JPH07189905A - Regenerating method for cryopump and executing device thereof - Google Patents
Regenerating method for cryopump and executing device thereofInfo
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- JPH07189905A JPH07189905A JP33341193A JP33341193A JPH07189905A JP H07189905 A JPH07189905 A JP H07189905A JP 33341193 A JP33341193 A JP 33341193A JP 33341193 A JP33341193 A JP 33341193A JP H07189905 A JPH07189905 A JP H07189905A
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- cryopump
- regeneration
- gas
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、高真空装置に関し、特
に、クライオポンプに適用して有効な技術に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high vacuum device, and more particularly to a technique effectively applied to a cryopump.
【0002】[0002]
【従来の技術】クライオポンプは、クライオポンプ内の
コールドパネルを極低温に冷却し気体分子を凝縮また
は、吸着し高真空圧力を得るものである。このコールド
パネルにおける気体分子の凝縮および吸着には限界があ
り、使用後、再使用するためには、その凝縮および吸着
した気体分子を外部(大気)に放出する必要があり、こ
れを再生と呼んでいる。2. Description of the Related Art Cryopumps are those which obtain a high vacuum pressure by cooling a cold panel in a cryopump to an extremely low temperature to condense or adsorb gas molecules. There is a limit to the condensation and adsorption of gas molecules in this cold panel, and it is necessary to release the condensed and adsorbed gas molecules to the outside (atmosphere) in order to reuse them after use. This is called regeneration. I'm out.
【0003】従来、一般的に使用されているクライオポ
ンプの再生方法は、クライオポンプのコールドヘッドを
停止した後、クライオポンプ内に再生ガス(一般的に窒
素ガス)を導入しポンプ内の圧力を上昇(大気圧に戻
す)させると共に、極低温に冷されたコールドパネルの
温度上昇をさせることにより凝縮および吸着した気体分
子を外部(大気)に放出するものである。[0003] Conventionally, a generally used method for regenerating a cryopump is to stop the cold head of the cryopump and then introduce a regenerating gas (generally nitrogen gas) into the cryopump to adjust the pressure in the pump. The gas molecules condensed and adsorbed are released to the outside (atmosphere) by raising the temperature (returning to atmospheric pressure) and raising the temperature of the cold panel cooled to an extremely low temperature.
【0004】そして、そのクライオポンプの一連の再生
作業は、5〜6時間位かかっていた。Then, a series of regenerating work of the cryopump took about 5 to 6 hours.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記従来
技術を検討した結果、以下の問題点を見いだした。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have found the following problems as a result of examining the above prior art.
【0006】従来のクライオポンプの再生方法では、ク
ライオポンプのコールドヘッドを停止した後、クライオ
ポンプ内に再生ガス(一般的に窒素ガス)を導入しポン
プ内の圧力を上昇(大気圧に戻す)させると共に、極低
温に冷されたコールドパネルの温度上昇をさせることに
より、クライオポンプの内部を極低温(−250℃)か
ら常温(25℃)まで昇温させているために、クライオ
ポンプ内の温度サイクルが大きく(温度の幅で275
℃)なる。In the conventional cryopump regeneration method, after stopping the cold head of the cryopump, a regeneration gas (generally nitrogen gas) is introduced into the cryopump to increase the pressure in the pump (return to atmospheric pressure). At the same time, by raising the temperature of the cold panel cooled to the extremely low temperature, the inside of the cryopump is heated from the extremely low temperature (−250 ° C.) to the room temperature (25 ° C.). Large temperature cycle (275 in temperature range)
℃).
【0007】このため、真空圧力から大気圧までにする
再生ガス導入時間(ベント時間)、または、再生完了後
の大気圧から真空圧力までの真空排気時間(クールダウ
ン)が長い等の問題点があった。Therefore, there is a problem that the regeneration gas introduction time (vent time) from the vacuum pressure to the atmospheric pressure or the vacuum exhaust time (cool down) from the atmospheric pressure to the vacuum pressure after the regeneration is completed is long. there were.
