JPH07228996A - Production of metallic foil - Google Patents

Production of metallic foil

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JPH07228996A
JPH07228996A JP11636394A JP11636394A JPH07228996A JP H07228996 A JPH07228996 A JP H07228996A JP 11636394 A JP11636394 A JP 11636394A JP 11636394 A JP11636394 A JP 11636394A JP H07228996 A JPH07228996 A JP H07228996A
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electrolytic
cathode body
metal foil
metal
producing
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俊男 堀江
Koichi Ashizawa
公一 芦澤
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FURUKAWA SAAKIT FOIL KK
Furukawa Electric Co Ltd
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FURUKAWA SAAKIT FOIL KK
Furukawa Electric Co Ltd
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  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain metallic foil having consistent and good quality with good productivity and to prolong the life of a cathode body by subjecting the surface of the cathode body exposed after peeling to electrolytic oxidation at the time of producing the foil by peeling an electrodeposited metallic thin film from the surface of the cathode body. CONSTITUTION:An electrolytic treating liquid holding part 14 of an anodically oxidized film forming device 11 is brought into elastic contact with the surface 3a exposed after the metallic foil of the cathode body 3 rotating in a direction p is peeled and is rotated into a direction r. The electrolytic treating liquid 15a is supplied in this state to a pipe 15 and is dropped from apertures 15b onto the electrolytic treating liquid holding part 14 so as to be impregnated therein. Consequently, the conductive roll 13 and the surface 3a of the rotary cathode body 3 are made conducting via the electrolytic treating liquid 15a. Terminals 13a, 13a installed to the conductive roll 13 are then connected to a minus side of a power source and an electrolytic current is passed between the conductive roll 13 and the rotating cathode body 3, by which the surface 3a is continuously or intermittently anodically oxidized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は金属箔の製造方法に関
し、更に詳しくは、所定の電解液が満たされている電解
槽の中にアノード体とカソード体を配設し、両者間に通
電して電解反応を進めることによりカソード体の表面に
所定の金属を電析させたのち、その金属薄層をカソード
体の表面から剥離して例えば電解銅箔のような金属箔を
製造する際に、そのカソード体の使用寿命を長くできる
とともに、得られる金属箔の性状も良好にすることがで
きる金属箔の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a metal foil, more specifically, an anode body and a cathode body are arranged in an electrolytic cell filled with a predetermined electrolytic solution, and an electric current is applied between them. After depositing a predetermined metal on the surface of the cathode body by advancing the electrolytic reaction, the thin metal layer is peeled from the surface of the cathode body to produce a metal foil such as an electrolytic copper foil. The present invention relates to a method for producing a metal foil, which can extend the service life of the cathode body and improve the properties of the obtained metal foil.

【0002】[0002]

【従来の技術】鉄,銅,クロム,ニッケルなどの金属
箔、またはこれら金属の合金箔は、一般に、不溶性のカ
ソード体と、同じく不溶性のアノード体との間に、これ
ら金属のイオンを含む所定の電解液を供給しながら電解
反応を行うことにより目的とする金属をカソード体の表
面に所望の厚みだけ電析させて金属薄層を形成し、つい
で、形成されたその金属薄層をカソード体の表面から剥
離することによって製造されている。その場合、カソー
ド体としては、ドラム形状のものまたは板状のものが用
いられている。
2. Description of the Related Art Metal foils of iron, copper, chromium, nickel or the like, or alloy foils of these metals, generally contain a predetermined amount of ions of these metals between an insoluble cathode body and an insoluble anode body. The target metal is deposited on the surface of the cathode body to a desired thickness by conducting an electrolytic reaction while supplying the electrolytic solution of to form a thin metal layer, and then the formed thin metal layer is formed into a cathode body. It is manufactured by peeling from the surface. In that case, a drum-shaped or plate-shaped cathode body is used.

【0003】ところで、上記した金属箔の製造は、図1
で示したような構造の装置で行われているのが通例であ
る。すなわち、まず、電解槽1の中には、例えば鉛から
成る不溶性のアノード体2と例えばチタン,ステンレス
鋼またはクロム被覆のステンレス鋼などから成りかつド
ラム形状をした不溶性の回転カソード体3が所定間隔の
間隙4を置いて対向配置され、槽内には例えば所定の種
類と濃度の電解液5が満たされている。
By the way, the production of the above-mentioned metal foil is performed by using the method shown in FIG.
It is customary to use an apparatus having a structure as shown in FIG. That is, first, in the electrolytic cell 1, an insoluble anode body 2 made of, for example, lead and an insoluble rotating cathode body 3 made of, for example, titanium, stainless steel, or chromium-coated stainless steel and having a drum shape are arranged at predetermined intervals. Are arranged so as to face each other with a gap 4 therebetween, and the tank is filled with, for example, an electrolytic solution 5 of a predetermined type and concentration.

【0004】そして、ディストリビュータ(電解液流出
口)6で上記間隙4に電解液5を供給しながら、回転カ
ソード体3を矢印pのように回転させ、アノード体2と
回転カソード体3の間に所定の電流密度で通電して電解
反応が進められる。回転カソード体3の表面3aには所
定の厚みで金属が電析するが、その電析金属の薄層は回
転カソード体3の表面3aから金属箔として剥離され、
得られた金属箔7はガイドローラ8a,8bを介して、
巻取機9で巻き取られ、ここに所望する金属箔が連続的
に製造される。
Then, the rotating cathode body 3 is rotated as shown by an arrow p while supplying the electrolytic solution 5 to the gap 4 by the distributor (electrolytic solution outlet) 6, so that the rotating cathode body 3 is rotated between the anode body 2 and the rotating cathode body 3. The electrolytic reaction proceeds by energizing at a predetermined current density. A metal is electrodeposited on the surface 3a of the rotating cathode body 3 with a predetermined thickness, and a thin layer of the electrodeposited metal is peeled off from the surface 3a of the rotating cathode body 3 as a metal foil,
The obtained metal foil 7 is passed through the guide rollers 8a and 8b,
It is wound by the winder 9, and desired metal foils are continuously produced here.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した従
来装置を長時間運転すると、金属の電析と金属箔の剥離
が繰り返されることにより、そのカソード体表面の金属
疲労が起こったり、また、金属箔7が剥離されたのちに
露出した回転カソード体3の裸の表面3aは、アノード
体2から発生する酸素ガスや電解液5の飛沫などを含む
雰囲気に長時間曝されることにより不均一に酸化されて
しまう。その結果、表面3aには、様々な場所に厚みが
ばらついている不均一な酸化皮膜が形成される。そし
て、表面3aに、このような不均一な酸化皮膜が形成さ
れている状態で回転カソード体3に金属が電析すると、
得られる金属箔7には表面ムラやピンホールなどの組織
欠陥が発生する。
By the way, when the above-mentioned conventional apparatus is operated for a long period of time, metal deposition on the surface of the cathode body may occur due to repeated electrodeposition of metal and peeling of the metal foil. The bare surface 3a of the rotating cathode body 3 exposed after the foil 7 has been peeled off becomes non-uniform due to long-term exposure to an atmosphere containing oxygen gas generated from the anode body 2 and splashes of the electrolytic solution 5. It will be oxidized. As a result, on the surface 3a, a non-uniform oxide film whose thickness varies in various places is formed. Then, when metal is electrodeposited on the rotating cathode body 3 in a state where such a nonuniform oxide film is formed on the surface 3a,
The resulting metal foil 7 has structural defects such as surface unevenness and pinholes.

【0006】このような問題を解決するために、従来は
装置を所定の時間連続運転したのちに、回転カソード体
3を回転させながら、図1で示したように、その表面3
aに矢印qのように回転するバフ10を当接して表面3
aのバフ研磨を行い、もって表面3aに形成されていた
不均一な酸化皮膜を除去することにより回転カソード体
3の活性な表面を露出させるという処置が採られてい
る。この処置は周期的に行なわれ、そのことによって、
製造される金属箔の品質が一定に保持される。電解銅箔
の製造の際には、通常、例えば約48時間ごとにバフ研
磨が行われている。
In order to solve such a problem, conventionally, after continuously operating the apparatus for a predetermined time, while rotating the rotating cathode body 3, as shown in FIG.
The buff 10 rotating as indicated by the arrow q is brought into contact with a and the surface 3
The treatment is carried out by exposing the active surface of the rotating cathode body 3 by buffing a and removing the uneven oxide film formed on the surface 3a. This procedure is performed cyclically, which
The quality of the metal foil produced is kept constant. When manufacturing an electrolytic copper foil, buffing is usually performed, for example, about every 48 hours.

【0007】しかしながら、金属箔の品質を一定に保持
するためには、上記バフ研磨を、装置を運転しながら所
定の周期で行うことが不可欠であるため、バフ研磨を行
っている過程で製造される金属箔は製品としての性状を
備えていないために、廃棄せざるを得ない。このような
ことから、金属箔の生産性が低下するという問題が引き
起こされる。
However, in order to keep the quality of the metal foil constant, it is indispensable to perform the buffing in a predetermined cycle while operating the apparatus, and therefore, the buffing is performed in the process of performing the buffing. Since the metal foil used as a product does not have the properties of a product, it must be discarded. This causes a problem that the productivity of the metal foil is reduced.

【0008】また、バフ研磨の過程で研磨粉やバフ片の
ような異物が発生するが、これら異物が電解液に混入す
ることが原因で、金属箔に不良品が発生することがあ
る。更には、バフ研磨によってカソード体の表面、とく
にカソード体表面の両端部が摩耗してカソード体の使用
寿命が短縮する。そのため、カソード体の交換頻度は高
くなり、製造コストの上昇が引き起こされる。
Further, foreign substances such as polishing powder and buff pieces are generated in the process of buffing, and defective products may be produced in the metal foil due to the inclusion of these foreign substances in the electrolytic solution. Further, the buffing abrades the surface of the cathode body, especially both ends of the surface of the cathode body, and shortens the service life of the cathode body. Therefore, the frequency of exchanging the cathode body increases, which causes an increase in manufacturing cost.

【0009】一方、旧東ドイツの公開公報:DD 21
7 828 A1には、銅箔製造に用いるチタンまたは
チタン合金のカソード体に陽極酸化を行って、表面に酸
化皮膜を形成する方法が開示されている。この方法にお
いては、硫酸などの電解液にカソード体の一部または全
部を浸漬し、電解電圧15〜40V,電流密度50〜3
00mA/dm2 の条件で10〜60分の陽極酸化が行われ
る。
On the other hand, the former East German publication: DD 21
7 828 A1 discloses a method of forming an oxide film on the surface by anodizing a titanium or titanium alloy cathode body used for copper foil production. In this method, a part or all of the cathode body is immersed in an electrolytic solution such as sulfuric acid to generate an electrolysis voltage of 15 to 40 V and a current density of 50 to 3
Anodization is performed for 10 to 60 minutes under the condition of 00 mA / dm 2 .

【0010】しかしながら、この先行技術はカソード体
の陽極酸化処理を行ったのち、処理後のカソード体を銅
箔製造用の電解槽の中に入れて銅箔製造を行うことを開
示するのみである。また、この先行技術を利用して銅箔
を連続的に製造する場合には、カソード体表面の陽極酸
化処理を行う際に、銅箔製造の工程は、一旦、中断せざ
るを得ない。すなわち、上記先行技術を利用して銅箔製
造を行った場合、長尺な銅箔を連続的に生産する際の生
産性は低くなる。
However, this prior art only discloses that after the anodizing treatment of the cathode body, the treated cathode body is placed in an electrolytic bath for copper foil production to produce the copper foil. . Further, in the case of continuously producing a copper foil using this prior art, the process of producing the copper foil has to be interrupted once when performing the anodizing treatment on the surface of the cathode body. That is, when the copper foil is manufactured using the above-mentioned prior art, the productivity in continuously producing a long copper foil is low.

