JPH07235359A - Method for formation of socket electrode part for inspecting ic package - Google Patents

Method for formation of socket electrode part for inspecting ic package

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JPH07235359A
JPH07235359A JP6022363A JP2236394A JPH07235359A JP H07235359 A JPH07235359 A JP H07235359A JP 6022363 A JP6022363 A JP 6022363A JP 2236394 A JP2236394 A JP 2236394A JP H07235359 A JPH07235359 A JP H07235359A
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electrode portion
copper pattern
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lead
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一典 小谷
Kazuhisa Ozawa
一久 小澤
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    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
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    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4007Surface contacts, e.g. bumps

Abstract

PURPOSE:To provide an electrode part of a socket for use in inspection equipped with a number of edges, with which it is possible to easily crush or exfoliate an oxide film on the surface of a covering solder layer of a lead when it is to be put in pressure contact, perform connection with the lead easily and certainly, and to make proper inspection of circuit. CONSTITUTION:A socket for inspection is provided with a copper pattern or contact pins having an electrode part to be connected with a lead of an IC package so that inspection of circuit can be made upon accommodating the IC package. Only the portion 2a with electrode part is exposed by a masking means, etc., in a copper pattern or contact pin, and the electrode part 14 is formed which has edges in the portion 2a and in which a number of super-hard particles 11 are implanted by electrodeposited metal 13 by complex electric plating means to be conducted by suspending the super-hard particles 11 in a metal plating bath 10. It is further preferable to form in the electrode part 14 with the electroconductivity enhanced by laminating a gilding layer 15.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はIC(集積回路)パッケ
ージを収納して回路検査を行うためのソケットにおける
リードとの電極部の形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming an electrode portion with a lead in a socket for accommodating an IC (integrated circuit) package and performing a circuit inspection.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICはパッケージ後、その端子リードに
プローブを立てて回路検査が行われるが、近年、集積回
路は小形高密度化し、リード数が増加すると共にリード
ピッチが狭くなり、回路検査が行い難くなる傾向にあ
る。このため、回路検査が効率的に行え、また、リード
ピッチを拡大して検査が容易に行えるようにするため、
検査用ソケットが用いられるようになってきている。
2. Description of the Related Art ICs are subjected to circuit inspection by mounting probes on their terminal leads after packaging, but in recent years, integrated circuits have become smaller and higher in density, the number of leads has increased, and the lead pitch has narrowed. It tends to be difficult to do. Therefore, the circuit inspection can be performed efficiently, and the lead pitch can be enlarged to facilitate the inspection.
Inspection sockets are becoming popular.

【0003】この検査用ソケットとしては、図6のよう
に、ヒンジ結合されたソケット本体20とカバー21と
からなるケース体につくられ、絶縁性フィルム1上に形
設された銅パターン2を内装させた検査用ソケットAが
ある。この銅パターン2は、図7のように、絶縁性フィ
ルム1上の中央部に電極部箇所2aを揃え、周辺部に放
射状に延伸し、その外側端部2bにおいて相互間隔が大
となるように、パターン印刷の手法で形成され、枠体2
2に固定保持されている。
As this inspection socket, as shown in FIG. 6, a copper pattern 2 formed inside a case body composed of a socket body 20 and a cover 21 which are hinged to each other and formed on an insulating film 1 is provided. There is the inspection socket A that was made. As shown in FIG. 7, the copper pattern 2 has electrode portions 2a aligned in the central portion on the insulating film 1 and radially extending to the peripheral portion so that the outer end portion 2b has a large mutual interval. The frame 2 formed by the pattern printing method
It is fixedly held at 2.

【0004】この銅パターン2はソケット本体20の所
定中央位置に配設され、弾性体23と押え枠24とで挾
持される形に固定されると共に、各外側端部2bはソケ
ット本体20を貫通するピン25により、検査用ソケッ
トAの外部と導通できるようにされている。
The copper pattern 2 is arranged at a predetermined central position of the socket body 20 and is fixed so as to be held between the elastic body 23 and the holding frame 24, and each outer end 2b penetrates the socket body 20. By means of the pin 25, it is possible to conduct electricity to the outside of the inspection socket A.

【0005】そして、図9に示したような、樹脂封止部
aから多数のリードbを突出するICパッケージCを、
図6の前記ソケット本体20の所定中央位置に収めてカ
バー21を閉じることにより、カバー21の突出する押
圧部21aによりリードbを押圧でき、図10のよう
に、ICパッケージCのリードbを、その被覆はんだ層
cを介して銅パターン2の電極部箇所2aに圧接でき、
前記検査用ソケットAの外部に突出するピン25によ
り、このICパッケージCの回路検査が行えるようにさ
れている。
Then, as shown in FIG. 9, an IC package C having a large number of leads b protruding from the resin sealing portion a is
The lead b can be pressed by the protruding pressing portion 21a of the cover 21 by putting the socket 21 in a predetermined central position in FIG. 6 and closing the cover 21, and as shown in FIG. Through the coating solder layer c, the electrode portion 2a of the copper pattern 2 can be pressed and contacted,
The pin 25 protruding to the outside of the inspection socket A enables the circuit inspection of the IC package C.