【0008】また、このクールダウン時間を短縮するた
めに、再生ガスを予め高温に加熱し導入する方法も有る
が、この場合、急激な温度上昇が発生し、クライオポン
プ内の各構成部品へのストレスを増大させているという
問題点があった。In order to shorten the cool-down time, there is a method of preliminarily heating and introducing the regenerated gas to a high temperature. In this case, however, a rapid temperature rise occurs and each component in the cryopump is supplied. There was a problem of increasing stress.
【0009】本発明の目的は、再生時にクライオポンプ
内の各構成部品へのストレスを低減することが可能な技
術を提供することにある。An object of the present invention is to provide a technique capable of reducing stress on each component in the cryopump during regeneration.
【0010】本発明の他の目的は、クライオポンプの再
立上げ時間を短縮することが可能な技術を提供すること
にある。Another object of the present invention is to provide a technique capable of shortening the restart time of the cryopump.
【0011】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。Of the inventions disclosed in the present application, a representative one will be briefly described below.
It is as follows.
【0013】クライオポンプに再生ガスを導入し、コー
ルドパネルに凝縮、または吸着した気体分子を外部に放
出するクライオポンプの再生方法において、前記再生ガ
スを導入する際にクライオポンプ内を飽和蒸気圧温度以
下に保持する。In a method of regenerating a cryopump in which a regeneration gas is introduced into a cryopump and gas molecules condensed or adsorbed on a cold panel are released to the outside, a saturated vapor pressure temperature in the cryopump is increased when the regeneration gas is introduced. Keep below.
【0014】[0014]
【作用】上述した手段によれば、クライオポンプに再生
ガスを導入し、コールドパネルに凝縮、または吸着した
気体分子を外部に放出するクライオポンプの再生方法に
おいて、前記再生ガスを導入する際にクライオポンプ内
を飽和蒸気圧温度以下に保持することにより、クライオ
ポンプ内のコールドパネルに凝縮または、吸着されたガ
スは、大気圧よりも低い温度で気化し、温度サイクル幅
が低減されるので、再生時にクライオポンプ内の各構成
部品へのストレスを低減することが可能となる。According to the above-mentioned means, in the method of regenerating a cryopump in which the regenerating gas is introduced into the cryopump and the gas molecules condensed or adsorbed in the cold panel are released to the outside, the cryogen is introduced when the regenerating gas is introduced. By keeping the inside of the pump below the saturated vapor pressure temperature, the gas condensed or adsorbed on the cold panel inside the cryopump is vaporized at a temperature lower than atmospheric pressure, and the temperature cycle width is reduced, so regeneration is performed. At times, it is possible to reduce the stress on each component in the cryopump.
【0015】また、クライオポンプの再生時に、通常真
空処理室の粗引き真空排気に使用している真空ポンプ
(または、専用の粗引き真空排気ポンプ)を用いてクラ
イオポンプ内を排気して任意の真空圧力以下にすること
でクライオポンプ内部は真空圧力を保持でき、クライオ
ポンプ内壁に吸着するガス量を低減できるので、クライ
オポンプの再立上げ(クールダウン)時間の短縮とな
る。Further, when the cryopump is regenerated, the inside of the cryopump is evacuated by using a vacuum pump (or a dedicated roughing vacuum evacuation pump) that is usually used for rough evacuation of the vacuum processing chamber. By making the pressure below the vacuum pressure, the vacuum pressure can be maintained inside the cryopump and the amount of gas adsorbed on the inner wall of the cryopump can be reduced, so that the restart time (cool down) of the cryopump can be shortened.
【0016】以下、本発明の構成について、実施例とと
もに説明する。The structure of the present invention will be described below together with embodiments.
【0017】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。In all the drawings for explaining the embodiments, parts having the same function are designated by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted.
