JPH07234264A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH07234264A
JPH07234264A JP6025808A JP2580894A JPH07234264A JP H07234264 A JPH07234264 A JP H07234264A JP 6025808 A JP6025808 A JP 6025808A JP 2580894 A JP2580894 A JP 2580894A JP H07234264 A JPH07234264 A JP H07234264A
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Japan
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input
supplied
mis transistor
logic circuit
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JP6025808A
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Hideaki Kawai
秀明 河合
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enable a normal burn-in test to be conducted, even if noises are superimposed on clock signals, for a semiconductor integrated circuit such as an SDRAM which is designed so that information signals supplied from the outside are sampled in synchronization with the clock signals supplied from the outside. CONSTITUTION:During normal operation, a differential amplifier circuit 31 which sets an H-level threshold VIH to l.7V and an L-level thresohld VIL, to 1.3V for clock signals CLK is used as an input circuit; during a burn-in test, a NOR circuit 41 which sets the H-level threshold VIH to 2.2V and the L-level threshold VIL to 0.8V for the clock signals CLK so as to be more resistant to noise than the differential amplifier circuit 31 is used as an input circuit.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、外部から供給される情
報信号を外部から供給されるクロック信号に同期させて
取り込むように構成される半導体集積回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit configured to capture an information signal supplied from the outside in synchronization with a clock signal supplied from the outside.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の半導体集積回路として、
たとえば、SDRAM(SynchronousDynamic Random
Access Memory)が知られており、図8は、その一部
分を示している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a semiconductor integrated circuit of this type,
For example, SDRAM (Synchronous Dynamic Random)
Access Memory) is known, and FIG. 8 shows a part thereof.

【0003】図8中、11〜1m+1は外部端子(外部端子
8〜1m-1は図示を省略)であり、11はクロック信号
CLKが供給されるクロック信号入力端子、12はチッ
プ・セレクト信号/CSが供給されるチップ・セレクト
信号入力端子である。
[0003] In FIG. 8, 1 1 to 1 m + 1 is an external terminal (not shown external terminal 1 8 to 1 m-1), 1 1 a clock signal input terminal to which the clock signal CLK is supplied, 1 2 is a chip select signal input terminal to which the chip select signal / CS is supplied.

【0004】また、13はロウアドレス・ストローブ信
号/RASが供給されるロウアドレス・ストローブ信号
入力端子、14はコラムアドレス・ストローブ信号/C
ASが入力されるコラムアドレス・ストローブ信号入力
端子である。
[0004] 1 3 row address strobe signal input terminal to which a row address strobe signal / RAS is supplied, 1 4 column address strobe signal / C
This is a column address / strobe signal input terminal to which AS is input.

【0005】また、15はライト・イネーブル信号/W
Eが供給されるライト・イネーブル信号入力端子、16
は出力マスク信号DQMが供給される出力マスク信号入
力端子である。
Reference numeral 15 is a write enable signal / W
Write enable signal input terminal to which E is supplied, 16
Is an output mask signal input terminal to which the output mask signal DQM is supplied.

【0006】また、17は最上位ビットのアドレス信号
nが供給されるアドレス信号入力端子、1mは最下位ビ
ットのアドレス信号A1が供給されるアドレス信号入力
端子、1m+1は基準電圧VREF、たとえば、1.65V
が供給される基準電圧入力端子である。
Further, 1 7 is an address signal input terminal to which the most significant bit address signal A n is supplied, 1 m is an address signal input terminal to which the least significant bit address signal A 1 is supplied, and 1 m + 1 is Reference voltage VREF, for example 1.65V
Is a reference voltage input terminal to which is supplied.

【0007】また、21〜2mは入力回路(入力回路28
〜2m-1は図示を省略)、31〜3m-1は入力回路22〜2
mから出力される信号を入力回路21から出力されるクロ
ック信号CLKの立ち上がりのタイミングに同期させて
ラッチするラッチ回路(ラッチ回路37〜3m-2は図示を
省略)である。
2 1 to 2 m are input circuits (input circuit 2 8
~ 2 m-1 is not shown) 3 1 to 3 m-1 are input circuits 2 2 to 2
A latch circuit (latch circuits 3 7 to 3 m-2 are not shown) that latches the signal output from m in synchronization with the rising timing of the clock signal CLK output from the input circuit 2 1 .

【0008】ここに、入力回路21〜2mは同一の回路構
成とされており、入力回路21を代表して示せば、図9
に示すように構成されている。
Here, the input circuits 2 1 to 2 m have the same circuit configuration. If the input circuit 2 1 is shown as a representative, FIG.
It is configured as shown in.

【0009】図9中、4は差動増幅回路であり、5は電
源電圧VCC、たとえば、3.3Vを供給するVCC電
源線である。
In FIG. 9, 4 is a differential amplifier circuit, and 5 is a VCC power supply line for supplying a power supply voltage VCC, for example, 3.3V.

【0010】また、6、7は負荷をなすカレント・ミラ
ー回路を構成するpチャネルMIS(metal insulator
semiconductor)トランジスタの一種であるエンハンス
メント形のpチャネルMOS(metal oxide semiconduc
tor)トランジスタ(以下、pMOSトランジスタとい
う)である。
Further, 6 and 7 are p-channel MIS (metal insulator) which constitutes a load current mirror circuit.
enhancement type p-channel MOS (metal oxide semiconduc) which is a type of semiconductor transistor.
tor) transistor (hereinafter referred to as pMOS transistor).

【0011】また、8、9はnチャネルMISトランジ
スタの一種である駆動トランジスタをなすエンハンスメ
ント形のnチャネルMOSトランジスタ(以下、nMO
Sトランジスタという)である。
Further, 8 and 9 are enhancement type n-channel MOS transistors (hereinafter referred to as nMO) which are driving transistors which are a kind of n-channel MIS transistors.
S transistor).

