JPH07239448A - Laser survey instrument - Google Patents

Laser survey instrument

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JPH07239448A
JPH07239448A JP3113494A JP3113494A JPH07239448A JP H07239448 A JPH07239448 A JP H07239448A JP 3113494 A JP3113494 A JP 3113494A JP 3113494 A JP3113494 A JP 3113494A JP H07239448 A JPH07239448 A JP H07239448A
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JP
Japan
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laser
filter
beam spot
semiconductor laser
elliptical
Prior art date
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Application number
JP3113494A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Enomoto
芳幸 榎本
Fumio Otomo
文夫 大友
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Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
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Publication of JPH07239448A publication Critical patent/JPH07239448A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a laser survey instrument which is capable of efficiently carrying out a positioning operation to be surveyed with high accuracy and does not increase the size over the entire part of the instrument by shaping an elliptical laser spot of a semiconductor laser to a nearly circular shape while preventing a decrease of light quantity as far as possible. CONSTITUTION:This laser survey instrument uses the semiconductor laser as a light source and has an amplification filter 1 for shaping the beam spot of the laser luminous flux emitted from the semiconductor laser. This amplitude filter 1 is set at the degree of transmission which is smaller as the filter 1 parts from the center of the elliptical beam spot of the laser luminous flux toward the major axis direction of the elliptical shape. In addition, the degree of transmission is approximately constant in the minor axis direction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザを光源と
し、該半導体レーザから出射したレーザ光束のビームス
ポットを整形するための光学フィルタを有するレーザ測
量器械に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser surveying instrument having a semiconductor laser as a light source and having an optical filter for shaping a beam spot of a laser beam emitted from the semiconductor laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、測量対象へ向けてレーザ光束
を出射させ、その測量対象におけるレーザ光束の到達位
置を検出して水準測量等を行うように構成したレーザ測
量器械が知られている。このようなレーザ測量器械のレ
ーザ光源としては、ヘリウムネオンレーザ等の気体レー
ザが主に用いられていたが、最近は小型軽量な半導体レ
ーザが用いられることが多い。一般的なストライプ構造
の半導体レーザのうち代表的なものは、ストライブ型二
重ヘテロ接合型半導体レーザがある。ストライブ型二重
ヘテロ接合型半導体レーザの構造は、図6に示すよう
に、正電極31、前縁層32、キャップ層33、クラッ
ド層34、活性層35及び発光面36、基板結晶37、
負電極38を順次積み重ねてなる。上記活性層35及び
発光面36は、ストライプ状すなわち帯状の断面の発光
面36の部分のみに電流が流れるような構造となってい
る。活性層35の厚さは1μm以下と非常に薄く、また
発光面35の幅は横モードの単一化のために通常10〜
20μm程度である。このため、上述した半導体レーザ
の発光面36の形状は長方形となり、該半導体レーザか
ら出射するレーザ光束の遠視野像すなわちビームスポッ
トは一般的に楕円形となる。なお、上記各層の接合面と
垂直な方向の横モードを垂直横モードといい、接合面と
平行な方向の横モードを水平横モードと定義する。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is known a laser surveying instrument configured to emit a laser beam toward a surveyed object, detect the arrival position of the laser beam on the surveyed object, and perform leveling or the like. A gas laser such as a helium neon laser has been mainly used as a laser light source of such a laser surveying instrument, but recently, a small and lightweight semiconductor laser is often used. A typical example of a semiconductor laser having a general stripe structure is a stripe type double heterojunction type semiconductor laser. As shown in FIG. 6, the structure of the stripe type double heterojunction semiconductor laser has a positive electrode 31, a leading edge layer 32, a cap layer 33, a clad layer 34, an active layer 35 and a light emitting surface 36, a substrate crystal 37,
The negative electrodes 38 are sequentially stacked. The active layer 35 and the light emitting surface 36 have a structure in which a current flows only in the portion of the light emitting surface 36 having a striped or band-shaped cross section. The thickness of the active layer 35 is very thin, 1 μm or less, and the width of the light emitting surface 35 is usually 10 to unify the transverse mode.
It is about 20 μm. For this reason, the light emitting surface 36 of the semiconductor laser described above has a rectangular shape, and the far-field pattern of the laser beam emitted from the semiconductor laser, that is, the beam spot, is generally elliptical. The transverse mode in the direction perpendicular to the joint surface of each layer is called the vertical transverse mode, and the transverse mode in the direction parallel to the joint surface is defined as the horizontal transverse mode.