【0018】[0018]
【実施例】以下、図面を参照しながら、本発明の一実施
例であるクライオポンプ再生方法について詳細に説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A cryopump regeneration method according to an embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
【0019】図1は、本実施例のクライオポンプ再生シ
ステム(クライオポンプとその周辺装置)の構成を説明
するためのものである。FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of the cryopump regeneration system (cryopump and its peripheral devices) of this embodiment.
【0020】図1において、1はクライオポンプ、2は
再生ガス遮断バルブ、3は再生ガス流量制御バルブ、4
は真空計(高真空用、低真空用)、5は再生用制御系、
6はクライオポンプ用制御系、7はクライオポンプコン
プレッサ、8はクライオポンプ粗引き用遮断バルブ、9
はクライオポンプ粗引き制御バルブ、10は粗引きポン
プ(処理室真空排気)、11はメインバルブ、12は真
空処理室、13は粗引きポンプ制御系、14は装置本体
制御系をそれぞれ示す。In FIG. 1, 1 is a cryopump, 2 is a regeneration gas cutoff valve, 3 is a regeneration gas flow control valve, 4
Is a vacuum gauge (for high vacuum, low vacuum), 5 is a control system for regeneration,
6 is a cryopump control system, 7 is a cryopump compressor, 8 is a cryopump roughing shutoff valve, 9
Is a cryopump rough evacuation control valve, 10 is a rough evacuation pump (vacuum exhaust in the processing chamber), 11 is a main valve, 12 is a vacuum processing chamber, 13 is a rough evacuation pump control system, and 14 is an apparatus body control system.
【0021】図1に示す本実施例のクライオポンプ再生
システムにおいて、クライオポンプ1は真空処理室12
を高真空排気し、再生ガス遮断バルブ2はクライオポン
プ1の内部に再生ガスを導入および遮断をするためのも
のであり、再生ガス流量制御バルブ3は再生ガスの導入
量を制御する。In the cryopump regeneration system of the present embodiment shown in FIG. 1, the cryopump 1 has a vacuum processing chamber 12
Is evacuated to a high vacuum, the regeneration gas shutoff valve 2 is for introducing and shutting off the regeneration gas in the cryopump 1, and the regeneration gas flow control valve 3 controls the introduction amount of the regeneration gas.
【0022】真空計4はクライオポンプ1内部の圧力を
モニタし、再生用制御系5はクライオポンプ1の再生を
行う時のクライオポンプ1と再生ガス遮断バルブ2の開
閉動作、再生ガス流量制御バルブ3とクライオポンプ粗
引き制御バルブ9の開閉量の制御、粗引きポンプ10の
起動および停止の電気信号を粗引きポンプ制御系13に
入出力し、クライオポンプ用制御系6への起動および停
止等を行うものである。The vacuum gauge 4 monitors the pressure inside the cryopump 1, and the regeneration control system 5 opens and closes the cryopump 1 and the regeneration gas shutoff valve 2 when the cryopump 1 is regenerated, and the regeneration gas flow control valve. 3 and the control of the opening / closing amount of the cryopump roughing control valve 9 and the input / output of electric signals for starting and stopping the roughing pump 10 to the roughing pump control system 13 to start and stop the cryopump control system 6 and the like. Is to do.
【0023】クライオポンプ用制御系6はクライオポン
プ1のコールドヘッドの起動および停止を行い、クライ
オポンプコンプレッサ7はクライオポンプ1の内部のコ
ールドパネルを極低温に冷すために使用するヘリウムを
圧縮する。The cryopump control system 6 activates and deactivates the cold head of the cryopump 1, and the cryopump compressor 7 compresses the helium used for cooling the cold panel inside the cryopump 1 to an extremely low temperature. .