【0011】本発明は、金属箔を連続的に製造する際に
おける上記した問題を解決し、用いるカソード体の表面
に均一な酸化皮膜を形成することにより、従来のような
バフ研磨を行うことなく品質が一定かつ良質な金属箔を
製造することができ、また、カソード体の使用寿命を長
くすることができる金属箔の製造方法の提供を目的とす
る。
The present invention solves the above-mentioned problems in the continuous production of metal foils and forms a uniform oxide film on the surface of the cathode body to be used, thereby eliminating the need for conventional buffing. It is an object of the present invention to provide a metal foil manufacturing method capable of manufacturing a metal foil having a constant quality and a good quality and extending the service life of the cathode body.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明においては、電解液に浸漬されているア
ノード体とカソード体の間に通電して電解反応を起こ
し、前記電解反応により前記カソード体の表面に金属を
電析して金属薄層を形成したのちに、前記金属薄層を前
記カソード体の表面から剥離して連続的に金属箔を製造
する際に、前記金属薄層の剥離後に露出している前記カ
ソード体の表面を連続的または間欠的に電解酸化して当
該露出表面に陽極酸化皮膜を形成することを特徴とする
金属箔の製造方法が提供される。
In order to achieve the above-mentioned object, in the present invention, an electric current is caused to flow between an anode body and a cathode body which are immersed in an electrolytic solution to cause an electrolytic reaction. When a metal thin layer is formed by electrodepositing a metal on the surface of the cathode body and then the metal thin layer is peeled from the surface of the cathode body to continuously produce a metal foil, the metal thin layer is used. The method for producing a metal foil is characterized in that the surface of the cathode body exposed after peeling is electro-oxidized continuously or intermittently to form an anodic oxide film on the exposed surface.

【0013】本発明方法の最大の特徴は、金属箔の製造
装置を運転しつつ、金属箔が剥離されたカソード体の露
出表面に、カソード体表面への金属の電析にとって害と
ならない程度の厚みでかつ、その厚みも均一な陽極酸化
皮膜を一様に形成するところにある。とくに、本発明方
法によれば、カソード体の露出表面をオンラインで陽極
酸化することができるので、カソード体の表面には、一
定の厚みの極めて薄い酸化皮膜を確保することができ、
そのことにより、機械特性が比較的安定した薄い電解金
属箔を長時間に亘って製造することができるという利点
がある。
The greatest feature of the method of the present invention is that the exposed surface of the cathode body from which the metal foil has been peeled off is not harmful to electrodeposition of the metal on the surface of the cathode body while operating the apparatus for producing the metal foil. The point is to form a uniform anodic oxide film having a uniform thickness. In particular, according to the method of the present invention, since the exposed surface of the cathode body can be anodized online, an extremely thin oxide film having a certain thickness can be secured on the surface of the cathode body,
This has the advantage that a thin electrolytic metal foil having relatively stable mechanical properties can be manufactured for a long time.

【0014】この均一な陽極酸化皮膜はそれ自体が耐食
性を備えている。したがって、金属箔製造時における電
解反応の進行中にアノード体から発生する酸素ガスや電
解液の飛沫微粒子に長時間曝されたとしても、金属箔剥
離後のカソード体の露出表面に不均一な酸化皮膜が形成
されることを防止する保護膜として機能する。その結
果、製造された金属箔には表面ムラやピンホールなどの
組織欠陥の発生が有効に防止される。
This uniform anodic oxide film has corrosion resistance itself. Therefore, even if exposed to oxygen gas generated from the anode body or droplets of the electrolytic solution generated during the electrolytic reaction during the production of the metal foil for a long time, non-uniform oxidation on the exposed surface of the cathode body after peeling the metal foil occurs. It functions as a protective film that prevents the formation of a film. As a result, the produced metal foil can effectively prevent the occurrence of surface defects and texture defects such as pinholes.

【0015】また、この陽極酸化皮膜は、この上に形成
される金属薄層との剥離性が良好であるため、金属の電
析−金属箔の剥離の反復に基づくカソード体の表面にお
ける金属疲労の発生を有効に抑制する。したがって、こ
の陽極酸化皮膜が形成されていないカソード体の場合に
は時として起こっているカソード体表面の局部的破損と
いう事態が防止される。
Further, since this anodic oxide film has a good releasability from the thin metal layer formed thereon, metal fatigue on the surface of the cathode body due to repeated electrodeposition of metal and peeling of the metal foil. Effectively suppress the occurrence of. Therefore, in the case of the cathode body on which this anodized film is not formed, the occasional localized damage on the surface of the cathode body is prevented.

【0016】このように、本発明方法によれば、前記し
た極めて薄い均一な陽極酸化皮膜がオンラインで連続ま
たは必要に応じて間欠的にカソード体の表面に形成され
るので、カソード体の表面を長期間に亘って安定で均一
な状態に保持することができる。したがって、従来のよ
うにバフ研磨を短い周期で行わなくてもよくなる。この
陽極酸化皮膜は、後述する陽極酸化皮膜形成装置を、カ
ソード体の表面のうち、金属箔の剥離後に露出した表面
に装着し、その装置を連続的または間欠的に作動させる
ことによって形成される。
As described above, according to the method of the present invention, the extremely thin uniform anodic oxide film described above is continuously formed on-line or intermittently as necessary on the surface of the cathode body. It can be maintained in a stable and uniform state for a long period of time. Therefore, it is not necessary to perform buffing in a short cycle as in the conventional case. This anodic oxide film is formed by mounting an anodic oxide film forming device, which will be described later, on the surface of the cathode body that is exposed after the metal foil is peeled off, and operating the device continuously or intermittently. .

【0017】その場合、陽極酸化皮膜形成装置11は、
図2で示したように、カソード体3の表面3aが電解液
5と接触する前段の位置に装着される。したがって、カ
ソード体3への金属の電析は、電解反応に先立ち上記陽
極酸化皮膜形成装置を作動させることによって形成され
ている陽極酸化皮膜の上で進行する。
In this case, the anodic oxide film forming apparatus 11 is
As shown in FIG. 2, the surface 3 a of the cathode body 3 is mounted at a position in the front stage where the surface 3 a contacts the electrolytic solution 5. Therefore, the electrodeposition of the metal on the cathode body 3 proceeds on the anodized film formed by operating the anodized film forming apparatus prior to the electrolytic reaction.

【0018】ここで、本発明の陽極酸化皮膜形成装置の
1例を図3に示す。この例の場合、装置は、中心に装置
装着用のシャフト12を有し、陽極酸化時に、回転カソ
ード体3に対向する対極体として機能する導電性のロー
ル13,この導電性ロールを取り囲んで配設された陽極
酸化用の電解処理液保持部14、および、この電解処理
液保持部に陽極酸化用の電解処理液15aを供給するた
めの電解処理液供給手段15であるパイプで構成されて
いる。そして、電解処理液保持部14が仮想線で示した
回転カソード体3の表面3aと接触した状態で、前記シ
ャフト12を図示しない手段で回転可能に支持すること
により装置11の全体が、図2で示したように、回転カ
ソード体3の表面3aに装着されている。
An example of the anodized film forming apparatus of the present invention is shown in FIG. In the case of this example, the device has a shaft 12 for mounting the device in the center, and at the time of anodization, a conductive roll 13 that functions as a counter electrode facing the rotating cathode body 3, and a conductive roll 13 is arranged so as to surround this conductive roll. It is configured by an electrolytic treatment liquid holding portion 14 for anodization provided and a pipe which is an electrolytic treatment liquid supply means 15 for supplying the electrolytic treatment liquid 15a for anodization to the electrolytic treatment liquid holding portion. . Then, with the electrolytic treatment liquid holding portion 14 in contact with the surface 3a of the rotating cathode body 3 shown by the phantom line, the shaft 12 is rotatably supported by means (not shown) so that the entire apparatus 11 is As shown in (3), it is mounted on the surface 3a of the rotating cathode body 3.

【0019】導電性ロール13としては、全体がチタ
ン,ニッケル,クロム,銅,ステンレスのような耐食性
を有する材料から成るロール、またはこれら材料の表面
を、例えば、銀,銀合金,金,金合金,パラジウム,パ
ラジウム合金などの導電性を有すると同時に陽極酸化に
用いる電解処理液に対して耐食性を有する材料で被覆し
たものを使用することもできる。また、ポリプロピレ
ン,ポリ塩化ビニルなど、非導電性のプラスチック材か
ら成るロールの表面を、導電性と耐食性を有する材料の
箔や線材やメッシュで覆ったもの、あるいは、上記ロー
ル表面に導電性と耐食性を有する材料をめっき,溶射,
塗布したものを使用することができる。要は、少なくと
も表面は導電性と耐食性を有しているロールが、カソー
ド体表面の電解酸化用の対極体として使用される。
As the conductive roll 13, a roll made entirely of a material having corrosion resistance such as titanium, nickel, chromium, copper, and stainless, or the surface of these materials, for example, silver, silver alloy, gold, gold alloy It is also possible to use a material such as palladium, palladium alloy, etc., which is coated with a material that is electrically conductive and, at the same time, has corrosion resistance to the electrolytic treatment liquid used for anodization. In addition, the surface of the roll made of non-conductive plastic material such as polypropylene or polyvinyl chloride is covered with a foil or wire or mesh made of a material having conductivity and corrosion resistance, or the roll surface has conductivity and corrosion resistance. Plating material with
A coated product can be used. In short, at least the surface of the roll having conductivity and corrosion resistance is used as a counter electrode for electrolytic oxidation of the surface of the cathode body.

【0020】この導電性ロール(対極体)13を取り囲
んでいる電解処理液保持部14は、通液性を有するとと
もに適当な弾性を備えている。この電解処理液保持部1
4は、用いる電解処理液に対して耐食性を備えた材料、
例えば、ポリウレタン,ポリビニルホルマールやポリエ
ステルのフェルト,不織布,スプリットヤーンなどで導
電性ロール13の周囲を被覆して形成される。
The electrolytic treatment liquid holding portion 14 surrounding the conductive roll (counter electrode) 13 has liquid permeability and appropriate elasticity. This electrolytic treatment liquid holding part 1
4 is a material having corrosion resistance to the electrolytic treatment liquid used,
For example, it is formed by covering the periphery of the conductive roll 13 with polyurethane, polyvinyl formal or polyester felt, non-woven fabric, split yarn, or the like.

【0021】この電解処理液保持部14の上方には、電
解処理液保持部14の軸方向に複数個の開口15bが穿
設されているパイプ15が配置され、このパイプ15に
は、ポンプ15cによって所定の電解処理液15aが供
給されるようになっている。供給される電解処理液15
aは格別限定されるものではないが、金属箔製造に用い
ている電解液と混合してもその金属箔製造に害を与えな
いものが用いられ、例えば、金属箔の製造においてカソ
ード体の表面に金属を電析するために現に用いている電
解液と同一のもの、あるいは前記電解液と成分は同一で
あるがその成分比が異なっているものを使用することが
できる。
A pipe 15 having a plurality of openings 15b in the axial direction of the electrolytic treatment liquid holding portion 14 is arranged above the electrolytic treatment liquid holding portion 14, and the pipe 15 has a pump 15c. The predetermined electrolytic treatment liquid 15a is supplied by the. Electrolytic treatment liquid 15 supplied
Although a is not particularly limited, those which do not harm the production of the metal foil even when mixed with the electrolytic solution used for the production of the metal foil are used. For example, in the production of the metal foil, the surface of the cathode body is used. It is possible to use the same electrolyte as the one currently used for electrodepositing the metal, or one having the same components as the above electrolyte but having different component ratios.

【0022】前記電解液としては、例えば、電解銅箔の
製造時には硫酸銅水溶液、ニッケル箔の製造時には硫酸
ニッケル水溶液やスルファミン酸ニッケル水溶液、亜鉛
箔の製造時には硫酸亜鉛水溶液などを使用することがで
きる。なお、これらの現に金属薄層の形成に用いている
電解液、あるいは、それと同一成分であるが成分比が異
なっている電解液を使用した場合には、その温度を、そ
の電解液に溶解している電解質の析出温度よりも高い温
度に設定することが好ましい。
As the electrolytic solution, for example, an aqueous solution of copper sulfate can be used when manufacturing an electrolytic copper foil, an aqueous solution of nickel sulfate or nickel sulfamate when manufacturing a nickel foil, and an aqueous solution of zinc sulfate when manufacturing a zinc foil. . In addition, when these electrolytic solutions currently used for forming the thin metal layer or electrolytic solutions having the same composition but different composition ratios are used, the temperature is dissolved in the electrolytic solution. It is preferable to set the temperature higher than the deposition temperature of the electrolyte used.

【0023】電解液の温度を前記電解液に溶解している
電解質の析出温度よりも低い温度にすると、電解質の析
出が起こり、それがカソード体の表面に付着して陽極酸
化を妨げ、そのことが原因となって金属箔には局部的に
ミクロな組織欠陥が発生することにより、金属箔の機械
特性の低下や金属箔表面への瘤状組織が生じやすくなる
からである。
When the temperature of the electrolytic solution is set to a temperature lower than the deposition temperature of the electrolyte dissolved in the electrolytic solution, the deposition of the electrolyte occurs, which adheres to the surface of the cathode body to hinder the anodization. This is because a microstructure defect locally occurs in the metal foil due to the above, and thus mechanical properties of the metal foil are deteriorated and a bump-like structure on the surface of the metal foil is likely to occur.