【0003】レーザ測量器械においては、気体レーザ、
半導体レーザのどちらの光源を用いる場合でも、位置決
め精度の観点からビームスポットを小さくすることが要
求される。ビームスポットを小さくするために光束を絞
る場合には、一般に「絞り」が用いられる。しかし、絞
りとして開口部全体の透過度が均一であるフィルタを用
いると、遠方において干渉縞が発生し、位置決め作業が
困難となる。そのため、2次以上の干渉縞のエネルギー
を減少または抑制する、いわゆるアポディゼーションを
行うために、中心の透過度が大きく、透過度が中心から
離れるにしたがって小さくなる光束絞り用のアポディゼ
ーションフィルタを用いる手法が知られている。気体レ
ーザが光源とされている場合には、ビームスポットは円
形であるから、この手法により光束がある程度小さくな
れば位置決め作業を高精度に行うことができる。しか
し、上述したように半導体レーザのビームスポットは一
般的に楕円形である。この楕円形のビームスポットを整
形する場合、上記のような円形の透過度分布を持つアポ
ディゼーションフィルタを用いてもよいが、この場合に
は、円形に近い形に整形しようとすると、透過する光量
を大きく低下させてしまうという不合理がある。
In laser survey instruments, gas lasers,
Regardless of which light source of the semiconductor laser is used, it is required to reduce the beam spot from the viewpoint of positioning accuracy. When narrowing the light beam in order to reduce the beam spot, a “stop” is generally used. However, if a filter having a uniform transmittance over the entire aperture is used as the diaphragm, interference fringes are generated at a distance, which makes positioning work difficult. Therefore, in order to perform so-called apodization, which reduces or suppresses the energy of the interference fringes of the second or higher order, the apodization filter for the light beam diaphragm has a large central transmittance and becomes smaller as the distance from the center decreases. A method using is known. When the gas laser is used as the light source, the beam spot has a circular shape. Therefore, if the luminous flux is reduced to some extent by this method, the positioning work can be performed with high accuracy. However, as described above, the beam spot of the semiconductor laser is generally elliptical. When shaping this elliptical beam spot, an apodization filter having a circular transmittance distribution as described above may be used, but in this case, when shaping it into a shape close to a circle, it is transmitted. There is an absurdity that the amount of light is greatly reduced.

【0004】図4は、楕円形状のビームスポットを、一
定の大きさの円形アポディゼーションフィルタを用いて
整形した場合の整形状態すなわち真円率を示している。
ρ0は、整形前のビームスポットの形状を表す値であ
り、例えばρ0 =5とは、整形前のビームの長径が短径
の5倍であることを示している。縦軸は、ビームスポッ
トの整形状態すなわち整形後のビームスポットの垂直横
モード方向Vのビーム径と水平横モード方向Hのビーム
径の比である真円率ρを示す。横軸は、円形フィルタの
濃度分布の1/e2 以上の部分の直径と整形前のビーム
スポットの水平横モード方向のビーム径との比を示すP
x を表している。すなわち、 Px =フィルタの濃度分布の1/e2 以上の部分の直径
/整形前のビームスポットの水平横モード方向のビーム
径 である。例えば、Px =1は、整形前のビームスポット
の水平横モード方向Hのビーム径が、フィルタの濃度分
布の1/e2 以上の部分の直径と等しい場合である。図
4から理解できるように、Px =1としても、真円率ρ
は1.3前後になり、ρ=1とはならない。また、Px を
0に近い値とした場合には真円率は1に近い値となる
が、フィルタの濃度分布の1/e2 以上の部分の直径
が、整形前のビームスポットの水平横モード方向Hのビ
ーム径よりも小さくなるため、光量が大きく減少する。
FIG. 4 shows the shaping state, that is, the roundness, when an elliptical beam spot is shaped using a circular apodization filter of a certain size.
ρ 0 is a value representing the shape of the beam spot before shaping. For example, ρ 0 = 5 indicates that the major axis of the beam before shaping is 5 times the minor axis. The vertical axis represents the roundness ρ, which is the ratio of the beam diameter in the vertical transverse mode direction V to the beam diameter in the horizontal transverse mode direction H of the shaped beam spot, that is, the shaped beam spot. The horizontal axis represents the ratio of the diameter of the portion of 1 / e 2 or more of the density distribution of the circular filter to the beam diameter of the beam spot before shaping in the horizontal transverse mode direction P
represents x. That is, Px = diameter of a portion of 1 / e 2 or more of the density distribution of the filter / beam diameter of the beam spot before shaping in the horizontal transverse mode direction. For example, Px = 1 is the case where the beam diameter of the beam spot before shaping in the horizontal transverse mode direction H is equal to the diameter of the portion of 1 / e 2 or more of the density distribution of the filter. As can be understood from FIG. 4, even if Px = 1, the circularity ρ
Is about 1.3, and ρ = 1 is not established. Further, when Px is set to a value close to 0, the circularity becomes a value close to 1, but the diameter of 1 / e 2 or more of the density distribution of the filter is the horizontal transverse mode of the beam spot before shaping. Since the beam diameter is smaller than the beam diameter in the direction H, the light amount is greatly reduced.

