Osaka Silica Co., Ltd.)
In the same spray drying tower as in Example 1, the blast temperature was 260 ° C,
Drying under the condition of exhaust air temperature 132 ℃, water content 10wt%,
41 kg of dry powder having an average particle diameter of 297 μm and a bulk specific gravity of 0.3 kg / liter was obtained. 2.0 kg of this was put into a batch type fluidized bed (manufactured by Kurimoto, 250 mmφ), and the hot air temperature at the inlet of the fluidized bed was raised to 320 ° C. in 5 hours.
When the sample was kept at 320 ° C. for 2 hours and sampled, the water content was 0.9 wt%, the average particle size was 350 μm, and the bulk specific gravity was 0.
The powder was 4 kg / liter of an amorphous silicic acid compound.
Therefore, when the temperature of the fluidized bed was raised to 700 ° C. for 1 hour and calcined at 700 ° C. for 3 hours as it was, there was no adhesion to the inner wall and formation of agglomerates, and it could be calcined in a stable fluid state. The thing was obtained. The fired product thus obtained had a water content of 0 wt% and a bulk specific gravity of 0.21 kg / liter. When the obtained calcined product was analyzed by an X-ray diffractometer, it was found to be a fully crystallized silicic acid compound Na 2 O.
It was 3.1 SiO 2 .

【0033】実施例3 3号水ガラス(大阪珪曹社製、K3号)262kgを3
00リットル攪拌槽に仕込み、常温にて攪拌下48%N
aOH(東ソー)38.5kgを投入した。このとき槽
内温度は48%NaOHの溶解熱により52℃まで上昇
した。30分攪拌した後に100kgを噴霧乾燥にかけ
た。噴霧乾燥塔は実施例1と同じものを用い、送風温度
260℃、排風温度119℃の条件で行ったところ、含
水率17wt%、平均粒子径149μm、嵩比重0.6
0kg/リットルの乾燥粉33kgを得た。
Example 3 3 parts of 262 kg of No. 3 water glass (K3, made by Osaka Silica Co., Ltd.)
Charge to a 00 liter stirring tank and stir at room temperature with 48% N
38.5 kg of aOH (Tosoh) was added. At this time, the temperature in the tank rose to 52 ° C. due to the heat of dissolution of 48% NaOH. After stirring for 30 minutes, 100 kg was subjected to spray drying. The same spray-drying tower as in Example 1 was used, and the conditions were such that the air temperature was 260 ° C and the air temperature was 119 ° C. Water content was 17 wt%, average particle diameter was 149 μm, and bulk specific gravity was 0.6.
33 kg of 0 kg / l dry powder was obtained.

【0034】このうちの30kgを棚乾燥機に仕込み、
1時間で220℃まで上げて220℃で18時間保持し
た後、自然放冷させて含水率1.2wt%、平均粒子径
149μm、嵩比重0.63kg/リットルの乾燥粉2
5kgを得た。この全量を134mmφ×800Lのロ
ータリーキルン(サンアイ化熱社製)に0.9kg/時
間で投入し、3rpm、700℃で焼成したところ、粒
子は体積で約1.3倍に膨張したが、内壁への付着、レ
トルトの閉塞及び凝集塊の生成はみられず、安定した操
作ができ、焼成物24kgが得られた。得られた焼成物
の含水率は0wt%で、嵩比重は0.40kg/リット
ルであった。また得られた焼成物をX線回折装置にて分
析したところ十分に結晶化した珪酸化合物Na2 O・2
SiO2 であった。
30 kg of this was charged into a shelf dryer,
Dry powder 2 having a water content of 1.2 wt%, an average particle diameter of 149 μm, and a bulk specific gravity of 0.63 kg / liter after being raised to 220 ° C. in 1 hour and kept at 220 ° C. for 18 hours.
5 kg was obtained. This whole amount was put into a rotary kiln (manufactured by San-Ika Kabushiki Kaisha) of 134 mmφ × 800 L at 0.9 kg / hour and baked at 3 rpm and 700 ° C., but the particles expanded by about 1.3 times in volume, but to the inner wall No deposits, clogging of the retort and formation of agglomerates were observed, stable operation was possible, and 24 kg of a baked product was obtained. The water content of the obtained fired product was 0 wt% and the bulk specific gravity was 0.40 kg / liter. When the obtained calcined product was analyzed by an X-ray diffractometer, the crystallized silicate compound Na 2 O.2 was sufficiently crystallized.
It was SiO 2 .