【0006】また、検査用ソケットとしては、上記のよ
うな銅パターン2を内装するもののほか、図8のよう
に、弾性のある銅合金でつくられたコンタクトピン26
を内装する検査用ソケットBもある。このコンタクトピ
ン26は上面を平滑にした電極相当部26aと弾性を利
かせる湾曲部26bとソケット本体27への取付部26
cとソケット本体27を貫通して先端を突出させるピン
部26dとを一体にしたものに形成されており、検査し
ようとするICパッケージCのリードピッチと同間隔に
仕切り壁27aを介在して電極相当部26aが並設され
るように取付部26cとピン部26dとでソケット本体
27に圧入嵌合させて固定してある。なお、コンタクト
ピン26は取付部26cにおけるピン部26dの位置を
変えた2種類のものを用意し、ソケット本体27への固
定に際し、ピン部26dの位置が千鳥配置になるように
し、ソケット本体27外部に突出したピン部間間隔を拡
大できるようにしてある。そして、ICパッケージCを
セットしカバー 28を閉じることにより、このカバー
28の押圧部28aでICパッケージCのリードbをコ
ンタクトピン26の電極相当部26aに圧接でき、外部
に突出したピン部26dにより効率的にICパッケージ
Cの回路検査が行えるようになっている。
Further, as the inspection socket, in addition to the one in which the copper pattern 2 as described above is incorporated, as shown in FIG. 8, a contact pin 26 made of an elastic copper alloy is used.
There is also an inspection socket B that has the interior. The contact pin 26 has an electrode-corresponding portion 26a having a smooth upper surface, a curved portion 26b for utilizing elasticity, and a mounting portion 26 to the socket body 27.
c and a pin portion 26d penetrating the socket body 27 and projecting the tip thereof are integrally formed, and an electrode is provided with a partition wall 27a interposed at the same interval as the lead pitch of the IC package C to be inspected. The mounting portion 26c and the pin portion 26d are press-fitted and fixed to the socket body 27 so that the corresponding portions 26a are arranged side by side. Two types of contact pins 26 are prepared in which the positions of the pin portions 26d in the mounting portion 26c are changed, and when fixing to the socket body 27, the positions of the pin portions 26d are arranged in a staggered manner. The space between the pin portions protruding to the outside can be enlarged. Then, by setting the IC package C and closing the cover 28, the lead b of the IC package C can be pressed against the electrode corresponding portion 26a of the contact pin 26 by the pressing portion 28a of the cover 28, and the pin portion 26d protruding to the outside can be used. The circuit of the IC package C can be efficiently inspected.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】なお、ICパッケージ
のリードには金めっきを施されたものもあり、この場合
には、検査用ソケットはその押圧力を適宜に強くし、前
記リードと前記検査用ソケットの電極相当部とを圧着さ
せるだけで十分な接続導通が行われるものであるが、銅
パターンの例を示した図10のように、前記ICパッケ
ージCのリードbに被覆はんだ層cが施されている場合
においては、通常、この被覆はんだ層cの表面には空気
酸化により薄い非導電性の酸化被覆(図略)が形成され
てしまうので、前記金めっきを施されたリードの場合の
ように、圧着させるのみでは、リードbと電極相当部2
aとを接続導通させることはできず、被覆はんだ層c表
面の酸化被膜を破壊できるように、十分に強い圧縮力を
作用させると共に両者間を摺動させるいわゆるワイピン
グ動作を行わせなければならないという問題があり、ま
た、この圧着摺動が十分に行われない場合には製品の性
能評価が正しく行われないため回路検査に手間取ること
が屡ある等の問題があった。
Some IC package leads are plated with gold. In this case, the inspection socket has its pressing force appropriately strengthened so that the leads and the inspection can be performed. Sufficient connection conduction is achieved only by crimping the electrode-equivalent portion of the power socket. However, as shown in FIG. 10 showing an example of a copper pattern, the lead b of the IC package C has a coating solder layer c. In the case where the lead is plated with gold, a thin non-conductive oxide coating (not shown) is usually formed on the surface of the coated solder layer c by air oxidation. As described above, only by crimping, the lead b and the electrode equivalent portion 2
It cannot be electrically connected to a, and it is necessary to apply a sufficiently strong compressive force and to perform a so-called wiping operation to slide the two so that the oxide film on the surface of the coating solder layer c can be destroyed. There is a problem, and if the crimping and sliding are not sufficiently performed, the performance evaluation of the product is not correctly performed, so that it often takes time to inspect the circuit.