【0024】また、供給される電解処理液15aとして
は、カソード体3の表面3aに電析する金属のイオンは
含まないものを用いることもできる。このような電解処
理液としては、例えば、硫酸水溶液,リン酸水溶液,塩
酸水溶液のような酸性水溶液や、硫酸ナトリウム,硫酸
カリウム,塩化ナトリウム,塩化カリウムなどが溶解す
る中性水溶液をあげることができる。なかでも、銅箔製
造に際しては、硫酸水溶液は好適である。
Further, as the electrolytic treatment liquid 15a to be supplied, it is possible to use a liquid which does not contain metal ions deposited on the surface 3a of the cathode body 3. Examples of such an electrolytic treatment solution include acidic aqueous solutions such as aqueous sulfuric acid solution, aqueous phosphoric acid solution and aqueous hydrochloric acid solution, and neutral aqueous solutions in which sodium sulfate, potassium sulfate, sodium chloride, potassium chloride and the like are dissolved. . Among them, a sulfuric acid aqueous solution is suitable for producing a copper foil.

【0025】電解処理液として硫酸水溶液を用いる場合
には、その濃度を10g/l以下にすることが好まし
い。その理由は以下のとおりである。図2において、カ
ソード体3の表面の陽極酸化に使われた硫酸水溶液はカ
ソード体3の表面に沿って電解槽1の液面にまで流れ落
ちていく。そして、装置11の下方に位置している電解
酸化処理後のカソード体3の表面にはほとんど電解電流
は流れず、したがって、陽極酸化皮膜も成長していな
い。そのため、ここに濃度が10g/lを超えた硫酸水
溶液が流れ落ちると、せっかく形成した薄く均一な厚み
の陽極酸化皮膜の侵食が起こり得るからである。
When a sulfuric acid aqueous solution is used as the electrolytic treatment liquid, its concentration is preferably 10 g / l or less. The reason is as follows. In FIG. 2, the sulfuric acid aqueous solution used for anodizing the surface of the cathode body 3 flows down along the surface of the cathode body 3 to the liquid surface of the electrolytic cell 1. Then, almost no electrolytic current flows on the surface of the cathode body 3 located below the device 11 after the electrolytic oxidation treatment, and therefore, the anodic oxide film does not grow. Therefore, if an aqueous solution of sulfuric acid having a concentration of more than 10 g / l flows down here, erosion of the thin anodic oxide film having a uniform thickness may occur.

【0026】なお、陽極酸化用電解処理液の供給手段と
しては、上記したパイプ形式に限るものではなく、例え
ば、導電性ロール13を中空体とし、その周面に多数の
開口を穿設し、導電性ロール13の中空部に電解処理液
を供給することにより、その周面の開口から電解処理液
保持部14に内側から電解処理液を供給できるようなも
のであってもよい。
The means for supplying the electrolytic treatment liquid for anodic oxidation is not limited to the pipe type described above. For example, the conductive roll 13 is a hollow body and a large number of openings are formed on the peripheral surface thereof. By supplying the electrolytic treatment liquid to the hollow portion of the conductive roll 13, the electrolytic treatment liquid may be supplied from the inside to the electrolytic treatment liquid holding portion 14 through the opening of the peripheral surface thereof.

【0027】装置11を用いた場合、カソード体表面へ
の陽極酸化皮膜は次のようにして形成される。まず、矢
印pのように回転している回転カソード体3の表面3a
に、装置11の電解処理液保持部14を弾力性をもたせ
て接触させる。したがって電解処理液保持部14は図の
矢印r方向に自動的に回転する。この状態を維持したま
まパイプ(電解処理液供給手段)15に所定の電解処理
液15aが供給される。
When the apparatus 11 is used, the anodized film on the surface of the cathode body is formed as follows. First, the surface 3a of the rotating cathode body 3 rotating as indicated by the arrow p.
Then, the electrolytic treatment liquid holding portion 14 of the device 11 is brought into contact with the elastic treatment liquid holding portion 14 with elasticity. Therefore, the electrolytic treatment solution holder 14 automatically rotates in the direction of arrow r in the figure. While maintaining this state, a predetermined electrolytic treatment liquid 15a is supplied to the pipe (electrolytic treatment liquid supply means) 15.

【0028】電解処理液15aは開口15bから電解処
理液保持部14に滴下されて電解処理液保持部14の内
部にまで含浸し、そこに保持される。その結果、導電性
ロール(電解酸化用の対極体)13と回転カソード体3
の表面3aとの間は、電解処理液15aを介して導通状
態になる。
The electrolytic treatment liquid 15a is dripped into the electrolytic treatment liquid holding portion 14 from the opening 15b to impregnate the inside of the electrolytic treatment liquid holding portion 14 and is held therein. As a result, the conductive roll (counter electrode for electrolytic oxidation) 13 and the rotating cathode body 3
The surface 3a is electrically connected through the electrolytic treatment liquid 15a.

【0029】ついで、導電性ロール13に付設されてい
る端子13a,13aを電源(図示せず)のマイナス側
に、回転カソード体3の表面3aを電源のプラス側に接
続し、導電性ロール13と回転カソード体3の表面3a
の間に電解電流を通電して表面3aを陽極酸化する。こ
のとき、上記導電性ロール(対極体)は、回転カソード
体の表面に金属箔を電析させているときの電位よりも低
い電位になるような状態で通電し、同時にアノード体の
電位は回転カソード体の電位よりも高くすることが必要
である。アノード体の電位よりもカソード体の電位を高
くすると、カソード体の表面に金属箔が電析しなかった
り、あるいは、回転カソード体の電位よりも導電性ロー
ルの電位が高くなるような通電を行うと、導電性ロール
13がプラス極に、また、回転カソード体3の表面3a
がマイナス極となり、回転カソード体3の表面3aが陽
極酸化されないという不都合が生ずるからである。
Next, the terminals 13a, 13a attached to the conductive roll 13 are connected to the negative side of the power source (not shown), and the surface 3a of the rotating cathode body 3 is connected to the positive side of the power source, and the conductive roll 13 is connected. And the surface 3a of the rotating cathode body 3
During this period, an electrolytic current is passed to anodize the surface 3a. At this time, the conductive roll (counter electrode) is energized so that the potential becomes lower than the potential when the metal foil is electrodeposited on the surface of the rotating cathode, and at the same time the potential of the anode rotates. It is necessary to make it higher than the potential of the cathode body. When the potential of the cathode body is higher than that of the anode body, metal foil is not deposited on the surface of the cathode body, or electricity is applied so that the potential of the conductive roll becomes higher than that of the rotating cathode body. And the conductive roll 13 becomes the positive electrode, and the surface 3a of the rotating cathode body 3
Is a negative electrode and the surface 3a of the rotating cathode body 3 is not anodized, which causes a disadvantage.

【0030】このようにして、回転カソード体の表面3
aには所望する厚みの陽極酸化皮膜が形成される。例え
ば、回転カソード体がチタンで構成されている場合、形
成する陽極酸化皮膜の厚みを1.4〜140Åにすること
が好ましい。この皮膜の厚みを140Åより厚くする
と、皮膜が電気絶縁性になりはじめるとともに、その絶
縁性が不均一になり、回転カソード体の表面に電析して
得られた金属箔には表面ムラが起こり、ピンホールが発
生しやすくなる。その結果、抗張力や伸びなど、金属箔
の機械特性が劣化するからである。また、厚みが1.4Å
より薄くなると、アノード体から発生する酸素ガスや電
解液の飛沫から回転カソード体の表面を保護するための
保護皮膜としての機能や、また、金属の電析−金属薄層
の剥離の反復に伴う回転カソード体表面の金属疲労を抑
制するという機能などが失われてくるからである。
In this way, the surface 3 of the rotating cathode body is
An anodized film having a desired thickness is formed on a. For example, when the rotating cathode body is made of titanium, the thickness of the anodic oxide film formed is preferably 1.4 to 140 Å. When the thickness of this film is more than 140Å, the film begins to become electrically insulating and its insulating property becomes non-uniform, and the metal foil obtained by electrodeposition on the surface of the rotating cathode body has uneven surface. , Pinholes are more likely to occur. As a result, mechanical properties of the metal foil such as tensile strength and elongation are deteriorated. Also, the thickness is 1.4Å
When it becomes thinner, it functions as a protective film to protect the surface of the rotating cathode body from the oxygen gas generated from the anode body and the splash of the electrolytic solution, and it also accompanies repeated electrodeposition of metal and peeling of the thin metal layer. This is because the function of suppressing metal fatigue on the surface of the rotating cathode body is lost.

【0031】陽極酸化皮膜の好ましい厚みは、チタン製
回転カソード体表面の粗さや組織の均質さ、あるいは形
成する金属薄層の厚みによっても異なるが、50Å程度
である。厚みが50Å程度の陽極酸化皮膜は、酸化チタ
ン特有のアナターゼ型結晶構造をほとんどとらずに、比
較的エピタキシャルな、またはアモルファスな皮膜構造
になるため、その上に形成されている金属薄層にミクロ
な組織欠陥は全く発生せず、かつ組織が緻密になるから
であると考えられる。
The preferred thickness of the anodic oxide film is about 50Å, although it varies depending on the roughness of the surface of the titanium rotating cathode body, the homogeneity of the structure, or the thickness of the thin metal layer to be formed. Since the anodic oxide film with a thickness of about 50Å has a relatively epitaxial or amorphous film structure with almost no anatase type crystal structure peculiar to titanium oxide, the metal thin layer formed on it is microscopic. It is considered that this is because no microstructure defect occurs at all and the microstructure becomes fine.

【0032】また、チタン製の回転カソード体の表面に
陽極酸化皮膜を形成する場合、その表面粗さは、JIS
B0601で規定するRz値で2.0μm以下であること
が好ましい。鏡面であることを最適とするが、Rzが1.
0μm程度であれば充分である。この陽極酸化皮膜の形
成は、連続的に行ってもよいし、また間欠的に行っても
よい。
When an anodized film is formed on the surface of the rotating cathode body made of titanium, the surface roughness is JIS
The Rz value defined by B0601 is preferably 2.0 μm or less. Optimally a mirror surface, but Rz is 1.
About 0 μm is sufficient. The formation of this anodic oxide film may be performed continuously or intermittently.

【0033】所定厚みの陽極酸化皮膜が形成されている
回転カソード体の表面に目的金属が電析され、その後そ
の金属薄層が剥離されると、陽極酸化皮膜の一部も同時
に金属箔側に剥離していくので、電析−剥離の反復によ
り陽極酸化皮膜の厚みは少しずつ薄くなっていく。した
がって、この薄くなる状態を補完するために、陽極酸化
皮膜の形成は、連続的または間欠的に行われることが必
要になる。
When the target metal is electrodeposited on the surface of the rotating cathode body on which the anodic oxide film having a predetermined thickness is formed and then the thin metal layer is peeled off, a part of the anodic oxide film is also deposited on the metal foil side at the same time. Since the film is peeled off, the thickness of the anodized film is gradually reduced by repeating the electrodeposition-peeling. Therefore, in order to complement the thinned state, the formation of the anodic oxide film needs to be performed continuously or intermittently.

【0034】上記した陽極酸化を行う方法としては、定
電流法と定電圧法とがある。これらの方法のうち、電位
を一定に保持する定電圧法を採用することにより、カソ
ード体の表面から金属薄層を剥離したときに、その金属
薄層に取り去られる酸化皮膜の分を自動的かつ即座に補
完することができ、なおかつ、必要以上の厚みにまでそ
の酸化皮膜の厚みが成長するという事態を抑制すること
もできる。
As a method for performing the above anodic oxidation, there are a constant current method and a constant voltage method. Among these methods, by adopting the constant voltage method that holds the potential constant, when the thin metal layer is peeled from the surface of the cathode body, the amount of the oxide film removed on the thin metal layer is automatically and automatically removed. This can be complemented immediately, and the situation in which the thickness of the oxide film grows to an unnecessarily large thickness can be suppressed.