【0035】比較例1 実施例1において得られた噴霧乾燥粉(含水率20wt
%、平均粒子径297μm、嵩比重0.5kg/リット
ル)のうちの5kgをバッチ式流動層(栗本鐵工所製、
250mmφ)に投入し、流動層入口の熱風温度を2時
間で150℃まで上げた後、150℃で4時間保持し、
自然冷却してから粉末を取り出したところ、含水率2.
1wt%、平均粒子径350μm、嵩比重0.5kg/
リットルの無定形珪酸化合物の粉末3.3kgを得た。
この粉末を134mmφ×800Lのロータリーキルン
(サンアイ化熱社製)に1kg/時間で投入し、3rp
m、800℃で焼成したが、投入後15分で粒子の膨張
及び凝集、内壁への付着によるレトルトの閉塞が起こ
り、焼成を中止した。
Comparative Example 1 Spray-dried powder obtained in Example 1 (water content 20 wt
%, An average particle diameter of 297 μm, and a bulk specific gravity of 0.5 kg / liter, 5 kg of which is a batch type fluidized bed (manufactured by Kurimoto)
250 mmφ), the temperature of the hot air at the inlet of the fluidized bed was raised to 150 ° C. in 2 hours, and then maintained at 150 ° C. for 4 hours,
When the powder was taken out after natural cooling, the water content was 2.
1 wt%, average particle diameter 350 μm, bulk specific gravity 0.5 kg /
3.3 kg of amorphous silicic acid compound powder was obtained.
This powder is put into a rotary kiln (manufactured by San-Ika Heat Co., Ltd.) of 134 mmφ × 800 L at 1 kg / hour and 3 rp.
Although it was baked at 800 ° C. for 15 minutes, the particles were expanded and aggregated and the retort was clogged due to adhesion to the inner wall 15 minutes after the addition, so the baking was stopped.

【0036】比較例2 実施例2において得られた噴霧乾燥粉(含水率10wt
%、平均粒子径297μm、嵩比重0.3kg/リット
ル)0.4kgを、実施例2の流動層に仕込んだ後、流
動層に吹き込む熱風の温度を100℃/時間で昇温した
が、熱風の温度が400℃に到達した時点で粉が凝集
し、流動が停止した。
Comparative Example 2 Spray-dried powder obtained in Example 2 (water content: 10 wt
%, Average particle diameter 297 μm, bulk specific gravity 0.3 kg / liter) 0.4 kg were charged in the fluidized bed of Example 2, and then the temperature of the hot air blown into the fluidized bed was raised at 100 ° C./hour. When the temperature reached 400 ° C., the powder agglomerated and the flow stopped.

【0037】比較例3 実施例3において得られた噴霧乾燥粉(含水率17wt
%、平均粒子径149μm、嵩比重0.6kg/リット
ル)を、そのまま134mmφ×800Lのロータリー
キルン(サンアイ化熱社製)に0.5kg/時間で投入
し、3rpm、700℃で焼成したが、投入後10分で
粒子の膨張及び凝集、内壁への付着によるレトルトの閉
塞が起こり、焼成を中止した。
Comparative Example 3 Spray-dried powder obtained in Example 3 (water content: 17 wt
%, Average particle diameter 149 μm, bulk specific gravity 0.6 kg / liter) were charged as they were into a 134 mmφ × 800 L rotary kiln (manufactured by San-Ika Heat Co., Ltd.) at 0.5 kg / hour, and baked at 3 rpm and 700 ° C. After 10 minutes, expansion and aggregation of particles and clogging of the retort due to adhesion to the inner wall occurred, and firing was stopped.

【0038】比較例4 3号水ガラス(大阪珪曹社製、K3号)262kgを3
00リットル攪拌槽に仕込み、常温にて攪拌下48%N
aOH(東ソー)38.5kgを投入した。このとき槽
内温度は48%NaOHの溶解熱により52℃まで上昇
した。30分攪拌した後に100kgを噴霧乾燥にかけ
た。噴霧乾燥塔は実施例1と同じものを用い、送風温度
260℃、排風温度119℃の条件で行ったところ、含
水率17wt%WB、平均粒子径149μm、嵩比重
0.60kg/リットルの乾燥粉33kgを得た。
Comparative Example 4 3 parts of 262 kg of No. 3 water glass (K3, made by Osaka Silica Co., Ltd.)
Charge to a 00 liter stirring tank and stir at room temperature with 48% N
38.5 kg of aOH (Tosoh) was added. At this time, the temperature in the tank rose to 52 ° C. due to the heat of dissolution of 48% NaOH. After stirring for 30 minutes, 100 kg was subjected to spray drying. The same spray-drying tower as in Example 1 was used, and the drying was carried out under the conditions of a blast temperature of 260 ° C. and an exhaust air temperature of 119 ° C., and a water content of 17 wt% WB, an average particle diameter of 149 μm, and a bulk specific gravity of 0.60 kg / liter 33 kg of powder was obtained.