【0008】以上の状況に鑑み、本発明は、製品のIC
パッケージを検査用ソケットに収納した際、比較的軽い
押圧力でICパッケージリードの被覆はんだ層表面の酸
化被膜を破壊でき、検査用ソケットの電極部箇所との接
続が簡単に且つ確実に行われて製品の正しい評価が行え
るように、検査用ソケットにおける電極部に、酸化被膜
を破壊し得る多数の微小エッジを備える面を効率よく形
成するための方法の提供を目的とするものである。
In view of the above situation, the present invention provides an IC for products.
When the package is stored in the inspection socket, the oxide film on the surface of the solder layer of the IC package lead can be destroyed with a comparatively light pressing force, and the connection with the electrode portion of the inspection socket can be performed easily and reliably. It is an object of the present invention to provide a method for efficiently forming a surface having a large number of minute edges capable of destroying an oxide film on an electrode portion of an inspection socket so that a product can be correctly evaluated.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、ICパッケージのリードと接続する電極
部を備え、前記ICパッケージを収納して、該ICパッ
ケージの回路検査が行えるようにした検査用ソケットの
接続部形成方法であって、電気めっき手段により、該電
極部箇所に電着金属によって超硬質粒を植設するICパ
ッケージ検査用ソケットの電極部形成方法、また、前記
電極部が絶縁フィルム上に形設した銅パターンの電極部
の場合であって、該銅パターンにマスキング剤を施し、
フォトマスクを用いる露光手段と、現像手段とにより、
前記銅パターンの電極部のみを露出させ、電気めっき手
段により、該電極部に電着金属によって超硬質粒を植設
させた後、電気金めっき処理するICパッケージ検査用
ソケットの電極部形成方法を、さらに、前記電極部がコ
ンタクトピンの電極部の場合であって、マスキング剤を
用いて前記電極部のみを露出させ、電気めっき手段によ
り、該電極部に電着金属によって超硬質粒を植設させた
後、電気金めっき処理するICパッケージ検査用ソケッ
トの電極部形成方法を提案するものである。
In order to achieve the above object, the present invention is provided with an electrode portion connected to a lead of an IC package, and the IC package is housed so that a circuit inspection of the IC package can be performed. The method for forming a connection portion of an inspection socket according to claim 1, wherein the electrode portion of the IC package inspection socket is formed by electroplating means by implanting super-hard particles with electrodeposited metal, and the electrode. When the part is the electrode part of the copper pattern formed on the insulating film, a masking agent is applied to the copper pattern,
By the exposure means using a photomask and the developing means,
A method for forming an electrode portion of an IC package inspection socket, in which only the electrode portion of the copper pattern is exposed and, after electroplating means, super-hard particles are implanted into the electrode portion by electrodeposition metal, and then electrogold plating is performed. Further, in the case where the electrode portion is an electrode portion of a contact pin, only the electrode portion is exposed by using a masking agent, and super-hard particles are implanted in the electrode portion by electrodeposition metal by electroplating means. The present invention proposes a method for forming an electrode portion of an IC package inspection socket which is subjected to electro gold plating after the above.

【0010】[0010]

【作用】銅パターンを内装する検査用ソケットにおいて
は、銅パターンはパターン印刷の手法により絶縁性フィ
ルム上に形設できる。次いで、この銅パターン上に絶縁
性のフォトレジストによるマスキング剤を施し、各銅パ
ターンの電極部を指示するフォトマスクを介して感光さ
せ、さらに、現像液による現像処理により、各銅パター
ンの接続部のみを露出させることができる。次に、めっ
き槽のめっき浴中に、ダイヤモンド粒等超硬質粒を懸濁
させ、前記銅パターンを陰極とし、ニッケル等電解金属
を陽極とする複合電気めっき手段により電解金属が超硬
質粒と共に、銅パターンの露出部即ち電極部上に電着
し、エッジを有する多数の超硬質粒が電着金属によって
銅パターン電極部上に頭部を露出した状態で植設され
る。この後、通常の電気金めっき処理を行うことによ
り、超硬質粒を植設し且つ最上層を金めっき層とする導
電性にすぐれた電極部を形成できる。
In the test socket containing the copper pattern, the copper pattern can be formed on the insulating film by a pattern printing method. Next, a masking agent with an insulative photoresist is applied on this copper pattern, and the copper pattern is exposed to light through a photomask that indicates the electrode part of each copper pattern. Only can be exposed. Next, in the plating bath of the plating bath, ultra-hard particles such as diamond particles are suspended, the copper pattern is used as a cathode, and the electrolytic metal is mixed with the ultra-hard particles by a composite electroplating means using an electrolytic metal such as nickel as an anode, Electrodeposited on the exposed portion of the copper pattern, that is, the electrode portion, a large number of super-hard particles having edges are planted by the electrodeposited metal with the head exposed on the electrode portion of the copper pattern. After that, by performing a normal electro gold plating treatment, an electrode portion having excellent conductivity can be formed by implanting ultra-hard particles and using the gold plating layer as the uppermost layer.