【0035】とくに、カソード体の表面に形成された金
属薄層の厚みが薄ければ薄いほど、金属薄層のカソード
体表面からの剥離性が悪くなり、そのため、その金属薄
層が取り去る陽極酸化皮膜の厚みも厚くなる傾向を示す
ので、このような場合には、上記した定電圧法を適用す
ることが好適である。なお、陽極酸化の速度、したがっ
て形成される陽極酸化皮膜の膜厚は、処理時間よりも、
陽極酸化処理時に採用する電解電圧でほとんど決まって
しまう。そして、採用した電解電圧と形成された陽極酸
化皮膜の膜厚とは正比例の関係にあり、電解電圧1Vは
陽極酸化皮膜の膜厚約14〜15Åに相当することが知
られている(日本金属学会会報 第27巻 第4号 2
96〜298頁 1988年参照)。
In particular, the thinner the thin metal layer formed on the surface of the cathode body, the worse the peelability of the thin metal layer from the surface of the cathode body, and therefore the anodic oxidation that the thin metal layer removes. In such a case, it is preferable to apply the above-mentioned constant voltage method because the thickness of the film tends to increase. The rate of anodic oxidation, and thus the thickness of the anodic oxide film formed, is more than the treatment time.
It is almost determined by the electrolytic voltage used during anodizing. It is known that the adopted electrolysis voltage and the film thickness of the formed anodic oxide film are in direct proportion to each other, and that the electrolysis voltage of 1 V corresponds to the film thickness of the anodic oxide film of about 14 to 15 Å. Conference Bulletin Vol.27 No.4 2
96-298, 1988).

【0036】したがって、前記したように、陽極酸化皮
膜の膜厚は1.4〜140Åが好適であることからして、
定電圧法を採用する際には、その電解電圧を0.1〜10
Vに設定することが好ましいことになる。図4は、本発
明の別の陽極酸化皮膜形成装置16を回転カソード体の
表面に装着した状態を示す一部切欠斜視図である。
Therefore, as described above, since the film thickness of the anodized film is preferably 1.4 to 140Å,
When adopting the constant voltage method, set the electrolytic voltage to 0.1 to 10
It would be preferable to set it to V. FIG. 4 is a partially cutaway perspective view showing a state in which another anodized film forming apparatus 16 of the present invention is mounted on the surface of the rotating cathode body.

【0037】この装置の場合、電解処理液保持部16a
は箱型の容器であり、回転カソード体3の表面3a側の
部分が開口している。そしてその部分に、複数個の電解
処理液噴出孔19aが穿設されていて、かつ、回転カソ
ード体3の表面3aの曲率に合わせた屈曲面を有する多
孔板体19が取り付けられている。この多孔板体19
は、回転カソード体3の表面3aと液密に取り付けら
れ、回転カソード体3の表面3aとの間では摺接または
近接するように配置されている。
In the case of this device, the electrolytic treatment liquid holding portion 16a
Is a box-shaped container, and the portion on the surface 3a side of the rotating cathode body 3 is open. A plurality of electrolytically treated solution ejection holes 19a are formed in that portion, and a perforated plate body 19 having a curved surface that matches the curvature of the surface 3a of the rotating cathode body 3 is attached. This perforated plate body 19
Are liquid-tightly attached to the surface 3a of the rotating cathode body 3 and are arranged so as to be in sliding contact with or close to the surface 3a of the rotating cathode body 3.

【0038】容器16aは、用いる電解処理液に対して
耐食性を有する材料、例えば、ポリ塩化ビニルやポリプ
ロピレンなどで製造され、また、多孔板体19は回転カ
ソード体の表面3aと摺接させることもあるので、耐摩
耗性,潤滑性,弾力性も備えた材料、例えば、ポリエチ
レン,ポリエステル,ポリウレタン,シリコーンゴムな
どの材料で構成することが好ましい。
The container 16a is made of a material having corrosion resistance to the electrolytic treatment liquid used, for example, polyvinyl chloride or polypropylene, and the porous plate body 19 may be brought into sliding contact with the surface 3a of the rotating cathode body. Therefore, it is preferable to use a material having abrasion resistance, lubricity, and elasticity, such as polyethylene, polyester, polyurethane, or silicone rubber.

【0039】そして、容器16aの略中央には、金属粉
除去フィルタ20が介装され、容器16aの内部を上下
2つの空間に画分し、上部の空間21aの中に対極体1
7が配置された構造になっている。上部空間21aに
は、供給管18cから電解処理液が供給されて排出管1
8bから流出していき、また下部空間21bには供給管
18aから電解処理液が供給され、多孔板体19の孔1
9aから回転カソード体の表面3aに向けて噴出してい
く。
A metal powder removing filter 20 is provided approximately in the center of the container 16a to divide the interior of the container 16a into two spaces, an upper space 21a and a counter electrode 1a.
7 is arranged. The electrolytic treatment liquid is supplied to the upper space 21a from the supply pipe 18c and the discharge pipe 1
8b, and the electrolytic treatment liquid is supplied from the supply pipe 18a to the lower space 21b.
It jets from 9a toward the surface 3a of the rotating cathode body.

【0040】このとき、回転カソード体3の表面3aに
は、厚みが均一な電解処理液の液膜が形成される。この
装置は、電解処理液が、金属箔の製造に用いている電解
液である場合に使用して有用である。金属箔の製造に用
いている電解液をポンプで汲み上げてそれをそのまま陽
極酸化用の電解処理液として用いると、陽極酸化皮膜を
形成しているときに、対極体17の表面には電解液に含
まれている金属が電析することがある。そして皮膜形成
時の条件によっては、金属粉として異常析出することが
ある。そして、対極体17に析出しているこれら金属粉
は、供給される電解処理液の流勢によって対極体17の
表面から離脱し、回転カソード体の表面3a、すなわち
陽極酸化皮膜が形成されつつある個所へ移動することが
ある。
At this time, a liquid film of the electrolytically treated liquid having a uniform thickness is formed on the surface 3a of the rotating cathode body 3. This apparatus is useful when the electrolytic treatment solution is the electrolytic solution used for producing the metal foil. When the electrolytic solution used in the production of the metal foil is pumped up and used as it is as an electrolytic treatment solution for anodizing, the electrolytic solution is formed on the surface of the counter electrode 17 when the anodized film is formed. The contained metal may be electrodeposited. Then, depending on the conditions at the time of forming the film, abnormal deposition may occur as metal powder. Then, these metal powders deposited on the counter electrode body 17 are separated from the surface of the counter electrode body 17 by the flow force of the supplied electrolytic treatment liquid, and the surface 3a of the rotating cathode body, that is, the anodized film is being formed. May move to a location.

【0041】このような事態が発生すると、これら金属
粉が回転カソード体の表面3aで共析して、形成された
陽極酸化皮膜に瘤状組織が混在するようになる。しか
し、この装置の場合、対極体17で金属粉が異常析出し
てそれが対極体17の表面から離脱したとしても、それ
ら離脱金属粉は、金属粉除去フィルタ20で捕捉または
遮断されるので、下部空間21b側、すなわち回転カソ
ード体の表面3aの方に移動していくことはない。この
ように、金属粉除去フィルタ20は、これら離脱金属粉
が回転カソード体の表面3aで共析して陽極酸化皮膜に
瘤状組織が混在することを防止する働きをする。
When such a situation occurs, these metal powders are co-deposited on the surface 3a of the rotating cathode body, so that the anodic oxide film thus formed has a nodular structure mixed therein. However, in the case of this device, even if the metal powder is abnormally deposited on the counter electrode body 17 and it is separated from the surface of the counter electrode body 17, since the separated metal powder is captured or blocked by the metal powder removal filter 20, It does not move toward the lower space 21b, that is, toward the surface 3a of the rotating cathode body. In this way, the metal powder removing filter 20 functions to prevent these detached metal powders from being co-deposited on the surface 3a of the rotating cathode body so that the anodic oxide film is mixed with a bump-like structure.

【0042】このような働きをする金属粉除去フィルタ
20としては微細孔を有する膜であってもよく、また、
イオン交換樹脂膜あるいは金属粉は通さないが金属イオ
ンは透過できる耐食性の布地であってもよい。イオン交
換樹脂膜を使用する場合は、上記した金属粉の移動防止
という効果とともに、対極体17での金属電着を起こさ
せないという効果も得られる。
The metal powder removing filter 20 having such a function may be a film having fine pores.
Corrosion-resistant cloth that does not allow passage of ion-exchange resin membranes or metal powder but allows passage of metal ions may be used. When the ion exchange resin film is used, the effect of preventing the movement of the metal powder described above and the effect of preventing the metal electrodeposition on the counter electrode 17 can be obtained.

【0043】この場合は、上部空間21aには金属箔製
造用の電解液を電解処理液としてそのまま供給し、しか
も、下部空間21bには、前記電解液とは成分比が異な
る電解液や金属イオンを含まない電解液を供給するとい
うように、電解処理液の供給態様を変化させてもよい。
この容器16aは、回転カソード体3の表面3aと多孔
板体19の端部19bが摺接するように装着されてもよ
いし、また、表面3aと多孔板体19の間に若干のクリ
アランスが形成されるように装着されてもよい。
In this case, the electrolytic solution for producing the metal foil is supplied as it is to the upper space 21a as an electrolytic treatment solution, and the electrolytic solution or metal ion having a different composition ratio from the electrolytic solution is supplied to the lower space 21b. The supply mode of the electrolytic treatment liquid may be changed such that the electrolytic solution not containing is supplied.
The container 16a may be mounted so that the surface 3a of the rotating cathode body 3 and the end portion 19b of the porous plate body 19 are in sliding contact with each other, and a slight clearance is formed between the surface 3a and the porous plate body 19. It may be mounted as described above.

【0044】ただし、前者の装着態様の場合は、回転カ
ソード体3の表面3aにおける両側端に絶縁性の材料で
製作した板状または環状の端部3bを取付け、この端部
3bと多孔板体19の端部が摺接するようにして、多孔
板体19の他の部分と回転カソード体の表面3aとの間
には若干のクリアランスを形成するようにする。あるい
は、装置自体の両端部に下記に示す耐摩耗性,潤滑性,
弾力性に富む例えば、発泡ポリエチレンのような発泡プ
ラスチックなどを取り付けてもよい。
However, in the case of the former mounting mode, plate-like or annular end portions 3b made of an insulating material are attached to both ends of the surface 3a of the rotating cathode body 3, and the end portions 3b and the porous plate body are attached. A slight clearance is formed between the other portion of the perforated plate body 19 and the surface 3a of the rotating cathode body so that the end portions of 19 slidably contact each other. Alternatively, the wear resistance, lubricity, and
For example, foamed plastic such as foamed polyethylene having a high elasticity may be attached.

【0045】後者の場合は、孔19aから噴出する電解
処理液によって回転カソード体の表面3aにはクリアラ
ンスに相当する均一な厚みの電解処理液の液膜が形成さ
れる。図5および図5のVI−VI線に沿う断面図である図
6は、本発明の更に別の装置例を回転カソード体の表面
に装着した状態を示す図である。
In the latter case, the electrolytic treatment liquid ejected from the holes 19a forms a liquid film of the electrolytic treatment liquid having a uniform thickness on the surface 3a of the rotating cathode body, which corresponds to the clearance. 5 and FIG. 6, which is a cross-sectional view taken along the line VI-VI of FIG. 5, are views showing a state in which still another device example of the present invention is mounted on the surface of the rotating cathode body.

【0046】この装置22においては、電解処理液保持
部23は、断面が凸レンズ形状をした細長い密閉容器に
なっている。すなわち、この密閉容器23は、湾曲した
曲板23aの背部に陽極酸化用の対極体17の取付け部
23bが液密に装着され、長手方向における両端部23
c,23dが封止され、容器の略中央位置には電解処理
液の供給管24が付設され、前記曲板23aの先端には
電解処理液の噴出手段23eが形成されていて、これら
全体で回転カソード体3の表面3aへの電解処理液供給
手段が構成されている。なお、上記した噴出手段23e
としては、例えば、曲板23aの長手方向に沿って穿設
された複数個の孔や、所定幅で曲板23aの長手方向に
形成されたスリットなどをあげることができる。
In this device 22, the electrolytic treatment liquid holding portion 23 is an elongated closed container having a convex lens cross section. That is, in this closed container 23, the mounting portion 23b of the counter electrode body 17 for anodic oxidation is liquid-tightly mounted on the back portion of the curved curved plate 23a, and both end portions 23 in the longitudinal direction are formed.
c and 23d are sealed, an electrolytic treatment liquid supply pipe 24 is attached to a substantially central position of the container, and an electrolytic treatment liquid jetting means 23e is formed at the tip of the curved plate 23a. An electrolytic treatment liquid supply means is configured to the surface 3a of the rotating cathode body 3. The ejection means 23e described above
Examples thereof include a plurality of holes formed along the longitudinal direction of the curved plate 23a, slits formed in the longitudinal direction of the curved plate 23a with a predetermined width, and the like.