【0012】また、10は差動増幅回路活性化信号φE
により導通(以下、ONという)、非導通(以下、OF
Fという)が制御されるエンハンスメント形のnMOS
トランジスタである。
Further, 10 is a differential amplifier activation signal φ E
Conduction (hereinafter referred to as ON), non-conduction (hereinafter referred to as OF)
Enhancement type nMOS in which F) is controlled
It is a transistor.

【0013】また、11、12は差動増幅回路活性化信
号φEによりON、OFFが制御されるエンハンスメン
ト形のpMOSトランジスタ、13〜15は波形整形用
のインバータであり、インバータ15の出力端は、ラッ
チ回路31〜3m-1のクロック信号入力端に接続されてい
る。
Further, 11 and 12 are enhancement type pMOS transistors whose ON and OFF are controlled by a differential amplifier circuit activation signal φ E , 13 to 15 are waveform shaping inverters, and an output terminal of the inverter 15 is , Latch circuits 3 1 to 3 m−1 are connected to clock signal input terminals.

【0014】なお、差動増幅回路4は、高レベル(以
下、Hレベル又は「H」と記す)側のしきい値(スレッ
ショルド電圧)VIH=1.7V、低レベル(以下、Lレベ
ル又は「L」と記す)側のしきい値VIL=1.3Vとさ
れている。
The differential amplifier circuit 4 has a high level (hereinafter referred to as H level or "H") threshold (threshold voltage) V IH = 1.7 V and a low level (hereinafter referred to as L level or The threshold value V IL on the “L” side is 1.3 V.

【0015】この入力回路21においては、差動増幅回
路活性化信号φE=「H」とされる場合、nMOSトラ
ンジスタ10=ON、pMOSトランジスタ11、12
=OFFとされ、差動増幅回路4=活性状態とされる。
In the input circuit 2 1 , when the differential amplifier activation signal φ E = “H”, the nMOS transistor 10 = ON and the pMOS transistors 11 and 12 are turned on.
= OFF and the differential amplifier circuit 4 = active state.

【0016】ここに、クロック信号CLK=「H」の場
合には、nMOSトランジスタ8=ON、nMOSトラ
ンジスタ9=OFFとなり、ノード16の電圧=「L」
となる。
When the clock signal CLK = “H”, the nMOS transistor 8 = ON, the nMOS transistor 9 = OFF, and the voltage of the node 16 = “L”.
Becomes

【0017】この結果、インバータ13の出力=
「H」、インバータ14の出力=「L」、インバータ1
5の出力=「H」となり、これがラッチ回路31〜3m-1
のクロック信号入力端に供給される。
As a result, the output of the inverter 13 =
“H”, output of inverter 14 = “L”, inverter 1
The output of 5 is "H", which is the latch circuit 3 1 to 3 m-1.
Is supplied to the clock signal input terminal of.

【0018】これに対して、クロック信号CLK=
「L」の場合には、nMOSトランジスタ8=OFF、
nMOSトランジスタ9=ONとなり、ノード16の電
圧=「H」となる。
On the other hand, the clock signal CLK =
In the case of “L”, the nMOS transistor 8 = OFF,
The nMOS transistor 9 = ON and the voltage of the node 16 = “H”.

【0019】この結果、インバータ13の出力=
「L」、インバータ14の出力=「H」、インバータ1
5の出力=「L」となり、これがラッチ回路31〜3m-1
のクロック信号入力端に供給される。
As a result, the output of the inverter 13 =
“L”, output of inverter 14 = “H”, inverter 1
The output of 5 is "L", which is the latch circuit 3 1 to 3 m-1.
Is supplied to the clock signal input terminal of.

【0020】また、差動増幅回路活性化信号φE
「L」とされる場合には、nMOSトランジスタ10=
OFF、pMOSトランジスタ11、12=ONとな
り、差動増幅回路4=非活性状態とされると共に、差動
増幅回路4の出力=「H」に固定される。
Further, the differential amplifier circuit activation signal φ E =
When it is set to “L”, the nMOS transistor 10 =
OFF, pMOS transistors 11 and 12 = ON, the differential amplifier circuit 4 = inactive state, and the output of the differential amplifier circuit 4 is fixed at “H”.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】このような半導体集積
回路においては、出荷前に、潜在的な欠陥を含むものを
除去するために、高温条件の下での一定時間の動作試
験、いわゆる、バーンイン(burn-in)試験が行われ
る。
In such a semiconductor integrated circuit, an operation test under high temperature condition for a certain period of time, so-called burn-in, is performed before shipment in order to remove those containing potential defects. A (burn-in) test is conducted.

【0022】この場合、バーンイン試験用のボード、い
わゆる、バーンイン・ボードには、100〜200個の
半導体集積回路が搭載されるため、バーンイン・ボード
上の配線は長くなり、クロック信号CLKの立ち上がり
波形及び立ち下がり波形は、大きくなまってしまう。
In this case, since 100 to 200 semiconductor integrated circuits are mounted on the burn-in test board, that is, a so-called burn-in board, the wiring on the burn-in board becomes long and the rising waveform of the clock signal CLK. And the falling waveform becomes large.

【0023】このため、ノイズがクロック信号CLKの
立ち上がり波形又は立ち下がり波形に重畳されてしまう
と、ラッチ回路31〜3m-1が誤動作を起こし、正常なバ
ーンイン試験を行うことができないという問題点があっ
た。
Therefore, if noise is superimposed on the rising waveform or the falling waveform of the clock signal CLK, the latch circuits 3 1 to 3 m-1 malfunction and the normal burn-in test cannot be performed. There was a point.

