JPH07193279A - Optical semiconductor device - Google Patents

Optical semiconductor device

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Publication number
JPH07193279A
JPH07193279A JP33208693A JP33208693A JPH07193279A JP H07193279 A JPH07193279 A JP H07193279A JP 33208693 A JP33208693 A JP 33208693A JP 33208693 A JP33208693 A JP 33208693A JP H07193279 A JPH07193279 A JP H07193279A
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JP
Japan
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electrode
led
optical semiconductor
active layer
semiconductor substrate
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Application number
JP33208693A
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Japanese (ja)
Inventor
Chihiro Funaoka
千洋 船岡
Junichi Sonoda
純一 園田
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Stanley Electric Co Ltd
Original Assignee
Stanley Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH07193279A publication Critical patent/JPH07193279A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide an optical semiconductor device which can be manufactured at a low cost by simple constitution and improve the leading-out efficiency of light to the outside. CONSTITUTION:An optical semiconductor device 10 is constituted, by containing an optical semiconductor chip 12 formed on a semiconductor substrate 11, an electrode 13 formed in the vicinity of the surface central part of the optical semiconductor chip 12, and a back side electrode 14 formed on the rear of the semiconductor substrate 11, and forming an electric insulation layer 15 in a part of the lower surface of the electrode 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばLED等の光半
導体デバイスに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical semiconductor device such as an LED.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光半導体デバイスとして、図8及
び図9に示す構成のLEDが知られている。このLED
1は、半導体基板2上に形成されたLEDチップ3と、
このLEDチップ3の表面に形成された電極4とから構
成されている。LEDチップ3は、その上下方向に関し
て中間に、活性層3aを有しており、この活性層3aを
電流が通過することにより、該活性層3aが発光するよ
うになっている。また、半導体基板2の下面には、裏電
極5が形成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an LED having a structure shown in FIGS. 8 and 9 is known as an optical semiconductor device. This LED
1 is an LED chip 3 formed on a semiconductor substrate 2,
It is composed of an electrode 4 formed on the surface of the LED chip 3. The LED chip 3 has an active layer 3a in the middle in the vertical direction, and when a current passes through the active layer 3a, the active layer 3a emits light. A back electrode 5 is formed on the lower surface of the semiconductor substrate 2.

【0003】このように構成されたLED1によれば、
LEDチップ3の表面に形成された電極4と半導体基板
2の下面に設けられた裏電極5との間に、電圧を印加す
ることにより、例えば図9にて矢印で示すように、電極
4から裏電極5に向かって電流が流れることになる。そ
して、この電流が、LEDチップ3の活性層3aを通過
する際に、この活性層3aが発光する。かくして、活性
層3aからの光は、LED1の上面、即ちLEDチップ
3の表面から外部へ出射することになる。
According to the LED 1 thus constructed,
By applying a voltage between the electrode 4 formed on the surface of the LED chip 3 and the back electrode 5 provided on the lower surface of the semiconductor substrate 2, for example, as shown by an arrow in FIG. An electric current will flow toward the back electrode 5. Then, when this current passes through the active layer 3a of the LED chip 3, the active layer 3a emits light. Thus, the light from the active layer 3a is emitted to the outside from the upper surface of the LED 1, that is, the surface of the LED chip 3.

【0004】この場合、電極4からの裏電極5に向かっ
て流れる電流は、その経路の抵抗値が最小になるよう
に、即ち最短距離をとるように流れることになる。とこ
ろで、電極4は、LEDチップ3の表面の中心付近に位
置している。従って、活性層3aを通過する電流は、こ
の活性層3aのうち、電極4の直下に集中することにな
る。このため、活性層3aの発光中心は、図9にて符号
Aで示すようになり、その発光強度は、図10のグラフ
に示すように、電極4に対応する領域が最大で、この電
極4から外れると、急激に低下することになる。
In this case, the current flowing from the electrode 4 toward the back electrode 5 flows so that the resistance value of the path is minimized, that is, the shortest distance is taken. By the way, the electrode 4 is located near the center of the surface of the LED chip 3. Therefore, the current passing through the active layer 3a is concentrated immediately below the electrode 4 in the active layer 3a. For this reason, the emission center of the active layer 3a becomes as shown by the symbol A in FIG. 9, and its emission intensity is maximum in the region corresponding to the electrode 4 as shown in the graph of FIG. If it goes out of range, it will drop sharply.