【0047】対極体取付け部23bには対極体17が配
置され、容器全体は、その長手方向を回転カソード体3
の幅方向と一致させ、また、その曲板23aに形成され
ていて噴出手段23eが回転カソード体3の表面3aと
所定の間隔を置いて対向するように配置される。ポンプ
アップなどにより、供給管24から容器23内に送入さ
れた電解処理液は、容器23内を満たしたのち噴出手段
23eから噴出し、矢印p方向に回転する回転カソード
体3の表面3aに吹き当り、表面3aに沿って下方に流
下することにより、そこに均一な厚みの液膜を形成す
る。
The counter electrode body 17 is disposed in the counter electrode body mounting portion 23b, and the entire container has the rotating cathode body 3 in its longitudinal direction.
And the ejection means 23e formed on the curved plate 23a thereof are arranged so as to face the surface 3a of the rotating cathode body 3 at a predetermined interval. The electrolytically treated liquid, which has been fed into the container 23 from the supply pipe 24 by pumping up or the like, jets from the jetting means 23e after filling the container 23, and then onto the surface 3a of the rotating cathode body 3 rotating in the direction of arrow p. By being blown and flowing down along the surface 3a, a liquid film having a uniform thickness is formed there.

【0048】なお、電解処理液としては、金属薄膜の製
造に用いている電解液をそのまま使用してもよいが、必
要に応じては、他の電解液、例えば希硫酸水溶液などを
用いてもよい。この状態を維持しつつ、回転カソード体
3を陽極,対極体17を陰極にして、両極間に所定電圧
を印加することにより、回転カソード体の表面3aは陽
極酸化される。そして、回転カソード体3は図の矢印p
方向に回転しているので、表面3aには連続的または間
欠的に陽極酸化皮膜が形成される。
As the electrolytic treatment solution, the electrolytic solution used for producing the metal thin film may be used as it is, but if necessary, other electrolytic solution, for example, dilute sulfuric acid aqueous solution may be used. Good. While maintaining this state, the rotating cathode body 3 is used as an anode and the counter electrode body 17 is used as a cathode, and a predetermined voltage is applied between both electrodes, whereby the surface 3a of the rotating cathode body is anodized. The rotating cathode body 3 is indicated by the arrow p in the figure.
Since it rotates in the direction, the anodized film is formed on the surface 3a continuously or intermittently.

【0049】なお、この実施例装置では、回転カソード
体の表面3aとの対向面を曲面にしているが、その形状
はこれに限定されるものではなく、内部に充満した電解
処理液が回転カソード体の表面3aに向かって噴出でき
るような形状であればよい。また、容器23の内部に、
電解処理液を均一に分散させるような手段、例えば、パ
イプに均一な小孔を穿設し、このパイプに電解処理液を
供給して前記小孔から噴出させるような手段を設けても
よい。更には、供給管24の付設位置は装置22の中央
位置でなくてもよく、噴出手段23eから電解処理液が
均一に噴出できるような位置であればどこでもよい。
In the apparatus of this embodiment, the surface of the rotating cathode facing the surface 3a is a curved surface, but the shape is not limited to this, and the electrolytic treatment solution filled inside the rotating cathode is used. Any shape is acceptable as long as it can be ejected toward the surface 3a of the body. In addition, inside the container 23,
A means for uniformly dispersing the electrolytic treatment liquid, for example, a means for forming uniform small holes in the pipe, supplying the electrolytic treatment liquid to the pipe, and ejecting the electrolytic treatment liquid from the small holes may be provided. Furthermore, the position where the supply pipe 24 is attached does not have to be the central position of the device 22, and may be any position as long as the electrolytic treatment liquid can be uniformly ejected from the ejection means 23e.

【0050】また、対極体17と噴出手段23eとの間
に、前記したと同様な金属粉除去フィルタを設けて、対
極体に電着した金属粉が回転カソード体3の表面3aに
流れ出さないようにしてもよい。この実施例装置は、陽
極酸化用電解処理液として、金属濃度の比較的高い金属
箔製造用の電解液を用いる場合に、噴出手段23eの噴
出口を極力小さくすることにより、電解液の使用量を少
なくすることができ、かつ、そのことにより電解液の飛
散量を少なくして、使用電解液中の金属塩が析出するこ
とを極力抑制することができるという効果を奏する。
A metal powder removing filter similar to that described above is provided between the counter electrode body 17 and the jetting means 23e so that the metal powder electrodeposited on the counter electrode body does not flow out to the surface 3a of the rotating cathode body 3. You may do it. In the apparatus of this embodiment, when an electrolytic solution for producing a metal foil having a relatively high metal concentration is used as the electrolytic treatment solution for anodization, the ejection port of the ejection unit 23e is made as small as possible, thereby reducing the amount of the electrolytic solution used. It is possible to reduce the amount of the electrolytic solution, and to reduce the scattering amount of the electrolytic solution, thereby suppressing the precipitation of the metal salt in the electrolytic solution used as much as possible.

【0051】例えば、電解銅箔の製造時には、銅濃度が
比較的高い硫酸銅溶液が電解液として使用されている
が、その電解液を陽極酸化用の電解処理液として使用し
た場合、温度が低くなると硫酸銅の結晶が生成して、そ
れが装置や銅箔に付着し、装置の円滑な運転を阻害する
ことがある。そのため、図5,図6で示した実施例装置
では、噴出手段23eの形状およびカソード体表面3a
との距離を変えるだけで、上記した不都合を容易に解消
することができる。
For example, when an electrolytic copper foil is manufactured, a copper sulfate solution having a relatively high copper concentration is used as an electrolytic solution, but when the electrolytic solution is used as an electrolytic treatment solution for anodization, the temperature is low. In that case, crystals of copper sulfate may be generated and adhere to the device or the copper foil, which may hinder the smooth operation of the device. Therefore, in the apparatus of the embodiment shown in FIGS. 5 and 6, the shape of the ejection means 23e and the surface 3a of the cathode body 3a.
The inconveniences described above can be easily eliminated by simply changing the distance between the and.

【0052】[0052]

【実施例】【Example】

実施例1 図2で示した電解銅箔の製造装置において、回転カソー
ド体3を直径3000mm,長さ1500mmのチタン製ド
ラムとした。そして、このドラムの表面をバフ研磨し
た。
Example 1 In the electrolytic copper foil manufacturing apparatus shown in FIG. 2, the rotating cathode body 3 was a titanium drum having a diameter of 3000 mm and a length of 1500 mm. Then, the surface of this drum was buffed.

【0053】ついで、図3で示したように、直径250
mm,長さ1500mmのステンレス鋼のパイプ13の周囲
を厚み10mmのポリエステルフェルト14で被覆し、こ
のポリエステルフェルト14を前記チタン製ドラム3の
研磨表面3aに接触させ、ポリエステルフェルト14の
上方に、直径2mmの開口15bが10mm間隔で穿設され
ている直径30mmのポリ塩化ビニル製のパイプ15を配
置した。
Then, as shown in FIG.
mm, 1500 mm long stainless steel pipe 13 is coated with a polyester felt 14 having a thickness of 10 mm, and the polyester felt 14 is brought into contact with the polishing surface 3a of the titanium drum 3 to have a diameter above the polyester felt 14. A pipe 15 made of polyvinyl chloride having a diameter of 30 mm having 2 mm openings 15b formed at intervals of 10 mm was arranged.

【0054】パイプ15に、濃度10g/lの硫酸水溶
液(液温50℃)を陽極酸化用の電解処理液として供給
し、開口15bからポリエステルフェルト14に流下
し、チタン製ドラム3を回転させながら端子13a,1
3aとチタン製ドラム3との電解電圧を2Vと一定に保
持して、厚みがほぼ28Åの酸化皮膜が得られるように
ドラム3回転分の陽極酸化処理(合計の処理時間は3
秒)を行った。
An aqueous sulfuric acid solution having a concentration of 10 g / l (liquid temperature 50 ° C.) was supplied to the pipe 15 as an electrolytic treatment liquid for anodization, and was made to flow down to the polyester felt 14 through the opening 15b, while rotating the titanium drum 3. Terminals 13a, 1
The electrolytic voltage between the drum 3a and the titanium drum 3 is kept constant at 2V, and the anodic oxidation treatment for three rotations of the drum is performed so that an oxide film having a thickness of approximately 28Å is obtained (total treatment time is 3
Second).

【0055】チタン製ドラム3の表面は均一な比較的薄
い金色に変色し、ドラム表面にはチタンの酸化物から成
る陽極酸化皮膜の形成が確認された。その後、電解電圧
を0.5Vと一定にして連続的に陽極酸化処理を行った。
ついで、チタン製ドラム3の表面3aを順次図2の電解
装置の方に回転移動させ、そこで、Cu:80g/l,
2 SO4 :80g/l,ニカワ2ppmから成り、液
温55℃の電解液を用い、電流密度50A/dm2 ,流量
2m/sec の条件で表面3aに銅を電析して銅薄層を形
成したのち、それをチタン製ドラム3の表面3aから剥
離し、かつ、前記した0.5Vの連続的な陽極酸化処理を
継続しながら、厚み18μmの電解銅箔7を連続的に製
造した。
The surface of the titanium drum 3 was uniformly discolored to a relatively light gold color, and it was confirmed that an anodized film made of titanium oxide was formed on the drum surface. Then, the electrolytic voltage was kept constant at 0.5 V, and anodizing treatment was continuously performed.
Then, the surface 3a of the titanium drum 3 is sequentially rotated toward the electrolytic apparatus of FIG. 2, where Cu: 80 g / l,
H 2 SO 4: 80g / l , made glue 2 ppm, the liquid electrolyte used in the temperature 55 ° C., a current density of 50A / dm 2, the thin copper layer by electrolytic deposition of copper on the surface 3a under the conditions of a flow rate 2m / sec Was formed, and then peeled from the surface 3a of the titanium drum 3, and the electrolytic copper foil 7 having a thickness of 18 μm was continuously manufactured while continuing the above-mentioned continuous anodizing treatment of 0.5 V. .

【0056】この作業を15日間継続したが、その間、
1度もバフ研磨をする必要はなかった。得られた電解銅
箔の引張強さ(kg/mm2),伸び率(%),シャイニー面
の粗さ(Rz),耐折強さ(回)を測定した。その結果
を表1にした。比較のために、チタン製ドラムに陽極酸
化処理を施すことなく、24時間周期でバフ研磨を行
い、得られた電解銅箔につきその特性を測定した(比較
例1)。その結果も表1に併記した。
This work was continued for 15 days, during which
It was not necessary to perform buffing once. The tensile strength (kg / mm 2 ), elongation (%), roughness (Rz) of the shiny surface, and folding strength (times) of the obtained electrolytic copper foil were measured. The results are shown in Table 1. For comparison, the titanium drum was not subjected to anodizing treatment, but was buffed in a cycle of 24 hours, and the characteristics of the obtained electrolytic copper foil were measured (Comparative Example 1). The results are also shown in Table 1.

【0057】なお、陽極酸化皮膜の厚みは、オージェ分
光分析装置を用いて測定した。この測定方法によると、
陽極酸化時の電解電圧と形成される陽極酸化皮膜の厚み
との間では、電解電圧1V当り厚み約14Åの皮膜が形
成されるという関係のあることが確認された。以下の実
施例においても、陽極酸化皮膜の厚みは上記と同様にし
て測定される値である。
The thickness of the anodized film was measured using an Auger spectroscopic analyzer. According to this measurement method,
It has been confirmed that there is a relationship between the electrolytic voltage during anodic oxidation and the thickness of the formed anodic oxide film that a film having a thickness of about 14Å is formed per 1 V of the electrolytic voltage. Also in the following examples, the thickness of the anodized film is a value measured in the same manner as above.

【0058】[0058]

【表1】 *1:JISC6511に準拠 *2:JISC6
511に準拠 *3:JISB0601に準拠 *4:JISP8
115に準拠 表1のデータから明らかなように、本発明方法で製造し
た電解銅箔は、従来のものに比べて、引張強さが優れて
いて、銅張積層板用の銅箔として有用である。
[Table 1] * 1: Based on JISC6511 * 2: JISC6
Compliant with 511 * 3: Compliant with JIS B0601 * 4: JISP8
Compliant with 115 As is clear from the data in Table 1, the electrolytic copper foil produced by the method of the present invention is superior in tensile strength to conventional ones and is useful as a copper foil for copper-clad laminates. is there.