【0024】本発明は、かかる点に鑑み、バーンイン試
験時、ノイズがクロック信号に重畳されてしまう場合で
あっても、正常なバーンイン試験を行うことができるよ
うにした半導体集積回路を提供することを目的とする。
In view of the above point, the present invention provides a semiconductor integrated circuit capable of performing a normal burn-in test even when noise is superimposed on the clock signal during the burn-in test. With the goal.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図であり、入力回路部の一部分を示している。図中、2
0は外部からクロック信号CLKが供給されるクロック
信号入力端子、21は外部から情報信号が供給される情
報信号入力端子である。
FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the present invention and shows a part of an input circuit section. 2 in the figure
Reference numeral 0 is a clock signal input terminal to which a clock signal CLK is externally supplied, and 21 is an information signal input terminal to which an information signal is externally supplied.

【0026】また、22は外部から供給されるクロック
信号CLKを増幅する入力回路、23は外部から供給さ
れる情報信号を増幅する入力回路、24は入力回路23
から出力される情報信号を入力回路22から出力される
クロック信号CLKの立ち上がり又は立ち下がりのタイ
ミングでラッチするラッチ回路、24Aはラッチ回路2
4のクロック信号入力端、24Bはラッチ回路24の情
報信号入力端である。
Reference numeral 22 is an input circuit for amplifying an externally supplied clock signal CLK, 23 is an input circuit for amplifying an externally supplied information signal, and 24 is an input circuit 23.
A latch circuit for latching the information signal output from the input circuit 22 at the rising or falling timing of the clock signal CLK output from the input circuit 22, 24A is the latch circuit 2
4 is a clock signal input terminal, and 24B is an information signal input terminal of the latch circuit 24.

【0027】また、入力回路22において、25、26
はしきい論理回路であり、しきい論理回路26は、Hレ
ベル側のしきい値VIHをしきい論理回路25よりも高く
し、Lレベル側のしきい値VILをしきい論理回路25よ
りも低くし、通常動作時には非活性状態とされ、バーン
イン試験時には活性状態とされるものである。
Further, in the input circuit 22, 25, 26
This is a threshold logic circuit, and the threshold logic circuit 26 sets the threshold V IH on the H level side higher than the threshold logic circuit 25 and sets the threshold V IL on the L level side threshold logic circuit 25. It is set to a lower level, is inactive during normal operation, and is active during burn-in test.

【0028】また、27は、通常動作時には、しきい論
理回路25から出力されるクロック信号CLKを選択
し、これをラッチ回路24のクロック信号入力端24A
に供給し、バーンイン試験時には、しきい論理回路26
から出力されるクロック信号CLKを選択し、これをラ
ッチ回路24のクロック信号入力端に供給する選択回路
である。
Further, 27 selects the clock signal CLK output from the threshold logic circuit 25 in the normal operation, and selects this clock signal CLK from the clock signal input terminal 24A of the latch circuit 24.
To the threshold logic circuit 26 during the burn-in test.
It is a selection circuit that selects the clock signal CLK output from and supplies it to the clock signal input terminal of the latch circuit 24.

【0029】[0029]

【作用】しきい論理回路26は、Hレベル側のしきい値
IHをしきい論理回路25よりも高くし、Lレベル側の
しきい値VILをしきい論理回路25よりも低くされ、し
きい論理回路25よりもノイズに強い構成とされてお
り、バーンイン試験時には、このしきい論理回路26か
ら出力されるクロック信号CLKがラッチ回路24のク
ロック信号入力端24Aに供給される。
In the threshold logic circuit 26, the threshold V IH on the H level side is set higher than that of the threshold logic circuit 25, and the threshold V IL on the L level side is set lower than that of the threshold logic circuit 25. It is configured to be more resistant to noise than the threshold logic circuit 25. During the burn-in test, the clock signal CLK output from the threshold logic circuit 26 is supplied to the clock signal input terminal 24A of the latch circuit 24.

【0030】したがって、バーンイン試験時、ノイズが
クロック信号CLKの立ち上がり波形又は立ち下がり波
形に重畳されてしまう場合であっても、誤動作を防ぎ、
正常なバーンイン試験を行うことができる。
Therefore, during the burn-in test, even if noise is superimposed on the rising or falling waveform of the clock signal CLK, malfunction is prevented,
A normal burn-in test can be performed.

【0031】[0031]

【実施例】以下、図2〜図7を参照して、本発明の一実
施例につき、本発明をSDRAMに適用した場合を例に
して説明する。なお、図2において、図8に対応する部
分には同一符号を付し、その重複説明は省略する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 2 to 7 by taking the case where the present invention is applied to an SDRAM as an example. In FIG. 2, parts corresponding to those in FIG. 8 are designated by the same reference numerals, and duplicate description thereof will be omitted.

【0032】図2は本発明の一実施例の一部分を示す回
路図であり、本実施例は、図8に示す従来のSDRAM
が設けている入力回路21〜2m(入力回路28〜2m-1
図示を省略)と回路構成の異なる入力回路301〜30m
(入力回路308〜30m-1は図示を省略)を設け、その
他については、図8に示す従来のSDRAMと同様に構
成したものである。なお、φTは試験制御信号である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a part of an embodiment of the present invention. This embodiment is a conventional SDRAM shown in FIG.
Input circuits 2 1 to 2 m (input circuits 2 8 to 2 m-1 are not shown) and input circuits 30 1 to 30 m having different circuit configurations.
(The input circuits 30 8 to 30 m-1 are not shown), and the other parts are configured in the same manner as the conventional SDRAM shown in FIG. Note that φ T is a test control signal.