【0005】他方、LEDチップ3の表面に形成された
電極4は光を遮断する。従って、LED1の発光特性
は、発光強度が最大である電極4の領域で、外部への発
光強度がゼロになってしまうので、図10にて斜線を施
した部分のみが外部に取り出されることになる。従っ
て、外部への光の取出し効率が極めて低くなってしまう
という問題があった。
On the other hand, the electrode 4 formed on the surface of the LED chip 3 blocks light. Therefore, the emission characteristics of the LED 1 are such that the emission intensity to the outside becomes zero in the region of the electrode 4 where the emission intensity is maximum, so that only the shaded portion in FIG. 10 is extracted to the outside. Become. Therefore, there is a problem that the efficiency of extracting light to the outside becomes extremely low.

【0006】このため、例えば図11に示すような構成
の、光の取出し効率を高めたLEDが知られている。即
ち、図11において、LED6は、LEDチップ3内に
て活性層3aの上方に、電流阻止層3bが備えられてい
る点で、図8及び図9のLED1と異なる構造になって
いる。この電流阻止層3bは、LEDチップ3の結晶中
に、電極4に対応してアイランド状の高抵抗領域3cを
形成することにより、構成されている。
For this reason, there is known an LED having a structure as shown in FIG. 11, for example, which has an improved light extraction efficiency. That is, in FIG. 11, the LED 6 has a structure different from that of the LED 1 of FIGS. 8 and 9 in that the current blocking layer 3b is provided above the active layer 3a in the LED chip 3. The current blocking layer 3b is formed by forming an island-shaped high resistance region 3c corresponding to the electrode 4 in the crystal of the LED chip 3.

【0007】この構成によれば、電極4からの電流は、
上記電流阻止層3bの高抵抗領域3cを回避して、周囲
に回り込むことになる。従って、外部への発光に寄与し
ない活性層3aの中心部分を通過することが排除され得
る。かくして、活性層3aの発光中心は、図11にて符
号Bで示すようになり、入力電流に対する発光効率が向
上せしめられ得ることになる。
According to this structure, the current from the electrode 4 is
The high resistance region 3c of the current blocking layer 3b is avoided and it wraps around. Therefore, passing through the central portion of the active layer 3a that does not contribute to the emission of light to the outside can be excluded. Thus, the emission center of the active layer 3a becomes as shown by the symbol B in FIG. 11, and the emission efficiency with respect to the input current can be improved.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなバックLED6においては、電流阻止層3bを形成
する場合、電極4に対応した高抵抗領域3cを画成する
ためには、電流阻止層3bを形成する際に、高抵抗領域
3c以外の部分を選択的に除去するために、エッチング
工程が必要となる。このため、半導体基板2上へのLE
Dチップ3の結晶成長工程にて、途中で結晶成長を中断
して、この電流阻止層3bを形成する必要があり、その
後再び結晶成長を行なうことになる。従って、結晶成長
工程における結晶成長装置の使用効率が低下してしまう
と共に、別にエッチング工程が必要であることから、工
程が多くなり、製造コストが高くなってしまうという問
題があった。
However, in such a back LED 6, when the current blocking layer 3b is formed, in order to define the high resistance region 3c corresponding to the electrode 4, the current blocking layer 3b is formed. When forming, an etching step is required to selectively remove the portion other than the high resistance region 3c. Therefore, LE on the semiconductor substrate 2
In the crystal growth process of the D chip 3, it is necessary to interrupt the crystal growth midway and form the current blocking layer 3b, and then the crystal growth is performed again. Therefore, there is a problem in that the use efficiency of the crystal growth apparatus in the crystal growth step is reduced, and an additional etching step is required, resulting in an increase in the number of steps and an increase in manufacturing cost.

【0009】本発明は、以上の点に鑑み、簡単な構成に
より低コストで製造し得ると共に、外部への光の取出し
効率を向上させ得るようにした、光半導体デバイスを提
供することを目的としている。
In view of the above points, it is an object of the present invention to provide an optical semiconductor device which can be manufactured at a low cost with a simple structure and can improve the efficiency of extracting light to the outside. There is.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、半導体基板上に形成された光半導
体チップと、この光半導体チップの表面中央付近に形成
された電極と、上記半導体基板の下面に形成された裏電
極とを含んでいる光半導体デバイスにおいて、上記電極
の下面の一部に、電気絶縁層を設けたことを特徴として
いる。
To achieve the above object, according to the present invention, an optical semiconductor chip formed on a semiconductor substrate, an electrode formed near the center of the surface of the optical semiconductor chip, and An optical semiconductor device including a back electrode formed on the lower surface of a semiconductor substrate is characterized in that an electrical insulating layer is provided on a part of the lower surface of the electrode.