【0011】コンタクトピンを内装する検査用ソケット
においては、コンタクトピンをマスキング剤で被って電
極部のみを露出させ、このコンタクトピンを陰極とし、
ニッケル等電解金属を陽極としてめっき浴中にダイヤモ
ンド等超硬質粒を懸濁させる複合電気めっき手段によ
り、電着金属によって超硬質粒をコンタクトピンの電極
部上に植設させることができる。この後、通常の電気金
めっき処理を行うことにより超硬質粒を植設し且つ最上
層を金めっき層とする電着金属めっきによる電極部を形
成できる。
In an inspection socket containing a contact pin, the contact pin is covered with a masking agent to expose only the electrode portion, and this contact pin is used as a cathode.
By using a composite electroplating means for suspending ultra-hard particles such as diamond in a plating bath using an electrolytic metal such as nickel as an anode, the ultra-hard particles can be implanted on the electrode portion of the contact pin by the electrodeposited metal. After that, an ordinary electro-gold plating treatment is performed to implant ultra-hard particles and form an electrode portion by electro-deposition metal plating with the uppermost layer serving as a gold plating layer.

【0012】電極部における超硬質粒の密度は電気めっ
きにおける電流密度、めっき時間、超硬質粒投入量、懸
濁方法、めっき浴組成によりコントロールできる。
The density of the ultra-hard particles in the electrode portion can be controlled by the current density in electroplating, the plating time, the amount of the ultra-hard particles added, the suspension method and the plating bath composition.

【0013】この銅パターンまたはコンタクトピンを検
査用ソケットのソケット本体の所定個所に取り付け、I
Cパッケージを収納し、カバーを閉じて押圧することに
よって、銅パターンまたはコンタクトピンの電極部に植
設したエッジを有する多数の超硬質粒はICパッケージ
のリードと接触し、そのエッジを利かせて被覆はんだ層
表面の酸化被膜を破砕し或は剥離させ、リードの被覆は
んだ層と銅パターンまたはコンタクトピン上の電着金属
とを超硬質粒の食い込み状態で接続させるので、従来の
ように被覆はんだ層に強い圧縮力を作用させて摺動させ
る必要なく、比較的軽い押圧力でリードと銅パターンま
たはコンタクトピンとを簡単に且つ確実に導通させるこ
とができる。また、リードの被覆はんだ層と銅パターン
またはコンタクトピンとの接続は単なる圧接なので検査
後のICパッケージの取り外しも容易である。
This copper pattern or contact pin is attached to a predetermined portion of the socket body of the inspection socket, and I
When the C package is housed and the cover is closed and pressed, a large number of ultra-hard particles having edges implanted in the electrode parts of the copper pattern or contact pins come into contact with the leads of the IC package, and the edges are made use of. The oxide film on the surface of the coated solder layer is crushed or peeled off, and the coated solder layer of the lead and the electrodeposited metal on the copper pattern or contact pin are connected in the state of biting of ultra-hard particles. The lead and the copper pattern or the contact pin can be easily and surely electrically connected to each other with a comparatively light pressing force without applying a strong compressive force to the layer and sliding the layer. Further, since the connection between the lead solder layer and the copper pattern or the contact pin is simply pressure contact, the IC package can be easily removed after the inspection.

【0014】前記超硬質粒としては、ダイヤモンド、ア
ルミナ(Al2 3 )、窒化ボロン(BN)、立方晶系
窒化ボロン(CBN)、チタンカーバイド(TiC)、
カーボランダム(SiC)等が利用でき、導電性物質で
あることを条件としない。
As the ultra-hard particles, diamond, alumina (Al 2 O 3 ), boron nitride (BN), cubic boron nitride (CBN), titanium carbide (TiC),
Carborundum (SiC) or the like can be used and is not required to be a conductive substance.

【0015】[0015]

【実施例】以下、実施例による図面により、本発明の検
査用ソケットの銅パターン電極部及びコンタクトピン電
極部の形成方法について説明する。図1及び図2は、本
発明の銅パターン電極部形成方法の工程を説明する銅パ
ターンの要部断面図、図3は図1の形成方法によって形
成された銅パターンの電極部を示す部分拡大斜視図、図
4は図3の銅パターンとICパッケージのリードとの接
続状況を示す要部断面図であり、図5は本発明の方法に
より電極部を形成したコンタクトピンとICパッケージ
との接続状況を示す要部拡大断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for forming a copper pattern electrode portion and a contact pin electrode portion of an inspection socket of the present invention will be described below with reference to the drawings according to the embodiments. 1 and 2 are cross-sectional views of a main part of a copper pattern for explaining the steps of the method for forming a copper pattern electrode part according to the present invention, and FIG. 3 is a partially enlarged view showing an electrode part of a copper pattern formed by the forming method of FIG. FIG. 4 is a perspective view showing the connection between the copper pattern of FIG. 3 and the leads of the IC package, and FIG. 5 is the connection between the contact pin having the electrode portion formed by the method of the present invention and the IC package. FIG.