【0059】なお、実施例1は陽極酸化皮膜の形成を連
続的に行うものであるが、陽極酸化を、自動タイマを用
いることにより1時間,6時間,12時間ごとにドラム
1周分につき断続的に行ったが、得られた電解銅箔の性
状は実施例1のものと同等であった。また、他の比較例
として、陽極酸化時の電解電圧を0.5V(皮膜の厚み7
Åに相当)とし、硫酸水溶液として濃度が20g/lの
ものを用いて実施例1と同様に電解銅箔を連続的に製造
した(比較例2)。この比較例2は、作業開始後7日間
経過した時点で、ドラムにバフ研磨を施す必要があっ
た。
In Example 1, the formation of the anodic oxide film is continuously carried out. However, the anodic oxidation is intermittently performed every 1 hour, 6 hours, and 12 hours for one revolution of the drum by using an automatic timer. The properties of the obtained electrolytic copper foil were the same as those of Example 1. In addition, as another comparative example, the electrolytic voltage at the time of anodization is 0.5 V (the thickness of the coating is 7
(Corresponding to Å) and a sulfuric acid aqueous solution having a concentration of 20 g / l was used to continuously produce an electrolytic copper foil in the same manner as in Example 1 (Comparative Example 2). In Comparative Example 2, it was necessary to buff the drum 7 days after the start of the work.

【0060】次に、陽極酸化皮膜の厚みが銅箔の特性に
与える影響について調べた。実施例1において、初期の
陽極酸化皮膜形成時における電解電圧を変化させて厚み
が異なる陽極酸化皮膜をドラム表面に形成し、そのそれ
ぞれの場合につき、実施例1と同様の条件で厚み18μ
mの電解銅箔を連続的に製造した。得られた各電解銅箔
の引張強さ(kg/mm2),伸び率(%),シャイニー面の
粗さ(Rz),および、銅箔面積10m2 当たりのピン
ホールの個数を測定した。その結果を、初期の陽極酸化
皮膜の厚みとの関係として図7に示した。
Next, the influence of the thickness of the anodized film on the characteristics of the copper foil was examined. In Example 1, the electrolytic voltage during the initial formation of the anodic oxide film was changed to form anodic oxide films having different thicknesses on the drum surface. In each case, the thickness was 18 μm under the same conditions as in Example 1.
m electrolytic copper foil was continuously manufactured. The tensile strength (kg / mm 2 ), elongation (%), roughness of the shiny surface (Rz), and the number of pinholes per 10 m 2 of copper foil area of each obtained electrolytic copper foil were measured. The results are shown in FIG. 7 as a relationship with the initial thickness of the anodized film.

【0061】図7から明らかなように、初期の陽極酸化
皮膜の厚みが140Åよりも厚くなると、得られる電解
銅箔は、その引張強さと伸び率が低下し、ピンホールの
発生が多くなる。
As is clear from FIG. 7, when the initial thickness of the anodized film is thicker than 140Å, the obtained electrolytic copper foil has a low tensile strength and a low elongation, and pinholes are more likely to occur.

【0062】実施例2 ステンレス鋼パイプ13に代えて、直径200mmのポリ
塩化ビニルパイプの外周に厚み68μmの銅箔が貼着さ
れているものを用いたこと、陽極酸化用の電解処理液1
5aが濃度1g/lの硫酸水溶液(液温60℃)であっ
たこと、パイプ15の開口15bの径が2.5mmであった
こと、ドラム3回転分の陽極酸化処理(合計の処理時間
は6秒)時の電解電圧が5Vの一定値(陽極酸化皮膜の
厚み約70Åに相当)であったこと、銅電析用の電解液
がCu:100g/l,H2 SO 4 :100g/l,ニ
カワ3ppmから成り、液温60℃であったこと、電解
条件が、電流密度60A/dm2 ,流量2m/sec であっ
たことを除いては、実施例1と同様にして、陽極酸化処
理時の電解電圧を0.5Vと一定値に保ちながら、厚み3
5μmの電解銅箔を連続的に製造した。
Example 2 Instead of the stainless steel pipe 13, a poly having a diameter of 200 mm was used.
68 μm thick copper foil is attached to the outer circumference of the vinyl chloride pipe
Used electrolytic solution, electrolytic treatment liquid 1 for anodic oxidation
5a is an aqueous solution of sulfuric acid having a concentration of 1 g / l (liquid temperature 60 ° C.)
That is, the diameter of the opening 15b of the pipe 15 was 2.5 mm.
That is, the anodic oxidation treatment for 3 rotations of the drum (total treatment time
The electrolysis voltage at the time of 6 seconds is a constant value of 5 V (of the anodized film)
The thickness was equivalent to about 70Å), the electrolytic solution for copper electrodeposition
Is Cu: 100 g / l, H2SO Four: 100 g / l, d
It consisted of 3 ppm of water, the liquid temperature was 60 ° C, electrolysis
The condition is a current density of 60 A / dm2, The flow rate is 2m / sec
Except for the above, the anodizing treatment was performed in the same manner as in Example 1.
While keeping the electrolysis voltage at a constant value of 0.5 V, the thickness of 3
A 5 μm electrolytic copper foil was continuously manufactured.

【0063】この作業を1ケ月間継続したが、その間、
1度もバフ研磨をする必要がなかった。得られた電解銅
箔の引張強さ(kg/mm2),伸び率(%),シャイニー面
の粗さ(Rz),耐折強さ(回)を測定した。その結果
を表2にした。
This work was continued for one month,
There was no need to buff once. The tensile strength (kg / mm 2 ), elongation (%), roughness (Rz) of the shiny surface, and folding strength (times) of the obtained electrolytic copper foil were measured. The results are shown in Table 2.

【0064】比較のために、チタン製ドラムに陽極酸化
処理を施すことなく、40時間周期でバフ研磨を行い、
得られた電解銅箔につきその特性を測定した(比較例
3)。また、他の比較例として、陽極酸化時の電解電圧
15Vの一定値(陽極酸化皮膜の厚み約210Åに相
当)で行ったことを除いては、実施例2と同様にして厚
み35μmの電解銅箔を連続的に製造した(比較例
4)。これらの結果も表2に併記した。
For comparison, the titanium drum was subjected to buffing at a cycle of 40 hours without anodizing.
The characteristics of the obtained electrolytic copper foil were measured (Comparative Example 3). Further, as another comparative example, an electrolytic copper having a thickness of 35 μm was prepared in the same manner as in Example 2 except that the electrolytic voltage was 15 V at the time of anodization at a constant value (corresponding to a thickness of about 210 Å of the anodized film). A foil was produced continuously (Comparative Example 4). These results are also shown in Table 2.

【0065】[0065]

【表2】 表2のデータから明らかなように、実施例2の条件で製
造した電解銅箔も、従来のものに比べて、引張強さが優
れていて、銅張積層板用の銅箔として有用である。
[Table 2] As is clear from the data in Table 2, the electrolytic copper foil produced under the conditions of Example 2 also has superior tensile strength as compared with the conventional one, and is useful as a copper foil for copper-clad laminates. .

【0066】なお、実施例2は陽極酸化皮膜の形成を連
続的に行うものであるが、0.5Vの陽極酸化を、自動タ
イマを用いることにより12時間,24時間ごとにドラ
ム1周分につき断続的に行ったが、得られた電解銅箔の
性状は実施例2のものと同等であった。
In Example 2, the formation of the anodic oxide film is continuously carried out. However, 0.5 V anodic oxidation is performed by using an automatic timer for every 12 hours and 24 hours per drum revolution. Although it was carried out intermittently, the properties of the obtained electrolytic copper foil were similar to those of Example 2.

【0067】実施例3 図3の装置において、ポリ塩化ビニルパイプ13の直径
が150mmであったこと、パイプ15の開口15bの径
が1.5mmであったこと、初期ドラム3回転分の陽極酸化
処理(合計の処理時間は12秒)時の電解電圧が10V
の一定値(陽極酸化皮膜の厚みは約140Åに相当)で
あったこと、銅電析時における電解条件が、電流密度7
0A/dm2 ,流量3m/sec であったことを除いては、
実施例2と同様の条件で、厚み70μmの電解銅箔を連
続的に製造した。
Example 3 In the apparatus of FIG. 3, the polyvinyl chloride pipe 13 had a diameter of 150 mm, the opening 15b of the pipe 15 had a diameter of 1.5 mm, and the anodization of three rotations of the initial drum was performed. Electrolysis voltage is 10V during treatment (total treatment time is 12 seconds)
Was constant (the thickness of the anodized film was equivalent to about 140Å), and the electrolytic conditions during copper electrodeposition were current density 7
Except that the flow rate was 0 A / dm 2 and the flow rate was 3 m / sec,
Under the same conditions as in Example 2, an electrolytic copper foil having a thickness of 70 μm was continuously manufactured.

【0068】この作業を1ケ月間継続したが、その間、
1度もバフ研磨をする必要がなかった。得られた電解銅
箔の引張強さ(kg/mm2),伸び率(%),シャイニー面
の粗さ(Rz),耐折強さ(回)を測定した。その結果
を表3にした。比較のために、チタン製ドラムに陽極酸
化処理を施すことなく、50時間周期でバフ研磨を行
い、得られた電解銅箔につきその特性を測定した(比較
例5)。その結果も表3に併記した。
This work was continued for one month,
There was no need to buff once. The tensile strength (kg / mm 2 ), elongation (%), roughness (Rz) of the shiny surface, and folding strength (times) of the obtained electrolytic copper foil were measured. The results are shown in Table 3. For comparison, the titanium drum was not subjected to anodizing treatment, but was buffed in a cycle of 50 hours, and the characteristics of the obtained electrolytic copper foil were measured (Comparative Example 5). The results are also shown in Table 3.

【0069】[0069]

【表3】 表3のデータから明らかなように、実施例3の条件で製
造した電解銅箔も、従来のものに比べて、引張強さが優
れていて、銅張積層板用の銅箔として有用である。
[Table 3] As is clear from the data in Table 3, the electrolytic copper foil manufactured under the conditions of Example 3 also has superior tensile strength as compared with the conventional one, and is useful as a copper foil for copper-clad laminates. .

【0070】なお、実施例3は陽極酸化皮膜の形成を連
続的に行うものであるが、ドラム3回転分の陽極酸化を
10Vで行ったのち、1Vの陽極酸化を、自動タイマを
用いることにより12時間,24時間ごとにドラム1周
分につき断続的に行ったが、得られた電解銅箔の性状は
実施例3のものと同等であった。
In Example 3, the formation of the anodic oxide film is continuously performed. However, after the anodic oxidation for 3 rotations of the drum is performed at 10 V, the anodic oxidation of 1 V is performed by using the automatic timer. The performance was intermittently performed for one round of the drum every 12 hours and 24 hours, and the properties of the obtained electrolytic copper foil were the same as those of Example 3.

【0071】他の比較例として、電解銅箔製造用の電解
槽とは別の電解槽の中に実施例3で用いた硫酸水溶液を
満たし、ここに表面をバフ研磨したドラムを浸漬して電
解電圧10Vの一定値で陽極酸化処理を行った。処理後
のドラムを電解銅箔製造用の電解槽にセットし、実施例
3と同様にして連続的に電解銅箔を製造した(比較例
6)。実施例3の場合には、陽極酸化処理−電解銅箔の
製造を連続して行うことができるが、上記した比較例6
の場合には、処理後のドラムを電解銅箔製造用の電解槽
に移動する作業のためなどに、銅箔製造を24時間中断
せざるを得なかった。
As another comparative example, the sulfuric acid aqueous solution used in Example 3 was filled in an electrolytic bath different from the electrolytic bath for producing electrolytic copper foil, and a drum whose surface was buffed was immersed in the electrolytic bath for electrolysis. Anodizing treatment was performed at a constant value of voltage 10V. The treated drum was set in an electrolytic bath for producing an electrolytic copper foil, and an electrolytic copper foil was continuously produced in the same manner as in Example 3 (Comparative Example 6). In the case of Example 3, the anodizing treatment-manufacturing of the electrolytic copper foil can be continuously carried out, but the above-mentioned Comparative Example 6
In this case, the copper foil production had to be interrupted for 24 hours in order to move the treated drum to an electrolytic bath for producing electrolytic copper foil.

【0072】実施例4 実施例1の陽極酸化皮膜形成装置において、パイプ15
の開口15bの径を3mmとし、動作時における電解電圧
を1Vと一定(陽極酸化皮膜の厚みは約14Åに相当)
にしてカソードドラム3の表面3aを4回転分(合計の
処理時間は2.5秒)連続酸化し、また銅電析時における
電解条件は実施例3と同じ条件にしたことを除いては実
施例1と同様にして、陽極酸化処理の電解電圧を0.1V
の一定値に保って連続的な陽極酸化処理を継続しなが
ら、厚み12μmの電解銅箔を連続的に製造した。
Example 4 In the anodized film forming apparatus of Example 1, the pipe 15 was used.
The opening 15b has a diameter of 3 mm, and the electrolytic voltage during operation is constant at 1 V (the thickness of the anodized film is equivalent to about 14 Å)
Then, the surface 3a of the cathode drum 3 was continuously oxidized for 4 rotations (total treatment time was 2.5 seconds), and the electrolysis conditions during copper electrodeposition were the same as in Example 3. In the same manner as in Example 1, set the electrolytic voltage of the anodizing treatment to 0.1 V.
While continuing the anodizing treatment while maintaining a constant value of, an electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm was continuously manufactured.