【0033】入力回路301〜30mは同一の回路構成と
されており、入力回路301を代表して示せば、図3に
示すように構成されている。
The input circuits 30 1 to 30 m have the same circuit configuration, and the input circuit 30 1 is representatively shown in FIG.

【0034】図3中、31は差動増幅回路であり、32
は電源電圧VCC、例えば、3.3Vを供給するVCC
電源線、33、34は負荷をなすカレントミラー回路を
構成するエンハンスメント形のpMOSトランジスタ、
35、36は駆動トランジスタをなすエンハンスメント
形のnMOSトランジスタである。
In FIG. 3, 31 is a differential amplifier circuit, and 32 is
Is a power supply voltage VCC, for example, VCC that supplies 3.3V
Power supply lines 33 and 34 are enhancement type pMOS transistors forming a current mirror circuit which forms a load,
Reference numerals 35 and 36 are enhancement type nMOS transistors which form drive transistors.

【0035】また、37は差動増幅回路活性化信号φE
によりON、OFFが制御されるエンハンスメント形の
nMOSトランジスタ、38、39は差動増幅回路活性
化信号φEによりON、OFFが制御されるエンハンス
メント形のpMOSトランジスタである。
37 is a differential amplifier circuit activation signal φ E
Enhancement type nMOS transistors whose ON and OFF are controlled by, and 38 and 39 are enhancement type pMOS transistors whose ON and OFF are controlled by the differential amplifier circuit activation signal φ E.

【0036】この差動増幅回路31は、クロック信号C
LKに対して、Hレベル側のしきい値VIH=1.7V、
Lレベル側のしきい値VIL=1.3Vとされている。
The differential amplifier circuit 31 has a clock signal C.
H level threshold V IH = 1.7 V with respect to LK,
It is the threshold V IL = 1.3V the L level side.

【0037】また、40は試験制御信号φTを反転する
インバータ、41はNOR回路であり、42はVCC電
源線、43、44はエンハンスメント形のpMOSトラ
ンジスタ、45、46はエンハンスメント形のnMOS
トランジスタである。
Further, 40 is an inverter for inverting the test control signal φ T , 41 is a NOR circuit, 42 is a VCC power supply line, 43 and 44 are enhancement type pMOS transistors, and 45 and 46 are enhancement type nMOS.
It is a transistor.

【0038】なお、NOR回路41は、クロック信号C
LKに対して、Hレベル側のしきい値(スレッショルド
電圧)VIH=2.2V、Lレベル側のしきい値VIL=0.
8Vとされている。
The NOR circuit 41 uses the clock signal C
With respect to LK, an H level side threshold (threshold voltage) V IH = 2.2 V, an L level side threshold V IL = 0.
It is set to 8V.

【0039】また、47は選択回路であり、48、49
はNAND回路、50、51はインバータであり、イン
バータ51の出力端は、ラッチ回路31〜3m-1のクロッ
ク信号入力端子に接続されている。
Further, 47 is a selection circuit, and 48, 49
Is a NAND circuit, 50 and 51 are inverters, and the output terminal of the inverter 51 is connected to the clock signal input terminals of the latch circuits 3 1 to 3 m−1 .

【0040】このように構成された本実施例において
は、通常動作時には、図4に示すように、試験制御信号
φT=「L」、インバータ40の出力=「H」に固定さ
れる。
In the present embodiment thus constructed, in the normal operation, as shown in FIG. 4, the test control signal φ T = “L” and the output of the inverter 40 = “H” are fixed.

【0041】この結果、NOR回路41においては、p
MOSトランジスタ43=OFF、nMOSトランジス
タ46=ONとなり、NOR回路41は非活性状態とさ
れ、その出力は「L」に固定される。
As a result, in the NOR circuit 41, p
The MOS transistor 43 = OFF and the nMOS transistor 46 = ON, the NOR circuit 41 is deactivated, and its output is fixed at “L”.

【0042】また、選択回路47においては、インバー
タ40の出力=「H」に固定されることから、NAND
回路48は、差動増幅回路31の出力に対してインバー
タとして動作することになる。
In the selection circuit 47, the output of the inverter 40 is fixed to "H", so that the NAND
The circuit 48 operates as an inverter for the output of the differential amplifier circuit 31.

【0043】また、NOR回路41の出力=「L」に固
定されることから、インバータ50の出力=「H」に固
定され、NAND回路49は、NAND回路48の出力
に対してインバータとして動作することになる。
Since the output of the NOR circuit 41 is fixed to "L", the output of the inverter 50 is fixed to "H", and the NAND circuit 49 operates as an inverter for the output of the NAND circuit 48. It will be.

【0044】ここに、たとえば、差動増幅回路活性化信
号φE=「H」とされる場合には、差動増幅回路31に
おいては、nMOSトランジスタ37=ON、pMOS
トランジスタ38、39=OFFとなり、差動増幅回路
31=活性状態とされる。
Here, for example, when the differential amplifier circuit activation signal φ E = “H” is set, in the differential amplifier circuit 31, the nMOS transistor 37 = ON, pMOS.
The transistors 38 and 39 are turned off, and the differential amplifier circuit 31 is activated.

【0045】この場合において、クロック信号CLK=
「H」の場合には、nMOSトランジスタ35=ON、
nMOSトランジスタ36=OFFとなり、ノード52
の電圧=「L」となる。
In this case, the clock signal CLK =
In the case of “H”, the nMOS transistor 35 = ON,
The nMOS transistor 36 turns off, and the node 52
Voltage = “L”.