【0011】また、好ましくは、本発明によれば、半導
体基板が、上記電極直下の領域に、下方に向かって開放
した凹陥部を備えている。
Further, according to the present invention, preferably, the semiconductor substrate is provided with a concave portion opened downward in a region immediately below the electrode.

【0012】[0012]

【作用】上記第一の構成によれば、電極の下面の一部、
例えば周囲を残して中心付近に電気絶縁層が設けられて
いるので、この電気絶縁層の存在によって、電極からの
電流はこの電極の周囲からLEDチップ内に入り、裏電
極に向かって進むことになる。従って、LEDチップの
活性層においては、電極の周縁に対応する領域で発光高
度が最大となり、そこから外側及び内側に向かって発光
強度が低下するようになる。
According to the first structure, part of the lower surface of the electrode,
For example, since an electric insulating layer is provided near the center except for the periphery, the presence of the electric insulating layer causes the current from the electrode to enter the LED chip from the periphery of the electrode and travel toward the back electrode. Become. Therefore, in the active layer of the LED chip, the light emission height is maximized in the region corresponding to the peripheral edge of the electrode, and the light emission intensity is reduced from there to the outside and the inside.

【0013】また、上記第二の構成によれば、半導体基
板の下面の電極に対応する領域に、凹陥部が備えられて
いるので、この凹陥部の存在によって、電極からの電流
はLEDチップ内に入った後、上記凹陥部を回避するよ
うに、裏電極に向かって進むことになる。従って、LE
Dチップの活性層においては、電極の周縁に対応する領
域で発光強度が最大となり、そこから外側及び内側に向
かって発光強度が低下するようになる。ここで、電極か
らの電流が凹陥部を回避するように、周囲に向かって回
り込むことにより、電極周縁から外側における発光強度
が高められ得ることになる。
Further, according to the second structure, since the recessed portion is provided in the region corresponding to the electrode on the lower surface of the semiconductor substrate, the existence of this recessed portion causes the current from the electrode to flow in the LED chip. After entering, it will proceed toward the back electrode so as to avoid the recess. Therefore, LE
In the active layer of the D chip, the emission intensity becomes maximum in the region corresponding to the peripheral edge of the electrode, and the emission intensity decreases from the region toward the outside and inside. Here, since the current from the electrode circulates toward the periphery so as to avoid the concave portion, the emission intensity from the electrode periphery to the outside can be increased.

【0014】かくして、何れの構成においても、電極に
対応する活性層の領域では、発光強度が低下するので、
全体として、外部への光の取出し効率が向上せしめられ
る。また、LEDチップ形成の際の結晶成長工程は、途
中で中断することなく、連続して行なわれることがで
き、エッチング工程等も不要であるので、工程数が増え
ることなく、光半導体デバイスが簡単に且つ低コストで
製造される。
Thus, in any structure, the light emission intensity is lowered in the region of the active layer corresponding to the electrode.
As a whole, the efficiency of extracting light to the outside can be improved. In addition, the crystal growth process for forming the LED chip can be continuously performed without interruption in the middle, and an etching process or the like is not necessary. Therefore, the number of processes does not increase, and the optical semiconductor device is simple. It is manufactured at low cost.

【0015】[0015]

【実施例】以下、図面に示した実施例に基づいて、本発
明を詳細に説明する。図1及び図2は、本発明を適用し
たLEDの第一の実施例を示しており、LED10は、
半導体基板11上に形成されたLEDチップ12と、こ
のLEDチップ12の表面に形成された電極13とから
構成されている。LEDチップ12は、その上下方向に
関して中間に、活性層12aを有しており、この活性層
12aを電流が通過することにより、該活性層12aが
発光するようになっている。また、半導体基板11の下
面には、裏電極14が形成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below based on the embodiments shown in the drawings. 1 and 2 show a first embodiment of an LED to which the present invention is applied, and the LED 10 is
The LED chip 12 is formed on the semiconductor substrate 11, and the electrode 13 is formed on the surface of the LED chip 12. The LED chip 12 has an active layer 12a in the middle in the vertical direction, and when a current passes through the active layer 12a, the active layer 12a emits light. A back electrode 14 is formed on the lower surface of the semiconductor substrate 11.