【0073】この作業を1週間継続したが、その間、1
度もバフ研磨をする必要がなかった。得られた電解銅箔
の引張強さ(kg/mm2),伸び率(%),シャイニー面の
粗さ(Rz),耐折強さ(回)を測定した。その結果を
表4にした。比較のために、チタン製ドラムに陽極酸化
処理を施すことなく、24時間周期でバフ研磨を行い、
得られた電解銅箔につきその特性を測定した(比較例
7)。その結果も比較例7として表4に併記した。
This work was continued for 1 week, during which 1
There was no need to buff again. The tensile strength (kg / mm 2 ), elongation (%), roughness (Rz) of the shiny surface, and folding strength (times) of the obtained electrolytic copper foil were measured. The results are shown in Table 4. For comparison, buffing is performed in a 24-hour cycle without anodizing the titanium drum,
The characteristics of the obtained electrolytic copper foil were measured (Comparative Example 7). The results are also shown in Table 4 as Comparative Example 7.

【0074】また、別の陽極酸化処理槽で、電解電圧1
Vの陽極酸化処理を行うことにより予め表面に陽極酸化
皮膜を形成し、このチタン製ドラムを、銅箔製造ライン
にセットし、実施例4と同一の条件下で厚み12μmの
電解銅箔を製造した。3時間位の運転後、電解銅箔の剥
離性が悪くなり、電解銅箔の引き剥がし張力は部分的に
不均一になり、得られた電解銅箔には皺の発生が認めら
れた。そこで、ドラムをラインから取り外し、再度、ド
ラム表面に陽極酸化処理を行うことが必要になった。
In another anodic oxidation treatment tank, an electrolytic voltage of 1
An anodized film is previously formed on the surface by performing anodization treatment of V, and this titanium drum is set on a copper foil production line to produce an electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm under the same conditions as in Example 4. did. After the operation for about 3 hours, the peeling property of the electrolytic copper foil was deteriorated, the peeling tension of the electrolytic copper foil was partially non-uniform, and wrinkles were observed in the obtained electrolytic copper foil. Therefore, it became necessary to remove the drum from the line and perform anodizing treatment on the drum surface again.

【0075】このように、予めライン外で陽極酸化処理
を施す場合には、3時間ごとに陽極酸化処理を行わなけ
ればならず、そのため、1回の連続運転で製造される電
解銅箔の長さは高々600m程度であり、長尺物を連続
して製造することができず、作業性のみならず生産性も
低下してしまう。得られた電解銅箔の特性を比較例8と
して表4に併記した。
As described above, when the anodizing treatment is performed outside the line in advance, the anodizing treatment must be performed every 3 hours, and therefore, the length of the electrolytic copper foil manufactured by one continuous operation is long. Since the length is at most about 600 m, it is not possible to continuously manufacture a long product, and not only workability but also productivity is deteriorated. The characteristics of the obtained electrolytic copper foil are also shown in Table 4 as Comparative Example 8.

【0076】[0076]

【表4】 [Table 4]

【0077】実施例5 図4で示した陽極酸化皮膜形成装置を、バフ研磨が施さ
れているチタン製ドラム3の表面3aに、多孔板体19
と表面3aとのクリアランスが1mmとなるようにして装
着した。対極体17はステンレス鋼板であり、金属粉除
去フィルタ20は孔径1μmの微細孔が分布している微
多孔膜である。
Example 5 The porous plate member 19 was attached to the surface 3a of the titanium drum 3 which was buffed by using the anodized film forming apparatus shown in FIG.
It was attached so that the clearance between the surface and the surface 3a was 1 mm. The counter electrode 17 is a stainless steel plate, and the metal powder removal filter 20 is a microporous film in which fine pores having a pore diameter of 1 μm are distributed.

【0078】実施例1で用いた電解液を、供給管18c
から電解処理液として上部空間21aに供給したのち排
出管18bから排出させてそれを再び電解槽に還流し、
またフィルタを介した上記電解液を供給管18aから下
部空間21bに供給して多孔板体19の孔19aから回
転カソード体の表面3aに噴出させ、そこに電解液の液
膜を形成した。
The electrolytic solution used in Example 1 is supplied to the supply pipe 18c.
Is supplied to the upper space 21a as an electrolytically treated liquid from the above, and then is discharged from the discharge pipe 18b and refluxed again to the electrolytic cell,
Further, the electrolytic solution via the filter was supplied from the supply pipe 18a to the lower space 21b and ejected from the hole 19a of the perforated plate 19 to the surface 3a of the rotating cathode body to form a liquid film of the electrolytic solution there.

【0079】この状態を、チタン製ドラム3とステンレ
ス鋼板(対極体)17との電解電圧を2Vと一定に保持
して、厚みが約28Åの陽極酸化皮膜が得られるように
陽極酸化処理を行い、引き続き、この陽極酸化皮膜の上
に実施例1と同様の条件で厚み35μmの電解銅箔を形
成した。この作業を1ケ月間継続したが、その間、1度
もバフ研磨をする必要がなかった。
In this state, the electrolytic voltage between the titanium drum 3 and the stainless steel plate (counter electrode) 17 was kept constant at 2 V, and anodization treatment was performed so that an anodized film with a thickness of about 28 Å was obtained. Subsequently, an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm was formed on the anodized film under the same conditions as in Example 1. This work was continued for one month, but during that time, it was not necessary to perform buffing once.

【0080】得られた電解銅箔の引張強さ(kg/mm2),
伸び率(%),シャイニー面の粗さ(Rz),耐折強さ
(回)を測定した。その結果を表5にした。比較のため
に、チタン製ドラムに陽極酸化処理を施すことなく、4
8時間周期でバフ研磨を行い、得られた電解銅箔につき
その特性を測定した(比較例9)。その結果も表5に併
記した。
Tensile strength (kg / mm 2 ) of the obtained electrolytic copper foil,
The elongation (%), the roughness of the shiny surface (Rz), and the folding endurance (times) were measured. The results are shown in Table 5. For comparison, the titanium drum was not anodized and
Buffing was performed in an 8-hour cycle, and the characteristics of the obtained electrolytic copper foil were measured (Comparative Example 9). The results are also shown in Table 5.

【0081】[0081]

【表5】 [Table 5]

【0082】実施例6 実施例5の装置において、金属粉除去フィルタ20とし
てアニオン交換樹脂膜(徳山曹達(株)製の高温タイプ
AMH)を用いて、また、多孔板体19の端部19bと
チタン製ドラムの表面3aとの間に柔軟な発泡ポリエチ
レンシートを介装して装置16とチタン製ドラムの表面
3aとを摺接状態にした。
Example 6 In the apparatus of Example 5, an anion exchange resin membrane (high temperature type AMH manufactured by Tokuyama Soda Co., Ltd.) was used as the metal powder removing filter 20 and the end portion 19b of the porous plate 19 was used. A flexible foamed polyethylene sheet was interposed between the surface 3a of the titanium drum and the device 16 and the surface 3a of the titanium drum were brought into sliding contact with each other.

【0083】供給した電解液の液漏れはほとんど起こら
ず、電解液の有効利用が可能となった。上部空間21a
には供給管18cから1g/lの硫酸水溶液をポンプで
循環供給し、また、下部空間21bには、電解銅箔製造
用の電解液であって、Cu:100g/l,H2
4 :90g/l,ニカワ4ppmから成り液温が65
℃の電解液を供給管18aから供給し、チタン製ドラム
3とステンレス鋼板17との電解電圧を5Vと一定に保
持して厚みが約70Åの酸化皮膜が得られるように陽極
酸化処理を行い、引き続き、この陽極酸化皮膜の上に、
上記電解液を用い、電流密度50A/dm2 ,流量1m/
sec の条件で厚み35μmの電解銅箔を形成した。
Almost no leakage of the supplied electrolytic solution occurred, and the electrolytic solution could be effectively used. Upper space 21a
1 g / l of a sulfuric acid aqueous solution is circulated and supplied from a supply pipe 18c by a pump, and the lower space 21b is an electrolytic solution for producing an electrolytic copper foil, Cu: 100 g / l, H 2 S.
O 4: 90g / l, is made liquid temperature from glue 4ppm 65
The electrolytic solution at ℃ is supplied from the supply pipe 18a, the electrolytic voltage between the titanium drum 3 and the stainless steel plate 17 is kept constant at 5 V, and anodization is performed so that an oxide film with a thickness of about 70 Å is obtained. Then, on this anodized film,
Using the above electrolytic solution, current density 50 A / dm 2 , flow rate 1 m /
An electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm was formed under the condition of sec.

【0084】チタン製ドラムの表面3aにドラム2回転
分(合計の処理時間は4秒)の陽極酸化処理を行ったの
ち、約15日間、電解銅箔の製造を連続的に行ったが、
その間、1度もバフ研磨をする必要がなかった。得られ
た電解銅箔の引張強さ(kg/mm2),伸び率(%),シャ
イニー面の粗さ(Rz),耐折強さ(回)を測定した。
その結果を表6にした。
The surface 3a of the titanium drum was subjected to anodizing treatment for 2 rotations of the drum (total treatment time was 4 seconds), and then electrolytic copper foil was continuously produced for about 15 days.
During that time, it was not necessary to perform buffing once. The tensile strength (kg / mm 2 ), elongation (%), roughness (Rz) of the shiny surface, and folding strength (times) of the obtained electrolytic copper foil were measured.
The results are shown in Table 6.

【0085】比較のために、チタン製ドラムに陽極酸化
処理を施すことなく、48時間周期でバフ研磨を行い、
得られた電解銅箔につきその特性を測定した(比較例1
0)。その結果も表6に併記した。
For comparison, the titanium drum was subjected to buffing at a cycle of 48 hours without anodizing.
The characteristics of the obtained electrolytic copper foil were measured (Comparative Example 1).
0). The results are also shown in Table 6.

【0086】[0086]

【表6】 [Table 6]

【0087】実施例7 耐熱ポリ塩化ビニル材を用いて、全体の形状が長さ15
00mm,幅200mm,厚み100mmで、曲板23aの先
端には、幅2mm,長さ1400mmのスリット23eが長
手方向に形成され、直径25mmの供給管27が付設され
ている、図5および図6で示した密封容器23を製造し
た。この容器23の内部には、長さ1400mm,幅10
0mm,厚み1mmの銅板が対極体17として配置されてい
る。
Example 7 A heat-resistant polyvinyl chloride material was used, and the overall shape was 15
5 and 6, a slit 23e having a width of 2 mm and a length of 1400 mm is formed in the longitudinal direction at the tip of the curved plate 23a having a length of 00 mm, a width of 200 mm, and a thickness of 100 mm, and a supply pipe 27 having a diameter of 25 mm is attached. The sealed container 23 shown in was manufactured. Inside this container 23, a length of 1400 mm and a width of 10
A copper plate having a thickness of 0 mm and a thickness of 1 mm is arranged as the counter electrode 17.

【0088】実施例1と同じ寸法形状で、表面にバフ研
磨を施したチタン製ドラム3に、この容器23を、スリ
ット23eがドラム面と対向するように装着した。実施
例1で用いた電解液を、供給管24から容器23内に供
給して充満させたのち、スリット23eからチタン製ド
ラム3の表面3aに噴出させ、そこに電解液の液膜を形
成した。
This container 23 was mounted on a titanium drum 3 having the same size and shape as in Example 1 and having its surface buffed, with its slit 23e facing the drum surface. The electrolytic solution used in Example 1 was supplied from the supply pipe 24 into the container 23 to fill the same, and then was jetted from the slit 23e to the surface 3a of the titanium drum 3 to form a liquid film of the electrolytic solution there. .

【0089】この状態で、直流安定化電源により電解電
圧を5Vに保持し、チタン製ドラム2回転分陽極酸化処
理(合計の処理時間は8秒)を行いながら、厚み68μ
mの電解銅箔を24時間製造したのち、電解電圧2Vの
陽極酸化処理を3回転分(合計の処理時間は12秒)行
い、その後、電解電圧を0.5Vと一定に保持したまま、
厚み18μmの電解銅箔を実施例1と同様の条件で製造
した。この作業を2週間継続したが、その間1度も、バ
フ研磨をする必要はなかった。そして、得られた銅箔も
実施例1と同様な性能を備えていた。
In this state, the electrolytic voltage was kept at 5 V by the stabilized DC power supply, and while performing the anodic oxidation treatment for two rotations of the titanium drum (total treatment time was 8 seconds), the thickness was 68 μm.
After manufacturing the electrolytic copper foil of m for 24 hours, anodizing treatment with an electrolytic voltage of 2V is performed for 3 rotations (total processing time is 12 seconds), and then, while keeping the electrolytic voltage constant at 0.5V,
An electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm was manufactured under the same conditions as in Example 1. This operation was continued for 2 weeks, but during that time, it was not necessary to perform buffing once. The obtained copper foil also had the same performance as in Example 1.