【0046】この結果、選択回路47においては、NA
ND回路48の出力=「H」、NAND回路49の出力
=「L」、インバータ51の出力=「H」となり、これ
が、ラッチ回路31〜3m-1のクロック信号入力端に供給
される。
As a result, in the selection circuit 47, NA
The output of the ND circuit 48 = “H”, the output of the NAND circuit 49 = “L”, and the output of the inverter 51 = “H”, which are supplied to the clock signal input terminals of the latch circuits 3 1 to 3 m−1. .

【0047】これに対して、図5に示すように、クロッ
ク信号CLK=「L」の場合、差動増幅回路31におい
ては、nMOSトランジスタ35=OFF、nMOSト
ランジスタ36=ON、ノード52の電圧=「H」とな
る。
On the other hand, as shown in FIG. 5, when the clock signal CLK = “L”, in the differential amplifier circuit 31, the nMOS transistor 35 = OFF, the nMOS transistor 36 = ON, and the voltage of the node 52 = It becomes "H".

【0048】この結果、選択回路47においては、NA
ND回路48の出力=「L」、NAND回路49の出力
=「H」、インバータ51の出力=「L」となり、これ
が、ラッチ回路31〜3m-1のクロック信号入力端に供給
される。
As a result, in the selection circuit 47, NA
The output of the ND circuit 48 = “L”, the output of the NAND circuit 49 = “H”, and the output of the inverter 51 = “L”, which are supplied to the clock signal input terminals of the latch circuits 3 1 to 3 m−1. .

【0049】なお、図示は省略するが、差動増幅回路活
性化信号φE=「L」とされる場合には、nMOSトラ
ンジスタ37=OFF、pMOSトランジスタ38、3
9=ONとなり、差動増幅回路31=非活性状態とされ
ると共に、ノード52の電圧=「H」に固定される。
Although not shown, when the differential amplifier circuit activation signal φ E = “L” is set, the nMOS transistor 37 = OFF, the pMOS transistors 38, 3,
9 = ON, the differential amplifier circuit 31 is inactivated, and the voltage of the node 52 is fixed to “H”.

【0050】また、本実施例においては、バーンイン試
験時には、図6に示すように、試験制御信号φT
「H」、インバータ40の出力=「L」とされる。
Further, in the present embodiment, during the burn-in test, as shown in FIG. 6, the test control signal φ T =
“H” and the output of the inverter 40 = “L”.

【0051】この結果、NOR回路41においては、p
MOSトランジスタ43=ON、nMOSトランジスタ
46=OFFとなり、NOR回路41は、クロック信号
CLKに対して、pMOSトランジスタ44及びnMO
Sトランジスタ45からなるCMOSインバータとして
動作することになる。
As a result, in the NOR circuit 41, p
The MOS transistor 43 = ON, the nMOS transistor 46 = OFF, and the NOR circuit 41 receives the pMOS transistor 44 and the nMO with respect to the clock signal CLK.
It operates as a CMOS inverter composed of the S transistor 45.

【0052】また、選択回路47においては、NAND
回路48の出力=「H」に固定され、NAND回路49
は、NOR回路41の出力に対してインバータとして動
作することになる。
In the selection circuit 47, the NAND
The output of the circuit 48 is fixed to "H", and the NAND circuit 49
Will operate as an inverter for the output of the NOR circuit 41.

【0053】そこで、たとえば、クロック信号CLK=
「H」の場合、NOR回路41においては、pMOSト
ランジスタ44=OFF、nMOSトランジスタ45=
ONとなり、NOR回路41の出力=「L」となる。
Therefore, for example, the clock signal CLK =
In the case of “H”, in the NOR circuit 41, pMOS transistor 44 = OFF, nMOS transistor 45 =
When turned on, the output of the NOR circuit 41 becomes "L".

【0054】この結果、選択回路47においては、イン
バータ50の出力=「H」、NAND回路49の出力=
「L」、インバータ51の出力=「H」となり、これが
ラッチ回路31〜3m-1のクロック信号入力端に供給され
る。
As a result, in the selection circuit 47, the output of the inverter 50 = “H”, the output of the NAND circuit 49 =
“L”, the output of the inverter 51 = “H”, and this is supplied to the clock signal input terminals of the latch circuits 3 1 to 3 m−1 .

【0055】これに対して、図7に示すように、クロッ
ク信号CLK=「L」の場合には、NOR回路41にお
いては、pMOSトランジスタ44=ON、nMOSト
ランジスタ45=OFFとなり、NOR回路41の出力
=「H」となる。
On the other hand, as shown in FIG. 7, when the clock signal CLK = “L”, in the NOR circuit 41, the pMOS transistor 44 = ON and the nMOS transistor 45 = OFF, so that the NOR circuit 41 operates. Output = “H”.

【0056】この結果、選択回路47においては、イン
バータ50の出力=「L」、NAND回路49の出力=
「H」、インバータ51の出力=「L」となり、これが
ラッチ回路31〜3m-1のクロック信号入力端に供給され
る。
As a result, in the selection circuit 47, the output of the inverter 50 = “L”, the output of the NAND circuit 49 =
“H”, the output of the inverter 51 = “L”, and this is supplied to the clock signal input terminals of the latch circuits 3 1 to 3 m−1 .

【0057】このように、本実施例においては、通常動
作時には、クロック信号CLKに対して、Hレベル側の
しきい値VIHを1.7V、Lレベル側のしきい値V1L
1.3Vとする差動増幅回路31が入力回路として使用
される。
As described above, in the present embodiment, in the normal operation, the threshold V IH on the H level side is 1.7 V and the threshold V 1L on the L level side is 1.7 V with respect to the clock signal CLK. The differential amplifier circuit 31 of 3V is used as an input circuit.