【0016】以上の構成は、図8及び図9に示した従来
のLED1と同様の構成であるが、本発明実施例による
LED10においては、さらに、電極13の下面の一
部、図示の場合には、電極13よりやや小径で円形の、
例えばSiO2 ,SiNx等から成る電気絶縁層15が
形成されている。
The above structure is the same as that of the conventional LED 1 shown in FIGS. 8 and 9, but in the LED 10 according to the embodiment of the present invention, a part of the lower surface of the electrode 13, that is, in the case of the drawing, is used. Is slightly smaller than the electrode 13 and has a circular shape,
For example, an electric insulating layer 15 made of SiO 2 , SiNx or the like is formed.

【0017】本発明実施例によるLED10は以上のよ
うに構成されており、LEDチップ12の表面に形成さ
れた電極13と、半導体基板11の下面に設けられた裏
電極14との間に、電圧を印加することにより、例えば
図2にて矢印で示すように、電極13から裏電極14に
向かって電流が流れる。即ち、先ず電極13内にて、電
流は電極13の周辺に向かって移動した後、この電極1
3の周辺部からLEDチップ12内に入る。そして、こ
の電流が、LEDチップ12の活性層12aを通過する
際に、この活性層12aが発光し、該活性層12aから
の光は、LED10の上面、即ちLEDチップ12の表
面から外部へ出射することになる。
The LED 10 according to the embodiment of the present invention is configured as described above, and a voltage is applied between the electrode 13 formed on the surface of the LED chip 12 and the back electrode 14 provided on the lower surface of the semiconductor substrate 11. By applying, a current flows from the electrode 13 to the back electrode 14 as indicated by an arrow in FIG. That is, first, in the electrode 13, the current moves toward the periphery of the electrode 13 and then the electrode 1
It enters into the LED chip 12 from the peripheral part of 3. When this current passes through the active layer 12a of the LED chip 12, the active layer 12a emits light, and the light from the active layer 12a is emitted to the outside from the upper surface of the LED 10, that is, the surface of the LED chip 12. Will be done.

【0018】かくして、活性層12aの発光中心は、図
面にて符号Cで示すように、電極13の周縁に対応した
位置にあって、発光強度は、図3に示すように、電極1
3の周縁にて最大であり、そこから外側及び内側に向か
って、減少するようになっている。その際、電極13の
存在によって、外部に取り出される光の発光強度は、図
3にて斜線を施した部分のみになる。この場合、効率良
く光に変換されるLEDの駆動電流範囲内においては、
活性層における内部発光強度は、駆動電流にほぼ比例す
るので、図10に示す従来のLED1の発光強度に比較
して、同一電流の場合には、全体の発光量が等しいこと
から、外部への光の取出し効率が向上せしめられ得るこ
とになる。
Thus, the emission center of the active layer 12a is located at a position corresponding to the peripheral edge of the electrode 13 as indicated by the symbol C in the drawing, and the emission intensity is as shown in FIG.
3 is the largest at the periphery, and decreases from the outer edge to the inner edge. At that time, due to the presence of the electrode 13, the emission intensity of the light extracted to the outside is only in the shaded portion in FIG. In this case, within the drive current range of the LED that is efficiently converted into light,
Since the internal light emission intensity in the active layer is almost proportional to the drive current, as compared with the light emission intensity of the conventional LED 1 shown in FIG. The light extraction efficiency can be improved.

【0019】図4乃至図6は、本発明を適用したLED
の第二の実施例であり、LED20は、半導体基板21
上に形成されたLEDチップ22と、このLEDチップ
22の表面に形成された電極23とから構成されてい
る。このLEDチップ22は、その上下方向に関して中
間に、活性層22aを有しており、この活性層22aを
電流が通過することにより、該活性層22aが発光する
ようになっている。また、半導体基板21の下面には、
裏電極24が形成されている。
4 to 6 show an LED to which the present invention is applied.
In the second embodiment, the LED 20 is a semiconductor substrate 21.
It is composed of an LED chip 22 formed above and an electrode 23 formed on the surface of the LED chip 22. The LED chip 22 has an active layer 22a in the middle in the vertical direction, and when a current passes through the active layer 22a, the active layer 22a emits light. Further, on the lower surface of the semiconductor substrate 21,
The back electrode 24 is formed.