【0016】銅パターンの場合、図1(a)に示したよ
うな、絶縁性フィルム1上に形設した銅パターン2を処
理対象とする。この銅パターン2は所定数の細線の集合
体として形成され、、引っ張り強さの大きい絶縁性フィ
ルムの上に蒸着、貼着等任意の手段で銅箔を固着した
後、フォトレジストを塗布してパターン印刷し、次い
で、現像処理とエッチング処理によって感光レジストと
不要銅箔部を除去した後、残存フォトレジストを剥離除
去することによって得られている。この銅パターンは所
定型式のICパッケージに合わせてつくられている。即
ち、図7により前記したように、そのICパッケージC
のリードb位置に対応して細線状の銅パターン2が、先
端の電極部箇所2aにおいて同じピッチで並設され、周
辺の外側端部2bにおいて拡大されたピッチを有するよ
うに配置され、この外側端部2bにはピン25(図6)
を接合させてある。
In the case of a copper pattern, the copper pattern 2 formed on the insulating film 1 as shown in FIG. The copper pattern 2 is formed as an assembly of a predetermined number of fine wires, and a copper foil is fixed on an insulating film having a large tensile strength by any means such as vapor deposition or sticking, and then a photoresist is applied. It is obtained by performing pattern printing, then removing the photosensitive resist and unnecessary copper foil portions by developing treatment and etching treatment, and peeling and removing the residual photoresist. This copper pattern is tailored to a given type of IC package. That is, as described above with reference to FIG. 7, the IC package C
Corresponding to the position of the lead b of the thin wire-shaped copper patterns 2 are juxtaposed at the electrode portion 2a at the tip with the same pitch, and are arranged so as to have an enlarged pitch at the outer end 2b on the periphery. Pin 25 (FIG. 6) on the end 2b
Are joined together.

【0017】このように絶縁性フィルム1上につくられ
た銅パターン2の上に、図1(b)のように、マスキン
グ剤としてフォトレジスト3を塗布し、フォトマスク4
で覆い、光源5により紫外線を照射して露光処理を行
う。このフォトマスク4は、銅パターン2の先端部にお
いて、リードbと接続させようとする小面積の電極部個
所2aを特定するように作成されている。従って、露光
処理の後、現像液により変質フォトレジスト3aを除去
することにより、図1(c)のように銅パターン2の電
極部個所2aを露出させることができる。
On the copper pattern 2 thus formed on the insulating film 1, a photoresist 3 is applied as a masking agent as shown in FIG. 1B, and a photomask 4 is formed.
And is exposed to ultraviolet rays by the light source 5 to perform an exposure process. The photomask 4 is formed so as to identify the electrode portion 2a having a small area to be connected to the lead b at the tip of the copper pattern 2. Therefore, by removing the altered photoresist 3a with a developing solution after the exposure process, the electrode portion 2a of the copper pattern 2 can be exposed as shown in FIG.

【0018】次に、この銅パターン2を複合電気めっき
処理に供する。銅パターン2は、所定の前処理により表
面の油脂分や汚れ等を除去した後、電源陰極側6に接続
して図1(d)のように陰極として電源陽極側7に接続
する陽極板8と共にめっき槽9のニッケル、クローム、
銅あるいは亜鉛等の金属めっき浴10中に浸漬する。め
っき槽9中にダイヤモンド粒等超硬質粒11を投入し、
金属めっき浴10を攪拌機12により攪拌しながら複合
電気めっき処理をすることにより、露出している銅パタ
ーン2の電極部箇所2aに金属の電着と共に超硬質粒1
1が固着し、図2(a)のように電着金属13によって
エッジを有する多数の超硬質粒11が頭部を露出して植
設状態に固定された電極部14が形成される。
Next, the copper pattern 2 is subjected to a composite electroplating process. The copper pattern 2 is connected to the power supply cathode side 6 after removing oil and grease on the surface by a predetermined pretreatment, and then connected to the power supply anode side 7 as a cathode as shown in FIG. Together with nickel, chrome in the plating tank 9,
Immerse in a metal plating bath 10 of copper or zinc. Injecting ultra-hard particles 11 such as diamond particles into the plating tank 9,
By performing the composite electroplating treatment while stirring the metal plating bath 10 with the stirrer 12, the electrode portion 2a of the exposed copper pattern 2 is electrodeposited with metal and the ultra-hard particles 1 are formed.
As shown in FIG. 2A, a large number of super-hard particles 11 having edges are exposed by the electrodeposited metal 13 to form an electrode portion 14 in which the head is exposed and fixed in an implanted state.