【0024】クライオポンプ粗引き用遮断バルブ8は再
生時または再生後に、クライオポンプ1とそのクライオ
ポンプ1を粗引き真空排気するポンプ10間で真空遮断
または開放を行うバルブであり、クライオポンプ粗引き
制御バルブ9はクライオポンプ1の再生時における粗引
き真空排気の際にクライオポンプ内の圧力の制御を行
い、粗引きポンプ10は真空処理室12の粗引き真空排
気を行うと共に、再生時にはクライオポンプ1内の粗引
き真空排気を行う。The cryopump rough evacuation shutoff valve 8 is a valve for performing vacuum shutoff or opening between the cryopump 1 and the pump 10 for rough evacuation of the cryopump 1 during or after regeneration. The control valve 9 controls the pressure inside the cryopump during the rough evacuation during the regeneration of the cryopump 1, and the rough pump 10 performs the rough evacuation of the vacuum processing chamber 12 and during the regeneration, the cryopump. Rough evacuation of 1 is performed.
【0025】メインバルブ11は粗引きポンプ制御系1
3とクライオポンプ1の高真空排気の遮断またはその開
放(真空排気状態)を行い、粗引きポンプ制御系13は
粗引きポンプ10の起動および停止を行い、装置本体制
御系14は装置本体の制御および再生用制御系5との電
気信号を入出力する。前述の各制御系における制御はコ
ンピュータ等を用いて行われる。The main valve 11 is a roughing pump control system 1
High vacuum exhaust of 3 and the cryopump 1 is cut off or opened (vacuum exhaust state), the roughing pump control system 13 starts and stops the roughing pump 10, and the apparatus main body control system 14 controls the apparatus main body. And input / output electric signals to / from the reproduction control system 5. The control in each control system described above is performed using a computer or the like.
【0026】次に、前述した本実施例のクライオポンプ
再生システムを用いて、クライオポンプの再生方法につ
いて説明する。なお、クライオポンプは既に起動してい
るものとして説明を始める。Next, a method of regenerating a cryopump using the cryopump regenerating system of this embodiment described above will be described. It should be noted that the description will be started assuming that the cryopump has already been started.
【0027】まず初めに、再生を開始する時は、メイン
バルブ11を全閉にし真空処理室12とクライオポンプ
1とを分離(真空的な分離で機械適的には変化しない)
する。First, when regeneration is started, the main valve 11 is fully closed and the vacuum processing chamber 12 and the cryopump 1 are separated (vacuum separation does not mechanically change).
To do.
【0028】そして、再生用制御系5からクライオポン
プ用制御系6に対して電気信号を送り、クライオポンプ
1の内部のコールドヘッドを停止させ高真空排気状態を
停止する。その停止後、再生ガス遮断バルブ2を開放し
再生ガス流量制御バルブ3を(初期状態は、全閉)徐々
に開け、クライオポンプ1に再生ガスを導入する。Then, an electric signal is sent from the regeneration control system 5 to the cryopump control system 6 to stop the cold head inside the cryopump 1 and stop the high vacuum exhaust state. After the stop, the regeneration gas cutoff valve 2 is opened, the regeneration gas flow control valve 3 is gradually opened (in the initial state, it is fully closed), and the regeneration gas is introduced into the cryopump 1.
【0029】再生ガスを導入し、任意の圧力(真空計4
の真空圧力を再生用制御系5を介し制御)まで上昇した
後、再生用制御系5からの電気信号を送り、粗引きポン
プ制御系13を介して粗引きポンプ10を起動する。A regeneration gas was introduced and an arbitrary pressure (vacuum gauge 4
After the vacuum pressure is increased up to the control via the regeneration control system 5, an electric signal is sent from the regeneration control system 5 to activate the roughing pump 10 via the roughing pump control system 13.