【0020】以上の構成は、図8及び図9に示した従来
のLED1と同様の構成であるが、該第2の実施例によ
るLED20においては、さらに、上記半導体基板21
が、上記電極23の直下の領域において、下方に向かっ
て開放した凹陥部21aを備えている。ここで、半導体
基板21の厚さは、例えば100乃至300μm程度で
あるが、LEDチップ22の厚さは、例えば数μm〜数
10μm程度であり、LEDチップ22の活性層22a
は、半導体基板21に対して非常に接近して配設される
ことになる。
The above structure is similar to the conventional LED 1 shown in FIGS. 8 and 9, but in the LED 20 according to the second embodiment, the semiconductor substrate 21 is further added.
However, in the region immediately below the electrode 23, the recessed portion 21a opened downward is provided. Here, the thickness of the semiconductor substrate 21 is, for example, about 100 to 300 μm, but the thickness of the LED chip 22 is, for example, about several μm to several tens of μm, and the active layer 22 a of the LED chip 22.
Are arranged very close to the semiconductor substrate 21.

【0021】この第2実施例によるLED20は以上の
ように構成されており、LEDチップ22の表面に形成
された電極23と、半導体基板21の下面に設けられた
裏電極24との間に電圧を印加することにより、例えば
図4にて矢印で示すように、電極23から裏電極24に
向かって電流が流れる。即ち、電流は、LEDチップ2
2内に入り、LEDチップ22の活性層22aを通過す
る際に、この活性層22aが発光し、該活性層22aか
らの光はLED20の上面、即ちLEDチップ22の表
面から外部へ出射することになる。
The LED 20 according to the second embodiment is configured as described above, and a voltage is applied between the electrode 23 formed on the surface of the LED chip 22 and the back electrode 24 provided on the lower surface of the semiconductor substrate 21. By applying, a current flows from the electrode 23 to the back electrode 24, for example, as shown by the arrow in FIG. That is, the current is the LED chip 2
The active layer 22a emits light when entering the inside of the LED 2 and passing through the active layer 22a of the LED chip 22, and the light from the active layer 22a is emitted to the outside from the upper surface of the LED 20, that is, the surface of the LED chip 22. become.

【0022】この場合、半導体基板21が凹陥部21a
を備えていることにより、電流はこの凹陥部21aを回
避するように、LEDチップ22内で回り込むことにな
る。そのため、電流は、活性層22aを通過する際に、
電極23に対応した領域から周辺に逃げることになる。
従って、活性層22aの発光中心は、図4にて符号Dで
示すように、電極23の周縁に対応した位置にあって、
発光強度は、図7に示すように、電極23の周縁にて最
大であり、そこから外側及び内側に向かって、減少する
ようになっている。その際、電極23の存在によって、
外部に取り出される光の発光強度は、図7にて斜線を施
した部分のみになる。
In this case, the semiconductor substrate 21 has the concave portion 21a.
With the provision of, the electric current will sneak in the LED chip 22 so as to avoid the concave portion 21a. Therefore, when the current passes through the active layer 22a,
It will escape to the periphery from the region corresponding to the electrode 23.
Therefore, the emission center of the active layer 22a is at a position corresponding to the peripheral edge of the electrode 23, as indicated by the symbol D in FIG.
As shown in FIG. 7, the emission intensity is maximum at the periphery of the electrode 23 and decreases from the outside toward the outside and inside. At that time, due to the presence of the electrode 23,
The emission intensity of the light extracted to the outside is only the shaded portion in FIG. 7.

【0023】ここで、電流は、上記凹陥部21aを回避
するように、LEDチップ22内で回り込むことから、
電極23の周縁より外側に対応する領域においては、従
来のLED1に比較して、発光強度が向上せしめられ
る。
Here, since the current sneak in the LED chip 22 so as to avoid the concave portion 21a,
In the region corresponding to the outside of the peripheral edge of the electrode 23, the emission intensity is improved as compared with the conventional LED 1.