【0019】この複合電気めっきは、例えば、陽極板と
してニッケル板を用い、硫酸ニッケル 250〜500
g/l好ましくは280g/l、塩化ニッケル 40〜
80g/l好ましくは45g/l、硼酸30〜70g/
l好ましくは40g/l、光沢剤(商品名 サモライト
N−11及び22)22ml/lのニッケルめっき浴を
用い、粒径1〜20ミクロン好ましくは3〜6ミクロン
の超硬質粒を20〜150ct/l好ましくは80ct
/lを投入して懸濁させ、電流密度1〜5A/dm2
ましくは1.5A/dm2 において10〜60分好まし
くは20分処理することにより良好に行われる。
In this composite electroplating, for example, a nickel plate is used as an anode plate and nickel sulfate 250 to 500 is used.
g / l, preferably 280 g / l, nickel chloride 40-
80 g / l, preferably 45 g / l, boric acid 30-70 g / l
1 g of 20 to 150 ct / g of ultra-hard particles having a particle size of 1 to 20 μm, preferably 3 to 6 μm, using a nickel plating bath of 22 g / l, preferably 40 g / l and a brightening agent (trade name: Samolite N-11 and 22). l preferably 80 ct
/ L is added to suspend the reaction, and the treatment is preferably carried out at a current density of 1 to 5 A / dm 2, preferably 1.5 A / dm 2 for 10 to 60 minutes, preferably 20 minutes.

【0020】さらに、電着金属13によって超硬質粒1
1を植設させた銅パターン2は別のめっき槽においてシ
アン化金浴による通常の金めっきを行い、図2(b)の
ように、超硬質粒を露出させた状態で電着金属13の表
面に金めっき層15を形成させ、銅パターン2の導電性
を向上させる。
Further, the ultra-hard particles 1 are formed by the electrodeposited metal 13.
The copper pattern 2 in which 1 is implanted is subjected to normal gold plating in a gold cyanide bath in another plating tank, and as shown in FIG. The gold plating layer 15 is formed on the surface to improve the conductivity of the copper pattern 2.

【0021】次いで、残存するマスキング剤のフォトレ
ジスト3を剥離除去することにより、図2(c)及び図
3に示したように、絶縁性フィルム1上の各銅パターン
2の先端部に、電着金属13により超硬質粒11を露出
状態に植設し、電着金属13部分は金めっき層15を重
ねてなる小面積の電極部14を形設することができる。
Next, by removing the remaining photoresist 3 of the masking agent by peeling, as shown in FIGS. 2 (c) and 3, the tip of each copper pattern 2 on the insulating film 1 is electrically charged. The super-hard grain 11 can be planted in an exposed state by the deposition metal 13, and the electrodeposition metal 13 portion can form the electrode portion 14 of a small area formed by stacking the gold plating layer 15.

【0022】このようにつくられた銅パターン2は、そ
の周辺を成型プラスチック枠体で保持された後、検査用
ソケットAに嵌入固定される。そして、検査時、適合型
式のICパッケージCを中央所定位置にセットすること
により(図6参照)、ICパッケージCのリードbは前
記電極部14の超硬質粒11に接触することになる。
The copper pattern 2 formed in this manner is fitted and fixed to the inspection socket A after its periphery is held by the molded plastic frame. Then, at the time of inspection, by setting the IC package C of the compatible type at a predetermined center position (see FIG. 6), the lead b of the IC package C comes into contact with the super-hard particles 11 of the electrode portion 14.

【0023】次いで、検査用ソケットAのカバー21を
閉じると、図4に示したように、ICパッケージCのリ
ードbはカバー21の押圧部21aによって押圧され、
銅パターン2の電極部14の超硬質粒11がそのエッジ
を利かせて被覆はんだ層cの表面の酸化被膜(図略)を
破砕し或は剥離して、被覆はんだ層c乃至リードb内に
喰い込み、被覆はんだ層cと銅パターン2の金めっき層
15とを接触させるので、リードbと銅パターン2は導
通することになる。従って、検査用ソケットAのソケッ
ト本体20から外部に突出したピン25を利用して、I
CパッケージCの回路検査が容易に且つ確実に行える。
Then, when the cover 21 of the inspection socket A is closed, the lead b of the IC package C is pressed by the pressing portion 21a of the cover 21, as shown in FIG.
The ultra-hard particles 11 of the electrode portion 14 of the copper pattern 2 crush or peel off the oxide film (not shown) on the surface of the coating solder layer c by utilizing the edge thereof, and the inside of the coating solder layer c or the lead b. Since the bite and the coated solder layer c and the gold plating layer 15 of the copper pattern 2 are brought into contact with each other, the lead b and the copper pattern 2 are electrically connected. Therefore, by using the pin 25 protruding from the socket body 20 of the inspection socket A to the I
The circuit inspection of the C package C can be performed easily and surely.

【0024】コンタクトピン26の場合、所定の形状に
形成されたコンタクトピン26を処理対象とし、脱脂洗
浄の後、電極相当部26a上面とめっき電源に接続する
ピン部26dを除き、全面にマスキング剤を塗布し、絶
縁性治具に保持して陰極とし、電極相当部26a上面を
陽極に対向させる状態でめっき槽にセットし、前記銅パ
ターン2の場合と同様にして複合電気めっきを行うこと
により、電着金属16によってエッジを有する多数の超
硬質粒17を植設させ、さらに電気金めっきを行うこと
により電着金属16に金めっき層18を重ねた電極部1
9を形設することができる。めっき終了後、マスキング
剤は溶剤によって容易に除去できる。
In the case of the contact pin 26, the contact pin 26 having a predetermined shape is treated, and after degreasing and cleaning, the entire surface except for the upper surface of the electrode corresponding portion 26a and the pin portion 26d connected to the plating power source is masked. Is applied to and held in an insulating jig as a cathode, and is set in a plating tank with the upper surface of the electrode corresponding portion 26a facing the anode, and then composite electroplating is performed in the same manner as in the case of the copper pattern 2. The electrode portion 1 in which a large number of ultra-hard particles 17 having edges are planted with the electrodeposited metal 16 and further gold electroplating is performed to superpose the gold plating layer 18 on the electrodeposited metal 16
9 can be formed. After the plating is completed, the masking agent can be easily removed with a solvent.