【0005】また、公知のアナモルフィック光学系、す
なわち像面上で水平方向と垂直方向の投影倍率が異なる
光学系を使用すれば、楕円形のビームスポットを円形の
ビームスポットに整形することができる。しかし、該ア
ナモルフィック光学系は測量器械全体を大型化するとい
う難点がある。
If a known anamorphic optical system, that is, an optical system having different projection magnifications in the horizontal and vertical directions on the image plane is used, an elliptical beam spot can be shaped into a circular beam spot. it can. However, the anamorphic optical system has a drawback that the whole surveying instrument is enlarged.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、光量の低下
を極力防止しながら、半導体レーザの楕円形のレーザス
ポットを円形に近い形状に整形することにより、測量対
象の位置決め作業を高精度かつ効率的に行うことがで
き、かつ器械全体を大型化させることのないレーザ測量
器械を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention shapes the elliptical laser spot of a semiconductor laser into a shape close to a circle while preventing a decrease in the amount of light as much as possible, thereby positioning the surveying object with high accuracy. An object of the present invention is to provide a laser surveying instrument that can be efficiently performed and does not increase the size of the entire instrument.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記のような技
術上の課題に鑑みなされたものである。本発明は、半導
体レーザを光源とし、該半導体レーザから出射したレー
ザ光束のビームスポットを整形するための振幅フィルタ
を有するレーザ測量器械において、前記振幅フィルタ
は、レーザ光束の楕円形のビームスポットの中心から楕
円形の長軸方向に離れるに従って透過度が小さくされて
おり、かつ、短軸方向では透過度は略一定であることを
特徴とするレーザ測量器械である。本発明の実施態様の
一つは、前記振幅フィルタの透過度分布が、ほぼガウス
分布である。
The present invention has been made in view of the above technical problems. The present invention provides a laser surveying instrument having a semiconductor laser as a light source and an amplitude filter for shaping a beam spot of a laser beam emitted from the semiconductor laser, wherein the amplitude filter is a center of an elliptical beam spot of the laser beam. The laser surveying instrument is characterized in that the transmittance decreases with increasing distance from the ellipse in the major axis direction, and the transmittance is substantially constant in the minor axis direction. According to one embodiment of the present invention, the transmittance distribution of the amplitude filter is approximately Gaussian.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例を図に基づいて説明す
る。図1の右側は、振幅フィルタ1の説明用の平面図で
ある。振幅フィルタ1は、図1の左側の透過度グラフ図
に示すように、透過度が、その中心から垂直横モード方
向Vへ離れるにしたがって減少する。水平横モード方向
Hの透過度は、一定である。以下において、このような
振幅フィルタを一次元フィルタと呼び、一方同一円周上
は同一の透過率を有していて円形の透過度分布を持つ従
来のフィルタを円形フィルタと呼ぶ。振幅フィルタ1の
透過度分布は、入射するレーザ光の垂直横モード方向V
の強度分布の状態によって決められる。幾何光学的に考
察すれば、振幅フィルタ1に入射するレーザ光束の垂直
横モード方向Vの強度分布と、一次元フィルタの透過度
分布とを掛け合わせた値が、垂直横モード方向Vの光強
度分布となる。従って、振幅フィルタ1の透過度分布
は、透過光の垂直横モード方向Vの光強度分布がガウス
分布またはこれに近似することが好ましい。実用的に
は、振幅フィルタ1の直径が、入射するレーザ光のビー
ムスポットの楕円形の長径に比して十分に小さい場合に
は、入射レーザ光束の強度分布は一定と見なして差支え
なく、振幅フィルタの垂直横モード方向Vの透過度分布
はガウス分布とすることが多い。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The right side of FIG. 1 is a plan view for explaining the amplitude filter 1. In the amplitude filter 1, as shown in the transparency graph on the left side of FIG. 1, the transparency decreases as the distance from the center in the vertical transverse mode direction V increases. The transmittance in the horizontal transverse mode direction H is constant. In the following, such an amplitude filter is called a one-dimensional filter, while a conventional filter having the same transmittance on the same circumference and a circular transmittance distribution is called a circular filter. The transmittance distribution of the amplitude filter 1 has a vertical transverse mode direction V of incident laser light.
Is determined by the state of the intensity distribution of. From a geometrical optics perspective, the value obtained by multiplying the intensity distribution of the laser light flux incident on the amplitude filter 1 in the vertical transverse mode direction V by the transmittance distribution of the one-dimensional filter is the light intensity in the vertical transverse mode direction V. Distribution. Therefore, the transmittance distribution of the amplitude filter 1 is preferably such that the light intensity distribution of the transmitted light in the vertical transverse mode direction V is a Gaussian distribution or a approximation thereof. Practically, when the diameter of the amplitude filter 1 is sufficiently smaller than the elliptical major axis of the beam spot of the incident laser light, the intensity distribution of the incident laser light flux can be regarded as constant and the amplitude can be regarded as being constant. The transmittance distribution in the vertical transverse mode direction V of the filter is often a Gaussian distribution.