【0058】これに対して、バーンイン試験時には、ク
ロック信号CLKに対して、Hレベル側のしきい値VIH
を2.2V、Lレベル側のしきい値VILを0.8Vとし、
差動増幅回路31よりもノイズに強いNOR回路41が
入力回路として使用される。
On the other hand, in the burn-in test, the threshold value V IH on the H level side with respect to the clock signal CLK.
Is 2.2 V and the threshold V IL on the L level side is 0.8 V,
The NOR circuit 41, which is more resistant to noise than the differential amplifier circuit 31, is used as an input circuit.

【0059】したがって、本実施例によれば、バーンイ
ン試験時、ノイズがクロック信号CLKの立ち上がり波
形又は立ち下がり波形に重畳されてしまう場合であって
も、誤動作を防ぎ、正常なバーンイン試験を行うことが
できる。
Therefore, according to the present embodiment, during the burn-in test, even if noise is superimposed on the rising or falling waveform of the clock signal CLK, malfunction is prevented and a normal burn-in test is performed. You can

【0060】また、本実施例においては、チップ・セレ
クト信号/CSなどの情報信号用の入力回路302〜3
mも、クロック信号CLK用の入力回路301と同様の
回路構成とされているので、これら情報信号にノイズが
重畳された場合においても、誤動作を防ぎ、正常なバー
ンイン試験を行うことができる。
Further, in this embodiment, the input circuits 30 2 to 3 3 for information signals such as the chip select signal / CS are used.
Since 0 m has the same circuit configuration as the input circuit 30 1 for the clock signal CLK, malfunction can be prevented and a normal burn-in test can be performed even when noise is superimposed on these information signals. .

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明によれば、外部から供給されるク
ロック信号に対して、通常動作時に使用されるしきい論
理回路の他に、ノイズに強い構成とされたしきい論理回
路を設け、バーンイン試験時には、このノイズに強い構
成とされたしきい論理回路から出力されるクロック信号
を、外部から供給される情報信号をラッチするラッチ回
路のクロック信号入力端に供給する構成としたことによ
り、バーンイン試験時、ノイズがCLKの立ち上がり波
形又は立ち下がり波形に重畳されてしまう場合であって
も、誤動作を防ぎ、正常なバーンイン試験を行うことが
できる。
According to the present invention, in addition to the threshold logic circuit used in the normal operation with respect to the clock signal supplied from the outside, a threshold logic circuit having a structure resistant to noise is provided. During the burn-in test, the clock signal output from the threshold logic circuit configured to be resistant to this noise is supplied to the clock signal input terminal of the latch circuit that latches the information signal supplied from the outside. Even when noise is superimposed on the rising or falling waveform of CLK during the burn-in test, malfunction can be prevented and a normal burn-in test can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の一部分を示す回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a part of an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例が設けている入力回路のう
ち、外部から供給されるクロック信号を増幅する入力回
路を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an input circuit that amplifies a clock signal supplied from the outside, among the input circuits provided in one embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例が設けている入力回路のう
ち、外部から供給されるクロック信号を増幅する入力回
路の動作(通常動作時)を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an operation (during normal operation) of an input circuit that amplifies a clock signal supplied from the outside, among input circuits provided in an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例が設けている入力回路のう
ち、外部から供給されるクロック信号を増幅する入力回
路の動作(通常動作時)を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an operation (during normal operation) of an input circuit that amplifies a clock signal supplied from the outside, among input circuits provided in an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施例が設けている入力回路のう
ち、外部から供給されるクロック信号を増幅する入力回
路の動作(バーンイン試験時)を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an operation (during a burn-in test) of an input circuit that amplifies a clock signal supplied from the outside, among input circuits provided in an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施例が設けている入力回路のう
ち、外部から供給されるクロック信号を増幅する入力回
路の動作(バーンイン試験時)を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an operation (during a burn-in test) of an input circuit that amplifies a clock signal supplied from the outside among the input circuits provided in the embodiment of the present invention.

【図8】従来のSDRAMの一部分を示す回路図であ
る。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a part of a conventional SDRAM.

【図9】従来のSDRAMが設けている入力回路のう
ち、外部から供給されるクロック信号を増幅する入力回
路を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an input circuit that amplifies a clock signal supplied from the outside, among input circuits provided in a conventional SDRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(図1) 20 クロック信号入力端子 21 情報信号入力端子 22、23 入力回路 24 ラッチ回路 25、26 しきい論理回路 27 選択回路 (FIG. 1) 20 clock signal input terminal 21 information signal input terminal 22, 23 input circuit 24 latch circuit 25, 26 threshold logic circuit 27 selection circuit

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 F 7630−4M 21/82 27/04 21/822 8832−4M H01L 21/82 T 27/04 T Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location H01L 21/66 F 7630-4M 21/82 27/04 21/822 8832-4M H01L 21/82 T 27/04 T