【0039】このうちの30kgを棚乾燥機に仕込み、
1時間で220℃まで上げて220℃で12時間保持し
た後、自然放冷させて含水率1.4wt%、平均粒子径
149μm、嵩比重0.63kg/リットルの乾燥粉2
5kgを得た。この全量を134mmφ×800Lのロ
ータリーキルン(サンアイ化熱社製)に0.9kg/時
間で投入し、3rpm、700℃で焼成したところ、投
入開始後3時間目より30mm〜40mmの凝集物の生
成及び壁付着が発生し始め、投入開始後7時間目で70
〜80mmの凝集物が出口部で詰まり、実験を中止せざ
るを得なかった。
30 kg of this was charged into a shelf dryer,
Dry powder 2 having a water content of 1.4 wt%, an average particle size of 149 μm, and a bulk specific gravity of 0.63 kg / liter after being raised to 220 ° C. in 1 hour and kept at 220 ° C. for 12 hours.
5 kg was obtained. The whole amount was put into a rotary kiln of 134 mmφ × 800 L (manufactured by San-Ika Kabushiki Kaisha) at 0.9 kg / hour and fired at 3 rpm at 700 ° C., and from the third hour after the start of feeding, formation of aggregates of 30 mm to 40 mm and Adhesion to the wall begins to occur, and 70 hours after 7 hours from the start of charging.
Aggregates of -80 mm were clogged at the outlet and forced to stop the experiment.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明によれば、従来法のように焼成物
を還流させることなく、焼成時に珪酸化合物の粒子同士
の凝集による凝集塊の生成及び焼成装置内壁への付着物
層の生成が起こらず、安定した状態で結晶性珪酸化合物
を製造することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to generate agglomerates due to agglomeration of particles of a silicic acid compound during firing and to form a deposit layer on the inner wall of a firing device without refluxing the fired product as in the conventional method. The crystalline silicic acid compound can be produced in a stable state without causing this.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松下 芳 和歌山県和歌山市弘西674−66 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Yoshi Matsushita 674-66 Hironishi, Wakayama, Wakayama Prefecture

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 含水率1.2wt%(湿量基準)以下の
粉末状の無定形珪酸化合物を焼成することを特徴とする
結晶性珪酸化合物の製造方法。
1. A method for producing a crystalline silicic acid compound, which comprises firing a powdery amorphous silicic acid compound having a water content of 1.2 wt% (wet amount basis) or less.
【請求項2】 結晶性珪酸化合物を製造する方法におい
て、含水率28wt%(湿量基準)以上95wt%(湿
量基準)未満の珪酸化合物溶液を乾燥して含水率1.2
wt%(湿量基準)以下の粉末状の無定形珪酸化合物と
し、次いで該無定形珪酸化合物を焼成することを特徴と
する結晶性珪酸化合物の製造方法。
2. A method for producing a crystalline silicic acid compound, wherein a silicic acid compound solution having a water content of 28 wt% (wet amount basis) or more and less than 95 wt% (wet amount basis) is dried to obtain a water content of 1.2.
A method for producing a crystalline silicic acid compound, comprising: forming a powdery amorphous silicic acid compound in an amount of wt% (wet basis) or less and then calcining the amorphous silicic acid compound.
【請求項3】 含水率が0.05〜0.9wt%(湿量
基準)である請求項1または2記載の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the water content is 0.05 to 0.9 wt% (based on the amount of moisture).
【請求項4】 生成する結晶性珪酸化合物が、一般式x
2 O・ySiO2・zM’O(但し、MはNa及び/
又はKを示し、M’はCa及び/又はMgを示し、y/
x=0.5〜3.5、z/x=0〜1.0である。)で
表される化合物である請求項1、2、又は3記載の製造
方法。
4. The crystalline silicic acid compound produced is represented by the general formula x
M 2 O · ySiO 2 · zM′O (where M is Na and /
Or K, M'represents Ca and / or Mg, y /
x = 0.5 to 3.5 and z / x = 0 to 1.0. The manufacturing method of Claim 1, 2 or 3 which is a compound represented by these.
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