【0024】尚、上記実施例においては、本発明をLE
Dに対して適用した場合について説明したが、これに限
らず、他の光半導体デバイスに対しても、本発明を適用
し得ることは明らかである。
In the above embodiment, the present invention is LE
Although the case where the present invention is applied to D has been described, it is obvious that the present invention can be applied to not only this but also other optical semiconductor devices.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、電
極に対応する活性層の領域では、発光強度が低下するの
で、全体として、外部への光の取出し効率が向上せしめ
られ得る。また、LEDチップ形成の際の結晶成長工程
は、途中で中断することなく、連続して行なわれること
ができると共に、エッチング工程等も不要であるので、
工程数が増えることなく、光半導体デバイスを簡単に且
つ低コストで製造することができる。かくして、本発明
によれば、簡単な構成により、低コストで製造され得る
と共に、外部への光の取出し効率が向上せしめられ得る
ようにした、光半導体デバイスが提供される。
As described above, according to the present invention, the light emission intensity is lowered in the region of the active layer corresponding to the electrode, so that the efficiency of extracting light to the outside can be improved as a whole. In addition, the crystal growth process for forming the LED chip can be continuously performed without interruption in the middle, and an etching process or the like is not necessary.
The optical semiconductor device can be easily manufactured at low cost without increasing the number of steps. Thus, according to the present invention, there is provided an optical semiconductor device that can be manufactured at a low cost with a simple configuration and that the efficiency of extracting light to the outside can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用したLEDの第一の実施例の平面
図である。
FIG. 1 is a plan view of a first embodiment of an LED to which the present invention has been applied.

【図2】図1のLEDの断面図である。2 is a cross-sectional view of the LED of FIG.

【図3】図1のLEDの発光強度を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing the emission intensity of the LED of FIG.

【図4】本発明を適用したLEDの第二の実施例の断面
図である。
FIG. 4 is a sectional view of a second embodiment of an LED to which the present invention has been applied.

【図5】図4のLEDの下方から見た斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of the LED of FIG. 4 viewed from below.

【図6】図4のLEDの平面図である。FIG. 6 is a plan view of the LED of FIG.

【図7】図4のLEDの発光強度を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing the emission intensity of the LED of FIG.

【図8】従来のLEDの一例を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing an example of a conventional LED.

【図9】図8のLEDの断面図である。9 is a cross-sectional view of the LED of FIG.

【図10】図8のLEDの発光強度を示すグラフであ
る。
10 is a graph showing the emission intensity of the LED of FIG.

【図11】従来のLEDの他の例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing another example of a conventional LED.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 LED 11 半導体基板 12 LEDチップ 13 電極 14 裏電極 15 電気絶縁層 20 LED 21 半導体基板 21a 凹陥部 22 LEDチップ 23 電極 24 裏電極 10 LED 11 Semiconductor Substrate 12 LED Chip 13 Electrode 14 Back Electrode 15 Electrical Insulation Layer 20 LED 21 Semiconductor Substrate 21a Recess 22 LED Chip 23 Electrode 24 Back Electrode

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板上に形成された光半導体チッ
プと、該光半導体チップの表面中央付近に形成された電
極と、上記半導体基板の下面に形成された裏電極とを含
んでいる光半導体デバイスにおいて、 上記電極の下面の一部に、電気絶縁層が設けられている
ことを特徴とする、光半導体デバイス。
1. An optical semiconductor including an optical semiconductor chip formed on a semiconductor substrate, an electrode formed near the center of the surface of the optical semiconductor chip, and a back electrode formed on the lower surface of the semiconductor substrate. The device is an optical semiconductor device characterized in that an electrical insulating layer is provided on a part of the lower surface of the electrode.
【請求項2】 半導体基板上に形成された光半導体チッ
プと、該光半導体チップの表面中央付近に形成された電
極と、上記半導体基板の下面に形成された裏電極とを含
んでいる、光半導体デバイスにおいて、 上記半導体基板が、上記電極直下の領域に、下方に向か
って開放した凹陥部を備えていることを特徴とする、光
半導体デバイス。
2. An optical semiconductor chip including an optical semiconductor chip formed on a semiconductor substrate, an electrode formed near the center of the surface of the optical semiconductor chip, and a back electrode formed on the lower surface of the semiconductor substrate. A semiconductor device, wherein the semiconductor substrate is provided with a concave portion opened downward in a region immediately below the electrode.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011171514A (en) * 2010-02-18 2011-09-01 Stanley Electric Co Ltd Semiconductor light emitting device
US9006792B2 (en) 2011-09-12 2015-04-14 Mitsubishi Chemical Corporation Light emitting diode element
JP2018121058A (en) * 2017-01-26 2018-08-02 晶元光電股▲ふん▼有限公司Epistar Corporation Light-emitting element

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