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】外部から供給されるクロック信号を増幅す
る第1の入力回路と、外部から供給される情報信号を増
幅する第2の入力回路と、前記第1の入力回路から出力
されるクロック信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイ
ミングで前記第2の入力回路から出力される情報信号を
ラッチするラッチ回路とを備えてなる半導体集積回路に
おいて、 前記第1の入力回路は、入力端に前記外部から供給され
るクロック信号が供給される第1のしきい論理回路と、
入力端に前記外部から供給されるクロック信号が供給さ
れ、高レベル側のしきい値を前記第1のしきい論理回路
よりも高くし、低レベル側のしきい値を前記第1のしき
い論理回路よりも低くし、通常動作時には非活性状態と
され、バーンイン試験時には活性状態とされる第2のし
きい論理回路と、通常動作時には、前記第1のしきい論
理回路から出力されるクロック信号を選択し、これを前
記ラッチ回路のクロック信号入力端に供給し、バーンイ
ン試験時には、前記第2のしきい論理回路から出力され
るクロック信号を選択し、これを前記ラッチ回路のクロ
ック信号入力端に供給する選択回路とを備えて構成され
ていることを特徴とする半導体集積回路。
1. A first input circuit for amplifying a clock signal supplied from the outside, a second input circuit for amplifying an information signal supplied from the outside, and a clock output from the first input circuit. In a semiconductor integrated circuit comprising a latch circuit that latches an information signal output from the second input circuit at the timing of rising or falling of a signal, the first input circuit has an input end from the outside. A first threshold logic circuit supplied with the supplied clock signal;
The clock signal supplied from the outside is supplied to the input terminal, the threshold value on the high level side is set higher than that of the first threshold logic circuit, and the threshold value on the low level side is set to the first threshold value. A second threshold logic circuit that is lower than the logic circuit, is inactive during normal operation, and is active during burn-in test, and the clock output from the first threshold logic circuit during normal operation. A signal is selected and supplied to the clock signal input terminal of the latch circuit. During the burn-in test, the clock signal output from the second threshold logic circuit is selected and input to the clock signal input of the latch circuit. A semiconductor integrated circuit, comprising: a selection circuit supplied to an end.
【請求項2】前記第1の入力回路の前記第1のしきい論
理回路は、pチャネルMISトランジスタからなるカレ
ントミラー回路を負荷とし、nチャネルMISトランジ
スタを駆動トランジスタとする差動増幅回路を備えて構
成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体集
積回路。
2. The first threshold logic circuit of the first input circuit comprises a differential amplifier circuit in which a current mirror circuit composed of a p-channel MIS transistor is a load and an n-channel MIS transistor is a drive transistor. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is configured as follows.
【請求項3】前記第1の入力回路の前記第2のしきい論
理回路は、制御信号により活性・非活性が制御され、活
性時、相補型MISインバータとして機能する論理回路
で構成されていることを特徴とする請求項1又は2記載
の半導体集積回路。
3. The second threshold logic circuit of the first input circuit is composed of a logic circuit which is activated / deactivated by a control signal and functions as a complementary MIS inverter when activated. The semiconductor integrated circuit according to claim 1 or 2, wherein:
【請求項4】前記第1の入力回路の前記第2のしきい論
理回路の前記論理回路は、ソースを電源電圧を供給する
電源線に接続され、ゲートに前記制御信号が供給される
第1のpチャネルMISトランジスタと、ソースを前記
第1のpチャネルMISトランジスタのドレインに接続
され、ゲートに前記外部から供給されるクロック信号が
供給される第2のpチャネルMISトランジスタと、ド
レインを前記第2のpチャネルMISトランジスタのド
レインに接続され、ソースを接地され、ゲートに前記外
部から供給されるクロック信号が供給される第1のnチ
ャネルMISトランジスタと、ドレインを前記第2のp
チャネルMISトランジスタのドレインに接続され、ソ
ースを接地され、ゲートに前記制御信号が供給される第
2のnチャネルMISトランジスタとを備え、前記第2
のpチャネルMISトランジスタのドレインと、前記第
1のnチャネルMISトランジスタのドレインとの接続
点を出力端とされていることを特徴とする請求項3記載
の半導体集積回路。
4. The first logic circuit of the second threshold logic circuit of the first input circuit has a source connected to a power supply line for supplying a power supply voltage, and a gate to which the control signal is supplied. A p-channel MIS transistor, a source thereof is connected to the drain of the first p-channel MIS transistor, and a gate thereof is supplied with a clock signal supplied from the outside, and a drain thereof is connected to the second p-channel MIS transistor. A second n-channel MIS transistor connected to the drain of the second p-channel MIS transistor, the source thereof is grounded, and the gate thereof is supplied with the clock signal supplied from the outside.
A second n-channel MIS transistor connected to the drain of the channel MIS transistor, having its source grounded, and having its gate supplied with the control signal;
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein a connection point between the drain of the p-channel MIS transistor and the drain of the first n-channel MIS transistor is an output terminal.
【請求項5】前記第1の入力回路の前記選択回路は、第
1の入力端を前記第1の入力回路の前記第1のしきい論
理回路の出力端に接続され、第2の入力端に制御信号が
供給される第1のNAND回路と、出力端を前記第1の
入力回路の前記第2のしきい論理回路の出力端に接続さ
れた第1のインバータと、第1の入力端を前記第1のN
AND回路の出力端に接続され、第2の入力端を前記第
1のインバータの出力端に接続された第2のNAND回
路と、入力端を前記第2のNAND回路の出力端に接続
され、出力端を前記ラッチ回路のクロック信号入力端に
接続された第2のインバータとを備えて構成されている
ことを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の半導体
集積回路。
5. The selection circuit of the first input circuit has a first input end connected to an output end of the first threshold logic circuit of the first input circuit, and a second input end. A first NAND circuit to which a control signal is supplied, a first inverter having an output end connected to an output end of the second threshold logic circuit of the first input circuit, and a first input end. The first N
A second NAND circuit connected to the output terminal of the AND circuit and having a second input terminal connected to the output terminal of the first inverter; and an input terminal connected to the output terminal of the second NAND circuit, 5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a second inverter having an output terminal connected to a clock signal input terminal of the latch circuit.