【0030】その後、クライオポンプ粗引き用遮断バル
ブ8を全開としクライオポンプ粗引き制御バルブ9を徐
々に開け(初期状態は、全閉)任意の圧力となるように
真空計4の真空圧力値を再生用制御系5を介してモニタ
し、クライオポンプ粗引き制御バルブ9および再生ガス
流量制御バルブ3の開度を制御する。Thereafter, the cryopump rough evacuation shut-off valve 8 is fully opened, and the cryopump rough evacuation control valve 9 is gradually opened (initial state is fully closed). The vacuum pressure value of the vacuum gauge 4 is adjusted to an arbitrary pressure. The opening degree of the cryopump roughing control valve 9 and the regeneration gas flow rate control valve 3 is controlled by monitoring through the regeneration control system 5.
【0031】そして、設定した時間(再生用制御系5で
設定)が経過した後、再生ガス遮断バルブ2および再生
ガス流量制御バルブ3を全閉にする。ここまでの作業
で、凝縮または、吸着されたガスの放出が完了する。After the set time (set by the regeneration control system 5) has elapsed, the regeneration gas cutoff valve 2 and the regeneration gas flow control valve 3 are fully closed. The work up to this point completes the release of the condensed or adsorbed gas.
【0032】次に、クライオポンプ粗引き制御バルブ9
を全開にしクライオポンプ1の粗引き真空排気を開始す
る。その後、クライオポンプ1の内部が任意の設定真空
圧力および圧力上昇値となった後に、クライオポンプ粗
引き用遮断バルブ8およびクライオポンプ粗引き制御バ
ルブ9を全閉とし、再生用制御系5からクライオポンプ
用制御系6へ電気信号を送り、クライオポンプ1のコー
ルドヘッドの起動(再起動)を開始する。そしてクライ
オポンプ1のコールドパネルの温度が設定以下となった
ところでクライオポンプの再生作業は完了となる。Next, the cryopump rough evacuation control valve 9
Is fully opened to start the rough evacuation of the cryopump 1. After that, after the inside of the cryopump 1 reaches an arbitrary set vacuum pressure and pressure increase value, the cryopump roughing shutoff valve 8 and the cryopump roughing control valve 9 are fully closed, and the cryocontrol from the regeneration control system 5 is performed. An electric signal is sent to the pump control system 6 to start (restart) the cold head of the cryopump 1. Then, when the temperature of the cold panel of the cryopump 1 becomes below the set temperature, the cryopump regeneration operation is completed.
【0033】最後に、メインバルブ11を開放して一連
の再生作業は、完了となる。Finally, the main valve 11 is opened and a series of regeneration work is completed.
【0034】なお、本実施例では、クライオポンプ内を
粗引きするポンプを、真空処理室内を粗引きするポンプ
を利用して共用してきたが、クライオポンプ内を粗引き
するポンプを新たに設けて、独立に制御してもよい。In the present embodiment, the pump for roughing the inside of the cryopump is commonly used as the pump for roughing the inside of the vacuum processing chamber, but a pump for roughing the inside of the cryopump is newly provided. , May be controlled independently.
【0035】したがって、クライオポンプに再生ガスを
導入し、コールドパネルに凝縮、または吸着した気体分
子を外部に放出するクライオポンプの再生方法におい
て、前記再生ガスを導入する際にクライオポンプ内を飽
和蒸気圧温度以下に保持することにより、クライオポン
プ内のコールドパネルに凝縮または、吸着されたガス
は、大気圧よりも低い温度で気化し、温度サイクル幅が
低減されるので、再生時にクライオポンプ内の各構成部
品へのストレスを低減することが可能となる。Therefore, in the method of regenerating a cryopump in which a regenerating gas is introduced into the cryopump and the gas molecules condensed or adsorbed in the cold panel are released to the outside, a saturated vapor in the cryopump is introduced when the regenerating gas is introduced. By keeping the temperature below the pressure temperature, the gas condensed or adsorbed on the cold panel in the cryopump is vaporized at a temperature lower than the atmospheric pressure, and the temperature cycle width is reduced. It is possible to reduce stress on each component.