【0009】一方、振幅フィルタ1の横幅は、レーザ光
束の水平横モード方向Hの径よりも大きくする。その理
由は、振幅フィルタ1の横幅がレーザ光束の水平横モー
ド方向Hの径よりも小さいと、その方向において干渉縞
が発生するからである。次に、円形フィルタを用いてビ
ームスポットを整形する場合と、一次元フィルタを用い
てビームスポットを整形する場合とを比較説明する。振幅フィルタ1が円形フィルタである場合 図2に示すように、楕円形のビームスポットの中心の光
の強度の1/e2 以上の部分の長半径をωOY、短半径を
ωOXとし、円形フィルタの透過度が1/e2 以上の部分
の半径をωf とすると、楕円形のビームスポットにおい
て、長径の垂直横モード方向V(y方向)の強度分布、
短径の水平横モード方向H(x方向)の強度分布はそれ
ぞれ以下の式で表される。 長径方向 ωOY=IO exp{−2(y/ωOY2 } 短径方向 ωOX=IO exp{−2(x/ωOX2 } となる。また、比較のための円形フィルタの透過度分布
はガウス分布であり、 IF =exp{−2(r/ωF 2 } と表される。ただし、rはフィルタの中心からの距離で
ある。
On the other hand, the lateral width of the amplitude filter 1 is made larger than the diameter of the laser beam in the horizontal transverse mode direction H. The reason is that if the width of the amplitude filter 1 is smaller than the diameter of the laser beam in the horizontal transverse mode direction H, interference fringes are generated in that direction. Next, a case where a beam spot is shaped using a circular filter and a case where a beam spot is shaped using a one-dimensional filter will be described in comparison. When the amplitude filter 1 is a circular filter, as shown in FIG. 2, the long radius of a portion of 1 / e 2 or more of the light intensity at the center of the elliptical beam spot is ω OY , and the short radius is ω OX. If the radius of the portion where the filter transmittance is 1 / e 2 or more is ω f , the intensity distribution in the vertical transverse mode direction V (y direction) of the major axis in the elliptical beam spot,
The intensity distribution in the horizontal transverse mode direction H (x direction) of the minor axis is represented by the following equations. Major axis direction ω OY = I O exp {-2 (y / ω OY ) 2 } Minor axis direction ω OX = I O exp {-2 (x / ω OX ) 2 }. In addition, the transmittance distribution of the circular filter for comparison is a Gaussian distribution and is expressed as I F = exp {−2 (r / ω F ) 2 }. However, r is the distance from the center of the filter.