【0025】めっき処理を終了したコンタクトピン26
は検査用ソケットBに取り付けて固定する。そして、検
査時、適合型式のICパッケージCを検査用ソケットB
の中央所定位置にセットすることにより(図7参照)、
ICパッケージCのリードbは前記電極部19の超硬質
粒17に接触することになる。この状態で検査用ソケッ
トBのカバー28を閉じると、図5に示すように、押圧
部28aによりICパッケージCのリードbが押圧さ
れ、コンタクトピン26の電極部19の超硬質粒17が
そのエッジによりリードbの被覆はんだ層c表面の酸化
被膜を破砕し、或は剥離して被覆はんだ層c乃至リード
b内に食い込み、被覆はんだ層cとコンタクトピン26
の金めっき層18とを接触させるので、リードbとコン
タクトピン26は導通することになる。従って、検査用
ソケットBのソケット本体27から外部に突出したピン
部26dを利用して、ICパッケージCの回路検査が容
易に且つ確実に行える。
Contact pins 26 that have been plated
Is attached and fixed to the inspection socket B. At the time of inspection, the compatible type IC package C is connected to the inspection socket B.
By setting it in the center predetermined position (see FIG. 7),
The lead b of the IC package C comes into contact with the ultra-hard particles 17 of the electrode portion 19. When the cover 28 of the inspection socket B is closed in this state, as shown in FIG. 5, the lead b of the IC package C is pressed by the pressing portion 28a, and the ultra-hard particles 17 of the electrode portion 19 of the contact pin 26 have their edges. The oxide film on the surface of the coated solder layer c of the lead b is crushed or peeled off and penetrates into the coated solder layer c to the lead b, and the coated solder layer c and the contact pin 26.
Since the gold plating layer 18 is contacted, the lead b and the contact pin 26 are electrically connected. Therefore, the circuit inspection of the IC package C can be easily and surely performed by utilizing the pin portion 26d protruding from the socket body 27 of the inspection socket B to the outside.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の形成方法によれば、検査用ソケットの銅パターンまた
はコンタクトピンの、ICパッケージのリードとの接触
位置に、小面積の電極部を露出させ、この個所に複合電
気めっき手法により電解金属と共に、超硬質粒を析出さ
せ、好ましくはさらに、電着金属の上に金めっき層を重
ねるようにしたので、検査用ソケットへのICパッケー
ジのセット時に、リードのはんだ層表面の酸化被膜が電
極部に植設されたエッジを有する多数の超硬質粒により
比較的軽い押圧力で容易に破砕し或は剥離され、はんだ
層と銅パターンまたはコンタクトピンとの接触が容易に
行われ、従って、検査用ソケットにおけるICパッケー
ジの回路検査が簡単に即ち効率的に且つ確実に行えるよ
うになる検査用ソケットの電極部が効率よく形成でき
る。
As is apparent from the above description, according to the forming method of the present invention, the electrode portion having a small area is formed at the contact position of the copper pattern or the contact pin of the inspection socket with the lead of the IC package. It was exposed, and the super-hard particles were deposited together with the electrolytic metal by the composite electroplating method at this point, and preferably, the gold plating layer was further laid on the electrodeposited metal. When set, the oxide film on the solder layer surface of the lead is easily crushed or peeled off by a relatively light pressing force by a large number of ultra-hard particles having edges implanted in the electrode part, and the solder layer and copper pattern or contact An inspection tool that can be easily brought into contact with the pins and therefore can easily, efficiently and reliably perform circuit inspection of the IC package in the inspection socket. Tsu electrode portion of the bets can be efficiently formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の検査用ソケットの電極部形成方法の処
理工程を説明する銅パターンの要部断面図で、(a)は
処理前、(b)はフォトレジスト塗布後の露光処理時、
(c)は現像処理後、(d)は複合電気めっき処理時、
をそれぞれ示す図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an essential part of a copper pattern for explaining a treatment step of a method for forming an electrode portion of an inspection socket according to the present invention, where (a) is before treatment, (b) is during exposure treatment after photoresist coating,
(C) after development, (d) during composite electroplating,
It is a figure which respectively shows.

【図2】図1に引き続く処理工程を説明する銅パターン
の要部断面図で、(a)は複合電気めっき後、(b)は
電気金めっき後、(c)はフォトレジスト剥離処理後
を、それぞれ示す図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part of a copper pattern for explaining the treatment process subsequent to FIG. 1, in which (a) is after composite electroplating, (b) is after electrogold plating, and (c) is after photoresist stripping treatment. , Respectively.