【0036】また、クライオポンプの再生時に、通常真
空処理室の粗引き真空排気に使用している真空ポンプ
(または、専用の粗引き真空排気ポンプ)を用いて、ク
ライオポンプ内を排気して任意の真空圧力以下にするこ
とでクライオポンプ内部は真空圧力を保持でき、クライ
オポンプ内壁に吸着するガス量を低減できるので、クラ
イオポンプの再立上げ(クールダウン)時間の短縮とな
る。When the cryopump is regenerated, the inside of the cryopump is evacuated by using a vacuum pump (or a dedicated roughing vacuum evacuation pump) which is usually used for rough evacuation of the vacuum processing chamber. By making the pressure below the vacuum pressure, the vacuum pressure can be maintained inside the cryopump and the amount of gas adsorbed on the inner wall of the cryopump can be reduced, so that the restart time (cool down) of the cryopump can be shortened.
【0037】さらに、真空処理室の粗引き用真空排気ポ
ンプ(または、専用の粗引き真空排気ポンプ)を利用し
て、設定した真空圧力に保ちながら、任意の飽和蒸気圧
温度以下として再生を行い、クライオポンプ内の温度サ
イクルの低減による内部構成部品の長寿命化、再生後の
再立上げ時間の短縮による稼働時間の向上、真空保持に
よるクライオポンプ内への汚染防止、および真空の洩れ
防止等も可能となる。Further, by utilizing a rough evacuation pump (or a dedicated rough evacuation pump) for the rough evacuation in the vacuum processing chamber, regeneration is carried out at an arbitrary saturated vapor pressure temperature or lower while maintaining the set vacuum pressure. , Longer life of internal components by reducing temperature cycle in the cryopump, improvement of operating time by shortening restart time after regeneration, prevention of contamination in the cryopump by holding vacuum, and prevention of vacuum leak. Will also be possible.
【0038】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。The inventions made by the present inventors are as follows.
Although the present invention has been specifically described based on the above-mentioned embodiments, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
【0039】[0039]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
【0040】クライオポンプに再生ガスを導入し、コー
ルドパネルに凝縮、または吸着した気体分子を外部に放
出するクライオポンプの再生方法において、前記再生ガ
スを導入する際にクライオポンプ内を飽和蒸気圧温度以
下に保持することにより、クライオポンプ内のコールド
パネルに凝縮または、吸着されたガスは、大気圧よりも
低い温度で気化し、温度サイクル幅が低減されるので、
再生時にクライオポンプ内の各構成部品へのストレスを
低減することが可能となる。In a method of regenerating a cryopump in which a regeneration gas is introduced into a cryopump and gas molecules condensed or adsorbed on a cold panel are released to the outside, a saturated vapor pressure temperature in the cryopump is increased when the regeneration gas is introduced. By holding below, the gas condensed or adsorbed on the cold panel in the cryopump is vaporized at a temperature lower than atmospheric pressure, and the temperature cycle width is reduced,
It is possible to reduce the stress on each component in the cryopump during regeneration.
【0041】また、クライオポンプの再生時に、通常真
空処理室の粗引き真空排気に使用している真空ポンプ
(または、専用の粗引き真空排気ポンプ)を用いて、ク
ライオポンプ内を排気して任意の真空圧力以下にするこ
とでクライオポンプ内部は真空圧力を保持できるため、
クライオポンプ内壁に吸着するガス量を低減できるの
で、クライオポンプの再立上げ(クールダウン)時間の
短縮となる。When the cryopump is regenerated, the inside of the cryopump is evacuated by using a vacuum pump (or a dedicated roughing vacuum evacuation pump) normally used for rough evacuation of the vacuum processing chamber. Since it is possible to maintain the vacuum pressure inside the cryopump by making it below the vacuum pressure of
Since the amount of gas adsorbed to the inner wall of the cryopump can be reduced, the restart time (cooldown) of the cryopump can be shortened.