【0010】従って、フィルム通過後のビーム分布は近
似的に次式で表わされる。 長径方向 IY =IO exp{−2(y/ωOY2 }・exp{−2(y/ωF )2} =IO exp{−2(y/ωY 2 } …… 短径方向 IX =IO exp{−2(x/ωOX2 }・exp{−2(x/ωF )2} =IO exp{−2(y/ωX 2 } …… 但し、ωY 、ωX は円形フィルタ通過後のビームスポッ
トの長半径、短半径であり、式、式より次式で表さ
れる。 ωY =√ωOY 2ωF 2 /2×((ωOY 2+ωF 2 ) …… ωX =√ωOY 2ωF 2 /2×(ωOX 2+ωF 2 ) …… 円形フィルタを通過する前のビームスポットの真円率を
ρO=ωOY/ωOX、フィルタを通過した後のビームスポ
ットの真円率をρ=ωY /ωX とすると、 ρ=ωY /ωX =ρO √(1+Px2 )/(ρO 2+Px2 ) …… ただし、Px=ωF/ωOXであり、整形前のレーザビー
ムの水平横モードの方向の半径と、フィルタの濃度が中
心の濃度の1/e2 以上の部分の半径の比を表してい
る。例えば、Px=1の場合とは、図5の左側に示すよ
うな入射状態であり、Px=4の場合は、図5の右側に
示すような入射状態である。
Therefore, the beam distribution after passing through the film is approximately represented by the following equation. Longitudinal direction I Y = I O exp {-2 (y / ω OY ) 2 } · exp {-2 (y / ω F ) 2 } = I O exp {-2 (y / ω Y ) 2 } …… Short Radial direction I X = I O exp {-2 (x / ω OX ) 2 } · exp {-2 (x / ω F ) 2 } = I O exp {-2 (y / ω X ) 2 } ... , Ω Y , and ω X are the major and minor radii of the beam spot after passing through the circular filter, and are expressed by the following equation from the equation. ω Y = √ω OY 2 ω F 2/2 × ( the (ω OY 2 + ω F 2 ) ...... ω X = √ω OY 2 ω F 2/2 × (ω OX 2 + ω F 2) ...... round filter If the roundness of the beam spot before passing is ρ O = ω OY / ω OX , and the roundness of the beam spot after passing the filter is ρ = ω Y / ω X , then ρ = ω Y / ω X = Ρ O √ (1 + Px 2 ) / (ρ O 2 + Px 2 ), where Px = ω F / ω OX , and the radius in the horizontal transverse mode direction of the laser beam before shaping and the density of the filter are central. Represents the ratio of the radii of a portion of 1 / e 2 or more of the density of P. For example, the case of Px = 1 is the incident state as shown on the left side of FIG. The incident state is as shown on the right side of FIG.

【0011】振幅フィルタ1が一次元フィルタである場
本発明の実施例の一次元フィルタの透過度分布は、長径
の垂直横モード方向V(y方向)の透過度は上記円形フ
ィルタと同じであり、短径の水平横モード方向H(x方
向)の透過度は一定である。従って、一次元フィルタを
通過した後のビームの強度分布は次式のようになる。便
宜上、IOX=IO=1とすると、 長径方向 IY =exp{−2(y/ωOY2 }・exp{−
2(y/ωf )2} =e × p{−2(y/ωY2 } 短径方向 IX =IOexp{−2(x/ωOX2 }・IOX
=exp{−2(x/ωX )2} 従って、 ωY =√ωOY 2ωF 2 /2×(ωOY 2+ωF 2 ) ωX =ωOX ∴ ρ=ωY /ωX =ρO ×√PX/(ρO 2+PX 2 ) …… 図3は、横軸にPX ,縦軸にρを表し、ρO=4の場合
の式、式を示す。実線は円形フィルタを用いた場合
であり、点線は一次元のフィルタを用いた場合である。
If the amplitude filter 1 is a one-dimensional filter,
Permeability distribution of one-dimensional filters of Examples of coupling the invention, permeability of the major axis of the vertical transverse mode direction V (y-direction) is the same as the circular filter, horizontal transverse mode direction H (x direction of the short diameter ) Has a constant transparency. Therefore, the intensity distribution of the beam after passing through the one-dimensional filter is as follows. For the sake of convenience, if I OX = I O = 1 then the major axis direction I Y = exp {-2 (y / ω OY ) 2 } exp {-
2 (y / ω f ) 2 } = e × p {−2 (y / ω Y ) 2 } minor axis direction IX = I O exp {−2 (x / ω OX ) 2 } · I OX
= Exp {-2 (x / ω X) 2} Therefore, ω Y = √ω OY 2 ω F 2/2 × (ω OY 2 + ω F 2) ω X = ω OX ∴ ρ = ω Y / ω X = ρ O × √P X / (ρ O 2 + P X 2 ) ... FIG. 3 shows P X on the horizontal axis and ρ on the vertical axis, and shows the equations and expressions when ρ O = 4. The solid line shows the case where a circular filter is used, and the dotted line shows the case where a one-dimensional filter is used.