【図3】図1及び図2の方法によって形成された銅パタ
ーンの電極部を示す部分拡大斜視図である。
FIG. 3 is a partially enlarged perspective view showing an electrode portion of a copper pattern formed by the method of FIGS. 1 and 2.

【図4】図3の銅パターンとICパッケージのリードと
の接続状況を示す要部拡大断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing a connection state between the copper pattern of FIG. 3 and a lead of an IC package.

【図5】本発明の方法により電極部を形成したコンタク
トピンとICパッケージとの接続状況を示す要部拡大断
面図である。
FIG. 5 is an enlarged sectional view of an essential part showing a connection state between a contact pin having an electrode portion formed by the method of the present invention and an IC package.

【図6】銅パターンを備えてICパッケージを収納した
従来の検査用ソケットの断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a conventional test socket having a copper pattern and containing an IC package.

【図7】図6の検査用ソケットにおける銅パターンの平
面図である。
7 is a plan view of a copper pattern in the inspection socket of FIG.

【図8】コンタクトピンを備えてICパッケージを収納
した従来の検査用ソケットの断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a conventional test socket including a contact pin and accommodating an IC package.

【図9】ICパッケージの拡大斜視図である。FIG. 9 is an enlarged perspective view of an IC package.

【図10】従来の検査ソケットにおける銅パターンとI
Cパッケージのリードとの接続状況を示す要部拡大断面
図である。
FIG. 10: Copper pattern and I in a conventional inspection socket
It is a principal part expanded sectional view which shows the connection condition with the lead of C package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 検査用ソケット B 検査用ソケット C ICパッケージ b リード c 被覆はんだ層 1 絶縁性フィルム 2 銅パターン 3 フォトレジスト 4 フォトマスク 5 光源 8 陽極板 9 めっき槽 10 金属めっき浴 11 超硬質粒 13 電着金属 14 電極部 15 金めっき層 16 電着金属 17 超硬質粒 18 金めっき層 19 電極部 26 コンパクトピン A Inspection socket B Inspection socket C IC package b Lead c Coated solder layer 1 Insulating film 2 Copper pattern 3 Photoresist 4 Photomask 5 Light source 8 Anode plate 9 Plating bath 10 Metal plating bath 11 Ultra-hard grain 13 Electrodeposited metal 14 Electrode Part 15 Gold Plating Layer 16 Electrodeposited Metal 17 Super Hard Grain 18 Gold Plating Layer 19 Electrode Part 26 Compact Pin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/34 501 A 8718−4E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location H05K 3/34 501 A 8718-4E

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ICパッケージのリードと接続する電極
部を備え、前記ICパッケージを収納して、該ICパッ
ケージの回路検査が行えるようにした検査用ソケットに
おける前記電極部の形成方法であって、電気めっき手段
により、該電極部個所に電着金属によって超硬質粒を植
設することを特徴とするICパッケージ検査用ソケット
の電極部形成方法。
1. A method of forming the electrode portion in an inspection socket, which comprises an electrode portion connected to a lead of an IC package, accommodates the IC package, and enables a circuit inspection of the IC package. A method for forming an electrode portion of an IC package inspection socket, characterized in that ultra-hard particles are implanted in the electrode portion by electrodeposition by electroplating means.
【請求項2】 前記電極部が絶縁性フィルム上に形設し
た銅パターンの電極部の場合であって、該銅パターンに
マスキング剤を施し、フォトマスクを用いる露光手段
と、現像手段とにより、前記銅パターンの電極部のみを
露出させ、電気めっき手段により、該電極部に電着金属
によって超硬質粒を植設させた後、電気金めっき処理す
ることを特徴とする請求項1に記載のICパッケージ検
査用ソケットの電極部形成方法。
2. When the electrode portion is an electrode portion of a copper pattern formed on an insulating film, a masking agent is applied to the copper pattern, and the exposing means using a photomask and the developing means 2. The electroplating treatment is performed after exposing only the electrode portion of the copper pattern and implanting super-hard particles with an electrodeposition metal in the electrode portion by electroplating means. A method for forming an electrode portion of an IC package inspection socket.
【請求項3】 前記電極部がコンタクトピンの電極部の
場合であって、マスキング剤を用いて前記電極部のみを
露出させ、電気めっき手段により、該電極部に電着金属
によって超硬質粒を植設させた後、電気金めっき処理す
ることを特徴とする請求項1に記載のICパッケージ検
査用ソケットの電極部形成方法。
3. In the case where the electrode portion is an electrode portion of a contact pin, only the electrode portion is exposed by using a masking agent, and an ultra-hard grain is formed on the electrode portion by electrodeposition metal by electroplating means. 2. The method for forming an electrode part of an IC package inspection socket according to claim 1, wherein the plating is performed and then electrogold plating is performed.
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