【請求項6】前記第2の入力回路は、入力端に前記外部
から供給される情報信号が供給される第1のしきい論理
回路と、入力端に前記外部から供給される情報信号が供
給され、高レベル側のしきい値を前記第1のしきい論理
回路よりも高くし、低レベル側のしきい値を前記第1の
しきい論理回路よりも低くし、通常動作時には非活性状
態とされ、バーンイン試験時には活性状態とされる第1
のしきい論理回路と、通常動作時には、前記第1のしき
い論理回路から出力される情報信号を選択し、これを前
記ラッチ回路の情報信号入力端に供給し、バーンイン試
験時には、前記第2のしきい論理回路から出力される情
報信号を選択し、これを前記ラッチ回路の情報信号入力
端に供給する選択回路とを備えて構成されていることを
特徴とする請求項1、2、3、4又は5記載の半導体集
積回路。
6. The second input circuit supplies a first threshold logic circuit having an input terminal supplied with the information signal supplied from the outside, and an input terminal supplied with the information signal supplied from the outside. The threshold value on the high level side is set higher than that of the first threshold logic circuit, and the threshold value on the low level side is set lower than that of the first threshold logic circuit, and is in an inactive state during normal operation. And is activated during the burn-in test.
Threshold logic circuit and the information signal output from the first threshold logic circuit during normal operation is selected and supplied to the information signal input terminal of the latch circuit, and during the burn-in test the second signal is selected. 4. A selection circuit for selecting an information signal output from a threshold logic circuit and supplying the selected information signal to an information signal input terminal of the latch circuit. 4. The semiconductor integrated circuit according to 4 or 5.
【請求項7】前記第2の入力回路の前記第1のしきい論
理回路は、pチャネルMISトランジスタからなるカレ
ントミラー回路を負荷とし、nチャネルMISトランジ
スタを駆動トランジスタとする差動増幅回路を備えて構
成されていることを特徴とする請求項6記載の半導体集
積回路。
7. The first threshold logic circuit of the second input circuit comprises a differential amplifier circuit in which a current mirror circuit composed of a p-channel MIS transistor is used as a load and an n-channel MIS transistor is used as a drive transistor. 7. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the semiconductor integrated circuit is configured as follows.
【請求項8】前記第2の入力回路の前記第2のしきい論
理回路は、制御信号により活性・非活性が制御され、活
性時、CMISインバータとして機能する論理回路で構
成されていることを特徴とする請求項6又は7記載の半
導体集積回路。
8. The second threshold logic circuit of the second input circuit is constituted by a logic circuit whose activation / inactivation is controlled by a control signal and which functions as a CMIS inverter when activated. 8. The semiconductor integrated circuit according to claim 6 or 7.
【請求項9】前記第2の入力回路の前記第2のしきい論
理回路の前記論理回路は、ソースを電源電圧を供給する
電源線に接続され、ゲートに前記制御信号が供給される
第1のpチャネルMISトランジスタと、ソースを前記
第1のpチャネルMISトランジスタのドレインに接続
され、ゲートに前記外部から供給される情報信号が供給
される第2のpチャネルMISトランジスタと、ドレイ
ンを前記第2のpチャネルMISトランジスタのドレイ
ンに接続され、ソースを接地され、ゲートに前記外部か
ら供給される情報信号が供給される第1のnチャネルM
ISトランジスタと、ドレインを前記第2のpチャネル
MISトランジスタのドレインに接続され、ソースを接
地され、ゲートに前記制御信号が供給される第2のnチ
ャネルMISトランジスタとを備え、前記第2のpチャ
ネルMISトランジスタのドレインと、前記第1のnチ
ャネルMISトランジスタのドレインとの接続点を出力
端とされていることを特徴とする請求項8記載の半導体
集積回路。
9. The first logic circuit of the second threshold logic circuit of the second input circuit has a source connected to a power supply line for supplying a power supply voltage and a gate to which the control signal is supplied. And a second p-channel MIS transistor whose source is connected to the drain of the first p-channel MIS transistor and whose gate is supplied with the information signal supplied from the outside, and whose drain is the first p-channel MIS transistor. A first n-channel M connected to the drain of the second p-channel MIS transistor, the source of which is grounded, and the gate of which is supplied with the information signal supplied from the outside.
An IS transistor and a second n-channel MIS transistor having a drain connected to the drain of the second p-channel MIS transistor, a source grounded, and a gate supplied with the control signal are provided. 9. The semiconductor integrated circuit according to claim 8, wherein a connection point between the drain of the channel MIS transistor and the drain of the first n-channel MIS transistor is used as an output terminal.
【請求項10】前記第2の入力回路の選択回路は、第1
の入力端を前記第2の入力回路の前記第1のしきい論理
回路の出力端に接続され、第2の入力端に制御信号が供
給される第1のNAND回路と、出力端を前記第2の入
力回路の前記第2のしきい論理回路の出力端に接続され
た第1のインバータと、第1の入力端を前記第1のNA
ND回路の出力端に接続され、第2の入力端を前記第1
のインバータの出力端に接続された第2のNAND回路
と、入力端を前記第2のNAND回路の出力端に接続さ
れ、出力端を前記ラッチ回路の情報信号入力端に接続さ
れた第2のインバータとを備えて構成されていることを
特徴とする請求項6、7、8又は9記載の半導体集積回
路。
10. The selection circuit of the second input circuit is the first circuit.
A first NAND circuit having an input end connected to an output end of the first threshold logic circuit of the second input circuit and a control signal supplied to a second input end, and an output end connected to the first NAND circuit. A first inverter connected to the output end of the second threshold logic circuit of the second input circuit; and a first input end connected to the first NA.
The second input end is connected to the output end of the ND circuit and is connected to the first end.
A second NAND circuit connected to the output terminal of the inverter, and a second NAND circuit having an input terminal connected to the output terminal of the second NAND circuit and an output terminal connected to the information signal input terminal of the latch circuit. 10. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the semiconductor integrated circuit comprises an inverter.
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