【0012】図3において、Px=1の場合、一次元の
フィルタの場合には、式より真円率ρ=0.97とな
り、ほぼ円形に近い形に整形されたレーザスポットが得
られることになる。一方、円形フィルタの場合には、P
x=1のとき真円率ρは約1.4である。Pxを0に近
い値とした場合には真円率は1に近い値となるが、この
場合は光量が大きく低下してしまう問題がある。従っ
て、一次元フィルタを用いた場合には、円形フィルタを
用いた場合よりも光量が十分高く、かつ十分に整形され
たビームを得ることができる。
In FIG. 3, when Px = 1, in the case of a one-dimensional filter, the circularity ρ = 0.97 is obtained from the equation, and a laser spot shaped into a nearly circular shape can be obtained. Become. On the other hand, in the case of a circular filter, P
The roundness ρ is about 1.4 when x = 1. When Px is set to a value close to 0, the circularity becomes a value close to 1, but in this case, there is a problem that the light amount is greatly reduced. Therefore, when the one-dimensional filter is used, it is possible to obtain a beam with a sufficiently high light quantity and a sufficiently shaped beam as compared with the case where the circular filter is used.

【0013】[0013]

【発明の効果】上述した本発明によれば、光量の低下を
極力防止しながら、半導体レーザの楕円形のレーザスポ
ットを円形に近い形状に整形することができ、測量対象
の位置決め作業を高精度かつ効率的に行うことができ、
かつ器械全体を大型化させることのないレーザ測量器械
を構成することができる。
According to the present invention described above, it is possible to shape the elliptical laser spot of the semiconductor laser into a shape close to a circle while preventing a decrease in the amount of light as much as possible, and it is possible to position the surveying object with high accuracy. And can be done efficiently,
A laser surveying instrument can be constructed without increasing the size of the entire instrument.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例の一次元フィルタの説明図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a one-dimensional filter according to an embodiment of this invention.

【図2】従来の円形フィルタとビームスポットの関係を
示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a relationship between a conventional circular filter and a beam spot.

【図3】本発明の実施例の真円率のグラフ図である。FIG. 3 is a graph of circularity in an example of the present invention.

【図4】従来の円形アポディゼーションフィルタを用い
て整形した場合の整形状態すなわち真円率を示す説明図
である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a shaping state, that is, a roundness when shaping is performed using a conventional circular apodization filter.

【図5】レーザスポットと円形フィルタに寸法関係を示
す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a dimensional relationship between a laser spot and a circular filter.

【図6】半導体レーザの説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of a semiconductor laser.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

V 垂直横モード方向 H 水平横モード方向 1 振幅フィルタ V Vertical transverse mode direction H Horizontal transverse mode direction 1 Amplitude filter

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体レーザを光源とし、該半導体レー
ザから出射したレーザ光束のビームスポットを整形する
ための振幅フィルタを有するレーザ測量器械において、 前記振幅フィルタは、レーザ光束の楕円形のビームスポ
ットの中心から楕円形の長軸方向に離れるに従って透過
度が小さくされており、かつ、短軸方向では透過度は略
一定であることを特徴とするレーザ測量器械。
1. A laser surveying instrument having a semiconductor laser as a light source and having an amplitude filter for shaping a beam spot of a laser beam emitted from the semiconductor laser, wherein the amplitude filter is an elliptical beam spot of the laser beam. A laser surveying instrument, characterized in that the transmittance decreases with increasing distance from the center in the major axis direction of the ellipse, and the transmittance is substantially constant in the minor axis direction.
【請求項2】 前記振幅フィルタの透過度分布は、ほぼ
ガウス分布であることを特徴とする請求項1に記載のレ
ーザ測量器械。
2. The laser surveying instrument according to claim 1, wherein the transmittance distribution of the amplitude filter is approximately Gaussian.
JP3113494A 1994-03-01 1994-03-01 Laser survey instrument Pending JPH07239448A (en)

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JP3113494A JPH07239448A (en) 1994-03-01 1994-03-01 Laser survey instrument

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JP3113494A JPH07239448A (en) 1994-03-01 1994-03-01 Laser survey instrument

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JP (1) JPH07239448A (en)

Cited By (3)

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