【図1】本発明の一実施例であるクライオポンプ再生シ
ステムの構成を説明するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of a cryopump regeneration system that is an embodiment of the present invention.
1…クライオポンプ、 2…再生ガス遮断バルブ、 3…再生ガス流量制御バルブ、 4…真空計(高真空用、低真空用)、 5…再生用制御系、 6…クライオポンプ用制御系、 7…クライオポンプコンプレッサ、 8…クライオポンプ粗引き用遮断バルブ、 9…クライオポンプ粗引き制御バルブ、 10…粗引きポンプ(処理室真空排気)、 11…メインバルブ、 12…真空処理室、 13…粗引きポンプ制御系、 14…装置本体制御系。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cryo pump, 2 ... Regeneration gas cutoff valve, 3 ... Regeneration gas flow control valve, 4 ... Vacuum gauge (for high vacuum, low vacuum), 5 ... Regeneration control system, 6 ... Cryo pump control system, 7 ... Cryopump compressor, 8 ... Cryopump roughing shutoff valve, 9 ... Cryopump roughing control valve, 10 ... Roughing pump (vacuum exhaust of processing chamber), 11 ... Main valve, 12 ... Vacuum processing chamber, 13 ... Coarse Pull pump control system, 14 ... Device body control system.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小柳 好一 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 坂口 二郎 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 坂本 忠夫 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Koichi Koyanagi, 3-3 Fujibashi, Ome, Tokyo 2-3 Hitachi Hitachi Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Jiro Sakaguchi 3-3, Fujibashi, Ome, Tokyo 2 Hitachi Inside Tokyo Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Tadao Sakamoto 3-3 Fujibashi, Ome City, Tokyo 2 Inside Hitachi Tokyo Electronics Co., Ltd.
Claims (2)
ールドパネルに凝縮、または吸着した気体分子を外部に
放出するクライオポンプの再生方法において、前記再生
ガスを導入する際にクライオポンプ内を飽和蒸気圧温度
以下に保持することを特徴とするクライオポンプの再生
方法。1. A method of regenerating a cryopump in which a regenerating gas is introduced into a cryopump and the gas molecules condensed or adsorbed in a cold panel are released to the outside. When the regenerating gas is introduced, saturated vapor in the cryopump is introduced. A method for regenerating a cryopump, which is characterized in that the cryopump is maintained at a pressure temperature or lower.
内に設けられ、極低温に冷却して気体分子を凝縮、吸着
するコールドパネルと、そのコールドパネルを制御する
制御手段と、ポンプ再生時にコールドパネルに吸着され
た気体分子を取り除くための再生ガスを導入する再生ガ
ス導入配管と、その再生ガスを排出する再生ガス排出配
管とからなるクライオポンプにおいて、ポンプ再生時に
前記ポンプ筺体内を真空排気する真空排気手段とその制
御手段を設けたことを特徴とするクライオポンプ。2. A pump casing having an intake hole, a cold panel provided inside the casing for cooling to an extremely low temperature to condense and adsorb gas molecules, a control means for controlling the cold panel, and a pump regeneration unit. In a cryopump consisting of a regenerated gas introduction pipe for introducing a regenerated gas for removing gas molecules adsorbed on the cold panel and a regenerated gas discharge pipe for discharging the regenerated gas, a vacuum exhaust is performed inside the pump casing when the pump is regenerated. A cryopump provided with a vacuum evacuation means and a control means therefor.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33341193A JPH07189905A (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Regenerating method for cryopump and executing device thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33341193A JPH07189905A (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Regenerating method for cryopump and executing device thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07189905A true JPH07189905A (en) | 1995-07-28 |
Family
ID=18265816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33341193A Pending JPH07189905A (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Regenerating method for cryopump and executing device thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07189905A (en) |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP33341193A patent/JPH07189905A/en active Pending
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