【0090】[0090]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明方
法によりカソード体の表面に形成された陽極酸化皮膜
は、均一で、耐食性に優れた保護膜として機能する。そ
のため、金属箔の製造時に、カソード体表面への不均一
な酸化皮膜生成に伴って起こる金属箔の表面ムラやピン
ホールなどの組織欠陥が有効に防止され、良質な金属箔
を製造することができる。
As is clear from the above description, the anodic oxide film formed on the surface of the cathode body by the method of the present invention functions as a protective film having a uniform and excellent corrosion resistance. Therefore, during the production of the metal foil, it is possible to effectively prevent the surface defects of the metal foil and the texture defects such as pinholes which are caused by the non-uniform oxide film formation on the surface of the cathode body, and it is possible to produce a good quality metal foil. it can.

【0091】そして、従来のようなカソード体表面への
短い周期でのバフ研磨も不要となり、バフ研磨作業に伴
う材料費や作業コストも節減され、カソード体それ自体
の損耗も少なくなるので使用寿命も長くなり、カソード
体の交換頻度も少なくなり、金属箔の生産性を著しく高
めることができる。また、実施例1〜4で示したよう
に、カソード体が回転ドラムであり、陽極酸化皮膜形成
装置の対極体が導電性ロールである場合には、この導電
性ロールは回転ドラムの回転に応じて自動的に回転する
ことができるため、駆動用の手段を付設する必要はな
い。
Further, it is not necessary to perform buffing on the surface of the cathode body in a short period as in the conventional case, the material cost and work cost involved in the buffing work are reduced, and the wear of the cathode body itself is reduced, so that the service life is shortened. Therefore, the frequency of replacement of the cathode body is reduced, and the productivity of the metal foil can be significantly increased. Further, as shown in Examples 1 to 4, when the cathode body is a rotating drum and the counter electrode body of the anodized film forming apparatus is a conductive roll, this conductive roll responds to the rotation of the rotating drum. Since it can be automatically rotated, it is not necessary to attach a driving means.

【0092】また、実施例5〜6で用いたような陽極酸
化皮膜形成装置の場合は、電解処理液として、金属箔製
造用の比較的金属イオン濃度の高い電解液を用いること
ができる。そしてその電解処理液が金属箔製造用の電解
槽に混入しても同一液なので不都合な問題は起こらず、
特別な液混入防止装置を取付ける必要性もない。更には
陽極酸化皮膜形成用の電解処理液を別途調製することも
必要ではなく、電解処理液は、直接電解槽から取り出し
て用いることができるという利点がある。また、対極体
とカソード体の表面との間にイオン交換膜を金属粉除去
フィルタとして介装することにより、対極体に金属が電
着するという事態を防止できるし、導電性ロールを用い
た場合と同様に金属箔の製造にとって悪影響を与える対
極体で発生する金属粉のカソード体への移動も防止する
ことができる。
In the case of the anodized film forming apparatus used in Examples 5 to 6, an electrolytic solution having a relatively high metal ion concentration for producing a metal foil can be used as the electrolytic treatment solution. And even if the electrolytic solution is mixed in the electrolytic bath for metal foil production, the same solution does not cause any inconvenient problems.
There is no need to install a special liquid mixture prevention device. Furthermore, it is not necessary to separately prepare an electrolytic treatment liquid for forming the anodized film, and the electrolytic treatment liquid can be directly taken out from the electrolytic cell and used. Also, by interposing an ion exchange membrane as a metal powder removal filter between the counter electrode and the surface of the cathode body, it is possible to prevent the situation where metal is electrodeposited on the counter electrode, and when a conductive roll is used. Similarly, it is possible to prevent the movement of the metal powder generated in the counter electrode to the cathode body, which adversely affects the production of the metal foil.

【0093】また、実施例7で用いた装置の場合は、陽
極酸化用の電解処理液が金属箔の製造に用いている電解
液であっても、スリットの幅を狭くしてその噴出量を少
なくし、また噴出させるカソード体の面積を極小にする
ことができる。そのため、電解液から金属塩がカソード
体の端部または周縁の絶縁体などの表面に析出せず、得
られる金属箔には金属塩が付着するような事態を防ぐこ
とができる。
Further, in the case of the apparatus used in Example 7, even if the electrolytic treatment solution for anodic oxidation is the electrolytic solution used for the production of the metal foil, the width of the slit is narrowed to reduce the ejection amount. The area of the cathode body to be ejected can be minimized and reduced. Therefore, it is possible to prevent a situation where the metal salt does not deposit from the electrolytic solution on the surface of the insulator or the like at the end portion or the peripheral edge of the cathode body, and the metal salt adheres to the obtained metal foil.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の金属箔製造装置の例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a conventional metal foil manufacturing apparatus.

【図2】本発明の陽極酸化皮膜形成装置を装着した金属
箔製造装置の例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a metal foil manufacturing apparatus equipped with the anodized film forming apparatus of the present invention.

【図3】本発明の陽極酸化皮膜形成装置の1例を示す切
欠斜視図である。
FIG. 3 is a cutaway perspective view showing an example of an anodized film forming apparatus of the present invention.

【図4】本発明の陽極酸化皮膜形成装置の別の例を示す
一部切欠斜視図である。
FIG. 4 is a partially cutaway perspective view showing another example of the anodized film forming apparatus of the present invention.

【図5】本発明の陽極酸化皮膜形成装置の更に別の例を
示す一部切欠斜視図である。
FIG. 5 is a partially cutaway perspective view showing still another example of the anodized film forming apparatus of the present invention.

【図6】図5のVI−VI線に沿う断面図である。6 is a sectional view taken along line VI-VI in FIG.

【図7】陽極酸化皮膜の厚みと銅箔の特性との関係を示
すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing the relationship between the thickness of an anodized film and the characteristics of copper foil.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電解槽 2 アノード体 3 回転カソード体 3a 回転カソード体3の表面 3b 回転カソード体3の端部 4 間隙 5 電解液 6 ディストリビュータ(電解液流出
口) 7 金属箔 8a,8b ガイドローラ 9 巻取機 10 バフ 11 本発明の陽極酸化皮膜形成装置 12 シャフト 13 導電性ロール(対極体) 13a 導電性ロールの端子 14 フェルト(電解処理液保持部) 15 パイプ(電解処理液供給手段) 15a 電解処理液 15b 開口 15c ポンプ 16 本発明の別の陽極酸化皮膜形成装置 16a 容器(電解処理液保持部) 17 対極体 18 電解処理液供給手段 18a 電解処理液供給管 18b 電解処理液排出管 18c 電解処理液供給管 19 多孔板体 19a 電解処理液噴出用の孔 19b 多孔板体19の端部 20 金属粉除去フィルタ 21a 上部空間 21b 下部空間 22 本発明の更に別の陽極酸化皮膜形成
装置 23 密閉容器(電解処理液保持部) 23a 曲板 23b 取付け部(対極体の) 23c,23d 密封容器23の両端部 23e 噴出手段 24 電解液供給管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrolyte tank 2 Anode body 3 Rotating cathode body 3a Surface of the rotating cathode body 3b 3 End part of the rotating cathode body 3 Gap 5 Electrolyte solution 6 Distributor (electrolyte solution outlet) 7 Metal foil 8a, 8b Guide roller 9 Winder DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Buff 11 Anodized film forming apparatus of the present invention 12 Shaft 13 Conductive roll (counter electrode) 13a Conductive roll terminal 14 Felt (electrolytic treatment liquid holding part) 15 Pipe (electrolytic treatment liquid supply means) 15a Electrolytic treatment liquid 15b Opening 15c Pump 16 Another anodized film forming apparatus of the present invention 16a Container (electrolytic treatment liquid holding part) 17 Counter electrode 18 Electrolytic treatment liquid supply means 18a Electrolytic treatment liquid supply pipe 18b Electrolytic treatment liquid discharge pipe 18c Electrolytic treatment liquid supply pipe 19 Perforated Plate 19a Hole for Ejection of Electrolytic Treatment Liquid 19b End of Perforated Plate 19 20 Metal Powder Removal File 21a Upper space 21b Lower space 22 Still another anodic oxide film forming apparatus 23 of the present invention 23 Sealed container (electrolytic treatment solution holding part) 23a Curved plate 23b Mounting part (of counter electrode) 23c, 23d Both ends 23e of sealed container 23 Ejection means 24 Electrolyte supply pipe

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芦澤 公一 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Koichi Ashizawa 2-6-1, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Furukawa Electric Co., Ltd.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電解液に浸漬されているアノード体とカ
ソード体の間に通電して電解反応を起こし、前記電解反
応により前記カソード体の表面に金属を電析して金属薄
層を形成したのちに、前記金属薄層を前記カソード体の
表面から剥離して連続的に金属箔を製造する際に、前記
金属薄層の剥離後に露出している前記カソード体の表面
を連続的または間欠的に電解酸化して当該露出表面に陽
極酸化皮膜を形成することを特徴とする金属箔の製造方
法。
1. A thin metal layer is formed by applying an electric current between an anode body and a cathode body which are immersed in an electrolytic solution to cause an electrolytic reaction, and depositing a metal on the surface of the cathode body by the electrolytic reaction. After that, when the metal thin layer is peeled from the surface of the cathode body to continuously produce a metal foil, the surface of the cathode body exposed after peeling the metal thin layer is continuously or intermittently exposed. A method for producing a metal foil, which comprises electrolytically oxidizing and forming an anodized film on the exposed surface.
【請求項2】 前記金属箔が銅箔である請求項1の金属
箔の製造方法。
2. The method for producing a metal foil according to claim 1, wherein the metal foil is a copper foil.
【請求項3】 前記電解酸化が、電解電圧0.1〜10V
の定電圧法で行われる請求項1の金属箔の製造方法。
3. The electrolytic oxidation is performed at an electrolytic voltage of 0.1 to 10 V.
The method for producing a metal foil according to claim 1, which is performed by the constant voltage method.
【請求項4】 前記陽極酸化皮膜の厚みが、1.4〜14
0Åである請求項1の金属箔の製造方法。
4. The thickness of the anodized film is 1.4 to 14
The method for producing a metal foil according to claim 1, wherein the metal foil is 0Å.
【請求項5】 前記電解酸化時に用いる電解処理液が、
金属箔製造用の電解液またはそれと同一成分で成分比が
異なる請求項1の金属箔の製造方法。
5. The electrolytic treatment liquid used during the electrolytic oxidation is
The method for producing a metal foil according to claim 1, wherein the electrolytic solution for producing a metal foil or the same component as the electrolyte has a different component ratio.
【請求項6】 前記電解処理液の温度が、前記電解処理
液に溶解している電解質の析出温度よりも高い温度にな
っている請求項5の金属箔の製造方法。
6. The method for producing a metal foil according to claim 5, wherein the temperature of the electrolytic treatment liquid is higher than the deposition temperature of the electrolyte dissolved in the electrolytic treatment liquid.
【請求項7】 前記電解酸化時に用いる電解処理液が、
カソード体の表面に電析する金属のイオンを含まない電
解液である請求項1の金属箔の製造方法。
7. The electrolytic treatment liquid used in the electrolytic oxidation is
The method for producing a metal foil according to claim 1, which is an electrolytic solution containing no metal ion to be electrodeposited on the surface of the cathode body.
【請求項8】 前記金属箔が銅箔であり、前記電解酸化
時に用いる電解処理液が、濃度10g/l以下の硫酸水
溶液である請求項1の金属箔の製造方法。
8. The method for producing a metal foil according to claim 1, wherein the metal foil is a copper foil, and the electrolytic treatment liquid used in the electrolytic oxidation is a sulfuric acid aqueous solution having a concentration of 10 g / l or less.
【請求項9】 前記カソード体は、少なくとも表面がチ
タンまたはチタン合金から成る請求項1の金属箔の製造
方法。
9. The method for producing a metal foil according to claim 1, wherein at least the surface of the cathode body is made of titanium or a titanium alloy.
【請求項10】 前記カソード体がドラム形状をしてい
る請求項1または9の金属箔の製造方法。
10. The method for producing a metal foil according to claim 1, wherein the cathode body has a drum shape.
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